JP2000313998A - Denatured pitch fluoride containing composite plating liquid and formation of composite plating film - Google Patents

Denatured pitch fluoride containing composite plating liquid and formation of composite plating film

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JP2000313998A
JP2000313998A JP11118652A JP11865299A JP2000313998A JP 2000313998 A JP2000313998 A JP 2000313998A JP 11118652 A JP11118652 A JP 11118652A JP 11865299 A JP11865299 A JP 11865299A JP 2000313998 A JP2000313998 A JP 2000313998A
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JP
Japan
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composite plating
plating film
pitch
diamine compound
base material
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JP11118652A
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Japanese (ja)
Inventor
Michio Saito
道雄 斎藤
Mitsuaki Yamada
光昭 山田
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Osaka Gas Co Ltd
Original Assignee
Osaka Gas Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the water repellence of a composite plating film by incor porating a metal salt and fluorinated pitch treated by a diamine compound into the film. SOLUTION: A composite plating liquid consists of an aqueous solution prepared by dissolving the metal salt therein and dispersing the fluorinated pitch therein. The metal salt is the material for forming a metallic base material layer of composite plating film, for which salts of Ni, Cu, Zn, Sn, etc., are used. The fluorinated pitch previously treated by the diamine compound, i.e., the fluorinated pitch formed by reacting the diamine compound with the fluorinated pitch is used. The diamine compound is preferably expressed by formula, where R is 1 to 3C alkyl group and (n) is an integer from 2 to 5. N,N-dimethyl-1 and 3-propanediamine are more particularly preferable among these. The composite plating film is formed by immersing a prescribed base material into such plating liquid and applying electrolytic plating to the base material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、メッキ液およびメ
ッキ被膜の形成方法、特に、複合メッキ液および複合メ
ッキ被膜の形成方法に関する。
The present invention relates to a plating solution and a method for forming a plating film, and more particularly to a composite plating solution and a method for forming a composite plating film.

【0002】[0002]

【従来の技術とその課題】金属製や樹脂製の基材に対し
て撥水性を付与するための被膜として、ポリテトラフル
オロエチレンなどのフッ素系樹脂からなるものが知られ
ている。ところが、フッ素系樹脂は、軟化流動しにくい
ため、細かな金属管の内面や複雑な凹凸形状を有する部
材の表面に対して均一な被膜を形成するのが困難であ
る。そこで、複雑な形状等を有する部材の表面等に対し
て均一な撥水性を付与することができる被膜として、フ
ッ素系化合物の粒子またはフッ素系化合物により処理さ
れた粒子が分散された複合メッキ被膜が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art As a film for imparting water repellency to a metal or resin substrate, a film made of a fluorine-based resin such as polytetrafluoroethylene is known. However, since the fluororesin hardly softens and flows, it is difficult to form a uniform coating on the inner surface of a fine metal tube or the surface of a member having a complicated uneven shape. Therefore, as a film capable of imparting uniform water repellency to the surface of a member having a complicated shape or the like, a composite plating film in which particles of a fluorine-based compound or particles treated with a fluorine-based compound are dispersed is used. Proposed.

【0003】例えば、特開平7−26397号公報に
は、金属母材層中にフッ化ピッチ微粒子を分散共析させ
た複合メッキ被膜が示されている。この複合メッキ被膜
は、高い撥水性を示すフッ化ピッチ微粒子を金属母材層
中に含んでいるために撥水性が高く、しかも慣用的なメ
ッキ手法により形成することができることから、複雑な
形状等を有する部材の表面等に対しても均一に付与する
ことができる。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-26397 discloses a composite plating film in which fine pitch fluoride particles are dispersed and eutectoid in a metal base material layer. This composite plating film has high water repellency because it contains fine pitch fluoride particles exhibiting high water repellency in the metal base material layer, and can be formed by a conventional plating method, and thus has a complicated shape and the like. Can be evenly applied to the surface or the like of a member having.

【0004】ところで、上述のような複合メッキ被膜を
形成する場合は、通常、金属母材層を形成するための金
属塩、フッ化ピッチ微粒子および当該フッ化ピッチ微粒
子を水中に均一に分散させるための界面活性剤を含む複
合メッキ液を調製し、この複合メッキ液中に基材を浸漬
してメッキ法を適用している。しかし、この複合メッキ
液により形成される複合メッキ被膜は、撥水性の阻害原
因となり得る界面活性剤を含むことになるため、フッ化
ピッチ微粒子を用いることによって本来期待できる撥水
性を十分に発揮できるものとは言い難い。
When the above-mentioned composite plating film is formed, usually, a metal salt for forming a metal base material layer, fine particles of pitch fluoride and fine particles of pitch fluoride are uniformly dispersed in water. A composite plating solution containing a surfactant is prepared, and a substrate is immersed in the composite plating solution to apply a plating method. However, since the composite plating film formed by this composite plating solution contains a surfactant which may be a cause of inhibiting water repellency, the water repellency originally expected by using pitch fluoride fine particles can be sufficiently exhibited. Hard to say.

【0005】本発明の目的は、フッ化ピッチを含む複合
メッキ被膜の撥水性を高めることにある。
An object of the present invention is to increase the water repellency of a composite plating film containing pitch fluoride.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明に係る複合メッキ
液は、金属塩と、ジアミン化合物により処理されたフッ
化ピッチとを含んでいる。ここで、ジアミン化合物は、
例えば下記の一般式(1)で示されるものである。な
お、式中、Rは炭素数が1〜3のアルキル基を、nは2
〜5の整数をそれぞれ示している。
The composite plating solution according to the present invention contains a metal salt and pitch fluoride treated with a diamine compound. Here, the diamine compound is
For example, it is represented by the following general formula (1). In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n represents 2
5 to 5 are shown.

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】このような一般式(1)で示されるジアミ
ン化合物は、例えば、N,N−ジメチル−1,3−プロ
パンジアミンである。
The diamine compound represented by the general formula (1) is, for example, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine.

【0009】本発明に係る複合メッキ被膜の形成方法
は、金属母材層中にフッ化ピッチが分散された複合メッ
キ被膜を基材に対して形成するための方法である。この
方法は、金属母材層を形成するための金属塩と、ジアミ
ン化合物により処理されたフッ化ピッチとを含む複合メ
ッキ液を用意する工程と、複合メッキ液中に基材を浸漬
し、基材に対してメッキ法を適用する工程とを含んでい
る。この方法は、例えば、メッキ法により得られた複合
メッキ被膜を熱処理する工程をさらに含んでいる。
The method of forming a composite plating film according to the present invention is a method for forming a composite plating film in which pitch fluoride is dispersed in a metal base material layer on a substrate. This method includes a step of preparing a composite plating solution containing a metal salt for forming a metal base material layer and pitch fluoride treated with a diamine compound, and immersing the base material in the composite plating solution, Applying a plating method to the material. This method further includes, for example, a step of heat-treating the composite plating film obtained by the plating method.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の複合メッキ液は、金属塩
が溶解されかつフッ化ピッチが分散された水溶液からな
る。ここで、金属塩は、複合メッキ被膜の金属母材層を
形成するための材料であり、例えば、ニッケル、銅、亜
鉛、スズ、鉄、鉛、カドミウム、クロム、金や銀などの
貴金属類、およびこれらの合金などの塩が用いられる。
このような金属の塩としては、塩化ニッケルなどの塩化
物塩、炭酸ニッケルなどの炭酸塩、スルファミン酸ニッ
ケルなどのスルファミン酸塩などを例示することができ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The composite plating solution of the present invention comprises an aqueous solution in which a metal salt is dissolved and pitch fluoride is dispersed. Here, the metal salt is a material for forming a metal base material layer of the composite plating film, for example, noble metals such as nickel, copper, zinc, tin, iron, lead, cadmium, chromium, gold and silver, And salts such as alloys thereof.
Examples of such metal salts include chloride salts such as nickel chloride, carbonate salts such as nickel carbonate, and sulfamate salts such as nickel sulfamate.

【0011】一方、フッ化ピッチは、ピッチをフッ素ガ
スを用いてフッ素化することにより製造できる公知の物
質であり、例えば、特開昭62−275190号公報に
開示されている。
On the other hand, fluorinated pitch is a known substance which can be produced by fluorinating pitch using fluorine gas, and is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-275190.

【0012】このようなフッ化ピッチを製造するために
用いられるピッチは、一般に芳香族縮合六員環平面がメ
チレンなどの脂肪族炭化水素基により架橋しながら積層
した層構造を有するものであり、通常、石油蒸留残渣、
ナフサ熱分解残渣、エチレンボトム油、石炭液化油およ
びコールタールなどの石油系または石炭系重質油を蒸留
して沸点が200℃未満の低沸点成分を除去したもの、
ナフタレン等の縮合によって合成されたもの、およびこ
れらをさらに熱処理や水添処理したものである。具体的
には、等方性ピッチ、メソフェースピッチ、水素化メソ
フェースピッチ、石油系または石炭系重質油を蒸留して
低沸点成分を除去した後に生成するメソフェース球体か
らなるメソカーボンマイクロビーズなどを挙げることが
できる。
The pitch used for producing such a fluorinated pitch generally has a layer structure in which aromatic condensed six-membered ring planes are laminated while being crosslinked by an aliphatic hydrocarbon group such as methylene. Usually, petroleum distillation residue,
Naphtha pyrolysis residue, ethylene bottom oil, coal liquefied oil and petroleum or coal heavy oil such as coal tar are distilled to remove low boiling components having a boiling point of less than 200 ° C.,
These are those synthesized by condensation of naphthalene or the like, and those further subjected to heat treatment or hydrogenation treatment. Specifically, isotropic pitch, mesophase pitch, hydrogenated mesophase pitch, mesocarbon microbeads composed of mesophase spheres formed after distilling petroleum-based or coal-based heavy oil to remove low-boiling components, etc. Can be mentioned.

【0013】上述のピッチを用いて目的とするフッ化ピ
ッチを製造する際には、ピッチとフッ素ガスとを直接反
応させる。この反応時の温度は、0〜350℃程度に設
定するのが好ましく、ピッチの軟化点以下に設定するの
がより好ましい。また、反応時のフッ素ガス圧は、特に
限定されるものではないが、一般に0.07〜1.5気
圧に設定するのが好ましい。なお、フッ素ガスとして
は、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオンなどの不活性ガ
スを用いて希釈したものが用いられてもよい。
When producing the desired fluorinated pitch using the above-mentioned pitch, the pitch is directly reacted with fluorine gas. The temperature at the time of this reaction is preferably set to about 0 to 350 ° C., and more preferably to the softening point of the pitch or lower. In addition, the fluorine gas pressure during the reaction is not particularly limited, but is generally preferably set to 0.07 to 1.5 atm. Note that, as the fluorine gas, a gas diluted with an inert gas such as nitrogen, helium, argon, or neon may be used.

【0014】本発明で利用可能なフッ化ピッチとして好
ましいものは、実質的に炭素原子とフッ素原子とからな
り、フッ素と炭素との原子比(フッ素/炭素)が、例え
ば0.5〜1.8程度の粉末状のものである。このよう
なフッ化ピッチは、次の(a)、(b)、(c)および
(d)の特性を示す。
Preferred fluorinated pitches usable in the present invention are substantially composed of carbon atoms and fluorine atoms, and the atomic ratio of fluorine to carbon (fluorine / carbon) is, for example, 0.5 to 1. It is about 8 powders. Such a fluorinated pitch exhibits the following characteristics (a), (b), (c) and (d).

【0015】(a)粉末X線回折において、2θ=13
゜付近に最大強度のピークを示し、2θ=40゜付近に
最大強度ピークよりも強度の小さなピークを示す。 (b)X線光電子分光分析において、290.0±1.
0eVにCFに相当するピークおよび292.5±0.
9eV付近にCF2に相当するピークを示し、CFに相
当するピークに対するCF2に相当するピークの強さの
比が0.15〜1.5程度である。 (c)真空蒸留により膜を形成することができる。 (d)30℃における水に対する接触角が141°±8
°である。
(A) In powder X-ray diffraction, 2θ = 13
A peak with the maximum intensity is shown near ゜, and a peak with a smaller intensity than the maximum intensity peak is shown near 2θ = 40 °. (B) 290.0 ± 1.
The peak corresponding to CF at 0 eV and 292.5 ± 0.
A peak corresponding to CF 2 is shown around 9 eV, and the ratio of the intensity of the peak corresponding to CF 2 to the peak corresponding to CF is about 0.15 to 1.5. (C) A film can be formed by vacuum distillation. (D) The contact angle with water at 30 ° C. is 141 ± 8.
°.

【0016】また、本発明では、透明樹脂状のフッ化ピ
ッチを使用することもできる。透明樹脂状のフッ化ピッ
チは、例えば、フッ化ピッチをフッ素ガス雰囲気下にお
いて0.1〜3℃/分程度、好ましくは0.5〜1.5
℃/分程度の昇温速度で250〜400℃程度まで昇温
し、所定時間、例えば1〜18時間程度、好ましくは6
〜12時間程度反応させることにより製造することがで
きる。この方法によれば、例えば次のような特性を示す
透明樹脂状のフッ化ピッチを得ることができる。
In the present invention, pitch fluoride of a transparent resin can be used. The pitch of the fluorinated pitch in the form of a transparent resin is, for example, about 0.1 to 3 ° C./min, preferably 0.5 to 1.5 ° C. in a fluorine gas atmosphere.
The temperature is raised to about 250 to 400 ° C. at a rate of about 250 ° C./minute, and the temperature is raised for a predetermined time, for example, about 1 to 18 hours, preferably
It can be produced by reacting for about 12 hours. According to this method, for example, a fluorinated pitch in the form of a transparent resin having the following characteristics can be obtained.

【0017】 F/C原子比:1.5〜1.7 光透過率(250〜900nm):90% 分子量:1,500〜2,000 軟化点:150〜250℃F / C atomic ratio: 1.5 to 1.7 Light transmittance (250 to 900 nm): 90% Molecular weight: 1,500 to 2,000 Softening point: 150 to 250 ° C.

【0018】本発明で用いられるフッ化ピッチは、予め
ジアミン化合物により処理されたもの、すなわち、上述
のフッ化ピッチに対してジアミン化合物を反応させたも
のであり、それ自体で界面活性能を有するものである。
ここで用いられるジアミン化合物は、アミノ基を2つ有
するものであれば特に限定されるものではなく、公知の
各種のものであるが、好ましくは下記の一般式(1)で
示されるものである。
The fluorinated pitch used in the present invention has been previously treated with a diamine compound, that is, the fluorinated pitch has been reacted with a diamine compound, and has a surface activity by itself. Things.
The diamine compound used here is not particularly limited as long as it has two amino groups, and is a variety of known compounds. Preferably, the diamine compound is represented by the following general formula (1). .

【0019】[0019]

【化3】 Embedded image

【0020】一般式(1)中、Rは炭素数が1〜3のア
ルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基またはiso−プロピル基を示している。Rで示さ
れるアルキル基の炭素数が3を超える場合は、その立体
障害により、ジアミン化合物とフッ化ピッチとが反応し
にくくなる可能性がある。一方、nは2〜5の整数を示
している。nが1の場合は、ジアミン化合物が不安定に
なり、取扱いが困難になるおそれがある。逆に、5を超
えると、界面活性能の高いフッ化ピッチが得られ難くな
るおそれがある。
In the general formula (1), R represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an iso-propyl group. When the carbon number of the alkyl group represented by R exceeds 3, the steric hindrance may make it difficult for the diamine compound to react with the fluorinated pitch. On the other hand, n has shown the integer of 2-5. When n is 1, the diamine compound becomes unstable and handling may be difficult. Conversely, if it exceeds 5, it may be difficult to obtain a fluorinated pitch having a high surface activity.

【0021】なお、一般式(1)で示されるジアミン化
合物のうち特に好ましいものは、Rで示されるアルキル
基がメチル基でありかつnが3の、N,N−ジメチル−
1,3−プロパンジアミンである。
Particularly preferred among the diamine compounds represented by the general formula (1) are those in which the alkyl group represented by R is a methyl group and n is 3,
1,3-propanediamine.

【0022】上述のフッ化ピッチとジアミン化合物とを
反応させる際には、通常、両者をそれぞれ適当な溶媒に
溶解した溶液を調製し、両溶液を混合してフッ化ピッチ
とジアミン化合物とを反応させる。フッ化ピッチおよび
ジアミン化合物を溶解させるための溶媒は、両者を溶解
することができるものであれば特に限定されるものでは
ないが、例えば、アルコール類、フラン類などを用いる
ことができる。
When reacting the above-mentioned pitch fluoride with the diamine compound, usually, a solution is prepared by dissolving both in a suitable solvent, and both solutions are mixed to react the pitch fluoride with the diamine compound. Let it. The solvent for dissolving the pitch fluoride and the diamine compound is not particularly limited as long as both can be dissolved, and for example, alcohols, furans, and the like can be used.

【0023】フッ化ピッチとジアミン化合物とを反応さ
せる際の反応温度は、通常、常温〜100℃に設定する
のが好ましく、10〜40℃に設定するのがより好まし
く、10〜20℃に設定するのがさらに好ましい。反応
温度が100℃を超える場合は、生成物がタール化する
おそれがある。また、上述の反応の際には、フッ化ピッ
チに対するジアミン化合物の使用量が実質的に当量にな
るよう設定するのが好ましいが、通常はジアミン化合物
の使用量をフッ化ピッチに比べて多目に設定するのが好
ましい。
The reaction temperature at the time of reacting the pitch fluoride with the diamine compound is usually preferably set at room temperature to 100 ° C., more preferably at 10 to 40 ° C., and set at 10 to 20 ° C. More preferably, When the reaction temperature exceeds 100 ° C., the product may be tarred. In the above reaction, it is preferable to set the amount of the diamine compound to be substantially equivalent to the pitch fluoride. However, the amount of the diamine compound to be used is generally larger than that of the pitch fluoride. It is preferable to set

【0024】本発明の複合メッキ液は、水中に上述の金
属塩を溶解した水溶液を調製し、この水溶液中にジアミ
ン化合物により処理された上述のフッ化ピッチ(以下、
変性フッ化ピッチという場合がある)を添加して均一に
分散させると製造することができる。ここで調製する水
溶液中における金属塩の濃度は、通常、30〜60重量
%に設定するのが好ましい。金属塩の濃度が30重量%
未満の場合は、所要の厚さの金属母材層が形成されにく
い場合がある。逆に、60重量%を超える場合は、複合
メッキ液の粘性が高くなり、変性フッ化ピッチを均一に
分散させるのが困難になるおそれがある。
The composite plating solution of the present invention is prepared by preparing an aqueous solution in which the above-mentioned metal salt is dissolved in water, and in the aqueous solution, the above-mentioned fluorinated pitch treated with a diamine compound (hereinafter referred to as “the pitch”)
(Sometimes referred to as a modified fluorinated pitch) and then uniformly dispersed. The concentration of the metal salt in the aqueous solution prepared here is usually preferably set to 30 to 60% by weight. Metal salt concentration of 30% by weight
If it is less than 3, a metal base material layer having a required thickness may not be easily formed. On the other hand, if it exceeds 60% by weight, the viscosity of the composite plating solution becomes high, and it may be difficult to uniformly disperse the modified fluorinated pitch.

【0025】また、本発明の複合メッキ液中における変
性フッ化ピッチの含有量は、複合メッキ被膜において変
性フッ化ピッチの占める体積分率が10〜60%になる
よう設定するのが好ましく、20〜40%になるよう設
定するのがより好ましいが、通常は10〜100g/
l、好ましくは30〜70g/lに設定すると、このよ
うな体積分率を達成することができる。
The content of the modified pitch fluoride in the composite plating solution of the present invention is preferably set so that the volume fraction of the modified pitch fluoride in the composite plating film is 10 to 60%. It is more preferable to set the amount to be about 40%, but usually it is 10 to 100 g /
1, preferably 30 to 70 g / l, can achieve such a volume fraction.

【0026】本発明の複合メッキ液は、上述の各種成分
の他に、一次光沢剤、二次光沢剤、複合メッキ被膜を着
色するための顔料などの、メッキ液に通常添加され得る
各種の添加剤を含んでいてもよい。
The composite plating solution of the present invention may contain various additives which can be usually added to the plating solution, such as a primary brightener, a secondary brightener, and a pigment for coloring the composite plating film, in addition to the above-mentioned various components. It may contain an agent.

【0027】本発明の複合メッキ液は、上述の通り、上
述の金属塩が溶解された水溶液中に変性フッ化ピッチお
よびその他の添加剤などを添加して混合・分散させると
製造することができる。ここで、変性フッ化ピッチは、
上述のようにフッ化ピッチをジアミン化合物で処理した
ものであり、それ自体で界面活性能を有するため、水溶
液中に別の界面活性剤を添加しなくても水溶液中に均一
にかつ安定に分散し得る。
As described above, the composite plating solution of the present invention can be produced by adding and mixing and dispersing the modified pitch fluoride and other additives in an aqueous solution in which the above-mentioned metal salt is dissolved. . Here, the modified fluorinated pitch is
As described above, pitch fluoride is treated with a diamine compound, and has surface activity by itself, so it is uniformly and stably dispersed in an aqueous solution without adding another surfactant to the aqueous solution. I can do it.

【0028】上述の複合メッキ液を用いて複合メッキ被
膜を形成する場合は、上述のようにして調製された複合
メッキ液中に所定の基材を浸漬し、当該基材に対してメ
ッキ法を適用する。
When a composite plating film is formed using the above-mentioned composite plating solution, a predetermined base material is immersed in the composite plating solution prepared as described above, and the plating method is applied to the base material. Apply.

【0029】この際、複合メッキ被膜に含まれる変性フ
ッ化ピッチが金属母材層中でムラなく均一に分散するよ
うにするため、複合メッキ液は十分に撹拌するのが好ま
しい。撹拌方法は、特に限定されるものではないが、例
えば、スクリュー撹拌、マグネチックスターラーによる
撹拌など、公知の種々の方法を採用することができる。
また、メッキ法としては、公知の無電解メッキ法や電解
メッキ法を採用することができる。この際のメッキ条件
は、一般的な複合メッキ法において採用されているもの
と同様に設定することができる。すなわち、基材の性質
や複合メッキ液の種類などに応じて、液温、pH値およ
び電流密度などを適宜設定することができる。
At this time, it is preferable to sufficiently stir the composite plating solution so that the modified fluorinated pitch contained in the composite plating film is evenly and uniformly dispersed in the metal base material layer. The stirring method is not particularly limited, but various known methods such as screw stirring and stirring with a magnetic stirrer can be adopted.
In addition, as the plating method, a known electroless plating method or electrolytic plating method can be adopted. The plating conditions at this time can be set in the same manner as those employed in a general composite plating method. That is, the liquid temperature, the pH value, the current density, and the like can be appropriately set according to the properties of the base material and the type of the composite plating solution.

【0030】このような複合メッキ被膜の形成方法で
は、複合メッキ液中に含まれる金属塩が還元されて金属
になり、当該金属が基材上に電着する。これにより、基
材上に金属母材層が形成される。この際、複合メッキ液
中に含まれる変性フッ化ピッチが同時に共析し、金属母
材層中に均一に分散する。これにより、基材上には目的
とする複合メッキ被膜が形成される。
In such a method of forming a composite plating film, the metal salt contained in the composite plating solution is reduced to a metal, and the metal is electrodeposited on the substrate. Thereby, a metal base material layer is formed on the base material. At this time, the modified fluorinated pitch contained in the composite plating solution coeutects at the same time, and is uniformly dispersed in the metal base material layer. Thereby, a target composite plating film is formed on the base material.

【0031】このようにして形成された複合メッキ被膜
は、通常、さらに熱処理するのが好ましい。このような
熱処理を施すことにより、複合メッキ被膜の撥水性をよ
り高めることができる。ここでの熱処理は、通常、処理
温度を150〜300℃に設定し、処理時間を30分〜
2時間に設定するのが好ましい。熱処理温度が150℃
未満の場合は、十分な熱処理効果を得るために熱処理時
間を長く設定する必要があり、効率的ではない。逆に、
処理温度が300℃を超える場合は、複合メッキ被膜が
劣化するおそれがある。
The composite plating film thus formed is usually preferably further subjected to a heat treatment. By performing such a heat treatment, the water repellency of the composite plating film can be further increased. The heat treatment here is usually performed at a processing temperature of 150 to 300 ° C. and a processing time of 30 minutes to
Preferably, it is set to 2 hours. Heat treatment temperature is 150 ℃
If it is less than 1, it is necessary to set a long heat treatment time to obtain a sufficient heat treatment effect, which is not efficient. vice versa,
If the processing temperature exceeds 300 ° C., the composite plating film may be deteriorated.

【0032】本発明の複合メッキ液を用いて複合メッキ
被膜が形成される基材は、通常、複合メッキ被膜により
撥水性を付与する必要があるものであり、例えば、下記
の通りである。
The substrate on which the composite plating film is formed using the composite plating solution of the present invention usually needs to be imparted with water repellency by the composite plating film.

【0033】◎防錆性が要求される部材。例えば、各種
の建築用資材や船舶用資材など。 ◎着雪・着氷があると不都合が生じるおそれのある部
材。例えば、製氷板、送電線、パラボラアンテナなど。 ◎耐汚染性、撥油性、耐熱焦げ付き性などが要求される
部材。例えば、食器洗い機の内面、洗濯機水槽内面、レ
ンジフード、換気扇、テーブルコンロ天板、テーブルコ
ンロ汁受け皿、オーブン皿、焼き肉用鉄板、ロストル、
ジンギスカン鍋、フライパン、ごとく、焼き網、ガスコ
ンロ、オーブン、電子レンジ、炊飯器、バーベキューコ
ンロ、ホットプレート、鍋、オーブントースター、電気
ポット、電磁誘導ヒーター、システムキッチン天板、流
し台(シンク)、水栓、混合水栓、ガス管内外面コート
など。 ◎結露防止性が要求される部材。例えば、浴室の内装
材。 ◎撥水性および防汚性が要求される部材。例えば、浴
槽。 ◎熱伝導性が損なわれると不都合のある部材。例えば、
排気トップ、熱交換器のフィン部、炭素繊維表面コー
ト、炭素材コート、LNG気化器蒸発板、コピーローラ
ーなど。 ◎離型性が要求される部材。例えば、金型。 ◎撥水性および離氷性が要求される部材。例えば、航空
機およびヘリコプター用部品。 ◎摺動性が要求される部材。例えば、ガスバルブ内面コ
ートなど。 ◎良好な液切れ性が要求される部材。例えば、マイクロ
シリンジのニードル、ピペット、ディスペンサ、分液ロ
ートおよび一般のノズルなどの液体供給管。
◎ A member requiring rust prevention. For example, various building materials and ship materials. ◎ Materials that may cause inconvenience if snow or icing occurs. For example, ice plates, transmission lines, parabolic antennas, etc. ◎ Materials that are required to have stain resistance, oil repellency, heat scorch, etc. For example, the inner surface of a dishwasher, the inner surface of a washing machine tank, a range hood, a ventilation fan, a table stove top plate, a table stove juice saucer, an oven plate, a grilled iron plate, a roster,
Genghis Khan hot pot, frying pan, goku, grill, gas stove, oven, microwave oven, rice cooker, barbecue stove, hot plate, pot, oven toaster, electric pot, electromagnetic induction heater, system kitchen top plate, sink, faucet, Mixing faucet, gas pipe inner and outer coats, etc. ◎ Materials requiring dew condensation prevention. For example, bathroom interior materials. ◎ Materials requiring water repellency and antifouling properties. For example, a bathtub. ◎ A member that is inconvenient if thermal conductivity is impaired. For example,
Exhaust top, heat exchanger fins, carbon fiber surface coat, carbon material coat, LNG vaporizer evaporator plate, copy roller, etc. ◎ Materials requiring mold release properties. For example, a mold. ◎ A member that requires water repellency and ice repellency. For example, parts for aircraft and helicopters. ◎ Materials that require slidability. For example, gas valve inner surface coating. ◎ A member that requires good liquid drainage. For example, liquid supply tubes such as micro syringe needles, pipettes, dispensers, separating funnels and general nozzles.

【0034】このような基材を構成する具体的な材質
は、電気メッキ法を適用可能なものであれば特に限定さ
れるものではないが、例えば、銅、ステンレス鋼、一般
鋼、アルミニウムおよびアルミニウム合金などの各種金
属、炭素プレートや黒鉛プレートなどの炭素材などであ
る。
Specific materials constituting such a base material are not particularly limited as long as they can be applied with the electroplating method. Examples thereof include copper, stainless steel, general steel, aluminum and aluminum. Various metals such as alloys, and carbon materials such as carbon plates and graphite plates.

【0035】基材は、複合メッキ被膜との密着性を高め
るために、当該複合メッキ被膜が形成される部位が予め
微細な凹凸状に粗面化されていてもよい。このような粗
面化の方法としては、フッ化水素酸,フッ化アンモニウ
ムまたは塩酸などのエッチング剤水溶液を用いて基材を
化学的に処理する方法、或いはショットブラスト処理,
サンドブラスト処理,液体ホーニング処理およびスチー
ルワイヤやスチールウールを用いた研摩処理などの機械
的処理方法を採用することができる。
In the substrate, a portion where the composite plating film is to be formed may be roughened in advance into fine irregularities in order to enhance the adhesion with the composite plating film. As such a method of surface roughening, a method of chemically treating a substrate using an aqueous solution of an etching agent such as hydrofluoric acid, ammonium fluoride, or hydrochloric acid, or a shot blast treatment,
Mechanical processing methods such as sandblasting, liquid honing, and polishing using steel wire or steel wool can be employed.

【0036】また、基材は、複合メッキ被膜が形成され
る面に、ニッケルメッキ層や銅メッキ層などの下地メッ
キ層を備えていてもよい。
Further, the substrate may be provided with a base plating layer such as a nickel plating layer or a copper plating layer on the surface on which the composite plating film is formed.

【0037】上述のような複合メッキ被膜は、それに含
まれる変性フッ化ピッチのために良好な撥水性を発揮し
得る。ここで、複合メッキ液中の変性フッ化ピッチは、
複合メッキ被膜の撥水性を阻害する原因となる界面活性
剤を用いて分散されているのではなく、それ自体が有す
る界面活性能により分散されているので、この複合メッ
キ被膜は、界面活性剤を含む複合メッキ液を用いて形成
された場合に比べて高い撥水性を示し得る。
The composite plating film as described above can exhibit good water repellency due to the modified fluorinated pitch contained therein. Here, the modified fluorinated pitch in the composite plating solution is
Rather than being dispersed using a surfactant that inhibits the water repellency of the composite plating film, the composite plating film is dispersed by the surfactant activity of the composite plating film itself. Higher water repellency than when formed using a composite plating solution containing the same.

【0038】また、この複合メッキ被膜は、界面活性剤
を含まないため、ムラの発生や変色が少なく、界面活性
剤を含む複合メッキ液を用いて形成されたものに比べて
仕上がり具合、即ち外観が良好である。
Further, since this composite plating film does not contain a surfactant, the occurrence of unevenness and discoloration are small, and the finished condition, that is, the appearance, is smaller than that obtained by using a composite plating solution containing a surfactant. Is good.

【0039】[0039]

【実施例】製造例(変性フッ化ピッチの製造) フッ化ピッチ(大阪瓦斯株式会社の試作品名“N−
6”)100gを200mlのエタノールに溶解し、フ
ッ化ピッチ溶液を得た。また、5gのN,N−ジメチル
−1,3−プロパンジアミンを200mlのエタノール
に溶解し、ジアミン化合物溶液を得た。
EXAMPLES Production Example (Production of Modified Fluorinated Pitch) Pitch Fluoride (Prototype name “N-
6 ″) 100 g was dissolved in 200 ml of ethanol to obtain a pitch fluoride solution. 5 g of N, N-dimethyl-1,3-propanediamine was dissolved in 200 ml of ethanol to obtain a diamine compound solution. .

【0040】得られたフッ化ピッチ溶液とジアミン化合
物溶液とを常温下で混合したところ、フッ化ピッチと
N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミンとが発熱
しながら反応し、黒褐色の固形物(変性フッ化ピッチ)
が得られた。
When the obtained pitch fluoride solution and the diamine compound solution were mixed at room temperature, the pitch fluoride and N, N-dimethyl-1,3-propanediamine reacted while generating heat, and a black-brown solid was formed. (Modified pitch fluoride)
was gotten.

【0041】実施例1 スルファミン酸ニッケルを360g/l、塩化ニッケル
を45g/lおよびホウ酸を30g/l含むニッケルメ
ッキ水溶液を調製した。そして、これに製造例で得られ
た変性フッ化ピッチを50g/lの割合で添加して十分
に懸濁させ、また、炭酸ニッケルを適宜添加してpHが
4.2に設定された複合メッキ液を得た。
Example 1 A nickel plating aqueous solution containing 360 g / l of nickel sulfamate, 45 g / l of nickel chloride and 30 g / l of boric acid was prepared. Then, the modified fluorinated pitch obtained in the production example was added at a rate of 50 g / l to sufficiently suspend the composite plating, and nickel carbonate was added as appropriate to adjust the composite plating to a pH of 4.2. A liquid was obtained.

【0042】得られた複合メッキ液に板状基材を浸漬し
て電解メッキ処理を施し、当該板状基材に複合メッキ被
膜を形成した。ここでは、板状基材として鏡面を有する
5.0cm×5.0cmの大きさのステンレス板(SUS
403)を用い、また、メッキ処理の条件を下記のよう
に設定した。
The plate-like substrate was immersed in the obtained composite plating solution and subjected to an electrolytic plating treatment to form a composite plating film on the plate-like substrate. Here, a 5.0 cm × 5.0 cm stainless steel plate having a mirror surface (SUS
403), and the plating conditions were set as follows.

【0043】 電流密度:3A/dm2 浴温度:50℃ 被膜の厚さ:10μmCurrent density: 3 A / dm 2 Bath temperature: 50 ° C. Coating thickness: 10 μm

【0044】実施例2 実施例1で得られた複合メッキ被膜を熱処理した。ここ
での熱処理条件は、300℃で30分に設定した。
Example 2 The composite plating film obtained in Example 1 was heat-treated. The heat treatment conditions here were set at 300 ° C. for 30 minutes.

【0045】比較例1 製造例で得られた変性フッ化ピッチに代えて、製造例で
用いたフッ化ピッチを50g/lの割合でニッケルメッ
キ水溶液に添加し、これをニッケルメッキ水溶液に対し
て1.5g/lの割合で添加された界面活性剤(大日本
インキ株式会社製のカチオン性界面活性剤:商品名”メ
ガファックス150Br”)を用いて分散させた点を除
いて実施例1と同様に操作し、複合メッキ被膜を得た。
Comparative Example 1 In place of the modified pitch fluoride obtained in Production Example, the pitch fluoride used in Production Example was added to the nickel plating aqueous solution at a rate of 50 g / l, and this was added to the nickel plating aqueous solution. Example 1 and Example 1 except that the dispersion was carried out using a surfactant (cationic surfactant manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd .: trade name “Megafax 150Br”) added at a ratio of 1.5 g / l. The same operation was performed to obtain a composite plating film.

【0046】比較例2 比較例1で得られた複合メッキ被膜を熱処理した。ここ
での熱処理条件は、300℃で30分に設定した。
Comparative Example 2 The composite plating film obtained in Comparative Example 1 was heat-treated. The heat treatment conditions here were set at 300 ° C. for 30 minutes.

【0047】評価 各実施例および各比較例で得られた複合メッキ被膜につ
いて、蒸留水を滴下した場合の接触角および転落角を測
定した。接触角および転落角は、形成直後の複合メッキ
被膜に対する場合(形成直後)および十条キンバリー株
式会社の商品名”キムワイプ”を用いて表面を50回強
く拭いた場合(摩擦処理後)のそれぞれについて、下記
のようにして測定した。また、複合メッキ被膜につい
て、仕上がり具合(外観)を下記のようにして評価し
た。結果を表1に示す。
Evaluation With respect to the composite plating films obtained in the respective Examples and Comparative Examples, the contact angle and the falling angle when distilled water was dropped were measured. The contact angle and the falling angle were determined for the composite plating film immediately after the formation (immediately after the formation) and for the case where the surface was strongly wiped 50 times using the product name “Kimwipe” of Jujo Kimberly Co., Ltd. (after the friction treatment). It was measured as follows. The finished condition (appearance) of the composite plating film was evaluated as follows. Table 1 shows the results.

【0048】(接触角)接触角計(協和界面科学株式会
社製の”CA−A型”)を用いて測定した。
(Contact angle) The contact angle was measured using a contact angle meter ("CA-A type" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

【0049】(転落角)接触角の測定で用いた接触角計
に直径が3mmの水滴を滴下して滴下面を水平面から徐
々に傾けて行き、水滴が流れるときの角度を転落角とし
た。
(Tumble Angle) A water drop having a diameter of 3 mm was dropped on the contact angle meter used in the measurement of the contact angle, and the drop surface was gradually inclined from the horizontal plane, and the angle at which the water droplet flowed was defined as the fall angle.

【0050】(仕上がり具合)複合メッキ被膜を目視に
より観察し、ムラや変色の有無を判定した。評価の基準
は下記の通りである。 ○:ムラおよび変色がない。 △:僅かなムラおよび変色がある。 ×:明らかなムラおよび変色がある。
(Finish Condition) The composite plating film was visually observed to determine the presence or absence of unevenness and discoloration. The evaluation criteria are as follows. :: No unevenness or discoloration. Δ: There is slight unevenness and discoloration. X: There is clear unevenness and discoloration.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明の複合メッキ液は、ジアミン化合
物により処理された、界面活性能を有するフッ化ピッチ
を含んでいるため、界面活性剤を用いずに調製すること
ができる。このため、この複合メッキ液により形成され
る複合メッキ被膜は、高い撥水性を示す。
The composite plating solution of the present invention can be prepared without using a surfactant since it contains a pitch fluoride having a surface activity which has been treated with a diamine compound. Therefore, the composite plating film formed by the composite plating solution exhibits high water repellency.

【0053】また、本発明に係る複合メッキ被膜の形成
方法は、本発明の複合メッキ液を用いているので、撥水
性の高い複合メッキ被膜を形成することができる。
In the method for forming a composite plating film according to the present invention, since the composite plating solution of the present invention is used, a composite plating film having high water repellency can be formed.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属塩と、ジアミン化合物により処理され
たフッ化ピッチとを含む複合メッキ液。
A composite plating solution comprising a metal salt and pitch fluoride treated with a diamine compound.
【請求項2】前記ジアミン化合物が下記の一般式(1)
で示されるものである、請求項1に記載の複合メッキ
液。 【化1】 (式中、Rは炭素数が1〜3のアルキル基を、nは2〜
5の整数をそれぞれ示す。)
2. The method according to claim 1, wherein the diamine compound is represented by the following general formula (1):
The composite plating solution according to claim 1, which is represented by: Embedded image (Wherein, R represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n represents 2 to
An integer of 5 is shown. )
【請求項3】前記ジアミン化合物がN,N−ジメチル−
1,3−プロパンジアミンである、請求項2に記載の複
合メッキ液。
3. The method according to claim 1, wherein the diamine compound is N, N-dimethyl-
The composite plating solution according to claim 2, which is 1,3-propanediamine.
【請求項4】金属母材層中にフッ化ピッチが分散された
複合メッキ被膜を基材に対して形成するための方法であ
って、 前記金属母材層を形成するための金属塩と、ジアミン化
合物により処理されたフッ化ピッチとを含む複合メッキ
液を用意する工程と、 前記複合メッキ液中に前記基材を浸漬し、前記基材に対
してメッキ法を適用する工程と、を含む複合メッキ被膜
の形成方法。
4. A method for forming, on a substrate, a composite plating film in which pitch fluoride is dispersed in a metal base material layer, comprising: a metal salt for forming the metal base material layer; A step of preparing a composite plating solution containing pitch fluoride treated with a diamine compound; and a step of immersing the substrate in the composite plating solution and applying a plating method to the substrate. A method for forming a composite plating film.
【請求項5】前記メッキ法により得られた複合メッキ被
膜を熱処理する工程をさらに含む、請求項4に記載の複
合メッキ被膜の形成方法。
5. The method for forming a composite plating film according to claim 4, further comprising a step of heat-treating the composite plating film obtained by said plating method.
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