JP2000341002A - Microwave control circuit - Google Patents

Microwave control circuit

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JP2000341002A
JP2000341002A JP11152322A JP15232299A JP2000341002A JP 2000341002 A JP2000341002 A JP 2000341002A JP 11152322 A JP11152322 A JP 11152322A JP 15232299 A JP15232299 A JP 15232299A JP 2000341002 A JP2000341002 A JP 2000341002A
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semiconductor substrate
control circuit
spdt
semiconductor
microwave control
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JP11152322A
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Japanese (ja)
Inventor
Morishige Hieda
護重 檜枝
Eiji Taniguchi
英司 谷口
Kensuke Nakajima
健介 中島
Kenji Suematsu
憲治 末松
Sunao Takagi
直 高木
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an inexpensive microwave circuit that is easily assembled, whose phase shift and attenuation can be changed and whose manufacturing time can be reduced because reproduction of a semiconductor board taking much manufacturing time is not required in the case of redesign of the circuit. SOLUTION: In this microwave control circuit, semiconductor boards 2a, 2b are provided between dielectric boards 1b and 1d. SPDT switches 3a, 3b are provided on the semiconductor boards 2a, 2b, and the dielectric boards 1b and 1d are switched by the switches and have passing phases different from each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はマイクロ波制御回
路に関し、特に、マイクロ波帯及びミリ波帯等で通過位
相または通過損失を離散的に変化させるマイクロ波制御
回路に関するものである.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microwave control circuit, and more particularly to a microwave control circuit that discretely changes a passing phase or a passing loss in a microwave band, a millimeter wave band, or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図25は、電子情報通信学会1998年
総合大会講演論文集,C−1.電磁界理論,“Ka帯4
ビットモノリシック移相器”,P.80に示された従来
のマイクロ波制御回路を示す回路図である。図におい
て、100は半導体基板、103a,103bはSPD
Tスイッチ、104a,104b,104c,104d
はSPDTスイッチ103a,103b内に設けられた
スイッチング素子、106a,106bはSPDTスイ
ッチ103a,103b間を電気的に接続している線路
である。SPDTスイッチ103a,103b、スイッ
チング素子104a,104b,104c,104d、
線路106a,106bは半導体基板100の上にモノ
リシックに構成されている。
2. Description of the Related Art FIG. 25 is a collection of papers of the 1998 IEICE General Conference, C-1. Electromagnetic field theory, "Ka band 4
80 is a circuit diagram showing a conventional microwave control circuit shown in "Bit Monolithic Phase Shifter", page 80. In the figure, 100 is a semiconductor substrate, and 103a and 103b are SPDs.
T switch, 104a, 104b, 104c, 104d
Is a switching element provided in the SPDT switches 103a and 103b, and 106a and 106b are lines for electrically connecting the SPDT switches 103a and 103b. SPDT switches 103a, 103b, switching elements 104a, 104b, 104c, 104d,
The lines 106a and 106b are monolithically formed on the semiconductor substrate 100.

【0003】つぎに動作を説明する。SPDTスイッチ
103aに入力された高周波信号は、スイッチング素子
104a及びスイッチング素子104cが通過、スイッ
チング素子104b及びスイッチング素子104dが遮
断状態の場合、SPDTスイッチ103aのスイッチン
グ素子104a、線路106a及びSPDTスイッチ1
03bのスイッチング素子104cを介して出力され
る。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input to the SPDT switch 103a passes through the switching element 104a and the switching element 104c, and when the switching element 104b and the switching element 104d are in the cutoff state, the switching element 104a of the SPDT switch 103a, the line 106a, and the SPDT switch 1
The signal is output via the switching element 104c of FIG.

【0004】次に、スイッチング素子104b及びスイ
ッチング素子104dが通過、スイッチング素子104
a及びスイッチング素子104cが遮断状態の場合、S
PDTスイッチ103aのスイッチング素子104b、
線路106b及びSPDTスイッチ103bのスイッチ
ング素子104dを介して出力される。
Next, the switching element 104b and the switching element 104d pass, and the switching element 104
a and the switching element 104c are in the cutoff state,
A switching element 104b of the PDT switch 103a,
The signal is output via the line 106b and the switching element 104d of the SPDT switch 103b.

【0005】ここで、線路106aと線路106bの長
さを変え、通過位相を異なる値に設定することにより、
高周波信号の通過位相を切り替えることが出来る。
Here, by changing the lengths of the line 106a and the line 106b and setting the passing phase to different values,
The passing phase of the high-frequency signal can be switched.

【0006】また、図26は、電子情報通信学会199
8年総合大会講演論文集,C−1.電磁界理論,“フリ
ップチップ実装を用いたK帯電力増幅器の試作”,P.
61に示された他の従来のマイクロ波制御回路を示す断
面図であり、図27はその平面図である。これらの図に
おいて、111は誘電体基板、112は誘電体基板11
1上に設けられた半導体基板、114は半導体基板11
2上に設けられたFET、119a,119bは金属バ
ンプ、110a,110bは誘電体基板111上に形成
された整合回路、121a,121bは同じく誘電体基
板111上に形成されたバイアス回路である。FET1
14は、上述したように、半導体基板112上に構成さ
れ、半導体基板112は、FET114が構成された面
を誘電体基板111に対向するように、誘電体基板11
1上に配置されている。また、FET114の電極と整
合回路110a,110bとは、金属バンプ9a,9b
を介して接続されている。
FIG. 26 is a diagram of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers 199
Proceedings of the 8th General Conference, C-1. Electromagnetic Field Theory, "Prototype K-band Power Amplifier Using Flip-Chip Mounting,"
It is sectional drawing which shows the other conventional microwave control circuit shown by 61, and FIG. 27 is the top view. In these figures, 111 is a dielectric substrate, 112 is a dielectric substrate 11
A semiconductor substrate provided on the semiconductor substrate 11;
2, FETs 119 a and 119 b are metal bumps, 110 a and 110 b are matching circuits formed on the dielectric substrate 111, and 121 a and 121 b are bias circuits formed on the dielectric substrate 111. FET1
14 is formed on the semiconductor substrate 112 as described above, and the semiconductor substrate 112 is placed on the dielectric substrate 11 so that the surface on which the FET 114 is formed faces the dielectric substrate 111.
1. The electrodes of the FET 114 and the matching circuits 110a and 110b are connected to the metal bumps 9a and 9b.
Connected through.

【0007】次に動作を説明する。入力した高周波信号
は、整合回路110a、金属バンプ119aを介してF
ET114に入力される。FET114に入力された高
周波信号は、FET114にて増幅され、金属バンプ1
19b、整合回路110bを介して出力される。ここ
で、FET114へのバイアスは、バイアス回路121
a,121bを介して入力されている。
Next, the operation will be described. The input high-frequency signal is supplied to F through a matching circuit 110a and a metal bump 119a.
Input to the ET114. The high-frequency signal input to the FET 114 is amplified by the FET 114 and
19b, output via the matching circuit 110b. Here, the bias to the FET 114 is applied to the bias circuit 121.
a and 121b.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来のマイクロ波制御
回路は以上のように構成されており、図25に示した従
来例においては、回路が半導体基板100の上にモノリ
シックに構成されているために、高価な半導体基板10
0のサイズが大きくなってしまい、コストが高くなって
しまうという問題点があった。
The conventional microwave control circuit is configured as described above. In the conventional example shown in FIG. 25, the circuit is monolithically formed on the semiconductor substrate 100. Expensive semiconductor substrate 10
However, there is a problem that the size of “0” becomes large and the cost becomes high.

【0009】また、半導体素子と回路とが一体化されて
構成されているために、回路の再設計を行うとすべてを
作り直す必要があった。
In addition, since the semiconductor element and the circuit are integrated, the circuit must be redesigned when the circuit is redesigned.

【0010】また、図26及び図27に示した従来例の
ように、回路のパッシブ部とFET等の半導体素子を別
の基板に構成した場合に、半導体素子をひとつひとつ接
続する必要があり、半導体素子数が増えた場合に、組み
立てが非常に困難になるという問題点があった。
When the passive portion of the circuit and the semiconductor elements such as FETs are formed on different substrates as in the conventional example shown in FIGS. 26 and 27, it is necessary to connect the semiconductor elements one by one. When the number of elements is increased, there is a problem that assembly becomes very difficult.

【0011】この発明は、かかる問題点を解決するため
になされたものであり、半導体素子数が増えた場合にも
組立が容易で、移相量及び減衰量の変更が可能で、回路
の再設計の際にも、作成時間のかかる半導体基板を作り
直す必要がなく、作成時間を短縮することが可能で、か
つ、低価格なマイクロ波制御回路を得ることを目的とし
ている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. The present invention is easy to assemble even when the number of semiconductor elements is increased, the amount of phase shift and the amount of attenuation can be changed, and the circuit can be reconfigured. It is also an object of the present invention to obtain a low-cost microwave control circuit that can reduce the time required for the design without having to recreate a semiconductor substrate that requires a long time for the design.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明は、誘電体基板
と、半導体基板と、誘電体基板に設けられた少なくとも
2つの複数のパッシブ回路であって、移相量及び減衰量
のいずれか一方が異なるパッシブ回路と、半導体基板に
設けられ、パッシブ回路を切り替えるためのSPDTス
イッチと、を備えたマイクロ波制御回路である。
According to the present invention, there is provided a dielectric substrate, a semiconductor substrate, and at least two passive circuits provided on the dielectric substrate, wherein at least one of a phase shift amount and an attenuation amount is provided. Is a microwave control circuit provided with a different passive circuit and an SPDT switch provided on the semiconductor substrate for switching the passive circuit.

【0013】また、誘電体基板と半導体基板とが同一平
面上に構成されている。
Further, the dielectric substrate and the semiconductor substrate are formed on the same plane.

【0014】また、半導体基板が誘電体基板上に搭載さ
れている。
Further, a semiconductor substrate is mounted on a dielectric substrate.

【0015】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
長さの異なる少なくとも2つの線路から構成されてい
る。
[0015] Further, at least two passive circuits include:
It is composed of at least two lines having different lengths.

【0016】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
移相量の異なる少なくとも2つのフィルタから構成され
ている。
Further, at least two passive circuits include:
It is composed of at least two filters having different phase shift amounts.

【0017】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
減衰量の異なる線路及び減衰回路から構成されている。
Further, at least two passive circuits include:
It is composed of lines with different amounts of attenuation and attenuation circuits.

【0018】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
線路、フィルタおよび減衰回路のうちの少なくとも2つ
のいずれかから構成されている。
Further, at least two passive circuits are provided.
It is composed of at least one of a line, a filter, and an attenuation circuit.

【0019】また、SPDTスイッチ及び半導体基板が
複数個ずつあって、SPDTスイッチが別々の半導体基
板上に設けられている。
There are a plurality of SPDT switches and a plurality of semiconductor substrates, and the SPDT switches are provided on separate semiconductor substrates.

【0020】また、SPDTスイッチが複数個あって、
複数個のSPDTスイッチがすべて同一の半導体基板上
に設けられている。
There are a plurality of SPDT switches,
The plurality of SPDT switches are all provided on the same semiconductor substrate.

【0021】また、半導体基板のSPDTスイッチが構
成された面が誘電体基板のパッシブ回路が構成されてい
る面に対向するようにフィリップチップ実装されてい
る。
Also, the semiconductor chip is mounted on a flip chip so that the surface on which the SPDT switch is formed faces the surface of the dielectric substrate on which the passive circuit is formed.

【0022】また、半導体基板の中心を中心とする円周
上に放射状に配置された接続端子をさらに備えている。
Further, the semiconductor device further comprises connection terminals radially arranged on a circumference centered on the center of the semiconductor substrate.

【0023】また、半導体基板上に設けられた少なくと
も1ビットの移相器及び減衰器のいずれか一方をさらに
備えている。
Further, the semiconductor device further includes at least one of a phase shifter and an attenuator of at least one bit provided on the semiconductor substrate.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】実施の形態1.図1は、この発明
の実施の形態1に係るマイクロ波制御回路を示した回路
図である。図において、1a,1b,1c,1dは略々
矩形の誘電体基板、2a,2bは略々矩形の半導体基
板、3a,3bは半導体基板2a,2b上に設けられた
SPDTスイッチ、4a,4b,4c,4dはSPDT
スイッチ3a,3b内に設けられたスイッチング素子、
17a,17b,17c,17dは、SPDTスイッチ
3a,3b内に設けられたスイッチング素子4a〜4d
と並列に設けられたインダクタ、5a,5b,5c,5
d,5e,5fは金属ワイア、6a,6bは誘電体基板
1b,1d上に設けられた線路であり、線路6aと線路
6bは長さを変え、通過位相を異なる値に設定してあ
る。また、16a,16bは誘電体基板1a,1c上に
設けられた線路である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 FIG. 1 is a circuit diagram showing a microwave control circuit according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, 1a, 1b, 1c, 1d are substantially rectangular dielectric substrates, 2a, 2b are substantially rectangular semiconductor substrates, 3a, 3b are SPDT switches provided on the semiconductor substrates 2a, 2b, 4a, 4b , 4c, 4d are SPDT
A switching element provided in the switches 3a and 3b,
17a, 17b, 17c and 17d are switching elements 4a to 4d provided in the SPDT switches 3a and 3b.
Inductors 5a, 5b, 5c, 5 provided in parallel with
Reference numerals d, 5e, and 5f denote metal wires, and reference numerals 6a and 6b denote lines provided on the dielectric substrates 1b and 1d. The lines 6a and 6b have different lengths and different passing phases. Lines 16a and 16b are provided on the dielectric substrates 1a and 1c.

【0025】誘電体基板1aと1cとは互いに対向して
平行に設けられており、その間の距離は誘電体基板1b
の長辺の長さと一致している。また、誘電体基板1bと
1dも互いに対向して平行に設けられており、その間の
距離は誘電体基板1aの長辺の長さと一致している。誘
電体基板1a及び1cは、誘電体基板1b及び1dに隣
接して設置され、これらの基板は矩形の角と角とが突き
当たるように90゜の配置で置かれている。また、これ
らの4つの誘電体基板により構成される真ん中の矩形の
部分の空間に、半導体基板2a及び2bが置かれてい
る。半導体基板2a及び2bの長辺の長さは、誘電体基
板1a及び1cの長辺の長さと一致しており、誘電体基
板1aと半導体基板2aとが平行に並べて置かれてお
り、誘電体基板1cと半導体基板2bとが平行に並べて
置かれている。
The dielectric substrates 1a and 1c are provided so as to face each other and are parallel to each other.
Is the same as the length of the long side. Further, the dielectric substrates 1b and 1d are also provided in parallel to face each other, and the distance between them is equal to the length of the long side of the dielectric substrate 1a. The dielectric substrates 1a and 1c are installed adjacent to the dielectric substrates 1b and 1d, and these substrates are placed in a 90 ° arrangement so that the corners of the rectangle abut. Further, the semiconductor substrates 2a and 2b are placed in the space of the middle rectangular portion formed by these four dielectric substrates. The length of the long sides of the semiconductor substrates 2a and 2b matches the length of the long sides of the dielectric substrates 1a and 1c, and the dielectric substrate 1a and the semiconductor substrate 2a are arranged side by side in parallel. The substrate 1c and the semiconductor substrate 2b are placed side by side in parallel.

【0026】誘電体基板1a上の線路16aと半導体基
板2a上のSPDTスイッチ3aとは金属ワイア5eに
より接続され、同様に、誘電体基板1c上の線路16c
と半導体基板2b上のSPDTスイッチ3bとは金属ワ
イア5fにより接続されている。また、誘電体基板1b
上の線路6aと半導体基板2a及び2b上のSPDTス
イッチ3a及び3bとは金属ワイア5a及び5bにより
接続され、同様に、誘電体基板1d上の線路6bと半導
体基板2a及び2b上のSPDTスイッチ3a及び3b
とは金属ワイア5c及び5dにより接続されている。
The line 16a on the dielectric substrate 1a and the SPDT switch 3a on the semiconductor substrate 2a are connected by a metal wire 5e.
And the SPDT switch 3b on the semiconductor substrate 2b are connected by a metal wire 5f. Also, the dielectric substrate 1b
The upper line 6a and the SPDT switches 3a and 3b on the semiconductor substrates 2a and 2b are connected by metal wires 5a and 5b, and similarly, the line 6b on the dielectric substrate 1d and the SPDT switches 3a on the semiconductor substrates 2a and 2b. And 3b
Are connected by metal wires 5c and 5d.

【0027】次に動作を説明する。誘電体基板1aから
入力した高周波信号は、半導体基板2a上に構成された
SPDTスイッチ3aに入力される。SPDTスイッチ
3a内のスイッチング素子4aが通過状態、SPDTス
イッチ3a内のスイッチング素子4bが遮断状態、半導
体基板2b上に構成されたSPDTスイッチ3b内のス
イッチング素子4cが通過状態、SPDTスイッチ3b
内のスイッチング素子4dが遮断状態の場合、SPDT
スイッチ3aに入力した高周波信号は、スイッチング素
子4a、金属ワイア5a、線路6a、金属ワイア5b、
SPDTスイッチ3bのスイッチング素子4c、及び、
誘電体基板1cを介して出力される。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the dielectric substrate 1a is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2a. The switching element 4a in the SPDT switch 3a is in a passing state, the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in a blocking state, the switching element 4c in the SPDT switch 3b formed on the semiconductor substrate 2b is in a passing state, and the SPDT switch 3b.
SPDT when the switching element 4d in the
The high-frequency signal input to the switch 3a includes a switching element 4a, a metal wire 5a, a line 6a, a metal wire 5b,
A switching element 4c of the SPDT switch 3b, and
It is output via the dielectric substrate 1c.

【0028】また、逆に、SPDTスイッチ3a内のス
イッチング素子4bが通過状態、SPDTスイッチ3a
内のスイッチング素子4aが遮断状態、SPDTスイッ
チ3b内のスイッチング素子4dが通過状態、SPDT
スイッチ3b内のスイッチング素子4cが遮断状態の場
合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、ス
イッチング素子4b、金属ワイア5c、線路6b、金属
ワイア5d、SPDTスイッチ3bのスイッチング素子
4d、及び、誘電体基板1cを介して出力される。
Conversely, when the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the passing state, the SPDT switch 3a
The switching element 4a in the SPDT switch 3b is in the cut-off state, the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the passing state,
When the switching element 4c in the switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a includes the switching element 4b, the metal wire 5c, the line 6b, the metal wire 5d, the switching element 4d of the SPDT switch 3b, and the dielectric. It is output via the substrate 1c.

【0029】ここで、線路6aと線路6bの長さの差を
変えることにより、その電気長の差だけ、通過位相を切
り替えることが可能になる。この切り替えについては、
上述したように、SPDTスイッチ3a及び3bにより
行う。なお、図1においては、線路6aの方が線路6b
より長さが長くなっている。
Here, by changing the difference in length between the line 6a and the line 6b, it becomes possible to switch the passing phase by the difference in electrical length. For this switch,
As described above, this is performed by the SPDT switches 3a and 3b. In FIG. 1, the line 6a is replaced by the line 6b.
The length is longer.

【0030】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a及び
3bを半導体基板2a及び2b上に構成し、パッシブ回
路である線路6a及び6bについては誘電体基板1b及
び1d上に構成することにより、半導体基板のサイズが
小さくなり、低価格にすることが出来る。
As described above, in this embodiment, the SPDT switches 3a and 3b including a plurality of semiconductor elements are formed on the semiconductor substrates 2a and 2b, and the lines 6a and 6b which are passive circuits are formed on the dielectric substrate. By configuring on the 1b and 1d, the size of the semiconductor substrate can be reduced and the cost can be reduced.

【0031】また、ここで、線路6aが構成された誘電
体基板1bと、線路6bが構成された誘電体基板1dを
異なる大きさにし、線路6aと線路6bの長さの差を変
えて、それらを切り替えることにより、移相量の変更が
可能になるため、作成時間のかかる半導体基板を作り直
す必要が無く、作成時間を短縮することができるととも
に、異なる移相量にすることが可能になる。
Here, the dielectric substrate 1b on which the line 6a is formed and the dielectric substrate 1d on which the line 6b is formed have different sizes, and the difference between the lengths of the lines 6a and 6b is changed. By switching between them, the amount of phase shift can be changed, so that it is not necessary to recreate a semiconductor substrate that takes a long time to create, and it is possible to shorten the time required to make the semiconductor substrate and to use a different amount of phase shift. .

【0032】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチを半導体基板上に構成し、パッシブ回路で
ある線路6a及び6bを誘電体基板上に構成することに
より、半導体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、
個々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べ
て組み立て工数を減らし、組み立てコストの低減、組み
立て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on a semiconductor substrate and configuring the lines 6a and 6b, which are passive circuits, on a dielectric substrate, there is no need to connect semiconductor elements one by one.
Compared with the case where each semiconductor element is formed on a dielectric substrate, the number of assembling steps can be reduced, the assembling cost can be reduced, and the assembling time can be shortened.

【0033】さらに、この実施の形態においては、誘電
体基板および半導体基板を複数個ずつから構成するよう
にしたので、それらの組み合わせの位置構成の自由度を
増すことができる。また、半導体基板の大きさも無駄な
く小さくすることができる。
Further, in this embodiment, since the dielectric substrate and the semiconductor substrate are composed of a plurality of each, the degree of freedom of the positional configuration of the combination thereof can be increased. Further, the size of the semiconductor substrate can be reduced without waste.

【0034】実施の形態2.図2は、この発明の実施の
形態2に係るマイクロ波制御回路の構成を示した回路図
である。図において、7a,7bは誘電体基板1b及び
1d上に形成されたフィルタであり、フィルタ7aとフ
ィルタ7bとで通過位相が異なる。フィルタ7a及び7
bは、例えば、一方をハイパスフィルタから構成し、他
方をローパスフィルタから構成するようにすればよい。
また、フィルタ7a及びフィルタ7bは、金属ワイア5
a,5b,5c,5dを介して、半導体基板2a及び2
b上に構成されたSPDTスイッチ3a及び3bに接続
されている。他の構成については、上述の実施の形態1
と同様であるため、同一符号を付して示し、ここでは説
明を省略する。
Embodiment 2 FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, reference numerals 7a and 7b denote filters formed on dielectric substrates 1b and 1d, and the filters 7a and 7b have different passing phases. Filters 7a and 7
For b, for example, one may be constituted by a high-pass filter and the other may be constituted by a low-pass filter.
Further, the filter 7a and the filter 7b are
a, 5b, 5c, and 5d through the semiconductor substrates 2a and 2d.
b connected to SPDT switches 3a and 3b. For other configurations, see the first embodiment.
Therefore, the same reference numerals are given and the description is omitted here.

【0035】次に動作を説明する。誘電体基板1aから
入力した高周波信号は、半導体基板2a上に構成された
SPDTスイッチ3aに入力される。SPDTスイッチ
3a内のスイッチング素子4aが通過状態、SPDTス
イッチ3a内のスイッチング素子4bが遮断状態、SP
DTスイッチ3b内のスイッチング素子4cが通過状
態、SPDTスイッチ3b内のスイッチング素子4dが
遮断状態の場合、SPDTスイッチ3aに入力した高周
波信号は、金属ワイア5a、フィルタ7a、金属ワイア
5b、SPDTスイッチ3b、誘電体基板1cを介して
出力される。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the dielectric substrate 1a is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2a. The switching element 4a in the SPDT switch 3a is in the passing state, the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the cut-off state,
When the switching element 4c in the DT switch 3b is in the pass state and the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a includes the metal wire 5a, the filter 7a, the metal wire 5b, and the SPDT switch 3b. Are output through the dielectric substrate 1c.

【0036】また、逆に、SPDTスイッチ3a内のス
イッチング素子4bが通過状態、SPDTスイッチ3a
内のスイッチング素子4aが遮断状態、SPDTスイッ
チ3b内のスイッチング素子4dが通過状態、SPDT
スイッチ3b内のスイッチング素子4cが遮断状態の場
合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、S
PDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、金属ワイ
ア5c、フィルタ7b、金属ワイア5d、SPDTスイ
ッチ3b、誘電体基板1cを介して出力される。
On the contrary, when the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the passing state, the SPDT switch 3a
The switching element 4a in the SPDT switch 3b is in the cut-off state, the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the passing state,
When the switching element 4c in the switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a is S
The high-frequency signal input to the PDT switch 3a is output via the metal wire 5c, the filter 7b, the metal wire 5d, the SPDT switch 3b, and the dielectric substrate 1c.

【0037】上述したように、フィルタ7aとフィルタ
7bとで通過位相が異なるため、SPDTスイッチ3a
及び3bによりこれらのフィルタを切り替えることによ
り、通過位相を容易に切り替えることが可能になる。
As described above, since the passing phases are different between the filter 7a and the filter 7b, the SPDT switch 3a
By switching these filters according to (a) and (b), it is possible to easily switch the passing phase.

【0038】以上のように、この実施の形態において
も、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a及び
3bを半導体基板2a及び2b上に構成し、パッシブ回
路であるフィルタ7a及び7bを誘電体基板1b及び1
dに構成することにより、半導体基板のサイズが小さく
なり、低価格にすることが出来る。
As described above, also in this embodiment, the SPDT switches 3a and 3b including a plurality of semiconductor elements are formed on the semiconductor substrates 2a and 2b, and the filters 7a and 7b, which are passive circuits, are mounted on the dielectric substrate 1b. And 1
With the configuration of d, the size of the semiconductor substrate can be reduced and the price can be reduced.

【0039】また、フィルタ7aが構成された誘電体基
板1bと、フィルタ7bが構成された誘電体基板1dを
変え、フィルタ7aとフィルタ7bとの通過位相差を変
えることにより、半導体基板2a、2bを作り直すこと
なく、移相量を変えることが出来るため、作成時間のか
かる半導体基板を作り直す必要が無く、異なる移相量に
することが可能になる。
The semiconductor substrate 2a, 2b is changed by changing the dielectric substrate 1b on which the filter 7a is formed and the dielectric substrate 1d on which the filter 7b is formed, and by changing the passing phase difference between the filter 7a and the filter 7b. Since the amount of phase shift can be changed without recreating the semiconductor substrate, it is not necessary to recreate the semiconductor substrate that requires a long time for the production, and it is possible to use a different amount of phase shift.

【0040】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチをひとつの半導体基板上に構成し、パッシ
ブ回路であるフィルタを誘電体基板上に構成することに
より、個々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合
に比べて組み立て工数を減らし、組み立てコストの低
減、組み立て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
The DT switch is configured on a single semiconductor substrate, and the passive circuit filter is configured on a dielectric substrate. This reduces the number of assembling steps compared to the case where individual semiconductor elements are configured on a dielectric substrate. Cost and assembly time can be reduced.

【0041】実施の形態3.図3は、この発明の実施の
形態3に係るマイクロ波制御回路の構成を示した回路図
である。図において、8は誘電体基板1b上に構成され
た減衰回路である。また、6は誘電体基板1d上に構成
された線路であり、上述の実施の形態1及び2における
線路6bに相当するものである。減衰回路8は、半導体
基板2a,2b上に構成されたSPDTスイッチ3a及
び3bと、金属ワイア5a〜5dを介して接続されてい
る。他の構成については、上述の実施の形態1及び2と
同様であるため、ここでは説明を省略する。
Embodiment 3 FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 3 of the present invention. In the figure, reference numeral 8 denotes an attenuation circuit formed on a dielectric substrate 1b. Reference numeral 6 denotes a line formed on the dielectric substrate 1d, which corresponds to the line 6b in the first and second embodiments. The attenuation circuit 8 is connected to the SPDT switches 3a and 3b formed on the semiconductor substrates 2a and 2b via metal wires 5a to 5d. Other configurations are the same as those in the above-described first and second embodiments, and thus description thereof is omitted here.

【0042】次に動作を説明する。誘電体基板1aから
入力した高周波信号は、半導体基板2a上に構成された
SPDTスイッチ3aに入力される。SPDTスイッチ
3a内のスイッチング素子4aが通過状態、SPDTス
イッチ3a内のスイッチング素子4bが遮断状態、SP
DTスイッチ3b内のスイッチング素子4cが通過状
態、SPDTスイッチ3b内のスイッチング素子4dが
遮断状態の場合、SPDTスイッチ3aに入力した高周
波信号は、金属ワイア5a、減衰回路8、金属ワイア5
b、SPDTスイッチ3b、誘電体基板1cを介して出
力される。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the dielectric substrate 1a is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2a. The switching element 4a in the SPDT switch 3a is in the passing state, the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the cut-off state,
When the switching element 4c in the DT switch 3b is in the pass state and the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a receives the metal wire 5a, the attenuation circuit 8, the metal wire 5
b, output via the SPDT switch 3b and the dielectric substrate 1c.

【0043】また、逆に、SPDTスイッチ3a内のス
イッチング素子4bが通過状態、SPDTスイッチ3a
内のスイッチング素子4aが遮断状態、SPDTスイッ
チ3b内のスイッチング素子4dが通過状態、SPDT
スイッチ3b内のスイッチング素子4cが遮断状態の場
合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、S
PDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、金属ワイ
ア5c、線路6、金属ワイア5d、SPDTスイッチ3
b、誘電体基板1cを介して出力される。
On the contrary, when the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the passing state, the SPDT switch 3a
The switching element 4a in the SPDT switch 3b is in the cut-off state, the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the passing state,
When the switching element 4c in the switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a is S
The high-frequency signal input to the PDT switch 3a includes the metal wire 5c, the line 6, the metal wire 5d, and the SPDT switch 3.
b, output via the dielectric substrate 1c.

【0044】ここで、減衰回路8と線路6とで通過損失
が異なるため、通過損失(減衰量)を切り替えることが
可能になる。
Here, since the transmission loss differs between the attenuation circuit 8 and the line 6, the transmission loss (amount of attenuation) can be switched.

【0045】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチを半導体
基板上に構成し、パッシブ回路である減衰回路を誘電体
基板に構成することにより、半導体基板のサイズが小さ
くなり、低価格にすることが出来る。
As described above, in this embodiment, an SPDT switch including a plurality of semiconductor elements is formed on a semiconductor substrate, and an attenuating circuit, which is a passive circuit, is formed on a dielectric substrate. The size can be reduced and the price can be reduced.

【0046】また、ここで、減衰回路8が構成された誘
電体基板1bと、線路6が構成された誘電体基板1dを
変え、減衰回路8と線路6の通過振幅差を変えることに
より、半導体基板2a、2bを作り直すことなく、減衰
量を変えることが出来るため、作成時間のかかる半導体
基板を作り直す必要が無く、異なる減衰量にすることが
可能になる。
Here, the dielectric substrate 1b on which the attenuation circuit 8 is formed and the dielectric substrate 1d on which the line 6 is formed are changed, and the difference in the passing amplitude between the attenuation circuit 8 and the line 6 is changed. Since the amount of attenuation can be changed without re-creating the substrates 2a and 2b, it is not necessary to re-create a semiconductor substrate that requires a long time to produce, and a different amount of attenuation can be obtained.

【0047】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチをひとつの半導体基板上に構成し、パッシ
ブ回路である減衰回路8を誘電体基板上に構成すること
により、個々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場
合に比べて組み立て工数を減らし、組み立てコストの低
減、組み立て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on a single semiconductor substrate and configuring the attenuating circuit 8 as a passive circuit on a dielectric substrate, the number of assembly steps can be reduced as compared with a case where individual semiconductor elements are configured on a dielectric substrate. Thus, it is possible to reduce the assembly cost and the assembly time.

【0048】また、この実施の形態においては、1枚の
半導体素子の上に2つのSPDTスイッチを設けるよう
にしたので、組立工数を減らすことができるとともに、
部品点数を減少させることができ、組立時間の短縮を図
ることができる。
In this embodiment, since two SPDT switches are provided on one semiconductor element, the number of assembly steps can be reduced, and
The number of parts can be reduced, and the assembling time can be reduced.

【0049】なお、この実施の形態では、減衰回路8と
線路6をSPDTスイッチにて切り替える例について示
したが、減衰量の異なる2つの減衰回路を設けて、それ
らを切り替えるようにしても良い。
In this embodiment, an example has been described in which the attenuation circuit 8 and the line 6 are switched by the SPDT switch. However, two attenuation circuits having different attenuation amounts may be provided and switched.

【0050】実施の形態4.上述した実施の形態1、実
施の形態2及び実施の形態3では、半導体基板上に1つ
のSPDTスイッチが構成された半導体基板を2つ用い
る例について示したが、ひとつの半導体基板に2つのS
PDTスイッチを構成しても同等の効果が得られる。図
4は、この発明の実施の形態4に係るマイクロ波制御回
路の構成を示した回路図である。図において、SPDT
スイッチ3aとSPDTスイッチ3bは同一の半導体基
板2の上に構成されている。他の構成及び動作について
は、上述の実施の形態1と同様であるため、ここでは説
明を省略する。
Embodiment 4 In the above-described first, second, and third embodiments, an example has been described in which two semiconductor substrates each including one SPDT switch are formed on a semiconductor substrate.
Even if a PDT switch is configured, the same effect can be obtained. FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 4 of the present invention. In the figure, SPDT
The switch 3a and the SPDT switch 3b are formed on the same semiconductor substrate 2. Other configurations and operations are the same as those in the above-described first embodiment, and thus description thereof is omitted here.

【0051】この実施の形態においても、複数の半導体
素子を含むSPDTスイッチ3a及び3bを半導体基板
2上に構成し、パッシブ回路である線路6a及び6bに
ついては誘電体基板1b及び1d上に構成することによ
り、半導体基板のサイズが小さくなり、低価格にするこ
とが出来る。
Also in this embodiment, the SPDT switches 3a and 3b including a plurality of semiconductor elements are formed on the semiconductor substrate 2, and the lines 6a and 6b, which are passive circuits, are formed on the dielectric substrates 1b and 1d. Thus, the size of the semiconductor substrate can be reduced, and the cost can be reduced.

【0052】また、ここで、線路6aが構成された誘電
体基板1bと、線路6bが構成された誘電体基板1dを
異なる大きさにし、線路6aと線路6bの長さの差を変
えて、それらを切り替えることにより、移相量の変更が
可能になるため、作成時間のかかる半導体基板を作り直
す必要が無く、作成時間を短縮することができるととも
に、異なる移相量にすることが可能になる。
Here, the dielectric substrate 1b on which the line 6a is formed and the dielectric substrate 1d on which the line 6b is formed have different sizes, and the difference in length between the line 6a and the line 6b is changed. By switching between them, the amount of phase shift can be changed, so that it is not necessary to recreate a semiconductor substrate that takes a long time to create, and it is possible to shorten the time required to make the semiconductor substrate and to use a different amount of phase shift. .

【0053】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチ(この実施の形態においては2つ)をひと
つの半導体基板上に構成し、パッシブ回路である線路6
a及び6bを誘電体基板上に構成することにより、半導
体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、個々の半導
体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べて組み立て
工数を減らし、組み立てコストの低減、組み立て時間の
短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
The DT switches (two in this embodiment) are formed on one semiconductor substrate, and the line 6 is a passive circuit.
By configuring a and 6b on the dielectric substrate, it is not necessary to connect the semiconductor elements one by one, so that the number of assembling steps can be reduced as compared with the case where individual semiconductor elements are configured on the dielectric substrate, and the assembly cost can be reduced. The assembly time can be reduced.

【0054】実施の形態5.上述の実施の形態4では、
半導体基板2Aの上に2つのSPDTスイッチを線対称
に配置したが、点対称に配置しても同等の効果が得られ
る。図5は、この発明の実施の形態5に係るマイクロ波
制御回路の構成を示した回路図である。図において、S
PDTスイッチ3aとSPDTスイッチ3bは同一の半
導体基板2の上に点対称になるように配置されている。
SPDTスイッチ3aは、上述の実施の形態と同様に、
スイッチング素子4a及び4bを有しており、全体の形
状は、図5の破線で示すように、略々コの字型になって
いる。SPDTスイッチ3bも同様に、スイッチング素
子4c及び4dを有しており、全体の形状は、図5の破
線で示すように、略々コの字型になっている。
Embodiment 5 FIG. In Embodiment 4 described above,
Although the two SPDT switches are arranged line-symmetrically on the semiconductor substrate 2A, the same effect can be obtained even if they are arranged point-symmetrically. FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 5 of the present invention. In the figure, S
The PDT switch 3a and the SPDT switch 3b are arranged on the same semiconductor substrate 2 so as to be point-symmetric.
The SPDT switch 3a is, as in the above-described embodiment,
It has switching elements 4a and 4b, and its overall shape is substantially U-shaped as shown by the broken line in FIG. Similarly, the SPDT switch 3b has switching elements 4c and 4d, and the overall shape is substantially U-shaped as shown by the broken line in FIG.

【0055】次に動作を説明する。誘電体基板1aから
入力した高周波信号は、半導体基板2A上に構成された
SPDTスイッチ3aに入力される。SPDTスイッチ
3a内のスイッチング素子4aが通過状態、SPDTス
イッチ3a内のスイッチング素子4bが遮断状態、半導
体基板2b上に構成されたSPDTスイッチ3b内のス
イッチング素子4cが通過状態、SPDTスイッチ3b
内のスイッチング素子4dが遮断状態の場合、SPDT
スイッチ3aに入力した高周波信号は、スイッチング素
子4a、金属ワイア5a、線路6a、金属ワイア5b、
SPDTスイッチ3bのスイッチング素子4c、及び、
誘電体基板1cを介して出力される。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the dielectric substrate 1a is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2A. The switching element 4a in the SPDT switch 3a is in a passing state, the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in a blocking state, the switching element 4c in the SPDT switch 3b formed on the semiconductor substrate 2b is in a passing state, and the SPDT switch 3b.
SPDT when the switching element 4d in the
The high-frequency signal input to the switch 3a includes a switching element 4a, a metal wire 5a, a line 6a, a metal wire 5b,
A switching element 4c of the SPDT switch 3b, and
It is output via the dielectric substrate 1c.

【0056】また、逆に、SPDTスイッチ3a内のス
イッチング素子4bが通過状態、SPDTスイッチ3a
内のスイッチング素子4aが遮断状態、SPDTスイッ
チ3b内のスイッチング素子4dが通過状態、SPDT
スイッチ3b内のスイッチング素子4cが遮断状態の場
合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、ス
イッチング素子4b、金属ワイア5c、線路6b、金属
ワイア5d、SPDTスイッチ3bのスイッチング素子
4d、及び、誘電体基板1cを介して出力される。
On the contrary, when the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the passing state, the SPDT switch 3a
, The switching element 4a in the SPDT switch 3b is in the passing state,
When the switching element 4c in the switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a includes the switching element 4b, the metal wire 5c, the line 6b, the metal wire 5d, the switching element 4d of the SPDT switch 3b, and the dielectric. It is output via the substrate 1c.

【0057】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a及び
3bを半導体基板2A上に構成し、パッシブ回路である
線路6a及び6bについては誘電体基板1b及び1d上
に構成することにより、半導体基板のサイズが小さくな
り、低価格にすることが出来る。
As described above, in this embodiment, the SPDT switches 3a and 3b including a plurality of semiconductor elements are formed on the semiconductor substrate 2A, and the lines 6a and 6b which are passive circuits are formed on the dielectric substrate 1b. By configuring on the 1d, the size of the semiconductor substrate can be reduced and the price can be reduced.

【0058】また、ここで、線路6aが構成された誘電
体基板1bと、線路6bが構成された誘電体基板1dを
異なる大きさにし、線路6aと線路6bの長さの差を変
えて、それらを切り替えることにより、移相量の変更が
可能になるため、作成時間のかかる半導体基板を作り直
す必要が無く、作成時間を短縮することができるととも
に、異なる移相量にすることが可能になる。
Here, the dielectric substrate 1b on which the line 6a is formed and the dielectric substrate 1d on which the line 6b is formed have different sizes, and the difference in length between the line 6a and the line 6b is changed. By switching between them, the amount of phase shift can be changed, so that it is not necessary to recreate a semiconductor substrate that takes a long time to create, and it is possible to shorten the time required to make the semiconductor substrate and to use a different amount of phase shift. .

【0059】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチを半導体基板上に構成し、パッシブ回路で
ある線路6a及び6bを誘電体基板上に構成することに
より、半導体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、
個々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べ
て組み立て工数を減らし、組み立てコストの低減、組み
立て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on a semiconductor substrate and configuring the lines 6a and 6b, which are passive circuits, on a dielectric substrate, there is no need to connect semiconductor elements one by one.
Compared with the case where each semiconductor element is formed on a dielectric substrate, the number of assembling steps can be reduced, the assembling cost can be reduced, and the assembling time can be shortened.

【0060】実施の形態6.上記、実施の形態1、実施
の形態2、実施の形態3、実施の形態4、実施の形態5
では、2つのSPDTスイッチ3a及び3bにより切り
替えられる回路を各々別の誘電体基板上に構成する例に
ついて示したが、ひとつの誘電体基板上に構成しても同
等の効果が得られる。図6は、実施の形態6に係るマイ
クロ波制御回路の構成を示した回路図である。図におい
て、線路6aと線路6bは同一の誘電体基板1bBの上
に構成されている。
Embodiment 6 FIG. The first, second, third, fourth, and fifth embodiments described above.
Although the example in which the circuits switched by the two SPDT switches 3a and 3b are respectively formed on different dielectric substrates has been described, the same effect can be obtained by configuring them on one dielectric substrate. FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of the microwave control circuit according to the sixth embodiment. In the figure, the line 6a and the line 6b are formed on the same dielectric substrate 1bB.

【0061】この実施の形態においては、図6に示すよ
うに、2つの誘電体基板1aB及び1bBの間に半導体
基板2Bが設けられている。これらの3つの基板の長辺
の長さは同じであり、短辺はそれぞれ別の長さになって
いる。長辺どうしを合わせるように3つの基板は平行に
隣接して設けられており、3つ全体で1つの矩形形状を
なしている。半導体基板2B上には、図のように、2つ
のスイッチング素子を有するSPDTスイッチ3a及び
3bが設けられている。SPDTスイッチ3a及び3b
は、誘電体基板1bB上の線路6a及び6bと、金属ワ
イア5a〜5dを介して、接続されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 6, a semiconductor substrate 2B is provided between two dielectric substrates 1aB and 1bB. The long sides of these three substrates have the same length, and the short sides have different lengths. The three substrates are provided adjacent to each other in parallel so that the long sides are aligned with each other, and all three have a rectangular shape. As shown, SPDT switches 3a and 3b having two switching elements are provided on the semiconductor substrate 2B. SPDT switches 3a and 3b
Are connected to the lines 6a and 6b on the dielectric substrate 1bB via the metal wires 5a to 5d.

【0062】次に動作を説明する。誘電体基板1aBの
図6上側から入力した高周波信号は、半導体基板2B上
に構成されたSPDTスイッチ3aに入力される。SP
DTスイッチ3a内のスイッチング素子4aが通過状
態、SPDTスイッチ3a内のスイッチング素子4bが
遮断状態、半導体基板2b上に構成されたSPDTスイ
ッチ3b内のスイッチング素子4cが通過状態、SPD
Tスイッチ3b内のスイッチング素子4dが遮断状態の
場合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、
スイッチング素子4a、金属ワイア5a、線路6a、金
属ワイア5b、SPDTスイッチ3bのスイッチング素
子4c、及び、誘電体基板1aBを介して出力される。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the upper side of FIG. 6 of the dielectric substrate 1aB is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2B. SP
Switching element 4a in DT switch 3a is in a passing state, switching element 4b in SPDT switch 3a is in a blocking state, switching element 4c in SPDT switch 3b formed on semiconductor substrate 2b is in a passing state, SPD
When the switching element 4d in the T switch 3b is in the cutoff state, the high frequency signal input to the SPDT switch 3a is
The signal is output via the switching element 4a, the metal wire 5a, the line 6a, the metal wire 5b, the switching element 4c of the SPDT switch 3b, and the dielectric substrate 1aB.

【0063】また、逆に、SPDTスイッチ3a内のス
イッチング素子4bが通過状態、SPDTスイッチ3a
内のスイッチング素子4aが遮断状態、SPDTスイッ
チ3b内のスイッチング素子4dが通過状態、SPDT
スイッチ3b内のスイッチング素子4cが遮断状態の場
合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、ス
イッチング素子4b、金属ワイア5c、線路6b、金属
ワイア5d、SPDTスイッチ3bのスイッチング素子
4d、及び、誘電体基板1aBを介して出力される。
On the contrary, when the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the passing state, the SPDT switch 3a
The switching element 4a in the SPDT switch 3b is in the cut-off state, the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the passing state,
When the switching element 4c in the switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a includes the switching element 4b, the metal wire 5c, the line 6b, the metal wire 5d, the switching element 4d of the SPDT switch 3b, and the dielectric. It is output via the substrate 1aB.

【0064】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a及び
3bを半導体基板2B上に構成し、パッシブ回路である
線路6a及び6bについては誘電体基板1bB上に構成
することにより、半導体基板のサイズが小さくなり、低
価格にすることが出来る。
As described above, in this embodiment, the SPDT switches 3a and 3b including a plurality of semiconductor elements are formed on the semiconductor substrate 2B, and the lines 6a and 6b, which are passive circuits, are formed on the dielectric substrate 1bB. With this configuration, the size of the semiconductor substrate can be reduced, and the cost can be reduced.

【0065】また、ここで、線路6aと線路6bの長さ
の差を変えて、それらを切り替えることにより、移相量
の変更が可能になるため、作成時間のかかる半導体基板
を作り直す必要が無く、作成時間を短縮することができ
るとともに、異なる移相量にすることが可能になる。
In this case, by changing the length difference between the line 6a and the line 6b and switching between them, the amount of phase shift can be changed. In addition, the production time can be shortened, and different phase shift amounts can be obtained.

【0066】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチを半導体基板上に構成し、パッシブ回路で
ある線路6a及び6bを誘電体基板上に構成することに
より、半導体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、
個々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べ
て組み立て工数を減らし、組み立てコストの低減、組み
立て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on a semiconductor substrate and configuring the lines 6a and 6b, which are passive circuits, on a dielectric substrate, there is no need to connect semiconductor elements one by one.
Compared with the case where each semiconductor element is formed on a dielectric substrate, the number of assembling steps can be reduced, the assembling cost can be reduced, and the assembling time can be shortened.

【0067】実施の形態7.上記の実施の形態6では、
ひとつの半導体基板上に2つのSPDTスイッチを構成
する例について示したが、SPDTスイッチを3個以上
構成しても同等の効果が得られる。図7は、この発明の
実施の形態7に係るマイクロ波制御回路の構成を示した
回路図である。SPDTスイッチ3a、3b、3c、3
dは、半導体基板2Cの上に構成されている。
Embodiment 7 In the sixth embodiment,
Although the example in which two SPDT switches are formed on one semiconductor substrate has been described, the same effect can be obtained by configuring three or more SPDT switches. FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 7 of the present invention. SPDT switches 3a, 3b, 3c, 3
d is formed on the semiconductor substrate 2C.

【0068】この実施の形態においては、図7に示すよ
うに、2つの誘電体基板1aC及び1bCの間に半導体
基板2Cが設けられている。これらの3つの基板の長辺
の長さは同じであり、短辺はそれぞれ別の長さになって
いる。長辺どうしを合わせるように3つの基板は平行に
隣接して設けられており、3つ全体で1つの矩形形状を
なしている。半導体基板2B上のSPDTスイッチ3a
〜3dは、誘電体基板1aC及び1bC上の線路6a,
6b,6c,6dと、金属ワイアを介して接続されてい
る。なお、線路6aと線路6cの長さは長く、線路6b
と6dの長さは短く構成されているが、それぞれすべて
長さが異なっている。
In this embodiment, as shown in FIG. 7, a semiconductor substrate 2C is provided between two dielectric substrates 1aC and 1bC. The long sides of these three substrates have the same length, and the short sides have different lengths. The three substrates are provided adjacent to each other in parallel so that the long sides are aligned with each other, and all three have a rectangular shape. SPDT switch 3a on semiconductor substrate 2B
To 3d are lines 6a on the dielectric substrates 1aC and 1bC,
6b, 6c and 6d are connected via metal wires. In addition, the length of the line 6a and the line 6c is long, and the line 6b
And 6d have a shorter length, but all have different lengths.

【0069】次に動作を説明する。半導体基板2Cの図
7下側から入力した高周波信号は、半導体基板2B上に
構成されたSPDTスイッチ3aに入力される。SPD
Tスイッチ3a内のスイッチング素子4aが通過状態、
SPDTスイッチ3a内のスイッチング素子4bが遮断
状態、SPDTスイッチ3b内のスイッチング素子4c
が通過状態、SPDTスイッチ3b内のスイッチング素
子4dが遮断状態、SPDTスイッチ3c内のスイッチ
ング素子4eが通過状態、SPDTスイッチ3c内のス
イッチング素子4fが遮断状態、SPDTスイッチ3d
内のスイッチング素子4gが通過状態、SPDTスイッ
チ3d内のスイッチング素子4hが遮断状態、の場合、
SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、スイッ
チング素子4a、金属ワイア、線路6a、金属ワイア、
スイッチング素子4c、スイッチング素子4e、金属ワ
イア、線路6c、スイッチング素子4gを介して出力さ
れる。なお、これらのスイッチング素子4a〜4gの通
過/遮断状態がいま説明したものと異なる場合について
の動作説明は省略する。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the lower side of FIG. 7 of the semiconductor substrate 2C is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2B. SPD
The switching element 4a in the T switch 3a is in a passing state,
The switching element 4b in the SPDT switch 3a is turned off, and the switching element 4c in the SPDT switch 3b
Is in the passing state, the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the cut-off state, the switching element 4e in the SPDT switch 3c is in the passing state, the switching element 4f in the SPDT switch 3c is in the cut-off state, and the SPDT switch 3d.
, The switching element 4g in the SPDT switch 3d is in the passing state and the switching element 4h in the SPDT switch 3d is in the blocking state.
The high-frequency signal input to the SPDT switch 3a includes a switching element 4a, a metal wire, a line 6a, a metal wire,
The signal is output via the switching element 4c, the switching element 4e, the metal wire, the line 6c, and the switching element 4g. The description of the operation in the case where the passing / blocking states of these switching elements 4a to 4g are different from those just described will be omitted.

【0070】このように、この実施の形態においては、
高周波信号が、線路6aと6cを通るか、線路6bと6
dを通るか、線路6aと6dを通るか、線路6bと6c
を通るかを、SPDTスイッチ3a〜3dによって切り
替えることにより、線路6a〜6dの長さがそれぞれ異
なっていることから、その電気長の差だけ、通過位相を
4通りに切り替えることが可能になる。
As described above, in this embodiment,
The high frequency signal passes through the lines 6a and 6c or the lines 6b and 6c
d, or lines 6a and 6d, or lines 6b and 6c
By switching the pass through the SPDT switches 3a to 3d, since the lengths of the lines 6a to 6d are different from each other, it is possible to switch the pass phase into four types by the difference in the electrical length.

【0071】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a〜3
dを半導体基板2C上に構成し、パッシブ回路である線
路6a〜6dについては誘電体基板1aC及び1bC上
に構成することにより、半導体基板のサイズが小さくな
り、低価格にすることが出来る。
As described above, in the present embodiment, the SPDT switches 3a to 3
By forming d on the semiconductor substrate 2C and forming the lines 6a to 6d, which are passive circuits, on the dielectric substrates 1aC and 1bC, the size of the semiconductor substrate can be reduced and the cost can be reduced.

【0072】また、ここで、線路6a〜線路6dの長さ
の差を変えて、それらを切り替えることにより、移相量
の変更が可能になるため、作成時間のかかる半導体基板
を作り直す必要が無く、作成時間を短縮することができ
るとともに、異なる移相量にすることが可能になる。
In this case, by changing the length difference between the lines 6a to 6d and switching between them, the amount of phase shift can be changed. In addition, the production time can be shortened, and different phase shift amounts can be obtained.

【0073】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチを半導体基板上に構成し、パッシブ回路で
ある線路6a〜6dを誘電体基板上に構成することによ
り、半導体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、個
々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べて
組み立て工数を減らし、組み立てコストの低減、組み立
て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on a semiconductor substrate and configuring the lines 6a to 6d, which are passive circuits, on a dielectric substrate, it is not necessary to connect each semiconductor element, and each individual semiconductor element is configured on the dielectric substrate. As a result, the number of assembly steps can be reduced, the assembly cost can be reduced, and the assembly time can be reduced.

【0074】実施の形態8.上記の実施の形態6および
実施の形態7では、ひとつの半導体基板上に設けられた
同一のSPDTスイッチにより切り替えられる線路を同
一誘電体基板上に構成する例について示したが、異なる
SPDTスイッチにより切り替えられる線路を同一誘電
体基板に構成しても同等の効果が得られる。図8は、こ
の発明の実施の形態に係るマイクロ波制御回路の一実施
例を示した回路図である。
Embodiment 8 FIG. In the above-described sixth and seventh embodiments, the example has been described in which the lines switched by the same SPDT switch provided on one semiconductor substrate are formed on the same dielectric substrate. However, the lines are switched by different SPDT switches. The same effect can be obtained even if the lines are formed on the same dielectric substrate. FIG. 8 is a circuit diagram showing one example of the microwave control circuit according to the embodiment of the present invention.

【0075】この実施の形態においては、図8に示すよ
うに、2つの誘電体基板1aD及び1bDの間に半導体
基板2Dが設けられている。これらの3つの基板の長辺
の長さは同じであり、短辺はそれぞれ別の長さになって
いる。長辺どうしを合わせるように3つの基板は平行に
隣接して設けられており、3つ全体で1つの矩形形状を
なしている。半導体基板2D上には、各々2つのスイッ
チング素子を有する6個のSPDTスイッチ3a〜3f
が半導体基板2Dの長手方向に1列に配列されて設けら
れている。誘電体基板1aD上には、SPDTスイッチ
2つに対して1つの割合で、3つの線路6a,6c,6
eが設けられている。誘電体基板1bD上にも同様に3
つの線路6b,6d,6fが設けられている。SPDT
スイッチ3a及び3bと線路6a及び6bとは金属ワイ
アを介して接続されている。同様に、SPDTスイッチ
3c及び3dと線路6c及び6dとは金属ワイアを介し
て接続されており、SPDTスイッチ3e及び3fと線
路6e及び6fとは金属ワイアを介して接続されてい
る。なお、線路6a,6b,6d,6fの長さは短く、
線路6eの長さは長く、線路6cの長さはその中間の長
さに構成されているが、それぞれすべて長さが異なって
いる。入力された高周波信号が、これらのいずれの線路
を通るかを、SPDTスイッチ3a〜3fにより切り替
えることによって、8通りに通過位相を切り替えること
ができる。
In this embodiment, as shown in FIG. 8, a semiconductor substrate 2D is provided between two dielectric substrates 1aD and 1bD. The long sides of these three substrates have the same length, and the short sides have different lengths. The three substrates are provided adjacent to each other in parallel so that the long sides are aligned with each other, and all three have a rectangular shape. On the semiconductor substrate 2D, six SPDT switches 3a to 3f each having two switching elements
Are arranged in a row in the longitudinal direction of the semiconductor substrate 2D. On the dielectric substrate 1aD, three lines 6a, 6c, 6 are provided at a ratio of one for two SPDT switches.
e is provided. Similarly, 3 on the dielectric substrate 1bD.
Two lines 6b, 6d, 6f are provided. SPDT
The switches 3a and 3b are connected to the lines 6a and 6b via metal wires. Similarly, the SPDT switches 3c and 3d are connected to the lines 6c and 6d via metal wires, and the SPDT switches 3e and 3f are connected to the lines 6e and 6f via metal wires. The lengths of the lines 6a, 6b, 6d, 6f are short,
The length of the line 6e is long, and the length of the line 6c is configured to be an intermediate length, but all have different lengths. By switching the input high-frequency signal through any of these lines by using the SPDT switches 3a to 3f, the passing phase can be switched in eight ways.

【0076】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a〜3
fを半導体基板2D上に構成し、パッシブ回路である線
路6a〜6fについては誘電体基板1aD及び1bD上
に構成することにより、半導体基板のサイズが小さくな
り、低価格にすることが出来る。
As described above, in this embodiment, the SPDT switches 3a to 3
By configuring f on the semiconductor substrate 2D and configuring the lines 6a to 6f, which are passive circuits, on the dielectric substrates 1aD and 1bD, the size of the semiconductor substrate can be reduced and the cost can be reduced.

【0077】また、ここで、線路6a〜線路6fの長さ
の差を変えて、それらを切り替えることにより、移相量
の変更が可能になるため、作成時間のかかる半導体基板
を作り直す必要が無く、作成時間を短縮することができ
るとともに、異なる移相量にすることが可能になる。
Further, since the phase difference can be changed by changing the length difference between the lines 6a to 6f and switching between them, there is no need to recreate a semiconductor substrate which takes a long time to make. In addition, the production time can be shortened, and different phase shift amounts can be obtained.

【0078】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチを半導体基板上に構成し、パッシブ回路で
ある線路6a〜6fを誘電体基板上に構成することによ
り、半導体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、個
々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べて
組み立て工数を減らし、組み立てコストの低減、組み立
て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on the semiconductor substrate and configuring the passive circuits, that is, the lines 6a to 6f, on the dielectric substrate, it is not necessary to connect the semiconductor elements one by one, and the individual semiconductor elements are configured on the dielectric substrate. As a result, the number of assembly steps can be reduced, the assembly cost can be reduced, and the assembly time can be reduced.

【0079】実施の形態9.上記の実施の形態1、実施
の形態2、実施の形態3、実施の形態4、実施の形態
5、実施の形態6、及び、実施の形態7では、誘電体基
板と半導体基板を同一平面状に構成したが、半導体基板
を誘電体基板上に構成しても同等の効果が得られる。
図9はこの発明の実施の形態9に係るマイクロ波制御回
路の構成を示した斜視図、 図10は誘電体基板と半導
体基板を組み合わせた側面図、図11は誘電体基板の平
面図、図12は半導体基板の平面図である。図におい
て、半導体基板2Eは誘電体基板1E上に構成されてお
り、半導体基板2Eの線路と誘電体基板1Eの線路は金
属ワイア5a,5b,5c,5d,5e,5fにて接続
されている。
Embodiment 9 In the first, second, third, fourth, fifth, sixth, and seventh embodiments, the dielectric substrate and the semiconductor substrate are coplanar. However, the same effect can be obtained even if the semiconductor substrate is formed on a dielectric substrate.
9 is a perspective view showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 9 of the present invention. FIG. 10 is a side view showing a combination of a dielectric substrate and a semiconductor substrate. FIG. 11 is a plan view of the dielectric substrate. 12 is a plan view of the semiconductor substrate. In the figure, a semiconductor substrate 2E is formed on a dielectric substrate 1E, and the lines of the semiconductor substrate 2E and the lines of the dielectric substrate 1E are connected by metal wires 5a, 5b, 5c, 5d, 5e, and 5f. .

【0080】次に動作を説明する。誘電体基板1Eの線
路16aから入力した高周波信号は、半導体基板2E上
に構成されたSPDTスイッチ3aに入力される。SP
DTスイッチ3a内のスイッチング素子4aが通過状
態、SPDTスイッチ3a内のスイッチング素子4bが
遮断状態、半導体基板2b上に構成されたSPDTスイ
ッチ3b内のスイッチング素子4cが通過状態、SPD
Tスイッチ3b内のスイッチング素子4dが遮断状態の
場合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、
スイッチング素子4a、金属ワイア5b、線路6a、金
属ワイア5c、SPDTスイッチ3bのスイッチング素
子4c、及び、誘電体基板1Eを介して出力される。
Next, the operation will be described. The high-frequency signal input from the line 16a of the dielectric substrate 1E is input to the SPDT switch 3a formed on the semiconductor substrate 2E. SP
Switching element 4a in DT switch 3a is in a passing state, switching element 4b in SPDT switch 3a is in a blocking state, switching element 4c in SPDT switch 3b formed on semiconductor substrate 2b is in a passing state, SPD
When the switching element 4d in the T switch 3b is in the cutoff state, the high frequency signal input to the SPDT switch 3a is
The signal is output via the switching element 4a, the metal wire 5b, the line 6a, the metal wire 5c, the switching element 4c of the SPDT switch 3b, and the dielectric substrate 1E.

【0081】また、逆に、SPDTスイッチ3a内のス
イッチング素子4bが通過状態、SPDTスイッチ3a
内のスイッチング素子4aが遮断状態、SPDTスイッ
チ3b内のスイッチング素子4dが通過状態、SPDT
スイッチ3b内のスイッチング素子4cが遮断状態の場
合、SPDTスイッチ3aに入力した高周波信号は、ス
イッチング素子4b、金属ワイア5e、線路6b、金属
ワイア5f、SPDTスイッチ3bのスイッチング素子
4d、及び、誘電体基板1Eを介して出力される。
On the contrary, when the switching element 4b in the SPDT switch 3a is in the passing state, the SPDT switch 3a
The switching element 4a in the SPDT switch 3b is in the cut-off state, the switching element 4d in the SPDT switch 3b is in the passing state,
When the switching element 4c in the switch 3b is in the cutoff state, the high-frequency signal input to the SPDT switch 3a includes the switching element 4b, the metal wire 5e, the line 6b, the metal wire 5f, the switching element 4d of the SPDT switch 3b, and the dielectric. Output via the substrate 1E.

【0082】ここで、線路6aと線路6bの長さの差を
変えることにより、その電気長の差だけ、通過位相を切
り替えることが可能になる。この切り替えについては、
上述したように、SPDTスイッチ3a及び3bにより
行う。なお、図9〜図12においては、線路6aの方が
線路6bより長さが長くなっている。
Here, by changing the difference in length between the line 6a and the line 6b, it becomes possible to switch the passing phase by the difference in electrical length. For this switch,
As described above, this is performed by the SPDT switches 3a and 3b. 9 to 12, the line 6a is longer than the line 6b.

【0083】以上のように、この実施の形態において
は、複数の半導体素子を含むSPDTスイッチ3a及び
3bを半導体基板2E上に構成し、パッシブ回路である
線路6a及び6bについては誘電体基板1E上に構成す
ることにより、半導体基板のサイズが小さくなり、低価
格にすることが出来る。
As described above, in this embodiment, the SPDT switches 3a and 3b including a plurality of semiconductor elements are formed on the semiconductor substrate 2E, and the lines 6a and 6b which are passive circuits are formed on the dielectric substrate 1E. With this configuration, the size of the semiconductor substrate can be reduced, and the cost can be reduced.

【0084】また、ここで、線路6aと線路6bの長さ
の差を変えて、それらを切り替えることにより、移相量
の変更が可能になるため、作成時間のかかる半導体基板
を作り直す必要が無く、作成時間を短縮することができ
るとともに、異なる移相量にすることが可能になる。
Further, here, by changing the length difference between the line 6a and the line 6b and switching between them, the amount of phase shift can be changed. In addition, the production time can be shortened, and different phase shift amounts can be obtained.

【0085】また、複数の半導体素子を含む複数のSP
DTスイッチを半導体基板上に構成し、パッシブ回路で
ある線路6a及び6bを誘電体基板上に構成することに
より、半導体素子をひとつひとつ接続する必要もなく、
個々の半導体素子を誘電体基板上に構成する場合に比べ
て組み立て工数を減らし、組み立てコストの低減、組み
立て時間の短縮を図ることができる。
A plurality of SPs including a plurality of semiconductor elements
By configuring the DT switch on a semiconductor substrate and configuring the lines 6a and 6b, which are passive circuits, on a dielectric substrate, there is no need to connect semiconductor elements one by one.
Compared with the case where each semiconductor element is formed on a dielectric substrate, the number of assembling steps can be reduced, the assembling cost can be reduced, and the assembling time can be shortened.

【0086】また、半導体基板を誘電体基板上に搭載
し、3次元的に構成するようにしたので、底面積を小さ
くすることができ、小型化を図ることができる。
Further, since the semiconductor substrate is mounted on the dielectric substrate and configured in a three-dimensional manner, the bottom area can be reduced and the size can be reduced.

【0087】実施の形態10.上記の実施の形態9で
は、半導体基板を誘電体基板上に構成してその間を金属
ワイアにて接続したが、金属バンプにて接続しても同等
の効果が得られる。 図13はこの発明の実施の形態1
0に係るマイクロ波制御回路の構成を示した斜視図、図
14は誘電体基板と半導体基板を組み合わせた側面図、
図15は誘電体基板の平面図、図16は半導体基板の平
面図である。図において、9a,9bは金属バンプであ
る。半導体基板2Eはスイッチング素子4a、4b、4
c、4dが構成された面を誘電体基板1Eに対向するよ
うにフィリップチップ実装されており、半導体基板2E
の線路と誘電体基板1Eの線路は金属バンプ9a,9b
にて接続されている。他の構成及び動作については、上
述の実施の形態9と同様であるので、ここでは説明を省
略する。なお、この実施の形態においても、上述したよ
うな構成にすることにより、上述の実施の形態9と同様
の効果が得られる。
Embodiment 10 In the ninth embodiment, the semiconductor substrate is formed on the dielectric substrate and connected therebetween by the metal wire. However, the same effect can be obtained by connecting with the metal bump. FIG. 13 shows Embodiment 1 of the present invention.
0 is a perspective view showing the configuration of the microwave control circuit according to FIG. 14, FIG. 14 is a side view showing a combination of a dielectric substrate and a semiconductor substrate,
FIG. 15 is a plan view of a dielectric substrate, and FIG. 16 is a plan view of a semiconductor substrate. In the figure, 9a and 9b are metal bumps. The semiconductor substrate 2E includes switching elements 4a, 4b, 4
The semiconductor chip 2E is mounted on the semiconductor substrate 2E so that the surface on which the semiconductor layers 2c and 4d are formed faces the dielectric substrate 1E.
And the line of the dielectric substrate 1E are formed of metal bumps 9a and 9b.
Connected at Other configurations and operations are the same as those in the above-described ninth embodiment, and a description thereof will not be repeated. In this embodiment, the same effects as those of the ninth embodiment can be obtained by adopting the above-described configuration.

【0088】また、半導体基板を誘電体基板上に搭載
し、3次元的に構成するようにしたので、底面積を小さ
くすることができ、小型化を図ることができるととも
に、さらに、この実施の形態においては、回路が構成さ
れている面をいずれも内側になるようにしたので、外的
な物理的ストレスを受けにくく、信頼性の向上を図るこ
とができる。
Further, since the semiconductor substrate is mounted on the dielectric substrate and configured in a three-dimensional manner, the bottom area can be reduced, the size can be reduced, and furthermore, this embodiment can be implemented. In the embodiment, since all the surfaces on which the circuits are formed are located inside, it is difficult to receive external physical stress, and the reliability can be improved.

【0089】実施の形態11.上記の実施の形態10で
は、2つのSPDTスイッチを同一の半導体基板上に構
成する例について示したが、3つ以上のSPDTスイッ
チを構成しても同等の効果が得られる。図17は、この
発明の実施の形態11に係るマイクロ波制御回路の構成
を示した平面図、図18は半導体基板2Fの平面図、図
19は誘電体基板1Fの平面図である。半導体基板2F
の構造については、図8に示した半導体基板2Dと同様
であるため、ここでは説明を省略する。また、誘電体基
板1Fの構造については、図8に示した誘電体基板1a
D及び1bD上に設けた線路6a〜6fのすべてを、図
19に示すように、1つの誘電体基板1F上に設けたも
のに相当する。また、半導体基板2Fの線路と誘電体基
板1Fの線路とは、実施の形態9で示したように金属ワ
イアで接続してもよく、実施の形態10で示したように
金属バンプで接続するようにしてもよい。他の構成及び
動作については、上述の実施の形態8〜10と同様であ
るので、ここでは説明を省略する。なお、この実施の形
態においても、上述したような構成にすることにより、
上述の実施の形態8と同様の効果が得られる。
Embodiment 11 FIG. In the above-described tenth embodiment, an example in which two SPDT switches are formed on the same semiconductor substrate has been described. However, the same effect can be obtained by configuring three or more SPDT switches. FIG. 17 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 11 of the present invention, FIG. 18 is a plan view of a semiconductor substrate 2F, and FIG. 19 is a plan view of a dielectric substrate 1F. Semiconductor substrate 2F
Is similar to that of the semiconductor substrate 2D shown in FIG. 8, and the description is omitted here. Further, the structure of the dielectric substrate 1F shown in FIG.
All of the lines 6a to 6f provided on D and 1bD correspond to those provided on one dielectric substrate 1F as shown in FIG. Further, the line of the semiconductor substrate 2F and the line of the dielectric substrate 1F may be connected by a metal wire as shown in the ninth embodiment, or may be connected by a metal bump as shown in the tenth embodiment. It may be. Other configurations and operations are the same as those in the above-described eighth to tenth embodiments, and thus description thereof is omitted here. In addition, also in this embodiment, by adopting the configuration described above,
The same effects as in the eighth embodiment can be obtained.

【0090】実施の形態12.図20は、この発明の実
施の形態12に係るマイクロ波制御回路の構成を示した
半導体基板の平面図である。図において、10は電極
(接続端子)である。電極10は金属バンプを介して誘
電体基板(図示せず)上の線路と接続されるが、その中
心位置を半導体基板2Gの中心から描かれる円周上に点
対称になるように配置されている。これにより、半導体
基板及び誘電体基板間の金属バンプに掛かる力が均一に
分散され、各金属バンプによる接続部の特性を一定に保
つことが出来る。他の構成については、上述の実施の形
態10と同様であるため、ここでは説明を省略する。
Embodiment 12 FIG. FIG. 20 is a plan view of a semiconductor substrate showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 12 of the present invention. In the figure, reference numeral 10 denotes an electrode (connection terminal). The electrode 10 is connected to a line on a dielectric substrate (not shown) via a metal bump. The electrode 10 is arranged so that its center position is point-symmetrical on a circle drawn from the center of the semiconductor substrate 2G. I have. As a result, the force applied to the metal bumps between the semiconductor substrate and the dielectric substrate is evenly dispersed, and the characteristics of the connection part by each metal bump can be kept constant. The other configuration is the same as that of the above-described tenth embodiment, and the description is omitted here.

【0091】以上のように、この実施の形態において
は、図20に示すように電極10を円周上に均等に配置
するように設けたので、半導体基板及び誘電体基板間の
金属バンプに掛かる力が均一に分散され、各金属バンプ
による接続部の特性を一定に保つことが出来るととも
に、上記実施の形態10と同様の効果が得られる。
As described above, in this embodiment, since the electrodes 10 are provided so as to be evenly arranged on the circumference as shown in FIG. 20, the electrodes 10 are placed on the metal bumps between the semiconductor substrate and the dielectric substrate. The force is evenly distributed, the characteristics of the connection part by each metal bump can be kept constant, and the same effects as in the tenth embodiment can be obtained.

【0092】実施の形態13.図21は、この発明の実
施の形態13に係るマイクロ波制御回路の構成を示した
平面図である。図において、1b,1dは誘電体基板、
2,2Hは半導体基板である。半導体基板2及び誘電体
基板1b及び1dの構成については、図4のそれと同様
であるため、ここでは説明を省略する。また、半導体基
板2Hには、4つのSPDTスイッチ3c、3d、3
e、3fが基板の長手方向に1列に配列されて設けられ
ている。また、4つのフィルタ7a、7b、7c、7d
が設けられている。フィルタ7a及び7bは、図のよう
に、SPDTスイッチ3c及び3dに接続されており、
同様に、フィルタ7d及び7cは、図のように、SPD
Tスイッチ3e及び3fに接続されている。なお、これ
らの半導体基板2H上に設けられているSPDTスイッ
チ3e〜3fとフィルタ7a〜7dとは、2ビットのM
MIC移相器12を構成している。
Embodiment 13 FIG. FIG. 21 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 13 of the present invention. In the figure, 1b and 1d are dielectric substrates,
2, 2H is a semiconductor substrate. The configurations of the semiconductor substrate 2 and the dielectric substrates 1b and 1d are the same as those of FIG. 4, and thus the description is omitted here. The semiconductor substrate 2H has four SPDT switches 3c, 3d, 3
e and 3f are arranged in a line in the longitudinal direction of the substrate. Also, four filters 7a, 7b, 7c, 7d
Is provided. The filters 7a and 7b are connected to the SPDT switches 3c and 3d as shown in FIG.
Similarly, the filters 7d and 7c are, as shown in FIG.
They are connected to T switches 3e and 3f. Note that the SPDT switches 3e to 3f and the filters 7a to 7d provided on the semiconductor substrate 2H correspond to a 2-bit M
The MIC phase shifter 12 is configured.

【0093】以上のように、この実施の形態において
は、1つの半導体基板2上に2つのSPDTスイッチを
設け、他のもう1つの半導体基板2Hの方にMMIC移
相器12を設けて、また、パッシブ回路である線路を誘
電体基板1b上に設けるようにしたので、上記実施の形
態1〜10と同様の効果が得られる。
As described above, in this embodiment, two SPDT switches are provided on one semiconductor substrate 2 and the MMIC phase shifter 12 is provided on another semiconductor substrate 2H. Since the line which is a passive circuit is provided on the dielectric substrate 1b, the same effects as those of the first to tenth embodiments can be obtained.

【0094】なお、この実施の形態では、MMIC移相
器と、SPDTスイッチと線路を組み合わせた移相器と
を組み合わせた例について記したが、移相器と可変減衰
器、可変減衰器と可変減衰器を組み合わせても同等の効
果が得られる。
In this embodiment, an example in which the MMIC phase shifter is combined with a phase shifter combining an SPDT switch and a line has been described. However, the phase shifter and the variable attenuator, and the variable attenuator and the variable attenuator are combined. The same effect can be obtained by combining an attenuator.

【0095】実施の形態14.上記実施の形態13で
は、MMIC移相器12を設けた半導体基板2HとSP
DTスイッチ3a,3bを設けた半導体基板2とが分離
しているが、MMIC移相器とSPDTスイッチを同一
の半導体基板上に構成したMMICにしても同等の効果
が得られる。図22は、この発明の実施の形態14に係
るマイクロ波制御回路の構成を示した平面図である。
Embodiment 14 FIG. In the thirteenth embodiment, the semiconductor substrate 2H provided with the MMIC phase shifter 12 and the SP
Although the semiconductor substrate 2 provided with the DT switches 3a and 3b is separated, the same effect can be obtained by using an MMIC in which the MMIC phase shifter and the SPDT switch are formed on the same semiconductor substrate. FIG. 22 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 14 of the present invention.

【0096】この実施の形態においては、図22に示す
ように、1つの半導体基板2I上に、上記の実施の形態
13で示した半導体基板2及び2H上に設けられている
SPDTスイッチ3a,3bとMMIC移相器12に相
当するものが搭載されている。他の構成、動作について
は、上記実施の形態13と同様であるため、ここでは説
明を省略する。なお、この実施の形態においても、上述
の実施の形態1〜13と同様の効果が得られる。
In this embodiment, as shown in FIG. 22, the SPDT switches 3a, 3b provided on the semiconductor substrate 2I and the semiconductor substrate 2H shown in the above-described embodiment 13 on one semiconductor substrate 2I. And a device equivalent to the MMIC phase shifter 12. Other configurations and operations are the same as those of the above-described thirteenth embodiment, and a description thereof will not be repeated. In this embodiment, the same effects as those in the first to thirteenth embodiments can be obtained.

【0097】実施の形態15.上記実施の形態1〜14
では、SPDTスイッチとして半導体素子と並列にイン
ダクタを装荷した場合について示しているが、他の形式
のSPDTスイッチでも同等の効果が得られる。図23
は、SPDTスイッチとして直並列型スイッチを用いた
場合の半導体基板の平面図である。
Embodiment 15 FIG. Embodiments 1 to 14 above
In the above, the case where an inductor is loaded in parallel with the semiconductor element as the SPDT switch is shown, but the same effect can be obtained with another type of SPDT switch. FIG.
FIG. 3 is a plan view of a semiconductor substrate when a series-parallel switch is used as an SPDT switch.

【0098】この実施の形態においては、図23に示す
ように、半導体基板2J上に、直並列に接続されている
スイッチング素子4a〜4gを有する2つのSPDTス
イッチ3aA及び3bAが設けられている。各SPDT
スイッチ3aA及び3bAにはそれぞれスイッチング素
子が4つずつ設けられている。また、電極10が放射状
に基板2Jの辺に沿って均等に配置されて設けられてい
る。電極10は金属バンプを介して誘電体基板上の線路
と接続されるが、電極10を均等に放射状に配置したこ
とにより、半導体基板と誘電体基板との間の金属バンプ
に掛かる力が均一に分散され、各金属バンプによる接続
部の特性を一定に保つことができる。
In this embodiment, as shown in FIG. 23, two SPDT switches 3aA and 3bA having switching elements 4a to 4g connected in series and parallel are provided on a semiconductor substrate 2J. Each SPDT
Each of the switches 3aA and 3bA is provided with four switching elements. Further, the electrodes 10 are provided radially evenly along the sides of the substrate 2J. The electrode 10 is connected to the line on the dielectric substrate via the metal bump, but by uniformly arranging the electrode 10 radially, the force applied to the metal bump between the semiconductor substrate and the dielectric substrate becomes uniform. It is dispersed, and the characteristics of the connection part by each metal bump can be kept constant.

【0099】この実施の形態においては、上記の実施の
形態と同様に、誘電体基板上に長さを変えた2つの線路
を設けており、それらを半導体基板2J上のSPDTス
イッチ3aA及び3bAにより切り替えるようにしたの
で、上記の実施の形態1〜14と同様の効果が得られ
る。
In this embodiment, two lines having different lengths are provided on a dielectric substrate, as in the above-described embodiment, and these lines are provided by SPDT switches 3aA and 3bA on a semiconductor substrate 2J. Since the switching is performed, the same effects as those in the first to fourteenth embodiments can be obtained.

【0100】実施の形態16.上記の実施の形態1〜1
5では、半導体基板上にSPDTスイッチを構成してい
たが、SPDTスイッチに用いる複数のスイッチング素
子(半導体素子)のみを同一の半導体基板に構成しても
同一の効果が得られる。図24は、2つのSPDTスイ
ッチに用いる4つのスイッチング素子4a〜4dをひと
つの半導体基板に構成した場合の半導体基板の平面図で
ある。SPDTスイッチを構成している他の構成要素及
びパッシブ回路を構成する線路、フィルタ、減衰回路等
を誘電体基板(図示せず)上に設けるようにすればよ
い。
Embodiment 16 FIG. Embodiments 1 to 1 above
5, the SPDT switch is formed on the semiconductor substrate. However, the same effect can be obtained even if only a plurality of switching elements (semiconductor elements) used for the SPDT switch are formed on the same semiconductor substrate. FIG. 24 is a plan view of a semiconductor substrate in a case where four switching elements 4a to 4d used for two SPDT switches are formed on one semiconductor substrate. The other components constituting the SPDT switch, the lines constituting the passive circuit, the filter, the attenuation circuit, and the like may be provided on a dielectric substrate (not shown).

【0101】この実施の形態においては、スイッチング
素子のみを半導体基板上に設けるようにしたので、さら
に半導体基板のサイズを小さくすることができ、低価格
にすることができる。また、線路等のパッシブ回路を誘
電体基板上に設けて、それらをSPDTスイッチによ
り、切り替えるようにしたので、上記の実施の形態1〜
15と同様の効果が得られる。
In this embodiment, since only the switching element is provided on the semiconductor substrate, the size of the semiconductor substrate can be further reduced, and the cost can be reduced. Also, passive circuits such as lines are provided on a dielectric substrate and are switched by the SPDT switch.
The same effect as that of No. 15 can be obtained.

【0102】[0102]

【発明の効果】この発明によれば、誘電体基板と、半導
体基板と、誘電体基板に設けられた少なくとも2つの複
数のパッシブ回路であって、移相量及び減衰量のいずれ
か一方が異なるパッシブ回路と、半導体基板に設けら
れ、パッシブ回路を切り替えるためのSPDTスイッチ
と、を備えており、パッシブ回路を別の基板に構成する
ようにしたので、高価な半導体基板のサイズを小さくす
ることができ、低価格にすることができ、また、移相量
または減衰量の変更がSPDTスイッチにより可能にな
るため、再設計の際にも、作成時間のかかる半導体基板
を作り直す必要がなく、作成時間を短縮することがで
き、さらに、個々の半導体素子を誘電体基板上に構成す
る場合に比べて組み立て工数を減らし、組立コストの低
減および組立時間の短縮をはかることができる。
According to the present invention, a dielectric substrate, a semiconductor substrate, and at least two passive circuits provided on the dielectric substrate are different in any one of a phase shift amount and an attenuation amount. Since the passive circuit and the SPDT switch provided on the semiconductor substrate for switching the passive circuit are provided, and the passive circuit is formed on another substrate, the size of the expensive semiconductor substrate can be reduced. Since the SPDT switch can be used to change the amount of phase shift or attenuation, it is not necessary to re-create a semiconductor substrate which takes a long time when redesigning. In addition, the number of assembling steps can be reduced, the assembly cost can be reduced, and the assembling time can be reduced as compared with a case where individual semiconductor elements are formed on a dielectric substrate. It can be achieved.

【0103】また、誘電体基板と半導体基板とが同一平
面上に構成されているので、金属ワイアにより容易に接
続することができる。
Since the dielectric substrate and the semiconductor substrate are formed on the same plane, they can be easily connected by metal wires.

【0104】また、半導体基板が誘電体基板上に搭載さ
れているので、3次元的に構成したことにより、底面積
を小さくすることができ、小型化が可能になる。
Further, since the semiconductor substrate is mounted on the dielectric substrate, the three-dimensional configuration allows the bottom area to be reduced, and the size can be reduced.

【0105】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
長さの異なる少なくとも2つの線路から構成されている
ので、容易に形成することができ、また、長さを変える
ことにより通過位相を変えているため、通過位相の調整
を容易にかつ安価に行うことができる。
Further, at least two passive circuits include:
Since it is composed of at least two lines having different lengths, it can be easily formed. Further, since the passing phase is changed by changing the length, the passing phase can be easily and inexpensively adjusted. be able to.

【0106】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
移相量の異なる少なくとも2つのフィルタから構成され
ているので、例えば、一方をハイパスフィルタで構成
し、他方をローパスフィルタにより構成するようにすれ
ば、容易に作成することができる。
Further, at least two passive circuits include:
Since it is composed of at least two filters having different phase shift amounts, for example, if one is composed of a high-pass filter and the other is composed of a low-pass filter, it can be easily produced.

【0107】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
減衰量の異なる線路及び減衰回路から構成されているの
で、これらを切り替えることにより、減衰量を容易に切
り替えることができる。
Further, at least two passive circuits include:
Since it is composed of lines and attenuation circuits having different attenuation amounts, by switching these, the attenuation amount can be easily switched.

【0108】また、少なくとも2つのパッシブ回路が、
線路、フィルタおよび減衰回路のうちの少なくとも2つ
のいずれかから構成されているので、これらを切り替え
ることにより、移相量および減衰量を容易に切り替える
ことができる。
Also, at least two passive circuits are:
Since it is composed of at least two of the line, the filter, and the attenuation circuit, the phase shift amount and the attenuation amount can be easily switched by switching these.

【0109】また、SPDTスイッチ及び半導体基板が
複数個ずつあって、SPDTスイッチを別々の半導体基
板上に設けるようにしたので、半導体基板を複数個にし
たことから、半導体基板の大きさを無駄なく小さくでき
るとともに、自由度が増すという効果が得られる。
Also, since there are a plurality of SPDT switches and a plurality of semiconductor substrates, and the SPDT switches are provided on separate semiconductor substrates, the number of semiconductor substrates is plural, so that the size of the semiconductor substrate can be reduced without waste. The effect of reducing the size and increasing the degree of freedom can be obtained.

【0110】また、SPDTスイッチが複数個あって、
複数個のSPDTスイッチがすべて同一の半導体基板上
に設けられているので、製造工程が容易になるととも
に、部品点数を減らすことができる。
Also, there are a plurality of SPDT switches,
Since the plurality of SPDT switches are all provided on the same semiconductor substrate, the manufacturing process is simplified and the number of components can be reduced.

【0111】また、半導体基板のSPDTスイッチが構
成された面が誘電体基板のパッシブ回路が構成されてい
る面に対向するようにフィリップチップ実装されている
ので、金属バンプにより容易に接続できるとともに、各
基板ともに回路が設けられている面が内側になっている
ことから、外部からの物理的ストレスを受けにくい構造
になり、信頼性の向上を図ることができる。
Also, since the semiconductor chip is mounted on a flip chip so that the surface on which the SPDT switch is formed faces the surface of the dielectric substrate on which the passive circuit is formed, it can be easily connected by metal bumps. Since the surface of each substrate on which the circuit is provided is on the inside, the structure is less susceptible to external physical stress, and the reliability can be improved.

【0112】また、半導体基板の中心を中心とする円周
上に放射状に配置された接続端子をさらに備えているの
で、半導体基板と誘電体基板間の接続部材にかかる力が
均一に分散され、接続部の特性を一定に保つことがで
き、信頼性の向上を図ることができる。
Further, since the semiconductor device further includes connection terminals radially arranged on a circumference centered on the center of the semiconductor substrate, the force applied to the connection member between the semiconductor substrate and the dielectric substrate is uniformly dispersed, The characteristics of the connection portion can be kept constant, and the reliability can be improved.

【0113】また、半導体基板上に設けられた少なくと
も1ビットの移相器及び減衰器のいずれか一方をさらに
備えているので、広範囲にかつ細かい範囲での移相量お
よび減衰量の調整が可能になる。
Further, since at least one of a one-bit phase shifter and an attenuator provided on a semiconductor substrate is further provided, the phase shift amount and the attenuation amount can be adjusted over a wide range and in a fine range. become.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態2におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態3におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態4におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態5におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 この発明の実施の形態6におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】 この発明の実施の形態7におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a seventh embodiment of the present invention.

【図8】 この発明の実施の形態8におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to an eighth embodiment of the present invention.

【図9】 この発明の実施の形態9におけるマイクロ波
制御回路の構成を示した斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 9 of the present invention.

【図10】 この発明の実施の形態9におけるマイクロ
波制御回路の構成を示した側面図である。
FIG. 10 is a side view showing a configuration of a microwave control circuit according to a ninth embodiment of the present invention.

【図11】 この発明の実施の形態9におけるマイクロ
波制御回路の誘電体基板の構成を示した平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing a configuration of a dielectric substrate of a microwave control circuit according to Embodiment 9 of the present invention.

【図12】 この発明の実施の形態9におけるマイクロ
波制御回路の半導体基板の構成を示した平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing a configuration of a semiconductor substrate of a microwave control circuit according to Embodiment 9 of the present invention.

【図13】 この発明の実施の形態10におけるマイク
ロ波制御回路の構成を示した斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a configuration of a microwave control circuit according to a tenth embodiment of the present invention.

【図14】 この発明の実施の形態10におけるマイク
ロ波制御回路の構成を示した側面図である。
FIG. 14 is a side view showing a configuration of a microwave control circuit according to a tenth embodiment of the present invention.

【図15】 この発明の実施の形態10におけるマイク
ロ波制御回路の誘電体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 15 is a plan view showing a configuration of a dielectric substrate of a microwave control circuit according to a tenth embodiment of the present invention.

【図16】 この発明の実施の形態10におけるマイク
ロ波制御回路の半導体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 16 is a plan view showing a configuration of a semiconductor substrate of a microwave control circuit according to a tenth embodiment of the present invention.

【図17】 この発明の実施の形態11におけるマイク
ロ波制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図18】 この発明の実施の形態11におけるマイク
ロ波制御回路の半導体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 18 is a plan view showing a configuration of a semiconductor substrate of a microwave control circuit according to Embodiment 11 of the present invention.

【図19】 この発明の実施の形態11におけるマイク
ロ波制御回路の誘電体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 19 is a plan view showing a configuration of a dielectric substrate of a microwave control circuit according to Embodiment 11 of the present invention.

【図20】 この発明の実施の形態12におけるマイク
ロ波制御回路の半導体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 20 is a plan view showing a configuration of a semiconductor substrate of a microwave control circuit according to a twelfth embodiment of the present invention.

【図21】 この発明の実施の形態13におけるマイク
ロ波制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 21 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to Embodiment 13 of the present invention.

【図22】 この発明の実施の形態14におけるマイク
ロ波制御回路の構成を示した平面図である。
FIG. 22 is a plan view showing a configuration of a microwave control circuit according to a fourteenth embodiment of the present invention.

【図23】 この発明の実施の形態15におけるマイク
ロ波制御回路の半導体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 23 is a plan view showing a configuration of a semiconductor substrate of a microwave control circuit according to Embodiment 15 of the present invention.

【図24】 この発明の実施の形態16におけるマイク
ロ波制御回路の半導体基板の構成を示した平面図であ
る。
FIG. 24 is a plan view showing a configuration of a semiconductor substrate of a microwave control circuit according to Embodiment 16 of the present invention.

【図25】 従来のマイクロ波制御回路の構成を示した
平面図である。
FIG. 25 is a plan view showing a configuration of a conventional microwave control circuit.

【図26】 他の従来のマイクロ波制御回路の構成を示
した断面図である。
FIG. 26 is a cross-sectional view showing a configuration of another conventional microwave control circuit.

【図27】 図26の従来のマイクロ波制御回路の構成
を示した平面図である。
FIG. 27 is a plan view showing a configuration of the conventional microwave control circuit of FIG. 26;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a、1b、1c、1d 誘電体基板、2a、2b 半
導体基板、3a、3bSPDTスイッチ、4a、4b、
4c、4d スイッチング素子、5a、5b、5c、5
d 金属ワイア、6a、6b 線路、7a、7b フィ
ルタ、8 減衰回路、9 金属バンプ、110a,11
0b 整合回路、121a,121bバイアス回路。
1a, 1b, 1c, 1d Dielectric substrate, 2a, 2b Semiconductor substrate, 3a, 3b SPDT switch, 4a, 4b,
4c, 4d switching element, 5a, 5b, 5c, 5
d metal wire, 6a, 6b line, 7a, 7b filter, 8 attenuation circuit, 9 metal bump, 110a, 11
0b Matching circuit, 121a, 121b bias circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 健介 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 末松 憲治 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 高木 直 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5J012 BA03 GA13 5J013 AA06  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kensuke Nakajima 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Electric Co., Ltd. (72) Inventor Kenji Suematsu 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 3 Rishi Electric Co., Ltd. (72) Inventor Nao Takagi 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo F-term (reference) 5J012 BA03 GA13 5J013 AA06

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体基板と、 上記誘電体基板に接続された半導体基板と、 上記誘電体基板に設けられた少なくとも2つの複数のパ
ッシブ回路であって、移相量及び減衰量のいずれか一方
が異なるパッシブ回路と、 上記半導体基板に設けられ、上記パッシブ回路を切り替
えるためのSPDTスイッチと、 を備えたことを特徴とするマイクロ波制御回路。
1. A dielectric substrate, a semiconductor substrate connected to the dielectric substrate, and at least two passive circuits provided on the dielectric substrate, wherein any one of a phase shift amount and an attenuation amount is provided. A microwave control circuit, comprising: a passive circuit that is different from one another; and an SPDT switch that is provided on the semiconductor substrate and switches the passive circuit.
【請求項2】 上記誘電体基板と上記半導体基板とが同
一平面上に構成されていることを特徴とする請求項1記
載のマイクロ波制御回路。
2. The microwave control circuit according to claim 1, wherein said dielectric substrate and said semiconductor substrate are formed on the same plane.
【請求項3】 上記半導体基板が上記誘電体基板上に搭
載されていることを特徴とする請求項1記載のマイクロ
波制御回路。
3. The microwave control circuit according to claim 1, wherein said semiconductor substrate is mounted on said dielectric substrate.
【請求項4】 上記少なくとも2つのパッシブ回路が、
長さの異なる少なくとも2つの線路から構成されている
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の
マイクロ波制御回路。
4. The at least two passive circuits,
4. The microwave control circuit according to claim 1, comprising at least two lines having different lengths.
【請求項5】 上記少なくとも2つのパッシブ回路が、
移相量の異なる少なくとも2つのフィルタから構成され
ていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに
記載のマイクロ波制御回路。
5. The at least two passive circuits,
4. The microwave control circuit according to claim 1, comprising at least two filters having different phase shift amounts.
【請求項6】 上記少なくとも2つのパッシブ回路が、
減衰量の異なる線路及び減衰回路から構成されているこ
とを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のマ
イクロ波制御回路。
6. The at least two passive circuits,
The microwave control circuit according to any one of claims 1 to 3, wherein the microwave control circuit comprises a line and an attenuation circuit having different attenuation amounts.
【請求項7】 上記少なくとも2つのパッシブ回路が、
線路、フィルタおよび減衰回路のうちの少なくとも2つ
のいずれかから構成されていることを特徴とする請求項
1ないし3のいずれかに記載のマイクロ波制御回路。
7. The at least two passive circuits,
4. The microwave control circuit according to claim 1, wherein the microwave control circuit comprises at least one of a line, a filter, and an attenuation circuit.
【請求項8】 上記SPDTスイッチ及び上記半導体基
板が複数個ずつあって、 上記SPDTスイッチが別々の上記半導体基板上に設け
られていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれ
かに記載のマイクロ波制御回路。
8. The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of said SPDT switches and said semiconductor substrate are provided, and said SPDT switches are provided on separate semiconductor substrates. Microwave control circuit.
【請求項9】 上記SPDTスイッチが複数個あって、 上記複数個のSPDTスイッチがすべて同一の上記半導
体基板上に設けられていることを特徴とする請求項1な
いし7のいずれかに記載のマイクロ波制御回路。
9. The microcontroller according to claim 1, wherein there are a plurality of said SPDT switches, and said plurality of SPDT switches are all provided on the same semiconductor substrate. Wave control circuit.
【請求項10】 上記半導体基板の上記SPDTスイッ
チが構成された面が上記誘電体基板の上記パッシブ回路
が構成されている面に対向するようにフィリップチップ
実装したことを特徴とする請求項3記載のマイクロ波制
御回路。
10. The flip-chip mounting method according to claim 3, wherein the surface of the semiconductor substrate on which the SPDT switch is formed faces the surface of the dielectric substrate on which the passive circuit is formed. Microwave control circuit.
【請求項11】 上記半導体基板の中心を中心とする円
周上に放射状に配置された接続端子をさらに備えたこと
を特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載のマ
イクロ波制御回路。
11. The microwave control circuit according to claim 1, further comprising connection terminals radially arranged on a circumference centered on the center of said semiconductor substrate.
【請求項12】 上記半導体基板上に設けられた少なく
とも1ビットの移相器及び減衰器のいずれか一方をさら
に備えたことを特徴とする請求項1ないし11のいずれ
かに記載のマイクロ波制御回路。
12. The microwave control according to claim 1, further comprising at least one of a phase shifter and an attenuator of at least one bit provided on the semiconductor substrate. circuit.
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