JPWO2008129603A1 - Substrate transfer system - Google Patents

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Abstract

予め定めた軌道(R)上を往復移動する移動ユニット(10)を備え、軌道(R)に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置(210)から搬出先となる装置(220)へ基板を搬送する基板搬送システム(100)において、基板の搬出元となる各々の装置(211、212、213)毎に配置され、基板の搬出元となる装置(210)から搬出される基板が載置される載置台20と、移動ユニット(10)に設けられ、載置台(20)に載置された基板を昇降する昇降ユニット(30)と、を備え、載置台(20)は、基板の搬出元となる装置(210)から搬出される基板が載置される載置ユニット21と、載置ユニット(21)を、軌道(R)上であって移動ユニット(10)よりも上方において支持する支持部材(22)と、を備え、載置ユニット(21)は、移動ユニット10の移動及び昇降ユニット(30)の昇降の際、昇降ユニット(30)が通過する通過スペース(S)を有することを特徴とする。A moving unit (10) that reciprocates on a predetermined trajectory (R) is provided, and among a plurality of devices arranged along the trajectory (R), an unloading destination from an apparatus (210) that is a substrate unloading source In the substrate transport system (100) for transporting the substrate to the device (220), each device (211, 212, 213) that is a substrate carry-out source is arranged from the device (210) that is a substrate carry-out source. A mounting table 20 on which the substrate to be unloaded is mounted; and a lifting unit (30) that is provided on the moving unit (10) and moves up and down the substrate mounted on the mounting table (20). 20) shows a placement unit 21 on which a substrate to be unloaded from a device (210) that is a substrate unloading source is placed, and a placement unit (21) on a trajectory (R) on a moving unit (10). Support that supports above) The mounting unit (21) has a passage space (S) through which the elevating unit (30) passes when the moving unit 10 moves and the elevating unit (30) moves up and down. Features.

Description

本発明は、基板を搬送する技術に関する。   The present invention relates to a technique for transporting a substrate.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のFPD(フラットパネルディスプレイ)製造ラインでは、基板を多段に収容するカセットや種々の処理を行う処理装置の間で基板を搬送する必要がある。   In an FPD (flat panel display) production line such as a liquid crystal display or a plasma display, it is necessary to transport the substrate between cassettes that accommodate the substrate in multiple stages and processing apparatuses that perform various processes.

特許文献1では、カセットから搬出した基板を載置する載置台と、載置台に載置された基板を処理装置へ投入するアームと、が一体化しており、複数のカセットや処理装置に対して基板を搬送できるように、載置台が走行レール上を移動する技術が開示されている。   In Patent Document 1, a mounting table for mounting a substrate unloaded from a cassette and an arm for loading the substrate mounted on the mounting table into a processing apparatus are integrated. A technique is disclosed in which a mounting table moves on a traveling rail so that a substrate can be conveyed.

また、特許文献2では、カセットから搬出された基板を載置するコンベアが、走行レールに沿って、複数のカセットや処理装置の間を移動する技術が開示されている。
特開2005−64432号公報 特開2004−284772号公報 特開2004−292094号公報
Patent Document 2 discloses a technique in which a conveyor on which a substrate unloaded from a cassette is placed moves between a plurality of cassettes and processing devices along a traveling rail.
JP 2005-64432 A Japanese Patent Laid-Open No. 2004-284772 JP 2004-292094 A

しかしながら、特許文献1及び2に開示されている技術では、カセットから搬出された基板を載置する載置台(例えば、コンベア)自体が、次工程となる処理装置等の面前まで移動して基板を受け渡すため、載置台がカセットの面前に戻るまでに時間を要する。すなわち、その間は基板を処理装置等から載置台に搬出することができないため、サイクルタイムの向上を阻害する要因となり得る。   However, in the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2, the mounting table (for example, a conveyor) for mounting the substrate unloaded from the cassette itself moves to the front surface of the processing apparatus or the like to be the next process and moves the substrate. In order to deliver, it takes time for the mounting table to return to the front of the cassette. That is, during that period, the substrate cannot be carried out from the processing apparatus or the like to the mounting table, which may be a factor that hinders improvement in cycle time.

そこで、本発明は、基板の搬出元となる装置から基板の搬出先となる装置までの間の基板の搬送効率を向上することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to improve the efficiency of transporting a substrate from a device that is a substrate carry-out source to a device that is a substrate carry-out destination.

上記課題を解決するため、本発明においては、予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置から搬出先となる装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、基板の搬出元となる各々の前記装置毎に配置され、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置台と、前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、前記載置台は、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、前記載置ユニットは、前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システムが提供される。   In order to solve the above-described problems, in the present invention, a moving unit that reciprocates on a predetermined track is provided, and among a plurality of devices arranged along the track, the substrate is transferred from a device that is a transfer source. In the substrate transport system for transporting a substrate to the device to be, a placement table on which each substrate serving as a substrate unloading source is disposed and a substrate unloaded from the device serving as a substrate unloading source is placed; An elevating unit that elevates and lowers the substrate placed on the mounting table. The mounting table is a mounting on which a substrate to be unloaded from the apparatus serving as a substrate unloading source is placed. A mounting unit, and a support member that supports the mounting unit on the track and above the moving unit. The mounting unit moves the moving unit and moves the lifting unit. During lifting, the substrate transfer system characterized by having a passage space for the elevating unit passes is provided.

この構成によれば、前記載置ユニットは、前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有するため、前記載置台を通過して移動及び昇降することができる。すなわち、前記移動ユニットが基板の搬出元となる前記装置から基板の搬出先となる前記装置までの間を移動している間でも、基板を前記載置ユニット上に搬出することができる。これにより、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が基板の搬出先となる前記装置までの間の基板の搬送効率を向上することができる。   According to this configuration, the mounting unit has a passing space through which the lifting unit passes when the moving unit moves and the lifting unit moves up and down, so that the mounting unit moves and moves up and down through the mounting table. Can do. That is, the substrate can be unloaded onto the mounting unit even while the moving unit is moving from the device serving as the substrate unloading source to the device serving as the substrate unloading destination. Thereby, the board | substrate carrying efficiency from the said apparatus used as the board | substrate carrying-out origin to the said apparatus used as the board | substrate carrying-out destination can be improved.

本発明の第1実施形態に係る基板搬送システム100の全体斜視図である。1 is an overall perspective view of a substrate transfer system 100 according to a first embodiment of the present invention. 第1実施形態に係る載置台20の上面図である。It is a top view of the mounting base 20 which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る昇降ユニット30の上面図である。It is a top view of the raising / lowering unit 30 which concerns on 1st Embodiment. 図2A及び図2Bを重ね合わせた図である。It is the figure which piled up Drawing 2A and Drawing 2B. 図2Bに示す方向aからの移載装置50の側面図である。It is a side view of transfer equipment 50 from direction a shown in Drawing 2B. 基板搬送システム100の動作手順を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an operation procedure of the substrate transfer system 100. 基板搬送システム100の動作手順を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an operation procedure of the substrate transfer system 100. 基板搬送システム100の動作手順を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an operation procedure of the substrate transfer system 100. 基板搬送システム100の動作手順を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an operation procedure of the substrate transfer system 100. 基板搬送システム100の動作手順を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an operation procedure of the substrate transfer system 100. 吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the adsorption | suction unit 21b. 吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the adsorption | suction unit 21b. 吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the adsorption | suction unit 21b. 吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the adsorption | suction unit 21b. 吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the adsorption | suction unit 21b. 吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the adsorption | suction unit 21b. 第1実施形態の変形例1に係る載置ユニット21の上面図である。It is a top view of the mounting unit 21 which concerns on the modification 1 of 1st Embodiment. 第2実施形態に係る基板搬送システム300の全体斜視図である。It is a whole perspective view of the board | substrate conveyance system 300 which concerns on 2nd Embodiment. 基板収容装置410の分解斜視図である。FIG. 6 is an exploded perspective view of a substrate housing device 410. 基板収容装置410の基板搬出処理の動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the board | substrate carrying-out process of the board | substrate accommodating apparatus. 基板収容装置410の基板搬出処理の動作手順を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement procedure of the board | substrate carrying-out process of the board | substrate accommodating apparatus.

<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板搬送システム100の全体斜視図である。基板搬送システム100は、予め定めた軌道R上を往復移動する移動ユニット10を備え、軌道Rに沿って配置された複数の基板処理装置200のうち、基板の搬出元となる基板処理装置210から搬出先となる基板処理装置220へ基板を搬送するシステムである。
<First Embodiment>
FIG. 1 is an overall perspective view of a substrate transfer system 100 according to the first embodiment of the present invention. The substrate transport system 100 includes a moving unit 10 that reciprocates on a predetermined track R, and out of a plurality of substrate processing devices 200 arranged along the track R, from a substrate processing device 210 that is a substrate carry-out source. In this system, the substrate is transferred to the substrate processing apparatus 220 serving as a carry-out destination.

基板処理装置210は、軌道Rに沿って、基板処理装置211、212、213の3台が隣接して設けられる。また、基板処理装置220は、軌道Rに沿って、基板処理装置211、212、213とそれぞれ対面する位置に、基板処理装置221、222、223の3台が隣接して設けられる。   The substrate processing apparatus 210 is provided with three substrate processing apparatuses 211, 212, and 213 adjacent to each other along the track R. The substrate processing apparatus 220 is provided with three substrate processing apparatuses 221, 222, and 223 adjacent to each other at positions facing the substrate processing apparatuses 211, 212, and 213 along the track R.

また、基板搬送システム100は、移動ユニット10及び昇降ユニット30を有する移載装置50と、基板処理装置211、212、213の面前に配置される載置台20と、を備える。移動ユニット10は、モータ等の駆動源11を有し、軌道R上を走行する。載置台20は、基板処理装置210から搬出される基板が載置される載置ユニット21と、載置ユニット21を、軌道R上であって、移動ユニット10よりも上方において支持する支持部材22と、を備える。   In addition, the substrate transport system 100 includes a transfer device 50 having the moving unit 10 and the lifting unit 30, and a mounting table 20 disposed in front of the substrate processing apparatuses 211, 212, and 213. The moving unit 10 has a drive source 11 such as a motor and travels on the track R. The mounting table 20 includes a mounting unit 21 on which a substrate unloaded from the substrate processing apparatus 210 is mounted, and a support member 22 that supports the mounting unit 21 on the track R and above the moving unit 10. And comprising.

昇降ユニット30は、移動ユニット10に固定され、載置台20に載置された基板を昇降するものであり、例えばエア式やガス式のシリンダで構成される。また、昇降ユニット30は、軌道Rと直交する方向に延び、基板が載置される載置部31と、移動ユニット10に立設され、載置部31を支持する支柱部32と、を備える。   The elevating unit 30 is fixed to the moving unit 10 and elevates and lowers the substrate placed on the placing table 20, and is composed of, for example, an air type or gas type cylinder. The elevating unit 30 includes a placement unit 31 that extends in a direction orthogonal to the track R and on which the substrate is placed, and a support column 32 that is erected on the moving unit 10 and supports the placement unit 31. .

図2Aは第1実施形態に係る載置台20の上面図、図2Bは第1実施形態に係る昇降ユニット30の上面図、図2Cは図2A及び図2Bを重ね合わせた図である。また、図3は、図2Bに示す方向aからの移載装置50の側面図である。   2A is a top view of the mounting table 20 according to the first embodiment, FIG. 2B is a top view of the elevating unit 30 according to the first embodiment, and FIG. 2C is a view obtained by superimposing FIGS. 2A and 2B. FIG. 3 is a side view of the transfer device 50 from the direction a shown in FIG. 2B.

図2Aで示すように、載置台20の載置ユニット21は、基板Wが載置される複数のローラ21a’を備えた複数のローラユニット21aと、基板Wを吸着保持して、載置ユニット21上の予め定めた位置に移動させる吸着ユニット21bと、から構成される。ローラ21a’は、基板Wが軌道Rに直交する方向に搬送される際に、その動きに従って回転する従動ローラである。   As shown in FIG. 2A, the mounting unit 21 of the mounting table 20 sucks and holds the plurality of roller units 21a including a plurality of rollers 21a ′ on which the substrate W is mounted, and the mounting unit 21. And a suction unit 21b that moves to a predetermined position on 21. The roller 21 a ′ is a driven roller that rotates according to the movement of the substrate W when it is transported in a direction perpendicular to the track R.

吸着ユニット21bは、基板Wを真空状態で吸着する吸着部21cと、吸着部21cをエア式やガス式のシリンダ等により、上下方向に昇降させる昇降機構(不図示)と、吸着部21cをレールに沿って、水平方向に移動させる移動機構(不図示)と、を有する。この構成によれば、吸着ユニット21bは、吸着部21cを上下方向及び水平方向に移動させることができる。   The adsorption unit 21b includes an adsorption unit 21c that adsorbs the substrate W in a vacuum state, an elevating mechanism (not shown) that moves the adsorption unit 21c up and down by an air or gas cylinder, and the adsorption unit 21c as a rail. And a moving mechanism (not shown) for moving in the horizontal direction. According to this configuration, the suction unit 21b can move the suction portion 21c in the vertical direction and the horizontal direction.

また、載置ユニット21は、ローラユニット21a間に形成される通過スペースSを有する。通過スペースSは、軌道Rの方向と直交する方向に延伸する通過スペースS’と、軌道Rと同一の方向に延伸する通過スペースS”と、から構成される。   Moreover, the mounting unit 21 has a passage space S formed between the roller units 21a. The passage space S includes a passage space S ′ extending in a direction orthogonal to the direction of the track R and a passage space S ″ extending in the same direction as the track R.

昇降ユニット30の載置部31は、図2B及び図3で示すように、軌道Rと同一の方向に延伸する部材31aと、部材31aに固定され、軌道Rに直交する方向に延伸する部材31bと、部材31bの上部に固定され、基板Wを直接支持する複数の支持ピン31cと、部材31bに固定され、基板Wが支持ピン31c上でずれることを防止するズレ防止ピン31dと、を有する。   2B and 3, the placement unit 31 of the elevating unit 30 includes a member 31a extending in the same direction as the track R, and a member 31b fixed to the member 31a and extending in a direction perpendicular to the track R. And a plurality of support pins 31c that are fixed to the upper part of the member 31b and directly support the substrate W, and a slip prevention pin 31d that is fixed to the member 31b and prevents the substrate W from shifting on the support pin 31c. .

ズレ防止ピン31dは、軌道Rと直交する方向のズレを防止するズレ防止ピン31d’と、軌道Rと同一の方向のズレを防止するズレ防止ピン31d”と、から構成される。本実施形態の場合、ズレ防止ピン31d’は、基板Wの正規の載置位置において、部材31bを基板Wの端部を越える位置まで延長して、部材31bの上面に立設する。また、ズレ防止ピン31d”は、部材31eを部材31aに固定し、部材31eを基板Wの端部を越える位置まで延長して、部材31eの上面に立設する。   The misalignment prevention pin 31d includes a misalignment prevention pin 31d ′ that prevents misalignment in the direction orthogonal to the track R, and a misalignment prevention pin 31d ″ that prevents misalignment in the same direction as the track R. This embodiment. In this case, the slip prevention pin 31d 'extends up the member 31b to a position beyond the end portion of the substrate W at the regular placement position of the substrate W. The slip prevention pin 31d' stands upright on the upper surface of the member 31b. 31d ″ fixes the member 31e to the member 31a, extends the member 31e to a position beyond the end of the substrate W, and stands on the upper surface of the member 31e.

図2Cで示すように、軌道Rの方向と直交する方向に形成される通過スペースS’には、昇降ユニット30の載置部31が通過し、軌道Rの方向と同一の方向に形成される通過スペースS”には、昇降ユニット30の支柱部32が通過する。これにより、移動ユニット10が移動する際にも、昇降ユニット30が昇降する際にも、載置ユニット21と干渉することなく動作することができる。   As shown in FIG. 2C, the mounting portion 31 of the elevating unit 30 passes through the passing space S ′ formed in a direction orthogonal to the direction of the track R and is formed in the same direction as the direction of the track R. The column portion 32 of the lifting / lowering unit 30 passes through the passing space S ″. Thereby, the moving unit 10 moves and the lifting / lowering unit 30 moves up and down without interfering with the placement unit 21. Can work.

図4A乃至図4Eは、基板搬送システム100の動作手順を示す図である。昇降ユニット30は、図4Aで示すように、載置台20の載置ユニット21の所定位置に基板Wが搬出されるまでの間、少なくとも支持ピン31c及びズレ防止ピン31d’が載置ユニット21の載置面から突出しない位置で待機している。なお、本実施形態の場合、載置ユニット21の載置面とは、ローラユニット21aの複数のローラ21a’における最も高い位置をつなぎ合わせて形成される平面である。   4A to 4E are diagrams illustrating an operation procedure of the substrate transfer system 100. FIG. As shown in FIG. 4A, the elevating unit 30 has at least the support pins 31 c and the displacement prevention pins 31 d ′ of the mounting unit 21 until the substrate W is carried out to a predetermined position of the mounting unit 21 of the mounting table 20. Waiting at a position that does not protrude from the mounting surface. In the present embodiment, the placement surface of the placement unit 21 is a plane formed by connecting the highest positions of the plurality of rollers 21a 'of the roller unit 21a.

基板Wが載置ユニット21の所定位置に搬出されると、昇降ユニット30は、図4Bで示すように、載置ユニット21の載置面よりも高い位置に載置部31を上昇させ、基板Wの荷重を支持するようになる。なお、この際、前述の通り、載置部31は、通過スペースS’を通過することで、載置台20を通過することができる。   When the substrate W is carried out to a predetermined position of the placement unit 21, the lifting unit 30 raises the placement unit 31 to a position higher than the placement surface of the placement unit 21, as shown in FIG. Supports the load of W. At this time, as described above, the placement unit 31 can pass through the placement table 20 by passing through the passage space S ′.

その後、昇降ユニット30の上昇が完了すると、移動ユニット10は、図4Cで示すように、軌道Rに沿って移動し、図4Dで示すように、所望の載置台20まで移動を完了する。なお、この際、前述の通り、支柱部32は、通過スペースS”を通過することで、載置台20を通過することができる。   After that, when the lifting of the elevating unit 30 is completed, the moving unit 10 moves along the track R as shown in FIG. 4C and completes the movement to the desired mounting table 20 as shown in FIG. 4D. At this time, as described above, the column portion 32 can pass through the mounting table 20 by passing through the passage space S ″.

移動ユニット10が所望の載置台20まで移動を完了すると、昇降ユニット10は、図4Eで示すように、載置部31が基板Wの載置面よりも低い位置になるまで下降する。これにより、載置ユニット21上に基板Wを受け渡すことができる。   When the movement unit 10 completes the movement to the desired mounting table 20, the lifting unit 10 moves down until the mounting unit 31 is positioned lower than the mounting surface of the substrate W as shown in FIG. 4E. As a result, the substrate W can be delivered onto the placement unit 21.

図5A乃至図5Fは、吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。ここで、基板処理装置210に近接する吸着ユニットを21bとし、基板処理装置220に近接する吸着ユニットを21b’とする。また、移動機構が移動するレールは、吸着ユニット21bに設けられるレールをレール2、吸着ユニット21b’に設けられるレールをレール2’とし、その端部をそれぞれ、基板処理装置210に近接する側から、2a、2b、2a’、及び2b’とする。   5A to 5F are diagrams illustrating an operation procedure of the suction unit 21b. Here, it is assumed that the suction unit adjacent to the substrate processing apparatus 210 is 21b, and the suction unit adjacent to the substrate processing apparatus 220 is 21b '. In addition, the rail on which the moving mechanism moves is the rail 2 provided on the suction unit 21b and the rail 2 ′ provided on the suction unit 21b ′, and the end thereof is from the side close to the substrate processing apparatus 210. 2a, 2b, 2a ′, and 2b ′.

まず、吸着ユニット21bは、図5Aで示すように、レール2の端部2aで待機していた吸着部21bを上昇させ、基板Wの載置台20に近接する端部近傍を吸着保持する。次に、吸着ユニット21bは、図5Bで示すように、レール2の端部2bまで、基板Wを吸着保持した吸着部21cを水平移動させる。その後、吸着ユニット21bは、基板Wの吸着保持を一時的に解除して、吸着部21cを下方に降下させ、端部21aの方向に予め定めた距離(例えば、200mm)だけ後退する。その後、図5Cで示すように、再び吸着部21cを上昇させ、基板Wを吸着保持する。   First, as shown in FIG. 5A, the suction unit 21 b raises the suction portion 21 b that has been waiting at the end 2 a of the rail 2, and sucks and holds the vicinity of the end of the substrate W that is close to the mounting table 20. Next, as illustrated in FIG. 5B, the suction unit 21 b horizontally moves the suction unit 21 c that sucks and holds the substrate W to the end 2 b of the rail 2. Thereafter, the suction unit 21b temporarily releases the suction holding of the substrate W, lowers the suction portion 21c downward, and moves backward by a predetermined distance (for example, 200 mm) in the direction of the end portion 21a. Thereafter, as shown in FIG. 5C, the suction portion 21c is raised again to hold the substrate W by suction.

吸着ユニット21bは、基板Wの保持位置を移動した後、さらに、基板Wの前端部分が、レール2’の端部2a’で待機している吸着部21c’の上方まで進む。そこで、図5Dで示すように、再び基板Wの搬出処理を停止して、吸着ユニット21bの吸着保持を解除する。吸着ユニット21b’は、吸着部21cの吸着解除までに、吸着部21cを上昇させておき、吸着部21cの吸着解除と同時に吸着部21c’を吸着保持させる。これにより、吸着ユニット21bから吸着ユニット21b’へ基板Wを受け渡す。   After the suction unit 21b moves the holding position of the substrate W, the front end portion of the substrate W further advances above the suction portion 21c 'waiting at the end 2a' of the rail 2 '. Therefore, as shown in FIG. 5D, the carrying-out process of the substrate W is stopped again, and the suction holding of the suction unit 21b is released. The adsorption unit 21b 'raises the adsorption unit 21c before the adsorption of the adsorption unit 21c is released, and adsorbs and holds the adsorption unit 21c' at the same time as the adsorption of the adsorption unit 21c is released. As a result, the substrate W is delivered from the suction unit 21b to the suction unit 21b '.

吸着ユニット21bは、基板Wの保持を解除すると、再びレール2の端部2aまで吸着部21cを移動させる。吸着ユニット21b’は、図5Eで示すように、レール2’の端部まで、基板Wを載置した吸着部21c’を移動させると、吸着部21c’の吸着保持を解除し、吸着部21cを下降させる。これにより、基板Wは、ローラ21a’上に載置された状態となる。最後に、吸着ユニット21bは、次の基板Wを吸着ユニット21bから受け取るために、再びレール2’の端部2a’に移動する。   When the suction unit 21b releases the holding of the substrate W, the suction unit 21c is moved to the end 2a of the rail 2 again. As shown in FIG. 5E, when the suction unit 21c ′ on which the substrate W is placed is moved to the end of the rail 2 ′, the suction unit 21b ′ releases the suction holding of the suction unit 21c ′, and the suction unit 21c. Is lowered. As a result, the substrate W is placed on the roller 21a '. Finally, the suction unit 21b moves again to the end 2a 'of the rail 2' in order to receive the next substrate W from the suction unit 21b.

その後、図5Fで示すように、載置台20の下方から昇降ユニット30が上昇して、支持ピン31cがローラ21a’の載置面よりも突出すると、基板Wは支持ピン31cに支持されるようになる。昇降ユニット30が、移動ユニット10により、軌道Rに沿って、所望の載置台20まで基板を搬送し、再び元の位置に戻ってきた場合には、前述と同様に、一連の基板Wの搬出処理が繰り返される。   Thereafter, as shown in FIG. 5F, when the elevating unit 30 ascends from below the mounting table 20 and the support pins 31c protrude from the mounting surface of the roller 21a ′, the substrate W is supported by the support pins 31c. become. When the elevating unit 30 transports the substrate to the desired mounting table 20 along the track R by the moving unit 10 and returns to the original position again, the series of substrates W is unloaded as described above. The process is repeated.

なお、吸着ユニット21bは、基板処理装置210内に既に処理済みの基板Wが待機している場合には、載置台20自体は移動せずに固定されているため、移動ユニット10が軌道R上を移動している際でも、新たな基板Wを載置台20上に搬出する設定とすることも可能である。   The suction unit 21b is fixed so that the mounting table 20 itself is not moved when the already processed substrate W is waiting in the substrate processing apparatus 210. It is also possible to set so that a new substrate W is carried out on the mounting table 20 even when the is moving.

本実施形態に係る構成によれば、昇降ユニット30は、移動ユニット10が軌道R上を移動する際、及び昇降ユニット30の載置部31が昇降する際に、載置台20の載置ユニット21と干渉することなく通過することができる。すなわち、移動ユニット10が基板処理装置210から基板処理装置220までの間を移動している間でも、基板Wを載置ユニット21上に搬出することができる。これにより、基板Wの搬出元となる基板処理装置210から搬出される基板Wが、基板Wの搬出先となる基板処理装置220までの間の基板Wの搬送効率を向上することができる。   According to the structure which concerns on this embodiment, when the moving unit 10 moves on the track | orbit R, and when the mounting part 31 of the raising / lowering unit 30 raises / lowers, the raising / lowering unit 30 is the mounting unit 21 of the mounting base 20. Can pass through without interfering with. That is, the substrate W can be carried out onto the placement unit 21 even while the moving unit 10 is moving between the substrate processing apparatus 210 and the substrate processing apparatus 220. Thereby, the conveyance efficiency of the board | substrate W between the board | substrate W carried out from the substrate processing apparatus 210 used as the carrying-out origin of the board | substrate W to the board | substrate processing apparatus 220 used as the carrying-out destination of the board | substrate W can be improved.

なお、ローラユニット21aは、本実施形態では、ローラ21a’を回転させるための駆動源を有さず、基板Wの動きに従って動く従動ローラのみを備えるものであったため、基板Wを吸着して載置台30の予め定めた位置に搬送する吸着ユニット21bをローラユニット21aとは別に設けたが、ローラユニット21aが駆動源を有し、駆動源により、ローラを回転させて、基板Wを載置台20の予め定めた位置に搬送する構成としてもよい。   In this embodiment, the roller unit 21a does not have a drive source for rotating the roller 21a ′, and includes only a driven roller that moves according to the movement of the substrate W. Although the suction unit 21b for transporting to a predetermined position of the mounting table 30 is provided separately from the roller unit 21a, the roller unit 21a has a driving source, and the roller is rotated by the driving source to place the substrate W on the mounting table 20. It is good also as a structure conveyed to a predetermined position.

この構成によれば、吸着ユニット21bの代わりに駆動源を設けたため、載置ユニット21の構成を簡素化することができる。これにより、コストを低減できると共に、故障の低減によって設備稼働率を向上することも可能となる。   According to this configuration, since the drive source is provided instead of the suction unit 21b, the configuration of the mounting unit 21 can be simplified. As a result, the cost can be reduced and the facility operation rate can be improved by reducing the failure.

なお、吸着ユニット21bは、本実施形態では、基板Wを吸着保持した状態で搬出したが、吸着ユニット21bは、基板Wを吸着保持せずに、基板Wの荷重を支持した状態で搬出する構成としても構わない。   In the present embodiment, the suction unit 21b is carried out in a state in which the substrate W is sucked and held. However, the suction unit 21b is configured to carry out the substrate W while holding the load of the substrate W without sucking and holding the substrate W. It does not matter.

なお、本実施形態では、軌道Rの一方の片脇に基板の搬出元となる基板処理装置210が配され、軌道Rの他方の片脇に基板の搬出先となる基板処理装置220が配されたシステムを想定したが、本発明は、基板の搬出元及び搬出先となる基板処理装置が軌道Rの一方の片脇のみに配置されたシステムにも適用することができる。この場合には、例えば、基板の搬出元となる基板処理装置と基板の搬出先となる基板処理装置とが、軌道Rに沿って片脇のみに隣接して配置され、基板処理装置での処理後に、順次隣接する基板処理装置に基板を搬送するシステムとすることができる。   In the present embodiment, a substrate processing apparatus 210 serving as a substrate carry-out source is disposed on one side of the track R, and a substrate processing apparatus 220 serving as a substrate unloading destination is disposed on the other side of the track R. However, the present invention can also be applied to a system in which a substrate processing apparatus serving as a substrate carry-out source and a carry-out destination is disposed only on one side of the track R. In this case, for example, the substrate processing apparatus serving as the substrate unloading source and the substrate processing apparatus serving as the substrate unloading destination are disposed along the track R and adjacent to only one side, and processing by the substrate processing apparatus is performed. Later, a system can be provided in which substrates are sequentially transferred to adjacent substrate processing apparatuses.

また、本実施形態では、基板処理装置210及び220が複数配置されたシステムを想定したが、基板収容装置及び基板処理装置が少なくとも1つずつ配置されたシステムであれば、本発明を適用することができる。さらに、本実施形態では、基板処理装置210と基板処理装置220との間で載置台20を介して、基板Wを搬送する場合を想定したが、基板処理装置210と載置台20との間、又は基板処理装置220と載置台20との間にコンベア等の搬送装置を備えていても構わない。   In this embodiment, a system in which a plurality of substrate processing apparatuses 210 and 220 are arranged is assumed. However, the present invention is applied to a system in which at least one substrate storage apparatus and one substrate processing apparatus are arranged. Can do. Furthermore, in the present embodiment, it is assumed that the substrate W is transported between the substrate processing apparatus 210 and the substrate processing apparatus 220 via the mounting table 20, but between the substrate processing apparatus 210 and the mounting table 20, Alternatively, a transport device such as a conveyor may be provided between the substrate processing apparatus 220 and the mounting table 20.

[変形例1]
第1実施形態では、ローラ21a’上に基板Wを載置することで、基板Wを搬送する際に載置台20との間で生じる摩擦を緩和したが、本変形例では、載置ユニット21はローラユニット21aを備えておらず、他の手段によりこの摩擦を緩和する点で異なる。なお、本変形例では、第1実施形態と同一の構成には、同一の符号を付し、説明を省略する。
[Modification 1]
In the first embodiment, by placing the substrate W on the roller 21 a ′, the friction generated between the substrate W and the placement table 20 when the substrate W is transported is reduced. Does not include the roller unit 21a, and is different in that this friction is reduced by other means. In this modification, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図6は、第1実施形態の変形例1に係る載置台20の上面図である。載置台20の載置ユニット21は、エアを噴き出す噴出口21d’が複数形成された上面21d”を有し、基板Wを浮遊させる複数のエア噴出ユニット21dから構成される。また、各エア噴出ユニット21dの間には、通過スペースS’が形成される。   FIG. 6 is a top view of the mounting table 20 according to the first modification of the first embodiment. The mounting unit 21 of the mounting table 20 includes a plurality of air ejection units 21d that have a top surface 21d ″ formed with a plurality of ejection ports 21d ′ through which air is ejected and float the substrate W. Each air ejection A passing space S ′ is formed between the units 21d.

基板Wを載置台20上に搬出する際には、噴出口21d’から高圧のエアを噴き出して、基板Wを浮遊させ、吸着ユニット21bにより、上述の第1実施形態と同様に、載置台20上に基板Wを搬出する。   When unloading the substrate W onto the mounting table 20, high-pressure air is ejected from the ejection port 21 d ′ to float the substrate W, and the suction unit 21 b causes the mounting table 20 to be the same as in the first embodiment described above. The substrate W is unloaded.

本変形例に係る構成によれば、エア噴出ユニット21dで基板Wを浮遊させて搬送することにより、基板Wと上面21d”との間の摩擦を軽減し、基板Wに傷が付くことを低減することができる。   According to the configuration according to this modification, the substrate W is floated and transported by the air ejection unit 21d, thereby reducing the friction between the substrate W and the upper surface 21d "and reducing the damage to the substrate W. can do.

<第2実施形態>
第1実施形態の基板搬送システム100は、軌道Rに沿って配置された複数の基板処理装置200間で基板を搬送するシステムであったが、本実施形態の基板搬送システム300は、軌道Rに沿って配置された、基板収容装置410と基板処理装置420との間で基板を搬送するシステムである点で異なる。なお、基板搬送システム300自体は、第1実施形態の基板搬送システム100と同様の構成であるため、同一の符号を付し、説明を省略する。
<Second Embodiment>
The substrate transport system 100 according to the first embodiment is a system that transports a substrate between a plurality of substrate processing apparatuses 200 arranged along the track R. However, the substrate transport system 300 according to the present embodiment is arranged along the track R. It differs in that it is a system that transports a substrate between the substrate storage device 410 and the substrate processing device 420 arranged along the same. The substrate transfer system 300 itself has the same configuration as the substrate transfer system 100 of the first embodiment, and thus the same reference numerals are given and description thereof is omitted.

図7は、第2実施形態に係る基板搬送システム300の全体斜視図であり、図8は、基板収容装置410の分解斜視図である。基板搬送システム300は、基板Wの搬出元となる基板収容装置410から基板Wの搬出先となる基板処理装置420へ基板Wを搬送するシステムである。   FIG. 7 is an overall perspective view of the substrate transport system 300 according to the second embodiment, and FIG. 8 is an exploded perspective view of the substrate accommodating device 410. The substrate transport system 300 is a system that transports the substrate W from the substrate storage device 410 that is the source of the substrate W to the substrate processing device 420 that is the destination of the substrate W.

基板収容装置410は、軌道Rに沿って、3台の基板収容装置411、412、413が隣接して設けられる。また、基板処理装置420は、軌道Rに沿って、基板収容装置411、412、413とそれぞれ対面する位置に、3台の基板処理装置421、422、423が隣接して設けられる。   The substrate accommodation device 410 is provided with three substrate accommodation devices 411, 412, and 413 adjacent to each other along the track R. Further, the substrate processing apparatus 420 is provided with three substrate processing apparatuses 421, 422, and 423 adjacent to each other along the track R at positions facing the substrate receiving apparatuses 411, 412, and 413, respectively.

基板収容装置410は、図8で示すように、基板Wを収容するカセット410’と、カセット410’の両側に設けられた昇降機構414と、カセット410’の下方に設けられた載置台415と、を備える。カセット410’は、基板Wを水平姿勢で支持する基板支持部416を有する。基板支持部416は、上下方向に延びる部材1a、1b間に複数配設される棒状体であり、例えば、ゴムで被覆された金属やウレタン等で構成される。   As shown in FIG. 8, the substrate storage device 410 includes a cassette 410 ′ for storing substrates W, an elevating mechanism 414 provided on both sides of the cassette 410 ′, and a mounting table 415 provided below the cassette 410 ′. . The cassette 410 ′ has a substrate support portion 416 that supports the substrate W in a horizontal posture. The substrate support portion 416 is a rod-like body disposed between the members 1a and 1b extending in the vertical direction, and is made of, for example, metal or urethane covered with rubber.

昇降機構414は、カセット410’の荷重を支持するカセット支持部414aと、カセット支持部414aを上下方向に移動させる駆動部414bと、上下方向に移動するカセット支持部414aの水平状態をガイドするガイド部414cと、を有する。   The elevating mechanism 414 guides the horizontal state of the cassette support portion 414a that supports the load of the cassette 410 ′, the drive portion 414b that moves the cassette support portion 414a in the vertical direction, and the cassette support portion 414a that moves in the vertical direction. Part 414c.

駆動部414bは、モータ等の駆動源(不図示)を有し、駆動源からの回転運動をラックピニオン等の方式により上下方向の運動に変換する。カセット410’をカセット支持部414aに載置することにより、カセット支持部414aの上下方向の移動に伴って、カセット410’を昇降させることができる。   The drive unit 414b has a drive source (not shown) such as a motor, and converts the rotational movement from the drive source into vertical movement by a system such as a rack and pinion. By placing the cassette 410 'on the cassette support 414a, the cassette 410' can be moved up and down as the cassette support 414a moves in the vertical direction.

また、載置台415は、カセット410’内に収容された基板Wを一時的に載置する台であり、複数のローラ415”と、ローラ415”を駆動するモータ等の駆動源(不図示)と、を有するローラユニット415’を備える。   The mounting table 415 is a table on which the substrate W accommodated in the cassette 410 ′ is temporarily mounted, and a driving source (not shown) such as a plurality of rollers 415 ″ and a motor for driving the rollers 415 ″. And a roller unit 415 ′ having.

なお、載置台415は、カセット415が下降した状態で、内部に収まる寸法で構成されるため、最上段の基板支持部416に収容された基板Wを搬出する際であっても、カセット410’と干渉することなく、基板Wを搬出することができる。   Since the mounting table 415 is configured to fit inside the cassette 415 in a lowered state, even when the substrate W accommodated in the uppermost substrate support portion 416 is carried out, the cassette 410 ′. The substrate W can be carried out without interfering with.

図9A及び図9Bは、基板収容装置410の基板搬出処理の動作手順を示す図である。まず、カセット410’に収容された基板Wを載置台20上に搬出する際には、図9Aで示すように、基板Wの荷重が基板支持部416に支持された状態から、載置台415のローラ415”に支持される状態になるまで、昇降機構414を降下させる。その後、図9Bで示すように、駆動源によりローラ415”を駆動させることで、載置台415から載置台20に基板Wを搬出する。   FIG. 9A and FIG. 9B are diagrams showing the operation procedure of the substrate carry-out process of the substrate accommodating device 410. First, when the substrate W accommodated in the cassette 410 ′ is carried out onto the mounting table 20, as shown in FIG. 9A, the load of the substrate W is changed from the state in which the load of the substrate W is supported by the substrate supporting unit 416. The raising / lowering mechanism 414 is lowered until it is supported by the roller 415 ″. Thereafter, as shown in FIG. 9B, the roller 415 ″ is driven by a driving source so that the substrate W is transferred from the mounting table 415 to the mounting table 20. Unload.

本実施形態に係る構成によれば、基板Wの搬出元となる装置が、基板収容装置410であっても、基板Wを効率的に搬送することができる。   According to the configuration according to the present embodiment, the substrate W can be efficiently transported even if the device serving as the carry-out source of the substrate W is the substrate storage device 410.

なお、本実施形態では、ローラユニット415’が駆動源を有する場合を想定したが、ローラユニット415’が駆動源を有しない場合には、第1実施形態と同様に、載置ユニット21に設けられた吸着ユニット21bにより、載置台415から載置台20に基板Wを搬出してもよい。   In the present embodiment, it is assumed that the roller unit 415 ′ has a drive source. However, if the roller unit 415 ′ does not have a drive source, the mounting unit 21 is provided as in the first embodiment. The substrate W may be carried out from the mounting table 415 to the mounting table 20 by the suction unit 21b.

なお、本実施形態では、軌道Rの一方の片脇に基板の搬出元となる基板収容装置410が配され、軌道Rの他方の片脇に基板の搬出先となる基板処理装置420が配されたシステムを想定したが、本発明は、基板収容装置と基板処理装置とが共に軌道Rの一方の片脇に隣接して配置されたシステムにも適用することができる。   In the present embodiment, a substrate container 410 serving as a substrate carry-out source is arranged on one side of the track R, and a substrate processing apparatus 420 serving as a substrate carry-out destination is arranged on the other side of the track R. However, the present invention can also be applied to a system in which both the substrate storage device and the substrate processing apparatus are disposed adjacent to one side of the track R.

また、本実施形態では、基板収容装置410が基板の搬出元となり、基板処理装置420が基板の搬出先となるシステムを想定したが、基板処理装置420が基板の搬出元となり、基板収容装置410が基板の搬出先となるシステムであっても構わない。   Further, in the present embodiment, a system is assumed in which the substrate storage device 410 serves as a substrate carry-out source and the substrate processing device 420 serves as a substrate carry-out destination. However, the substrate processing device 420 serves as a substrate carry-out source and the substrate storage device 410. May be a system to which the substrate is unloaded.

また、本実施形態では、基板収容装置410及び基板処理装置420が複数配置されたシステムを想定したが、基板収容装置及び基板処理装置が少なくとも1つずつ配置されたシステムであれば、本発明を適用することができる。さらに、本実施形態では、基板収容装置410と基板処理装置420との間で載置台415を介して、基板Wを搬送する場合を想定したが、基板収容装置410と載置台415との間、又は基板処理装置410と載置台415との間にコンベア等の搬送装置を備えていても構わない。   In the present embodiment, a system in which a plurality of substrate storage apparatuses 410 and substrate processing apparatuses 420 are arranged is assumed. However, the present invention is not limited to a system in which at least one substrate storage apparatus and one substrate processing apparatus are arranged. Can be applied. Furthermore, in this embodiment, although the case where the board | substrate W was conveyed via the mounting base 415 between the substrate accommodating apparatus 410 and the substrate processing apparatus 420 was assumed, between the substrate accommodating apparatus 410 and the mounting base 415, Alternatively, a transport device such as a conveyor may be provided between the substrate processing apparatus 410 and the mounting table 415.

さらに、基板収容装置のみが、軌道Rに沿って複数配置されている場合においても、本発明を適用することにより、基板収容装置間で基板を移し替える処理を実行することができる。   Furthermore, even when only a plurality of substrate storage devices are arranged along the track R, by applying the present invention, a process of transferring a substrate between the substrate storage devices can be executed.

Claims (8)

予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置から搬出先となる装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、
基板の搬出元となる各々の前記装置毎に配置され、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置台と、
前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、
前記載置台は、
基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、
前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、
前記載置ユニットは、
前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システム。
In a substrate transfer system that includes a moving unit that reciprocates on a predetermined track, and that transfers a substrate from a device that is a substrate take-out source to a device that is a take-out destination among a plurality of devices arranged along the track. ,
A placement table on which each of the devices serving as a substrate unloading source is placed, and a substrate unloaded from the device serving as a substrate unloading source is placed;
An elevating unit provided in the moving unit, elevating and lowering a substrate placed on the mounting table,
The table above is
A mounting unit on which a substrate unloaded from the apparatus that is a substrate unloading source is mounted;
A support member that supports the mounting unit on the track and above the moving unit;
The above unit is
A substrate transfer system comprising a passage space through which the lifting unit passes when the moving unit moves and when the lifting unit moves up and down.
前記昇降ユニットは、
前記軌道と直交する方向に延び、基板が載置される載置部と、
前記移動ユニットに立設され、前記載置部を支持する支柱部と、を備え、
前記通過スペースは、
前記載置部が通過する第1の通過スペースと、
前記支柱部が通過する第2の通過スペースと、
を有することを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。
The lifting unit is
A mounting portion that extends in a direction perpendicular to the trajectory and on which the substrate is mounted;
A supporting column that is erected on the moving unit and supports the placement unit,
The passing space is
A first passage space through which the placement unit passes;
A second passage space through which the support column passes;
The substrate transfer system according to claim 1, further comprising:
前記載置ユニットは、前記基板が載置される複数のローラを備えた複数のローラユニットから構成され、
前記通過スペースは、前記ローラユニット間に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。
The placing unit is composed of a plurality of roller units including a plurality of rollers on which the substrate is placed,
The substrate transfer system according to claim 1, wherein the passage space is formed between the roller units.
前記載置ユニットは、エアの噴出口が複数形成された上面を有し、基板を浮遊させる複数のエア噴出ユニットから構成され、
前記通過スペースは、前記エア噴出ユニット間に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。
The mounting unit has a top surface on which a plurality of air ejection ports are formed, and is composed of a plurality of air ejection units that float the substrate.
The substrate transfer system according to claim 1, wherein the passage space is formed between the air ejection units.
前記ローラユニットは、少なくとも何れかの前記ローラを回転させる駆動手段を備えたことを特徴とする請求項3に記載の基板搬送システム。   The substrate transfer system according to claim 3, wherein the roller unit includes a driving unit that rotates at least one of the rollers. 前記ローラが従動ローラであり、
前記載置ユニットは、
基板を保持して前記載置ユニット上の予め定めた位置に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求項3に記載の基板搬送システム。
The roller is a driven roller;
The above unit is
4. The substrate transfer system according to claim 3, further comprising moving means for holding and moving the substrate to a predetermined position on the mounting unit.
前記載置ユニットは、
基板を保持して前記載置ユニット上の予め定めた位置に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求項4に記載の基板搬送システム。
The above unit is
5. The substrate transfer system according to claim 4, further comprising moving means for holding and moving the substrate to a predetermined position on the placement unit.
予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置され、基板を水平姿勢で支持する基板支持部を上下方向に複数備えた複数の基板収容装置から、前記軌道に沿って配置された基板処理装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、
各々の前記基板収容装置毎に配置され、前記基板収容装置から搬出される基板が水平姿勢で載置される載置台と、
前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、
前記載置台は、
前記基板収容装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、
前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、
前記載置ユニットは、
前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システム。
A plurality of substrate storage devices each including a moving unit that reciprocally moves on a predetermined track and arranged along the track and supporting a substrate in a horizontal posture in a vertical direction. In a substrate transfer system for transferring a substrate to a substrate processing apparatus arranged in a
A mounting table that is arranged for each of the substrate storage devices and on which a substrate unloaded from the substrate storage device is mounted in a horizontal posture;
An elevating unit provided in the moving unit, elevating and lowering a substrate placed on the mounting table,
The table above is
A mounting unit on which a substrate unloaded from the substrate storage device is mounted;
A support member that supports the mounting unit on the track and above the moving unit;
The above unit is
A substrate transfer system comprising a passage space through which the lifting unit passes when the moving unit moves and when the lifting unit moves up and down.
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