JP2000323061A - Cathode-ray tube electron gun - Google Patents

Cathode-ray tube electron gun

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JP2000323061A
JP2000323061A JP11131469A JP13146999A JP2000323061A JP 2000323061 A JP2000323061 A JP 2000323061A JP 11131469 A JP11131469 A JP 11131469A JP 13146999 A JP13146999 A JP 13146999A JP 2000323061 A JP2000323061 A JP 2000323061A
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electron beam
electron
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voltage
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Koji Awano
孝司 粟野
Junichi Kimiya
淳一 木宮
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cathode-ray tube electron gun which can obtain a good resolution by effectively decreasing spherical aberration of an electrostatic lens of a main lens part. SOLUTION: In an electron gun having a main lens part for accelerating and focusing an electron beam, the main lens part is composed of a plurality of grids including a first grid 35 to which at least a medium voltage is supplied and a third grid 37 to which a plate voltage is supplied. At least one of second grid 36 is provided in an electron beam proceeding direction between the first grid 35 and the third grid 37, to which voltage higher than the medium voltage supplied to the first grid 35 and lower than the plate voltage is supplied. In the second grid 36, an opposed surface of the first grid 35 side and an opposed surface of the third grid 37 side are formed on a tubular opening hole part in common with a plurality of electron beams. A short diameter of the tubular opening hole part of the second grid 36 and a length of the second grid 36 along an electron beam proceeding direction are fixed in a prescribed relation so as not to separate a lens electric field formed between the first grid 35 and the third grid 37 by means of the second grid 36.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、陰極線管用電子
銃に係り、特に、カラーブラウン管等に使用される陰極
線管用電子銃に関する。
The present invention relates to an electron gun for a cathode ray tube, and more particularly to an electron gun for a cathode ray tube used for a color cathode ray tube or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】ー般に、陰極線管として代表的なカラー
受像管は、第1図に示すように、パネル1及びこのパネ
ル1に一体に接合されたファンネル2からなる外囲器を
有し、そのパネル1の内面に、赤、緑、青に発光するス
トライプ状あるいはドット状の3色蛍光体層からなる蛍
光体スクリーン3が形成されている。また、この蛍光体
スクリーン3に対向して、その内側に多数のビーム通過
孔の形成されたシャドウマスク4がパネル1の内面に装
着されている。一方、ファンネル2のネック5内には、
3電子ビーム6B、6G、6Rを放出する電子銃7が配
設されている。そして、この電子銃7から放出される3
電子ビーム6B、6G、6Rがファンネル2の外側に装
着された偏向ヨーク8の発生する水平並びに垂直偏向磁
界により偏向され、シャドウマスク4を介して蛍光体ス
クリーン3上に向けられ、この蛍光体スクリーン3が3
電子ビーム6B、6G、6Rによって水平並びに垂直に
走査されることにより、カラー画像が蛍光体スクリーン
3に表示される。
2. Description of the Related Art In general, a typical color picture tube as a cathode ray tube has an envelope composed of a panel 1 and a funnel 2 integrally joined to the panel 1, as shown in FIG. On the inner surface of the panel 1, there is formed a phosphor screen 3 composed of a striped or dot-shaped three-color phosphor layer that emits red, green, and blue light. Further, a shadow mask 4 having a large number of beam passage holes formed therein is mounted on the inner surface of the panel 1 so as to face the phosphor screen 3. On the other hand, in the neck 5 of the funnel 2,
An electron gun 7 for emitting three electron beams 6B, 6G, 6R is provided. Then, 3 emitted from the electron gun 7
The electron beams 6B, 6G, 6R are deflected by the horizontal and vertical deflection magnetic fields generated by the deflection yoke 8 mounted outside the funnel 2, and are directed onto the phosphor screen 3 via the shadow mask 4, and this phosphor screen 3 is 3
A color image is displayed on the phosphor screen 3 by being scanned horizontally and vertically by the electron beams 6B, 6G, 6R.

【0003】このような構造のカラーブラウン管では、
その画像の解像度は、電子銃から発生され、蛍光体スク
リーン3上に集束される電子ビームの蛍光体スクリーン
3上におけるスポットの大きさ及び形状に依存してい
る。この画像の解像度を高くする手段の一つとして、電
子銃の主レンズ部口径をできるだけ大きくすることによ
り、電界レンズの球面収差を減少させる方法が一般に採
用されている。
In a color cathode ray tube having such a structure,
The resolution of the image depends on the size and shape of the spot on the phosphor screen 3 of the electron beam generated from the electron gun and focused on the phosphor screen 3. As one of means for increasing the resolution of this image, a method of reducing the spherical aberration of the electric field lens by increasing the aperture of the main lens portion of the electron gun as much as possible is generally adopted.

【0004】一般に、カラーブラウン管の電子銃の主レ
ンズ部は、図2(a)及び2(b)に示すように3電子
ビーム6B、6G、6Rの各々に対応した電子ビーム通
過孔が集束電極及び最終加速電極に形成され、前記電子
ビーム通過孔部が対向するように構成されている。前記
集束電極及び最終加速電極により形成される電界レンズ
の口径は、前記電子ビーム通過孔の孔径により制限を受
けるため、この電子ビーム通過孔の機械的な制限以上に
大きくすることができない。
Generally, the main lens portion of an electron gun of a color cathode ray tube has electron beam passing holes corresponding to the three electron beams 6B, 6G, and 6R as shown in FIGS. 2A and 2B. And the final accelerating electrode, and the electron beam passage holes are configured to face each other. Since the aperture of the electric field lens formed by the focusing electrode and the final accelerating electrode is limited by the diameter of the electron beam passage hole, it cannot be made larger than the mechanical limitation of the electron beam passage hole.

【0005】上記問題点を解決するために特公平2−1
8540等に開示されているカラーブラウン管では、図
3(a)及び3(b)に示すように3電子ビームの共通
の通過開孔部となる筒状電極1la、13aと3電子ビ
ーム各々の通過孔部12a、12b、12c、14a、
14b、14cを有する板状電極12、14とで構成さ
れる集束電極9及び最終加速電極10により主レンズ部
が構成される。この様に主レンズ部を形成することによ
り、3電子ビームが主レンズ部を通過する軌道に発生し
た電界レンズが隣り合うもの同士で一部重なり合うの
で、大口径の主レンズ部電界を形成することができる。
従って、球面差によるスポットへの悪影響を低減するこ
とができる。また、主レンズ部のレンズ倍率を小さくす
ることができるので、従来より小径のスポットをスクリ
ーン上に生成することができる。しかし、電子銃は、ブ
ラウン管のネック内にあり、筒状電極の開孔径は、ネッ
クの内径によって制限されることから、筒状電極の開孔
径の拡大によるスポットの改善には、限界がある。
To solve the above problem, Japanese Patent Publication No. 2-1
In the color cathode ray tube disclosed in 8540 and the like, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the cylindrical electrodes 1la, 13a, which are common apertures for three electron beams, and the passage of each of the three electron beams. The holes 12a, 12b, 12c, 14a,
A main lens portion is formed by the focusing electrode 9 and the final accelerating electrode 10 which are composed of the plate electrodes 12 and 14 having 14b and 14c. By forming the main lens portion in this way, the electric field lenses generated in the trajectory of the three electron beams passing through the main lens portion partially overlap each other, so that a large-diameter main lens portion electric field is formed. Can be.
Therefore, it is possible to reduce the adverse effect on the spot due to the spherical difference. In addition, since the lens magnification of the main lens unit can be reduced, a spot having a smaller diameter than before can be generated on the screen. However, since the electron gun is located in the neck of the cathode ray tube and the opening diameter of the cylindrical electrode is limited by the inner diameter of the neck, there is a limit in improving the spot by increasing the opening diameter of the cylindrical electrode.

【0006】また、筒状電極の開孔径を大きくするため
に、ネック径を拡大してしまうと、偏向ヨークにより電
子ビームを水平並びに垂直走査する際、偏向感度が低く
なってしまい、消費電力の増大等の悪影響が出る。
Further, if the diameter of the neck is increased to increase the diameter of the opening of the cylindrical electrode, the deflection sensitivity decreases when the electron beam is horizontally and vertically scanned by the deflection yoke. There are adverse effects such as an increase.

【0007】また、この様な問題点を解決する手段が特
開平8−22780等に開示されている。この公報に開
示されているカラーブラウン管には、第4図に示すよう
に、3電子ビームの共通の通過開孔部となる筒状電極1
9a、21aと3電子ビーム各々の通過開孔部18a、
18b、18c、20a、20b、20cを有する板状
電極18、20とで構成された集束電極15及び最終加
速電極16及び前記集束電極15と最終加速電極16と
の間に、前記集束電極15及び最終加速電極16と同軸
の3電子ビームに共通な通過孔となる補助電極17が配
置されて主レンズ部が形成されている。この様な構造で
は、ネック径を拡大することなくビーム進行方向に電界
レンズの電位分布をより緩やかな勾配とすることができ
る。従って、このような構造の主レンズ部では、その電
界の球面収差を上述の特公平2−18540等に開示さ
れているものよりも少なくすることができるとされてい
る。しかしながら、前記主レンズ部の構造では、補助電
極の電子ビーム進行方向に沿った長さを長くとると、主
レンズ部で形成される電界レンズが補助電極の前後で分
離されてしまい、実質的に2つの電界レンズが形成され
てしまう。この様な構造を有する電子銃の主レンズ部の
一例として、集束電極及び最終加速電極と、前記集束電
極及び最終加速電極と同軸にその間に挿入される補助電
極とを有する構造においては、それぞれ隣り合う面の開
孔部が3電子ビーム共通の開孔部を有し、その共通開孔
部の短径となっている垂直径が7mm、補助電極の電子
ビーム進行方向に沿った長さが6mmである時、補助電
極が有る場合と無い場合の軸上電位分布を計算した結果
が図5のグラフ1に、その2次微分を計算した結果が図
6のグラフ2に示されている。確かに、グラフ1より、
補助電極が無い場合より有る場合の方が、軸上電位分布
の変化は、緩やかになっている。しかしながら、軸上電
位分布の2次微分は、補助電極が有ると正の領域と負の
領域が交互に2つずつ現れている。即ち、集束電極と最
終加速電極の間で形成される主レンズ部の電界レンズ
は、補助電極によって分割されてしまい。実質的に二つ
の小さなレンズとして電子ビームにレンズ作用が与えら
れるようになる。従って、主レンズ部の大口径化の効果
が損なわれてしまい、良好な電子ビームスポットを得る
ことはできない。
Further, means for solving such a problem is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-22780. As shown in FIG. 4, the color cathode ray tube disclosed in this publication has a cylindrical electrode 1 serving as a common aperture for passing three electron beams.
9a, 21a and the aperture 18a through which each of the three electron beams passes.
A focusing electrode 15 and a final accelerating electrode 16 composed of plate electrodes 18 and 20 having 18b, 18c, 20a, 20b and 20c, and between the focusing electrode 15 and the final accelerating electrode 16, the focusing electrode 15 and An auxiliary electrode 17 serving as a common through hole for the three electron beams coaxial with the final acceleration electrode 16 is arranged to form a main lens portion. With such a structure, the potential distribution of the electric field lens can be made gentler in the beam traveling direction without increasing the neck diameter. Therefore, in the main lens portion having such a structure, it is said that the spherical aberration of the electric field can be made smaller than that disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-18540 described above. However, in the structure of the main lens portion, if the length of the auxiliary electrode along the traveling direction of the electron beam is increased, the electric field lens formed by the main lens portion is separated before and after the auxiliary electrode, and substantially. Two electric field lenses are formed. As an example of the main lens portion of the electron gun having such a structure, in a structure having a focusing electrode and a final accelerating electrode and an auxiliary electrode inserted between the focusing electrode and the final accelerating electrode coaxially, The opening on the mating surface has an opening common to the three electron beams, the vertical diameter of which is the minor diameter of the common opening is 7 mm, and the length of the auxiliary electrode along the electron beam traveling direction is 6 mm. In the case of, the result of calculating the on-axis potential distribution with and without the auxiliary electrode is shown in graph 1 of FIG. 5, and the result of calculating the second derivative thereof is shown in graph 2 of FIG. Indeed, from Graph 1,
The change in the axial potential distribution is more gradual when there is no auxiliary electrode than when there is no auxiliary electrode. However, in the second derivative of the on-axis potential distribution, two positive regions and two negative regions appear alternately when the auxiliary electrode is provided. That is, the electric field lens of the main lens portion formed between the focusing electrode and the final acceleration electrode is divided by the auxiliary electrode. In effect, the electron beam is given a lens effect as two small lenses. Therefore, the effect of increasing the diameter of the main lens portion is impaired, and a good electron beam spot cannot be obtained.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】蛍光体スクリーン3上
における画像の解像度を高くする為に、電子銃の主レン
ズ部口径をできるだけ大きくすることにより、電界レン
ズの球面収差を減少させる方法がある。しかしながら、
集束電極及び最終加速電極により形成される電界レンズ
の口径は、前記電子ビーム通過孔の孔径により制限を受
けるため、この電子ビーム通過孔の機械的な制限以上に
大きくすることができない問題がある。
In order to increase the resolution of an image on the phosphor screen 3, there is a method of reducing the spherical aberration of the electric field lens by increasing the diameter of the main lens portion of the electron gun as much as possible. However,
Since the aperture of the electric field lens formed by the focusing electrode and the final accelerating electrode is limited by the aperture of the electron beam passage hole, there is a problem that it cannot be made larger than the mechanical limitation of the electron beam passage hole.

【0009】この問題点を解決するために、3電子ビー
ムの共通の通過開孔部となる筒状電極と3電子ビーム各
々の通過孔部を有する板状電極とで構成される集束電極
9及び最終加速電極10により主レンズ部を形成して、
大口径の主レンズ部電界を形成する技術がある。しか
し、この構造では、電子銃は、ブラウン管のネック内に
あり、筒状電極の開孔径は、ネックの内径によって制限
されることから、筒状電極の開孔径の拡大によるスポッ
トの改善には、限界があるとされている。
In order to solve this problem, a focusing electrode 9 and a plate electrode each having a cylindrical electrode serving as a common aperture for passing three electron beams and a plate electrode having a hole for passing each of the three electron beams are provided. A main lens portion is formed by the final acceleration electrode 10,
There is a technique for forming a large-diameter main lens portion electric field. However, in this structure, the electron gun is located inside the neck of the cathode ray tube, and the opening diameter of the cylindrical electrode is limited by the inner diameter of the neck. It is said that there is a limit.

【0010】また、筒状電極の開孔径を大きくするため
に、ネック径を拡大してしまうと、偏向ヨークにより電
子ビームを水平並びに垂直走査する際、偏向感度が低く
なってしまい、消費電力の増大する等の問題がある。
If the diameter of the neck is enlarged to increase the diameter of the opening of the cylindrical electrode, the deflection sensitivity becomes low when the electron beam is horizontally and vertically scanned by the deflection yoke. There is a problem such as increase.

【0011】また、この様な問題点を解決する為に、集
束電極15及び最終加速電極16との間に同軸の3電子
ビームに共通な通過孔となる補助電極17が配置されて
主レンズ部が形成されている構造がある。しかしなが
ら、このような主レンズ部の構造では、補助電極の電子
ビーム進行方向に沿った長さを長くとると、主レンズ部
で形成される電界レンズが補助電極の前後で分離されて
しまい、実質的に2つの電界レンズが形成されてしま
う。即ち、集束電極と最終加速電極の間で形成される主
レンズ部の電界レンズは、補助電極によって分割されて
しまい。実質的に二つの小さなレンズとして電子ビーム
にレンズ作用が与えられるようになる。従って、主レン
ズ部の大口径化の効果が損なわれてしまい、良好な電子
ビームスポットを得ることはできない問題がある。
In order to solve such a problem, between the focusing electrode 15 and the final accelerating electrode 16, an auxiliary electrode 17 serving as a common through-hole for three coaxial electron beams is provided, and a main lens portion is provided. Is formed. However, in such a structure of the main lens portion, if the length of the auxiliary electrode along the traveling direction of the electron beam is increased, the electric field lens formed by the main lens portion is separated before and after the auxiliary electrode, and is substantially As a result, two electric field lenses are formed. That is, the electric field lens of the main lens portion formed between the focusing electrode and the final acceleration electrode is divided by the auxiliary electrode. In effect, the electron beam is given a lens effect as two small lenses. Therefore, the effect of increasing the diameter of the main lens portion is impaired, and there is a problem that a good electron beam spot cannot be obtained.

【0012】本発明は、上述したような事情に鑑みなさ
れたものであって、その発明の目的は、ネック径を拡大
することなく、かつ主レンズ部で形成されるレンズ電界
を分離することなく、効果的に主レンズ部の電界レンズ
の球面収差を低減する主レンズ部構造を提供することに
より、良好な解像度を得るためのスポットを生成する陰
極線管用電子銃を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to increase the diameter of a neck and to separate a lens electric field formed by a main lens portion. Another object of the present invention is to provide a cathode ray tube electron gun which generates a spot for obtaining a good resolution by providing a main lens unit structure for effectively reducing the spherical aberration of an electric field lens of the main lens unit.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】複数の電子ビームを形
成、射出する電子ビーム形成部と、前記電子ビームを加
速集束させる主レンズ部を有し、前記主レンズ部は、少
なくとも中位の電圧が供給される第1のグリッドと陽極
電圧が供給される第3のグリッドとを含む複数個のグリ
ッドからなる陰極線管用電子銃において、前記第1のグ
リッドと第3のグリッドの間に、前記第1のグリッドに
供給される中位の電圧よりも高く、前記第3のグリッド
に供給される陽極電圧よりも低い電圧が供給される少な
くとも1つの第2のグリッドが電子ビームの進行方向に
沿って配置され、第2のグリッドは、第1のグリッド側
の対向面及び第3のグリッド側の対向面が複数の電子ビ
ームに共通の筒状の開孔部に形成され、第1のグリッド
から第3のグリッドの間で形成されるレンズ電界が第2
のグリッドにより分離されることがないように、第2の
グリッドの筒状開孔部の第1のグリッド側の短径をR
1、第3のグリッド側の筒状開孔部の短径をR2とした
とき、第2のグリッドの電子ビーム進行方向に沿った長
さLとの間で 0.3≦L/{(R1+R2)/2}≦0.6 の関係を保つている。
An electron beam forming section for forming and emitting a plurality of electron beams, and a main lens section for accelerating and converging the electron beam, wherein the main lens section has at least a medium voltage. An electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of grids including a first grid to be supplied and a third grid to which an anode voltage is supplied, wherein the first grid is provided between the first grid and the third grid. At least one second grid supplied with a voltage higher than the medium voltage supplied to the grid and lower than the anode voltage supplied to the third grid is arranged along the traveling direction of the electron beam. The second grid has an opposing surface on the first grid side and an opposing surface on the third grid side formed in a tubular opening common to a plurality of electron beams. Grid of Lens electric field formed between the second
The short diameter of the cylindrical opening of the second grid on the first grid side is set to R so that it is not separated by the grid of R.
1. When the short diameter of the cylindrical opening on the third grid side is R2, 0.3 ≦ L / {(R1 + R2) between the second grid and the length L along the electron beam traveling direction. ) / 2} ≦ 0.6.

【0014】本発明において、上記構成とすることで第
1のグリッドから第3のグリッドまでの間で形成される
主レンズ部のビーム進行方向に沿った電界の電位分布
は、緩やかな勾配となり、かつ、第1のグリッドから第
3のグリッドまでの間で形成される電界レンズは、第2
のグリッドにより分離されることなく全体として一枚の
大口径レンズとして電子ビームに作用する。従って、主
レンズ部電界の球面収差を効果的に減少させることがで
き、良好なスポットを得ることができる。
In the present invention, with the above configuration, the potential distribution of the electric field along the beam traveling direction of the main lens portion formed between the first grid and the third grid has a gentle gradient, In addition, the electric field lens formed between the first grid and the third grid is the second electric field lens.
And acts on the electron beam as one large-aperture lens as a whole without being separated by the grid. Therefore, the spherical aberration of the electric field of the main lens portion can be effectively reduced, and a good spot can be obtained.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図7(a)及び(b)は、本発明
の一実施例に係る陰極線管の電子銃部分を示す概略断面
図である。図7(a)において、ヒータ(図示せず)を
内装した、電子ビームを発生する3個の陰極KB、K
G、KR、第1グリッド31、第2グリッド32、第3
グリッド33、第4グリッド34、第5グリッド35、
第6グリッド36及び第7グリッド37、コンバージェ
ンスカップCPがこの順に配置され、これら電極は、絶
縁支持体(図示せず)により支持、固定されている。第
1グリッド31は、薄い板状電極であり、孔径小の3個
の電子ビーム通過孔が穿設されている。第2グリッド3
2も薄い板状電極であり、孔径小の3個の電子ビーム通
過孔が穿設されている。第3グリッド33は、一個のカ
ップ状の電極と厚板電極が組み合わされ、第2グリッド
32側には、第2グリッド32の電子ビーム通過孔より
もやや孔径が大きい3個の電子ビーム通過孔が穿設さ
れ、第4グリッド34側には、孔径が大きい3個の電子
ビーム通過孔が穿設されている。第4グリッド34は、
2個のカップ状電極の解放端をつきあわせてあり、それ
ぞれ孔径大の3個の電子ビーム通過孔が穿設されてい
る。第5グリッド35は、電子ビーム通過方向に長い2
個のカップ状電極、板状電極52、3電子ビームに共通
の開孔部を有する図8(a)に示すような筒状電極51
から構成され、第6グリッド側から第5グリッドをみる
と図8(b)の様な形状に形成されている。次に、第6
グリッドは、3電子ビームに共通の開孔部を有する図8
(a)に示す様な2つの筒状電極61、62で構成され
ている。そして、第7グリッドは、3電子ビームに共通
の開孔部を有する図8(b)に示すような筒状電極7
1、3個の電子ビーム通過孔が穿設されている板状電極
72の順で配置され、第7グリッドを第6グリッド側か
らみると、図2(b)の様な形状となっている。
7 (a) and 7 (b) are schematic sectional views showing an electron gun portion of a cathode ray tube according to one embodiment of the present invention. In FIG. 7 (a), three cathodes KB and K for generating an electron beam, which are provided with heaters (not shown), are provided.
G, KR, first grid 31, second grid 32, third
Grid 33, fourth grid 34, fifth grid 35,
The sixth grid 36, the seventh grid 37, and the convergence cup CP are arranged in this order, and these electrodes are supported and fixed by an insulating support (not shown). The first grid 31 is a thin plate-like electrode, and has three electron beam passage holes having a small hole diameter. Second grid 3
Reference numeral 2 also denotes a thin plate-like electrode, in which three electron beam passage holes having a small hole diameter are formed. The third grid 33 is formed by combining one cup-shaped electrode and a thick plate electrode. On the second grid 32 side, three electron beam passing holes having a slightly larger hole diameter than the electron beam passing hole of the second grid 32 are provided. Are formed, and three electron beam passage holes having a large hole diameter are formed on the fourth grid 34 side. The fourth grid 34
The open ends of two cup-shaped electrodes are brought into contact with each other, and three electron beam passage holes each having a large diameter are formed. The fifth grid 35 has a length 2 in the electron beam passing direction.
The cylindrical electrode 51 as shown in FIG. 8A having a common opening for the cup-shaped electrode, the plate-shaped electrode 52, and the three electron beams.
When the fifth grid is viewed from the sixth grid side, it is formed in a shape as shown in FIG. 8B. Next, the sixth
The grid has an aperture common to the three electron beams.
It is composed of two cylindrical electrodes 61 and 62 as shown in FIG. The seventh grid has a cylindrical electrode 7 having an opening common to the three electron beams as shown in FIG.
The plate-like electrodes 72 having one or three electron beam passage holes are arranged in this order, and the seventh grid has a shape as shown in FIG. 2B when viewed from the sixth grid side. .

【0016】そして、3個の陰極KB、KG、KRに
は、約100〜150v程度の電圧Ek、第1グリッド
31は、接地され、第2グリッド32と第4グリッド3
4には、約600〜800v程度の電圧V2が印可さ
れ、第3グリッド33と第5グリッド35には、中位の
電圧である約6〜10kv程度の集束電圧V3が印可さ
れ、第7グリッド37には、約25〜34kv程度の陽
極電圧Vaが印可され、第6グリッド36には、電子銃
近傍に具備した抵抗器100により第5グリッド35と
第7グリッド37のほぼ中間の電圧V6が供給されてい
る。
A voltage Ek of about 100 to 150 V is applied to the three cathodes KB, KG, and KR, the first grid 31 is grounded, and the second grid 32 and the fourth grid 3
4 is applied with a voltage V2 of about 600 to 800 V, and a third grid 33 and a fifth grid 35 are applied with a focusing voltage V3 of about 6 to 10 kV, which is a medium voltage, and a seventh grid is applied. An anode voltage Va of about 25 to 34 kv is applied to 37, and a voltage V6 substantially intermediate between the fifth grid 35 and the seventh grid 37 is applied to the sixth grid 36 by the resistor 100 provided near the electron gun. Supplied.

【0017】ここで、第6グリッド36の第5グリッド
側の開口部の短径及び第7グリッド側の開孔部短径を同
径の7mmとして、第6グリッド36が無い状態及び第
6グリッド36の電子ビーム進行方向に沿った電極長を
2mm、4mm、6mmと伸ばしていった場合の軸上電位の変
化を計算した結果が図9のグラフ3に示されている。こ
のグラフ3に示されるように、第6グリッド36の電極
長Lを伸ばしていくと、軸上電位の変化は緩やかになっ
ていく。さらに、第6グリッド36の電子ビーム進行方
向に沿った電極長Lを2mm、4mm、6mmと伸ばしていっ
た場合の、前記第6グリッド36の電子ビーム進行方向
に沿った電極長Lと電極開孔部短径Rとの比L/Rと、
実行口径(垂直方向及び水平方向)との関係を計算した
結果が図10のグラフ4及び図11のグラフ5に示され
ている。これらのグラフからわかるように、実行口径
は、比L/Rを適正な値にとった場合もっとも大きくな
ることがわかる。さらに比L/Rを大きくしていくと、
即ち、第6グリッド36の電子ビーム進行方向に沿った
電極長Lを長くしすぎると実行口径は減少してしまう。
Here, the short diameter of the opening on the fifth grid side and the short diameter of the opening on the seventh grid side of the sixth grid 36 are 7 mm, which are the same diameter. FIG. 9 is a graph 3 showing a calculation result of a change in on-axis potential when the electrode length along the electron beam advancing direction is increased to 2 mm, 4 mm, and 6 mm. As shown in the graph 3, as the electrode length L of the sixth grid 36 is increased, the change in the on-axis potential becomes gentle. Further, when the electrode length L of the sixth grid 36 along the electron beam traveling direction is extended to 2 mm, 4 mm, and 6 mm, the electrode length L of the sixth grid 36 along the electron beam traveling direction and the electrode opening length are increased. The ratio L / R to the hole minor diameter R;
The results of calculating the relationship with the effective aperture (vertical direction and horizontal direction) are shown in graph 4 of FIG. 10 and graph 5 of FIG. As can be seen from these graphs, the effective aperture becomes the largest when the ratio L / R is set to an appropriate value. When the ratio L / R is further increased,
That is, if the electrode length L of the sixth grid 36 along the electron beam traveling direction is too long, the effective aperture is reduced.

【0018】そこで、実質的に第6グリッド36を設け
て電子ビームスポットの改善を行う意味のある範囲とし
ては、良好な電子ビームスポットを得られる主レンズ部
の大口径化を最大限行える実行口径の最大値、特に第6
グリッド36の開孔部短径方向、即ち、垂直方向の実行
口径の最大値から第6グリッド36の機械的開孔径の最
小径である短径と実行口径とが同じ値になるまでの中間
値をとるところまでである。このような有効な実行口径
をとるために、第6グリッド36の電子ビーム進行方向
に沿った電極長Lと電極開孔部短径Rとの比L/Rは、
グラフ4より0.3から0.8の間となる。即ち、比L
/Rを0.3から0.6の間となるようにすれば有効に
実行口径を拡大できる。
Therefore, the effective range in which the sixth grid 36 is substantially provided to improve the electron beam spot is an effective aperture capable of maximizing the diameter of the main lens portion capable of obtaining a good electron beam spot. Maximum value, especially the sixth
An intermediate value from the maximum value of the effective aperture in the opening portion minor axis direction of the grid 36, that is, the vertical direction, until the minor diameter, which is the minimum diameter of the mechanical aperture of the sixth grid 36, is equal to the effective aperture. It is up to where to take. In order to obtain such an effective execution diameter, the ratio L / R of the electrode length L and the electrode opening portion short diameter R along the electron beam traveling direction of the sixth grid 36 is as follows.
According to graph 4, it is between 0.3 and 0.8. That is, the ratio L
By setting / R between 0.3 and 0.6, the effective aperture can be effectively enlarged.

【0019】本発明による実施例では、この様な構造を
とることにより、良好な電子ビームスポットを得ること
ができる。特に、前述の本発明の実施例において、比L
/R=0.45の付近において実行口径は、最大値をと
っている。このときの本発明における実施例の第6グリ
ッド36が有る場合と、比較として本発明における実施
例の第6グリッド36が無い場合である従来例のときの
軸上電位分布の2次微分の計算結果が図12のグラフ6
に示されている。本発明における実施例のように、第6
グリッドが有る場合には、本発明における実施例で第6
グリッドが無い場合より長い区間でレンズ電界を形成す
ることができ、実行口径の減少の原因となる主レンズ部
で形成されるレンズ電界の分離を防ぐことができる。即
ち、第5グリッド35と第7グリッド37の間に設ける
第6グリッド36の電子ビーム進行方向に沿った電極長
Lと電極開孔部短径Rとの比L/Rを 0.3≦L/R≦0.6 ……(1) とすることにより、実行口径の拡大を効率的に行え、良
好な電子ビームスポットを得ることができる。
In the embodiment according to the present invention, a good electron beam spot can be obtained by adopting such a structure. In particular, in the above-described embodiment of the present invention, the ratio L
The effective aperture takes the maximum value near /R=0.45. Calculation of the second derivative of the on-axis potential distribution in the case where there is the sixth grid 36 of the embodiment of the present invention at this time and in the case of the conventional example where there is no sixth grid 36 of the embodiment of the present invention for comparison The result is graph 6 in FIG.
Is shown in As in the embodiment of the present invention, the sixth
When there is a grid, the sixth embodiment is used in the embodiment of the present invention.
The lens electric field can be formed in a longer section than when there is no grid, and separation of the lens electric field formed in the main lens portion, which causes a decrease in the effective aperture, can be prevented. That is, the ratio L / R of the electrode length L and the electrode opening minor axis R along the electron beam traveling direction of the sixth grid 36 provided between the fifth grid 35 and the seventh grid 37 is 0.3 ≦ L. By setting /R≦0.6 (1), the effective aperture can be efficiently expanded, and a good electron beam spot can be obtained.

【0020】尚、第6グリッド36の第5グリッド側の
電極開孔部短径をR1、第7のグリッド側の電極開孔部
の短径をR2としたとき、上記実施例では、R1=R2
=Rとしていたが、第6グリッド36への電界の浸透は
前述したように短径によって制限を受ける。よって、R
1≠R2としたとき、短径の大きい側は、電界の浸透が
大きく入り込み、短径の小さい側は、電界の浸透が小さ
く入り込む。従って、第6グリッドへの電界の浸透は、
短径R1とR2の平均に制約され、上記実施例における
第6グリッドの制約条件(1)は、 0.3≦L/{(R1+R2)/2}≦0.6 と書き改められ、この様に第6グリッド36を構成する
ことにより、行口径の拡大を効率的に行うえ、良好な電
子ビームスポットを得ることができる。
When the short diameter of the electrode opening on the fifth grid side of the sixth grid 36 is R1 and the short diameter of the electrode opening on the seventh grid side is R2, in the above embodiment, R1 = R2
= R, but the penetration of the electric field into the sixth grid 36 is limited by the short diameter as described above. Therefore, R
When 1 ≠ R2, the side having a large minor axis has a large penetration of the electric field, and the side having a small minor axis has a small penetration of the electric field. Therefore, the penetration of the electric field into the sixth grid is
Constrained by the average of the short diameters R1 and R2, the constraint (1) of the sixth grid in the above embodiment is rewritten as 0.3 ≦ L / {(R1 + R2) / 2} ≦ 0.6. By configuring the sixth grid 36, it is possible to efficiently expand the aperture and obtain a good electron beam spot.

【0021】以上、発明の1実施例を説明したが、前記
実施例では、約6〜10kv程度の集束電圧が印可され
る第5グリッド35と約25〜34kv程度の陽極電圧
が印可される第7グリッド37の間には、第6グリッド
36だけが配置されていたが、第5グリッド35と第7
グリッド37の間に挿入されるグリッドが複数個(第6
グリッド36を含む。)であったとしても、挿入される
グリッドには、前記第5グリッド側から前記第7グリッ
ド側に向かって順次高くなっていくように電圧を供給し
て、前記挿入される各々のグリッドの筒状開孔部におい
て、第5グリッド側の筒状開孔部短径をR1、第7グリ
ッド側の筒状開孔部の短径をR2としたとき、第2のグ
リッドの電子ビーム進行方向に沿った長さLが 0.3≦L/{(R1+R2)/2}≦0.6 の関係となるように構成され、配置されていれば、隣り
合うグリッド同士で前述の実施例と同様な効果を得るこ
とができるので、主レンズ部全体としても前述の実施例
と同様な効果を確保できる。さらに、第5グリッド35
と第7グリッド37との間に挿入されるグリッドが3電
子ビーム各々に対応した電子ビーム通過孔が配置され、
前記電子ビーム通過孔において、第5グリッド側の通過
孔部の短径をR1、第7グリッド側の通過孔部の短径を
R2としたとき、前記挿入されるグリッドの電子ビーム
進行方向に沿った長さLが 0.3≦L/{(R1+R2)/2}≦0.6 の関係となるように構成され、配置されていれば、各開
孔部において、前述の実施例と同様な効果を得ることが
できるので、主レンズ部全体としても前述の実施例と同
様な効果を確保できることはいうまでもない。
In the above, one embodiment of the present invention has been described. In the above-described embodiment, the fifth grid 35 to which a focusing voltage of about 6 to 10 kv is applied and the anode grid to which an anode voltage of about 25 to 34 kv is applied. Although only the sixth grid 36 is arranged between the seventh grid 37, the fifth grid 35 and the seventh grid 37 are arranged.
A plurality of grids (the sixth grid) are inserted between the grids 37.
A grid 36 is included. ), A voltage is supplied to the inserted grid so that the voltage gradually increases from the fifth grid side toward the seventh grid side, and the cylinder of each inserted grid is supplied. When the short diameter of the cylindrical opening on the fifth grid side is R1 and the short diameter of the cylindrical opening on the seventh grid side is R2, the electron beam travels in the second grid. If the arrangement is such that the length L along the line is in the relationship of 0.3 ≦ L / {(R1 + R2) / 2} ≦ 0.6, the same grid as in the above-described embodiment is used between adjacent grids. Since the effect can be obtained, the same effect as that of the above-described embodiment can be ensured for the entire main lens portion. Further, the fifth grid 35
A grid inserted between the third and seventh grids 37 is provided with electron beam passage holes corresponding to each of the three electron beams,
In the electron beam passage hole, when the short diameter of the passage hole on the fifth grid side is R1 and the short diameter of the passage hole on the seventh grid side is R2, along the electron beam traveling direction of the inserted grid. If the length L is configured and arranged so as to satisfy the relationship of 0.3 ≦ L / {(R1 + R2) / 2} ≦ 0.6, at each opening, the same as in the above-described embodiment is applied. Since the effect can be obtained, it goes without saying that the same effect as that of the above-described embodiment can be secured for the entire main lens portion.

【0022】そして、前記挿入されるグリッドにおい
て、第5グリッド側対向面及び第7グリッド側対向面が
3電子ビーム共通の筒状開孔部となっており、かつ前記
筒状電極となっている挿入されるグリットの内部には、
3電子ビーム各々に対応した電子ビーム通過孔がある板
状電極があり、その板の面が電子ビーム進行方向に対し
て略垂直に配置されており、前記挿入されるグリッドの
筒状開孔部において、第5グリッド側の短径をR1、第
7グリッド側の短径をR2としたとき、前記挿入される
グリッドの第5グリッド側開孔部から板状電極までの電
子ビーム進行方向に沿った長さL1と、前記挿入される
グリッドの第7グリッド側開孔部から板状電極までの電
子ビーム進行方向に沿った長さL2とが 0.15≦L1/{(R1+R2)/2}≦0.3 0.15≦L2/{(R1+R2)/2}≦0.3 の関係となっており、かつ、前記挿入される電極の内部
に配置された前記板状電極の電子ビーム通過孔の前記筒
状開孔径の短径方向と同一方向の最小径をrとしたと
き、板状電極の板厚TがT/r≦0.6の関係となるよ
うに構成され、配置されていれば、第6グリッド36の
筒状開孔部内及び板状電極のビーム通過孔の各部におい
て、前述の実施例と同様な効果を得ることができるの
で、主レンズ部全体としても前述の実施例と同様な効果
を確保できる。また、前述の実施例は、QPF構造の電
子銃について説明したが、同様な主レンズ部構造を有す
る電子銃であれば、QPF構造に限らず、同様の効果を
得ることができることは、いうまでもない。
In the inserted grid, the fifth grid-side facing surface and the seventh grid-side facing surface are cylindrical openings common to the three electron beams, and are the cylindrical electrodes. Inside the grit to be inserted,
There is a plate-like electrode having an electron beam passage hole corresponding to each of the three electron beams, and the surface of the plate is arranged substantially perpendicular to the electron beam traveling direction. In the above, when the minor axis on the fifth grid side is R1 and the minor axis on the seventh grid side is R2, along the electron beam traveling direction from the fifth grid side opening of the inserted grid to the plate electrode. 0.15 ≦ L1 / {(R1 + R2) / 2} that is the length L1 of the inserted grid and the length L2 along the electron beam traveling direction from the opening on the seventh grid side to the plate electrode of the inserted grid. ≦ 0.3 0.15 ≦ L2 / {(R1 + R2) / 2} ≦ 0.3, and the electron beam passage hole of the plate-shaped electrode arranged inside the inserted electrode The minimum diameter of the cylindrical opening diameter in the same direction as the minor diameter direction When r is set, the plate thickness T of the plate electrode is configured to satisfy the relationship of T / r ≦ 0.6, and if arranged, the inside of the cylindrical opening of the sixth grid 36 and the plate electrode Since the same effect as in the above-described embodiment can be obtained in each portion of the beam passage hole, the same effect as in the above-described embodiment can be ensured as a whole of the main lens unit. In the above-described embodiment, the electron gun having the QPF structure has been described. However, it is needless to say that the same effect can be obtained without being limited to the QPF structure as long as the electron gun has a similar main lens portion structure. Nor.

【0023】[0023]

【発明の効果】複数の電子ビームを形成、射出する電子
ビーム形成部と、前記電子ビームを加速集束させる主レ
ンズ部を有し、前記主レンズ部は、少なくとも中位の電
圧が供給される第1のグリッドと陽極電圧が供給される
第3のグリッドとを含む複数個のグリッドからなる陰極
線管用電子銃において、前記第1のグリッドと第3のグ
リッドの間に、前記第1のグリッドに供給される中位の
電圧よりも高く、前記第3のグリッドに供給される陽極
電圧よりも低い電圧が供給される少なくとも1つの第2
のグリッドが電子ビームの進行方向に配置されており、
第2のグリッドは第1のグリッド側の対向面及び第3の
グリッド側の対向面が複数の電子ビーム共通の筒状開孔
部となっており、第1のグリッドから第3のグリッドの
間で形成されるレンズ電界が第2のグリッドにより分離
されることがないように、第2のグリッドの筒状開孔部
の短径と電子ビーム進行方向に沿った第2のグリッドの
長さとの間で適正な関係を保つようにした。前記の様に
構成したことにより、主レンズ部に形成する電界レンズ
を第2のグリッドの前後で分離させることなく、つまり
ビーム進行方向に沿った軸上電位の変化を滑らかに持た
せることができ、かつ球面収差を大幅に低減させること
ができる。即ち、主レンズ部で形成する電界は全体とし
て一枚のレンズとして電子ビームを集束する作用を有す
ることができ、良好なスポットを得ることができる。
According to the present invention, there is provided an electron beam forming unit for forming and emitting a plurality of electron beams, and a main lens unit for accelerating and converging the electron beams, wherein the main lens unit is supplied with at least a medium voltage. An electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of grids including a first grid and a third grid to which an anode voltage is supplied, wherein the first grid is supplied to the first grid between the first grid and the third grid. At least one second voltage, which is supplied with a voltage higher than a medium voltage applied and lower than an anode voltage supplied to the third grid.
Are arranged in the traveling direction of the electron beam,
In the second grid, the opposing surface on the first grid side and the opposing surface on the third grid side form a cylindrical opening common to a plurality of electron beams, and are provided between the first grid and the third grid. In order to prevent the lens electric field formed by the second grid from being separated by the second grid, the short diameter of the cylindrical opening of the second grid and the length of the second grid along the electron beam advancing direction are determined. To maintain a proper relationship between them. With the above configuration, the electric field lens formed in the main lens portion can be smoothly separated from the on-axis potential along the beam traveling direction without being separated before and after the second grid. In addition, the spherical aberration can be greatly reduced. That is, the electric field formed by the main lens portion can have a function of converging the electron beam as a single lens as a whole, and a good spot can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一般的な陰極線管の構造を概略的に示す断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a general cathode ray tube.

【図2】(a)及び(b)は、従来の陰極線管に搭載さ
れる陰極線管用電子銃を概略的に示す断面図及び平面図
である。
FIGS. 2A and 2B are a cross-sectional view and a plan view schematically showing an electron gun for a cathode-ray tube mounted on a conventional cathode-ray tube.

【図3】(a)及び(b)は、従来の陰極線管に搭載さ
れる他の例の陰極線管電子銃の主レンズ部の電極の構造
を概略的に示す断面図及び平面図である。
3 (a) and 3 (b) are a cross-sectional view and a plan view schematically showing the structure of an electrode of a main lens portion of another example of a cathode ray tube electron gun mounted on a conventional cathode ray tube.

【図4】従来の陰極線管に搭載される第3の陰極線管用
電子銃の主レンズ部電極の構造を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a structure of a main lens electrode of a third electron gun for a cathode ray tube mounted on a conventional cathode ray tube.

【図5】従来例である主レンズ部に補助電極がある場合
とない場合のレンズ電界の軸上電位分布を示すグラフで
ある。
FIG. 5 is a graph showing on-axis potential distribution of a lens electric field in a conventional example with and without an auxiliary electrode in a main lens portion.

【図6】従来例である主レンズ部に補助電極がある場合
とない場合のレンズ電界の軸上電位分布の2次微分を示
すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the second derivative of the on-axis potential distribution of a lens electric field in a conventional example with and without an auxiliary electrode in a main lens portion.

【図7】本発明による陰極線管用電子銃の一実施例を示
す概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing one embodiment of an electron gun for a cathode ray tube according to the present invention.

【図8】(a)及び(b)は、本発明による陰極線管用
電子銃に使用される電極形状を示す平面図である。
FIGS. 8A and 8B are plan views showing electrode shapes used in a cathode ray tube electron gun according to the present invention.

【図9】本発明の実施例である第6グリッドの電子ビー
ム方向に沿った長さを変えていった際の軸上電位分布の
変化を示すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing a change in on-axis potential distribution when the length of the sixth grid in the example of the present invention along the electron beam direction is changed.

【図10】第6グリッドの電子ビーム進行方向に沿った
電極長Lと電極開孔部短径Rとの比L/Rと、実行口径
(垂直方向)との関係を示すグラフである。
FIG. 10 is a graph showing a relationship between a ratio L / R of an electrode length L and an electrode opening portion minor diameter R along an electron beam traveling direction of a sixth grid and an effective aperture (vertical direction).

【図11】第6グリッドの電子ビーム進行方向に沿った
電極長Lと電極開孔部短径Rとの比L/Rと、実行口径
(水平方向)との関係を示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing a relationship between a ratio L / R of an electrode length L and an electrode opening minor axis R along a traveling direction of an electron beam of a sixth grid and an effective aperture (horizontal direction).

【図12】本発明における実施例の第6グリッドが有る
場合と、比較として本発明における実施例の第6グリッ
ドが無い場合である従来例のときの軸上電位分布の2次
微分の計算結果を示すグラフである。
FIG. 12 shows a calculation result of a second derivative of an axial potential distribution in a case where there is a sixth grid according to the embodiment of the present invention and a conventional case where there is no sixth grid according to the embodiment of the present invention as a comparison. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…パネル 2…ファンネル 3…蛍光体スクリーン 4…マスク 5…ネック 6B、6G、6R…電子ビーム 7…電子銃 8…偏向ヨーク 1la、13a…筒状電極 12、14…板状電極 12a、12b、12c…電子ビーム通過孔部 14a、14b、14c…電子ビーム通過孔部 15…集束電極 18、20…板状電極 16…最終加速電極 17…補助電極 18a〜18C、20a〜20C…電子ビーム通過孔部 19a、21a…筒状電極 KR、KG、KB…陰極 31〜37…グリッド 100…抵抗器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Panel 2 ... Funnel 3 ... Phosphor screen 4 ... Mask 5 ... Neck 6B, 6G, 6R ... Electron beam 7 ... Electron gun 8 ... Deflection yoke 1 la, 13a ... Cylindrical electrode 12, 14 ... Plate electrode 12a, 12b , 12c ... electron beam passage holes 14a, 14b, 14c ... electron beam passage holes 15 ... focusing electrode 18, 20 ... plate electrode 16 ... final acceleration electrode 17 ... auxiliary electrodes 18a-18C, 20a-20C ... electron beam passage Holes 19a, 21a: cylindrical electrodes KR, KG, KB: cathodes 31 to 37: grid 100: resistors

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の電子ビームを形成、射出する電子ビ
ーム形成部と、 前記電子ビームを加速集束させる主レンズ部を有し、前
記主レンズ部は、少なくとも中位の電圧が供給される第
1のグリッドと陽極電圧が供給される第3のグリッドと
を含む複数個のグリッドからなる陰極線管用電子銃にお
いて、 前記第1のグリッドと第3のグリッドの間に、前記第1
のグリッドに供給される中位の電圧よりも高く、前記第
3のグリッドに供給される陽極電圧よりも低い電圧が供
給される少なくとも1つの第2のグリッドが電子ビーム
の進行方向に沿って配置され、第2のグリッドは、第1
のグリッド側の対向面及び第3のグリッド側の対向面が
複数の電子ビームに共通の筒状開孔部に形成され、第2
のグリッドの筒状開孔部において、第1のグリッド側の
筒状開孔部の短径をR1、第3のグリッド側の筒状開孔
部の短径をR2としたとき、第2のグリッドの電子ビー
ム進行方向に沿った長さLが 0.3≦L/{(R1+R2)/2}≦0.6 の関係に定められていることを特徴とする陰極線管用電
子銃。
1. An electron beam forming unit for forming and emitting a plurality of electron beams, and a main lens unit for accelerating and converging the electron beams, wherein the main lens unit is supplied with at least a medium voltage. An electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of grids including a first grid and a third grid to which an anode voltage is supplied, wherein the first grid is disposed between the first grid and the third grid.
At least one second grid supplied with a voltage higher than the medium voltage supplied to the grid and lower than the anode voltage supplied to the third grid is arranged along the traveling direction of the electron beam. And the second grid is the first grid
The opposite surface on the grid side and the opposite surface on the third grid side are formed in a cylindrical opening common to a plurality of electron beams,
When the short diameter of the cylindrical opening on the first grid side is R1 and the short diameter of the cylindrical opening on the third grid side is R2, An electron gun for a cathode ray tube, wherein a length L of a grid along a traveling direction of an electron beam is defined as 0.3 ≦ L / {(R1 + R2) / 2} ≦ 0.6.
【請求項2】前記第2のグリッドの条件を満たすグリッ
ドが、第1のグリッドと第3のグリッドの間に電子ビー
ム進行方向に沿って複数個配置され、前記複数個の第2
のグリッドの構成条件を満たすグリッドには、前記第1
のグリッド側から前記第3のグリッド側に向かって順次
電圧が高くなる電圧が供給されていることを特徴とする
請求項1の陰極線管用電子銃。
2. A plurality of grids satisfying a condition of the second grid are arranged between a first grid and a third grid along a traveling direction of an electron beam.
The grid satisfying the configuration conditions of
2. An electron gun for a cathode ray tube according to claim 1, wherein a voltage is sequentially increased from said grid side toward said third grid side.
【請求項3】前記第1のグリッドの第3のグリッド側開
孔部及び前記第3のグリッドの第1のグリッド側開孔部
が、複数の電子ビーム共通の筒状開孔部に形成されてい
ることを特徴とする請求項1の陰極線管用電子銃。
3. A third grid-side opening of the first grid and a first grid-side opening of the third grid are formed in a plurality of cylindrical openings common to electron beams. The electron gun for a cathode ray tube according to claim 1, wherein
【請求項4】前記第2のグリッドの構成条件を満たすグ
リッドが、第1のグリッドと第3のグリッドの間に電子
ビーム進行方向に沿って複数個配置され、前記複数個の
第2のグリッドの構成条件を満たすグリッドには、前記
第1のグリッド側から前記第3のグリッド側に向かって
順次電圧が高くなる電圧が供給されていることを特徴と
する請求項3の陰極線管用電子銃。
4. A plurality of grids satisfying a configuration condition of the second grid are arranged between a first grid and a third grid along an electron beam traveling direction, and the plurality of second grids are arranged. 4. The electron gun for a cathode ray tube according to claim 3, wherein a voltage that sequentially increases in voltage from the first grid side to the third grid side is supplied to a grid satisfying the above configuration conditions.
【請求項5】複数の電子ビームを形成、射出する電子ビ
ーム形成部と、 前記電子ビームを加速集束させる主レンズ部を有し、前
記主レンズ部は、少なくとも中位の電圧が供給される第
1のグリッドと陽極電圧が供給される第3のグリッドと
を含む複数個のグリッドからなる陰極線管電子銃におい
て、 前記第1のグリッドの第3のグリッド側の対向面及び前
記第の3グリッドの第1グリッド側の対向面が複数の電
子ビーム共通の筒状開孔部に形成され、かつ、前記第1
のグリッドと第3のグリッドの間に、前記第1のグリッ
ドに供給される中位の電圧よりも高く、前記第3のグリ
ッドに供給される陽極電圧よりも低い電圧が供給される
少なくとも1つの第2のグリッドが電子ビームの進行方
向に沿って配置され、第2のグリッドには、複数の電子
ビームのそれぞれに対応した電子ビーム通過孔が設けら
れ、第2のグリッドの電子ビーム通過孔は、第1のグリ
ッド側の電子ビーム通過孔部の短径をR1、第3のグリ
ッド側の電子ビーム通過孔部の短径をR2としたとき、
第2のグリッドの電子ビーム進行方向に沿った長さLが 0.3≦L/{(R1+R2)/2}≦0.6 の関係に定められていることを特徴とする陰極線管用電
子銃。
5. An electron beam forming unit for forming and emitting a plurality of electron beams, and a main lens unit for accelerating and converging the electron beams, wherein the main lens unit is supplied with at least a medium voltage. A cathode ray tube electron gun comprising a plurality of grids including a first grid and a third grid to which an anode voltage is supplied, comprising: an opposed surface of the first grid on a third grid side; The opposing surface on the first grid side is formed in a cylindrical opening common to a plurality of electron beams, and
At least one between a third grid and a third grid is supplied with a voltage higher than the medium voltage supplied to the first grid and lower than the anode voltage supplied to the third grid. A second grid is disposed along the traveling direction of the electron beam, and the second grid is provided with electron beam passage holes corresponding to each of the plurality of electron beams. When the minor axis of the electron beam passage hole on the first grid side is R1 and the minor axis of the electron beam passage hole on the third grid side is R2,
An electron gun for a cathode ray tube, wherein a length L of the second grid along a traveling direction of the electron beam is defined as 0.3 ≦ L / {(R1 + R2) / 2} ≦ 0.6.
【請求項6】前記第2のグリッドの構成条件を満たすグ
リッドが、第1のグリッドと第3のグリッドの間に電子
ビーム進行方向に沿って複数個配置され、前記複数個の
第2のグリッドの構成条件を満たすグリッドには、前記
第1のグリッド側から前記第3のグリッド側に向かって
順次電圧が高くなる電圧が供給されていることを特徴と
する前記請求項5の陰極線管用電子銃。
6. A plurality of grids satisfying a configuration condition of the second grid are arranged between a first grid and a third grid along an electron beam traveling direction. 6. The electron gun for a cathode ray tube according to claim 5, wherein a voltage that sequentially increases in voltage from the first grid side to the third grid side is supplied to a grid satisfying the above configuration conditions. .
【請求項7】複数の電子ビームを形成、射出する電子ビ
ーム形成部と、 前記電子ビームを加速集束させる主レンズ部を有し、前
記主レンズ部は、少なくとも中位の電圧が供給される第
1のグリッドと陽極電圧が供給される第3のグリッドと
を含む複数個のグリッドからなる陰極線管用電子銃にお
いて、 前記第1のグリッドの第3のグリッド側の対向面及び前
記第3のグリッドの第1のグリッド側の対向面が複数の
電子ビーム共通の筒状開孔部に形成され、かつ、前記第
1のグリッドと第3のグリッドの間に、前記第1のグリ
ッドに供給される中位の電圧よりも高く、前記第3のグ
リッドに供給される陽極電圧よりも低い電圧が供給され
る少なくとも1つの第2のグリッドが配置され、第2の
グリッドは、第1のグリッド側の対向面及び第3のグリ
ッド側の対向面が複数の電子ビームに共通の筒状開孔部
に形成され、かつ、前記筒状電極となっている第2のグ
リットの内部には、複数の電子ビームの各々に対応した
電子ビーム通過孔が形成されている板状電極が設けら
れ、その板状電極の面が電子ビーム進行方向に対して略
垂直に配置され、第2のグリッドの筒状開孔部は、第1
のグリッド側の短径をR1、第3のグリッド側の短径を
R2としたとき、第2のグリッドの第1のグリッド側の
開孔部先端から板状電極までの電子ビーム進行方向に沿
つた長さL1と、第2のグリッドの第3のグリッド側の
開孔部先端から板状電極までの電子ビーム進行方向に沿
った長さL2とが 0.15≦L1/R1≦0.3 0.15≦L2/R2≦0.3 の関係に定められ、かつ、第2の電極の内部に配置され
た前記板状電極の電子ビーム通過孔の筒状開孔部の短径
方向の板状電極の孔径をrとして、板状電極の板厚をT
とすると T/r≦0.6 の関係に定められることを特徴とする陰極線管用電子
銃。
7. An electron beam forming unit for forming and emitting a plurality of electron beams, and a main lens unit for accelerating and focusing the electron beams, wherein the main lens unit is supplied with at least a medium voltage. An electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of grids including a first grid and a third grid to which an anode voltage is supplied, comprising: a third grid-side facing surface of the first grid; The opposing surface on the first grid side is formed in a tubular opening common to a plurality of electron beams, and is supplied to the first grid between the first grid and the third grid. At least one second grid, which is supplied with a voltage higher than the voltage of the second grid and lower than the anode voltage supplied to the third grid, is arranged on the first grid side. Face and third An opposing surface on the grid side is formed in a cylindrical opening common to a plurality of electron beams, and inside the second grit serving as the cylindrical electrode, each of the plurality of electron beams corresponds to each of the plurality of electron beams. A plate-like electrode having an electron beam passage hole is provided, and the surface of the plate-like electrode is disposed substantially perpendicular to the electron beam traveling direction.
Assuming that the minor axis on the grid side of the second grid is R1 and the minor axis on the third grid side is R2, along the electron beam traveling direction from the tip of the opening of the second grid to the plate electrode. The length L1 of the hook and the length L2 along the electron beam traveling direction from the tip of the opening of the second grid on the third grid side to the plate electrode are 0.15 ≦ L1 / R1 ≦ 0.3. 0.15 ≦ L2 / R2 ≦ 0.3, and a plate in the minor diameter direction of the cylindrical opening of the electron beam passage hole of the plate-shaped electrode disposed inside the second electrode. The plate diameter of the plate-like electrode is represented by
An electron gun for a cathode ray tube, characterized in that T / r ≦ 0.6.
【請求項8】前記第2のグリッドの構成条件を満たすグ
リッドが第1のグリッドと第3のグリッドの間に電子ビ
ーム進行方向に沿って複数個配置され、前記複数個の第
2のグリッドの構成条件を満たすグリッドには、前記第
1のグリッド側から前記第3のグリッド側に向かって順
次電圧が高くなる電圧が供給されることを特徴とする請
求項7の陰極線管用電子銃。
8. A plurality of grids satisfying a configuration condition of the second grid are arranged between the first grid and the third grid along the traveling direction of the electron beam. 8. The electron gun for a cathode ray tube according to claim 7, wherein a voltage that sequentially increases in voltage from the first grid side to the third grid side is supplied to a grid satisfying the configuration conditions.
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