JP2000340020A - 照明装置、その用い方及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、マイクロプリズムを照明装置内に
位置させることにより、出射光線の散乱及び拡散効果を
著しく減少させた照明光を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、プレート(1)内に入射させる
入射光線(2)を受光するための入射端と、入射光線(2)を
受光すると共に入射光線(2)から出射光線を生成するた
めのＮ個のマイクロプリズム(3)の配列とを有し、内部
に光を案内するために設けられたプレート(1)を備える
照明装置を提供する。マイクロプリズム(3)の配列はプ
レート(1)の内部に位置している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は照明装置に関するも
のである。本発明は反射マイクロプリズムを特定の形態
に利用する様々な適用にも関するものである。

【０００２】

【従来の技術】照明装置はその技術分野において既知の
ものである。照明装置は全反射（一般的にＴＩＲ(total
internal reflection)と称す）によってプラスティッ
クプレート中を通り抜ける光の伝播に基づくものであ
り、光は以下のような様々なシステムによってプレート
から取り出すことができる。回折格子に基づくシステ
ム、マイクロ拡散器に基づくシステム、マイクロプリズ
ムに基づくシステム。

【０００３】第１の種類は波長に依存した照明を生成す
るもので、スクリーンの発光が白ないので、ディスプレ
イへの適用には不向きである。第２の種類は散乱の正確
な統制を伴わない拡散光を生成するので、非効率的な照
明装置となる。第３の種類は本発明の分野に関するもの
である。さらに詳細には、幾つかの文献にさらに具体的
な形態について記載されている。

【０００４】例えば、米国特許第5833517号公報には、
散乱により光を外部に導出するために、表面に砂を吹き
付けて(sand blasting)形成するグラデーションパター
ンが記載されている。米国特許第5649754号公報には、
不規則な反射鏡領域に基づき光を導出する同等のプレー
トが記載されており、プレートの外に光を散乱させる結
果となっている。

【０００５】米国特許第5833517号及び米国特許第56497
54号の各公報では、ランダムな依存性を有し、常に出射
光線の高い散乱性を発揮する散乱効果を用いている。米
国特許第5485291号、米国特許第5485354号及び米国特許
第5664862号の各公報には、光が複数のマイクロプリズ
ムによって抽出される案内プレートが記載されている。
これらのプリズムは、プレートの裏面にエッチングによ
り形成されている。入射光線はプリズムを通過すること
により屈折され、そして、反射平面を用いて光をプレー
トの厚さ及び表面を通じて後方反射させて、出射光線を
生成する。このように光が戻って伝播することは、プレ
ート内における光の伝播を危うくするものであり、出射
光線の散乱特性を制御するためには効率的ではない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】米国特許第5128842号
公報には、表面の下に形成された各プリズムに全反射被
膜を施した薄いマイクロプリズムプレートが記載されて
いる。光がプリズムに入射すると、光はマイクロプリズ
ムプレートの外に反射され、高光度のスポットライトが
装置の外部に出射される。しかし、光が２つのプリズム
の境界に達すると、光は全反射状態においてプレート内
で反射され、スポットライトは全くプリズムの境界から
出射されない。特に、プリズム間の距離が長い場合に
は、出射光線の配光は連続的であると考えることは出来
ない。そのような場合には光分布は離散的なものとな
る。照明は均一に生成されない。出射光線の分散を伴う
ものもある。このようなプレートの不利な点は、プレー
ト下部に施す金属被膜によってもたらされる。光、特に
部分的にコヒーレント光が金属被膜に達すると、光は反
射すると共にプリズムの端面において回折が生じてしま
い、光線の出射が妨げられる結果となる可能性がある。
出射光線内における回折光の影響により光の散乱が生
じ、ファンアウト発光装置に用いるためには特に不利と
なる。出射光線の散乱及び強度分布は、完全に制御不能
となる。

【０００７】本発明の様々な目的のうちの一つは、改善
された照明装置を提供することである。現在分かってい
ることは、マイクロプリズムが照明装置の内部に設けら
れている場合に出射光線における光の散乱および分散の
影響が著しく減少することである。

【０００８】本発明の他の目的は、コンパクトかつ低コ
ストで均一な照明を生成することのできる照明装置を提
供することである。本発明の他の目的は、プレート内の
ビームスプリッティングにより出射光線を離散分布させ
る光線のファンアウト(fan-out of beams)を生成する低
コストのプレートを提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、プレー
トに入射される入射光線を受光するための入射端と、該
入射光線を受光すると共に該入射光線から出射光線を生
成するために配設されたＮ個のマイクロプリズムの配列
とを有し、内部に光を案内するために設けられたプレー
トを備える照明装置において前記Ｎ個のマイクロプリズ
ムの配列は前記プレート内部に位置していることを特徴
とする照明装置が提供される。優位的には、複数のマイ
クロプリズムがプレート内に位置している場合には、該
照明装置は複数のマイクロプリズムの周囲に同質の屈折
率の媒体を有する。

【００１０】本発明のプレートに入射される入射光線
は、出射光線の均一な強度を得るために、例えば光ファ
イバのような光源、又は例えば管形電球、白熱電球若し
くは発光ダイオード(LED : Light Emitting Diode)のよ
うな拡長光源から供給され得る。入射光線は、光線の出
射ファンアウトを生成するために、分散が少なくかつ小
さい光源によって供給され得る。例えば、光源は、コリ
メーティングレンズ(collimating lens)付き光ファイ
バ、コリメーティングレンズ付きレーザダイオード又は
ガスレーザ光線であればよい。

【００１１】好適には、入射光線は１つの端面からプレ
ート内に入射される。本発明の照明装置によれば、プレ
ートは光を導くために用いられる。プレートは、例え
ば、ガラス、プラスティック材料、ゴム材料あるいは合
成材料から出来ている。

【００１２】入射光線は、プレート内を透過及び反射に
より伝播する。本発明によるマイクロプリズムの配列
は、入射光線を受光して出射光線を生成するために用い
られる。このようなプリズムは傾斜した反射面を有す
る。光がマイクロプリズムの傾斜した反射面に９０°以
下の入射角で到達すると、その一部はマイクロプリズム
によって反射される。また、光は、プレート側面におけ
る全反射によりプレート内を透過する。

【００１３】好適には、光がマイクロプリズムの傾斜面
に到達したときに、その一部が反射され、残りが当該プ
リズムを透過して隣のマイクロプリズムに到達する。優
位的には、このような照明装置は、プレート外部に照明
を出射させることにおける高度の制御性を提供する。特
に、出射光線の均一性及び散乱性が最適化され得る。

【００１４】他の優位点は、プレート内にマイクロプリ
ズムが設けられているにも拘わらず、プレート自体が半
透明であることである。例えば、光束が底部からプレー
トに向かうとき、光束はプレート内を透過し、その一部
はマイクロプリズムによって反射され、さらに全反射に
よりプレートの上面及び底面へ反射される。この光束
は、プレートの上面の全体に透過すると共に、透明なプ
レートの全体を通じて保存されるのと同様にプレートの
他方の面において保存される。一方、光束の強度分布は
不安定になる。これはプレートが半透明材として機能し
ていることを示している。さらなる優位点は、照明装置
が白色光の下でも動作可能なことである。重大な波長依
存性は、紫外（ＵＶ）付近、可視および赤外（ＩＲ）付
近においても発生しない。

【００１５】本発明による装置の反射率は、出射光線に
おける所望の散乱性及び強度分布を得るために最適化さ
れ得る。反射率は、プレート内に配置されるプリズムの
数に依存する。均一な照明を得るためには、マイクロプ
リズムの数をＮとした場合に、反射率はプリズム間にお
いて１／Ｎ法則によって配分されなければならない。例
えば、４つのマイクロプリズムが等間隔で配置されてい
るプレートにおいて、均一な出射光線を得るためには、
光源に近い１番目のマイクロプリズムの反射率を２５％
に設定し、２番目のマイクロプリズムの反射率を３３
％、３番目で５０％、さらにプレートの端にある最後の
マイクロプリズムの反射率を１００％に設定すればよ
い。

【００１６】このマイクロプリズムの物理的性質を変化
させることにより、あるいは、マイクロプリズムの反射
面を変形させることにより、プレートを通じて、光源と
各マイクロプリズムとの間の距離の関数として、装置の
反射率を変化させても良い。出射光線の所望の散乱性及
び強度分布を得るために、マイクロプリズムの物理的性
質および反射表面被膜の厚さを変化させて最適化させて
も良い。

【００１７】マイクロプリズムの物理的性質とは、例え
ば、マイクロプリズムの形状、角度、長さ、粗さ、間隔
及び厚さ、または、マイクロプリズムの傾斜面の曲率で
ある。本発明によるマイクロプリズムは何れの形状であ
っても良く、例えば、錐体形状、六面形状あるいは三角
柱形状でもよい。マイクロプリズムは、直角三角形断面
で傾斜面及び垂直面の間が１５度から６０度の角度であ
ることが好ましい。マイクロプリズム同士の間隔は０．
２ｍｍから２０ｍｍであり、好適には１ｍｍ以下であ
る。

【００１８】粗さは５ｎｍから５０ｎｍの間であればよ
く、また、長さは０．２ｍｍから５ｍｍの間、厚さは
０．２ｍｍから５ｍｍの間、さらにマイクロプリズムの
傾斜面の曲率は０から１ｍｍ^-1の間にあればよい。プリ
ズムの傾斜面は平坦、湾曲面あるいは多面で構成された
面であってもよい。マイクロプリズムの反射面被膜は、
例えば、アルミニウム、銀、金、銅あるいはクロムのよ
うな金属被膜であってもよい。金属被膜の厚さは、反射
率の変化を誘発させるために、１ｎｍから１μｍの間で
あればよい。

【００１９】第１の好適な形態によれば、マイクロプリ
ズムの配列は入射角が９０度以下の入射光線を受光し、
マイクロプリズムは傾斜面及び垂直面との間に好適には
１５度から３５度、最適には２２．５度の角度を有す
る。第１の形態における入射光線は、所望の出射照明強
度及び均一性を得るために、光ファイバあるいは例えば
管形電球、白熱電球または発光ダイオード(LED)のよう
な拡張光源によって供給される。

【００２０】優位的には、プレート内に部分反射マイク
ロプリズムを配置することは、照明プレートから出射さ
れる照明の制御性をより高度にすると共に、出射光線の
分布の均一性をよりよいものとする。一のマイクロプリ
ズムによって反射されない光は、低下することなくプレ
ートにより案内され、他のマイクロプリズムによって反
射される。

【００２１】本発明の第２の好適な形態によれば、マイ
クロプリズムの配列は入射角が４０度から５０度の入射
光線を受光し、マイクロプリズムは傾斜面と垂直面との
間に好適には４０度から５０度、最適には４５度の角度
を有する。第２の形態による入射光は、光線の出射ファ
ンアウトを生成するために、散乱が少なくかつ小さい光
源によって供給され得る。光源は、例えば、コリメーテ
ィングレンズ付き光ファイバ、コリメーティングレンズ
付きレーザダイオードあるいはガスレーザビームであ
る。

【００２２】光線がマイクロプリズムに到達する度に、
光線は部分的に反射され、光線のビームスプリッティン
グに寄与する。ある一つのマイクロプリズムによって反
射されない光線は、光束特性が低下することなく隣接す
るマイクロプリズムに伝播し続ける。本発明のファンア
ウト発光装置の優位点は、プレート内に部分反射マイク
ロプリズムを位置させたことによる、その波長依存性、
コンパクトさ及び剛直性である。このコンパクトさは、
光ファイバまたはコリメーティングレンズ付きレーザダ
イオードから光線を供給する場合に完璧に適応する。

【００２３】本発明の他の特徴は、均一な照明を得るた
めの装置の用い方である。このような用い方は、商業的
および住宅向きの市場あるいは自動車および航空産業に
適用可能である。住宅的及び商業的な用い方の代表的な
ものは、平たい(low profile)外装用あるいは内装用の
照明、例えばパーソナルコンピュータ、テレビ、ディス
プレイ装置等の背面照明装置を含んでいる。自動車への
適用の代表的なものは、平たい自動車用ヘッドライト及
びテールライトや、読書灯やマップライトのような平た
い車内灯である。

【００２４】本発明のさらに他の特徴は、離散するビー
ムスプリッティングの分布を得るための装置の用い方で
ある。このような用い方は光通信市場において用いるこ
とが出来るものである。代表的な用い方は光学インター
コネクタあるいは光学スイッチである。

【００２５】最後に、また別の局面によれば、本発明
は、本発明による照明装置を製造する方法を提供するも
ので、その製造方法は、原鋳型をエッチング及び研磨し
てマイクロプリズムの原型構造にする工程と、前記原型
構造からマイクロプリズム構造を有する複製物を複製す
る工程と、前記複製物のマイクロプリズム構造に反射被
膜を形成(deposite)する工程と、結果として生じた反射
マイクロプリズム構造を鋳造する工程とを備えることを
特徴とする。

【００２６】本発明の製造方法によれば、通常、原鋳型
は金属製である。原鋳型をエッチング及び研磨してマイ
クロプリズムの原型構造にする工程は、一般的に、正確
な機械加工によって行われる。加工された原型は、所望
のマイクロプリズム構造を表すものである。マイクロプ
リズム構造において、各プリズムは０．２ｍｍから５ｍ
ｍの長さを有し、４ｍｍであることが望ましい。一般的
に厚さは長さに等しい。マイクロプリズム同士の間隔は
０．２ｍｍから２０ｍｍの間であればよく、１ｍｍ以下
であることが好ましい。マイクロプリズムは互いに接触
していても良い。

【００２７】本発明の方法によれば、原鋳型から複製物
を複製することは、一般的に、圧力下における加熱型押
(hot embossing)あるいはプラスティック材料の射出成
形によって行われる。プラスティック材料は、例えば、
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、
ポリイミド、ポリアクリレート、ポリセルスルホン、ポ
リエテルイミド及びセルローストリアセターテプラステ
ィックのような熱可塑性プラスティックあるいは熱硬化
性合成樹脂であってもよい。

【００２８】本発明の製造方法による反射被膜は、一般
的に、陰影形成法(shadowdeposition technique)によ
り、プリズムの傾斜面のみに形成されている。そのため
に、例えばアルミニウム、銀、金、銅あるいはクロムの
ような反射率の高い金属の真空蒸着を行う。金属の真空
蒸着は、高周波(radio frequency)スパッタリングのよ
うな技術によって行われる。被膜の厚さは、１ｎｍから
１μｍの間で変化させても良い。被膜の厚さのいかなる
変動も反射率の変動に対応し得るであろう。

【００２９】本発明の製造方法によって製造される反射
マイクロプリズム構造には、例えば紫外線鋳造(UV cast
ing)や高温注型のような鋳造技術によって同一のプラス
ティック材料が充填される。微小気泡がプレート内に形
成される危険性を低下させるために、真空鋳造を用いて
もよい。

【００３０】これとは代わって、特に分厚い数ミリ程度
のマイクロプリズムの場合は、鋳造技術に代えて、同一
のプラスティック材料からなり反射マイクロプリズム構
造に重ね合わされた雌型をもう一つ用意しても良く、あ
るいは前述の本発明の工程により得られる雄型（押込式
鋳型）を用意しても良い。両方の雌型及び雄型は、プレ
ートの屈折率に近い屈折率を有する紫外線光学セメント
あるいは熱可塑性接着剤により張り合わされる。接着剤
の例としては、エポキシ、ポリウレタン、シリコンエラ
ストマーがある。接合は、両方の鋳型の間において確実
に屈折率が整合するように注意して行われる。

【００３１】優位的には、本発明による方法では、装置
のマイクロプリズム自体が環境状況に対して自己保護(s
elf protected)される。本発明の他の目的及び優位点は
以下の説明によってさらに明らかになるであろう。説明
は添付図面を参照している。

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明の第１の好適な形態によれ
ば、図１はプレートの一の端面における入射光線２のプ
レート１内での光線の透過及び反射を示す図である。入
射光線２は可視光線（図示せず）を放射する管形電球に
よって供給される。プレートの入射端における管形電球
の直径は４ｍｍより僅かに小さく、入射光の発散は４５
度である。

【００３３】プレートは、長さ１４０ｍｍ、幅４０ｍｍ
及び厚さ４ｍｍである。プレートは、プレートの厚さ内
において全反射を行うために薄く作製される。薄いプレ
ートはガラスの屈折率である１．５に近い屈折率を有す
る材料で作製されており、光が４２度以上の入射角で側
面に到達したときに、プレートの側面（プレートと空気
との境界面）において全反射がなされるようになってい
る。プレートはポリメチルメタクリラーテで作製され、
その屈折率は１．４９である。

【００３４】６４個のマイクロプリズム３の配列（明瞭
にするために図１には示さない）はプレート内に位置し
ている。マイクロプリズムの長さ４は２ｍｍ、厚さ５は
１．６５ｍｍである。傾斜面と垂直面とを有するマイク
ロプリズムの三角柱形状は、断面が直角三角形であると
共に傾斜角は２２．５度である。マイクロプリズムは
０．５ｍｍ以下の間隔６を隔てて整置されている。

【００３５】マイクロプリズムの物理的特性を計算し、
反射法則(reflective law)に基づき、プレートのプラス
ティック／空気の各境界におけるフレネル反射を考慮に
入れてコンピュータプログラムにより光の透過及び反射
を試算した。光線追跡のコンピュータプログラムは、商
品名アサップ(ＡＳＡＰ)としてブロ(ＢＲＯ)によって市
販されている。

【００３６】光線追跡プログラムの使用時間は、１３３
ＭＨｚのＣＰＵを有するパーソナルコンピュータで約１
０分である。２２５の入射光線の光線軌跡は、プレート
内における多重部分反射により１５０００の光線を生成
する。反射率は、均一な配光が得られるまで最適化され
る。

【００３７】図２は、対応する出射光線を単一領域毎の
フラックスで表現した強度分布を示しており、図１の形
態における光線軌跡プログラムにより計算されたもので
ある。図１に示す均一な照明のプレートは、図５に示す
工程により作製される。原鋳型を正確な機械加工（図５
Ａ）によりエッチング及び研磨する。この結果作製され
る原型は所望のマイクロプリズム構造を表す。

【００３８】ポリメチルメタクリラーテの複製が加熱型
押（図５Ｂ）により行われる。反射アルミニウム被膜
が、陰影形成法（図５Ｄ）により、プリズムの傾斜面の
みに形成される。全てのマイクロプリズムにおいて被膜
の厚さは１μｍ未満であるが、１段目から最終段のマイ
クロプリズムに向かって若干厚さを増大させてある。前
工程により得られた反射アルミニウム被膜が形成された
装置に、高温注型法により同一のプラスティック材料が
充填される（図５Ｅ）。

【００３９】均一な照明のプレートは、加熱型押法によ
りポリメチルメタクリラーテの複製を作製する代わり
に、射出成形法（図５Ｃ）を用いることによっても作製
することができる。最後に、鋳造法に代えて、第１複製
（図５Ｂ）に重ね合わされるプラスティック製で雌型の
第２複製（図５Ｆ）を作製することにより、上述のよう
な均一な照明のプレートが作製される。両方の複製は、
プラスティック製の複製と同一の屈折率を有する光学セ
メントにより封止される。用いるセメントは、商品名ビ
ットラリット(Vitralit)１７３１として３Ｍ社により製
造されている。最終的な装置は、プレート内に設けられ
た部分反射マイクロプリズムの配列を備える（図５
Ｇ）。この照明装置は小型かつ低コストな装置である。

【００４０】第２の好適な形態において、図３はファン
アウト発光装置(fan-out generator)内における光の透
過及び反射の様子を示しており、入射光線は波長が６５
０ｎｍで散乱がなくかつ１．５ｍｍと小さい単一の光源
（図示せず）により供給される。入射光線は、一の端面
からプレート内に入射される。ファンアウト発光装置は
プレート１内に完全に一体化されている。

【００４１】プレート１は長さ１４０ｍｍ、幅１００ｍ
ｍ及び厚さ６ｍｍである。プレートはポリメチルメタク
リラーテ製であり、その屈折率は１．４９である。６行
６列の部分反射マイクロプリズム３からなる配列はプレ
ート内に設けられている。各マイクロプリズムは互いに
接触している。各マイクロプリズム間には間隔６が設け
られていない。

【００４２】マイクロプリズム３は長さ４が４ｍｍ、厚
さ５が４ｍｍ、傾斜面と垂直面との間の角度が４５度で
ある。傾斜面の形状は平坦である。光線追跡のコンピュ
ータプログラムにより、マイクロプリズムの物理的特性
を計算し、光の透過及び反射を試算する。１００の入射
光線追跡は、プレートの厚さ内における多重反射により
５０００の光線を生成する。

【００４３】一の端面から入射された入射光線は、表面
７及び底面８に平行にプレート１内を案内される。入射
光線が、入射角度４５度で、表面７に平行な配列の６つ
のマイクロプリズムのうちの１つに到達する度に、入射
光線は部分的に反射されると共に部分的に透過される。
部分透過は最初の５つのマイクロプリズムを通じて発生
する一方、部分反射は６つのマイクロプリズムの傾斜面
において発生する。部分的に反射された入射光線はプレ
ート内を透過し、底面８に平行な配列のマイクロプリズ
ムによって再び反射され、入射光線をビームスプリッテ
ィングさせる。

【００４４】図４は、図３に示すファンアウト発光装置
の出射光線の強度分布を単一領域毎のフラックスとして
示す図である。２次元的なファンアウト発光装置は、入
射角に対し垂直な方向に機能する１次元ファンアウト発
光装置を２つ組み合わせて構成されている。１次元のフ
ァンアウトは、図５に示す以下で説明する工程により作
製される。

【００４５】原鋳型は正確な機械加工（図５Ａ）によっ
てエッチング及び研磨される。こうして作製される原型
は所望のマイクロプリズム構造を表すものである。ポリ
メチルメタクリラーテの複製を射出成形（図５Ｃ）によ
り作製する。反射アルミニウム被膜を、陰影形成法（図
５Ｄ）により、プリズムの傾斜面のみに形成する。高周
波のスパッタリングにより、アルミニウムを真空蒸着す
る。全てのマイクロプリズムにわたって被膜の厚さは１
μｍ未満であるが、１段目から最終段のマイクロプリズ
ムに向かうに連れ、反射率を変化させるためにその厚さ
をわずかに増加させる。前述の工程により得られたアル
ミニウム被膜が形成された装置に、加熱鋳造法により
（図５Ｅ）ポリメチルメタクリラーテを充填する。

【００４６】上述のようにして作製されたファンアウト
発光装置のためのプレートは、鋳造法に変えて、第１複
製に重ね合わされるプラスティック製で雌型の第２複製
（図５Ｆ）を作製して、両方の複製と同一の屈折率を発
揮する光学セメントにより接合することによっても作製
できる。用いるセメントは、商品名ビットラリット(Vit
ralit)１７３１として３Ｍ社により製造されている。最
終的な装置は、プレート内に設けられる６行６列の反射
マイクロプリズムを備える（図５Ｇ）。

【００４７】案内プレート内における部分反射マイクロ
プリズムの局部化により、非常に小型化され、且つ、堅
牢なファンアウト発光装置を提供することが出来る。装
置の小型化は、光ファイバあるいはコリメーティングレ
ンズ付レーザダイオードから光源を供給する場合に完璧
に適応する。本発明を変形ないし変更することは、プリ
ズムがプレート内に位置する限り、鋭利さ、距離、反射
率の異なる構成のマイクロプリズムを用いることができ
るであろう。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の好適な形態において設計され
た照明装置を示す２次元図であり、端面から入射された
光線による均一な照明を表している。

【図２】 図１の照明装置に対応する出射光線の強度分
布を示す。

【図３】 本発明の第２の好適な形態において設計され
た照明装置を示す３次元図であり、ファンアウト発光装
置を表している。

【図４】 図３の照明装置に対応する出射光線の強度分
布を示す。

【図５】 本発明の照明装置を製造する工程を示す概略
図である。

フロントページの続き (71)出願人 500029925 Ｑｕａｉ Ｖａｎ Ｂｅｎｅｄｅｎ 25, 4020 Ｌｉｅｇｅ， Ｂｅｌｇｉｕｍ

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プレート(1)に入射される入射光線(2)を
   受光するための入射端と、前記入射光線(2)を受光する
   と共に該入射光線(2)から出射光線を生成するためＮ個
   のマイクロプリズム(3)の配列とを有し、内部に光を案
   内するために設けられたプレート(1)を備える照明装置
   において、前記マイクロプリズム(3)の配列は前記プレ
   ート(1)内に位置していることを特徴とする照明装置。
2. 【請求項２】 前記入射光線(2)は、一の端面によって
   前記プレート(1)に入射されることを特徴とする請求項
   １記載の装置。
3. 【請求項３】 前記入射光線は、Ｎ個のマイクロプリズ
   ム(3)の配列によって部分反射されることを特徴とする
   請求項１または２に記載の装置。
4. 【請求項４】 前記入射光線は、Ｎ−１個のマイクロプ
   リズムを部分透過することを特徴とする請求項３記載の
   装置。
5. 【請求項５】 ２つの連続する前記マイクロプリズム
   (3)の間隔は、１ｍｍ以下であることを特徴とする請求
   項１ないし４のうちのいずれか１項記載の照明装置。
6. 【請求項６】 前記マイクロプリズム(3)は、断面が直
   角三角形であり、傾斜面および垂直面の間の角度が１５
   度から６０度であることを特徴とする請求項１ないし５
   のうちのいずれか１項記載の装置。
7. 【請求項７】 前記マイクロプリズム(3)の配列は、入
   射角が９０度以下の入射光線(2)を受光し、前記マイク
   ロプリズム(3)の前記傾斜面及び前記垂直面の間の前記
   角度は、１５度から３５度の間で、最好適には２２．５
   度であることを特徴とする請求項６記載の装置。
8. 【請求項８】 前記マイクロプリズムの配列は、入射角
   が４０度から５０度の間の入射光線を受光し、前記マイ
   クロプリズムの前記傾斜面及び前記垂直面の間の前記角
   度は、好適には４０度から５０度の間で、最好適には４
   ５度であることを特徴とする請求項６記載の装置。
9. 【請求項９】 前記Ｎ個のプリズムの配列は、同一のプ
   レート(1)内の他のＮ個のマイクロプリズムの配列と交
   差する入射角(cross incidence)にあることを特徴とす
   る請求項８記載の装置。
10. 【請求項１０】 均一な照明装置を得るための請求項７
    記載の装置の用い方。
11. 【請求項１１】 ファンアウト発光装置を得るための請
    求項８または９記載の装置の用い方。
12. 【請求項１２】 原鋳型をエッチングおよび研磨してマ
    イクロプリズムの原型構造にする工程と、 前記原型構造からマイクロプリズム構造を有する複製物
    を複製する工程と、 前記複製物の前記マイクロプリズム構造に反射被膜を形
    成する工程と、 この結果得られる反射マイクロプリズム構造を鋳造する
    工程とを備える請求項１ないし９記載の照明装置を製造
    する方法。
13. 【請求項１３】 前記反射マイクロプリズムの鋳造工程
    の代わりに、前記反射マイクロプリズム構造上に第２の
    雌型の複製を重ね合わせる工程と、これに続く光学セメ
    ントあるいは光学接着剤による封止工程を行うことを特
    徴とする請求項１２記載の方法。