JP2000322771A - Optical recording medium, production of optical recording medium and device for producing optical recording medium - Google Patents
Optical recording medium, production of optical recording medium and device for producing optical recording mediumInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体、光
学記録媒体の製造方法、および、光学記録媒体の製造装
置に関する。The present invention relates to an optical recording medium, an optical recording medium manufacturing method, and an optical recording medium manufacturing apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、光ディスク、光磁気ディスク、相
変化型光ディスクなどの光学記録媒体は、高密度記録が
可能な記録媒体として注目されている。光ディスクのう
ち、例えば２層構造の光ディスクは、反射膜を形成した
第１の基板と、半透明反射膜を形成した第２の基板を、
貼り合わせた構造を持っている。すなわち、第１の基板
の反射膜を形成していない面と、第２の基板の半透明反
射膜を形成した面を、接着剤により接着している。ま
た、第１の基板の反射膜の上には、保護膜が形成されて
いる。2. Description of the Related Art In recent years, optical recording media such as optical disks, magneto-optical disks, and phase-change optical disks have attracted attention as recording media capable of high-density recording. Among optical disks, for example, an optical disk having a two-layer structure includes a first substrate on which a reflective film is formed and a second substrate on which a translucent reflective film is formed.
It has a laminated structure. That is, the surface of the first substrate on which the reflective film is not formed and the surface of the second substrate on which the translucent reflective film is formed are bonded by an adhesive. Further, a protective film is formed on the reflective film of the first substrate.
【０００３】このように作製された２層構造の光ディス
クは、保護膜の表面（以下、「保護膜面」という。）
と、第２の基板のうち半透明反射膜を形成していない面
（以下、「読み取り面」という。）が、外気、すなわち
湿気にさらされることになる。この２層構造の光ディス
クにおいて、保護膜面側では反射膜が水分の透過を抑え
るのに対して、読み取り面側では第２の基板が吸湿し膨
張する。その結果、光ディスクには、そりが発生する。An optical disk having a two-layer structure manufactured in this manner has a protective film surface (hereinafter referred to as a “protective film surface”).
Then, the surface of the second substrate on which the translucent reflective film is not formed (hereinafter, referred to as “reading surface”) is exposed to the outside air, that is, moisture. In this optical disc having a two-layer structure, the reflection film suppresses the transmission of moisture on the protective film side, whereas the second substrate absorbs moisture and expands on the reading surface side. As a result, the optical disk is warped.
【０００４】すなわち、図３に示すように、光ディスク
のそりは、時間の経過の当初は急激に大きくなり、その
後はある値に収束する。ここで、そり量は、そりを生じ
た面と元の面の角度と定義する。また、そり量の符号
は、光ディスクの読み取り面を下側にした場合、上側へ
のそりをプラスとした。なお、そり量の測定点は、半径
が６０ｍｍの２層構造の光ディスクについて、中心から
半径方向に５５ｍｍの点とした。また、測定時の雰囲気
は、測定開始時に２５℃相対湿度５０％とし、３時間か
けて３０℃相対湿度９０％まで変化させ、それ以降はそ
のままに保持した。That is, as shown in FIG. 3, the warp of an optical disk rapidly increases at the beginning of time, and thereafter converges to a certain value. Here, the amount of warpage is defined as the angle between the warped surface and the original surface. Further, the sign of the amount of warpage is such that when the reading surface of the optical disk is on the lower side, the upward warpage is plus. In addition, the measurement point of the amount of warpage was a point 55 mm in the radial direction from the center of the optical disk having a two-layer structure with a radius of 60 mm. The atmosphere at the time of measurement was 25 ° C. and 50% relative humidity at the start of the measurement, and was changed to 30 ° C. and 90% relative humidity over 3 hours, and thereafter was kept as it was.
【０００５】このそりの発生を防止する方法としては、
つぎのような方法がある。すなわち、図４の製造工程図
に示すように、第１の基板と第２の基板を接着する工程
７５の後、最終工程７７で第２の基板の読み取り面側
に、防湿膜を形成する方法である。As a method for preventing the occurrence of the warp,
There are the following methods. That is, as shown in the manufacturing process diagram of FIG. 4, after a step 75 of bonding the first substrate and the second substrate, a method of forming a moisture-proof film on the reading surface side of the second substrate in a final step 77 It is.
【０００６】この方法によると、第１の基板と第２の基
板を接着する工程７５から、第２の基板に防湿膜を形成
する工程７７までの間に、工程トラブルが発生した場
合、読み取り面が長時間に渡って外気にさらされること
になる。すると、図３で説明したように、読み取り面側
からの吸湿に起因する、ディスクのそりが発生する。こ
のそりが発生した後に、防湿膜を形成しても、ディスク
はそりが戻らず不良品となる。According to this method, if a process trouble occurs between the step 75 of bonding the first substrate and the second substrate to the step 77 of forming a moisture-proof film on the second substrate, the reading surface Will be exposed to the open air for a long time. Then, as described with reference to FIG. 3, the warpage of the disk occurs due to moisture absorption from the reading surface side. Even if a moisture-proof film is formed after the occurrence of the warp, the warp does not return to the disk, resulting in a defective product.
【０００７】また、この方法は、インラインでこの製造
工程を組んだ場合、防湿膜を形成するための装置が１台
余分に必要となる。さらに、上述した工程トラブルが発
生したときのことを考慮すると、インラインにおいて、
完璧な防湿設備が必要となる。したがって、設備コスト
が上昇するという問題点がある。In addition, this method requires an extra apparatus for forming a moisture-proof film when this manufacturing process is performed in-line. Furthermore, considering the case where the above-described process trouble occurs, in-line,
Perfect moisture proof equipment is needed. Therefore, there is a problem that the equipment cost increases.
【０００８】この問題点を考慮すると、そりの発生を防
止する方法として、つぎのような方法がある。すなわ
ち、図５の製造工程に示すように、第２の基板の半透明
反射膜を形成する工程８４の後に、基板を反転する工程
８５を経て、防湿膜を形成する工程８６とする方法であ
る。Taking this problem into consideration, there are the following methods for preventing the occurrence of warpage. That is, as shown in the manufacturing process of FIG. 5, a process 86 of forming a translucent reflective film of the second substrate, followed by a process 85 of inverting the substrate, and a process 86 of forming a moisture-proof film. .
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法によると、第１の基板と第２の基板のサイクルが合わ
ず、第１の基板のみ吸収が進み、光ディスクのそりの原
因となるという問題点がある。さらに、第１の基板の反
射膜形成の工程８２から、第１の基板と第２の基板の接
着の工程８７までの間に、工程トラブルが発生した場
合、第１の基板が長時間に渡って外気にさらされること
になる。すると、第１の基板のみ吸湿が進み、光ディス
クのそりの原因となるという問題点がある。However, according to this method, the cycles of the first substrate and the second substrate do not match, and the absorption of only the first substrate proceeds, which causes warpage of the optical disk. There is. Further, if a process trouble occurs between the process 82 of forming the reflection film on the first substrate and the process 87 of bonding the first substrate and the second substrate, the first substrate is left for a long time. Will be exposed to the outside air. Then, there is a problem that moisture absorption proceeds only in the first substrate and causes warpage of the optical disk.
【００１０】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、そりの発生を防止できる光学記録媒体、
光学記録媒体の製造方法、および、光学記録媒体の製造
装置を提供することを目的とする。[0010] The present invention has been made in view of such problems, and an optical recording medium capable of preventing warpage is provided.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical recording medium and an apparatus for manufacturing an optical recording medium.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体
は、反射膜および防湿膜を有する基板と、半透明反射膜
および防湿膜を有する基板を、少なくとも２枚接着した
ものである。The optical recording medium of the present invention is obtained by bonding at least two substrates having a reflective film and a moisture-proof film and a substrate having a translucent reflective film and a moisture-proof film.
【００１２】また、本発明の光学記録媒体の製造方法
は、基板に、直接または他の物を介して、少なくとも反
射膜を形成する第１の工程と、基板に、直接または他の
物を介して、少なくとも半透明反射膜を形成する第２の
工程と、上記第１の工程および上記第２の工程により作
製された基板を、少なくとも２枚接着する第３の工程を
含む光学記録媒体の製造方法において、上記第１の工程
および上記第２の工程では、基板に防湿膜を形成するも
のである。Further, the method of manufacturing an optical recording medium according to the present invention comprises a first step of forming at least a reflection film on a substrate directly or through another object, and a step of forming a reflective film on the substrate directly or through another object. Manufacturing an optical recording medium including at least a second step of forming a translucent reflective film, and a third step of bonding at least two substrates manufactured in the first and second steps. In the method, in the first step and the second step, a moisture-proof film is formed on a substrate.
【００１３】また、本発明の光学記録媒体の製造装置
は、基板に、直接または他の物を介して、少なくとも反
射膜を形成する第１の設備と、基板に、直接または他の
物を介して、少なくとも半透明反射膜を形成する第２の
設備と、上記第１の設備および上記第２の設備より移送
された基板を、少なくとも２枚接着する第３の設備を含
む光学記録媒体の製造装置において、上記第１の設備お
よび上記第２の設備では、基板に防湿膜を形成するもの
である。The apparatus for manufacturing an optical recording medium according to the present invention comprises a first facility for forming at least a reflection film on a substrate, directly or through another object, and a substrate directly or through another object on a substrate. Manufacturing an optical recording medium including at least a second facility for forming at least a translucent reflective film, and a third facility for bonding at least two substrates transferred from the first facility and the second facility. In the apparatus, the first facility and the second facility form a moisture-proof film on a substrate.
【００１４】本発明の光学記録媒体、光学記録媒体の製
造方法、および、光学記録媒体の製造装置によれば、反
射膜および防湿膜を有する基板と、半透明反射膜および
防湿膜を有する基板を、接着することにより、または、
基板に反射膜を形成する第１の工程と、基板に半透明反
射膜を形成する第２の工程で、基板に防湿膜を形成する
ことにより、または、基板に反射膜を形成する第１の設
備と、基板に半透明反射膜を形成する第２の設備で、基
板に防湿膜を形成することにより、光学記録媒体の製造
過程において、基板の吸湿を防止できる。According to the optical recording medium, the method for manufacturing the optical recording medium, and the apparatus for manufacturing the optical recording medium of the present invention, a substrate having a reflective film and a moisture-proof film and a substrate having a translucent reflective film and a moisture-proof film are provided. By gluing, or
A first step of forming a reflective film on the substrate and a second step of forming a translucent reflective film on the substrate include forming a moisture-proof film on the substrate or a first step of forming a reflective film on the substrate. By forming the moisture-proof film on the substrate with the equipment and the second equipment for forming the translucent reflective film on the substrate, it is possible to prevent the substrate from absorbing moisture in the manufacturing process of the optical recording medium.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。まず、光学記録媒体に係る発明の実施の形
態について図１を参照しながら説明する。図１は、光学
記録媒体に係る発明の実施の形態の一例を示す断面図で
ある。図１からわかるように、この光学記録媒体３は、
２層構造を持つ記録媒体である。また、光学記録媒体３
は、第１の基板１、反射膜４、保護膜６、防湿膜５、第
２の基板２、半透明反射膜７、防湿膜８、および接着層
９より構成されている。Embodiments of the present invention will be described below. First, an embodiment of the invention relating to an optical recording medium will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of the invention relating to an optical recording medium. As can be seen from FIG. 1, this optical recording medium 3
This is a recording medium having a two-layer structure. In addition, the optical recording medium 3
Is composed of a first substrate 1, a reflective film 4, a protective film 6, a moisture-proof film 5, a second substrate 2, a translucent reflective film 7, a moisture-proof film 8, and an adhesive layer 9.
【００１６】第１の基板１はディスク形状をしている。
その直径は８０ｍｍまたは１２０ｍｍであり、その厚さ
は、０．５５〜０．６５ｍｍの範囲にある。なお、第１
の基板１の直径は、上述の８０ｍｍおよび１２０ｍｍに
限定されないことはもちろんである。また、この第１の
基板１の片側平面には、信号情報となるピット、トラッ
キング用のプリピットまたはプリグルーブが、同心円状
にまたはスパイラル状に形成されている。The first substrate 1 has a disk shape.
Its diameter is 80 mm or 120 mm and its thickness is in the range of 0.55 to 0.65 mm. The first
Needless to say, the diameter of the substrate 1 is not limited to the above-described 80 mm and 120 mm. On one side surface of the first substrate 1, pits serving as signal information, tracking pre-pits or pre-grooves are formed concentrically or spirally.
【００１７】また、この第１の基板１は、光透過性を有
する樹脂、すなわちポリカードネート（ＰＣ）より作製
されている。なお、この第１の基板１の材質は、ポリカ
ーボネート樹脂（ＰＣ）に限定されるわけではない。例
えば、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、アモ
ルファスポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）等の透明樹脂
や、ガラスなどを用いることができる。The first substrate 1 is made of a resin having optical transparency, that is, polycardate (PC). The material of the first substrate 1 is not limited to polycarbonate resin (PC). For example, a transparent resin such as polymethyl methacrylate resin (PMMA) and amorphous polyolefin resin (APO), glass, and the like can be used.
【００１８】図面上、第１の基板１の上には、反射膜４
が形成されている。この反射膜４の厚さは、５０〜１０
０ｎｍの範囲にある。また、この反射膜４は、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｐｄ、Ａｌなどの金属、またはこれらの金属の合金
よりなっている。この反射膜４は、読み取り面側ａから
照射されるレーザ光を、反射させる機能を有している。In the drawing, a reflective film 4 is provided on a first substrate 1.
Are formed. The thickness of the reflection film 4 is 50 to 10
It is in the range of 0 nm. The reflection film 4 is made of Au, A
It is made of a metal such as g, Pd, or Al, or an alloy of these metals. The reflection film 4 has a function of reflecting the laser light emitted from the reading surface side a.
【００１９】図面上、反射膜４の上には、保護膜６が形
成されている。この保護膜６の厚さは、１０〜１００μ
ｍの範囲にある。また、この保護膜６は紫外線硬化型樹
脂からなっている。すなわち、保護膜６の材質として
は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウ
レタン樹脂等を用いることができる。In the drawing, a protective film 6 is formed on the reflective film 4. The thickness of the protective film 6 is 10 to 100 μm.
m. The protective film 6 is made of an ultraviolet curable resin. That is, as a material of the protective film 6, an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, a urethane resin, or the like can be used.
【００２０】図面上、第１の基板の下には、防湿膜５が
形成されている。この防湿膜５の厚さは、２０〜５０ｎ
ｍの範囲にある。その理由は、厚さが２０ｎｍより薄い
と、水分を透過するおそれがあるからであり、また厚さ
が５０ｎｍより厚いと、熱膨張によりクラックが発生し
剥がれやすくなるからである。In the drawing, a moisture-proof film 5 is formed below the first substrate. The thickness of the moisture-proof film 5 is 20 to 50 n
m. The reason is that if the thickness is less than 20 nm, there is a risk of transmitting moisture, and if the thickness is more than 50 nm, cracks are generated due to thermal expansion and are easily peeled off.
【００２１】また、防湿膜５は、二酸化珪素（ＳｉＯ2
）よりなっている。なお、防湿膜の材質はこの二酸化
珪素（ＳｉＯ2 ）に限定されるわけではない。例えば、
透明な防湿膜を形成する材質としては、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、
酸化タングステン、酸化タンタル、酸化イットリウム、
酸化ビスマス、酸化セリウム、酸化ユーロピウム、酸化
ハフニウム、酸化インジウム、酸化ランタン、酸化モリ
ブデン、酸化サマリウム、酸化アンチモン、酸化スカン
ジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化スト
ロンチウム、酸化アルミニウムなどが挙げられる。ま
た、これらのうち２種類以上の混合物により形成しても
よい。The moisture-proof film 5 is made of silicon dioxide (SiO 2).
). The material of the moisture-proof film is not limited to silicon dioxide (SiO2). For example,
Materials that form a transparent moisture-proof film include zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, calcium oxide,
Tungsten oxide, tantalum oxide, yttrium oxide,
Examples include bismuth oxide, cerium oxide, europium oxide, hafnium oxide, indium oxide, lanthanum oxide, molybdenum oxide, samarium oxide, antimony oxide, scandium oxide, tin oxide, zinc oxide, barium oxide, strontium oxide, and aluminum oxide. Moreover, you may form with a mixture of two or more types among these.
【００２２】図面上、第１の基板１の下の方には、第２
の基板２が形成されている。この第２の基板の形状、直
径、厚さ、および材質などは、第１の基板１で説明した
と同様である。また、第２の基板２の片側平面に、信号
情報となるピット、トラッキング用のプリピットまたは
プリグルーブが、同心円状にまたはスパイラル状に形成
されていることも、第１の基板１で説明したと同様であ
る。In the drawing, the lower part of the first substrate 1
Substrate 2 is formed. The shape, diameter, thickness, material, and the like of the second substrate are the same as those described for the first substrate 1. Also, the fact that pits serving as signal information, tracking pre-pits or pre-grooves are formed concentrically or spirally on one side plane of the second substrate 2 has been described in the first substrate 1. The same is true.
【００２３】図面上、第２の基板の上には、半透明反射
膜７が形成されている。この半透明反射膜７の厚さは、
１０〜３０ｎｍの範囲にある。また、半透明反射膜７
は、例えば、Ｓｉx Ｈy Ｎz よりなっている。In the drawing, a translucent reflection film 7 is formed on the second substrate. The thickness of this translucent reflective film 7 is
It is in the range of 10-30 nm. Further, the translucent reflection film 7
Is made of Six Hy Nz, for example.
【００２４】図面上、第２の基板の下には、防湿膜８が
形成されている。この防湿膜８の形状、材質、機能など
は、第１の基板に形成された防湿膜５で説明したと同様
である。In the drawing, a moisture-proof film 8 is formed below the second substrate. The shape, material, function, and the like of the moisture-proof film 8 are the same as those described for the moisture-proof film 5 formed on the first substrate.
【００２５】図面上、半透明反射膜７と防湿膜５の間に
は、接着層９が形成されている。この接着層９の厚さ
は、数１０〜１００μｍの範囲にある。また、接着層９
は、保護膜６と同様に紫外線硬化型樹脂からなってい
る。In the drawing, an adhesive layer 9 is formed between the translucent reflective film 7 and the moisture-proof film 5. The thickness of the adhesive layer 9 is in the range of several tens to 100 μm. Also, the adhesive layer 9
Is made of an ultraviolet curable resin like the protective film 6.
【００２６】次に、光学記録媒体の製造方法、および光
学記録媒体の製造装置に係る発明の実施の形態について
図２を参照しながら説明する。図２は、光学記録媒体の
製造方法に係る発明の実施の形態の一例を示す製造工程
図である。Next, an embodiment of the invention relating to a method for manufacturing an optical recording medium and an apparatus for manufacturing an optical recording medium will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a manufacturing process diagram showing an example of an embodiment of the invention relating to a method for manufacturing an optical recording medium.
【００２７】まず、第１の射出成形機により、第１の基
板の成形工程５１がなされる。第１の基板の成形工程５
１では、例えばポリカーボネート等の光透過性樹脂の射
出成形によって、第１の基板１の成形と同時に、第１の
基板１の一主面にデータ記録ピット、またはプリグルー
ブ等を形成する。なお、第１の基板の製造方法は、この
射出成形法に限定されるわけではない。例えば、いわゆ
る２Ｐ（ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）法によっても作
製することができる。First, a first substrate molding step 51 is performed by the first injection molding machine. Forming step 5 of first substrate
In 1, data recording pits or pre-grooves are formed on one main surface of the first substrate 1 at the same time as the first substrate 1 is formed by injection molding of a light-transmitting resin such as polycarbonate. Note that the method for manufacturing the first substrate is not limited to the injection molding method. For example, it can be manufactured by a so-called 2P (photo-polymer) method.
【００２８】つぎに、第１のスパッタリング装置によ
り、反射膜形成の工程５２、基板反転の工程５３、およ
び防湿膜形成の工程５４がなされる。Next, a step 52 of forming a reflection film, a step 53 of inverting the substrate, and a step 54 of forming a moisture-proof film are performed by the first sputtering apparatus.
【００２９】反射膜形成の工程５２では、第１の基板の
上に反射膜が形成される。すなわち、第１の基板の微細
凹凸上に、スパッタ法によりＡｕ（純度９９．９９％）
膜からなる反射膜が形成される。In the reflection film forming step 52, a reflection film is formed on the first substrate. That is, Au (purity: 99.99%) is formed on the fine unevenness of the first substrate by sputtering.
A reflection film made of a film is formed.
【００３０】基板反転の工程５３では、一方の面に反射
膜を形成した第１の基板を、スパッタリング装置内で反
転する。In the substrate inversion step 53, the first substrate having the reflection film formed on one surface is inverted in a sputtering apparatus.
【００３１】防湿膜形成の工程５４では、第１の基板の
他方の面に防湿膜を形成する。すなわち、反射膜を形成
した面とは反対側の面の上に、スパッタリング法により
ＳｉＯ2 防湿膜を形成する。ここで、ターゲットとして
Ｓｉを用い、雰囲気ガスとしてＡｒ，Ｏ2 を用いる。こ
のほか、ターゲッとしてトＳｉＯ2 を用い、雰囲気ガス
としてＡｒを用いることもできる。なお、防湿膜を形成
する方法は、上述したスパッタリング法に限定されるわ
けではない。例えば、透明な防湿膜の形成方法として、
真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマ重合
法、プラズマＣＶＤ法など、基板上に均一に成膜できる
方法を採用することができる。In step 54 for forming a moisture-proof film, a moisture-proof film is formed on the other surface of the first substrate. That is, an SiO 2 moisture-proof film is formed by a sputtering method on the surface opposite to the surface on which the reflective film is formed. Here, Si is used as a target, and Ar and O 2 are used as atmosphere gases. In addition, SiO 2 may be used as a target, and Ar may be used as an atmosphere gas. Note that the method of forming the moisture-proof film is not limited to the above-described sputtering method. For example, as a method of forming a transparent moisture-proof film,
A method capable of uniformly forming a film on a substrate, such as a vacuum evaporation method, an ion plating method, a plasma polymerization method, and a plasma CVD method, can be employed.
【００３２】第１の射出成形機とは、別個に、第２の射
出成形機により第２の基板の成形工程５５がなされる。
第２の基板の成形工程５５では、第１の基板の成形工程
５１と同様に、射出成形により、一主面のデータ記録ピ
ットまたはプリグルーブ等の微細凹凸が形成された第２
の基板を成形する。A second substrate molding step 55 is performed by a second injection molding machine separately from the first injection molding machine.
In the second substrate molding step 55, similarly to the first substrate molding step 51, the second irregularities such as data recording pits or pregrooves on one principal surface are formed by injection molding.
Is molded.
【００３３】つぎに、第２のスパッタリング装置によ
り、半透明反射膜形成の工程５６、基板反転の工程５
７、および防湿膜形成の工程５８がなされる。Next, a step 56 for forming a translucent reflective film and a step 5 for inverting the substrate are performed by the second sputtering apparatus.
7 and a step 58 of forming a moisture-proof film.
【００３４】半透明反射膜形成の工程５６では、第２の
基板に半透明反射膜を形成する。すなわち、第２の基板
の微細凹凸上に、スパッタリング法により例えばＳｉx
ＨyＮz の薄膜による半透明反射膜を形成する。ここ
で、ターゲットとしてＳｉを用い、雰囲気ガスとしてＡ
ｒ、Ｈ2 、Ｎ2 を用いる。または、ターゲットとしてＳ
ｉＮを用い、雰囲気ガスとしてＡｒ、Ｈ2 を用いるか、
または、ターゲットとしてＳｉx Ｈy Ｎz を用い、雰囲
気ガスとしてＡｒを用いる。In the step 56 of forming a translucent reflective film, a translucent reflective film is formed on the second substrate. That is, for example, Six
A translucent reflective film made of a HyNz thin film is formed. Here, Si is used as a target, and A is used as an atmosphere gas.
r, H 2 and N 2 are used. Or S as the target
using iN and using Ar and H 2 as atmosphere gas,
Alternatively, Six HyNz is used as a target, and Ar is used as an atmosphere gas.
【００３５】基板反転の工程５７では、一方の面に半透
明反射膜を形成した第２の基板を、スパッタリング装置
内で反転する。In the substrate inversion step 57, the second substrate having the translucent reflection film formed on one surface is inverted in a sputtering apparatus.
【００３６】防湿膜形成の工程５８では、第２の基板の
他方の面に防湿膜を形成する。すなわち、第１の基板の
防湿膜の形成工程５４と同じく、第２の基板上にスパッ
タリング法によりＳｉＯ2 防湿膜を形成する。ここで、
スパッタリングの条件は第１の基板の防湿膜の形成工程
５４と同様とする。In the step 58 of forming a moisture-proof film, a moisture-proof film is formed on the other surface of the second substrate. That is, like the forming step 54 of the moistureproof film of the first substrate, forming a SiO 2 moistureproof film by sputtering on the second substrate. here,
The conditions for the sputtering are the same as in the step 54 of forming the moisture-proof film on the first substrate.
【００３７】つぎに、第１のスピンコータにより、接着
の工程５９がなされる。接着の工程５９では、上述の第
１のスパッタリング装置および第２のスパッタリング装
置より移送された、第１の基板と第２の基板が接着され
る。すなわち、スピンコータの円盤状の回転チャックの
水平基台上に、第２の基板を半透明反射膜が上になるよ
うに載置する。つぎに、その半透明反射膜上に未硬化の
紫外線硬化型樹脂を例えば滴下によって載せる。つぎ
に、第１の基板を反射膜が上になるように合致させる。Next, a bonding step 59 is performed by the first spin coater. In the bonding step 59, the first substrate and the second substrate transferred from the first sputtering device and the second sputtering device are bonded. That is, the second substrate is placed on the horizontal base of the disk-shaped rotary chuck of the spin coater such that the translucent reflective film faces upward. Next, an uncured ultraviolet curable resin is placed on the translucent reflective film, for example, by dropping. Next, the first substrate is matched so that the reflective film faces upward.
【００３８】つぎに、回転チャックを例えば毎分２００
０〜５０００回の高速で回転させることにより、第１の
基板と第２の基板の間に介在された未硬化の紫外線硬化
型樹脂を均一な厚みに延伸させる。つぎに、第１の基板
と第２の基板に、紫外線を照射することにより、未硬化
の紫外線硬化型樹脂を硬化させ、第１の基板と第２の基
板の接着を完了させる。Next, the rotary chuck is set to, for example, 200 rpm.
By rotating the resin at a high speed of 0 to 5000 times, the uncured ultraviolet curable resin interposed between the first substrate and the second substrate is stretched to a uniform thickness. Next, by irradiating the first substrate and the second substrate with ultraviolet rays, the uncured ultraviolet-curable resin is cured, and the bonding between the first substrate and the second substrate is completed.
【００３９】つぎに、第２のスピンコータにより、保護
膜形成の工程６０がなされる。この保護膜形成の工程６
０では、第１の基板の反射膜の上に保護膜が形成され
る。すなわち、第１のスピンコータより移送されたディ
スクについて、第１の基板の反射膜の上に、未硬化の紫
外線硬化型樹脂（例えば、商品名：ダイキュアクリア、
大日本インキ化学工業（株）社製）を、スピンコート法
により塗布した後、紫外線を照射し、塗膜を硬化させて
保護膜を形成する。これにより、光学記録媒体が完成す
る。Next, a protective film forming step 60 is performed by the second spin coater. Step 6 of forming this protective film
At 0, a protective film is formed on the reflective film of the first substrate. That is, with respect to the disc transferred from the first spin coater, an uncured UV-curable resin (for example, trade name: Die Cure Clear,
(Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.) is applied by spin coating, and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating and form a protective film. Thereby, the optical recording medium is completed.
【００４０】以上のことから、本発明の実施の形態によ
れば、反射膜および防湿膜を有する基板と、半透明反射
膜および防湿膜を有する基板を、接着することにより、
または、基板に反射膜を形成する第１の工程と、基板に
半透明反射膜を形成する第２の工程で、基板に防湿膜を
形成することにより、または、基板に反射膜を形成する
第１の設備と、基板に半透明反射膜を形成する第２の設
備で、基板に防湿膜を形成することにより、光学記録媒
体の製造過程において、基板の吸湿を防止できる。さら
に、光学記録媒体のそりの発生を防止できる。したがっ
て、安定した品質の製品が得られ、高歩留まりを維持す
ることができる。As described above, according to the embodiment of the present invention, the substrate having the reflective film and the moisture-proof film and the substrate having the translucent reflective film and the moisture-proof film are bonded to each other.
Alternatively, in a first step of forming a reflective film on the substrate and a second step of forming a translucent reflective film on the substrate, a moisture-proof film is formed on the substrate, or a second step of forming a reflective film on the substrate. By forming a moisture-proof film on the substrate with the first device and the second device for forming a translucent reflective film on the substrate, it is possible to prevent the substrate from absorbing moisture in the process of manufacturing the optical recording medium. Further, warpage of the optical recording medium can be prevented. Therefore, a product of stable quality can be obtained, and a high yield can be maintained.
【００４１】また、反射膜または半透明反射膜の形成と
同時に防湿膜を形成するので、新たなスパッタリング装
置が不要となり、設備コストの上昇を抑制できる。ま
た、工程トラブルが発生したときでも、インラインにつ
いて、完璧な防湿設備を必要としないので、設備コスト
の上昇を抑制できる。さらに、全体の設備がシンプルに
なるので、製造設備のインライン化が容易になる。Further, since the moisture-proof film is formed simultaneously with the formation of the reflection film or the translucent reflection film, a new sputtering device is not required, and an increase in equipment cost can be suppressed. Further, even when a process trouble occurs, a perfect moisture-proof facility is not required for in-line, so that an increase in facility cost can be suppressed. Further, since the entire equipment is simplified, it is easy to inline the manufacturing equipment.
【００４２】なお、上述の発明の実施の形態において
は、２層構造のディスク、いわゆる円盤状の光ディスク
について説明したが、本発明はこのような光ディスクや
形状に限られるものではない。例えば、３層以上の光デ
ィスクにも適用することができる。さらに、２層以上の
光磁気ディスク、相変化型光ディスク、その他カード状
またはシート状の記録媒体など、反射膜または半透明反
射膜を有する各種の光学記録媒体に適用することができ
る。ここで、反射膜または半透明反射膜は、基板に直接
形成するばかりでなく、他のもの、すなわち磁気記録
膜、層変化型記録膜などを介して形成するものであって
もよい。In the embodiment of the present invention described above, a disk having a two-layer structure, that is, a disk-shaped optical disk has been described, but the present invention is not limited to such an optical disk or shape. For example, the present invention can be applied to an optical disk having three or more layers. Further, the present invention can be applied to various optical recording media having a reflective film or a translucent reflective film, such as a magneto-optical disk having two or more layers, a phase-change optical disk, and a card-shaped or sheet-shaped recording medium. Here, the reflective film or the translucent reflective film may be formed not only directly on the substrate but also via another material, that is, a magnetic recording film, a layer-change recording film, or the like.
【００４３】また、例えば２枚の透明基板上に、それぞ
れ２層以上の反射膜または半透明反射膜を形成し、これ
ら透明基板をその反射膜または半透明反射膜を有する面
をつき合わせ接合して形成し、両透明基板側から光照射
を行うようにした構成とすることもできるなど種々の構
造とすることができる。Further, for example, two or more reflective films or translucent reflective films are formed on two transparent substrates, respectively, and these transparent substrates are joined by joining the surfaces having the reflective films or semitransparent reflective films. And various structures such as a configuration in which light irradiation is performed from both transparent substrates.
【００４４】また、本発明は上述の実施の形態に限らず
本発明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採
り得ることはもちろんである。The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can adopt various other configurations without departing from the gist of the present invention.
【００４５】[0045]
【発明の効果】本発明は、以下に記載されるような効果
を奏する。反射膜および防湿膜を有する基板と、半透明
反射膜および防湿膜を有する基板を、接着することによ
り、または、基板に反射膜を形成する第１の工程と、基
板に半透明反射膜を形成する第２の工程で、基板に防湿
膜を形成することにより、または、基板に反射膜を形成
する第１の設備と、基板に半透明反射膜を形成する第２
の設備で、基板に防湿膜を形成することにより、光学記
録媒体のそりの発生を防止できる。The present invention has the following effects. A first step of bonding a substrate having a reflective film and a moisture-proof film to a substrate having a translucent reflective film and a moisture-proof film, or forming a reflective film on the substrate, and forming a translucent reflective film on the substrate In the second step, a moisture-proof film is formed on the substrate, or a first facility for forming a reflective film on the substrate, and a second equipment for forming a translucent reflective film on the substrate.
By forming a moisture-proof film on the substrate with the above-mentioned equipment, it is possible to prevent the optical recording medium from warping.
【図１】光学記録媒体に係る発明の実施の形態の一例を
示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of the invention relating to an optical recording medium.
【図２】光学記録媒体の製造方法に係る発明の実施の形
態の一例を示す製造工程図である。FIG. 2 is a manufacturing process diagram showing an example of an embodiment of the invention relating to a method for manufacturing an optical recording medium.
【図３】第１の従来例の製造方法において、防湿膜を形
成しなかった場合のそり量の経時変化を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a change over time in the amount of warpage when a moisture-proof film is not formed in the manufacturing method of the first conventional example.
【図４】光学記録媒体の製造方法に係る第１の従来例を
示す製造工程図である。FIG. 4 is a manufacturing process diagram showing a first conventional example according to a method for manufacturing an optical recording medium.
【図５】光学記録媒体の製造方法に係る第２の従来例を
示す製造工程図である。FIG. 5 is a manufacturing process diagram showing a second conventional example according to a method for manufacturing an optical recording medium.
１‥‥第１の基板、２‥‥第２の基板、３‥‥光学記録
媒体、４‥‥反射膜、５‥‥防湿層、６‥‥保護膜、７
‥‥半透明反射膜、８‥‥防湿膜、９‥‥接着層Reference Signs List 1 1st substrate 2 2nd substrate 3 optical recording medium 4 reflective film 5 moistureproof layer 6 protective film 7
‥‥ Semi-transparent reflective film, 8 ‥‥ Moisture-proof film, 9 ‥‥ Adhesive layer
Claims (3)
透明反射膜および防湿膜を有する基板を、少なくとも２
枚接着したことを特徴とする光学記録媒体。1. A substrate having a reflective film and a moisture-proof film, and a substrate having a translucent reflective film and a moisture-proof film,
An optical recording medium characterized by being adhered.
なくとも反射膜を形成する第１の工程と、 基板に、直接または他の物を介して、少なくとも半透明
反射膜を形成する第２の工程と、 上記第１の工程および上記第２の工程により作製された
基板を、少なくとも２枚接着する第３の工程を含む光学
記録媒体の製造方法において、 上記第１の工程および上記第２の工程では、基板に防湿
膜を形成することを特徴とする光学記録媒体の製造方
法。2. A first step of forming at least a reflective film on a substrate directly or through another object, and a first step of forming at least a semi-transparent reflective film on a substrate directly or through another object. 2. A method for manufacturing an optical recording medium, comprising: a second step; and a third step of bonding at least two substrates manufactured by the first step and the second step, wherein the first step and the second step In the second step, a method for manufacturing an optical recording medium, comprising forming a moisture-proof film on a substrate.
なくとも反射膜を形成する第１の設備と、 基板に、直接または他の物を介して、少なくとも半透明
反射膜を形成する第２の設備と、 上記第１の設備および上記第２の設備より移送された基
板を、少なくとも２枚接着する第３の設備を含む光学記
録媒体の製造装置において、 上記第１の設備および上記第２の設備では、基板に防湿
膜を形成することを特徴とする光学記録媒体の製造装
置。3. A first facility for forming at least a reflection film on a substrate directly or via another object, and a first equipment for forming at least a translucent reflection film on a substrate directly or via another object. A second facility, and an optical recording medium manufacturing apparatus including a third facility for bonding at least two substrates transferred from the first facility and the second facility, wherein the first facility and the second An apparatus for manufacturing an optical recording medium according to the second aspect, wherein a moisture-proof film is formed on the substrate.
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|---|---|---|---|
| JP13164399A JP3537701B2 (en) | 1999-05-12 | 1999-05-12 | Optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium, and apparatus for manufacturing optical recording medium |
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|---|---|---|---|---|
| WO2003056554A1 (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-10 | Tdk Corporation | Multi-layered optical recording medium manufacturing method and multi-layered optical recording medium |
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| KR20080048842A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-03 | 엘지전자 주식회사 | Optical recording medium and manufacturing method thereof |
| JP2008305529A (en) * | 2007-05-09 | 2008-12-18 | Victor Co Of Japan Ltd | Optical storage medium and method of producing optical storage medium |
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1999
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| WO2003056553A1 (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-10 | Tdk Corporation | Multi-layered optical recording medium and multi-layered optical recording medium manufacturing method |
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