JP2000337833A - 形状測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型且つ高精度に足などの被測定物を測定す
ることが可能な形状測定装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 予めワールド座標系における位置関係が
特定されている測定台２０１の上面２０２上に沿って測
定ヘッド１０を移動させて測定ヘッド中心の座標系にお
ける測定点の座標を求めるとともに、１台のＣＣＤカメ
ラ２１による測定ヘッド１０の撮像画像に基づいてワー
ルド座標系における測定ヘッド１０の位置に関する情報
を得て、測定ヘッド中心の座標系における測定点の座標
をワールド座標系に変換する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、使用者が測定ヘッ
ドを自由に動かして被測定物の３次元的形状を測定する
形状測定装置に関し、特に、足の形を測定するのに適し
た形状測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、靴のサイズは通常かかとから指
先までの長さで表現されるが、人の足形状は、長さだけ
でなく、甲の高さ、足の幅など、個人により様々であ
る。一人一人の足形状に応じた靴を作ろうとする場合、
足の3次元形状を測定することが必要となるが、現状で
は、メジャーを使って足長、足幅、足位（足周り）等の
限られた部位の大きさを測定するにとどまっている。

【０００３】一方、スポット光またはスリット光を被測
定物に照射し、表面に観察される光像の位置から3次元
形状を復元する能動ステレオ型の形状測定装置が知られ
ている。この形状測定装置は、被測定物の表面形状を測
定するために、スポット光またはスリット光を回転ミラ
ーによって走査させるものである。雑誌「計測と制御」
（1999 Vol.38 No.4 P285-P288）には、このような形状
測定装置を用いて、足形状を測定するシステムが記載さ
れている。

【０００４】このシステムでは、１個の形状測定装置で
は、装置から観察される部分の形状のみ測定可能であ
り、その反対側などの隠れている部分の形状を測定する
ことができないため、１２個の形状測定装置を足の周囲
に配置し、これら１２個の形状測定装置による測定結果
をコンピュータ上で合成することにより足全体の形状を
測定している。

【０００５】しかしながら、このシステムでは、複数の
形状測定装置を足の周囲に配置するため、システムが大
型化し、且つ高価となるだけでなく、複数の形状測定装
置による測定結果を精度良く合成することが困難になる
という問題がある。

【０００６】これに対し、1台の形状測定装置で、被測
定物全体の形状を測定する方法として、回転ステージを
利用し、被測定物を３６０度の全周囲から測定する方法
が提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、足形状
を測定する場合、回転ステージ上において足だけを回転
させることができず、仮りにできたとしても、全身を乗
せたまま回転ステージを回転させることになり、装置が
大型化し、且つ高価になることは免れない。

【０００８】そこで、本発明は、小型且つ高精度に足な
どの被測定物を測定することが可能な形状測定装置を提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の形状測定装置
は、予めワールド座標系における位置関係が特定されて
いる基準面上を自由に移動せしめられる測定ヘッドと、
その測定ヘッドを用いて測定ヘッド中心の座標系におけ
る被測定物上の測定点の座標を求める測定点座標算出手
段と、所定の位置から測定ヘッドを撮像する測定ヘッド
撮像手段と、その測定ヘッド撮像手段による像及び基準
面の位置関係を用いてワールド座標系での測定ヘッドの
位置に関する情報を求める測定ヘッド位置算出手段と、
その測定ヘッド位置算出手段によって求められた測定ヘ
ッドの位置に関する情報に基づいて、測定点座標算出手
段によって求められた測定ヘッド中心の座標系における
被測定物上の測定点の座標を、ワールド座標系の座標に
変換する座標変換手段とを備えていることを特徴とす
る。

【００１０】このような構成において、測定ヘッドの移
動を基準面上に制限すると、測定ヘッド撮像手段にて撮
像された１つの像から、測定ヘッドのワールド座標系で
の位置に関する情報が得られ、この情報に基づいて、測
定ヘッドを用いて得られた測定点の測定ヘッド中心の座
標形おける座標がワールド座標に変換される。そして、
測定ヘッドを、被測定物の周囲に沿って１周させること
により、被測定物の形状が測定される。

【００１１】また、基準面を上面とする測定台を備え、
その測定台の内部に測定ヘッド撮像手段を配置すること
を特徴とする。

【００１２】このような構成とすることにより、測定台
の内部から基準面を介して測定ヘッドが撮像される。

【００１３】また、本発明の形状測定装置は、自由に移
動せしめられる測定ヘッドと、その測定ヘッドを用いて
測定ヘッド中心の座標系における被測定物上の測定点の
座標を求める測定点座標算出手段と、被測定物が積置さ
れる測定台の内部から測定ヘッドを撮像する測定ヘッド
撮像手段と、その測定ヘッド撮像手段を用いてワールド
座標系での測定ヘッドの位置に関する情報を求める測定
ヘッド位置算出手段と、その測定ヘッド位置算出手段に
よって求められた測定ヘッドの位置に関する情報に基づ
いて、測定点座標算出手段によって求められた測定ヘッ
ド中心の座標系における被測定物上の測定点の座標をワ
ールド座標系の座標に変換する座標変換手段とを備えて
いることを特徴とする。

【００１４】このような構成とすることにより、測定台
の内部から測定ヘッド撮像手段にて測定ヘッドが撮像さ
れ、ワールド座標系での測定ヘッドの位置に関する情報
が求められる。このとき、測定ヘッドが３次元的に移動
する場合には、測定ヘッド撮像手段が、２台の撮像装置
から構成される。

【００１５】また、測定ヘッドが複数の発光体からなる
マーカを備え、測定台の上面または測定ヘッド撮像手段
が発光体から放射される光の周波数帯域を選択的に透過
するバンドパスフィルタを備えていることを特徴とす
る。

【００１６】このような構成とすることにより、測定ヘ
ッドの位置を測定するための発光体と異なる周波数帯域
の外乱光がバンドパスフィルタにてカットオフされる。

【００１７】また、被測定物が被測定者の足であり、測
定台の上面が被測定者の足の裏にかかる圧力を検出する
感圧パネルを備えていることを特徴とする。

【００１８】このような構成とすることにより、測定ヘ
ッドによって足の周囲からでは測定しにくい接地面にお
ける足の裏の形状だけでなく、その圧力分布が測定され
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて説明する。 ［１］測定原理についての説明 図１は本発明の一実施の形態における形状測定装置の概
略構成を示し、図２は形状測定装置の測定台内部から見
た測定台上面の様子を示している。

【００２０】同図に示すように、被測定物となる足１０
０は、測定台２０１の上面２０２上に載せられて、測定
が行われる。

【００２１】形状測定装置は、測定者によって測定台２
０１の上面２０２に沿って自由に移動せしめられる測定
ヘッド１０と、測定台２０１内部において底面２０４の
中央に固定されているＣＣＤカメラ２１と、その制御、
各種演算等を行うパーソナルコンピュータからなる制御
装置３０とを備えている。ＣＣＤカメラ２１の撮像レン
ズには、測定ヘッド１０の底面に取り付けられたマーカ
１４が放つ光の周波数帯を選択的に透過するバンドパス
フィルタ２３が取り付けられている。

【００２２】図３及び図４は、測定ヘッド１０の概略構
成を示している。

【００２３】測定ヘッド１０は、直方体状で前方開口の
ケーシング１１と、ケーシング１１内に収納された１台
のＣＣＤカメラ１２及びスリット光源１３と、ケーシン
グ１１の上面に設けられた６つのＬＥＤ光源１４ａ〜１
４ｆからなるマーカ１４とを備えている。スリット光源
１３としては、半導体レーザが用いられている。

【００２４】マーカ１４を構成する６つのＬＥＤ光源１
４ａ〜１４ｆは、測定ヘッド１０の方向を特定するため
に、点対称な配置とせず、測定ヘッド１０の中心線に対
し線対称な配置となっている。ここでは、ケーシング１
１の上面にＬＥＤ光源１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１
ｅ、１１ｆの５点が長方形をなすように配置され、それ
ら５点の重心にＬＥＤ光源１１ａが配置される。なお、
３次元空間中のある平面内での測定ヘッド１０の位置及
び方向を測定するためには、マーカとして少なくとも２
個のＬＥＤ光源があれば十分であるが、３個以上のＬＥ
Ｄ光源を用いることにより、測定ヘッド１０の位置及び
方向の測定精度が最小２乗的に向上する。

【００２５】図５は、形状測定装置の測定原理を示して
いる。

【００２６】測定者によって自由に移動せしめられる測
定ヘッド１０を用いてある測定点Ａの座標を測定する。
測定された座標を測定ヘッド中心の座標系における座標
（ｘ，ｙ，ｚ）で表す。この座標系は、測定ヘッド１０
の移動とともに移動する座標系である。

【００２７】一方、被測定物１００の形状は、固定した
座標系で表され、この座標系をワールド座標と呼ぶ。測
定ヘッド１０によって測定された測定点のワールド座標
系における座標を（Ｘ，Ｙ，Ｚ）とする。被測定物１０
０の形状はワールド座標系で記述する必要があるため、
測定ヘッド１０によって測定された測定点Ａの測定ヘッ
ド中心の座標系における座標（ｘ，ｙ，ｚ）を、ワール
ド座標系に変換する。この変換は、測定ヘッド１０の移
動を表す回転行列Ｒと並進ベクトルｔとを用いて、次の
数式１に基づいて行われる。

【００２８】

【数１】

【００２９】したがって、ワールド座標系における測定
ヘッド１０の位置及び方向を、回転行列Ｒと並進ベクト
ルｔとして求めることで、測定ヘッド中心の座標系にお
ける座標（ｘ，ｙ，ｚ）を、ワールド座標系に変換する
ことができる。

【００３０】測定ヘッド１０を被測定物１００の周囲で
移動させながら、上記の処理を行い、その都度得られる
測定点のワールド座標系における座標（Ｘ，Ｙ，Ｚ）の
集合として、被測定物１００の形状が記述される。

【００３１】この形状測定装置による形状測定は、次の
ような処理手順によって実行される。

【００３２】第１ステップ：測定ヘッド１０を用いて、
測定ヘッド中心の座標系における被測定物上の測定点の
座標を求める。

【００３３】第２ステップ：ワールド座標系での測定ヘ
ッド１０の位置に関する情報、すなわち、ワールド座標
系での測定ヘッド１０の移動を表す回転行列Ｒと並進ベ
クトルｔとを、測定ヘッド１０上に設けられたマーカ１
４をＣＣＤカメラ２１により撮像することにより求め
る。

【００３４】第３ステップ：第２ステップで得られた回
転行列Ｒと並進ベクトルｔとに基づいて、第１ステップ
で求めた測定ヘッド中心の座標系における被測定物上の
測定点の座標を、ワールド座標系の座標に変換する。

【００３５】以下、これら各ステップについて説明す
る。 〔２〕第１ステップについての説明 図６は、測定ヘッド１０による測定点の位置測定方法を
示している。

【００３６】測定ヘッド中心の座標系とは、ＣＣＤカメ
ラ１２の光学中心を原点とし、光軸方向をｚ軸、ＣＣＤ
カメラ１２の水平方向をｘ軸、ＣＣＤカメラ１２の垂直
方向をｙ軸とする座標系である。ＣＣＤカメラ１２の画
像面Ｓは、原点から焦点距離ｆの位置に存在する。つま
り、画像面Ｓは、ｘ−ｙ平面に平行でかつｚ＝ｆである
平面である。

【００３７】測定ヘッド１０による位置計測方法自体
は、光切断法と呼ばれる公知の測定方法である。被測定
物１００の表面上におけるスリット光源１３からのスリ
ット光が照射されている線上の所定の点を測定点Ａとす
る。

【００３８】この測定点Ａの測定ヘッド中心の座標を
（ｘ，ｙ，ｚ）とし、画像面Ｓ上での測定点Ａに対応す
る観察点Ａ´の座標を（ｘｓ，ｙｓ，ｆ）とし、スリッ
ト光を表す平面の方程式をａｘ＋ｂｙ＋ｃｚ＋ｄ＝０と
する。観察点Ａ´の座標（ｘｓ，ｙｓ，ｆ）におけるｆ
は、ＣＣＤカメラ１２の焦点距離として既知であり、
（ｘｓ，ｙｓ）は画像面で観察されるスリット光の画素
位置から求められる。

【００３９】スリット光を表す平面の方程式は測定ヘッ
ド１０の校正によって求められている。したがって、
ｘ，ｙ，ｚ，αを未知数とする次の数式２で表される連
立方程式を解くことにより、（ｘ，ｙ，ｚ）が求められ
る。

【００４０】

【数２】

【００４１】この処理は、ＣＣＤカメラ１２の出力に基
づいて、制御装置３０によって行われる。 〔３〕第２ステップについての説明 第２のステップでは、ＣＣＤカメラ２１の撮像画像に基
づいて、測定ヘッド１０に設けられたＬＥＤ光源１４ａ
〜１４ｆのワールド座標系における座標を測定した後、
それらの座標を用いて、測定ヘッド１０の移動を表す回
転行列Ｒと並進ベクトルｔとが求められる。

【００４２】以下の説明において、ワールド座標系と
は、図２に示す測定台２０１の上面２０２の頂点Ｏを原
点とし、辺ＯＰ方向をＸ軸、辺ＯＱ方向をＺ軸、上面２
０２の垂直方向をＹ軸とする座標系とする。すなわち、
測定台２０１の上面２０２が、Ｙ＝０で表されるＺ−Ｘ
平面となるように定められている。

【００４３】まず、ＣＣＤカメラ２１の撮像画像は、バ
ンドパスフィルタ２３にてＬＥＤ光源１４ａ〜１４ｆの
像が強調されているため、２値化処理を行ってＬＥＤ光
源１４ａ〜１４ｆに対応する６個の像を抽出する。この
２値化処理は、制御装置３０によって行われる。

【００４４】次に、抽出された６個の像について、予め
求めておいたＣＣＤカメラ２１の撮像画像上における画
素位置とワールド座標系におけるＺ−Ｘ平面上の座標と
の対応関係に基づいて、各像のワールド座標系における
座標を特定する。ここで、１台のＣＣＤカメラ２１の撮
像画像上における画素位置とワールド座標系における座
標とが１対１に対応付けられるのは、各像がＹ＝０の平
面上にあるためである。これら像のワールド座標系にお
ける座標の特定は、制御装置３０によって行われる。

【００４５】次に、ワールド座標系における座標が特定
された６個の像について、各像とＬＥＤ光源１４ａ〜１
４ｆとの対応付けが行われる。具体的には、座標が特定
された６点の像について重心を算出し、その重心に最も
近い像をＬＥＤ光源１４ａの像として識別するととも
に、そのＬＥＤ光源１４ａの像に最も近い像をＬＥＤ光
源１４ｂの像として識別する。そして、残りの４個の像
については、ＬＥＤ光源１４ｂの像を基準に、それぞれ
時計回りにＬＥＤ光源１４ｃ、１４ｄ、１４ｅ、１４ｆ
の像として識別される。これら像とＬＥＤ光源１４ａ〜
１４ｆとの対応付けは制御装置３０によって行われる。

【００４６】そして、測定ヘッド１０の移動を表す回転
行列Ｒと並進ベクトルｔとが求められる。つまり、予め
分かっている各ＬＥＤ光源１４ａ〜１４ｆの測定ヘッド
中心の座標を（ｘｉ，ｙｉ，ｚｉ）とする。但し、ｉ
は、１、２…６である。また、ＣＣＤカメラ２１にて測
定された各ＬＥＤ光源１４ａ〜１４ｆのワールド座標系
における座標を（Ｘｉ，０，Ｚｉ）とする。測定ヘッド
１０の移動を表す回転行列Ｒと並進ベクトルｔは、次の
数式３を満足する行列Ｒとベクトルｔとして求められ
る。この回転行列Ｒと並進ベクトルｔの演算は、制御装
置３０によって行われる。

【００４７】

【数３】

【００４８】〔４〕第３ステップについての説明 第２ステップで求められた回転行列Ｒと並進ベクトルｔ
と、前記数１とを用いて、測定ヘッド１０によって測定
された測定点の測定ヘッド中心の座標（ｘ，ｙ，ｚ）
が、ワールド座標（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に変換されることによ
り、測定点のワールド座標系における座標が求められ
る。これら座標変換は、制御装置３０によって行われ
る。

【００４９】このように、本実施の形態によれば、１台
の撮像カメラ２１と、測定ヘッド１０と、制御装置３０
とからなる簡単な構成で形状測定装置を構成することが
可能となる。更に、１台の撮像カメラ２１の撮像画像に
基づいてマーカ１４を構成する各ＬＥＤ光源１４ａ〜１
４ｆの３次元位置を特定することができるため、２台の
カメラを用いたステレオ測定方法による場合と比較し
て、測定範囲を広くすることが可能となる。

【００５０】また、本実施の形態においては、ＣＣＤカ
メラ２１を測定台２０１の内部に配置したため、測定台
２０１上において、ＣＣＤカメラ２１を配置するスペー
スが不用となり、小型化を図ることが可能となる。更
に、足等の高さのある被測定物を測定する場合には、Ｃ
ＣＤカメラ２１と測定ヘッド１０との間に被測定物が入
って測定不能となる位置がないため、信頼性の高い測定
を行うことが可能となる。さらに、足底の外周形状をＣ
ＣＤカメラ２１により撮影された画像から計測すること
も可能となる。

【００５１】また、本実施の形態においては、マーカ１
４をＬＥＤ光源１４ａ〜１４ｆで構成するとともに、Ｃ
ＣＤカメラ２１の撮像レンズにＬＥＤ光源１４ａ〜１４
ｆの光の周波数帯域を選択的に透過するバンドパスフィ
ルタ２３を設けたため、ＣＣＤカメラ２１の撮像画像で
はＬＥＤ光源１４ａ〜１４ｆの像が強調されて、精度よ
くＬＥＤ光源１４ａ〜１４ｆの像を抽出することが可能
となる。

【００５２】なお、本実施の形態においては、測定ヘッ
ド１０の動きを測定台２０１の上面２０２に制限した
が、３次元的に移動させてもよい。この場合、図７に示
すように、測定ヘッド撮像手段として、ＣＣＤカメラ２
１、２２を測定台２０１の内部に配置して、測定ヘッド
１０に取り付けられたマーカ１４の位置を測定すること
になる。これにより、測定台２０１上において、ＣＣＤ
カメラ２１、２２を配置するスペースが不用となり、小
型化を図ることが可能となる。更に、足等の高さのある
被測定物を測定する場合には、ＣＣＤカメラ２１、２２
と測定ヘッド１０との間に被測定物が入って測定不能と
なる位置がないため、信頼性の高い測定を行うことが可
能となる。

【００５３】また、測定ヘッド１０としては、能動的な
ステレオ計測方法によって被測定物上の測定点の位置を
測定するものであれば、上述した実施の形態と異なるも
のであってもよい。例えば、スリット光源１３の代わり
にスポット光源を用いてもよい。

【００５４】また、マーカ１４としては、ＬＥＤ光源１
４ａ〜１４ｆに限定されることなく、ステレオカメラに
て抽出可能なものであればよい。例えば、ＬＥＤ光源１
４ａ〜１４ｆの代わりに反射率の高いシールを用いても
よい。

【００５５】また、マーカ１４の個数は、２個以上であ
ればよい。但し、マーカ１４の個数を２個とした場合に
は、測定ヘッド１０の方向を特定するため、互いに色も
しくは形状などを変えて、識別できるように構成する必
要がある。

【００５６】また、測定台２０１の上面２０２上に、更
に足の裏など被測定物と測定台２０１との接触面の形状
を測定するための感圧パネルをを配置してもよい。この
場合、感圧パネルの圧力が作用している部分が接触面の
形状となり、測定ヘッド１０による測定結果と併せるこ
とにより、より正確に被測定物の形状を測定することが
可能となる。更に、感圧パネルの圧力分布に基づいて、
被測定物の接触面における凹凸形状を求めるようにした
場合には、より詳細な形状測定を行うことが可能とな
る。

【００５７】

【発明の効果】本発明によれば、予めワールド座標系に
おける位置関係が特定されている基準面上に沿って測定
ヘッドを移動させているため、１台の測定ヘッド撮像手
段の撮像画像から測定ヘッドのワールド座標系における
位置に関する情報を求めることができ、簡単且つ小型の
形状測定装置を提供することが可能となるだけでなく、
２台の撮像装置を用いたステレオ測定方法による場合と
比較して、測定範囲を広くすることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施の形態における形状測定装置
の構成を表す模式図である。

【図２】 形状測定装置の測定台内部から見た測定台上
面の様子を説明する説明図である。

【図３】 測定ヘッドの構成を示す正面図である。

【図４】 測定ヘッドの構成を示す平面図である。

【図５】 測定原理を説明する説明図である。

【図６】 測定ヘッドによる測定点の位置測定方法を説
明する説明図である。

【図７】 本発明の他の実施の形態における形状測定装
置の構成を表す模式図である。

【符号の説明】

１０ ：測定ヘッド １２ ：ＣＣＤカメラ １３ ：スリット光源 １４ ：マーカ ２１ ：ＣＣＤカメラ

フロントページの続き (72)発明者 吉田 博明 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三 洋電機株式会社内 Ｆターム(参考） 2F065 AA04 AA17 AA19 AA53 BB05 BB29 CC16 DD02 FF01 FF02 FF04 FF09 FF24 FF63 GG06 GG07 GG13 HH05 HH12 HH14 JJ03 JJ05 JJ07 JJ26 LL04 LL22 LL28 PP01 PP04 PP11 QQ00 QQ04 QQ28 4C038 VA02 VA04 VB14 VC03 VC05

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 予めワールド座標系における位置関係が
   特定されている基準面上を自由に移動せしめられる測定
   ヘッドと、該測定ヘッドを用いて測定ヘッド中心の座標
   系における被測定物上の測定点の座標を求める測定点座
   標算出手段と、所定の位置から前記測定ヘッドを撮像す
   る測定ヘッド撮像手段と、該測定ヘッド撮像手段による
   像及び前記基準面の位置関係を用いてワールド座標系で
   の測定ヘッドの位置に関する情報を求める測定ヘッド位
   置算出手段と、該測定ヘッド位置算出手段によって求め
   られた前記測定ヘッドの位置に関する情報に基づいて、
   前記測定点座標算出手段によって求められた測定ヘッド
   中心の座標系における前記被測定物上の測定点の座標
   を、ワールド座標系の座標に変換する座標変換手段とを
   備えていることを特徴とする形状測定装置。
2. 【請求項２】 前記基準面を上面とする測定台を備え、
   該測定台の内部に前記測定ヘッド撮像手段を配置するこ
   とを特徴とする請求項１記載の形状測定装置。
3. 【請求項３】 自由に移動せしめられる測定ヘッドと、
   該測定ヘッドを用いて測定ヘッド中心の座標系における
   被測定物上の測定点の座標を求める測定点座標算出手段
   と、前記被測定物が積置される測定台の内部から前記測
   定ヘッドを撮像する測定ヘッド撮像手段と、該測定ヘッ
   ド撮像手段を用いてワールド座標系での測定ヘッドの位
   置に関する情報を求める測定ヘッド位置算出手段と、該
   測定ヘッド位置算出手段によって求められた前記測定ヘ
   ッドの位置に関する情報に基づいて、前記測定点座標算
   出手段によって求められた測定ヘッド中心の座標系にお
   ける前記被測定物上の測定点の座標をワールド座標系の
   座標に変換する座標変換手段とを備えていることを特徴
   とする形状測定装置。
4. 【請求項４】 前記測定ヘッド撮像手段が、２台の撮像
   装置から構成されていることを特徴とする請求項３記載
   の形状測定装置。
5. 【請求項５】 前記測定ヘッドが複数の発光体からなる
   マーカを備え、前記測定台の上面または前記測定ヘッド
   撮像手段が前記発光体から放射される光の周波数帯域を
   選択的に透過するバンドパスフィルタを備えていること
   を特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の形状
   測定装置。
6. 【請求項６】 前記被測定物は、被測定者の足であるこ
   とを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の形
   状測定装置。
7. 【請求項７】 前記測定台の上面が、被測定者の足の裏
   にかかる圧力を検出する感圧パネルを備えていることを
   特徴とする請求項６記載の形状測定装置。