JP2000347234A - Uv optical device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線光学装置、
例えば紫外線発生装置、あるいは紫外線を用いた露光装
置等の紫外線光学装置に関わる。The present invention relates to an ultraviolet optical device,
For example, the present invention relates to an ultraviolet optical device such as an ultraviolet ray generating device or an exposure device using ultraviolet light.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、大気中で光学部品に波長４００ｎ
ｍ以下の紫外線を照射すると、光学部品表面の大気中の
水分や油分が反応して、その反応物や周辺のパーティク
ル等が光学部品表面に付着し、この光学部品の光学的特
性が劣化するという不都合があった。2. Description of the Related Art Conventionally, a wavelength of 400 n is used for optical components in the atmosphere.
When ultraviolet light of m or less is irradiated, moisture or oil in the air on the surface of the optical component reacts, and the reactant and peripheral particles adhere to the surface of the optical component, thereby deteriorating the optical characteristics of the optical component. There was an inconvenience.
【０００３】特に、外部共振型の波長変換（M.Oka and
S.Kubota,JJAP.Vol.31(1992)pp513または M.Oka et.a
l.,Digest of Conference on Laser and Electro-Optic
s(OSA,Washington D.C.,1992)等においては、共振器内
に配置されたミラーや、非線型光学素子の性能の微小な
劣化が発生する高調波出力を著しく低下させている。In particular, external resonance type wavelength conversion (M. Oka and
S.Kubota, JJAP.Vol.31 (1992) pp513 or M.Oka et.a
l., Digest of Conference on Laser and Electro-Optic
In s (OSA, Washington DC, 1992) and the like, the harmonic output at which the performance of the mirror and the nonlinear optical element arranged in the resonator is slightly deteriorated is significantly reduced.
【０００４】例えば波長５３２ｎｍの基本波を共振器内
で２６６ｎｍの紫外線に波長変換する外部共振器型の紫
外線光学装置は、例えば図１７に示すように、外部共振
器を構成する第１〜第４のミラー１〜４を有し、第１〜
第３のミラー１〜３は、基本波の波長５３２ｎｍに対し
て例えば９９．９５％以上の反射率を有する高反射ミラ
ーより成り、第４のミラー４は、波長５３２ｎｍに対し
て例えば９９％以上とされたミラーによって構成され
る。For example, as shown in FIG. 17, an external resonator type ultraviolet optical device which converts a wavelength of a fundamental wave having a wavelength of 532 nm into an ultraviolet ray having a wavelength of 266 nm in a resonator, for example, as shown in FIG. Mirrors 1-4,
The third mirrors 1 to 3 are high-reflection mirrors having a reflectance of, for example, 99.95% or more with respect to the wavelength of 532 nm of the fundamental wave, and the fourth mirror 4 is, for example, 99% or more with respect to the wavelength of 532 nm. And a mirror.
【０００５】また、第１および第４のミラー１および４
間には、非線型光学素子５例えばバリウムボレートβ−
ＢａＢ2 Ｏ4 （以下ＢＢＯという）が配置される。この
非線型光学素子５の両端面、すなわち光入射端面５ａお
よび光出射端面５ｂは、それぞれ鏡面研磨され、基本波
の５３２ｎｍに対して０．１％以下の反射率とする低反
射膜が形成されて成る。Further, first and fourth mirrors 1 and 4
Between the non-linear optical elements 5 such as barium borate β-
BaB 2 O 4 (hereinafter referred to as BBO) is provided. Both end faces of the non-linear optical element 5, that is, the light incident end face 5a and the light exit end face 5b are each mirror-polished to form a low reflection film having a reflectance of 0.1% or less with respect to 532 nm of the fundamental wave. Consisting of
【０００６】この構成によって、第４のミラー４を透過
して到来する上述の５３２ｎｍの入射光６すなわち基本
波は、第１〜第４のミラー１〜４間で増幅され、非線型
光学素子５によって基本波の第２高調波の波長２６６ｎ
ｍの紫外線が、光出射端面５ｂから導出されてるように
なされる。そして、このようにして波長変換されて得ら
れた紫外線は、この波長に対して透過率の高い第１のミ
ラーを透過して出射光７として出力される。With this configuration, the above-mentioned 532 nm incident light 6, that is, the fundamental wave, which is transmitted through the fourth mirror 4, is amplified between the first to fourth mirrors 1 to 4, and becomes non-linear optical element 5. The wavelength 266n of the second harmonic of the fundamental wave
m ultraviolet rays are led out from the light emitting end face 5b. Then, the ultraviolet light obtained by the wavelength conversion in this manner is transmitted through the first mirror having a high transmittance with respect to this wavelength, and is output as emission light 7.
【０００７】この外部共振器において、第３のミラー３
は、例えばいわゆるＶＣＭ（VoiceCoil Motor) による
アクチュエータ（図示せず）に設置されて、その位置調
整がなされる。In this external resonator, the third mirror 3
Is mounted on an actuator (not shown) of, for example, a so-called VCM (Voice Coil Motor), and its position is adjusted.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
波長変換を大気中で行うと、その外部共振器を構成する
ミラーが光学的特性の低下、具体的には散乱が大となる
ことによる光学損失が増加する。特に、紫外線、すなわ
ち４００ｎｍ以下の短波長光を多く受ける非線型光学素
子の光出射端面側の、例えば図１７における第１のミラ
ー１における光学損失の増加が著しい。By the way, when such wavelength conversion is performed in the atmosphere, the mirror constituting the external resonator deteriorates the optical characteristics, and more specifically, the optical scattering due to the large scattering. Loss increases. In particular, the optical loss in the first mirror 1 shown in FIG. 17, for example, on the light emitting end face side of the non-linear optical element which receives much ultraviolet light, that is, short-wavelength light of 400 nm or less, is remarkably increased.
【０００９】この光学損失と、外部共振器内の５３２ｎ
ｍの基本波の増幅された出力Ｐωは、次の式（１）で示
される。 Ｐω＝√（δcav 2 ＋４γSHＰi −δcav ）／２γSH ・・・・（１） ここで、δcav は外部共振器内の波長５３２ｎｍでの光
学損失、Ｐωは増幅された基本波の出力、Ｐi は非線型
光学素子５への入射基本波の出力、γSHは、非線型光学
素子５の結晶長，基本波の波長，入射基本波のスポット
サイズ，フォーカシングパラメータから決定される非線
形変換ファクターといわれる定数である。この（１）式
から、外部共振器内において、光学損失δcav が増加す
ると基本波の出力Ｐωが低下することがわかる。This optical loss and 532n in the external resonator
The amplified output Pω of the m fundamental waves is expressed by the following equation (1). Pω = √ (δ cav 2 + 4γ SH P i −δ cav ) / 2γ SH (1) where δ cav is the optical loss in the external resonator at a wavelength of 532 nm, and Pω is the amplified fundamental wave. output, P i is the incident fundamental wave of the non-linear optical element 5 outputs, gamma SH is determined crystal length of the non-linear optical element 5, the wavelength of the fundamental wave, the spot size of the incident fundamental wave, from the focusing parameters This is a constant called a non-linear conversion factor. From the equation (1), it can be seen that, when the optical loss δ cav increases in the external resonator, the output Pω of the fundamental wave decreases.
【００１０】一方、基本波の出力Ｐωと、第２高調波の
出力Ｐ2 ωの関係は、次の式（２）で表せる。 Ｐ2 ω＝γSHＰω2 ・・・・・・（２）On the other hand, the relationship between the output Pω of the fundamental wave and the output P 2 ω of the second harmonic can be expressed by the following equation (2). P 2 ω = γ SH Pω 2 (2)
【００１１】この（２）式から、基本波の出力Ｐωが低
下すると、第２高調波の出力Ｐ2 ωも低下することがわ
かる。From equation (2), it can be seen that when the output Pω of the fundamental wave decreases, the output P 2 ω of the second harmonic also decreases.
【００１２】実際に、図１７の構成によって、クリーン
ルームの大気中（水分量の体積分率が８，０００ [ppm]
程度）で紫外光を発生させた場合の出力の経時変化を測
定したところ図１４に示す結果となった。これより明ら
かなように、この水分量の大気中では、４７時間程度で
紫外線出力は、半減してしまって、安定して紫外光を得
ることができない。Actually, according to the configuration shown in FIG. 17, in the clean room atmosphere (the volume fraction of the water content is 8,000 ppm).
), The change over time of the output when ultraviolet light was generated was measured, and the results shown in FIG. 14 were obtained. As is clear from this, in the atmosphere having this moisture content, the ultraviolet output is reduced by half in about 47 hours, and it is not possible to obtain ultraviolet light stably.
【００１３】しかしながら、半導体装置、その他各種
の、フォトリソグラフィ技術等における例えば露光装置
の光源として用いられる紫外線発生装置においては、２
００時間程度の安定性、少なくともその出力の半減時間
が２００時間以上であることが望まれる。However, in a semiconductor device and other various types of ultraviolet ray generating devices used as a light source of an exposure device in a photolithography technique or the like, for example,
It is desired that the stability is about 00 hours, and that the output half-life is at least 200 hours or more.
【００１４】本発明は、このような目的に即した紫外線
照射がなされる光学部品を有する紫外線光学装置を得る
ことができるようにするものである。It is an object of the present invention to provide an ultraviolet optical device having an optical component for performing ultraviolet irradiation for such a purpose.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明は、紫外線が照射
される光学部品を具備する紫外線光学装置であって、そ
の一部もしくは全部の光学部品を、気体導入口と気体導
出口とを有する外囲器内に配置し、この外囲器内に、そ
の少なくとも特に光学特性の劣化が問題となる光学部品
に、気体導入口から導入した乾燥気体を吹き付ける構成
とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an ultraviolet optical device having an optical component to be irradiated with ultraviolet light, wherein a part or all of the optical component has a gas inlet and a gas outlet. It is arranged in an envelope, and a dry gas introduced from a gas introduction port is blown into the envelope at least to an optical component in which deterioration of optical characteristics is a problem.
【００１６】このように、本発明においては、乾燥気体
を積極的に吹き付けることによって紫外線が照射される
光学部品における光学的特性劣化を激減できることを確
認したものである。As described above, in the present invention, it has been confirmed that deterioration of optical characteristics of an optical component irradiated with ultraviolet rays can be drastically reduced by actively blowing a dry gas.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】本発明による紫外線光学装置は、
紫外線が照射される光学部品を具備する紫外線光学装
置、例えば紫外線発生装置あるいは紫外線が照射される
光学装置にあってその一部もしくは全部の上記光学部
品、例えばレンズ、ミラー、あるいは例えば共振器およ
び非線型光学素子を具備する外部共振器型紫外線発生装
置にあっては、例えばその非線型光学素子、共振器のミ
ラー等の全部、あるいは特に紫外線照射が著しく特性劣
化が著しいとか、または（あるいは）これによる光学装
置としての経時変化や、寿命に大きな影響を及ぼす問題
となる光学部品を、気体導入口と気体導出口とを有する
外囲器内に配置して、その問題となる光学部品に、気体
導入口から乾燥気体を吹き付ける構成とする。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An ultraviolet optical device according to the present invention comprises:
An ultraviolet optical device having an optical component to be irradiated with ultraviolet light, for example, an ultraviolet ray generating device or an optical device to be irradiated with ultraviolet light, and a part or all of the above optical components such as a lens, a mirror, or a resonator and a non-optical device. In the case of an external resonator type ultraviolet ray generating apparatus having a linear optical element, for example, all of the nonlinear optical element, the mirror of the resonator, etc., or particularly the ultraviolet ray irradiation is remarkably deteriorated in characteristics, and / or The optical component that causes a change with time and the life as an optical device due to is placed in an envelope having a gas inlet and a gas outlet, and the optical component that causes the problem has a gas. Dry gas is blown from the inlet.
【００１８】この吹き付けを行う乾燥気体は、水分量が
体積分率で５，０００ [ppm]以下の空気や、不活性ガス
のアルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ）を用いる。例えば大気
（空気）を乾燥装置すなわちドライヤーによって所要の
水分量に減少させて用いることができるが、乾燥装置、
配管、使用気体等の上から取扱いが容易であり、コスト
の低減化を図ることができ、工業的有利性を勘案して
１，０００ [ppm]より大に選定することが望ましい。As the dry gas to be sprayed, use is made of air having a water content of 5,000 [ppm] or less by volume, or argon (Ar) or nitrogen (N) as an inert gas. For example, the atmosphere (air) can be used by reducing the required amount of water by a drying device, that is, a dryer.
It is desirable to select a value larger than 1,000 [ppm] in consideration of industrial advantages because it is easy to handle from the viewpoint of piping, gas used, etc., and can reduce costs.
【００１９】本発明による紫外線光学装置の一実施形態
を参照して説明する。この実施形態においては、紫外線
発生装置本体を構成する光学部品の光学特性の劣化の改
善を図るようにした場合である。また、この実施形態に
おいては、外部共振器型の紫外線発生装置に適用した場
合である。図１は、図１７で説明した紫外線発生装置を
基本構成とする本発明装置の一実施形態の一例の概略構
成図を示すが、本発明装置は言うまでもなくこの例に限
られるものではない。この例においては、共振器内の基
本波光路内に基本波の第２高調波を発生させるすなわち
紫外線を得ることのできる非線型光学素子５が配置され
て成る共振器部、すなわち外線光学装置本体８、この例
では紫外線発生装置本体を外囲器９内に収容した場合で
ある。A description will be given with reference to an embodiment of the ultraviolet optical device according to the present invention. In this embodiment, a case is described in which the deterioration of the optical characteristics of the optical components constituting the ultraviolet ray generating device main body is improved. This embodiment is a case where the present invention is applied to an external resonator type ultraviolet ray generating device. FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of an example of an embodiment of the device of the present invention having the ultraviolet ray generating device described in FIG. 17 as a basic configuration, but the device of the present invention is not limited to this example as a matter of course. In this example, a resonator section in which a non-linear optical element 5 for generating a second harmonic of a fundamental wave, that is, for obtaining ultraviolet rays, is arranged in a fundamental wave optical path in the resonator, that is, a main body of the external optical device 8. In this example, the main body of the ultraviolet ray generator is housed in the envelope 9.
【００２０】紫外線光学装置本体８は、例えば前述した
と同様に、例えば波長５３２ｎｍの基本波を共振器内で
２６６ｎｍの紫外線に波長変換する構成とされる。すな
わち、外部共振器を構成する第１〜第４のミラー１〜４
を有し、第１〜第３のミラー１〜３は、基本波の波長５
３２ｎｍに対して例えば９９．９５％以上の反射率を有
する高反射ミラーより成り、第４のミラー４は、波長５
３２ｎｍに対して例えば９９％以上とされたミラーによ
って構成される。The ultraviolet optical device main body 8 is configured to convert a fundamental wave having a wavelength of, for example, 532 nm into an ultraviolet light having a wavelength of 266 nm in the resonator in the same manner as described above. That is, the first to fourth mirrors 1 to 4 constituting the external resonator
And the first to third mirrors 1 to 3 have a wavelength of 5
The fourth mirror 4 is composed of a high reflection mirror having a reflectance of, for example, 99.95% or more with respect to 32 nm.
For example, the mirror is configured to have a size of 99% or more with respect to 32 nm.
【００２１】また、第１および第４のミラー間には、非
線型光学素子５が配置される。この非線型光学素子５
は、例えばＢＢＯによる非線形光学結晶によって構成さ
れる。この非線型光学素子５の両端面、すなわち光入射
端面５ａおよび光出射端面は、それぞれ鏡面研磨され、
基本波の５３２ｎｍに対して０．１％以下の反射率とす
る低反射膜が形成されて成る。A nonlinear optical element 5 is arranged between the first and fourth mirrors. This nonlinear optical element 5
Is composed of, for example, a nonlinear optical crystal of BBO. Both end faces of the non-linear optical element 5, that is, the light incident end face 5a and the light exit end face are each mirror-polished,
A low reflection film having a reflectance of 0.1% or less with respect to 532 nm of the fundamental wave is formed.
【００２２】この構成によって、第４のミラー４を透過
して到来する上述の５３２ｎｍの入射光６すなわち基本
波は、第１〜第４のミラー１〜４間で増幅され、非線型
光学素子５によって基本波の第２高調波の波長２６６ｎ
ｍの紫外線が、光出射端面５ｂから導出されてるように
なされる。そして、このようにして波長変換されて得ら
れた紫外線は、この波長に対して透過率の高い第１のミ
ラーを透過して出射光７として出力される。With this configuration, the above-mentioned 532 nm incident light 6, that is, the fundamental wave, which is transmitted through the fourth mirror 4, is amplified between the first to fourth mirrors 1 to 4, and becomes non-linear optical element 5. The wavelength 266n of the second harmonic of the fundamental wave
m ultraviolet rays are led out from the light emitting end face 5b. Then, the ultraviolet light obtained by the wavelength conversion in this manner is transmitted through the first mirror having a high transmittance with respect to this wavelength, and is output as emission light 7.
【００２３】この外部共振器において、第３のミラー３
は、例えば前述したと同様にＶＣＭによるアクチュエー
タ（図示せず）に設置されて、その位置調整がなされ
る。In this external resonator, the third mirror 3
Is mounted on an actuator (not shown) by VCM, for example, as described above, and its position is adjusted.
【００２４】外囲器９は、気体導入口１０と、気体導出
口１１とを有する気密容器によって構成され、気体導入
口１０から乾燥気体、例えば乾燥空気、乾燥不活性ガス
の乾燥アルゴンガス，乾燥窒素ガスの導入がなされる。
また、この外囲器９には、基本波入射光６を導入する透
明窓１１と、出射光すなわち紫外線を導出する透明窓１
２が、それぞれ外囲器９に対して気密的に設けられる。
すなわち、透明窓１１は、入射光６すなわち基本波の波
長光に対して高い透過率を有し、透明窓１２は、出射光
７の紫外線に対して高い透過率を有する透明窓とする。The envelope 9 is constituted by an airtight container having a gas inlet 10 and a gas outlet 11, and a dry gas, for example, dry air, dry argon gas of dry inert gas, dry gas, etc. Nitrogen gas is introduced.
Further, the envelope 9 includes a transparent window 11 for introducing the fundamental wave incident light 6 and a transparent window 1 for guiding outgoing light, that is, ultraviolet rays.
2 are hermetically provided for the envelope 9 respectively.
That is, the transparent window 11 has a high transmittance with respect to the incident light 6, that is, the wavelength light of the fundamental wave, and the transparent window 12 has a high transmittance with respect to the ultraviolet light of the emission light 7.
【００２５】そして、外囲器９の気体導入口１０から供
給される乾燥気体は、乾燥装置１４、いわゆるドライヤ
ー例えば膜式エアドライヤーＳＷＣ型（旭硝子エンジニ
アリング（株）製）、メンブレンドライヤー（宇部興産
（株）製）を用い、これに清浄空気を通ずることによっ
て得ることができる。The drying gas supplied from the gas inlet 10 of the envelope 9 is supplied to a drying device 14, a so-called dryer, for example, a film type air dryer SWC type (manufactured by Asahi Glass Engineering Co., Ltd.) or a membrane dryer (Ube Industries, Ltd.). Co., Ltd.) and by passing clean air through it.
【００２６】図１の例では、非線型光学素子５から発生
された紫外線が直接的に照射される、すなわち強い紫外
線照射がなされ、またその光学特性が、紫外線発生装置
としての紫外線出力に大きく影響する第１のミラー１に
向かって主として乾燥気体の吹き付けを行うようにした
場合である。この場合、気体導入口１０および気体導出
口１１は、外囲器９において、外囲器９内に配置された
本体８を挟んで図１において上方および下方に配置さ
れ、気体導出口１１は、その内端開口が、第１のミラー
１の近傍に開口されて、乾燥気体を、主としてこの第１
のミラー１に吹き付けるようにした場合である。In the example shown in FIG. 1, the ultraviolet light generated from the nonlinear optical element 5 is directly irradiated, that is, strong ultraviolet irradiation is performed, and its optical characteristics greatly affect the ultraviolet output as an ultraviolet generator. This is a case where the dry gas is mainly blown toward the first mirror 1 to be dried. In this case, the gas inlet 10 and the gas outlet 11 are disposed above and below the enclosure 8 in FIG. 1 with the main body 8 disposed in the envelope 9 interposed therebetween. The inner end opening is opened in the vicinity of the first mirror 1 so that dry gas is mainly passed through the first mirror 1.
Is applied to the mirror 1 of FIG.
【００２７】乾燥気体は、その水分量（体積分率）が
５，０００ [ppm]以下に選定されるが、上述した理由か
ら５，０００ [ppm]以下で、１，０００ [ppm]より大と
することが望ましい。The dry gas is selected to have a water content (volume fraction) of 5,000 [ppm] or less, but for the reasons described above, it is 5,000 [ppm] or less, and more than 1,000 [ppm]. It is desirable that
【００２８】図２は、本発明の一実施形態における他の
例の概略構成図を示し、図１と対応する部分に同一符号
を付して重複説明を省略するが、この例においては、気
体導入口１０および気体導出口１１を、外囲器９の、内
部の紫外線光学装置本体８、この例では紫外線発生装置
本体を、挟んでその上下に、配置して装置本体全体に乾
燥空気を吹き付けるようにした場合である。FIG. 2 is a schematic diagram showing another example of the embodiment of the present invention, in which parts corresponding to those in FIG. The inlet 10 and the gas outlet 11 are placed above and below the ultraviolet optical device main body 8 inside the envelope 9, in this example, the ultraviolet light generator main body, and dry air is blown over the entire device main body. This is the case.
【００２９】また、図３は、本発明の一実施形態におけ
る他の例の概略構成図を示し、図１と対応する部分に同
一符号を付して重複説明を省略するが、この例において
は、気体導入口１０を、第１のミラー１と非線型光学素
子５との中間部上に配置して、乾燥気体を、主としてこ
れら第１のミラー１と非線型光学素子５に向かって吹き
付けるようにした場合である。FIG. 3 is a schematic block diagram of another example of the embodiment of the present invention, in which parts corresponding to those in FIG. The gas inlet 10 is arranged on the intermediate portion between the first mirror 1 and the non-linear optical element 5 so that the dry gas is mainly blown toward the first mirror 1 and the non-linear optical element 5. This is the case.
【００３０】更に、図４は、本発明の一実施形態におけ
る他の例の概略構成図を示し、この場合においても、図
１と対応する部分に同一符号を付して重複説明を省略す
るが、この例においては、気体導入口１０を、第１のミ
ラー１と非線型光学素子５との中間部上に配置する一
方、気体導出口１１を、外囲器９の気体導入口１０と並
置するように、非線型光学素子５と第４のミラーとの中
間部上に配置した場合で、この場合、乾燥気体が主とし
て第１のミラー１と非線型光学素子５の配置部をめぐる
ようになされて、主としてこれら第１のミラー１と非線
型光学素子５に吹き付けられるようにした場合である。FIG. 4 is a schematic diagram showing another example of the embodiment of the present invention. In this case, the same reference numerals are given to the parts corresponding to those in FIG. In this example, the gas inlet 10 is arranged on an intermediate portion between the first mirror 1 and the nonlinear optical element 5, while the gas outlet 11 is juxtaposed with the gas inlet 10 of the envelope 9. In this case, the dry gas is disposed on an intermediate portion between the nonlinear optical element 5 and the fourth mirror. In this case, the dry gas mainly flows around the arrangement section of the first mirror 1 and the nonlinear optical element 5. In this case, the first mirror 1 and the non-linear optical element 5 are mainly sprayed.
【００３１】また、図５は、本発明の一実施形態におけ
る他の例の概略構成図を示し、この場合においても、図
１と対応する部分に同一符号を付して重複説明を省略す
るが、この例においては、図４の構成におけると同様
に、気体導入口１０を、外囲器９の例えば上側面の第１
のミラー１と非線型光学素子５との中間部上に配置する
ものの、複数の気体導出口１１を、外囲器９の各他の側
面の例えば左右側面と下側面とに、それぞれ配置して、
主として第１のミラー１と非線型光学素子５とに乾燥気
体を吹き付けると共に、他の第２〜第４ミラー２〜４に
ついても、幾分の紫外線が循環照射されることによる光
学特性の劣化を回避するようにした場合である。FIG. 5 is a schematic diagram showing another example of the embodiment of the present invention. In this case, the same reference numerals are given to the parts corresponding to those in FIG. In this example, as in the configuration of FIG. 4, the gas inlet 10 is connected to, for example, the first side of the upper surface of the envelope 9.
Are arranged on the intermediate portion between the mirror 1 and the nonlinear optical element 5, but a plurality of gas outlets 11 are arranged on each of the other sides of the envelope 9, for example, on the left and right sides and the lower side, respectively. ,
A dry gas is mainly blown to the first mirror 1 and the non-linear optical element 5, and the other second to fourth mirrors 2 to 4 are also prevented from deteriorating optical characteristics due to circulating irradiation of some ultraviolet rays. This is the case in which it is avoided.
【００３２】次に、本発明の実施例を説明する。しかし
ながら、本発明はこの実施例に限られるものではない。Next, an embodiment of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to this embodiment.
【００３３】〔実施例１〕図１で示した本発明装置にお
いて、気体導入口１０および気体導出口１１の内径を、
例えば８ｍｍとし、気体導入口１０から、水分量（体積
分率）５，０００[ppm]の乾燥空気を０．５ [リットル
／分] で供給した。このときの、紫外線発生装置の出力
の経時変化を測定した結果を、図９および図１０に示
す。この測定結果によって明らかなように、２００時間
の連続使用で、その出力は、２割程度低下するのみで、
半減時間は５００時間にも及んだ。[Embodiment 1] In the apparatus of the present invention shown in FIG. 1, the inner diameters of the gas inlet 10 and the gas outlet 11 are
For example, dry air having a water content (volume fraction) of 5,000 [ppm] was supplied at a rate of 0.5 [liter / min] from the gas inlet 10 at 8 mm. FIGS. 9 and 10 show the results of measuring the change over time of the output of the ultraviolet ray generator at this time. As is evident from the measurement results, the output decreases only by about 20% after continuous use for 200 hours.
The half-life was as long as 500 hours.
【００３４】〔実施例２〕実施例１と同様の構成および
動作とするものの、この場合、水分量（体積分率）を、
１ [ppm]とした。この場合の経時変化の測定結果を図１
１および図１２に示す。この場合、２００時間はもとよ
り１，０００時間後においても全く変化がみられなかっ
た。しかしながら、この場合、高性能のドライヤーの使
用、配管等の考慮を必要となることから、冒頭に述べた
実用上の観点、すなわち２００時間程度以上を目的とす
る場合においては、このように、乾燥度の高い気体の使
用を必要としない。Embodiment 2 The configuration and operation are the same as those in Embodiment 1, but in this case, the water content (volume fraction) is
1 [ppm]. FIG. 1 shows the measurement results of the change with time in this case.
1 and FIG. In this case, no change was observed even after 200 hours as well as after 1,000 hours. However, in this case, it is necessary to consider the use of a high-performance dryer, piping, and the like. Therefore, in the practical viewpoint described at the beginning, that is, when the purpose is about 200 hours or more, the drying is performed like this. Does not require the use of high-grade gas.
【００３５】〔実施例３〕図２で示した本発明装置にお
いて、気体導入口１０および気体導出口１１の内径を、
例えば８ｍｍとし、気体導入口１０から、水分量（体積
分率）５，０００[ppm]の乾燥空気を０．５ [リットル
／分] で供給した。このときの、紫外線発生装置の出力
の経時変化を測定した結果は、図９および図１０と殆ど
同様の結果が得られた。Embodiment 3 In the apparatus of the present invention shown in FIG. 2, the inner diameters of the gas inlet 10 and the gas outlet 11 are
For example, dry air having a water content (volume fraction) of 5,000 [ppm] was supplied at a rate of 0.5 [liter / min] from the gas inlet 10 at 8 mm. At this time, as a result of measuring the change over time of the output of the ultraviolet ray generator, almost the same results as in FIGS. 9 and 10 were obtained.
【００３６】〔実施例４〕実施例３と同様の構成および
動作とするものの、この場合、水分量（体積分率）を、
１ [ppm]とした。この場合の経時変化の測定結果も図１
１および図１２と殆ど同様の結果が得られた。[Embodiment 4] The same construction and operation as in Embodiment 3 are adopted, but in this case, the water content (volume fraction) is
1 [ppm]. FIG. 1 also shows the measurement results of the change with time in this case.
Almost the same results as in FIG. 1 and FIG. 12 were obtained.
【００３７】〔実施例５〕図３で示した本発明装置にお
いて、気体導入口１０および気体導出口１１の内径を、
例えば８ｍｍとし、気体導入口１０から、水分量（体積
分率）５，０００[ppm]の乾燥空気を０．５ [リットル
／分] で供給した。このときの、紫外線発生装置の出力
の経時変化を測定した結果は、図９および図１０とほぼ
同様の結果が得られた。Embodiment 5 In the apparatus of the present invention shown in FIG. 3, the inner diameters of the gas inlet 10 and the gas outlet 11 are
For example, dry air having a water content (volume fraction) of 5,000 [ppm] was supplied at a rate of 0.5 [liter / min] from the gas inlet 10 at 8 mm. At this time, as a result of measuring the change over time of the output of the ultraviolet ray generator, almost the same results as in FIGS. 9 and 10 were obtained.
【００３８】〔実施例６〕実施例５と同様の構成および
動作とするものの、この場合、水分量（体積分率）を、
１ [ppm]とした。この場合の経時変化の測定結果も、図
１１および図１２とほぼ同様の結果が得られた。 〔実施例７〕図４で示した本発明装置において、気体導
入口１０および気体導出口１１の内径を、例えば８ｍｍ
とし、気体導入口１０から、水分量（体積分率）５，０
００[ppm]の乾燥空気を０．５ [リットル／分] で供給
した。このときの、紫外線発生装置の出力の経時変化を
測定した結果は、図９および図１０とほぼ同様になっ
た。[Embodiment 6] The same configuration and operation as in Embodiment 5 are adopted, but in this case, the water content (volume fraction) is
1 [ppm]. In this case, the measurement results of the change with time were almost the same as those shown in FIGS. 11 and 12. [Embodiment 7] In the apparatus of the present invention shown in FIG. 4, the inner diameters of the gas inlet 10 and the gas outlet 11 are, for example, 8 mm.
From the gas inlet 10, the water content (volume fraction) 5,0
00 [ppm] dry air was supplied at 0.5 [liter / min]. At this time, the result of measuring the change over time of the output of the ultraviolet ray generator was almost the same as in FIGS. 9 and 10.
【００３９】〔実施例８〕実施例７と同様の構成および
動作とするものの、この場合、水分量（体積分率）を、
１ [ppm]とした。この場合の経時変化の測定結果も、図
１１および図１２とほぼ同様になった。[Embodiment 8] The configuration and operation are the same as those in Embodiment 7, except that the water content (volume fraction) is
1 [ppm]. The measurement results of the change with time in this case were almost the same as those in FIG. 11 and FIG.
【００４０】〔実施例９〕図５で示した本発明装置にお
いて、気体導入口１０の内径を、例えば８ｍｍとし、気
体導出口１１の内径を４ｍｍとした。そして、気体導入
口１０から、水分量（体積分率）５，０００ [ppm]の乾
燥空気を０．５ [リットル／分] で供給した。このとき
の、紫外線発生装置の出力の経時変化を測定した結果
は、図９および図１０とほぼ同様の結果が得られた。Embodiment 9 In the apparatus of the present invention shown in FIG. 5, the inner diameter of the gas inlet 10 was, for example, 8 mm, and the inner diameter of the gas outlet 11 was 4 mm. Then, dry air having a water content (volume fraction) of 5,000 [ppm] was supplied from the gas inlet 10 at 0.5 [liter / minute]. At this time, as a result of measuring the change over time of the output of the ultraviolet ray generator, almost the same results as in FIGS. 9 and 10 were obtained.
【００４１】〔実施例１０〕実施例９と同様の構成およ
び動作とするものの、この場合、水分量（体積分率）
を、１ [ppm]とした。この場合の経時変化の測定結果も
図１１および図１２とほぼ同様の結果が得られた。[Embodiment 10] The same construction and operation as in Embodiment 9 are adopted, but in this case, the water content (volume fraction)
Was set to 1 [ppm]. In this case, the measurement results of the change with time were almost the same as those shown in FIGS.
【００４２】〔比較例１〕上述した実施例１と同様の構
成および動作とするものの、この場合、水分量（体積分
率）を、５，０００ [ppm]より高い６，０００ [ppm]と
した。この場合の経時変化の測定結果を、図１３に示
す。この場合、２００時間経過で、出力が初期値の６割
程度に低下した。[Comparative Example 1] The same configuration and operation as in Example 1 described above were used, but in this case, the water content (volume fraction) was 6,000 [ppm] higher than 5,000 [ppm]. did. FIG. 13 shows the measurement results of the change with time in this case. In this case, the output decreased to about 60% of the initial value after 200 hours.
【００４３】〔比較例２〕上述した実施例１と同様の構
成および動作とするものの、この場合、水分量（体積分
率）を、５，０００ [ppm]より高い８，０００ [ppm]と
した。この場合の経時変化の測定結果は、先に述べた図
１４と同様に、２００時間経過での出力低下は、より著
しく生じた。[Comparative Example 2] The same configuration and operation as in the above-mentioned Example 1 were performed, but in this case, the water content (volume fraction) was 8,000 [ppm] higher than 5,000 [ppm]. did. As a result of the measurement of the change with time in this case, as in the case of FIG. 14 described above, the output decreased after 200 hours more remarkably occurred.
【００４４】〔比較例３〕上述した実施例１と同様の構
成および動作とするものの、この場合、水分量（体積分
率）を、５，０００ [ppm]より高い１０，０００ [ppm]
とした。この場合は、初期値においてすら、出力が低く
なってしまう。[Comparative Example 3] The same configuration and operation as in Example 1 described above were used, but in this case, the water content (volume fraction) was 10,000 [ppm] higher than 5,000 [ppm].
And In this case, the output becomes low even at the initial value.
【００４５】上述した実施形態においては、紫外線発生
装置本体８を全体的に、外囲器９内に収容した場合であ
るが、他の実施形態として、非線型光学素子５における
第２高調波の紫外線が出射される端面５ｂにおける紫外
線照射による特性劣化をより確実に回避すべく、図６に
その一例を示すように、紫外線発生装置本体８の一部の
光学部品、例えば非線型光学素子５のみを、外囲器９内
に収容し、この非線型光学素子５のみに、乾燥気体の吹
き付けを行う構成とすることもできる。尚、図６におい
て、図１と対応する部分に同一符号を付して重複説明を
省略する。In the above-described embodiment, the ultraviolet ray generator main body 8 is entirely housed in the envelope 9. However, in another embodiment, the second harmonic of the nonlinear optical element 5 is used. As shown in FIG. 6, in order to more reliably avoid the characteristic deterioration due to the irradiation of the ultraviolet light on the end face 5b from which the ultraviolet light is emitted, as shown in FIG. May be housed in the envelope 9 and the non-linear optical element 5 alone may be blown with dry gas. In FIG. 6, portions corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
【００４６】また、図７は、この実施形態の他の例の概
略構成図を示し、この場合においても、図１と対応する
部分に同一符号を付して重複説明を省略するが、この例
においては、非線型光学素子５から発生した紫外線を大
きな線量で照射されて、著しい劣化が生じる第１のミラ
ー１のみを、外囲器９内に収容し、この第１のミラー１
のみに、乾燥気体の吹き付けを行って、より確実にその
紫外線照射による光学的特性の劣化を回避した場合であ
る。FIG. 7 is a schematic block diagram of another example of this embodiment. In this case as well, portions corresponding to those in FIG. In the first embodiment, only the first mirror 1 which is irradiated with ultraviolet rays generated from the non-linear optical element 5 at a large dose to cause remarkable deterioration is housed in an envelope 9 and the first mirror 1
Only in this case, a dry gas is blown to avoid the deterioration of the optical characteristics due to the ultraviolet irradiation more reliably.
【００４７】上述した実施形態においては、紫外線発生
装置本体８を構成する光学部品の光学特性の経時変化の
改善を図る構成とした場合であるが、更に、他の実施形
態においては、例えばこの紫外線発生装置から発生させ
た紫外線が照射される紫外線光学装置、例えば光学レン
ズ系、あるいは光路を屈曲させるミラー、ビームスプリ
ッタ等の同様の紫外線照射による、光学特性の劣化を防
止する構成とする。図８はこの場合の一例の概略構成図
を示す。しかしながら、この実施形態においても、この
例に限られるものではない。In the above-described embodiment, there is a case where the temporal change of the optical characteristics of the optical components constituting the ultraviolet ray generating device main body 8 is improved. In another embodiment, for example, this ultraviolet ray is used. An ultraviolet optical device to which the ultraviolet light generated from the generator is irradiated, such as an optical lens system, or a mirror or a beam splitter that bends an optical path, is configured to prevent deterioration of optical characteristics due to similar ultraviolet irradiation. FIG. 8 shows a schematic configuration diagram of an example in this case. However, this embodiment is not limited to this example.
【００４８】図８の例においては、図１７あるいは図１
で説明した構成による紫外線発生装置２１からの出射光
（紫外線）７が入射すなわち照射される例えばレンズ系
２２を、気体導入口１０および気体導出口１１を有する
外囲器９内に配置して、このレンズ系２２に上述した乾
燥気体の吹き付けを行うようにした場合である。この図
８において、図１７および図１と対応する部分に同一符
号を付して重複説明を省略する。この実施形態において
は、紫外線が照射される紫外線照射装置における光学装
置に、乾燥気体の吹き付けを行うものであるが、その紫
外線源となる紫外線照射装置２１において、例えば図１
〜図７で説明した構成を採ることもできる。In the example of FIG. 8, FIG. 17 or FIG.
For example, the lens system 22 to which the emitted light (ultraviolet light) 7 from the ultraviolet ray generator 21 having the configuration described in the above is incident or irradiated is disposed in the envelope 9 having the gas inlet 10 and the gas outlet 11. This is a case where the above-described dry gas is blown to the lens system 22. 8, parts corresponding to those in FIG. 17 and FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In this embodiment, the dry gas is blown to the optical device in the ultraviolet irradiation device that is irradiated with ultraviolet light. In the ultraviolet irradiation device 21 serving as the ultraviolet light source, for example, as shown in FIG.
7 can be adopted.
【００４９】上述したところから明らかなように、紫外
線照射がなされる光学部品に対して、５，０００ [ppm]
以下の乾燥気体を吹き付ける本発明によれば、その紫外
線光学装置、例えば紫外線発生装置、あるいは紫外線照
射装置において、その紫外線照射によって光学特性が劣
化する光学部品に関して、経時変化の改善、すなわち安
定した動作が長時間なされる、すなわち長寿命化が図ら
れる。このように、水分量が５，０００ [ppm]以下の乾
燥気体を吹き付けることによって、経時変化の改善が図
られるものであるが、乾燥装置や、配管、保全等を考慮
するとき、また、実際要求される特性安定化の目的に鑑
みると、この水分量は１，０００ [ppm]より大きくする
ことが望ましい。As is apparent from the above description, 5,000 [ppm] relative to the optical parts irradiated with ultraviolet rays.
According to the present invention in which the following dry gas is blown, in the ultraviolet optical device, for example, in the ultraviolet light generating device or the ultraviolet light irradiating device, the optical component whose optical characteristics are deteriorated by the ultraviolet light irradiation is improved over time, that is, stable operation. Is performed for a long time, that is, the life is extended. In this way, by spraying a dry gas having a water content of 5,000 [ppm] or less, the change over time can be improved. In view of the required purpose of stabilizing the characteristics, it is desirable that this water content is larger than 1,000 [ppm].
【００５０】尚、上述した例では、乾燥空気の吹き付け
を行った場合であるが、乾燥アルゴンガス、乾燥窒素ガ
スを供給する場合においても、同様の結果が得られた。
また、非線型光学素子５は、ＢＢＯによる非線形光学結
晶素子に限られず、例えばセシウムリチウムボレートＣ
ｓＬｉＢ6 Ｏ10（ＣＬＢＯ）非線形光学結晶素子によっ
て構成することもでき、この場合においても、上述した
各例と同様の構成によって同様の効果が得られた。In the above-described example, the dry air is blown, but the same result was obtained when dry argon gas and dry nitrogen gas were supplied.
Further, the nonlinear optical element 5 is not limited to a nonlinear optical crystal element made of BBO.
The sLiB 6 O 10 (CLBO) nonlinear optical crystal element can be used. In this case, the same effects as those of the above-described examples are obtained.
【００５１】また、本発明は、上述の実施形態および図
示の例に限られるものではなく、これらの組み合わせ、
更に例えばその紫外線光学装置本体８の構成、例えばミ
ラーの枚数、これによる光路、共振器構造、紫外線照射
装置における構造等において、本発明構成で、種々の変
形変更を行うことができる。Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment and the illustrated example, and a combination thereof,
Further, for example, in the configuration of the ultraviolet optical device main body 8, for example, the number of mirrors, the optical path thereby, the resonator structure, the structure in the ultraviolet irradiation device, and the like, various modifications and changes can be made in the configuration of the present invention.
【００５２】[0052]
【発明の効果】上述したように、本発明による紫外線光
学装置、例えば紫外線発生装置、あるいは紫外線照射装
置によれば、紫外線照射によって生じる光学特性が劣化
を効果的に改善することができるものである。したがっ
て、本発明装置を、半導体装置等の精密加工を必要とす
る例えばフォトリソグラフィの、例えばフォトレジスト
に対する露光装置の光源として用いる場合、あるいは紫
外線照射がなされる各種光学装置におけるレンズ、ミラ
ー、ビームスプリッタ等の各種光学部品における光学的
特性の劣化を効果的に回避でることから、この光学特性
の劣化によるメンテナンス等の頻度を小さくすることが
でき、生産性の向上を図ることができるなど、その工業
的効果は大きい。As described above, according to the ultraviolet optical device according to the present invention, for example, the ultraviolet ray generating device or the ultraviolet ray irradiating device, the optical characteristics caused by the ultraviolet ray irradiation can be effectively improved. . Therefore, when the apparatus of the present invention is used as a light source of an exposure apparatus for photolithography, for example, for photolithography, which requires precision processing of a semiconductor device, or a lens, a mirror, or a beam splitter in various optical apparatuses to which ultraviolet irradiation is performed. Since the deterioration of the optical characteristics of various optical components such as the above can be effectively avoided, the frequency of maintenance and the like due to the deterioration of the optical characteristics can be reduced, and the productivity can be improved. The effect is great.
【図１】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 1 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図２】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 2 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図３】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 3 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図４】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 4 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図５】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 5 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図６】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 6 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図７】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 7 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図８】本発明による紫外線光学装置の一例の構成図で
ある。FIG. 8 is a configuration diagram of an example of an ultraviolet optical device according to the present invention.
【図９】本発明による紫外線光学装置の、吹き付け乾燥
気体の水分量（体積分率）を、５，０００ [ppm]とした
ときの、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a temporal change of an ultraviolet light output when the moisture content (volume fraction) of a spray-dried gas in an ultraviolet optical device according to the present invention is 5,000 [ppm].
【図１０】本発明による紫外線光学装置の、同様に、吹
き付け乾燥気体の水分量（体積分率）を、５，０００
[ppm]としたときの、紫外光出力の経時変化を示す図で
ある。FIG. 10 shows that the water content (volume fraction) of the sprayed dry gas of the ultraviolet optical device according to the present invention is similarly 5,000.
FIG. 4 is a diagram showing a change with time of an ultraviolet light output when [ppm] is set.
【図１１】本発明による紫外線光学装置の、吹き付け乾
燥気体の水分量（体積分率）を、１ [ppm]としたとき
の、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a temporal change of an ultraviolet light output when the moisture content (volume fraction) of a spray-dried gas in an ultraviolet optical device according to the present invention is 1 [ppm].
【図１２】本発明による紫外線光学装置の、同様に、吹
き付け乾燥気体の水分量（体積分率）を、１ [ppm]とし
たときの、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the temporal change of the ultraviolet light output when the moisture content (volume fraction) of the spray-dried gas in the ultraviolet optical device according to the present invention is set to 1 [ppm].
【図１３】比較例による紫外線光学装置の、吹き付け乾
燥気体の水分量（体積分率）を、６，０００ [ppm]とし
たときの、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a temporal change of an ultraviolet light output when the moisture content (volume fraction) of a spray-dried gas in an ultraviolet optical device according to a comparative example is 6,000 [ppm].
【図１４】比較例による紫外線光学装置の、吹き付け乾
燥気体の水分量（体積分率）を、８，０００ [ppm]とし
たときの、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a temporal change of an ultraviolet light output when the moisture amount (volume fraction) of a spray-dried gas is 8,000 [ppm] in an ultraviolet optical device according to a comparative example.
【図１５】比較例による紫外線光学装置の、吹き付け乾
燥気体の水分量（体積分率）を、１０，０００ [ppm]と
したときの、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a temporal change of an ultraviolet light output when the moisture amount (volume fraction) of a spray-dried gas is 10,000 [ppm] in an ultraviolet optical device according to a comparative example.
【図１６】比較例による紫外線光学装置の、吹き付け乾
燥気体の水分量（体積分率）を、１０，０００ [ppm]と
したときの、紫外光出力の経時変化を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a temporal change of an ultraviolet light output when the moisture content (volume fraction) of a spray-dried gas is 10,000 [ppm] in an ultraviolet optical device according to a comparative example.
【図１７】従来の紫外線光学装置の構成図である。FIG. 17 is a configuration diagram of a conventional ultraviolet optical device.
１・・・第１のミラー、２・・・第２のミラー、３・・
・第３のミラー、４・・・第４のミラー、５・・・非線
型光学素子、６・・・入射光（基本波）、７・・・出射
光（紫外線）、８・・・紫外線光学装置本体、９・・・
外囲器、１０・・・気体導入口、１１・・・気体導出
口、１２，１３・・・透明窓、１４・・・乾燥装置、２
１・・・紫外線発生装置、２２・・・紫外線照射装置、
２３・・・レンズ系1 ... first mirror, 2 ... second mirror, 3 ...
· Third mirror, 4 ··· fourth mirror, 5 ··· nonlinear optical element, 6 ··· incident light (fundamental wave), 7 ··· outgoing light (ultraviolet), 8 ··· ultraviolet Optical device body, 9 ...
Enclosure, 10: gas inlet, 11: gas outlet, 12, 13: transparent window, 14: drying device, 2
1 ... ultraviolet ray generator, 22 ... ultraviolet ray irradiation device,
23 ... Lens system
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田附 幸一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 2K002 AA04 AB12 AB40 CA02 GA10 HA20 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koichi Tatsuki 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo F-term in Sony Corporation (reference) 2K002 AA04 AB12 AB40 CA02 GA10 HA20
Claims (24)
紫外線光学装置であって、 その一部もしくは全部の上記光学部品を、気体導入口と
気体導出口とを有する外囲器内に配置し、 上記一部もしくは全部の光学部品に、上記気体導入口か
ら導入した乾燥気体を吹き付ける構成としたことを特徴
とする紫外線光学装置。1. An ultraviolet optical device comprising an optical component irradiated with ultraviolet light, wherein a part or all of the optical component is disposed in an envelope having a gas inlet and a gas outlet. An ultraviolet optical device, characterized in that a dry gas introduced from the gas inlet is blown onto some or all of the optical components.
射される光学部品を有する共振器部を有して成り、 該共振器部が、上記外囲器内に配置されて、上記紫外線
が照射される光学部品の少なくとも一部の光学部品に、
上記乾燥気体を吹き付ける構成としたことを特徴とする
請求項１に記載の紫外線光学装置。2. The ultraviolet optical device according to claim 1, further comprising a resonator section having an optical component to which the ultraviolet ray is irradiated, wherein the resonator section is disposed in the envelope and is irradiated with the ultraviolet ray. At least some of the optical components to be
The ultraviolet optical device according to claim 1, wherein the drying gas is blown.
型光学素子を有する紫外線発生装置であって、 上記非線型光学素子を有する共振器部が、上記外囲器内
に配置され、該共振器部の、紫外線が照射される少なく
とも一部の光学部品に、上記乾燥気体を吹きつけるよう
にして成ることを特徴とする請求項１に記載の紫外線光
学装置。3. The ultraviolet light generating device according to claim 1, wherein the ultraviolet optical device has a non-linear optical element in a resonator, wherein the resonator having the non-linear optical element is disposed in the envelope. 2. The ultraviolet optical device according to claim 1, wherein the dry gas is blown onto at least a part of the optical parts of the resonator unit to which the ultraviolet light is irradiated.
学素子に吹き付けられるようにしたことを特徴とする請
求項３に記載の紫外線光学装置。4. The ultraviolet optical device according to claim 3, wherein the dry gas is mainly blown onto the nonlinear optical element.
型光学素子を有する紫外線発生装置であって、 上記乾燥気体が、上記非線型光学素子を有する共振器部
の、紫外線が照射されるミラーに主として吹き付けられ
るようにしたことを特徴とする請求項３に記載の紫外線
光学装置。5. The ultraviolet light generating device according to claim 1, wherein the ultraviolet optical device is a ultraviolet light generating device having a non-linear optical element in a resonator, wherein the dry gas is irradiated with ultraviolet light from a resonator portion having the non-linear optical element. The ultraviolet optical device according to claim 3, wherein the ultraviolet optical device is mainly sprayed on the mirror.
型光学素子を有する紫外線発生装置であって、 少なくとも上記非線型光学素子が、上記外囲器内に配置
され、該非線型光学素子に上記乾燥気体が吹き付けられ
るようにしたことを特徴とする請求項１に記載の紫外線
光学装置。6. The ultraviolet light generating device according to claim 1, wherein the ultraviolet optical device has a non-linear optical element in a resonator, wherein at least the non-linear optical element is disposed in the envelope. The ultraviolet optical device according to claim 1, wherein the dry gas is blown.
型光学素子を有する紫外線発生装置であって、 上記非線型光学素子を有する共振器部を構成し、少なく
とも上記非線型光学素子からの紫外線を導出するミラー
が、上記外囲器内に配置され、該ミラーに上記乾燥気体
が吹き付けられるようにしたことを特徴とする請求項１
に記載の紫外線光学装置。7. The ultraviolet ray generating device, wherein the ultraviolet ray optical device is a ultraviolet ray generating device having a non-linear optical element in a resonator, and constitutes a resonator section having the non-linear optical element. 2. The mirror according to claim 1, wherein a mirror for extracting ultraviolet rays is arranged in the envelope, and the dry gas is blown onto the mirror.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
ト系非線型光学結晶より成ることを特徴とする請求項３
に記載の紫外線光学装置。8. The non-linear optical element according to claim 3, wherein the non-linear optical element is made of a barium borate-based non-linear optical crystal.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
ト系非線型光学結晶より成ることを特徴とする請求項４
に記載の紫外線光学装置。9. The non-linear optical element according to claim 4, wherein the non-linear optical element is made of a barium borate-based non-linear optical crystal.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
ート系非線型光学結晶より成ることを特徴とする請求項
５に記載の紫外線光学装置。10. The ultraviolet optical device according to claim 5, wherein said nonlinear optical element is made of a barium borate-based nonlinear optical crystal.
ート系非線型光学結晶より成ることを特徴とする請求項
６に記載の紫外線光学装置。11. The ultraviolet optical device according to claim 6, wherein said nonlinear optical element is made of a barium borate-based nonlinear optical crystal.
ート系非線型光学結晶より成ることを特徴とする請求項
７に記載の紫外線光学装置。12. The ultraviolet optical device according to claim 7, wherein said nonlinear optical element is made of a barium borate-based nonlinear optical crystal.
ウムボレート系非線型光学結晶より成ることを特徴とす
る請求項３に記載の紫外線光学装置。13. The ultraviolet optical device according to claim 3, wherein said nonlinear optical element is made of a cesium lithium borate-based nonlinear optical crystal.
ウムボレート系非線型光学結晶より成ることを特徴とす
る請求項４に記載の紫外線光学装置。14. The ultraviolet optical device according to claim 4, wherein said nonlinear optical element is made of a cesium lithium borate-based nonlinear optical crystal.
ウムボレート系非線型光学結晶より成ることを特徴とす
る請求項５に記載の紫外線光学装置。15. The ultraviolet optical device according to claim 5, wherein said nonlinear optical element is made of a cesium lithium borate-based nonlinear optical crystal.
ウムボレート系非線型光学結晶より成ることを特徴とす
る請求項６に記載の紫外線光学装置。16. The ultraviolet optical device according to claim 6, wherein said nonlinear optical element is made of a cesium lithium borate-based nonlinear optical crystal.
ウムボレート系非線型光学結晶より成ることを特徴とす
る請求項７に記載の紫外線光学装置。17. The ultraviolet optical device according to claim 7, wherein said nonlinear optical element is made of a cesium lithium borate-based nonlinear optical crystal.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項１
に記載の紫外線光学装置。18. The dry gas according to claim 1, wherein the water content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項２
に記載の紫外線光学装置。19. The dry gas according to claim 2, wherein the moisture content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項３
に記載の紫外線光学装置。20. The dry gas according to claim 3, wherein the water content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項４
に記載の紫外線光学装置。21. The dry gas according to claim 4, wherein the water content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項５
に記載の紫外線光学装置。22. The dry gas according to claim 5, wherein the water content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項６
に記載の紫外線光学装置。23. The dry gas according to claim 6, wherein the water content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
５，０００ [ppm]以下としたことを特徴とする請求項７
に記載の紫外線光学装置。24. The dry gas according to claim 7, wherein the water content is 5,000 [ppm] or less in volume fraction.
3. The ultraviolet optical device according to claim 1.
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Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007114697A (en) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Sony Corp | Light source device |
| KR20150090160A (en) * | 2012-11-29 | 2015-08-05 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | Resonant cavity conditioning for improved nonlinear crystal performance |
| WO2018008142A1 (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | ギガフォトン株式会社 | Wavelength converting apparatus |
| WO2020054593A1 (en) * | 2018-09-13 | 2020-03-19 | パナソニック株式会社 | Optical device |
| US11271360B2 (en) | 2017-08-22 | 2022-03-08 | Gigaphoton Inc. | Wavelength converter |
| WO2023188534A1 (en) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | パナソニックホールディングス株式会社 | Semiconductor laser device |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP11161253A patent/JP2000347234A/en active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007114697A (en) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Sony Corp | Light source device |
| KR20150090160A (en) * | 2012-11-29 | 2015-08-05 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | Resonant cavity conditioning for improved nonlinear crystal performance |
| JP2015536487A (en) * | 2012-11-29 | 2015-12-21 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | Resonant cavity tuning method for improved nonlinear crystal performance |
| KR102162371B1 (en) * | 2012-11-29 | 2020-10-06 | 케이엘에이 코포레이션 | Resonant cavity conditioning for improved nonlinear crystal performance |
| US10622782B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-14 | Gigaphoton Inc. | Wavelength converting apparatus |
| JPWO2018008142A1 (en) * | 2016-07-08 | 2019-04-18 | ギガフォトン株式会社 | Wavelength converter |
| WO2018008142A1 (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | ギガフォトン株式会社 | Wavelength converting apparatus |
| US11271360B2 (en) | 2017-08-22 | 2022-03-08 | Gigaphoton Inc. | Wavelength converter |
| WO2020054593A1 (en) * | 2018-09-13 | 2020-03-19 | パナソニック株式会社 | Optical device |
| JPWO2020054593A1 (en) * | 2018-09-13 | 2021-08-30 | パナソニック株式会社 | Optical device |
| JP7333330B2 (en) | 2018-09-13 | 2023-08-24 | パナソニックホールディングス株式会社 | optical device |
| JP7494364B2 (en) | 2018-09-13 | 2024-06-03 | パナソニックホールディングス株式会社 | Optical equipment |
| WO2023188534A1 (en) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | パナソニックホールディングス株式会社 | Semiconductor laser device |
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