JP2000323548A - Vacuum processing system - Google Patents

Vacuum processing system

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JP2000323548A
JP2000323548A JP11132560A JP13256099A JP2000323548A JP 2000323548 A JP2000323548 A JP 2000323548A JP 11132560 A JP11132560 A JP 11132560A JP 13256099 A JP13256099 A JP 13256099A JP 2000323548 A JP2000323548 A JP 2000323548A
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vacuum
vacuum processing
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transfer
glass substrate
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Tsutomu Hiroki
勤 広木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a vacuum processing system which can realize reduction of facility cost of a transportation section for transferring an object to be processed and reduction in its footprint. SOLUTION: A vacuum processing system 10 includes vacuum processing chambers 112a and 112b for applying a prescribed processing to an LCD glass substrate (hereinafter referred to as the substrate 130, a transfer chamber 116 connected to the vacuum processing chambers via gate valves GB and having a transfer arm 114 for feeding the substrate into the vacuum chambers of feeding out it therefrom, a preliminary evacuation chamber 118 connected to the transfer chamber via the gate valves, and a transfer section 120 for sequentially transferring a plurality of substrates. In this case, the transfer section has a hoisting and lowering mechanism 124, which moves the substrate in the vertical direction at its prescribed position to feed it into a vacuum processing chamber or feed out it therefrom. In this system, substrate supply and reception can be realized, without the need for providing an atmospheric robot between the transfer section and vacuum processing chamber 110.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,真空処理システム
に関する。
[0001] The present invention relates to a vacuum processing system.

【0002】[0002]

【従来の技術】LCDガラス基板等の被処理体処理シス
テムには,被処理体の搬送系をライン状に配設し,かか
る搬送系に対し塗布・現像処理装置やエッチング装置と
いった複数の処理装置を並設するものがある。かかる被
処理体処理システムにおける搬送系の一形態として,被
処理体が複数枚収容されたカセットと処理装置との間を
渡り歩くAGV(automatic guided
vehicle:無人搬送車)が用いられている。
2. Description of the Related Art In a processing system for an object to be processed such as an LCD glass substrate, a transfer system for the object to be processed is arranged in a line, and a plurality of processing apparatuses such as a coating / developing apparatus and an etching apparatus are provided for the transfer system. There is something to juxtapose. As one form of a transport system in such a processing object processing system, an AGV (automatic guided) that walks between a cassette containing a plurality of processing objects and a processing apparatus.
vehicle (automated guided vehicle).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで,AGVによ
る被処理体の搬送には,複数の被処理体の処理の困難さ
や発塵性といった問題点が生じる。このため,その解決
手段として,コンベアなどの被処理体搬送手段と,コン
ベアと処理装置との間で被処理体の授受を行う大気ロボ
ットとを配設する搬送系が用いられている。しかしなが
ら,かかる搬送系では,コンベアの他に大気ロボットを
配設する必要があるため,設備コスト面やフットプリン
トの面で好ましくないという別の問題が生じていた。
By the way, the transfer of an object to be processed by the AGV involves problems such as difficulty in processing a plurality of objects to be processed and dust generation. Therefore, as a means for solving the problem, a transfer system provided with a transfer means of the object to be processed such as a conveyor and an atmospheric robot for transferring the object to be processed between the conveyor and the processing apparatus is used. However, in such a transfer system, it is necessary to provide an atmospheric robot in addition to the conveyor, which causes another problem that it is not preferable in terms of equipment cost and footprint.

【0004】本発明は,従来の真空処理装置が有する上
記問題点及びその他の問題点に鑑みてなされたものであ
り,本発明の目的は,被処理体を搬送する搬送系の設備
コストの削減及びフットプリントの縮小化を図ることの
可能な,新規かつ改良された真空処理システムを提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems and other problems of a conventional vacuum processing apparatus, and an object of the present invention is to reduce equipment costs of a transfer system for transferring an object to be processed. Another object of the present invention is to provide a new and improved vacuum processing system capable of reducing a footprint.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め,請求項1によれば,被処理体に所定の処理を施す少
なくとも一の真空処理室と,前記真空処理室にゲートバ
ルブを介して接続され,前記真空処理室に前記被処理体
を搬入/搬出する搬送アームを有する搬送室と,前記搬
送室にゲートバルブを介して接続される真空予備室と,
複数の被処理体を順次搬送する搬送系とを備えた真空処
理システムにおいて,前記搬送系は,所定位置におい
て,前記被処理体を上下方向および/または水平方向に
移動させて,前記真空予備室に搬入/搬出する移動機構
を備えていることを特徴とする真空処理システムが提供
される。
According to a first aspect of the present invention, at least one vacuum processing chamber for performing a predetermined process on an object to be processed and a gate valve are connected to the vacuum processing chamber via a gate valve. A transfer chamber connected to the vacuum processing chamber, the transfer chamber having a transfer arm for loading / unloading the object to and from the vacuum processing chamber; a vacuum preparatory chamber connected to the transfer chamber via a gate valve;
In a vacuum processing system comprising a transfer system for sequentially transferring a plurality of workpieces, the transport system moves the workpieces vertically and / or horizontally at a predetermined position, and Provided with a moving mechanism for carrying in / out of the vacuum processing system.

【0006】かかる真空処理システムによれば,搬送系
に被処理体の移動機構を備えたので,搬送系と被処理体
処理装置との間に被処理体授受手段,例えば大気ロボッ
トを配設せずとも,被処理体の搬送系と処理装置との間
の被処理体の授受を行うことが可能である。またこの移
動手段は,後述するように,構造的に大気ロボットより
も安価に製造することができるため,設備コストの削減
に優れた効果を奏する。
According to such a vacuum processing system, since the transfer system is provided with a moving mechanism for the object to be processed, the means for transferring the object to be processed, for example, an atmospheric robot, is provided between the transport system and the apparatus for processing the object to be processed. At least, it is possible to exchange a workpiece between the transport system of the workpiece and the processing apparatus. Further, as will be described later, since this moving means can be manufactured structurally at a lower cost than an atmospheric robot, it has an excellent effect of reducing equipment costs.

【0007】上記移動機構の構成の一例としては,請求
項2に記載のように,搬送系の搬送経路中に設けられる
ようにしてもよい。かかる構成によれば,移動手段を配
設するための空間を必要としないため,フットプリント
の縮小化に優れた効果を奏する。
[0007] As an example of the structure of the moving mechanism, the moving mechanism may be provided in a conveying path of a conveying system. According to such a configuration, a space for disposing the moving means is not required, so that an excellent effect of reducing the footprint can be obtained.

【0008】上記移動機構の構成の他の一例としては,
請求項3に記載のように,搬送系の搬送経路に対して待
避位置に設けられているようにしてもよい。かかる構成
によれば,被処理体の処理を搬送経路に対して待避した
位置で行うことができるので,一の被処理体の処理中で
あっても,搬送経路における他の被処理体の搬送を妨げ
ることがないという効果を奏する。
As another example of the structure of the moving mechanism,
As described in the third aspect, it may be provided at a retreat position with respect to the transport path of the transport system. According to this configuration, the processing of the object to be processed can be performed at a position evacuated with respect to the transport path. Therefore, even if one object is being processed, the transport of another object to be processed along the transport path is possible. This has the effect of not hindering.

【0009】さらに移動機構は,請求項4に記載のよう
に,真空予備室を真空排気するときに,真空予備室の一
部分を構成するようにしてもよい。かかる真空処理シス
テムによれば,システム構成を簡略化することができ,
処理時間の短縮化にも優れた効果を奏する。
The moving mechanism may constitute a part of the pre-vacuum chamber when evacuating the pre-vacuum chamber. According to such a vacuum processing system, the system configuration can be simplified,
It is also effective in shortening the processing time.

【0010】また被処理体は,請求項5に記載のよう
に,載置台に載置された状態で搬送されるとともに,載
置台に載置された状態で真空予備室に搬入/搬出される
ようにしてもよい。かかる構成によれば,被処理体の搬
送及び真空予備室への搬入/搬出を安定した状態で行う
ことが可能である。さらにこの場合,請求項6に記載の
ように,真空予備室を真空排気するときに載置台が真空
予備室の一部を構成するようにすると,システム構成の
簡略化や処理時間の短縮にも優れた効果を奏するので好
ましい。
The object to be processed is transported while being mounted on the mounting table, and is loaded / unloaded into the vacuum preparatory chamber while being mounted on the mounting table. You may do so. According to such a configuration, it is possible to carry out the transfer of the object to be processed and the carry-in / out of the vacuum preliminary chamber in a stable state. Further, in this case, if the mounting table constitutes a part of the vacuum preparatory chamber when the vacuum preparatory chamber is evacuated, the system configuration can be simplified and the processing time can be reduced. It is preferable because it exhibits excellent effects.

【0011】さらに移動機構は,請求項7に記載のよう
に,載置台を貫通して被処理体を支持する支持ピンを有
するようにしてもよい。かかる構成によれば,載置台に
載置された被処理体を容易に載置台から取り外すことが
でき,処理時間の短縮に優れた効果を奏する。
Further, the moving mechanism may have a support pin which penetrates the mounting table and supports the object to be processed. According to this configuration, the object to be processed mounted on the mounting table can be easily removed from the mounting table, and an excellent effect of reducing the processing time can be obtained.

【0012】また,載置台は,請求項8に記載のよう
に,載置している被処理体に関する情報を識別する情報
タグを備えるようにしてもよい。かかる真空処理システ
ムによれば,搬送系の制御を情報タグを用いて容易に行
うことができ,処理の効率化を図ることが可能である。
Further, the mounting table may include an information tag for identifying information on the mounted object to be processed. According to such a vacuum processing system, the control of the transport system can be easily performed using the information tag, and the efficiency of the processing can be improved.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら,
本発明にかかる真空処理システムの好適な実施の形態に
ついて詳細に説明する。なお,本明細書及び図面におい
て,実質的に同一の機能構成を有する構成要素について
は,同一の符号を付することにより重複説明を省略す
る。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
Preferred embodiments of the vacuum processing system according to the present invention will be described in detail. In this specification and the drawings, components having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

【0014】(第1の実施の形態)本実施の形態にかか
る真空処理システム100の全体構成を,図1を参照し
ながら説明する。真空処理システム100は,被処理体
の一例としてLCDガラス基板の処理を行うシステムで
あり,図1に示したように,真空処理装置110と,L
CDガラス基板を順次搬送する搬送系120とを含んで
構成されている。
(First Embodiment) The overall configuration of a vacuum processing system 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The vacuum processing system 100 is a system that performs processing on an LCD glass substrate as an example of an object to be processed. As shown in FIG.
And a transport system 120 for sequentially transporting the CD glass substrates.

【0015】真空処理装置110は,図1に示したよう
に,LCDガラス基板に所定の処理を施す2つの真空処
理室112a,112bと,真空処理室112a,11
2bにゲートバルブGBを介して接続され,真空処理室
112a,112bにLCDガラス基板130を搬入/
搬出する搬送アーム114を有する搬送室116と,搬
送室116にゲートバルブGBを介して接続される真空
予備室118とにより主に構成されている。なお,真空
処理室の数は2つに限定されるものではなく,処理の種
類やシステム規模等に応じて適宜設計することが可能で
ある。また,真空処理装置110を支持する支柱には,
基板ID読み込みユニット119が備えられているが,
これについては後述する。
As shown in FIG. 1, the vacuum processing apparatus 110 includes two vacuum processing chambers 112a and 112b for performing predetermined processing on an LCD glass substrate, and two vacuum processing chambers 112a and 112b.
2b via the gate valve GB, and the LCD glass substrate 130 is loaded into the vacuum processing chambers 112a and 112b.
It mainly comprises a transfer chamber 116 having a transfer arm 114 for unloading, and a vacuum preparatory chamber 118 connected to the transfer chamber 116 via a gate valve GB. The number of vacuum processing chambers is not limited to two, and can be appropriately designed according to the type of processing, system scale, and the like. In addition, the support supporting the vacuum processing apparatus 110 includes:
Although a board ID reading unit 119 is provided,
This will be described later.

【0016】複数のLCDガラス基板を順次搬送する搬
送系120は,水平方向にLCDガラス基板130を搬
送可能な搬送手段の一例たるレール122と,レール1
22により搬送されたLCDガラス基板130を所定位
置において上下方向に移動させる移動手段の一例たる昇
降機構124とにより主に構成されている。LCDガラ
ス基板130は,レール122上を移動するための車輪
127が設けられたトレイ(載置台)126に載置され
た状態で搬送される。
A transport system 120 for sequentially transporting a plurality of LCD glass substrates includes a rail 122 as an example of a transport means capable of transporting the LCD glass substrate 130 in a horizontal direction, and a rail 1.
It mainly comprises an elevating mechanism 124 as an example of a moving means for moving the LCD glass substrate 130 conveyed by 22 at a predetermined position in the vertical direction. The LCD glass substrate 130 is conveyed while being mounted on a tray (mounting table) 126 provided with wheels 127 for moving on the rail 122.

【0017】上述のように,LCDガラス基板130
は,レール122上を移動するための車輪127が設け
られたトレイ126に載置された状態で搬送される。ト
レイ126は,後述するように,真空予備室118を真
空排気するときに,昇降機構124により挟み込まれる
ことで,真空予備室118の一部を構成する。このよう
に,トレイ126は,真空予備室118と昇降機構12
4とに挟み込まれた状態で真空状態を構成しうるよう所
定の大きさ・形状からなる。
As described above, the LCD glass substrate 130
Is transported while being placed on a tray 126 provided with wheels 127 for moving on rails 122. The tray 126 constitutes a part of the vacuum preliminary chamber 118 by being sandwiched by the elevating mechanism 124 when the vacuum preliminary chamber 118 is evacuated as described later. As described above, the tray 126 is provided with the vacuum preliminary chamber 118 and the elevating mechanism 12.
4 so as to form a vacuum state in a state sandwiched between them.

【0018】トレイ126には,載置されたLCDガラ
ス基板130を上方に押圧してLCDガラス基板130
の取り外しを容易にするためのリフタピンPが貫通され
る貫通孔135が形成されている。LCDガラス基板1
30のトレイ126への載置は,LCDガラス基板13
0の搬送を安定した状態で行えれば,どのような方法に
より行ってもよい。例えば,トレイ126の表面に,L
CDガラス基板130と実質的に同様の形状であって,
トレイ126の上面より一段低く形成される収納面が設
けられ,LCDガラス基板130をこの収納面にはめ込
む形で載置するようにしてもよい。
The LCD glass substrate 130 placed on the tray 126 is pressed upward by pressing the LCD glass substrate 130 upward.
A through-hole 135 is formed through which a lifter pin P for facilitating the detachment is easily inserted. LCD glass substrate 1
The loading of the LCD glass substrate 13 on the tray 126 is performed.
Any method may be used as long as the transfer of 0 can be performed in a stable state. For example, on the surface of the tray 126, L
It has substantially the same shape as the CD glass substrate 130,
A storage surface formed one step lower than the upper surface of the tray 126 may be provided, and the LCD glass substrate 130 may be placed so as to fit into the storage surface.

【0019】また,トレイ126は,載置しているLC
Dガラス基板130に関する情報を識別する情報タグを
備えている。情報タグには種々考えられるが,例えば,
各LCDガラス基板ごとに定められる基板IDを付与す
ることができる。そして,真空処理装置110を支持す
る支柱には,かかる基板IDを読み込むための基板ID
読み込みユニット119が備えられている。基板ID読
み込みユニット119は,レール122上を搬送されて
くるLCDガラス基板130が載置されたトレイ122
を,真空予備室118の直下に到達するまでに認識でき
るように機能する。
The tray 126 is provided with the mounted LC.
An information tag for identifying information on the D glass substrate 130 is provided. There are various information tags, for example,
A substrate ID determined for each LCD glass substrate can be assigned. Then, a support for supporting the vacuum processing apparatus 110 has a substrate ID for reading the substrate ID.
A reading unit 119 is provided. The board ID reading unit 119 is provided on the tray 122 on which the LCD glass substrate 130 conveyed on the rail 122 is placed.
Is recognized until it reaches immediately below the pre-vacuum chamber 118.

【0020】(昇降機構124)真空予備室119の直
下において,レール122の下段に配設される昇降機構
124は,搬送されたLCDガラス基板130を昇降移
動させるように構成されている。昇降機構124の上部
には,処理中に真空予備室118の一部分を形成する下
蓋124aが設けられている。下蓋124aの上面に
は,トレイ126を貫通して載置されたLCDガラス基
板130を上方に押圧してLCDガラス基板130の取
り外しを容易にするためのリフタピンPと,真空予備室
118の一部を構成する際に気密性を向上させるための
シール部材(Oリング)Oとが設けられている。
(Elevation Mechanism 124) Immediately below the vacuum preparatory chamber 119, the elevation mechanism 124 disposed below the rail 122 is configured to move the transported LCD glass substrate 130 up and down. Above the elevating mechanism 124, a lower lid 124a that forms a part of the pre-vacuum chamber 118 during processing is provided. On the upper surface of the lower cover 124a, a lifter pin P for pressing the LCD glass substrate 130 placed through the tray 126 upward to facilitate the removal of the LCD glass substrate 130, and one of the vacuum spare chambers 118 A seal member (O-ring) O is provided for improving airtightness when forming the part.

【0021】通常,被処理体搬送系にレールやコンベア
を用いた真空処理システムにおいては,被処理体搬送系
と真空処理装置との間で被処理体の授受を行うための手
段,例えば大気ロボットが必要であるが,本実施の形態
にかかる真空処理システム100は,かかる大気ロボッ
トを必要としない点で従来のシステムと異なる。大気ロ
ボットの代わりに配設される昇降機構124は,例えば
シリンダにより構成することができ,構造的に大気ロボ
ットよりも安価に製造することができるため,設備コス
トの削減に優れた効果を奏する。
Normally, in a vacuum processing system using a rail or a conveyor as the object transfer system, means for exchanging the object between the object transfer system and the vacuum processing apparatus, for example, an atmospheric robot However, the vacuum processing system 100 according to the present embodiment differs from the conventional system in that such an atmospheric robot is not required. The elevating mechanism 124 provided in place of the atmospheric robot can be constituted by, for example, a cylinder, and can be manufactured structurally at a lower cost than the atmospheric robot, so that it has an excellent effect of reducing equipment costs.

【0022】次いで,上記構成からなる真空処理システ
ム100の動作を図1,図2を参照しながら説明する。
基板ID読み込みユニット119は,レール122上を
搬送されてくるLCDガラス基板130が収納されたト
レイ126に付与されている基板IDの読み込み動作を
行っている。そして,基板ID読み込みユニット119
は,処理要求のなされたLCDガラス基板130の基板
IDを認識すると,図示しない制御部に対しそのLCD
ガラス基板130の存在を伝達する。
Next, the operation of the vacuum processing system 100 having the above configuration will be described with reference to FIGS.
The board ID reading unit 119 reads the board ID given to the tray 126 in which the LCD glass substrate 130 conveyed on the rail 122 is stored. Then, the board ID reading unit 119
When recognizing the substrate ID of the LCD glass substrate 130 for which a processing request has been made, the control unit (not shown) sends the LCD
The presence of the glass substrate 130 is transmitted.

【0023】基板ID読み込みユニット119により,
処理を行うLCDガラス基板130の存在が認識される
と,以下の工程に従い,昇降機構124によるLCDガ
ラス基板130の真空処理装置110への搬入動作が開
始される。以下に,昇降機構124によるLCDガラス
基板130の真空処理装置110への搬入/搬出動作に
ついて,図2を参照しながら説明する。
By the board ID reading unit 119,
When the existence of the LCD glass substrate 130 to be processed is recognized, the operation of loading the LCD glass substrate 130 into the vacuum processing apparatus 110 by the elevating mechanism 124 is started according to the following steps. The operation of loading / unloading the LCD glass substrate 130 into / from the vacuum processing apparatus 110 by the lifting mechanism 124 will be described below with reference to FIG.

【0024】(1)処理を行うLCDガラス基板130
が真空処理装置110の昇降機構124の直上まで搬送
されると,図示しない制御部の制御により,トレイ12
6の車輪127が駆動を停止し,トレイ126は,真空
処理室118の直下でかつ昇降機構124の直上で停止
する。 (2)次いで,処理を行うLCDガラス基板130が載
置されたトレイ126は,昇降機構124により上方へ
押圧される。これにより,トレイ126はLCDガラス
基板130を載置したまま真空予備室118の方向へと
上昇する。 (3)さらにトレイ130は上昇を続け,昇降機構12
4上部の下蓋124aと真空予備室118との間にトレ
イ126を挟み込む形で,気密に一体化する。 (4)LCDガラス基板130が真空予備室118に搬
入されると,真空予備室118内が排気され真空状態と
なる。 (5)LCDガラス基板130は,リフタピンPにより
上方へと押圧される。上方へ押圧されたLCDガラス基
板130とトレイ126の上面との間に搬送アーム11
4の載置部114aが挿入されることで,LCDガラス
基板130はトレイ126から取り外される。 (6)次いで,LCDガラス基板130は,搬送アーム
114により,真空予備室118から搬送室116へと
搬送される。 (7)真空予備室118と搬送室116とを接続してい
るゲートバルブGVが閉じられると,LCDガラス基板
130は,真空系の真空処理室112a,112bの中
で所定の真空処理が施される。 (8)所定の処理を終えたLCDガラス基板130は,
搬送アーム114により真空予備室118内に留置され
ていたトレイ126に載置される。次いで,真空予備室
118は大気圧に開放される。この際,昇降機構124
はトレイ126を上方へ支持しており,下蓋124aの
真空予備室118からの落下を防止している。 (9)次いで,昇降機構124は,処理済みのLCDガ
ラス基板130が載置されたトレイ126を下方へ下降
させる。これにより,トレイ126はレール122上に
載置される。そして,図示しない制御部の制御によりト
レイ126の車輪127が駆動を再開し,レール122
上を搬送される。
(1) LCD glass substrate 130 for processing
Is transported to just above the elevating mechanism 124 of the vacuum processing apparatus 110, the tray 12 is controlled by a control unit (not shown).
The sixth wheel 127 stops driving, and the tray 126 stops immediately below the vacuum processing chamber 118 and immediately above the elevating mechanism 124. (2) Next, the tray 126 on which the LCD glass substrate 130 to be processed is placed is pressed upward by the lifting mechanism 124. As a result, the tray 126 rises toward the pre-vacuum chamber 118 with the LCD glass substrate 130 placed thereon. (3) Further, the tray 130 continues to rise, and the elevating mechanism 12
(4) The tray 126 is sandwiched between the lower lid 124a of the upper part and the vacuum preparatory chamber 118 so as to be airtightly integrated. (4) When the LCD glass substrate 130 is carried into the pre-vacuum chamber 118, the inside of the pre-vacuum chamber 118 is evacuated to a vacuum. (5) The LCD glass substrate 130 is pressed upward by the lifter pins P. The transfer arm 11 is positioned between the LCD glass substrate 130 pressed upward and the upper surface of the tray 126.
The LCD glass substrate 130 is removed from the tray 126 by inserting the mounting portion 114 a of No. 4. (6) Next, the LCD glass substrate 130 is transferred from the pre-vacuum chamber 118 to the transfer chamber 116 by the transfer arm 114. (7) When the gate valve GV connecting the vacuum preparatory chamber 118 and the transfer chamber 116 is closed, the LCD glass substrate 130 is subjected to a predetermined vacuum processing in the vacuum processing chambers 112a and 112b. You. (8) The LCD glass substrate 130 that has completed the predetermined processing is
It is placed on the tray 126 that has been kept in the vacuum preliminary chamber 118 by the transfer arm 114. Next, the pre-vacuum chamber 118 is opened to the atmospheric pressure. At this time, the lifting mechanism 124
Supports the tray 126 upward to prevent the lower lid 124a from falling from the pre-vacuum chamber 118. (9) Next, the elevating mechanism 124 lowers the tray 126 on which the processed LCD glass substrate 130 is placed. Thus, the tray 126 is placed on the rail 122. Then, under the control of a control unit (not shown), the wheels 127 of the tray 126 resume driving, and the rails 122
Conveyed above.

【0025】以上説明したように,本実施の形態によれ
ば,昇降機構124によりLCDガラス基板130を真
空処理装置110の真空予備室118に搬入/搬出する
よう構成したので,大気ロボットを配設せずとも,真空
処理装置110と搬送系120との間のLCDガラス基
板130の授受を行うことが可能である。またこの昇降
機構124は,構造的に大気ロボットよりも安価に製造
することができ,またレール122の下段に配設するこ
とができるため,設備コストの削減及びフットプリント
の縮小化に優れた効果を奏する。
As described above, according to the present embodiment, since the LCD glass substrate 130 is loaded / unloaded into / from the vacuum preparatory chamber 118 of the vacuum processing apparatus 110 by the lifting / lowering mechanism 124, an atmospheric robot is provided. The LCD glass substrate 130 can be exchanged between the vacuum processing apparatus 110 and the transfer system 120 without the need. The lifting mechanism 124 can be manufactured at a lower cost than an atmospheric robot in terms of structure, and can be disposed below the rail 122, so that the equipment cost is reduced and the footprint is reduced. To play.

【0026】さらに,昇降機構124がLCDガラス基
板130を真空予備室118に搬入したとき,真空予備
室118と一体となって真空予備室118の底面を構成
するようにしたので,システム構成を簡略化することが
でき,処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
Further, when the lifting / lowering mechanism 124 carries the LCD glass substrate 130 into the vacuum preparatory chamber 118, the bottom of the vacuum preparatory chamber 118 is formed integrally with the vacuum preparatory chamber 118, so that the system configuration is simplified. It is also effective in shortening the processing time.

【0027】さらにまた,LCDガラス基板130は,
その種別を認識するための基板IDが付与されたトレイ
126に載置された状態でレール122上を搬送される
ようにし,真空処理装置110に基板ID読み込み装置
119を備えたので,搬送系120の制御を容易に行う
ことができ,処理の効率化を図ることが可能である。
Further, the LCD glass substrate 130 is
The vacuum processing apparatus 110 is provided with a substrate ID reading device 119 so that the substrate is loaded on a tray 126 provided with a substrate ID for recognizing the type. Can be easily controlled, and processing efficiency can be improved.

【0028】(第2の実施の形態)本実施の形態にかか
る真空処理システム200の全体構成を,図3を参照し
ながら説明する。真空処理システム200は,被処理体
の一例としてLCDガラス基板の処理を行うシステムで
あり,図3に示したように,真空処理装置210と,L
CDガラス基板を順次搬送する搬送系220とを含んで
構成されている。
(Second Embodiment) The overall configuration of a vacuum processing system 200 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The vacuum processing system 200 is a system for processing an LCD glass substrate as an example of the object to be processed, and as shown in FIG.
And a transport system 220 for sequentially transporting the CD glass substrates.

【0029】真空処理装置210は,図3に示したよう
に,LCDガラス基板に所定の処理を施す2つの真空処
理室212a,212bと,真空処理室212a,21
2bにゲートバルブGBを介して接続され,真空処理室
212a,212bにLCDガラス基板230を搬入/
搬出する搬送アーム214を有する搬送室216と,搬
送室216にゲートバルブGBを介して接続される真空
予備室218とにより主に構成されている。また,真空
処理装置210を支持する支柱には基板ID読み込みユ
ニット219が備えられている。これら真空処理装置2
10の各構成要素は,上記第1の実施の形態にかかる真
空処理装置110の構成要素と実質的に同様であるた
め,その詳細な説明を省略する。
As shown in FIG. 3, the vacuum processing apparatus 210 includes two vacuum processing chambers 212a and 212b for performing predetermined processing on the LCD glass substrate, and two vacuum processing chambers 212a and 212b.
2b via a gate valve GB, and the LCD glass substrate 230 is loaded into the vacuum processing chambers 212a and 212b.
It mainly comprises a transfer chamber 216 having a transfer arm 214 for unloading, and a vacuum preparatory chamber 218 connected to the transfer chamber 216 via a gate valve GB. A support for supporting the vacuum processing device 210 is provided with a substrate ID reading unit 219. These vacuum processing devices 2
10 are substantially the same as the components of the vacuum processing apparatus 110 according to the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

【0030】複数のLCDガラス基板230を搬送する
搬送系220は,水平方向にLCDガラス基板230を
搬送可能な搬送手段の一例たるレール222と,レール
222により搬送されたLCDガラス基板230を所定
位置において水平方向に移動させる水平移動機構225
と,水平移動機構225により水平方向に移動されたL
CDガラス基板230を上下方向に移動させる昇降機構
224とにより主に構成されている。LCDガラス基板
230は,レール222上を移動するための車輪227
が設けられたトレイ(載置台)226に載置されて搬送
される。
The transport system 220 for transporting the plurality of LCD glass substrates 230 includes a rail 222 as an example of a transport means capable of transporting the LCD glass substrate 230 in the horizontal direction, and a predetermined position of the LCD glass substrate 230 transported by the rail 222. Horizontal movement mechanism 225 for moving in the horizontal direction at
And L moved horizontally by the horizontal movement mechanism 225.
It mainly comprises a lifting mechanism 224 for moving the CD glass substrate 230 in the vertical direction. The LCD glass substrate 230 has wheels 227 for moving on rails 222.
Are placed and transported on a tray (mounting table) 226 provided with.

【0031】真空処理装置210の搬送室216と真空
予備室218とは,レール222と平行に配されてお
り,処理を行うLCDガラス基板230は,水平移動機
構225によりレール222から待避した位置に配設さ
れた真空予備室218の直下に移動される。すなわち,
本実施の形態においては,処理を行うLCDガラス基板
230が載置されたトレイ226は,水平移動機構22
5により水平方向に移動され,レール222に対して待
避位置において真空予備室218に搬入されるという点
に特徴がある。
The transfer chamber 216 and the pre-vacuum chamber 218 of the vacuum processing apparatus 210 are arranged in parallel with the rail 222, and the LCD glass substrate 230 to be processed is moved to a position retracted from the rail 222 by the horizontal moving mechanism 225. It is moved directly below the vacuum preparatory chamber 218 provided. That is,
In the present embodiment, the tray 226 on which the LCD glass substrate 230 to be processed is placed is mounted on the horizontal moving mechanism 22.
5 is moved in the horizontal direction, and is carried into the pre-vacuum chamber 218 at the retracted position with respect to the rail 222.

【0032】上述のように,LCDガラス基板230
は,レール222上を移動するための車輪227が設け
られたトレイ226に載置されて搬送される。トレイ2
26は,後述のように,LCDガラス基板230を真空
予備室218内に搬入したとき,真空予備室218の一
部分となって気密に接続される。なお,トレイ226の
構成については,上記第1の実施の形態にかかるトレイ
126と実質的に同様であるので,その詳細な説明を省
略する。
As described above, the LCD glass substrate 230
Is mounted on a tray 226 provided with wheels 227 for moving on rails 222 and transported. Tray 2
As will be described later, when the LCD glass substrate 230 is carried into the pre-vacuum chamber 218, it becomes a part of the pre-vacuum chamber 218 and is airtightly connected. Note that the configuration of the tray 226 is substantially the same as the tray 126 according to the first embodiment, and thus a detailed description thereof will be omitted.

【0033】また,トレイ226には,載置しているL
CDガラス基板230に関する情報を識別する情報タグ
を備えている。情報タグの一例として,上記第1の実施
の形態と同様に,各LCDガラス基板ごとに定められる
基板IDが付与されている。そして,真空処理装置21
0を支持する支柱には,かかる基板IDを読み込むため
の基板ID読み込みユニット219が備えられている。
基板ID読み込みユニット219は,レール222上を
搬送されてくるLCDガラス基板230が載置されたト
レイ226を,水平移動機構225の水平位置に到達す
るまでに認識できるように機能する。
The tray 226 has the L
An information tag for identifying information on the CD glass substrate 230 is provided. As an example of the information tag, a substrate ID determined for each LCD glass substrate is given as in the first embodiment. And the vacuum processing device 21
The column supporting the “0” is provided with a board ID reading unit 219 for reading the board ID.
The board ID reading unit 219 functions so that the tray 226 on which the LCD glass substrate 230 conveyed on the rail 222 is placed before reaching the horizontal position of the horizontal moving mechanism 225.

【0034】(水平移動機構225)水平移動機構22
5は,搬送されたLCDガラス基板230を,水平方
向,すなわち,真空予備室218の方向に移動させるよ
うに構成されている。水平移動機構225は,レール2
22上のトレイ226を,レール222の一部分ごと水
平方向へと移動させる。
(Horizontal Moving Mechanism 225) Horizontal Moving Mechanism 22
Reference numeral 5 is configured to move the transported LCD glass substrate 230 in the horizontal direction, that is, in the direction of the vacuum preparatory chamber 218. The horizontal moving mechanism 225 is a rail 2
The tray 226 on the rail 22 is moved in the horizontal direction along with a part of the rail 222.

【0035】また,水平移動機構225は,レール22
2の一部分が待避位置へ移動した後の当該部分を補うた
めの予備レール222’を備えている。レール222の
一部分が水平方向へ移動した後,代わりに予備レール2
22’が当該部分に組み込まれることにより,一のLC
Dガラス基板が処理されている間,他のLCDガラス基
板はレール上を移動することができる。また,かかる構
成によれば,水平移動機構225を,LCDガラス基板
を一時的に格納しておくバッファとして用いることがで
き,LCDガラス基板間の処理時間のばらつきを軽減さ
せることができる。
Further, the horizontal moving mechanism 225 is
2 is provided with a spare rail 222 'for supplementing the part after it has moved to the retreat position. After a part of the rail 222 moves in the horizontal direction, the spare rail 2
22 ′ is incorporated into the portion to form one LC
While the D glass substrate is being processed, other LCD glass substrates can move on the rails. Further, according to such a configuration, the horizontal movement mechanism 225 can be used as a buffer for temporarily storing the LCD glass substrate, and the variation in processing time between the LCD glass substrates can be reduced.

【0036】(昇降機構224)真空予備室218の直
下において,レール222の下段に配設される昇降機構
224は,水平移動機構225により待避位置に搬送さ
れたLCDガラス基板230を昇降移動させるように構
成されている。昇降機構224の構成は,実質的に上記
第1の実施の形態にかかる昇降機構124と同様である
ため,その詳細な説明を省略する。
(Elevating mechanism 224) Immediately below the pre-vacuum chamber 218, the elevating mechanism 224 disposed below the rail 222 moves the LCD glass substrate 230 conveyed to the retreat position by the horizontal moving mechanism 225 up and down. Is configured. The configuration of the lifting mechanism 224 is substantially the same as that of the lifting mechanism 124 according to the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

【0037】このように,上記構成からなる本実施の形
態にかかる真空処理システム200は,通常の真空処理
システムにおいて必要とされる大気ロボットを必要とし
ない点で,上記第1の実施の形態にかかる真空処理シス
テム100と共通している。そしてさらに,本実施の形
態にかかる真空処理システム200は,レール222に
よる通常の搬送経路のほかに,待避位置にトレイを搬送
しうるよう構成されている点に特徴がある。
As described above, the vacuum processing system 200 according to the present embodiment having the above-described configuration does not require an atmospheric robot required in a normal vacuum processing system. This is common to the vacuum processing system 100. Further, the vacuum processing system 200 according to the present embodiment is characterized in that a tray can be transported to a retreat position in addition to a normal transport path using the rails 222.

【0038】次いで,上記構成からなる真空処理システ
ム200の動作を,図3を参照しながら説明する。基板
ID読み込みユニット219は,レール222上を搬送
されてくるLCDガラス基板230が収納されたトレイ
226に付与されている基板IDの読み込み動作を行っ
ている。そして,処理要求のなされたLCDガラス基板
230の基板IDを認識すると,図示しない制御部に対
しその存在を伝達する。
Next, the operation of the vacuum processing system 200 having the above configuration will be described with reference to FIG. The board ID reading unit 219 reads the board ID assigned to the tray 226 in which the LCD glass substrate 230 conveyed on the rail 222 is stored. Then, when recognizing the substrate ID of the LCD glass substrate 230 for which a processing request has been made, the presence thereof is transmitted to a control unit (not shown).

【0039】基板ID読み込みユニット219により,
処理を行うLCDガラス基板230の存在が認識される
と,以下の工程に従い,垂直移動手段224によるLC
Dガラス基板230の真空処理装置210への搬入動作
が開始される。以下に,水平移動機構225によるLC
Dガラス基板230の真空処理装置210への搬入動作
について説明する。
By the board ID reading unit 219,
When the presence of the LCD glass substrate 230 to be processed is recognized, the LC
The operation of loading the D glass substrate 230 into the vacuum processing device 210 is started. In the following, LC by the horizontal movement mechanism 225
The operation of loading the D glass substrate 230 into the vacuum processing device 210 will be described.

【0040】(1)処理を行うLCDガラス基板230
が水平移動手段224の真横まで搬送されると,図示し
ない制御部の制御により,トレイ226の車輪227が
駆動を停止し,トレイ226は,垂直移動手段224の
真横で停止する。 (2)次いで,処理を行うLCDガラス基板230が載
置されたトレイ226は,水平移動機構225により水
平方向へ移動される。これにより,トレイ226は,L
CDガラス基板230を載置したまま真空予備室118
の方向へと移動する。 (3)さらにトレイ230は移動を続け,図3に示した
ように,真空予備室218の直下に搬送される。このと
き,水平移動機構225により欠落したレールの一部に
は,予備レール222’が連結され,これにより,他の
LCDガラス基板は,通常通りに搬送を続けることがで
きる。 (4)真空予備室218の直下に搬送されたトレイ22
6は,昇降機構215により上方に押圧される。これに
より,トレイ226はLCDガラス基板を載置したまま
真空予備室218の方向へと上昇する。 (5)トレイ226の真空予備室218への搬入,真空
処理装置210における所定の処理,及び,真空処理装
置210からのトレイ226の搬出は,上記第1の実施
の形態の場合と実質的に同様である。
(1) LCD glass substrate 230 for processing
Is transported to the side of the horizontal moving unit 224, the wheels 227 of the tray 226 stop driving under the control of a control unit (not shown), and the tray 226 stops just beside the vertical moving unit 224. (2) Next, the tray 226 on which the LCD glass substrate 230 to be processed is placed is moved in the horizontal direction by the horizontal moving mechanism 225. As a result, the tray 226 becomes L
Vacuum spare chamber 118 with CD glass substrate 230 mounted
Move in the direction of. (3) Further, the tray 230 continues to move, and is conveyed directly below the pre-vacuum chamber 218 as shown in FIG. At this time, a spare rail 222 'is connected to a part of the rail which is lost by the horizontal moving mechanism 225, so that another LCD glass substrate can continue to be transported as usual. (4) Tray 22 conveyed immediately below vacuum preparatory chamber 218
6 is pressed upward by the lifting mechanism 215. As a result, the tray 226 rises toward the pre-vacuum chamber 218 with the LCD glass substrate placed thereon. (5) The loading of the tray 226 into the pre-vacuum chamber 218, the predetermined processing in the vacuum processing device 210, and the unloading of the tray 226 from the vacuum processing device 210 are substantially the same as those in the first embodiment. The same is true.

【0041】以上説明したように,本実施の形態によれ
ば,水平移動機構225及び昇降機構224によりLC
Dガラス基板230を真空処理装置210の真空予備室
218に搬入/搬出するよう構成したので,大気ロボッ
トを配設せずとも,真空処理装置210と搬送系220
との間のLCDガラス基板230の授受を行うことが可
能である。またこの水平移動機構225及び昇降機構2
24は,構造的に大気ロボットよりも安価に製造するこ
とができるため,設備コストの削減に優れた効果を奏す
る。
As described above, according to the present embodiment, the horizontal movement mechanism 225 and the lifting mechanism 224
Since the D glass substrate 230 is configured to be carried in / out of the vacuum preparatory chamber 218 of the vacuum processing apparatus 210, the vacuum processing apparatus 210 and the transfer system 220 can be installed without an atmospheric robot.
The LCD glass substrate 230 can be exchanged between the two. The horizontal movement mechanism 225 and the lifting mechanism 2
The structure 24 can be manufactured at a lower cost than an atmospheric robot, and therefore has an excellent effect of reducing equipment costs.

【0042】また,LCDガラス基板230の処理をレ
ール222に対して待避した位置で行うことができるの
で,一のLCDガラス基板の処理中であっても,レール
222における他のLCDガラス基板の搬送を妨げるこ
とがないという効果を奏する。
Further, since the processing of the LCD glass substrate 230 can be performed at a position retracted with respect to the rail 222, the transfer of another LCD glass substrate on the rail 222 can be performed even during the processing of one LCD glass substrate. This has the effect of not hindering.

【0043】さらに,昇降機構224がLCDガラス基
板230を真空予備室218に搬入したとき,真空予備
室218と一体となって真空予備室218の底面を構成
するようにしたので,システム構成を簡略化することが
でき,処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
Further, when the elevating mechanism 224 carries the LCD glass substrate 230 into the vacuum preparatory chamber 218, the bottom surface of the vacuum preparatory chamber 218 is formed integrally with the vacuum preparatory chamber 218, so that the system configuration is simplified. It is also effective in shortening the processing time.

【0044】さらにまた,LCDガラス基板230は,
その種別を認識するための基板IDが付与されたトレイ
226に載置された状態でレール222上を搬送される
ようにし,真空処理装置210に基板ID読み込み装置
219を備えたので,搬送系220の制御を容易に行う
ことができ,処理の効率化を図ることが可能である。
Further, the LCD glass substrate 230 is
The vacuum processing apparatus 210 is provided with a substrate ID reading device 219 while being placed on a tray 226 to which a substrate ID for recognizing the type is attached. Can be easily controlled, and processing efficiency can be improved.

【0045】以上,添付図面を参照しながら本発明にか
かる真空処理システムの好適な実施形態について説明し
たが,本発明はかかる例に限定されない。当業者であれ
ば,特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて各種の変更例または修正例に想到し得ることは明
らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範
囲に属するものと了解される。
Although the preferred embodiment of the vacuum processing system according to the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to such an example. It is clear that a person skilled in the art can conceive various changes or modifications within the scope of the technical idea described in the claims, and those modifications naturally fall within the technical scope of the present invention. It is understood to belong.

【0046】例えば,上記実施の形態においては,被処
理体の搬送手段としてレールを用いた場合の一例につい
て説明したが,本発明はこれに限定されない。例えば,
多数の回転ローラが所定間隔で並設され,その回転ロー
ラの回転駆動により,被処理体を下方から支持して水平
方向に搬送するよう構成されたコンベアを搬送手段とし
て用いてもよい。
For example, in the above-described embodiment, an example has been described in which a rail is used as a means for transporting an object to be processed, but the present invention is not limited to this. For example,
A plurality of rotating rollers may be juxtaposed at a predetermined interval, and a conveyor configured to support the object to be processed from below and convey the object in the horizontal direction by the rotation of the rotating rollers may be used as the conveying means.

【0047】また,上記実施の形態においては,被処理
体の種別を認識するための基板IDをトレイに付与した
場合の一例につき説明したが,本発明はこれに限定され
ない。例えば,被処理体自体に種別認識のための所定の
処理を施しておくことも可能である。
Further, in the above embodiment, an example was described in which a substrate ID for recognizing the type of the object to be processed is given to the tray, but the present invention is not limited to this. For example, it is possible to perform predetermined processing for type recognition on the object to be processed itself.

【0048】さらにまた,上記実施の形態においては,
被処理体の載置台たるトレイが真空予備室の底面の一部
分を構成する場合の一例について説明したが,本発明は
これに限定されない。例えば,トレイが真空処理室の側
面の一部分を構成する場合や,側面及び底面の一部分を
構成する場合であっても同様に本発明は適用可能であ
る。
Further, in the above embodiment,
Although an example has been described where the tray serving as the mounting table for the object to be processed forms a part of the bottom surface of the vacuum preparatory chamber, the present invention is not limited to this. For example, the present invention is similarly applicable to a case where the tray forms a part of the side surface of the vacuum processing chamber or a case where the tray forms a part of the side surface and the bottom surface.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明したように,本発明によれば,
移動手段により被処理体を処理装置の真空予備室に搬入
・搬出するよう構成したので,大気ロボット等の被処理
体授受手段を配設せずとも,被処理体の搬送手段と処理
装置との間の被処理体の授受を行うことが可能である。
またこの移動手段は,構造的に安価に製造することがで
き,また搬送手段と一体に配設することができるため,
設備コストの削減及びフットプリントの縮小化に優れた
効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
Since the object to be processed is carried in and out of the pre-vacuum chamber of the processing apparatus by the moving means, the transfer between the means for transferring the object to be processed and the processing apparatus can be performed without disposing a means for transferring the object such as an atmospheric robot. It is possible to exchange the object to be processed during the transfer.
Further, since this moving means can be manufactured at a low cost structurally and can be disposed integrally with the transport means,
It is effective in reducing equipment costs and footprint.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】発明の第1の実施の形態にかかる真空処理シス
テムの概略を表す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a vacuum processing system according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の真空処理システムの動作を説明するため
の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining an operation of the vacuum processing system of FIG. 1;

【図3】発明の第2の実施の形態にかかる真空処理シス
テムの概略を表す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view schematically showing a vacuum processing system according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,200 真空処理システム 110,210 真空処理装置 112,212 真空処理室 114,214 搬送アーム 116,216 搬送室 118,218 真空予備室 119,219 基板ID読み込みユニット 120,220 搬送系 122,222 レール 124,224 昇降機構 124a 下蓋 126,226 トレイ 127,227 車輪 130,230 LCDガラス基板 225 水平移動機構 100, 200 Vacuum processing system 110, 210 Vacuum processing device 112, 212 Vacuum processing chamber 114, 214 Transfer arm 116, 216 Transfer chamber 118, 218 Vacuum preparatory chamber 119, 219 Substrate ID reading unit 120, 220 Transfer system 122, 222 Rail 124,224 Elevating mechanism 124a Lower lid 126,226 Tray 127,227 Wheel 130,230 LCD glass substrate 225 Horizontal moving mechanism

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理体に所定の処理を施す少なくとも
一の真空処理室と;前記真空処理室にゲートバルブを介
して接続され,前記真空処理室に前記被処理体を搬入/
搬出する搬送アームを有する搬送室と;前記搬送室にゲ
ートバルブを介して接続される真空予備室と;複数の被
処理体を順次搬送する搬送系と;を備えた真空処理シス
テムにおいて:前記搬送系は,所定位置において,前記
被処理体を上下方向および/または水平方向に移動させ
て,前記真空予備室に搬入/搬出する移動機構を備えて
いることを特徴とする,真空処理システム。
At least one vacuum processing chamber for performing a predetermined process on an object to be processed; a vacuum processing chamber connected to the vacuum processing chamber via a gate valve;
In a vacuum processing system comprising: a transfer chamber having a transfer arm for unloading; a vacuum preparatory chamber connected to the transfer chamber via a gate valve; and a transfer system for sequentially transferring a plurality of workpieces: The vacuum processing system is characterized in that the system includes a moving mechanism that moves the object to be processed in a vertical direction and / or a horizontal direction at a predetermined position and carries the object into and out of the vacuum preliminary chamber.
【請求項2】 前記移動機構は,前記搬送系の搬送経路
中に設けられていることを特徴とする,請求項1に記載
の真空処理システム。
2. The vacuum processing system according to claim 1, wherein the moving mechanism is provided in a transfer path of the transfer system.
【請求項3】 前記移動機構は,前記搬送系の搬送経路
に対して待避位置に設けられていることを特徴とする,
請求項1に記載の真空処理システム。
3. The transfer mechanism according to claim 1, wherein the transfer mechanism is provided at a retract position with respect to a transfer path of the transfer system.
The vacuum processing system according to claim 1.
【請求項4】 前記移動機構は,前記真空予備室を真空
排気するときに,前記真空予備室の一部を構成すること
を特徴とする,請求項1,2または3のいずれかに記載
の真空処理システム。
4. The apparatus according to claim 1, wherein the moving mechanism forms a part of the pre-vacuum chamber when evacuating the pre-vacuum chamber. Vacuum processing system.
【請求項5】 前記被処理体は,載置台に載置された状
態で搬送されるとともに,前記載置台に載置された状態
で前記真空予備室に搬入/搬出されることを特徴とす
る,請求項1,2,3または4のいずれかに記載の真空
処理システム。
5. The object to be processed is transported while being mounted on a mounting table, and is loaded / unloaded into and from the vacuum preparatory chamber while being mounted on the mounting table. The vacuum processing system according to claim 1, 2, 3, or 4.
【請求項6】 前記載置台は,前記真空予備室を真空排
気するときに,前記真空予備室の一部を構成することを
特徴とする,請求項5に記載の真空処理システム。
6. The vacuum processing system according to claim 5, wherein the mounting table forms a part of the pre-vacuum chamber when evacuating the pre-vacuum chamber.
【請求項7】 前記移動機構は,前記載置台を貫通して
前記被処理体を支持する支持ピンを有することを特徴と
する,請求項5または6に記載の真空処理システム。
7. The vacuum processing system according to claim 5, wherein the moving mechanism includes a support pin that penetrates the mounting table and supports the workpiece.
【請求項8】 前記載置台は,載置している被処理体に
関する情報を識別する情報タグを備えていることを特徴
とする,請求項5,6または7のいずれかに記載の真空
処理システム。
8. The vacuum processing apparatus according to claim 5, wherein the mounting table is provided with an information tag for identifying information on a mounted processing object. system.
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