JPWO2008129603A1 - Substrate transfer system - Google Patents
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Abstract
予め定めた軌道(R)上を往復移動する移動ユニット(10)を備え、軌道(R)に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置(210)から搬出先となる装置(220)へ基板を搬送する基板搬送システム(100)において、基板の搬出元となる各々の装置(211、212、213)毎に配置され、基板の搬出元となる装置(210)から搬出される基板が載置される載置台20と、移動ユニット(10)に設けられ、載置台(20)に載置された基板を昇降する昇降ユニット(30)と、を備え、載置台(20)は、基板の搬出元となる装置(210)から搬出される基板が載置される載置ユニット21と、載置ユニット(21)を、軌道(R)上であって移動ユニット(10)よりも上方において支持する支持部材(22)と、を備え、載置ユニット(21)は、移動ユニット10の移動及び昇降ユニット(30)の昇降の際、昇降ユニット(30)が通過する通過スペース(S)を有することを特徴とする。A moving unit (10) that reciprocates on a predetermined trajectory (R) is provided, and among a plurality of devices arranged along the trajectory (R), an unloading destination from an apparatus (210) that is a substrate unloading source In the substrate transport system (100) for transporting the substrate to the device (220), each device (211, 212, 213) that is a substrate carry-out source is arranged from the device (210) that is a substrate carry-out source. A mounting table 20 on which the substrate to be unloaded is mounted; and a lifting unit (30) that is provided on the moving unit (10) and moves up and down the substrate mounted on the mounting table (20). 20) shows a placement unit 21 on which a substrate to be unloaded from a device (210) that is a substrate unloading source is placed, and a placement unit (21) on a trajectory (R) on a moving unit (10). Support that supports above) The mounting unit (21) has a passage space (S) through which the elevating unit (30) passes when the moving unit 10 moves and the elevating unit (30) moves up and down. Features.
Description
本発明は、基板を搬送する技術に関する。 The present invention relates to a technique for transporting a substrate.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のFPD(フラットパネルディスプレイ)製造ラインでは、基板を多段に収容するカセットや種々の処理を行う処理装置の間で基板を搬送する必要がある。 In an FPD (flat panel display) production line such as a liquid crystal display or a plasma display, it is necessary to transport the substrate between cassettes that accommodate the substrate in multiple stages and processing apparatuses that perform various processes.
特許文献1では、カセットから搬出した基板を載置する載置台と、載置台に載置された基板を処理装置へ投入するアームと、が一体化しており、複数のカセットや処理装置に対して基板を搬送できるように、載置台が走行レール上を移動する技術が開示されている。 In Patent Document 1, a mounting table for mounting a substrate unloaded from a cassette and an arm for loading the substrate mounted on the mounting table into a processing apparatus are integrated. A technique is disclosed in which a mounting table moves on a traveling rail so that a substrate can be conveyed.
また、特許文献2では、カセットから搬出された基板を載置するコンベアが、走行レールに沿って、複数のカセットや処理装置の間を移動する技術が開示されている。
しかしながら、特許文献1及び2に開示されている技術では、カセットから搬出された基板を載置する載置台(例えば、コンベア)自体が、次工程となる処理装置等の面前まで移動して基板を受け渡すため、載置台がカセットの面前に戻るまでに時間を要する。すなわち、その間は基板を処理装置等から載置台に搬出することができないため、サイクルタイムの向上を阻害する要因となり得る。
However, in the techniques disclosed in
そこで、本発明は、基板の搬出元となる装置から基板の搬出先となる装置までの間の基板の搬送効率を向上することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to improve the efficiency of transporting a substrate from a device that is a substrate carry-out source to a device that is a substrate carry-out destination.
上記課題を解決するため、本発明においては、予め定めた軌道上を往復移動する移動ユニットを備え、前記軌道に沿って配置された複数の装置のうち、基板の搬出元となる装置から搬出先となる装置へ基板を搬送する基板搬送システムにおいて、基板の搬出元となる各々の前記装置毎に配置され、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置台と、前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、前記載置台は、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、前記載置ユニットは、前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システムが提供される。 In order to solve the above-described problems, in the present invention, a moving unit that reciprocates on a predetermined track is provided, and among a plurality of devices arranged along the track, the substrate is transferred from a device that is a transfer source. In the substrate transport system for transporting a substrate to the device to be, a placement table on which each substrate serving as a substrate unloading source is disposed and a substrate unloaded from the device serving as a substrate unloading source is placed; An elevating unit that elevates and lowers the substrate placed on the mounting table. The mounting table is a mounting on which a substrate to be unloaded from the apparatus serving as a substrate unloading source is placed. A mounting unit, and a support member that supports the mounting unit on the track and above the moving unit. The mounting unit moves the moving unit and moves the lifting unit. During lifting, the substrate transfer system characterized by having a passage space for the elevating unit passes is provided.
この構成によれば、前記載置ユニットは、前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有するため、前記載置台を通過して移動及び昇降することができる。すなわち、前記移動ユニットが基板の搬出元となる前記装置から基板の搬出先となる前記装置までの間を移動している間でも、基板を前記載置ユニット上に搬出することができる。これにより、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が基板の搬出先となる前記装置までの間の基板の搬送効率を向上することができる。 According to this configuration, the mounting unit has a passing space through which the lifting unit passes when the moving unit moves and the lifting unit moves up and down, so that the mounting unit moves and moves up and down through the mounting table. Can do. That is, the substrate can be unloaded onto the mounting unit even while the moving unit is moving from the device serving as the substrate unloading source to the device serving as the substrate unloading destination. Thereby, the board | substrate carrying efficiency from the said apparatus used as the board | substrate carrying-out origin to the said apparatus used as the board | substrate carrying-out destination can be improved.
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板搬送システム100の全体斜視図である。基板搬送システム100は、予め定めた軌道R上を往復移動する移動ユニット10を備え、軌道Rに沿って配置された複数の基板処理装置200のうち、基板の搬出元となる基板処理装置210から搬出先となる基板処理装置220へ基板を搬送するシステムである。<First Embodiment>
FIG. 1 is an overall perspective view of a
基板処理装置210は、軌道Rに沿って、基板処理装置211、212、213の3台が隣接して設けられる。また、基板処理装置220は、軌道Rに沿って、基板処理装置211、212、213とそれぞれ対面する位置に、基板処理装置221、222、223の3台が隣接して設けられる。
The
また、基板搬送システム100は、移動ユニット10及び昇降ユニット30を有する移載装置50と、基板処理装置211、212、213の面前に配置される載置台20と、を備える。移動ユニット10は、モータ等の駆動源11を有し、軌道R上を走行する。載置台20は、基板処理装置210から搬出される基板が載置される載置ユニット21と、載置ユニット21を、軌道R上であって、移動ユニット10よりも上方において支持する支持部材22と、を備える。
In addition, the
昇降ユニット30は、移動ユニット10に固定され、載置台20に載置された基板を昇降するものであり、例えばエア式やガス式のシリンダで構成される。また、昇降ユニット30は、軌道Rと直交する方向に延び、基板が載置される載置部31と、移動ユニット10に立設され、載置部31を支持する支柱部32と、を備える。
The elevating
図2Aは第1実施形態に係る載置台20の上面図、図2Bは第1実施形態に係る昇降ユニット30の上面図、図2Cは図2A及び図2Bを重ね合わせた図である。また、図3は、図2Bに示す方向aからの移載装置50の側面図である。
2A is a top view of the mounting table 20 according to the first embodiment, FIG. 2B is a top view of the elevating
図2Aで示すように、載置台20の載置ユニット21は、基板Wが載置される複数のローラ21a’を備えた複数のローラユニット21aと、基板Wを吸着保持して、載置ユニット21上の予め定めた位置に移動させる吸着ユニット21bと、から構成される。ローラ21a’は、基板Wが軌道Rに直交する方向に搬送される際に、その動きに従って回転する従動ローラである。
As shown in FIG. 2A, the
吸着ユニット21bは、基板Wを真空状態で吸着する吸着部21cと、吸着部21cをエア式やガス式のシリンダ等により、上下方向に昇降させる昇降機構(不図示)と、吸着部21cをレールに沿って、水平方向に移動させる移動機構(不図示)と、を有する。この構成によれば、吸着ユニット21bは、吸着部21cを上下方向及び水平方向に移動させることができる。
The
また、載置ユニット21は、ローラユニット21a間に形成される通過スペースSを有する。通過スペースSは、軌道Rの方向と直交する方向に延伸する通過スペースS’と、軌道Rと同一の方向に延伸する通過スペースS”と、から構成される。
Moreover, the mounting
昇降ユニット30の載置部31は、図2B及び図3で示すように、軌道Rと同一の方向に延伸する部材31aと、部材31aに固定され、軌道Rに直交する方向に延伸する部材31bと、部材31bの上部に固定され、基板Wを直接支持する複数の支持ピン31cと、部材31bに固定され、基板Wが支持ピン31c上でずれることを防止するズレ防止ピン31dと、を有する。
2B and 3, the
ズレ防止ピン31dは、軌道Rと直交する方向のズレを防止するズレ防止ピン31d’と、軌道Rと同一の方向のズレを防止するズレ防止ピン31d”と、から構成される。本実施形態の場合、ズレ防止ピン31d’は、基板Wの正規の載置位置において、部材31bを基板Wの端部を越える位置まで延長して、部材31bの上面に立設する。また、ズレ防止ピン31d”は、部材31eを部材31aに固定し、部材31eを基板Wの端部を越える位置まで延長して、部材31eの上面に立設する。
The
図2Cで示すように、軌道Rの方向と直交する方向に形成される通過スペースS’には、昇降ユニット30の載置部31が通過し、軌道Rの方向と同一の方向に形成される通過スペースS”には、昇降ユニット30の支柱部32が通過する。これにより、移動ユニット10が移動する際にも、昇降ユニット30が昇降する際にも、載置ユニット21と干渉することなく動作することができる。
As shown in FIG. 2C, the mounting
図4A乃至図4Eは、基板搬送システム100の動作手順を示す図である。昇降ユニット30は、図4Aで示すように、載置台20の載置ユニット21の所定位置に基板Wが搬出されるまでの間、少なくとも支持ピン31c及びズレ防止ピン31d’が載置ユニット21の載置面から突出しない位置で待機している。なお、本実施形態の場合、載置ユニット21の載置面とは、ローラユニット21aの複数のローラ21a’における最も高い位置をつなぎ合わせて形成される平面である。
4A to 4E are diagrams illustrating an operation procedure of the
基板Wが載置ユニット21の所定位置に搬出されると、昇降ユニット30は、図4Bで示すように、載置ユニット21の載置面よりも高い位置に載置部31を上昇させ、基板Wの荷重を支持するようになる。なお、この際、前述の通り、載置部31は、通過スペースS’を通過することで、載置台20を通過することができる。
When the substrate W is carried out to a predetermined position of the
その後、昇降ユニット30の上昇が完了すると、移動ユニット10は、図4Cで示すように、軌道Rに沿って移動し、図4Dで示すように、所望の載置台20まで移動を完了する。なお、この際、前述の通り、支柱部32は、通過スペースS”を通過することで、載置台20を通過することができる。
After that, when the lifting of the elevating
移動ユニット10が所望の載置台20まで移動を完了すると、昇降ユニット10は、図4Eで示すように、載置部31が基板Wの載置面よりも低い位置になるまで下降する。これにより、載置ユニット21上に基板Wを受け渡すことができる。
When the
図5A乃至図5Fは、吸着ユニット21bの動作手順を示す図である。ここで、基板処理装置210に近接する吸着ユニットを21bとし、基板処理装置220に近接する吸着ユニットを21b’とする。また、移動機構が移動するレールは、吸着ユニット21bに設けられるレールをレール2、吸着ユニット21b’に設けられるレールをレール2’とし、その端部をそれぞれ、基板処理装置210に近接する側から、2a、2b、2a’、及び2b’とする。
5A to 5F are diagrams illustrating an operation procedure of the
まず、吸着ユニット21bは、図5Aで示すように、レール2の端部2aで待機していた吸着部21bを上昇させ、基板Wの載置台20に近接する端部近傍を吸着保持する。次に、吸着ユニット21bは、図5Bで示すように、レール2の端部2bまで、基板Wを吸着保持した吸着部21cを水平移動させる。その後、吸着ユニット21bは、基板Wの吸着保持を一時的に解除して、吸着部21cを下方に降下させ、端部21aの方向に予め定めた距離(例えば、200mm)だけ後退する。その後、図5Cで示すように、再び吸着部21cを上昇させ、基板Wを吸着保持する。
First, as shown in FIG. 5A, the
吸着ユニット21bは、基板Wの保持位置を移動した後、さらに、基板Wの前端部分が、レール2’の端部2a’で待機している吸着部21c’の上方まで進む。そこで、図5Dで示すように、再び基板Wの搬出処理を停止して、吸着ユニット21bの吸着保持を解除する。吸着ユニット21b’は、吸着部21cの吸着解除までに、吸着部21cを上昇させておき、吸着部21cの吸着解除と同時に吸着部21c’を吸着保持させる。これにより、吸着ユニット21bから吸着ユニット21b’へ基板Wを受け渡す。
After the
吸着ユニット21bは、基板Wの保持を解除すると、再びレール2の端部2aまで吸着部21cを移動させる。吸着ユニット21b’は、図5Eで示すように、レール2’の端部まで、基板Wを載置した吸着部21c’を移動させると、吸着部21c’の吸着保持を解除し、吸着部21cを下降させる。これにより、基板Wは、ローラ21a’上に載置された状態となる。最後に、吸着ユニット21bは、次の基板Wを吸着ユニット21bから受け取るために、再びレール2’の端部2a’に移動する。
When the
その後、図5Fで示すように、載置台20の下方から昇降ユニット30が上昇して、支持ピン31cがローラ21a’の載置面よりも突出すると、基板Wは支持ピン31cに支持されるようになる。昇降ユニット30が、移動ユニット10により、軌道Rに沿って、所望の載置台20まで基板を搬送し、再び元の位置に戻ってきた場合には、前述と同様に、一連の基板Wの搬出処理が繰り返される。
Thereafter, as shown in FIG. 5F, when the elevating
なお、吸着ユニット21bは、基板処理装置210内に既に処理済みの基板Wが待機している場合には、載置台20自体は移動せずに固定されているため、移動ユニット10が軌道R上を移動している際でも、新たな基板Wを載置台20上に搬出する設定とすることも可能である。
The
本実施形態に係る構成によれば、昇降ユニット30は、移動ユニット10が軌道R上を移動する際、及び昇降ユニット30の載置部31が昇降する際に、載置台20の載置ユニット21と干渉することなく通過することができる。すなわち、移動ユニット10が基板処理装置210から基板処理装置220までの間を移動している間でも、基板Wを載置ユニット21上に搬出することができる。これにより、基板Wの搬出元となる基板処理装置210から搬出される基板Wが、基板Wの搬出先となる基板処理装置220までの間の基板Wの搬送効率を向上することができる。
According to the structure which concerns on this embodiment, when the moving
なお、ローラユニット21aは、本実施形態では、ローラ21a’を回転させるための駆動源を有さず、基板Wの動きに従って動く従動ローラのみを備えるものであったため、基板Wを吸着して載置台30の予め定めた位置に搬送する吸着ユニット21bをローラユニット21aとは別に設けたが、ローラユニット21aが駆動源を有し、駆動源により、ローラを回転させて、基板Wを載置台20の予め定めた位置に搬送する構成としてもよい。
In this embodiment, the
この構成によれば、吸着ユニット21bの代わりに駆動源を設けたため、載置ユニット21の構成を簡素化することができる。これにより、コストを低減できると共に、故障の低減によって設備稼働率を向上することも可能となる。
According to this configuration, since the drive source is provided instead of the
なお、吸着ユニット21bは、本実施形態では、基板Wを吸着保持した状態で搬出したが、吸着ユニット21bは、基板Wを吸着保持せずに、基板Wの荷重を支持した状態で搬出する構成としても構わない。
In the present embodiment, the
なお、本実施形態では、軌道Rの一方の片脇に基板の搬出元となる基板処理装置210が配され、軌道Rの他方の片脇に基板の搬出先となる基板処理装置220が配されたシステムを想定したが、本発明は、基板の搬出元及び搬出先となる基板処理装置が軌道Rの一方の片脇のみに配置されたシステムにも適用することができる。この場合には、例えば、基板の搬出元となる基板処理装置と基板の搬出先となる基板処理装置とが、軌道Rに沿って片脇のみに隣接して配置され、基板処理装置での処理後に、順次隣接する基板処理装置に基板を搬送するシステムとすることができる。
In the present embodiment, a
また、本実施形態では、基板処理装置210及び220が複数配置されたシステムを想定したが、基板収容装置及び基板処理装置が少なくとも1つずつ配置されたシステムであれば、本発明を適用することができる。さらに、本実施形態では、基板処理装置210と基板処理装置220との間で載置台20を介して、基板Wを搬送する場合を想定したが、基板処理装置210と載置台20との間、又は基板処理装置220と載置台20との間にコンベア等の搬送装置を備えていても構わない。
In this embodiment, a system in which a plurality of
[変形例1]
第1実施形態では、ローラ21a’上に基板Wを載置することで、基板Wを搬送する際に載置台20との間で生じる摩擦を緩和したが、本変形例では、載置ユニット21はローラユニット21aを備えておらず、他の手段によりこの摩擦を緩和する点で異なる。なお、本変形例では、第1実施形態と同一の構成には、同一の符号を付し、説明を省略する。[Modification 1]
In the first embodiment, by placing the substrate W on the
図6は、第1実施形態の変形例1に係る載置台20の上面図である。載置台20の載置ユニット21は、エアを噴き出す噴出口21d’が複数形成された上面21d”を有し、基板Wを浮遊させる複数のエア噴出ユニット21dから構成される。また、各エア噴出ユニット21dの間には、通過スペースS’が形成される。
FIG. 6 is a top view of the mounting table 20 according to the first modification of the first embodiment. The mounting
基板Wを載置台20上に搬出する際には、噴出口21d’から高圧のエアを噴き出して、基板Wを浮遊させ、吸着ユニット21bにより、上述の第1実施形態と同様に、載置台20上に基板Wを搬出する。
When unloading the substrate W onto the mounting table 20, high-pressure air is ejected from the
本変形例に係る構成によれば、エア噴出ユニット21dで基板Wを浮遊させて搬送することにより、基板Wと上面21d”との間の摩擦を軽減し、基板Wに傷が付くことを低減することができる。
According to the configuration according to this modification, the substrate W is floated and transported by the
<第2実施形態>
第1実施形態の基板搬送システム100は、軌道Rに沿って配置された複数の基板処理装置200間で基板を搬送するシステムであったが、本実施形態の基板搬送システム300は、軌道Rに沿って配置された、基板収容装置410と基板処理装置420との間で基板を搬送するシステムである点で異なる。なお、基板搬送システム300自体は、第1実施形態の基板搬送システム100と同様の構成であるため、同一の符号を付し、説明を省略する。<Second Embodiment>
The
図7は、第2実施形態に係る基板搬送システム300の全体斜視図であり、図8は、基板収容装置410の分解斜視図である。基板搬送システム300は、基板Wの搬出元となる基板収容装置410から基板Wの搬出先となる基板処理装置420へ基板Wを搬送するシステムである。
FIG. 7 is an overall perspective view of the
基板収容装置410は、軌道Rに沿って、3台の基板収容装置411、412、413が隣接して設けられる。また、基板処理装置420は、軌道Rに沿って、基板収容装置411、412、413とそれぞれ対面する位置に、3台の基板処理装置421、422、423が隣接して設けられる。
The
基板収容装置410は、図8で示すように、基板Wを収容するカセット410’と、カセット410’の両側に設けられた昇降機構414と、カセット410’の下方に設けられた載置台415と、を備える。カセット410’は、基板Wを水平姿勢で支持する基板支持部416を有する。基板支持部416は、上下方向に延びる部材1a、1b間に複数配設される棒状体であり、例えば、ゴムで被覆された金属やウレタン等で構成される。
As shown in FIG. 8, the
昇降機構414は、カセット410’の荷重を支持するカセット支持部414aと、カセット支持部414aを上下方向に移動させる駆動部414bと、上下方向に移動するカセット支持部414aの水平状態をガイドするガイド部414cと、を有する。
The elevating
駆動部414bは、モータ等の駆動源(不図示)を有し、駆動源からの回転運動をラックピニオン等の方式により上下方向の運動に変換する。カセット410’をカセット支持部414aに載置することにより、カセット支持部414aの上下方向の移動に伴って、カセット410’を昇降させることができる。
The
また、載置台415は、カセット410’内に収容された基板Wを一時的に載置する台であり、複数のローラ415”と、ローラ415”を駆動するモータ等の駆動源(不図示)と、を有するローラユニット415’を備える。
The mounting table 415 is a table on which the substrate W accommodated in the
なお、載置台415は、カセット415が下降した状態で、内部に収まる寸法で構成されるため、最上段の基板支持部416に収容された基板Wを搬出する際であっても、カセット410’と干渉することなく、基板Wを搬出することができる。
Since the mounting table 415 is configured to fit inside the
図9A及び図9Bは、基板収容装置410の基板搬出処理の動作手順を示す図である。まず、カセット410’に収容された基板Wを載置台20上に搬出する際には、図9Aで示すように、基板Wの荷重が基板支持部416に支持された状態から、載置台415のローラ415”に支持される状態になるまで、昇降機構414を降下させる。その後、図9Bで示すように、駆動源によりローラ415”を駆動させることで、載置台415から載置台20に基板Wを搬出する。
FIG. 9A and FIG. 9B are diagrams showing the operation procedure of the substrate carry-out process of the substrate
本実施形態に係る構成によれば、基板Wの搬出元となる装置が、基板収容装置410であっても、基板Wを効率的に搬送することができる。
According to the configuration according to the present embodiment, the substrate W can be efficiently transported even if the device serving as the carry-out source of the substrate W is the
なお、本実施形態では、ローラユニット415’が駆動源を有する場合を想定したが、ローラユニット415’が駆動源を有しない場合には、第1実施形態と同様に、載置ユニット21に設けられた吸着ユニット21bにより、載置台415から載置台20に基板Wを搬出してもよい。
In the present embodiment, it is assumed that the
なお、本実施形態では、軌道Rの一方の片脇に基板の搬出元となる基板収容装置410が配され、軌道Rの他方の片脇に基板の搬出先となる基板処理装置420が配されたシステムを想定したが、本発明は、基板収容装置と基板処理装置とが共に軌道Rの一方の片脇に隣接して配置されたシステムにも適用することができる。
In the present embodiment, a
また、本実施形態では、基板収容装置410が基板の搬出元となり、基板処理装置420が基板の搬出先となるシステムを想定したが、基板処理装置420が基板の搬出元となり、基板収容装置410が基板の搬出先となるシステムであっても構わない。
Further, in the present embodiment, a system is assumed in which the
また、本実施形態では、基板収容装置410及び基板処理装置420が複数配置されたシステムを想定したが、基板収容装置及び基板処理装置が少なくとも1つずつ配置されたシステムであれば、本発明を適用することができる。さらに、本実施形態では、基板収容装置410と基板処理装置420との間で載置台415を介して、基板Wを搬送する場合を想定したが、基板収容装置410と載置台415との間、又は基板処理装置410と載置台415との間にコンベア等の搬送装置を備えていても構わない。
In the present embodiment, a system in which a plurality of
さらに、基板収容装置のみが、軌道Rに沿って複数配置されている場合においても、本発明を適用することにより、基板収容装置間で基板を移し替える処理を実行することができる。 Furthermore, even when only a plurality of substrate storage devices are arranged along the track R, by applying the present invention, a process of transferring a substrate between the substrate storage devices can be executed.
Claims (8)
基板の搬出元となる各々の前記装置毎に配置され、基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置台と、
前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、
前記載置台は、
基板の搬出元となる前記装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、
前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、
前記載置ユニットは、
前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システム。In a substrate transfer system that includes a moving unit that reciprocates on a predetermined track, and that transfers a substrate from a device that is a substrate take-out source to a device that is a take-out destination among a plurality of devices arranged along the track. ,
A placement table on which each of the devices serving as a substrate unloading source is placed, and a substrate unloaded from the device serving as a substrate unloading source is placed;
An elevating unit provided in the moving unit, elevating and lowering a substrate placed on the mounting table,
The table above is
A mounting unit on which a substrate unloaded from the apparatus that is a substrate unloading source is mounted;
A support member that supports the mounting unit on the track and above the moving unit;
The above unit is
A substrate transfer system comprising a passage space through which the lifting unit passes when the moving unit moves and when the lifting unit moves up and down.
前記軌道と直交する方向に延び、基板が載置される載置部と、
前記移動ユニットに立設され、前記載置部を支持する支柱部と、を備え、
前記通過スペースは、
前記載置部が通過する第1の通過スペースと、
前記支柱部が通過する第2の通過スペースと、
を有することを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。The lifting unit is
A mounting portion that extends in a direction perpendicular to the trajectory and on which the substrate is mounted;
A supporting column that is erected on the moving unit and supports the placement unit,
The passing space is
A first passage space through which the placement unit passes;
A second passage space through which the support column passes;
The substrate transfer system according to claim 1, further comprising:
前記通過スペースは、前記ローラユニット間に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。The placing unit is composed of a plurality of roller units including a plurality of rollers on which the substrate is placed,
The substrate transfer system according to claim 1, wherein the passage space is formed between the roller units.
前記通過スペースは、前記エア噴出ユニット間に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。The mounting unit has a top surface on which a plurality of air ejection ports are formed, and is composed of a plurality of air ejection units that float the substrate.
The substrate transfer system according to claim 1, wherein the passage space is formed between the air ejection units.
前記載置ユニットは、
基板を保持して前記載置ユニット上の予め定めた位置に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求項3に記載の基板搬送システム。The roller is a driven roller;
The above unit is
4. The substrate transfer system according to claim 3, further comprising moving means for holding and moving the substrate to a predetermined position on the mounting unit.
基板を保持して前記載置ユニット上の予め定めた位置に移動させる移動手段を備えたことを特徴とする請求項4に記載の基板搬送システム。The above unit is
5. The substrate transfer system according to claim 4, further comprising moving means for holding and moving the substrate to a predetermined position on the placement unit.
各々の前記基板収容装置毎に配置され、前記基板収容装置から搬出される基板が水平姿勢で載置される載置台と、
前記移動ユニットに設けられ、前記載置台に載置された基板を昇降する昇降ユニットと、を備え、
前記載置台は、
前記基板収容装置から搬出される基板が載置される載置ユニットと、
前記載置ユニットを、前記軌道上であって前記移動ユニットよりも上方において支持する支持部材と、を備え、
前記載置ユニットは、
前記移動ユニットの移動及び前記昇降ユニットの昇降の際、前記昇降ユニットが通過する通過スペースを有することを特徴とする基板搬送システム。A plurality of substrate storage devices each including a moving unit that reciprocally moves on a predetermined track and arranged along the track and supporting a substrate in a horizontal posture in a vertical direction. In a substrate transfer system for transferring a substrate to a substrate processing apparatus arranged in a
A mounting table that is arranged for each of the substrate storage devices and on which a substrate unloaded from the substrate storage device is mounted in a horizontal posture;
An elevating unit provided in the moving unit, elevating and lowering a substrate placed on the mounting table,
The table above is
A mounting unit on which a substrate unloaded from the substrate storage device is mounted;
A support member that supports the mounting unit on the track and above the moving unit;
The above unit is
A substrate transfer system comprising a passage space through which the lifting unit passes when the moving unit moves and when the lifting unit moves up and down.
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