JP2000351263A - Method and apparatus for generating ground tint data - Google Patents

Method and apparatus for generating ground tint data

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JP2000351263A
JP2000351263A JP11165020A JP16502099A JP2000351263A JP 2000351263 A JP2000351263 A JP 2000351263A JP 11165020 A JP11165020 A JP 11165020A JP 16502099 A JP16502099 A JP 16502099A JP 2000351263 A JP2000351263 A JP 2000351263A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To represent a preferable 'gloss' on a sheet embossed using a ground tint pattern generated not to cause any gap or mass based the two-dimensional scalar field of fiber creep angle. SOLUTION: A two-dimensional scalar field where a fiber creep angle is defined at each point is inputted (Step S1) and two different temporary tint patterns are generated based on the two-dimensional scalar field (Step S2). A new tint pattern is then formed by performing exclusive OR operation of these two temporary tint patterns (Step S3). Since a new tint pattern is generated by exclusive OR operation, gaps and dense parts between the tint parts are reduced and undesired gloss of an embossed sheet can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、木目柄を有する化粧シ
ートに対して「照り」と呼ばれる光沢模様を表現するた
めにエンボス加工を施すための万線のデータを、木目の
繊維の潜り角から作成する方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for embossing data on a decorative sheet having a woodgrain pattern in order to express a glossy pattern called "shine", and to obtain a diving angle of a fiber of the woodgrain. And a method and apparatus for making the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】壁紙や床材等の建材の表面装飾や、家具
の表面装飾のために用いる化粧シートにおいては、「照
り」と称される光沢を表現するために、万線パターンを
直接化粧シートにエンボス加工したり、あるいは透明な
シートに万線パターンをエンボス加工してエンボスシー
トを作成し、そのエンボスシートを木目柄等の模様を印
刷した化粧シートに貼り付けて積層構造とすることが広
く行われている。
2. Description of the Related Art In decorative sheets used for surface decoration of building materials such as wallpaper and flooring, and surface decoration of furniture, in order to express gloss called "shine", a line pattern is directly decorated. Embossing a sheet, or embossing a line pattern on a transparent sheet to create an embossed sheet, and attaching the embossed sheet to a decorative sheet printed with a wood grain pattern etc. to form a laminated structure Widely used.

【0003】万線パターンをエンボス加工することによ
り「照り」が表現できる原理について以下に説明する。
一般に、多数の細かな線からなるパターンは、万線パタ
ーンと呼ばれており、この万線パターンはエンボス加工
により、エンボスシート上に多数の万線条溝として形成
されることになる。図16は万線パターンをエンボス加
工することにより万線条溝Gが形成されたシートEの斜
視図である。シートEには幅W1の万線条溝GがW2の
間隔で多数形成されている。シートEの全体の厚みD1
に対して、万線条溝Gは深さD2の溝を形成しており、
多数の万線条溝Gが平行に配置されている。このような
万線条溝Gからなるパターンは、幅W1の凹部と幅W2
の凸部との二段階の段差構造を有している。
[0003] The principle by which "shine" can be expressed by embossing a line pattern will be described below.
Generally, a pattern composed of many fine lines is called a line pattern, and this line pattern is formed as a large number of line grooves on an embossed sheet by embossing. FIG. 16 is a perspective view of the sheet E in which the parallel-line groove G is formed by embossing the parallel-line pattern. In the sheet E, a large number of linear grooves G having a width W1 are formed at intervals of W2. Overall thickness D1 of sheet E
On the other hand, the linear groove G forms a groove having a depth D2,
A number of parallel groove grooves G are arranged in parallel. The pattern composed of such a linear groove G has a concave portion having a width W1 and a width W2.
Has a two-step structure with the convex portion.

【0004】このような万線条溝Gが形成されたシート
Eは、その表面から得られる反射光の強度が位置によっ
て異なることが知られている。これが異方性反射であ
る。このようなシートEを見る視線を連続的に変化させ
ると、強く反射する箇所、すなわち輝度が高く、明るく
光る箇所が変化していく。これが「照りの移動」と称さ
れるものである。
[0004] It is known that the intensity of reflected light obtained from the surface of the sheet E on which such a linear groove G is formed differs depending on the position. This is anisotropic reflection. When the line of sight of such a sheet E is continuously changed, a part that reflects strongly, that is, a part that has high luminance and shines brightly changes. This is what is called “movement of illumination”.

【0005】上述した「照り」および「照りの移動」を
表現する万線パターンとしては、エンボス加工を行った
場合に、天然の木材が発現するような自然な「照り」お
よび「照りの移動」を発現できるものが望ましい。そこ
で、天然の木材が「照り」および「照りの移動」を発現
できる原理を考えてみると、木材表面における繊維潜り
角に起因していることが知られている。この原理につい
て、以下に説明する。
[0005] As the line pattern expressing the above "shine" and "movement of shine", natural "shine" and "movement of shine" such as natural wood appears when embossing is performed. Is desirable. Considering the principle by which natural wood can exhibit "shine" and "movement of shine", it is known that it is caused by the fiber diving angle on the surface of the wood. This principle will be described below.

【0006】図17は、視点を真上に固定した状態での
材木板表面の繊維質の配向性と鏡面反射率との関係を示
す図である。材木板100の表面(切断面J)に、図に
繊維方向ベクトルFとして示すような配向性をもって繊
維Fが配置されているものとする。このとき、切断面J
と繊維Fがなす角ξは繊維潜り角と呼ばれている。
FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the orientation of the fibrous material on the surface of the timber plate and the specular reflectance when the viewpoint is fixed directly above. It is assumed that the fibers F are arranged on the surface (cut surface J) of the timber board 100 with the orientation shown as the fiber direction vector F in the figure. At this time, the cut surface J
The angle ξ formed by the fiber F is called a fiber descent angle.

【0007】そして、材木板100の上方に仮想光源2
00(平行光源)を仮定し、この仮想光源200から材
木板100の表面に対して垂直な光線が照射され、この
表面からの拡散反射光および鏡面反射光を観察すること
を考える。この場合、観察される拡散反射光の強度は、
材木板100の表面の木目模様の色成分によって左右さ
れ、この拡散反射光による画像は、いわゆる着色された
模様として認識されることになる。一方、観察される鏡
面反射光の強度W(光沢度)は、繊維潜り角ξによって
左右され、視線方向を木材の法線方向に一致させて垂直
に木材面を観察した場合、通常、図18のグラフに示す
ような関係となる。より正確には、各部における鏡面反
射光強度は、光の照射方向と繊維潜り角ξとの双方によ
って決定される。すなわち図17に示すように、切断面
J上の点Pにおいて、光線方向ベクトルLと繊維方向ベ
クトルFとを図のように定義すれば、両ベクトルの交錯
角φによって点Pにおける鏡面反射光強度が決定される
ことになる。上述の例のように、光線方向ベクトルLが
切断面Jに対して垂直であるモデルの場合、ベクトル交
錯角φ=90°−ξとなり、図18のグラフに示すよう
に、φ=90°のときに鏡面反射光強度が最高になり、φ
=0°のときに最低となる。
The virtual light source 2 is placed above the timber board 100.
Assuming that the light source is 00 (parallel light source), the virtual light source 200 irradiates a light beam perpendicular to the surface of the timber board 100, and observes diffuse reflected light and specular reflected light from this surface. In this case, the intensity of the observed diffuse reflected light is
The image is influenced by the color components of the grain pattern on the surface of the timber board 100, and the image based on the diffuse reflection light is recognized as a so-called colored pattern. On the other hand, the intensity W (glossiness) of the specular reflected light to be observed depends on the fiber dive angle ξ, and when the line of sight matches the normal direction of the wood and the wood surface is observed vertically, it is usually FIG. The relationship shown in the graph of FIG. More precisely, the specular reflected light intensity in each part is determined by both the light irradiation direction and the fiber descent angle ξ. That is, as shown in FIG. 17, when a ray direction vector L and a fiber direction vector F are defined as shown in FIG. 17 at a point P on the cut plane J, the intensity of the specular reflection light at the point P is determined by the intersection angle φ of both vectors. Will be determined. In the case of the model in which the ray direction vector L is perpendicular to the cutting plane J as in the above-described example, the vector intersection angle φ = 90 ° −ξ, and as shown in the graph of FIG. Sometimes the specular reflected light intensity is highest, φ
It becomes the minimum when = 0 °.

【0008】実際の天然木から切り出した材木板の表面
に照り模様が見られるのは、切断面上の各部分ごとに異
なる繊維潜り角ξが得られるからであり、この部分毎に
異なる繊維潜り角ξに基づいて照り模様が現れることに
なるのである。また、以上のことから、例えば図17に
おいて観察位置を変えずに仮想光源200を移動させた
場合、あるいは仮想光源200の位置を固定して観察位
置を変えた場合には、材木板100の照りが発現する位
置が変化することになることは明らかであろう。これが
照りの移動である。
The reason why the shining pattern is seen on the surface of the timber board cut from the actual natural wood is that a different fiber diving angle に is obtained for each part on the cut surface, and a different fiber diving angle is obtained for each part. An illuminated pattern will appear based on the angle ξ. Also, from the above, for example, when the virtual light source 200 is moved without changing the observation position in FIG. 17 or when the observation position is changed while the position of the virtual light source 200 is fixed, the lumber of the timber board 100 is changed. It will be clear that the position where is expressed will change. This is the movement of shine.

【0009】そこで、近年では、繊維潜り角の2次元分
布、すなわち2次元スカラー場を求め、その求めた繊維
潜り角の2次元スカラー場に基づいて万線パターンを作
成し、その万線パターンを用いてエンボス加工すること
が行われている。
Therefore, in recent years, a two-dimensional distribution of fiber dive angles, that is, a two-dimensional scalar field, has been obtained, and a line pattern has been created based on the obtained two-dimensional scalar field of the fiber dive angle. Embossing has been used.

【0010】ここで、繊維潜り角の2次元スカラー場を
求める方法としては、例えば、適宜な木理を有する繊維
束モデル、すなわち適宜な配向性を有する繊維束のモデ
ルを想定し、そのモデルを所望の方向に切断したときの
切断面に現れる繊維の潜り角を演算する方法を用いても
良く、また、本出願人が、先に特願平10−10483
1号において提案した方法を用いても良い。この特願平
10−104831号において提案した方法について説
明すると以下のようである。
Here, as a method of obtaining the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle, for example, a fiber bundle model having an appropriate grain, that is, a model of a fiber bundle having an appropriate orientation is assumed, and the model is used. A method of calculating the diving angle of the fiber appearing on the cut surface when the fiber is cut in a desired direction may be used.
The method proposed in No. 1 may be used. The method proposed in Japanese Patent Application No. 10-104831 will be described below.

【0011】この方法では、図19に示すように、天然
木材101、光源102、カメラ103、処理装置10
4を用いる。木材101は繊維潜り角を測定する対象物
となるものであり、天然の木材であればどのようなもの
であっても良い。この木材101は固定して配置され
る。木材101に正対してカメラ103が配置されてい
る。このカメラ103も固定して配置される。カメラ1
03は、製版カメラ、TVカメラ、デジタルスチルカメ
ラ等の画像を撮影することができるものであれば良い。
ここでは理解を容易にするためにデジタルスチルカメラ
を用いるものとする。そして、図に示すようなxyzの
直交座標系を定める。
In this method, as shown in FIG. 19, natural wood 101, light source 102, camera 103, processing device 10
4 is used. The wood 101 is an object to be measured for the fiber dive angle, and any wood may be used as long as it is natural wood. The wood 101 is fixedly arranged. A camera 103 is arranged directly opposite the wood 101. This camera 103 is also fixedly arranged. Camera 1
Reference numeral 03 may be a plate-making camera, a TV camera, a digital still camera, or any other device capable of capturing an image.
Here, a digital still camera is used for easy understanding. Then, an xyz rectangular coordinate system as shown in the figure is determined.

【0012】光源102は、できるだけ平行光線を放射
するものが望ましい。光線の色は白色光で良い。そし
て、この光源102は、図示しない適宜な手段によっ
て、図のy−z平面内において、当該座標系の原点から
の距離を等しく保ったまま移動可能となされており、ど
のような位置においても当該座標系の原点に向けて光線
を放射するようになされている。つまり、光源102は
木材101を照明する角度が可変となされているのであ
る。
The light source 102 preferably emits parallel rays as much as possible. The color of the light beam may be white light. The light source 102 can be moved by appropriate means (not shown) in the yz plane of the drawing while keeping the distance from the origin of the coordinate system equal, and the light source 102 can be moved at any position. The light is emitted toward the origin of the coordinate system. That is, the angle of the light source 102 illuminating the wood 101 is variable.

【0013】このような構成において、まず、光源10
2をある角度θ1の位置に置いて、カメラ103により
木材101を撮影する。このカメラ103で撮影された
画像のデジタルデータは処理装置104に取り込まれ
る。なお、カメラ103として製版カメラを用いる場合
には、撮影したフィルムを現像し、スキャナ入力してデ
ジタル化して処理装置104に渡すようにすれば良く、
またTVカメラを用いる場合には、TVカメラからの画
像信号をデジタル化して処理装置104に渡せば良い。
In such a configuration, first, the light source 10
2 is placed at a certain angle θ 1 , and the wood 103 is photographed by the camera 103. Digital data of an image taken by the camera 103 is taken into the processing device 104. In the case where a plate making camera is used as the camera 103, the photographed film may be developed, input to a scanner, digitized, and passed to the processing device 104.
When a TV camera is used, an image signal from the TV camera may be digitized and passed to the processing device 104.

【0014】また、後述するところから明らかなよう
に、処理装置104において繊維潜り角測定のために用
いられるのは輝度のデータのみであるから、例えばカメ
ラ103がR,G,Bの3色の画像データを出力するも
のである場合には、処理装置104はGの画像データの
みを取り込むようにしても良く、あるいはR,G,Bか
ら輝度を表すデータを生成して、その輝度のデータのみ
を用いるようにしても良い。
As will be apparent from the description below, since only the luminance data is used in the processing device 104 for measuring the fiber dive angle, for example, the camera 103 is used for the three colors R, G, and B. In the case of outputting image data, the processing device 104 may take in only the G image data, or generate data representing the luminance from R, G, and B, and output only the data of the luminance. May be used.

【0015】そして、処理装置104は、当該画像デー
タを角度θ1における画像データであることを登録す
る。これによって、光源102が角度θ1の位置に置か
れた場合の画像データが処理装置104に取り込まれる
ことになるが、次に、光源102の角度をΔθだけ移動
して、カメラ103により木材101を撮影し、そのと
きの画像データを処理装置104に渡す。以下、同様に
して、光源102の角度をΔθだけ移動させて木材10
1を撮影して、そのときの画像データを処理装置104
に渡す動作を所定回数繰り返す。
Then, the processing device 104 registers that the image data is image data at the angle θ 1 . As a result, the image data when the light source 102 is placed at the position of the angle θ 1 is taken into the processing device 104. Next, the angle of the light source 102 is moved by Δθ, and the wood 103 is moved by the camera 103. Is taken, and the image data at that time is passed to the processing device 104. Hereinafter, similarly, the angle of the light source 102 is moved by Δθ to
1 and the image data at that time is
Is repeated a predetermined number of times.

【0016】ここで、光源102を図19のz軸を中心
としてどのような角度範囲で移動させるか、またΔθを
何度にするかは任意に定めることができるが、一般に、
天然木材の繊維潜り角ξは±10°程度であるのが一般
的であるので、光源102を移動させる角度範囲は、図
19のz軸を中心として±30°程度とすれば良い。ま
た、Δθについては、Δθの値を小さくすれば精度良い
測定ができるが、測定時間が長くなるので、測定精度、
測定時間等を勘案して定めれば良い。
Here, in what angular range the light source 102 is moved around the z-axis in FIG. 19 and how many times Δθ are determined can be arbitrarily determined.
Since the fiber dip angle ξ of natural wood is generally about ± 10 °, the angle range in which the light source 102 is moved may be about ± 30 ° about the z-axis in FIG. As for Δθ, accurate measurement can be performed by reducing the value of Δθ. However, since the measurement time is long, the measurement accuracy,
It may be determined in consideration of the measurement time and the like.

【0017】さて、光源102をθ1の角度位置からθN
(Nは自然数)の角度位置までN段階移動させて木材1
01をN回撮影したとすると、処理装置104はN枚の
画像の輝度データを取り込み、それぞれの画像が撮影さ
れたときの光源102の角度と対応させて登録すること
になる。
Now, the light source 102 is moved from the angular position of θ 1 by θ N.
(N is a natural number) Wood 1
Assuming that 01 has been photographed N times, the processing device 104 fetches the luminance data of N images and registers them in correspondence with the angle of the light source 102 when each image was photographed.

【0018】そして、処理装置104は、ある位置の画
素に注目し、これらN枚の画像の当該画素位置における
輝度値を調べ、輝度値が最大となる画像のときの光源1
02の角度位置を求め、その光源102の角度の半分の
角度を当該画素位置における繊維潜り角ξとし、当該繊
維潜り角ξを当該画素位置に登録する。
The processing unit 104 focuses on a pixel at a certain position, checks the luminance value of the N images at the pixel position, and determines the light source 1 for the image having the maximum luminance value.
An angle position of 02 is obtained, and a half of the angle of the light source 102 is set as a fiber dive angle に お け る at the pixel position, and the fiber dive angle ξ is registered at the pixel position.

【0019】例えば、ある画素位置に注目したとき、光
源102の角度がθi(i=1,...,N)のときに撮影した画
像の輝度値が最大であるときには、処理装置104は、
当該画素位置における繊維潜り角ξはθi/2と定めて
登録するのである。
For example, when attention is paid to a certain pixel position, when the luminance value of an image photographed when the angle of the light source 102 is θ i (i = 1,..., N) is maximum, the processing device 104 ,
The fiber diving angle に お け る at the pixel position is determined and registered as θ i / 2.

【0020】繊維潜り角ξをこのように定めることの妥
当性は明らかである。すなわち、例えば、図20のAで
示す位置の輝度が最大となるのは、繊維イの繊維潜り角
ξと、光源102からの照明の角度と、カメラ103で
撮影される方向が図20に示す関係になるときであり、
このときAの位置にある繊維イの繊維潜り角ξは、角度
の符号も含めてθとなることは明らかである。なお、図
20において、ロはAの位置における繊維イに対する垂
線である。
The validity of defining the fiber descent angle ξ in this manner is clear. That is, for example, the brightness at the position indicated by A in FIG. 20 is maximized because the fiber descent angle の of the fiber A, the angle of illumination from the light source 102, and the direction photographed by the camera 103 are shown in FIG. It ’s time to become a relationship
At this time, it is clear that the fiber descent angle の of the fiber A at the position A becomes θ including the sign of the angle. In addition, in FIG. 20, B is a perpendicular to the fiber A at the position A.

【0021】そして、処理装置104は、以上の処理を
全ての画素位置について行う。これによって、カメラ1
03で撮影された画像の全ての画素位置について繊維潜
り角ξを求めることができ、各画素位置に対して繊維潜
り角が登録された2次元のスカラー場を生成することが
できる。そして、このような繊維潜り角測定方法によれ
ば、天然の木材から直接に、当該天然木材の各位置にお
ける繊維潜り角を測定することが可能となる。
Then, the processing device 104 performs the above processing for all pixel positions. With this, camera 1
The fiber dive angle ξ can be obtained for all the pixel positions of the image captured in 03, and a two-dimensional scalar field in which the fiber dive angle is registered for each pixel position can be generated. And according to such a fiber dive angle measuring method, it becomes possible to measure the fiber dive angle at each position of the natural wood directly from natural wood.

【0022】以上のように、繊維潜り角の2次元スカラ
ー場を求める方法は種々あるのであるが、従来において
は、どのような方法であれ、繊維潜り角の2次元スカラ
ー場を求めた後は、その求めた繊維潜り角の2次元スカ
ラー場に基づいてエンボス加工を行うための万線のパタ
ーンを直接作成していた。
As described above, there are various methods for obtaining the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle. However, in any conventional method, after obtaining the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle, The line pattern for embossing is directly created based on the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle obtained.

【0023】繊維潜り角の2次元スカラー場に基づい
て、万線パターンを作成する方法としては種々あるが、
一例として特開平10−287033号に示すような方
法がある。特開平10−287033号に示す方法で
は、繊維潜り角の2次元スカラー場に基づいて、方向ベ
クトルを算出し、画像形成面に設定した開始点から方向
ベクトルに従って、万線の方向を決定していくことによ
り、2値の万線パターンを作成している。
There are various methods for creating a line pattern based on the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle.
As an example, there is a method as disclosed in JP-A-10-287033. In the method disclosed in JP-A-10-287033, a direction vector is calculated based on a two-dimensional scalar field of a fiber dive angle, and the direction of a line is determined according to the direction vector from a start point set on an image forming surface. By doing so, a binary line pattern is created.

【0024】[0024]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術では、作成された万線パターンにおいて、万線
同士の間隔が大きく開いてしまったり、逆に密集してし
まったりすることがある。このような万線パターンを用
いてエンボスシートを作成すると、万線が多く集まった
部分では、正反射が起こるため、好ましい「照り」が表
現できないことがわかっている。理想的には、万線とそ
の他の部分の面積比が1対1程度で偏り無く、(さらに
好ましくは規則性もなく)万線を配置させるのが良い
が、万線パターンの作成過程において、乱数処理を含ん
でいるため、理想に近づけるのは難しいという問題があ
る。そこで、本発明は、繊維潜り角の2次元スカラー場
を基に、隙間や塊が生じないような万線パターンを発生
し、好ましい「照り」を表現することが可能な万線デー
タの作成方法および装置を提供することを課題とする。
However, according to the above-described conventional technique, in the created line pattern, the line-to-line lines may be largely apart from each other or may be densely formed. It is known that, when an embossed sheet is created using such a line pattern, a specular reflection occurs in a portion where many lines are gathered, so that preferable “shine” cannot be expressed. Ideally, the area ratio between the parallel lines and the other portions is about 1 to 1 and it is good to arrange the parallel lines without bias (more preferably, without regularity), but in the process of creating the parallel line pattern, There is a problem that it is difficult to get close to the ideal because it includes random number processing. Therefore, the present invention provides a method of generating line data that can generate a preferable line pattern by generating a line pattern in which no gaps or lumps are generated, based on a two-dimensional scalar field of a fiber dive angle. And an apparatus.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1、2に記載の発明では、万線パターンを作
成するための2次元スカラー場を入力し、入力された2
次元スカラー場に基づいて複数の異なる仮万線を生成
し、生成された仮万線同士の排他的論理和演算を行って
新たな万線を作成するようにしたことを特徴とする。請
求項1、2に記載の発明では、繊維潜り角の2次元分布
である2次元スカラー場に基づいて複数の仮万線を生成
し、この仮万線同士の排他的論理和を演算して、その値
を新たな万線とすることにより万線データを作成するよ
うにしており、特に、従来はそのまま出力していた仮万
線を複数用意し、それらを排他的論理和演算するため、
万線の隙間や塊が減少するという効果を奏する。
According to the first and second aspects of the present invention, a two-dimensional scalar field for creating a line pattern is input and the input two-dimensional scalar field is input.
A plurality of different temporary lines are generated based on the dimensional scalar field, and a new line is created by performing an exclusive OR operation between the generated temporary lines. According to the first and second aspects of the present invention, a plurality of temporary lines are generated based on a two-dimensional scalar field that is a two-dimensional distribution of the fiber dive angle, and exclusive OR of the temporary lines is calculated. In order to create line data by setting the value as a new line, in particular, in order to prepare a plurality of provisional lines that were conventionally output as they are and to perform an exclusive OR operation on them,
This has the effect of reducing gaps and lump between lines.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態につい
て、図面を用いて詳細に説明する。まず、本発明による
万線データの作成方法について説明する。図1は、万線
データ作成方法の処理動作を示すフローチャートであ
る。まず、2次元スカラー場を入力する(ステップS
1)。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. First, a method of creating line data according to the present invention will be described. FIG. 1 is a flowchart showing the processing operation of the line data creation method. First, a two-dimensional scalar field is input (step S
1).

【0027】次に、仮万線パターンを生成する(ステッ
プS2)。この仮万線パターンとは、従来作成されてい
た万線パターンであり、本発明により最終的に得られる
万線パターンと同様、2値のビットマップ画像である
が、最終的に得られる万線パターンと区別するため、仮
万線パターンと呼ぶことにする。ここでは、後の処理の
ため、1つの2次元スカラー場から2つの仮万線パター
ンを得る。
Next, a temporary line pattern is generated (step S2). The provisional line pattern is a line pattern that has been conventionally created, and is a binary bitmap image like the line pattern finally obtained by the present invention. In order to distinguish it from a pattern, it will be referred to as a temporary line pattern. Here, two provisional line patterns are obtained from one two-dimensional scalar field for later processing.

【0028】ステップS2より2つの仮万線パターンが
得られたら、2つの仮万線パターンの排他的論理和をと
ることにより、万線パターンを作成する(ステップS
3)。図1に示すステップS2においては、直接ビット
マップの万線データを作成する第1の方法と、一旦ベク
ター形式の擬似万線データを作成した後、ビットマップ
の万線データに変換する第2の方法があるので、以下、
個別に説明する。
When two temporary line patterns are obtained from step S2, an exclusive OR of the two temporary line patterns is obtained to create a line pattern (step S2).
3). In step S2 shown in FIG. 1, a first method of directly creating line data of a bitmap, and a second method of temporarily creating pseudo line data in a vector format and then converting the data to line data of a bitmap Since there is a method, below
It will be described individually.

【0029】(ステップS2における第1の方法)ステ
ップS2における第1の方法について図2のフローチャ
ートを参照して概略説明する。まず、ステップS11に
おいて、仮万線パターンを描画する作成画像のサイズを
設定し、この作成画像の全ての画素の画素値を0に設定
しておく。ここでは幅をw(以下、x方向とする)、高
さをh(以下、y方向とする)とする。このサイズは繊
維潜り角の2次元スカラー場と同じサイズとすれば良い
が、異なるサイズであっても良い。ただし、繊維潜り角
の2次元スカラー場の位置と、作成画像の位置とは1対
1対応がとれているものとする。
(First Method in Step S2) The first method in step S2 will be schematically described with reference to the flowchart in FIG. First, in step S11, the size of the created image for drawing the temporary line pattern is set, and the pixel values of all the pixels of the created image are set to 0. Here, the width is w (hereinafter, referred to as x direction), and the height is h (hereinafter, referred to as y direction). This size may be the same size as the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle, but may be a different size. However, it is assumed that there is a one-to-one correspondence between the position of the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle and the position of the created image.

【0030】上述したように、繊維潜り角の2次元スカ
ラー場にはそれぞれの位置における、繊維の潜り角が定
義されているので、作成画像の任意の位置の画素P
(i、j)に対して、繊維潜り角の2次元スカラー場の
(i、j)の位置に定義されている繊維潜り角を対応付
けることができる。
As described above, the fiber diving angle at each position is defined in the two-dimensional scalar field of the fiber diving angle.
The fiber dive angle defined at the position (i, j) in the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle can be associated with (i, j).

【0031】次のステップS12では、この作成画像の
画素配列の第1行目に、万線パターンを作成するための
代表画素の位置を定義すると共に、これらの各代表画素
の近傍に、連続配置された画素群からなる画素帯をそれ
ぞれ定義する処理が行われる。そしてこのとき、代表画
素および画素帯の画素に画素値1を書き込む。第1行目
に代表画素を何画素、どのような配置で定義するかは任
意であるが、互いに所定の間隔をおいて複数の代表画素
を定義すれば良い。
In the next step S12, the positions of the representative pixels for forming the line pattern are defined in the first row of the pixel array of the created image, and the positions of the representative pixels are continuously arranged in the vicinity of these representative pixels. A process for defining a pixel band composed of the pixel groups thus performed is performed. At this time, the pixel value 1 is written to the representative pixel and the pixels in the pixel band. The number of representative pixels and the arrangement of the representative pixels in the first row are arbitrary, but a plurality of representative pixels may be defined at predetermined intervals.

【0032】図3にその例を示す。図3は、作成画像の
第1行目に配置された多数の画素の中から、代表画素R
11,R12を定義した状態を示している。この図の例
では、第7列目の画素P(1,7)を最初の代表画素R
11と定義し、以下、10画素ピッチで現れる画素P
(1,17)、P(1,27)、P(1,37)、・・
・を代表画素R12、R13、R14、・・・と定義す
るようにしている。そして、これら各代表画素の近傍
に、画素帯を定義する。例えば、図4は、各代表画素の
左右に隣接する各2画素を含めた全5画素からなる画素
帯H11、H12、・・・を定義した状態を示してい
る。この例では、画素帯は常に代表画素を中心とした全
5画素からなる画素群によって構成されるような設定を
行っている。ここでは、画素帯を構成する画素について
は、中心に黒丸を付して示すことにする。
FIG. 3 shows an example. FIG. 3 shows a representative pixel R among a large number of pixels arranged in the first row of the created image.
11 and R12 are defined. In the example of this figure, the pixel P (1,7) in the seventh column is replaced with the first representative pixel R
11 and a pixel P appearing at a 10-pixel pitch.
(1,17), P (1,27), P (1,37), ...
Are defined as representative pixels R12, R13, R14,... Then, a pixel band is defined near each of the representative pixels. For example, FIG. 4 shows a state in which pixel bands H11, H12,... Composed of a total of five pixels including two pixels each adjacent to the left and right of each representative pixel are defined. In this example, the setting is made such that the pixel band is always constituted by a pixel group consisting of all five pixels centered on the representative pixel. Here, the pixels constituting the pixel band are shown with a black circle at the center.

【0033】次のステップS13では、作成画像の画素
配列の行数を示すパラメータyが初期値1に設定され、
以下、ステップS14、S15の処理が繰り返し実行さ
れる。すなわち、ステップS16において、パラメータ
y=n−1(ただし、nは全行数)と判断されるまで、
ステップS17においてパラメータyが1ずつ加算さ
れ、ステップS14、S15の処理が繰り返されること
になる。
In the next step S13, a parameter y indicating the number of rows in the pixel array of the created image is set to an initial value 1, and
Hereinafter, the processes of steps S14 and S15 are repeatedly executed. That is, until it is determined in step S16 that the parameter y = n-1 (where n is the total number of rows),
In step S17, the parameter y is incremented by one, and the processes in steps S14 and S15 are repeated.

【0034】ステップS14では、第y行目の各代表画
素については、これら各代表画素内の点に定義された繊
維潜り角に基づいて決定される方向に位置する第(y+
1)行目の画素を求め、求めたこれらの画素を第(y+
1)行目の代表画素と定義し、これら第(y+1)行目
の代表画素の近傍に、連続配置された画素群からなる画
素帯をそれぞれ定義する処理が実行される。例えば、y
=1の場合、図5に示すように、第1行目の代表画素R
11、R12、・・・に基づいて、第2行目の代表画素
R21、R22、・・・が決定され、図6に示すよう
に、この第2行目の代表画素R21、R22、・・・に
基づいて、第2行目の画素帯H21、H22、・・・が
定義されることになる。第2行目の代表画素R21、R
22は、第1行目の代表画素R11、R12について定
義されている繊維潜り角ξ11、ξ12に基づいて決定され
る。具体的には、図5に示すように、第2行目の画素の
うち、繊維潜り角ξ11に基づいて定められる方向ベクト
ルV11に最も近い中心点を有する画素が代表画素R2
1として選択され、同様に、繊維潜り角ξ12に基づいて
定められる方向ベクトルV12に最も近い中心点を有す
る画素が代表画素R22として選択される。また、第2
行目の画素帯H21、H22は、この例では、各代表画
素R21、R22の左右に隣接する各2画素を含めた全
5画素からなる画素帯として定義されている。このと
き、定義された代表画素および画素帯の画素に対して画
素1が書き込まれる。
In step S14, for each representative pixel in the y-th row, the (y +) th pixel located in the direction determined based on the fiber dive angle defined at a point in each representative pixel.
1) The pixels in the row are obtained, and these obtained pixels are assigned to the (y +
1) The representative pixel in the row is defined, and a process of defining a pixel band including a pixel group arranged continuously is executed near the representative pixel in the (y + 1) th row. For example, y
= 1, the representative pixel R in the first row is
, R22,... In the second row are determined based on 11, R12,..., And as shown in FIG. 6, the representative pixels R21, R22,. , The pixel bands H21, H22,... In the second row are defined. Representative pixels R21, R in the second row
22, the first row of the representative pixel R11, R12 and it has fibers diving angle xi] 11 that are defined for, is determined based on xi] 12. Specifically, FIG. 5 as shown in, among the second row pixels, pixels representative pixel R2 having the closest center point in the direction vector V11 determined based on fibers diving angle xi] 11
Is selected as 1, similarly, the pixel having the closest center point direction vector V12 determined based on fibers diving angle xi] 12 is selected as a representative pixel R22. Also, the second
In this example, the pixel bands H21 and H22 in the row are defined as a pixel band including a total of five pixels including two pixels adjacent to the left and right of the representative pixels R21 and R22. At this time, the pixel 1 is written to the defined representative pixel and the pixel in the pixel band.

【0035】このように、ステップS14において、第
2行目の代表画素および画素帯の定義が行われると、続
くステップS15で調整処理が行われる。この調整処理
については後述する。続いて、ステップS16、S17
を経て、y=2に更新され、再びステップS14の処理
が実行されることになる。今度は、第2行目の代表画素
R21、R22、・・・に定義されている繊維潜り角に
基づいて、第3行目の代表画素R31、R32、・・・
が決定され、これら代表画素R31、R32、・・・に
基づいて、第3行目の画素帯H31、H32、・・・が
定義されることになる。以上の処理をy=n−1になる
まで繰り返して行けば、最終的に得られた画素帯の集合
によって、例えば、図7に示すような万線M1,M2,
・・・が作成されることになる。結局、上述の繰り返し
処理は、個々の万線を図の下方へと伸ばして行く処理と
いうことになる。こうして得られた万線の特徴は、個々
の画素に定義されている繊維潜り角に沿った流れを持っ
ているという、点にある。なお、第i行目の代表画素に
基づいて、第(i+1)行目の代表画素が決定できない
場合は、第(i+1)行目には代表画素も画素帯も定義
せず、第i行目の画素帯をもって当該万線の終端とする
ようにする。
As described above, when the representative pixels and the pixel bands in the second row are defined in step S14, the adjustment process is performed in the following step S15. This adjustment processing will be described later. Subsequently, steps S16 and S17
Is updated to y = 2, and the process of step S14 is executed again. This time, the representative pixels R31, R32,... In the third row are based on the fiber dive angles defined in the representative pixels R21, R22,.
Are determined, and pixel bands H31, H32,... In the third row are defined based on these representative pixels R31, R32,. If the above processing is repeated until y = n−1, for example, the lines M1, M2, and M2 shown in FIG.
.. Are created. Eventually, the above-described repetitive processing is processing of extending individual parallel lines downward in the figure. The characteristic of the line thus obtained is that it has a flow along the fiber dive angle defined for each pixel. If the representative pixel on the (i + 1) -th row cannot be determined based on the representative pixel on the i-th row, neither the representative pixel nor the pixel band is defined on the (i + 1) -th row. Is set as the end of the line.

【0036】次に、図2のステップS15として示した
調整処理について説明する。この調整処理の第1の目的
は、新たな万線を発生させることにある。例えば、図8
に示す例のように、2本の万線M1,M2を図の下方へ
と徐々に伸ばして行ったときに、両万線M1,M2の間
隔が徐々に広がってきたとしよう。このような場合、そ
のまま放置しておくと、両万線M1,M2の間に、大き
な空隙領域が発生することになり好ましくない。そこ
で、図示のように、両万線M1,M2間に、新たな万線
M3を発生させる調整処理を行うのが好ましい。また、
ステップS15の調整処理の第2の目的は、互いに接近
する一対の万線に挟まれた万線を終端させることにあ
る。例えば、図9に示す例のように、3本の万線M1,
M2,M3を図の下方へと徐々に伸ばして行ったとき
に、両万線M1,M3の間隔が徐々に狭くなってきたと
しよう。このような場合、そのまま放置しておくと、3
本の万線M1,M2,M3が互いに接触するようになり
好ましくない。そこで、図示のように、中央の万線M2
を終端させる調整処理を行うのである。
Next, the adjustment process shown as step S15 in FIG. 2 will be described. The first purpose of this adjustment process is to generate a new line. For example, FIG.
When the two lines M1 and M2 are gradually extended downward in the figure, as in the example shown in FIG. 1, it is assumed that the interval between the lines M1 and M2 gradually increases. In such a case, if left as it is, a large void region is generated between the two lines M1 and M2, which is not preferable. Therefore, it is preferable to perform an adjustment process for generating a new line M3 between the two lines M1 and M2 as shown in the figure. Also,
The second purpose of the adjustment processing in step S15 is to terminate a line between a pair of lines approaching each other. For example, as shown in an example shown in FIG.
Suppose that when M2 and M3 are gradually extended downward in the figure, the interval between the two lines M1 and M3 is gradually narrowed. In such a case, if left as it is, 3
The lines M1, M2 and M3 of the book come into contact with each other, which is not preferable. Therefore, as shown in the figure, the central line M2
Is terminated.

【0037】具体的には、ステップS15では、ステッ
プS14で発生させた第(i+1)行目の画素帯につい
て、次のようなチェックを行い、必要に応じて調整処理
を行えば良い。まず、相互の間隔が所定の基準以上離れ
た一対の画素帯が存在するか否かをチェックする。そし
て、そのような画素帯が存在する場合には、この一対の
画素帯の間に新たな代表画素を定義し、この新たな代表
画素に基づいて新たな画素帯を発生させる調整処理を行
う。図8に示す例では、所定の基準をd1としてd1=
11画素なる設定を行っており、一対の画素帯M1,M
2の間隔がd1以上となった第12行目において、新た
な代表画素RRおよびこれを含む新たな画素帯を発生さ
せ、新たな万線M3を発生させるようにしている。ま
た、自己の左側に隣接する画素帯と自己の右側に隣接す
る画素帯との間隔が所定の基準以下に接近している画素
帯が存在するか否かのチェックも行う。そして、そのよ
うな画素帯が存在する場合には、当該画素帯およびその
代表画素を消滅させる調整処理を行う。図9に示す例で
は、所定の基準をd2として、d2=10画素なる設定
を行っており、画素帯M2の左側に隣接する画素帯M1
と、画素帯M2の右側に隣接する画素帯M3との間隔
が、d2以下となった第11行目において、当該画素帯
およびその代表画素RRを消滅させている。
More specifically, in step S15, the following check is performed on the (i + 1) -th pixel band generated in step S14, and an adjustment process may be performed as necessary. First, it is checked whether or not there is a pair of pixel bands spaced apart from each other by a predetermined reference or more. Then, when such a pixel band exists, a new representative pixel is defined between the pair of pixel bands, and an adjustment process for generating a new pixel band based on the new representative pixel is performed. In the example shown in FIG. 8, d1 = d1 = d1
11 pixels are set, and a pair of pixel bands M1, M
In the twelfth row in which the interval 2 is equal to or longer than d1, a new representative pixel RR and a new pixel band including the same are generated, and a new line M3 is generated. Also, it is checked whether there is a pixel band in which the distance between the pixel band adjacent to the left side of the self and the pixel band adjacent to the right side of the self approaches a predetermined reference or less. Then, if such a pixel band exists, an adjustment process for extinguishing the pixel band and its representative pixel is performed. In the example illustrated in FIG. 9, d2 is set to 10 pixels, with d2 as a predetermined reference, and the pixel band M1 adjacent to the left side of the pixel band M2
In the eleventh row where the distance between the pixel band M3 and the pixel band M3 adjacent to the right side of the pixel band M2 is d2 or less, the pixel band and its representative pixel RR are eliminated.

【0038】次に、1次元スカラー場を生成する(ステ
ップS18)。この1次元スカラー場は、次のステップ
S19においてステップS17までの処理で作成した各
万線の形状を変形するためのものであるが、各万線の形
状を変形するのは次のような理由による。
Next, a one-dimensional scalar field is generated (step S18). This one-dimensional scalar field is used in the next step S19 to deform the shape of each line created in the processing up to step S17. The reason for deforming the shape of each line is as follows. by.

【0039】ステップS17までの処理で作成された2
値の万線パターンに基づいて、例えば一般的なダイレク
トエッチング法によりエンボス版用のシリンダに凹凸を
形成することができることは当然であるが、このように
して形成したエンボス版によって透明なシートにエンボ
ス加工を施してエンボスシートを作成したり、あるいは
木目柄を印刷した化粧シートに直接エンボス加工を施し
た場合、木目の照りを従来に比較して、よりリアルに表
現できるのであるが、照りが鋭すぎてギラギラしたもの
となり、天然の木目の穏やかな木質感を得ることは難し
いものであった。
The 2 created by the processing up to step S17
Naturally, it is possible to form irregularities on the cylinder for the embossing plate by, for example, a general direct etching method based on the line pattern of the values, but the embossing plate formed in this way embosses the transparent sheet. When embossed sheets are created by processing, or when embossing is applied directly to a decorative sheet printed with a wood grain pattern, the grain of wood can be expressed more realistically than before, but the sharpness of the grain is sharp. It was too glaring, and it was difficult to obtain a mild wood texture with natural grain.

【0040】この原因は、上述した処理によって作成さ
れた万線の方向ベクトルがきれいに揃い過ぎていること
にあり、したがって1つ1つの万線パターンを多少変形
することによって万線パターンの方向ベクトルに揺らぎ
を持たせれば、照りの鋭さを緩和でき、それによって天
然の木目の持つ穏やかな木質感を表現できる万線パター
ンが得られることになる。つまり、万線パターンを変形
することによって艶消しを行うのである。
The reason for this is that the direction vectors of the lines created by the above-described processing are too finely aligned. Therefore, by slightly deforming each line pattern, the direction vectors of the line patterns can be changed. With fluctuations, the sharpness of the shining can be reduced, and thereby a line pattern that can express the gentle woody texture of natural wood grain can be obtained. That is, matting is performed by deforming the line pattern.

【0041】そのために用いるのが1次元スカラー場で
あり、この1次元スカラー場を1つ1つの万線パターン
に作用させて変形させるのである。この1次元スカラー
場としてはどのようなものを用いても良いが、万線パタ
ーンを変形するためのものであり、その変形としては自
然な揺らぎを持ったものとするのが望ましいので、1次
元フラクタル場を用いるのが良い。1次元フラクタル場
を生成するためには、例えば、中点変位法を用いれば良
い。
For this purpose, a one-dimensional scalar field is used, and the one-dimensional scalar field is deformed by acting on each line pattern. Any one of the one-dimensional scalar fields may be used, but the one-dimensional scalar field is used to deform the line pattern, and it is desirable that the deformation has a natural fluctuation. It is better to use a fractal field. In order to generate a one-dimensional fractal field, for example, a midpoint displacement method may be used.

【0042】この1次元スカラー場のサイズは任意に設
定することができる。また、その値域はどのようなもの
でも良いが、ここでは理解を容易にするために、[-1,1]
の範囲に正規化されているものとする。
The size of the one-dimensional scalar field can be set arbitrarily. Also, the range may be any, but here, for ease of understanding, [-1,1]
Is assumed to be normalized to the range

【0043】このようにして1次元スカラー場を用意し
たら、次にこの1次元スカラー場を各万線パターンに作
用させて変形する(ステップS19)。まず、作成した
万線パターンの中の1つの万線パターンMiを抽出し、
図10に示すように、この万線パターンのy方向の位置
と1次元スカラー場の位置とを1対1に対応させる。こ
のためには、両者の長さを正規化すれば良い。そして、
この万線Miのpで示す位置が1次元スカラー場のqで
示す位置に対応しており、この位置でのスカラー値がH
(q)であるとすると、例えば、当該万線パターンのp
の位置の代表画素および画素帯の位置を[k・H
(q)]だけ移動させるようにする。ここで、[k・H
(q)]はk・H(q)を超えない最大の整数値をとる
ものとする。また、移動方向については、k・H(q)
が正の値であれば図の右方向、すなわちx座標値が大き
くなる方向に移動させ、負の値であれば図の左方向、す
なわちx座標値が小さくなる方向に移動させるようにす
れば良い。また、kは係数であり、適宜な値を用いるこ
とができるが、この場合のように1次元スカラー場の値
域が[-1,1]の範囲に正規化されている場合には、kは代
表画素および画素帯の移動量の最大幅、すなわち変形の
大きさを定めるものとなるから、比較的小さな値とする
のが望ましい。kの値を大きくすると万線パターンが大
きく変形されることになり、このような万線パターンで
は天然の木目の持つ穏やかな木質感を表現することがで
きなくなる可能性があるからである。上述したように万
線パターンの変形は方向ベクトルに多少の揺らぎを持た
せるだけで足りるので、kの値は比較的小さな値で良い
のである。
After the one-dimensional scalar field is prepared in this way, the one-dimensional scalar field is applied to each line pattern and deformed (step S19). First extracts the single line pattern M i in the line pattern created,
As shown in FIG. 10, the position of the line pattern in the y direction and the position of the one-dimensional scalar field are made to correspond one-to-one. For this purpose, the lengths of both may be normalized. And
The position indicated by p of the line M i corresponds to the position indicated by q of the one-dimensional scalar field, and the scalar value at this position is H
(Q), for example, p of the line pattern
[K · H]
(Q)]. Here, [kH
(Q)] takes a maximum integer value not exceeding k · H (q). For the moving direction, k · H (q)
If is a positive value, it is moved in the right direction of the figure, that is, the direction in which the x-coordinate value is increased. good. Also, k is a coefficient, and an appropriate value can be used. When the value range of the one-dimensional scalar field is normalized to the range of [-1,1] as in this case, k is Since the maximum width of the movement amount of the representative pixel and the pixel band, that is, the magnitude of the deformation is determined, it is desirable that the value is set to a relatively small value. This is because if the value of k is increased, the line pattern will be greatly deformed, and such a line pattern may not be able to express a calm wood texture with natural grain. As described above, since the deformation of the line pattern is sufficient if the direction vector has only a slight fluctuation, the value of k may be a relatively small value.

【0044】図11は万線パターンの変形の例を示す図
であり、当該万線パターンMiのpの位置の代表画素お
よび画素帯が図11(a)の斜線で示すようであり、
[k・H(q)]=3であり、かつk・H(q)が正の
値であるとすると、この代表画素および画素帯は図11
(b)に示すように図の右方向に3画素だけ移動される
ことになる。
[0044] Figure 11 is a diagram showing an example of deformation of the line pattern, the representative pixel and the pixel zone position p of the line pattern M i is at as indicated by hatching in FIG. 11 (a),
Assuming that [k · H (q)] = 3 and k · H (q) is a positive value, the representative pixel and the pixel band are shown in FIG.
As shown in (b), it is shifted by three pixels to the right in the figure.

【0045】以上の処理を当該万線パターンMiの全て
の位置について行い、当該万線パターンMiの変形処理
が終了したら、他の万線パターンについても同様にして
変形を行う。このようにしてステップS17までの処理
で作成した全ての万線パターンについて変形の処理を行
えば、艶消し効果を有する万線パターンを得ることがで
き、天然の木目の持つ穏やかな木質感を表現できる万線
パターンが得られる。そして、この艶消しの度合は、ス
テップS18で生成する1次元スカラー場、あるいは係
数kによって容易に制御することができる。
[0045] The above processing is performed for all the positions of the line pattern M i, When transformation processing of the line pattern M i is completed, the deformation in the same manner for the other line pattern. By performing deformation processing on all line patterns created in the process up to step S17 in this way, a line pattern having a matting effect can be obtained, and a gentle woody texture with natural grain is expressed. A line pattern that can be obtained is obtained. The degree of matting can be easily controlled by the one-dimensional scalar field generated in step S18 or the coefficient k.

【0046】なお、上述した万線パターンの変形のため
の演算はあくまでも一例に過ぎないものであって、代表
画素および画素帯の移動量を決定するための演算は、生
成する1次元スカラー場等に応じて適宜に定めることが
可能であることは当然である。また、上記の説明では全
ての万線パターンの変形に際して同じ係数kを用いるも
のとしたが、各万線パターンの変形に際して互いに異な
る係数を用いるようにすることも可能である。そのため
には、例えば、ステップS19において万線パターンの
数だけの係数を定めておけば良い。あるいは、ステップ
S19において万線パターンの数だけの1次元スカラー
場を生成し、万線パターンと1次元スカラー場を対応さ
せ、ある万線パターンを変形するに際しては対応付けさ
れた1次元スカラー場を作用させるようにしても良い。
The above-described calculation for deforming the line pattern is merely an example, and the calculation for determining the movement amount of the representative pixel and the pixel band is performed using a one-dimensional scalar field or the like to be generated. Can be determined appropriately according to Further, in the above description, the same coefficient k is used when deforming all line patterns, but it is also possible to use different coefficients when deforming each line pattern. For this purpose, for example, in step S19, it is sufficient to determine the same number of coefficients as the number of line patterns. Alternatively, in step S19, one-dimensional scalar fields corresponding to the number of line patterns are generated, and the line patterns and the one-dimensional scalar fields are associated with each other. You may make it act.

【0047】このようにして全ての万線パターンを変形
したら、次に再度調整処理を行う(ステップS20)。
この調整処理はステップS15の調整処理と同様であ
る。ここで再び調整処理を行うのは、万線パターンを変
形した結果、隣接する万線の間に大きな空隙領域が発生
したり、あるいは隣接する万線が互いに接触するように
なる可能性があるからである。そして、この調整処理が
終了すると万線パターン作成処理は終了となり、艶消し
効果を有する万線パターンが得られる。ここで、得られ
た万線パターンは、ステップS3に渡され、仮万線パタ
ーンとして扱われる。
After all the line patterns have been deformed in this way, the adjustment process is performed again (step S20).
This adjustment processing is the same as the adjustment processing in step S15. Here, the adjustment process is performed again because, as a result of deforming the line pattern, a large void area may be generated between adjacent lines, or the adjacent lines may come into contact with each other. It is. Then, when this adjustment processing is completed, the line pattern creation processing ends, and a line pattern having a matting effect is obtained. Here, the obtained line pattern is passed to step S3 and is treated as a temporary line pattern.

【0048】(ステップS2における第2の方法)続い
て、ステップS2における第2の方法について説明す
る。第2の方法においては、まず、所望の大きさの2次
元平面を設定し、その2次元平面内に擬似万線の開始点
を所望の個数設定する。なお、当該2次元平面の横軸を
x軸、縦軸をy軸とし、擬似万線はy軸方向に生成する
ものとする。
(Second Method in Step S2) Next, the second method in step S2 will be described. In the second method, first, a two-dimensional plane having a desired size is set, and a desired number of starting points of the pseudo line is set in the two-dimensional plane. Note that the horizontal axis of the two-dimensional plane is the x axis, the vertical axis is the y axis, and the pseudo parallel lines are generated in the y axis direction.

【0049】ここで、擬似万線の開始点の位置は、乱数
を発生させてランダムに設定しても良く、あるいは縦横
にそれぞれ所望の間隔で格子状に設定しても良い。な
お、ここで「擬似万線の生成」と称しているのは、従来
のようにここで生成した万線をそのまま2値のビットマ
ップのパターンとして用いるのではなく、後で実際に2
値のビットマップの万線パターンを作成する場合に、各
万線を作成するために用いる制御点の座標値を求める処
理であるからである。
Here, the position of the start point of the pseudo line may be set at random by generating a random number, or may be set in a grid pattern at desired intervals vertically and horizontally. Here, what is referred to as "generation of a pseudo line" is not to use the line generated here as it is as a binary bitmap pattern as in the past, but to actually
This is because when a line pattern of a value bitmap is created, the coordinate value of a control point used to create each line is determined.

【0050】さて、擬似万線の生成の処理の例を図12
に示す。図12に示すフローチャートは、1つの擬似万
線を生成するための処理であり、従って、図12に示す
処理を全ての擬似万線の開始点に対して実行することに
よって、全ての擬似万線が生成されることになる。
FIG. 12 shows an example of processing for generating a pseudo parallel line.
Shown in The flowchart shown in FIG. 12 is a process for generating one pseudo line, and therefore, by executing the process shown in FIG. 12 for the start points of all the pseudo lines, all the pseudo lines are displayed. Is generated.

【0051】まず、ステップS21のパラメータ設定に
おいて、先に設定した擬似万線の開始点の中から1つの
開始点を抽出する。ここでは、当該擬似万線の開始点は
(s x,sy)であるとする。また、繊維潜り角の2次元
スカラー場のある位置における繊維潜り角ξから、その
位置における方向ベクトルを算出するための関数F
(ξ)を定義する。この関数F(ξ)は適宜な関数で良
い。さらに、当該擬似万線のy軸方向の万線長Lと、擬
似万線を生成する場合の描画ステップΔdを設定する。
First, in the parameter setting of step S21,
One of the starting points of the pseudo line set earlier
Extract the starting point. Here, the starting point of the pseudo line is
(S x, Sy). Also, two-dimensional fiber dive angle
From the fiber dive angle ξ at a certain position of the scalar field,
Function F for calculating direction vector at position
(Ξ) is defined. This function F (ξ) may be an appropriate function.
No. Further, a line length L of the pseudo line in the y-axis direction and a pseudo line
A drawing step Δd for generating a similar line is set.

【0052】次に、ステップS22において初期値を定
める。まず当該擬似万線の第1制御点P0(x0,y0
を定めるが、第1制御点は当該擬似万線の開始点に他な
らないから、x0=sx,y0=syである。次に制御点数
nと、当該擬似万線の描画長dを定めるが、この第1制
御点においてはn=1であり、d=0である。
Next, in step S22, an initial value is determined. First, the first control point P 0 (x 0 , y 0 ) of the pseudo parallel line
While defining a first control point because none other than the start point of the pseudo-parallel line, which is x 0 = s x, y 0 = s y. Next, the number n of control points and the drawing length d of the pseudo parallel line are determined. At the first control point, n = 1 and d = 0.

【0053】次に、ステップS23の処理を、d>Lを
満足するまで繰り返す。ステップS23の処理は、第n
制御点の座標値を求めるための処理であり、第(n−
1)制御点の位置(xn-1,yn-1)に対応する繊維潜り
角の2次元スカラー場の位置における繊維潜り角をξと
したとき、例えば、以下の(数式1)により演算すれば
良い。
Next, the process of step S23 is repeated until d> L is satisfied. The processing in step S23 is performed in the
This is a process for obtaining the coordinate value of the control point.
1) When the fiber dive angle at the position of the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle corresponding to the position (x n-1 , y n- 1) of the control point is ξ, for example, the calculation is performed by the following (Formula 1) Just do it.

【0054】(数式1) xn=xn-1+Δd×F(ξ) yn=yn-1+Δd(Equation 1) x n = x n-1 + Δd × F (ξ) y n = y n-1 + Δd

【0055】続いて、制御点数nを増加して(n+1)
とし、同様に当該擬似万線の描画長dを(d+Δd)に
増加する。そして、このステップS23の処理を、ステ
ップS24のd>Lを満足するまで繰り返す。なお、ス
テップS23の処理によれば、Δdの値によっては生成
される擬似万線の万線長dは、ステップS21で設定さ
れたLの値より大きくなる場合があるが、その差は小さ
なものであるので問題はない。
Subsequently, the number of control points n is increased (n + 1)
Similarly, the drawing length d of the pseudo parallel line is increased to (d + Δd). Then, the process of step S23 is repeated until d> L of step S24 is satisfied. According to the processing in step S23, the line length d of the pseudo parallel line generated depending on the value of Δd may be larger than the value of L set in step S21, but the difference is small. There is no problem.

【0056】そして、ステップS24の判断処理によっ
てyesと判断された場合には、ステップS22で定め
た第1制御点の座標値、およびステップS23で求めら
れた第2制御点〜第n制御点の座標値を出力する(ステ
ップS25)。なお、ステップS21で設定する擬似万
線の万線長L、および描画ステップΔdの値は、全ての
擬似万線について同じでも良く、擬似万線毎に適宜な値
を設定しても良いものである。
If the determination in step S24 is affirmative, the coordinates of the first control point determined in step S22 and the coordinates of the second to nth control points determined in step S23 are determined. The coordinate value is output (Step S25). Note that the line length L of the pseudo line and the value of the drawing step Δd set in step S21 may be the same for all the pseudo lines, or an appropriate value may be set for each pseudo line. is there.

【0057】以上のステップS21〜ステップS25の
処理によって、2次元平面上に設定された全ての開始点
から擬似万線が生成され、それらの擬似万線についての
制御点の座標値が出力されることになる。
By the processing of steps S21 to S25, pseudo lines are generated from all the start points set on the two-dimensional plane, and the coordinate values of the control points for these pseudo lines are output. Will be.

【0058】ステップS25の次に、ステップS26の
処理において、データ削減を行う。ただし、このステッ
プS26の処理は必要不可欠な処理ではなく、ステップ
S25で出力された各擬似万線の制御点の座標値をその
まま登録しても良いものであるが、ここでは、よりデー
タ量を削減するものとしている。
After step S25, data is reduced in step S26. However, the processing in step S26 is not an indispensable processing, and the coordinate values of the control points of the respective pseudo parallel lines output in step S25 may be registered as they are. It is to be reduced.

【0059】このデータ削減の処理は、ステップS25
で出力された各擬似万線について制御点数を適宜な間隔
で間引くことで行う。実際には、1つの擬似万線につい
て、最終的に10点程度の制御点を残せば良い。
This data reduction processing is performed in step S25.
This is performed by thinning out the number of control points at appropriate intervals for each pseudo parallel line output in step (1). Actually, about 10 control points may be finally left for one pseudo parallel line.

【0060】このように第2の方法によれば、繊維潜り
角の2次元スカラー場から直接、2値のビットマップの
万線パターンを作成するのではなく、一旦所望の個数の
擬似万線を生成し、それらの各擬似万線の制御点の座標
値を万線データとして持つのである。つまり、万線デー
タをベクター形式で持つことになるので、2値のビット
マップの万線パターンを直接扱う第1の方法に比較し
て、その扱いは容易となる。
As described above, according to the second method, a desired number of pseudo line is temporarily formed instead of directly forming a line pattern of a binary bit map from the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle. It generates and has the coordinate value of the control point of each pseudo line as line data. That is, since the line data is stored in the vector format, the handling is easier than in the first method in which the line pattern of the binary bitmap is directly handled.

【0061】次に、以上の処理によって作成したベクタ
ー形式の万線データからどのようにして2値のビットマ
ップの万線パターンを作成するかについて図13を参照
して説明する。
Next, how to create a binary bitmap line pattern from the vector line data created by the above processing will be described with reference to FIG.

【0062】図13に示す処理においては、各万線に対
して、回転角度、揺らぎ、線幅のパラメータを所望のよ
うに設定する(ステップS27)と共に、上述した処理
によって得られた万線データ、すなわち1つ1つの万線
のデータがベクター形式となされた万線データを1つ読
み出す(ステップS28)。なお、揺らぎとしては、図
2のステップS18について説明したように1次元フラ
クタル場を生成すれば良い。
In the processing shown in FIG. 13, the parameters of the rotation angle, fluctuation, and line width are set as desired for each line (step S27), and the line data obtained by the above-described processing is set. That is, one line data in which the data of each line is in the vector format is read out (step S28). As the fluctuation, a one-dimensional fractal field may be generated as described in step S18 of FIG.

【0063】そして、ステップS29の万線パターン作
成の処理においては、ステップS28で読み出されたベ
クター形式の万線データと、当該万線に対してステップ
S27で設定された回転角度、揺らぎ、線幅のパラメー
タを取り込み、取り込んだ万線データの制御点の座標値
に基づいてスプライン曲線を発生させて万線を描画し、
その描画した曲線に対して、設定された回転角度のパラ
メータに基づいて回転処理を施し、揺らぎのパラメータ
に基づいて揺らぎを持たせ、さらに当該曲線に設定され
た線幅を付す。なお、曲線に揺らぎを持たせるために
は、例えば図2のステップS19の処理と同様の処理を
行えば良い。また、万線データの制御点の座標値から万
線の曲線を描画するためには、スプライン曲線の他にも
適宜な関数を用いることが可能であることは当業者に明
らかである。ここで、作成された万線パターンも第1の
方法と同様に、ステップS3に渡され、仮万線パターン
として扱われることになる。
Then, in the process of creating a line pattern in step S29, the vector line data read out in step S28 and the rotation angle, fluctuation, and line set in step S27 with respect to the line. The width parameter is fetched, a spline curve is generated based on the coordinate values of the control points of the fetched line data, and the line is drawn.
The drawn curve is subjected to a rotation process based on the set rotation angle parameter, is given a fluctuation based on the fluctuation parameter, and is given the set line width. In order to make the curve fluctuate, for example, a process similar to the process of step S19 in FIG. 2 may be performed. It is obvious to those skilled in the art that an appropriate function other than the spline curve can be used to draw a line curve from the coordinate values of the control points of the line data. Here, similarly to the first method, the created line pattern is passed to step S3 and is treated as a temporary line pattern.

【0064】(ステップS3について)上記、第1、第
2の方法のいずれかにおいて、2値のビットマップの仮
万線パターンが作成されるわけであるが、第1、第2の
方法のどちらを使用する場合においても、1つの2次元
スカラー場を入力して、2回処理を行って2つの仮万線
パターンを得る。この仮万線パターンの作成過程におい
て、乱数が作用するため、ステップS1において、同一
の2次元スカラー場を入力しても、得られる2つの仮万
線パターンは異なるものとなる。
(Regarding Step S3) In either of the first and second methods, a provisional line pattern of a binary bitmap is created. Is used, one two-dimensional scalar field is input and the process is performed twice to obtain two temporary line patterns. Since a random number acts in the process of creating this temporary line pattern, even if the same two-dimensional scalar field is input in step S1, the two temporary line patterns obtained will be different.

【0065】2つの2値のビットマップの仮万線パター
ンが得られたら、この2つの仮万線パターンの各画素同
士の排他的論理和をとって新たな万線パターンを得る
(ステップS3)。すなわち、どちらか一方の画素だけ
が値「1」をとるとき、新たな万線パターンにおける画
素値を「1」とし、それ以外は新たな万線パターンにお
ける画素値を「0」とするのである。このように2値の
ビットマップ画像の排他的論理和をとる例について、図
14を用いて説明する。図14では、説明の便宜上、万
線パターンでなく、横長のパターンを有する画像A、縦
長のパターンを有する画像Bで説明する。ここで、画像
A、画像Bの排他的論理和をとると、図14(c)に示
すような画像Cのようになる。画像Cを画像Aと比較す
ると、全体にパターンが散らばっていることがわかる。
同様に、画像Cを画像Bと比較してもパターンが散らば
っていることがわかる。このように、2値のビットマッ
プ画像の排他的論理和をとると、全体にパターンが散ら
ばる。これを万線パターンに適用すると、万線の隙間、
塊ともに減少することになる。
When the provisional line pattern of the two binary bitmaps is obtained, a new line pattern is obtained by taking the exclusive OR of each pixel of the two provisional line patterns (step S3). . That is, when only one of the pixels takes the value "1", the pixel value in the new line pattern is set to "1", and in the other cases, the pixel value in the new line pattern is set to "0". . An example of taking an exclusive OR of a binary bitmap image in this manner will be described with reference to FIG. In FIG. 14, for convenience of description, an image A having a horizontally long pattern and an image B having a vertically long pattern are described instead of a line pattern. Here, when the exclusive OR of the image A and the image B is calculated, an image C as shown in FIG. 14C is obtained. When the image C is compared with the image A, it can be seen that the patterns are scattered throughout.
Similarly, it can be seen that the patterns are scattered even when the image C is compared with the image B. As described above, when the exclusive OR of the binary bitmap images is obtained, the patterns are scattered throughout. When this is applied to the line pattern, the line gap,
Both lumps will decrease.

【0066】以上のステップS1〜ステップS3の処理
により、万線パターンが得られるので、この後は、従来
と同様に、当該万線パターンに基づいてエンボス版を作
成し、そのエンボス版によって所望のシートにエンボス
加工を施せば良い。
Since a line pattern is obtained by the processing of steps S1 to S3, an embossing plate is created based on the line pattern, and a desired embossing plate is formed by the embossing plate. The sheet may be embossed.

【0067】(装置構成)次に、第1の実施形態による
万線データの作成装置について説明する。本装置は、図
15に示すように2次元スカラー場入力手段1、仮万線
生成手段2、排他的論理和演算手段3、出力手段4を備
えている。2次元スカラー場入力手段1は、図1のステ
ップS1の処理を行うものであり、既に説明したように
適宜な方法によって作成された繊維潜り角の2次元スカ
ラー場を入力するためのものである。仮万線生成手段2
は、図1のステップS2の処理を行うものであり、上記
のように第1の方法、第2の方法の2種類の方法を実行
する機能を有している。排他的論理和演算手段3は図1
のステップS3の処理を行うものであり、出力手段4は
作成された万線データを出力するためのものである。
(Apparatus Configuration) Next, an apparatus for creating line data according to the first embodiment will be described. As shown in FIG. 15, the present apparatus includes a two-dimensional scalar field input unit 1, a temporary line generating unit 2, an exclusive OR operation unit 3, and an output unit 4. The two-dimensional scalar field input means 1 performs the processing of step S1 in FIG. 1, and is for inputting the two-dimensional scalar field of the fiber dive angle created by an appropriate method as described above. . Temporary line generating means 2
Performs the process of step S2 in FIG. 1, and has a function of executing the two methods of the first method and the second method as described above. The exclusive OR operation means 3 is shown in FIG.
The output means 4 is for outputting the created line data.

【0068】これらの2次元スカラー場入力手段1、仮
万線生成手段2、排他的論理和演算手段3、出力手段4
の各構成要素は、いずれもコンピュータを利用して構築
されるものであり、最終的にこのコンピュータから万線
データが出力されることになる。
The two-dimensional scalar field input means 1, the temporary line generating means 2, the exclusive OR operation means 3, and the output means 4
Are constructed using a computer, and the computer finally outputs line data.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
繊維潜り角の2次元分布である2次元スカラー場に基づ
いて複数の仮万線を生成し、この仮万線同士の排他的論
理和を演算して、その値を新たな万線とすることにより
万線データを作成するようにしており、特に、従来はそ
のまま出力していた仮万線を複数用意し、それらを排他
的論理和演算するため、万線の隙間や塊が減少するとい
う効果を奏する。これにより、この万線パターンをエン
ボス加工することにより得られるエンボスシートにおい
ては、好ましくない反射が起こらないようになる。
As described above, according to the present invention,
Generating a plurality of temporary lines based on a two-dimensional scalar field that is a two-dimensional distribution of fiber dive angles, calculating the exclusive OR of these temporary lines, and using the value as a new line In particular, multiple temporary lines, which were previously output as they are, are prepared, and exclusive OR operation is performed on them. This reduces the gaps and lump between lines. To play. Thereby, in the embossed sheet obtained by embossing the line pattern, undesired reflection does not occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の万線データの作成方法の処理動作を示
すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a processing operation of a method of creating line data according to the present invention.

【図2】図1のステップS2における仮万線生成の第1
の方法の詳細を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a diagram illustrating a first example of temporary line creation in step S2 of FIG. 1;
5 is a flowchart showing details of the method.

【図3】図2のステップS12で、第1行目に定義され
た代表画素を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing representative pixels defined in a first row in step S12 of FIG. 2;

【図4】図2のステップS12で、第1行目に定義され
た画素帯を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a pixel band defined in a first row in step S12 of FIG. 2;

【図5】図2のステップS14で、第1行目の代表画素
に基づいて、第2行目に定義された代表画素を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing representative pixels defined in a second row based on representative pixels in a first row in step S14 of FIG. 2;

【図6】図2のステップS14で、第1行目の代表画素
に基づいて、第2行目に定義された画素帯を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram illustrating a pixel band defined in a second row based on the representative pixels in the first row in step S14 of FIG. 2;

【図7】図2のフローチャートの手順により生成された
万線を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a line created by the procedure of the flowchart of FIG. 2;

【図8】図2のステップS15の調整処理により新たな
万線M3が発生した状態を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a state where a new line M3 has been generated by the adjustment processing in step S15 of FIG. 2;

【図9】図2のステップS15の調整処理により万線M
2が終端した状態を示す図である。
FIG. 9 illustrates a line M by the adjustment processing in step S15 of FIG. 2;
FIG. 2 is a diagram showing a state where 2 is terminated.

【図10】図2のステップS19の万線の変形処理を説
明するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the parallel line deformation processing in step S19 in FIG. 2;

【図11】図2のステップS19の万線の変形処理によ
って代表画素および画素帯が移動されて変形された場合
の例を説明するための図である。
11 is a diagram for explaining an example in which a representative pixel and a pixel band are moved and deformed by the parallel line deformation processing in step S19 in FIG. 2;

【図12】図1のステップS2における仮万線生成の第
2の方法の詳細を示すフローチャートである。
FIG. 12 is a flowchart illustrating details of a second method of generating a provisional line in step S2 of FIG. 1;

【図13】図1のステップS2における仮万線生成の第
2の方法の詳細を示すフローチャートである。
FIG. 13 is a flowchart illustrating details of a second method of generating a provisional line in step S2 of FIG. 1;

【図14】図1のステップS3における排他的論理和演
算を説明するための図ある。
FIG. 14 is a diagram for explaining an exclusive OR operation in step S3 of FIG. 1;

【図15】本発明の万線データの作成装置の構成を示す
ブロック図である。
FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration of a line data creating apparatus according to the present invention.

【図16】万線パターンがエンドレス加工されたシート
の表面に形成された万線条溝Gの構造を示す斜視図であ
る。
FIG. 16 is a perspective view showing a structure of a line groove G formed on the surface of a sheet on which a line pattern has been subjected to endless processing.

【図17】一般的な材木版における繊維方向ベクトルF
と光線ベクトルLとの関係を示す側断面図である。
FIG. 17: Fiber direction vector F in a general lumber slab
FIG. 6 is a side sectional view showing a relationship between the light beam vector L and the light beam vector L.

【図18】一般的な材木板におけるベクトル交錯角φ
(繊維潜り角ξ)と鏡面反射光強度Wとの関係を示すグ
ラフである。
FIG. 18: Vector intersection angle φ in a general timber board
6 is a graph showing a relationship between (fiber diving angle ξ) and the intensity of specular reflected light W.

【図19】本出願人が特願平10−104831号で提
案した、天然木材から繊維潜り角の2次元スカラー場を
生成する方法を説明するための図である。
FIG. 19 is a view for explaining a method proposed by the present applicant in Japanese Patent Application No. 10-104831 to generate a two-dimensional scalar field of a fiber dive angle from natural wood.

【図20】本出願人が特願平10−104831号で提
案した、天然木材から繊維潜り角の2次元スカラー場を
生成する方法を説明するための図である。
FIG. 20 is a diagram for explaining a method of generating a two-dimensional scalar field of a fiber dive angle from natural wood proposed by the present applicant in Japanese Patent Application No. 10-104831.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・2次元スカラー場入力手段 2・・・仮万線生成手段 3・・・排他的論理和演算手段 4・・・出力手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Two-dimensional scalar field input means 2 ... Temporary line generation means 3 ... Exclusive OR operation means 4 ... Output means

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】万線パターンを作成するための2次元スカ
ラー場を入力し、その2次元スカラー場に基づいて複数
の異なる仮万線を生成し、これら仮万線同士の排他的論
理和演算を行うことにより、新たな万線を作成すること
を特徴とする万線データの作成方法。
1. A two-dimensional scalar field for creating a line pattern is inputted, a plurality of different temporary lines are generated based on the two-dimensional scalar field, and exclusive OR operation of these temporary lines is performed. , A new line is created, thereby creating a new line.
【請求項2】万線パターンを作成するための2次元スカ
ラー場を入力する2次元スカラー場入力手段と、 2次元スカラー場入力手段で入力した2次元スカラー場
に基づいて複数の異なる仮万線を生成する仮万線生成手
段と、 仮万線生成手段によって生成された仮万線同士の排他的
論理和演算を行って新たな万線を作成する排他的論理和
演算手段と、を有することを特徴とする万線データの作
成装置。
2. A two-dimensional scalar field input means for inputting a two-dimensional scalar field for creating a line pattern, and a plurality of different temporary lines based on the two-dimensional scalar field input by the two-dimensional scalar field input means. Temporary line generating means for generating the same, and exclusive OR operation means for performing an exclusive OR operation between the temporary lines generated by the temporary line generating means to create a new line. An apparatus for creating line data.
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