JP2000323811A - Method and unit for cutting substrate - Google Patents

Method and unit for cutting substrate

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JP2000323811A
JP2000323811A JP13167999A JP13167999A JP2000323811A JP 2000323811 A JP2000323811 A JP 2000323811A JP 13167999 A JP13167999 A JP 13167999A JP 13167999 A JP13167999 A JP 13167999A JP 2000323811 A JP2000323811 A JP 2000323811A
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浩幸 水越
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate cutting unit which enables to cut each substrate, on which specified patterns are formed, with high accuracy without decreasing the manufacturing efficiency. SOLUTION: This cutting unit cuts a substrate 34, on which two or more patterns P is formed in rows and columns, along the scanning path for each row and each column, which is determined on the basis of specified cutting dimensions, so that two or more cut pieces respectively containing one pattern P. This unit is equipped with a cutting means 35 which cuts the substrate 34, a recognition means 18 which recognizes the image of the substrate 34 containing patterns P before cutting, an image processing means 19 which processes the recognized image, and a data processing means 20 which finds the position of the external form on the basis of the image processed by the image processing means 19, and determines scanning path position for each row and each column, so that the outer forms of patterns P are positioned to allow almost uniform spaces within the cutting dimensions, on the basis of the distance between the outer form and the tracing path for each row and each column.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、焼成セラミック基
板、ウェハー基板、パッケージ基板などの各種の基板の
切断に用いて好適な、基板の切断方法及び装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cutting method and apparatus suitable for cutting various substrates such as a fired ceramic substrate, a wafer substrate, and a package substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体集積回路素子等の部品を搭
載するムライトやアルミナ等からなる焼成セラミック基
板を切断する場合には、まず、予め板面に複数のパター
ンを行列状に形成した焼成セラミック基板を接着用ワッ
クス等の接着剤でガラス板上に接着固定し、それを吸着
テーブル上に真空吸着固定する。次に、切断ブレードを
高速回転させ、この切断ブレードに対し前記吸着テーブ
ルを水平面内における直交するX、Yの2方向への相対
移動及び当該吸着テーブルの中心軸まわりの回転移動を
行うことにより、前記各パターンを含む所望の複数の切
断片に切断している。
2. Description of the Related Art Conventionally, when cutting a fired ceramic substrate made of mullite, alumina, or the like on which components such as semiconductor integrated circuit elements are mounted, first, a fired ceramic substrate in which a plurality of patterns are formed in a matrix on a plate surface in advance. The substrate is bonded and fixed on a glass plate with an adhesive such as a wax for bonding, and is fixed by vacuum suction on a suction table. Next, the cutting blade is rotated at a high speed, and the suction table is moved relative to the cutting blade in two directions of X and Y orthogonal to each other in a horizontal plane, and is rotated around the central axis of the suction table. It is cut into a desired plurality of cut pieces including each of the patterns.

【0003】斯かる焼成セラミック基板の切断に関する
従来技術としては、特開平05−162112号公報に
記載のものが知られている。
[0003] As a conventional technique relating to such cutting of a fired ceramic substrate, a technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 05-162112 is known.

【0004】この従来技術では、オペレータが、マニュ
アル操作によって、吸着テーブル上の焼成セラミック基
板板面における複数のパターンのうち、同一行又は列の
任意の2点をカメラで認識した後、当該カメラの撮影映
像をモニター上で目視し、その2点視野内でのパターン
と切断ブレードの走査軌跡との位置決めをモニタ上で行
い、この位置決めした走査軌跡に従って切断ブレードが
移動できるように、吸着テーブルを回転・移動させるこ
とによって、切断を行っている。
In this prior art, an operator manually recognizes two arbitrary points in the same row or column among a plurality of patterns on the surface of a fired ceramic substrate plate on a suction table, and then operates the camera. The captured image is visually observed on the monitor, the pattern in the two-point visual field and the scanning locus of the cutting blade are positioned on the monitor, and the suction table is rotated so that the cutting blade can move according to the positioned scanning locus. -Cutting is performed by moving.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来技
術には、以下のような問題があった。
The above prior art has the following problems.

【0006】すなわち、焼成セラミック基板は、焼結の
際に基板が収縮し、特に拘束の少ない基板の最外周にお
いてはその収縮の程度も大きくなる。従って、基板表面
上に予めパターンを形成した場合には、焼結後において
パターン自体も湾曲する場合が多々発生する。このた
め、2点視野での位置決めを行った場合、オペレータの
スキルの差に伴う認識位置の違い等により、走査軌跡と
パターンとにずれを生じることになり、所定の切断寸法
精度では切断できるものの、パターンが切断されたり、
パターンが切断後の切断片内において偏ってしまう精度
不良が生じるという問題があった。
That is, the fired ceramic substrate shrinks during sintering, and the degree of shrinkage increases particularly at the outermost periphery of the substrate, which is less constrained. Therefore, when a pattern is formed in advance on the substrate surface, the pattern itself often curves after sintering. For this reason, when the positioning is performed in the two-point visual field, a deviation occurs between the scanning locus and the pattern due to a difference in the recognition position due to a difference in the skill of the operator. , The pattern is cut,
There has been a problem that the pattern is unbalanced in the cut piece after cutting, resulting in poor accuracy.

【0007】斯かる問題の対応策として、オペレータが
マニュアル操作によって、モニター内で認識されるパタ
ーン上において、走査軌跡を繰り返しスキャンさせて当
該パターンの位置を確認し、切断を行うことも考えられ
るが、製造効率(スループット)を著しく低下させてし
まう問題がある。
As a countermeasure against such a problem, it is conceivable that an operator manually scans a scanning locus repeatedly on a pattern recognized in the monitor to confirm the position of the pattern and cut the pattern by a manual operation. In addition, there is a problem that manufacturing efficiency (throughput) is significantly reduced.

【0008】従って、本発明の目的は、所定のパターン
を板面に形成した基板を、製造効率を低下させずにかつ
高精度に切断することが可能な、基板の切断方法及び装
置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a substrate cutting method and apparatus capable of cutting a substrate having a predetermined pattern formed on a plate surface with high precision without lowering manufacturing efficiency. It is in.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、板面に複数のパターンを行列状に形成し
てなる基板を、所定の切断寸法を間隔とする該各行及び
該各列毎の走査軌跡に従って切断手段で切断し、前記各
パターンを含んだ複数の切断片とする基板の切断方法で
あって、切断前における前記各パターンを含む基板の画
像を所定の認識位置において認識手段で認識し、認識し
た該画像に基づいて各パターンの外形位置を演算処理手
段で求め、該外形位置と前記各行及び前記各列毎の前記
走査軌跡との距離に基づいて、前記切断寸法内において
前記各パターンの前記外形位置が略均等に位置するよう
に前記各行及び前記各列毎に前記走査軌跡の位置を決定
することを第1の特徴としている。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method of manufacturing a substrate having a plurality of patterns formed in a matrix on a plate surface, by forming each of the rows and the respective rows having a predetermined cutting dimension as an interval. A method of cutting a substrate into a plurality of cut pieces including the respective patterns by a cutting unit in accordance with a scanning trajectory for each row, wherein an image of the substrate including the respective patterns before cutting is recognized at a predetermined recognition position. Means, the outer shape position of each pattern is obtained by an arithmetic processing means based on the recognized image, and based on the distance between the outer shape position and the scanning trajectory for each row and each column, the outermost position within the cutting dimension is determined. The first feature is that the position of the scanning trajectory is determined for each of the rows and columns so that the external positions of the patterns are located substantially equally.

【0010】また、本発明は、前記第1の特徴を有する
基板の切断方法において、前記行及び前記列に沿った複
数の前記外形位置に基づいた前記各行及び前記各列毎の
一対の近似直線、並びに該一対の近似直線の傾きに基づ
いた前記走査軌跡の傾きを、前記演算処理手段で求め、
さらに、前記行又は列毎における前記距離の差の二乗和
が最小となるように、前記走査軌跡の位置を決定するこ
とを第2の特徴としている。
The present invention also relates to a method of cutting a substrate having the first feature, wherein a pair of approximate straight lines for each row and each column based on a plurality of the external positions along the row and the column. , And the inclination of the scanning trajectory based on the inclination of the pair of approximate straight lines is obtained by the arithmetic processing means,
Further, a second feature is that the position of the scanning trajectory is determined so that the sum of squares of the distance difference for each row or column is minimized.

【0011】また、本発明は、板面に複数のパターンを
行列状に形成してなる基板を、所定の切断寸法を間隔と
する該各行及び該各列毎の走査軌跡に従って切断し、前
記各パターンを含んだ複数の切断片とする基板の切断装
置であって、前記基板を切断する切断手段と、切断前に
おける前記各パターンを含む前記基板の画像を認識する
認識手段と、認識した該画像の画像処理を行う画像処理
手段と、該画像処理手段で処理した処理画像に基づいて
外形位置を求めさらに該外形位置と前記各行及び各列毎
の走査軌跡との距離に基づいて前記切断寸法内において
前記各パターンの前記外形位置が略均等に位置するよう
に前記各行及び前記各列毎に前記走査軌跡の位置を決定
する演算処理手段とを備えていることを特徴としてい
る。
Further, according to the present invention, a substrate formed by forming a plurality of patterns in a matrix on a plate surface is cut in accordance with a scanning locus of each row and each column having a predetermined cutting dimension as an interval. A cutting device for cutting a substrate into a plurality of cutting pieces including a pattern, a cutting unit for cutting the substrate, a recognition unit for recognizing an image of the substrate including each pattern before cutting, and the recognized image Image processing means for performing image processing of; and obtaining an outer shape position based on the processed image processed by the image processing means; further, determining the outer shape position based on a distance between the outer shape position and the scanning trajectory for each row and each column. And a calculation processing means for determining the position of the scanning trajectory for each of the rows and columns so that the outer shape positions of the respective patterns are located substantially evenly.

【0012】本発明において、パターンの外形位置と
は、各パターンを含む基板の板面のイメージ座標上にお
けるパターンの外形位置(座標)で演算処理上使用する
ものをいい、走査軌跡とは、このパターンの外形位置に
基づいて定める傾きを有するイメージ座標上の直線をい
う。
In the present invention, the outer shape position of a pattern refers to an outer shape position (coordinate) of a pattern on an image coordinate of a plate surface of a substrate including each pattern, which is used in arithmetic processing. It refers to a straight line on the image coordinates having an inclination determined based on the external position of the pattern.

【0013】本発明において切断対象となる基板は、半
導体集積回路素子等の部品を搭載するムライトやアルミ
ナ等絶縁性セラミックスの焼成セラミック基板(プリン
ト基板)、IC、LSI等に使用されるシリコン、ガリ
ウム砒素等の各種半導体のウェハー基板、磁性基板、圧
電基板、そのほか各種パッケージ(実装)基板を含むも
のであり、また、基板の板面に形成されたパターンは、
回路パターン、切断案内線を含むものである。
In the present invention, the substrate to be cut is a baked ceramic substrate (printed substrate) made of an insulating ceramic such as mullite or alumina on which components such as semiconductor integrated circuit elements are mounted, silicon, gallium used for IC, LSI and the like. Includes wafer substrates of various semiconductors such as arsenic, magnetic substrates, piezoelectric substrates, as well as various package (mounting) substrates, and the pattern formed on the board surface of the substrate is
It includes a circuit pattern and a cutting guide line.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を添付
図面に基づいて説明する。なお、本発明は本実施形態に
限定されるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. Note that the present invention is not limited to this embodiment.

【0015】図1及び図2は、本発明に係る基板の切断
装置の一実施形態を示したものである。同図において、
符号Sは基板の切断装置(以下、単に切断装置ともい
う)を示している。
FIGS. 1 and 2 show an embodiment of a substrate cutting apparatus according to the present invention. In the figure,
Reference symbol S indicates a substrate cutting device (hereinafter, also simply referred to as a cutting device).

【0016】切断装置Sは、例えば、図3に示したよう
な、板面に複数のパターンP(P11,,,P33)を3×
3の行列(X(X1,X2,X3)行、Y(Y1,Y2
3)列)状に形成してなる焼成セラミック基板31
を、インデックス(切断寸法:Iw×ID)を間隔とする
各Y行及び各X列毎の走査軌跡に従って切断し、各パタ
ーンを含んだ複数の切断片とする装置である。
The cutting device S, for example, as shown in FIG. 3, 3 × plurality of patterns P a (P 11 ,,, P 33) to the plate surface
Matrix (X (X 1 , X 2 , X 3 ) rows, Y (Y 1 , Y 2 ,
Y 3 ) Fired ceramic substrate 31 formed in a row) shape
Is cut in accordance with a scanning trajectory of each Y row and each X column at intervals of an index (cut size: I w × I D ) to form a plurality of cut pieces including each pattern.

【0017】図1に示したように、切断装置Sは、切断
装置本体1と、切断装置本体1を制御する制御系統を含
む制御装置2とから構成されている。
As shown in FIG. 1, the cutting device S comprises a cutting device main body 1 and a control device 2 including a control system for controlling the cutting device main body 1.

【0018】切断装置本体1は、図2に示したように、
焼成されたセラミック基板31が接着されるガラス板3
3(図4参照)を真空吸着固定する吸着テーブル34
と、セラミック基板31を切断する切断ブレード35
と、切断ブレード35を回転・駆動させる切断用モータ
24と、切断ブレード35を吸着テーブル34上のセラ
ミック基板31に対して、相対的にX、Y、Z方向に移
動及びθ方向に回転させるX、Y、Z、θ方向相対移動
機構4、10、15、9と、これらを設置するベース3
とから構成されている。
As shown in FIG. 2, the cutting device main body 1
Glass plate 3 to which fired ceramic substrate 31 is bonded
Suction table 34 for vacuum-suction fixing 3 (see FIG. 4)
And a cutting blade 35 for cutting the ceramic substrate 31
A cutting motor 24 for rotating and driving the cutting blade 35; and an X for moving the cutting blade 35 in the X, Y, and Z directions and rotating in the θ direction relative to the ceramic substrate 31 on the suction table 34. , Y, Z, and θ-direction relative movement mechanisms 4, 10, 15, and 9, and a base 3 on which these mechanisms are installed
It is composed of

【0019】上記X方向相対移動機構4は、X方向に平
行にベース3に固定されたリニアガイド5と、リニアガ
イド5上を移動するX方向移動ベース6と、これをリニ
アガイド5上に沿って移動させるX方向移動用サーボモ
ータ7と、このサーボモータ7によって軸周りに回転し
てベース6をX方向に移動させる送りねじ8とを備えて
いる。
The X-direction relative movement mechanism 4 includes a linear guide 5 fixed to the base 3 in parallel with the X-direction, an X-direction movement base 6 moving on the linear guide 5, and a X-direction movement base 6 along the linear guide 5. And a feed screw 8 for rotating the base 6 in the X direction by rotating around the axis by the servo motor 7.

【0020】θ方向相対移動機構9は、X方向移動ベー
ス6上に設置されており、また、θ方向回転用モータ
(図示せず)を備えている。そして、このモータの回転
軸に吸着テーブル34が設置されており、このモータに
より吸着テーブル34がθ方向に回転できるように構成
されている。
The θ-direction relative movement mechanism 9 is installed on the X-direction movement base 6 and has a θ-direction rotation motor (not shown). The suction table 34 is provided on the rotation shaft of the motor, and the suction table 34 can be rotated in the θ direction by the motor.

【0021】Y方向相対移動機構10は、Y方向に平行
に設置されたリニアガイド11と、このリニアガイド1
1上を移動するY方向移動用ベース12と、これをリニ
アガイド11に沿って移動させるY方向移動用ステッピ
ングモータ13と、このステッピングモータ13によっ
て軸周りに回転してY方向移動用ベース12をY方向に
移動させる送りねじ(図示せず)とを備えている。
The Y-direction relative movement mechanism 10 includes a linear guide 11 installed in parallel with the Y-direction,
1, a Y-direction moving base 12 that moves on the upper side, a Y-direction moving stepping motor 13 that moves the Y-direction moving base 12 along the linear guide 11, and a Y-direction moving base 12 that is rotated around the axis by the stepping motor 13. A feed screw (not shown) for moving in the Y direction.

【0022】また、Y軸相対移動機構10の先端部に
は、基板上に形成された各パターンの外形位置を、X方
向及びY方向の所定の認識位置において認識するCCD
カメラユニット(認識手段)18が搭載されている。
A CCD for recognizing the external position of each pattern formed on the substrate at predetermined recognition positions in the X and Y directions is provided at the tip of the Y-axis relative movement mechanism 10.
A camera unit (recognition means) 18 is mounted.

【0023】Z方向相対移動機構15は、切断ブレード
35及び切断用モータ24を備えた切断機構部分を揺動
可能に支持するZ軸支持機構16と、切断機構部分をZ
方向に平行に移動させるZ方向移動用ステッピングモー
タ17とを備えており、z軸支持機構16は、上記Y方
向移動用ベース12上に設置されている。
The Z-direction relative movement mechanism 15 includes a Z-axis support mechanism 16 for swingably supporting a cutting mechanism provided with a cutting blade 35 and a cutting motor 24, and a Z-mechanism.
And a stepping motor 17 for Z-direction movement for moving in parallel to the direction. The z-axis support mechanism 16 is installed on the base 12 for Y-direction movement.

【0024】制御装置2は、図1に示したように、CC
Dカメラユニット18で撮影した画像を処理する画像処
理回路(画像処理手段)19と、各種の演算処理を行う
CPU(演算処理手段)20と、CPU20の指示に従
って上記各モータの駆動を制御する駆動回路21と、キ
ーボード22とを備えている。
The control device 2, as shown in FIG.
An image processing circuit (image processing means) 19 for processing images taken by the D camera unit 18, a CPU (arithmetic processing means) 20 for performing various types of arithmetic processing, and a drive for controlling the driving of each of the motors according to instructions from the CPU 20. A circuit 21 and a keyboard 22 are provided.

【0025】次に、上記切断装置Sを使用して、図3の
セラミック基板31を、各パターンP11,,,P33を含
む切断片に切断する手順について図5のフローチャート
に基づいて説明する。
Next, a procedure for cutting the ceramic substrate 31 shown in FIG. 3 into cut pieces including the respective patterns P 11, ..., P 33 using the cutting apparatus S will be described with reference to a flowchart shown in FIG. .

【0026】まず、オペレータは、電源を投入し、切断
装置Sの初期設定を行う(図5Step1参照)。
First, the operator turns on the power and performs initial setting of the cutting device S (see Step 1 in FIG. 5).

【0027】次に、キーボード22から、切断する基板
に応じたインデックスを入力する(図5Step2参
照)。この時、切断ブレード35の厚み等を補正してお
く。また、パターンの寸法、間隔及び個数、ワークの切
り込み深さ並びに切断ブレード35のZ方向への逃げ
量、後述する走査軌跡の位置決めの走査間隔等を入力す
る。さらに、CCDカメラユニット18によるパターン
の外形位置の認識位置CA、CB、CC、CD、CE、C
F(図6参照)ついても、あらかじめワークを用いてテ
ィーチング操作求めた、X列、Y行の各行列における認
識位置の値を入力する。
Next, an index corresponding to the board to be cut is input from the keyboard 22 (see Step 2 in FIG. 5). At this time, the thickness of the cutting blade 35 is corrected. In addition, the dimensions, interval and number of patterns, the depth of cut of the work, the amount of relief of the cutting blade 35 in the Z direction, and the scanning interval for positioning a scanning locus to be described later are input. Further, the recognition positions C A , C B , C C , C D , C E , C of the outer position of the pattern by the CCD camera unit 18 are recognized.
As for F (see FIG. 6), the value of the recognition position in each matrix of X columns and Y rows, which has been previously obtained by the teaching operation using the workpiece, is input.

【0028】なお、本実施形態では、後述するように、
パターンの外形位置と走査軌跡との距離に所定の閾値を
設定しておき、パターンの外形位置と走査軌跡との距離
がこの閾値に満たない場合には、切断を実行せずにモニ
ター23上でその旨の表示を行ってオペレータに視認さ
せるような演算処理機能が付加されているが、この閾値
も入力する。
In this embodiment, as described later,
A predetermined threshold value is set for the distance between the outer shape position of the pattern and the scanning trajectory, and if the distance between the outer shape position of the pattern and the scanning trajectory is less than this threshold value, the cutting is not performed and the monitor 23 is not executed. An arithmetic processing function for displaying a message to that effect and visually recognizing it by an operator is added, and this threshold value is also input.

【0029】次に、オペレータは、図4に示したよう
に、焼成されたセラミック基板31を、ワックス32を
用いてガラス板33上に接着させ、さらにこれを、X方
向、Y方向とX行、Y行とを略合わせて吸着テーブル3
4上に載置した後、当該テーブル34上において真空吸
着して固定する。
Next, as shown in FIG. 4, the operator adheres the fired ceramic substrate 31 to the glass plate 33 using the wax 32, and further attaches the fired ceramic substrate 31 to the X direction, the Y direction and the X line. , Y row and the suction table 3
After being placed on the table 4, it is fixed on the table 34 by vacuum suction.

【0030】次に、上記Step2で入力されたセラミ
ック基板31に適応したプログラムを実行し、自動でパ
ターンの外形位置を求める(図5Step3参照)。
Next, a program adapted to the ceramic substrate 31 input in the above Step 2 is executed, and the outer shape position of the pattern is automatically obtained (see Step 3 in FIG. 5).

【0031】まず、上記S2で入力されたデータに基づ
いて、セラミック基板31のパターンの外形位置を各認
識位置において順次求める。本実施形態においては、求
めるパターンの外形位置は36点となる。この求める外
形位置の数については、パターンの数と異形の度合いに
応じて適宜設定する。
First, based on the data input in S2, the outer shape position of the pattern on the ceramic substrate 31 is sequentially obtained at each recognition position. In the present embodiment, the outer positions of the pattern to be obtained are 36 points. The number of outer shape positions to be obtained is appropriately set according to the number of patterns and the degree of irregular shape.

【0032】各認識位置において認識する各パターンの
外形位置は、具体的には、図6に示したように、CCD
カメラユニット18で撮影したスポット画像を上記画像
処理回路19で二値化処理し、その二値化処理した画像
の各方向(本実施形態ではX、Y方向)の認識位置座標
と、各パターンの外形の二値化部分との交点を演算処理
で求める。
The outline position of each pattern recognized at each recognition position is, specifically, as shown in FIG.
The spot image photographed by the camera unit 18 is binarized by the image processing circuit 19, and the recognition position coordinates of each direction (X, Y direction in the present embodiment) of the binarized image and the pattern The intersection of the outer shape with the binarized portion is obtained by arithmetic processing.

【0033】例えば、外形位置Aについては、認識位置
A(X1,YA)におけるパターンの外形と当該認識位
置CAのX座標とからA(X1,Y1)として求める(図
5step4)。
For example, the outer shape position A is obtained as A (X 1 , Y 1 ) from the outer shape of the pattern at the recognition position C A (X 1 , Y A ) and the X coordinate of the recognition position C A (step 4 in FIG. 5). ).

【0034】次に、実際に切断ブレード35でセラミッ
ク基板31を切断する走査軌跡を決定するための手順に
ついて説明する。なお、便宜上、以下の説明では、図3
におけるY1行に並んだ3つのパターン(P11,P21
31)についてのみ説明するが、実際の演算処理は、基
板31上の他のY2、Y3行及びX列に並んだパターンに
ついても行う。
Next, a procedure for determining a scanning locus for actually cutting the ceramic substrate 31 by the cutting blade 35 will be described. For convenience, in the following description, FIG.
Three patterns aligned in Y 1 line in the (P 11, P 21,
Although only P 31 ) will be described, the actual arithmetic processing is also performed on other patterns arranged on the Y 2 , Y 3 row and X column on the substrate 31.

【0035】まず、図6に示したように、CPU20
は、上記のように求めた外形位置A(X1,Y1)、B
(X2,Y2)、C(X3,Y3)、D(X1,Y1’)、E
(X2,Y2’)、F(X3,Y3’)から、Y行に沿った
A,B,C及びD,E,Fの各3つの外形位置に基づい
て、Y1行の一対の近似直線L1及びL2(傾きθ1及びθ
2)を求める。そして、(θ1+θ2)の1/2を走査軌
跡Lの傾きθとする。
First, as shown in FIG.
Are the external positions A (X 1 , Y 1 ) and B obtained as described above.
(X 2 , Y 2 ), C (X 3 , Y 3 ), D (X 1 , Y 1 ′), E
From (X 2 , Y 2 ′) and F (X 3 , Y 3 ′), a pair of Y 1 rows is determined based on the three external positions of A, B, C and D, E, F along the Y rows. Approximate lines L 1 and L 2 (slope θ 1 and θ
2 ) Ask for. Then, の of (θ 1 + θ 2 ) is defined as the inclination θ of the scanning locus L.

【0036】次に、CPU20は、パターンのインデッ
クス内における均一化を図るため、前述のように決定し
た傾きθの走査軌跡Lを、Y1行に並ぶ3つのパターン
を挟んでインデックスID内において外形位置A、B、
C、D、E、Fが略均等に位置するように演算処理を行
う。
[0036] Next, CPU 20, in order to make uniform in the index pattern, the scanning locus L of inclination θ which is determined as described above, in the index I D across the three patterns arranged in Y 1 line Outer positions A, B,
The arithmetic processing is performed so that C, D, E, and F are located substantially equally.

【0037】すなわち、下記式に示すように、各パター
ンにおけるX列の対応する各距離(Mxn、mxn)の差の
二乗和又はこの二乗和の正の平方根が最小となるよう
に、所定の走査間隔ごとに走査軌跡Lを走査させたとき
の各位置ごとに演算処理を行い、走査軌跡の位置決めを
行う。 (MX1−mX12+(MX2−mX22+(MX3−mX32 この走査軌跡の位置決めの演算を行った後に、エラー処
理として、CUP20は、異形が非常に大きく、位置決
めした上下の走査軌跡Lと各外形位置との距離が一つで
も所定の閾値未満(本実施形態では、閾値は、0.02
mm)のとき、又は、外形位置が一つでも切断寸法の外
に位置しているときには、モニター23上への警告表示
若しくは警告音などでオペレータに確認を促し、再度設
定をやり直して自動で位置決めを実行するか、又はオペ
レータのマニュアル操作で走査軌跡の位置決めを行うか
の判断を、オペレータに求める(図5Step5)。こ
のエラー処理は、切断寸法に対して異形の影響が無視で
きる場合には、省略することもできる。
That is, as shown in the following equation, a predetermined value is set such that the sum of squares of the difference between the corresponding distances (M xn , m xn ) of the X column in each pattern or the positive square root of this sum of squares is minimized. The arithmetic processing is performed for each position when the scanning trajectory L is scanned at each scanning interval, and the scanning trajectory is positioned. After the calculation of the (M X1 -m X1) 2 + (M X2 -m X2) 2 + (M X3 -m X3) 2 positioning of the scanning locus, as error processing, CUP20 the variant is very large At least one distance between the positioned upper and lower scanning trajectories L and each outer shape position is less than a predetermined threshold (in the present embodiment, the threshold is 0.02
mm), or when at least one of the external positions is outside the cutting dimension, the operator is prompted for confirmation by a warning display or a warning sound on the monitor 23, and the setting is performed again to perform automatic positioning. Is performed, or the operator is asked to determine whether to position the scanning trajectory manually (Step 5 in FIG. 5). This error processing can be omitted if the influence of the irregular shape on the cutting dimension can be ignored.

【0038】CPU20は、上述の走査軌跡の演算処理
を、Y2,Y3行及びX1、X2、X3列に並ぶすべてのパ
ターンについても同様に行う。つまり、各行及び各列に
対する走査軌跡の位置決めは、本実施形態では、Y行方
向で3回、X列方向で3回の計6回行う。このようにし
て、すべての行、列における各パターンに対する走査軌
跡の位置決めを自動的に行う。
The CPU 20 performs the above-described scanning trajectory calculation processing for all the patterns arranged in the rows Y 2 and Y 3 and the columns X 1 , X 2 and X 3 in the same manner. That is, in the present embodiment, positioning of the scanning trajectory with respect to each row and each column is performed three times in the Y row direction and three times in the X column direction, that is, a total of six times. In this manner, the positioning of the scanning trajectory for each pattern in all rows and columns is automatically performed.

【0039】そして、すべての走査軌跡の位置決めが終
了すると、CPU20は、駆動回路21を通じ、サーボ
モータ7による吸着テーブル34のX方向移動、モータ
による吸着テーブル34の回転及びステッピングモータ
13による切断ブレード35のY方向の移動を行い、上
記演算処理により求めた各走査軌跡に従って切断ブレー
ド35を移動させるとともに、切断モータ24を駆動さ
せてセラミック基板31の切断を開始する(図5Ste
p6)。
When the positioning of all the scanning trajectories is completed, the CPU 20 controls the driving circuit 21 to move the suction table 34 in the X direction by the servo motor 7, rotate the suction table 34 by the motor, and cut the blade 35 by the stepping motor 13. Is moved in the Y direction, the cutting blade 35 is moved according to each scanning trajectory obtained by the above-described arithmetic processing, and the cutting motor 24 is driven to start cutting the ceramic substrate 31 (FIG. 5 Ste).
p6).

【0040】切断は、例えば、P11,P12,,,P33
順に一つのパターンを含む切断片に一片ずつ切断する。
The cutting is, for example, cutting piecewise the cut pieces containing one pattern in the order of P 11, P 12 ,,, P 33 .

【0041】以上説明したように、本実施形態の基板の
切断装置S及びこれを用いた基板の切断方法によれば、
切断後における各パターンの切断を防ぐことができるほ
か、偏りのない位置にパターンを有する切断片を自動的
に切断することができる。従って、オペレータによるス
キルの違いに影響を受けずかつ走査軌跡の位置決め等の
大幅な短縮が図れるため、精度の高い切断片を効率よく
製造することが可能である。
As described above, according to the substrate cutting apparatus S of the present embodiment and the substrate cutting method using the same,
It is possible to prevent the cutting of each pattern after cutting, and it is also possible to automatically cut a cut piece having a pattern at an unbiased position. Therefore, the positioning of the scanning trajectory and the like can be greatly reduced without being affected by the difference in the skill of the operator, so that a highly accurate cut piece can be efficiently manufactured.

【0042】なお、上記実施形態では、3×3の9個の
パターンを形成したセラミック基板31を例にその切断
方法について説明したが、基板並びに基板に形成するパ
ターンの数及び形状はこれに限定されないことはいうま
でもない。
In the above embodiment, the method of cutting the ceramic substrate 31 having nine 3 × 3 patterns has been described as an example. However, the number and shape of the substrate and the patterns formed on the substrate are not limited thereto. It goes without saying that it will not be done.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明に係る基板の切断方法及び基板の
切断装置によれば、切断後におけるパターンの切断を防
ぐことができるほか、偏りのない位置にパターンを有す
る切断片を、自動的に切断することが可能である。従っ
て、オペレータによるスキルの違いに影響を受けずかつ
走査軌跡の位置決め等の大幅な短縮がはかれるため、制
度の高い切断片を効率よく製造することが可能である。
According to the substrate cutting method and the substrate cutting apparatus of the present invention, it is possible to prevent the pattern from being cut after cutting, and to automatically cut a piece having a pattern at an unbiased position. It is possible to cut. Therefore, since the positioning of the scanning trajectory is greatly reduced without being affected by the difference in skill among the operators, it is possible to efficiently manufacture cut pieces with high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る基板の切断装置の一実施形態にお
ける要部の構成及び制御系統を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a main part and a control system in an embodiment of a substrate cutting apparatus according to the present invention.

【図2】同実施形態の基板の切断装置における切断装置
本体の斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of a cutting device main body in the substrate cutting device of the embodiment.

【図3】本発明に係る基板の切断方法に使用するセラミ
ック基板の一例を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an example of a ceramic substrate used in the substrate cutting method according to the present invention.

【図4】同セラミック基板をガラス板及び吸着テーブル
に固定した状態を示す概略斜視図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a state where the ceramic substrate is fixed to a glass plate and a suction table.

【図5】同実施形態の切断装置を使用した基板の切断方
法の手順を示すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing a procedure of a method for cutting a substrate using the cutting apparatus of the embodiment.

【図6】同実施形態における認識位置の画像に基づくパ
ターンの外形位置の演算処理を説明するための概略図で
ある。
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a calculation process of an outer shape position of the pattern based on the image of the recognition position in the embodiment.

【図7】同実施形態における走査軌跡の傾きの演算処理
を説明するための概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a calculation process of the inclination of the scanning trajectory in the embodiment.

【図8】同実施形態における走査軌跡の位置決めの演算
処理を説明するための概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a calculation process of positioning a scanning trajectory in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

18:CCDカメラユニット(認識手段)、2:CPU
(演算処理手段)、31:セラミック基板(基板)、3
5:切断用ブレード(切断手段)、A,B,C,D,
E,F:外形位置、CA,CB,CC,CD,CE,CF:認
識位置、L:走査軌跡、IW,ID:切断寸法、P,
11,P12,P13,P21,P22,P23,P31,P32,P
33:パターン、S:切断装置。
18: CCD camera unit (recognition means), 2: CPU
(Arithmetic processing means), 31: ceramic substrate (substrate), 3
5: Cutting blade (cutting means), A, B, C, D,
E, F: external position, C A , C B , C C , C D , C E , C F : recognition position, L: scanning locus, I W , I D : cutting dimension, P,
P 11, P 12, P 13 , P 21, P 22, P 23, P 31, P 32, P
33 : pattern, S: cutting device.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 板面に複数のパターンを行列状に形成し
てなる基板を、所定の切断寸法を間隔とする該各行及び
該各列毎の走査軌跡に従って切断手段で切断し、前記各
パターンを含んだ複数の切断片とする基板の切断方法で
あって、 切断前における前記各パターンを含む基板の画像を所定
の認識位置において認識手段で認識し、認識した該画像
に基づいて各パターンの外形位置を演算処理手段で求
め、該外形位置と前記各行及び前記各列毎の前記走査軌
跡との距離に基づいて、前記切断寸法内において前記各
パターンの前記外形位置が略均等に位置するように前記
各行及び前記各列毎に前記走査軌跡の位置を決定するこ
とを特徴とする基板の切断方法。
1. A substrate having a plurality of patterns formed in a matrix on a plate surface is cut by cutting means in accordance with a scanning locus of each row and each column having a predetermined cutting dimension as an interval. A method of cutting a substrate into a plurality of cut pieces, comprising: recognizing an image of the substrate including the respective patterns before cutting by a recognition unit at a predetermined recognition position before cutting, and recognizing each pattern based on the recognized image. The outer shape position is obtained by arithmetic processing means, and based on the distance between the outer shape position and the scanning trajectory for each row and each column, the outer shape positions of the respective patterns are located substantially equally within the cutting dimension. Determining the position of the scanning trajectory for each row and each column.
【請求項2】 請求項1に記載の基板の切断方法におい
て、前記行及び前記列に沿った複数の前記外形位置に基
づいた前記各行及び前記各列毎の一対の近似直線、並び
に該一対の近似直線の傾きに基づいた前記走査軌跡の傾
きを、前記演算処理手段で求め、さらに、前記行又は列
毎における前記距離の差の二乗和が最小となるように、
前記走査軌跡の位置を決定することを特徴とする基板の
切断方法。
2. The method for cutting a substrate according to claim 1, wherein the pair of approximate straight lines for each row and each column based on the plurality of outer shape positions along the rows and columns, and the pair of approximate straight lines. The inclination of the scanning trajectory based on the inclination of the approximate straight line is obtained by the arithmetic processing means, and further, the sum of squares of the distance difference for each row or column is minimized.
A method of cutting a substrate, comprising determining a position of the scanning trajectory.
【請求項3】 板面に複数のパターンを行列状に形成し
てなる基板を、所定の切断寸法を間隔とする該各行及び
該各列毎の走査軌跡に従って切断し、前記各パターンを
含んだ複数の切断片とする基板の切断装置であって、前
記基板を切断する切断手段と、切断前における前記各パ
ターンを含む前記基板の画像を認識する認識手段と、認
識した該画像の画像処理を行う画像処理手段と、該画像
処理手段で処理した処理画像に基づいて外形位置を求め
さらに該外形位置と前記各行及び各列毎の走査軌跡との
距離に基づいて前記切断寸法内において前記各パターン
の前記外形位置が略均等に位置するように前記各行及び
前記各列毎に前記走査軌跡の位置を決定する演算処理手
段とを備えていることを特徴とする基板の切断装置。
3. A substrate, in which a plurality of patterns are formed in a matrix on a plate surface, is cut in accordance with a scanning locus of each row and each column having a predetermined cutting dimension as an interval, and includes each of the patterns. An apparatus for cutting a substrate into a plurality of cut pieces, comprising: cutting means for cutting the substrate; recognition means for recognizing an image of the substrate including the patterns before cutting; and image processing of the recognized image. Image processing means for performing, and determining the outer shape position based on the processed image processed by the image processing means, and further determining each of the patterns within the cutting dimension based on a distance between the outer shape position and the scanning locus for each row and each column. And an arithmetic processing means for determining the position of the scanning trajectory for each of the rows and columns so that the outer shape position is located substantially evenly.
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