JP2000313997A - Composite plating solution and formation of composite plating coating film - Google Patents

Composite plating solution and formation of composite plating coating film

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JP2000313997A
JP2000313997A JP11118624A JP11862499A JP2000313997A JP 2000313997 A JP2000313997 A JP 2000313997A JP 11118624 A JP11118624 A JP 11118624A JP 11862499 A JP11862499 A JP 11862499A JP 2000313997 A JP2000313997 A JP 2000313997A
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JP
Japan
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composite plating
water
core
fine particles
group
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Japanese (ja)
Inventor
Michio Saito
道雄 斎藤
Mitsuaki Yamada
光昭 山田
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Osaka Gas Co Ltd
Original Assignee
Osaka Gas Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composite plating coating film exhibiting high water repellency and moreover stable for friction. SOLUTION: The composite plating soln. contains metallic salt and water repellent fine particles. Each water repellent fine particle contains a core and a water repellent layer covering the surface, and the water repellent layer is formed by using pitch fluoride having surface-active function. The composite plating coating film is formed by executing an electroless plating method or electrolytic plating by using the plating soln., further heat treatment may be added as well.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、メッキ液およびメ
ッキ被膜の形成方法、特に、複合メッキ液および複合メ
ッキ被膜の形成方法に関する。
The present invention relates to a plating solution and a method for forming a plating film, and more particularly to a composite plating solution and a method for forming a composite plating film.

【0002】[0002]

【従来の技術とその課題】金属製や樹脂製の基材に対し
て撥水性を付与するための被膜として、ポリテトラフル
オロエチレンなどのフッ素系樹脂からなるものが知られ
ている。ところが、フッ素系樹脂は、軟化流動しにくい
ため、細かな金属管の内面や複雑な凹凸形状を有する部
材の表面に対して均一な被膜を形成するのが困難であ
る。そこで、複雑な形状等を有する部材の表面等に対し
て均一な撥水性を付与することができる被膜として、フ
ッ素系化合物の粒子またはフッ素系化合物により処理さ
れた粒子が分散された複合メッキ被膜が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art As a film for imparting water repellency to a metal or resin substrate, a film made of a fluorine-based resin such as polytetrafluoroethylene is known. However, since the fluororesin hardly softens and flows, it is difficult to form a uniform coating on the inner surface of a fine metal tube or the surface of a member having a complicated uneven shape. Therefore, as a film capable of imparting uniform water repellency to the surface of a member having a complicated shape or the like, a composite plating film in which particles of a fluorine-based compound or particles treated with a fluorine-based compound are dispersed is used. Proposed.

【0003】例えば、特開平7−26397号公報に
は、金属母材層中にフッ化ピッチ微粒子などのフッ素系
化合物微粒子を分散共析させた複合メッキ被膜が示され
ている。この複合メッキ被膜は、高い撥水性を示すフッ
素系化合物微粒子を金属母材層中に含んでいるために撥
水性が高く、しかも慣用的なメッキ手法により形成する
ことができることから、複雑な形状等を有する部材の表
面等に対しても均一に付与することができる。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-26397 discloses a composite plating film in which fine particles of a fluorine compound such as fine pitch fluoride are dispersed and eutectoid in a metal base material layer. This composite plating film has high water repellency because it contains fluorine-containing compound fine particles exhibiting high water repellency in the metal base material layer, and can be formed by a conventional plating method, and thus has a complicated shape. Can be evenly applied to the surface or the like of a member having.

【0004】ところで、上述のような複合メッキ被膜を
形成する場合は、通常、金属母材層を形成するための金
属塩、フッ素系化合物微粒子および当該フッ素系化合物
微粒子を水中に均一に分散させるための界面活性剤を含
む複合メッキ液を調製し、この複合メッキ液中に基材を
浸漬してメッキ法を適用している。しかし、この複合メ
ッキ液により形成される複合メッキ被膜は、界面活性剤
を含むことになるため、フッ素系化合物微粒子を用いる
ことによって本来期待できる撥水性を発揮できない場合
が多い。
In the case of forming a composite plating film as described above, usually, a metal salt for forming a metal base material layer, fine particles of a fluorine compound and fine particles of the fluorine compound are uniformly dispersed in water. A composite plating solution containing a surfactant is prepared, and a substrate is immersed in the composite plating solution to apply a plating method. However, since the composite plating film formed by this composite plating solution contains a surfactant, the use of fluorine compound fine particles often cannot exhibit the originally expected water repellency.

【0005】また、上述の複合メッキ被膜は、摩擦が加
わった場合、金属母材層中に分散されたフッ素系化合物
微粒子が脱落しやすい。したがって、この複合メッキ被
膜は、それから脱落したフッ素系化合物微粒子により周
辺環境を汚染するおそれがあり、また、形成初期には高
い撥水性を発揮し得るが、摩擦を受けると撥水性が徐々
に低下してしまうものと予想される。
[0005] Further, in the above-mentioned composite plating film, when friction is applied, the fluorine-based compound fine particles dispersed in the metal base material layer easily fall off. Therefore, the composite plating film may contaminate the surrounding environment due to the fluorine-based compound fine particles that have fallen off, and can exhibit high water repellency in the initial stage of formation, but the water repellency gradually decreases when subjected to friction. It is expected to do.

【0006】本発明の目的は、高い撥水性を示し、しか
も摩擦に対して安定な複合メッキ被膜を実現することに
ある。
An object of the present invention is to realize a composite plating film which exhibits high water repellency and is stable against friction.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係る複合メッキ
液は、金属塩と撥水性微粒子とを含んでいる。撥水性微
粒子は、コアと、その表面を被覆する撥水層とを有して
おり、撥水層は界面活性能を有するフッ化ピッチを用い
て形成されている。
A composite plating solution according to the present invention contains a metal salt and water-repellent fine particles. The water-repellent fine particles have a core and a water-repellent layer that covers the surface of the core, and the water-repellent layer is formed using fluorinated pitch having surface activity.

【0008】ここで、撥水性微粒子を構成するコアは、
例えばフッ化ピッチと化学結合可能な官能基を表面に有
している。この場合、フッ化ピッチと化学結合可能な官
能基は、例えば、アミノ基、水酸基、アルコラート基、
フェノラート基、酸のアルカリ金属塩基、メルカプト基
およびエポキシ基からなる群から選ばれた少なくとも1
つである。この官能基は、例えば、表面処理剤を用いて
コアの表面に付与されている。
[0008] Here, the core constituting the water-repellent fine particles is
For example, the surface has a functional group that can be chemically bonded to pitch fluoride. In this case, the functional group capable of chemically bonding to the pitch fluoride is, for example, an amino group, a hydroxyl group, an alcoholate group,
At least one selected from the group consisting of phenolate groups, alkali metal bases of acids, mercapto groups and epoxy groups
One. This functional group is provided on the surface of the core using, for example, a surface treatment agent.

【0009】本発明に係る複合メッキ被膜の形成方法
は、金属母材層中に撥水性微粒子が分散された複合メッ
キ被膜を基材に対して形成するための方法である。この
形成方法は、金属母材層を形成するための金属塩と、コ
アおよびその表面を被覆する撥水層を有しかつ撥水層が
界面活性能を有するフッ化ピッチを用いて形成されてい
る撥水性微粒子とを含む複合メッキ液を用意する工程
と、当該複合メッキ液中に基材を浸漬し、当該基材に対
してメッキ法を適用する工程とを含んでいる。
The method for forming a composite plating film according to the present invention is a method for forming a composite plating film in which water-repellent fine particles are dispersed in a metal base material layer on a substrate. This forming method is formed by using a metal salt for forming a metal base material layer, a core and a water-repellent layer covering the surface thereof, and the water-repellent layer is formed using pitch fluoride having surface activity. And a step of immersing a substrate in the composite plating solution and applying a plating method to the substrate.

【0010】この形成方法は、通常、メッキ法により得
られた複合メッキ被膜を熱処理する工程をさらに含んで
いる。
This forming method usually further includes a step of heat-treating the composite plating film obtained by the plating method.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の複合メッキ液は、金属塩
が溶解されかつ撥水性微粒子を含む水溶液からなる。こ
こで、金属塩は、複合メッキ被膜の金属母材層を形成す
るための材料であり、例えば、ニッケル、銅、亜鉛、ス
ズ、鉄、鉛、カドミウム、クロム、金や銀などの貴金属
類、およびこれらの合金などの塩が用いられる。このよ
うな金属の塩としては、塩化ニッケルなどの塩化物塩、
炭酸ニッケルなどの炭酸塩、スルファミン酸ニッケルな
どのスルファミン酸塩などを例示することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The composite plating solution of the present invention comprises an aqueous solution in which a metal salt is dissolved and contains water-repellent fine particles. Here, the metal salt is a material for forming a metal base material layer of the composite plating film, for example, noble metals such as nickel, copper, zinc, tin, iron, lead, cadmium, chromium, gold and silver, And salts such as alloys thereof. Salts of such metals include chloride salts such as nickel chloride,
Examples thereof include carbonates such as nickel carbonate and sulfamate salts such as nickel sulfamate.

【0012】一方、図1に示すように、撥水性微粒子1
は、コア2と、その表面を被覆する撥水層3とを有して
いる。
On the other hand, as shown in FIG.
Has a core 2 and a water-repellent layer 3 covering the surface thereof.

【0013】ここで、コア2は、樹脂などの有機材料、
金属,セラミック,鉱物などの無機材料からなるもので
あり、球状、円柱状、りん片状などの種々の形状に形成
されたものである。なお、図1では、コア2が球状に示
されているが、これは本発明を限定するものではない。
このようなコア2を有機材料としての樹脂を用いて構成
する場合、撥水性微粒子1を微粒子化し易いことなどの
観点から、例えば、懸濁重合されたポリアミド樹脂(ナ
イロン)やポリウレタン樹脂などを用いることができ
る。また、無機材料を用いてコア2を構成する場合は、
利用可能な金属の具体例としてアルミニウムなどを、セ
ラミックの具体例としてシリコーンカーバイドなどを、
さらに鉱物の具体例として、タルク,シリカ,ムライト
などを挙げることができる。
Here, the core 2 is made of an organic material such as a resin,
It is made of an inorganic material such as metal, ceramic, and mineral, and is formed into various shapes such as a sphere, a column, and a scale. In FIG. 1, the core 2 is shown in a spherical shape, but this does not limit the present invention.
When such a core 2 is formed using a resin as an organic material, for example, a suspension-polymerized polyamide resin (nylon) or a polyurethane resin is used from the viewpoint that the water-repellent fine particles 1 are easily formed into fine particles. be able to. When the core 2 is made of an inorganic material,
Specific examples of available metals include aluminum, and specific examples of ceramics include silicon carbide.
Further, specific examples of the mineral include talc, silica, and mullite.

【0014】なお、複合メッキ被膜の熱衝撃に対する安
定性を高める観点および複合メッキ被膜を使用する温度
領域の観点から、コア2を構成する材料は、上述の金属
塩により形成される金属母材層との熱膨張係数の差を考
慮して選択するのが好ましい。
From the viewpoint of enhancing the stability of the composite plating film against thermal shock and from the viewpoint of the temperature range in which the composite plating film is used, the material constituting the core 2 is a metal base material layer formed of the above-described metal salt. It is preferable to select in consideration of the difference in the thermal expansion coefficient between the two.

【0015】コア2は、撥水層3を構成する後述する界
面活性能を有するフッ化ピッチと化学結合反応可能な官
能基をその表面に有している。このような機能を発揮し
得る官能基は、例えば、アミノ基、水酸基、アルコラー
ト基、フェノラート基、酸のアルカリ金属塩基、メルカ
プト基およびエポキシ基などである。コア2は、これら
の官能基を2種類以上有していてもよい。
The core 2 has on its surface a functional group capable of undergoing a chemical bond reaction with a pitch fluoride having surface active ability described later, which constitutes the water-repellent layer 3. Examples of the functional group capable of exerting such a function include an amino group, a hydroxyl group, an alcoholate group, a phenolate group, an alkali metal base of an acid, a mercapto group, and an epoxy group. The core 2 may have two or more of these functional groups.

【0016】上述の官能基の内で特に好ましいものは、
フッ化ピッチとの反応性が高いアミノ基である。ここ
で、アミノ基は、下記の式で示されるような第1級、第
2級または第3級のアミノ基のうちのいずれのものであ
ってもよい。また、ここでのアミノ基は、アミド基およ
びウレタン結合をも含む概念である。
Particularly preferred of the above functional groups are:
An amino group having high reactivity with fluorinated pitch. Here, the amino group may be any of primary, secondary, or tertiary amino groups represented by the following formula. Further, the amino group here is a concept including an amide group and a urethane bond.

【0017】[0017]

【化1】 Embedded image

【0018】また、酸のアルカリ金属塩基としては、カ
ルボン酸やスルホン酸のナトリウム塩基やカリウム塩基
を例示することができる。さらに、上述のエポキシ基
は、グリシジル基をも含む概念である。
Examples of the alkali metal base of an acid include a sodium base and a potassium base of a carboxylic acid and a sulfonic acid. Further, the above-mentioned epoxy group is a concept including a glycidyl group.

【0019】上述の官能基は、コア2を構成する有機材
料または無機材料そのものが有するものであってもよい
し、表面処理剤を用いてコア2の表面に付与されたもの
であってもよい。
The above-mentioned functional groups may be those possessed by the organic or inorganic material constituting the core 2 or may be those imparted to the surface of the core 2 using a surface treating agent. .

【0020】前者の場合、アミノ基を有する有機材料と
しては、ポリアミン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポ
リ(トリメチレンイミン)樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
ペプチド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ尿素樹脂、ポリ
イミド樹脂、ポリイミダゾール樹脂、ポリオキサゾール
樹脂、ポリピロール樹脂、ポリアニリン樹脂、アラミド
樹脂、ポリアクリルアミド樹脂などの窒素含有樹脂を例
示することができる。水酸基を有する有機樹脂として
は、フェノール樹脂やセルロースを例示することができ
る。アルコラート基を有する有機樹脂としては、イオン
交換樹脂を例示することができる。フェノラート基を有
する有機樹脂としては、アルカリ処理したフェノール樹
脂を例示することができる。酸のアルカリ金属塩基を有
する有機樹脂としては、イオン交換樹脂を例示すること
ができる。メルカプト基を有する有機樹脂としては、チ
オコールを例示することができる。
In the former case, examples of the organic material having an amino group include polyamine resin, polyethyleneimine resin, poly (trimethyleneimine) resin, polyamide resin, polypeptide resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, and polyimidazole. Nitrogen-containing resins such as resin, polyoxazole resin, polypyrrole resin, polyaniline resin, aramid resin, and polyacrylamide resin can be exemplified. Examples of the organic resin having a hydroxyl group include a phenol resin and cellulose. As the organic resin having an alcoholate group, an ion exchange resin can be exemplified. Examples of the organic resin having a phenolate group include a phenol resin which has been subjected to an alkali treatment. Examples of the organic resin having an alkali metal base of an acid include an ion exchange resin. Examples of the organic resin having a mercapto group include thiochol.

【0021】一方、後者の場合(表面処理剤を用いる場
合)、コア2としては、目的とする官能基を付与するた
めの表面処理剤と化学結合可能な化学構造を表面に有す
るものが用いられる。ここで、表面処理剤と反応し得る
化学構造としては、例えば、水酸基、カルボキシル基お
よびカルボニル基などの官能基、金属酸化物、並びにS
iO2などのケイ素酸化物を挙げることができる。この
ような化学構造を表面に有するコア2としては、例え
ば、シリカを材料として形成されたものが挙げられる。
On the other hand, in the latter case (when a surface treatment agent is used), a core 2 having a chemical structure capable of chemically bonding to a surface treatment agent for providing a desired functional group on the surface is used. . Here, the chemical structure capable of reacting with the surface treatment agent includes, for example, functional groups such as a hydroxyl group, a carboxyl group and a carbonyl group, metal oxides, and S
A silicon oxide such as iO 2 can be used. The core 2 having such a chemical structure on its surface includes, for example, those formed using silica as a material.

【0022】コア2に目的とする官能基を付与するため
の表面処理剤は、コア2の表面に存在する上述の化学構
造と反応し得る化学構造部位と、コア2に付与すべき官
能基とを有するものである。当該表面処理剤は、このよ
うな条件を満たすものであれば特に限定されるものでは
ないが、例えば、コア2に付与すべき官能基を有するシ
ランカップリング剤、チタネート系カップリング剤およ
び有機クロム系カップリング剤などを挙げることができ
る。
The surface treating agent for imparting a desired functional group to the core 2 includes a chemical structural portion present on the surface of the core 2 and capable of reacting with the above-mentioned chemical structure, and a functional group to be imparted to the core 2. It has. The surface treatment agent is not particularly limited as long as it satisfies such conditions. Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent having a functional group to be provided to the core 2, a titanate coupling agent, and an organochrome. Examples include a system coupling agent.

【0023】例えば、コア2に付与すべき官能基がアミ
ノ基の場合は、表面処理剤としてγ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピル−トリメトキシシラン、n(ジメトキシメ
チルシリルプロピル)−エチレンジアミンなどのアミノ
基を有するシランカップリング剤、イソプロピルトリ
(N−アミドエチル・アミノエチル)チタネートなどの
アミノ基を有するチタネート系カップリング剤、下記の
構造式で示されるクロミッククロリド系化合物などのア
ミノ基を有する有機クロム系カップリング剤を用いるこ
とができる。
For example, when the functional group to be provided to the core 2 is an amino group, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyl-trimethoxysilane, Silane coupling agent having an amino group such as n (dimethoxymethylsilylpropyl) -ethylenediamine, titanate coupling agent having an amino group such as isopropyltri (N-amidoethylaminoethyl) titanate, represented by the following structural formula An organic chromium-based coupling agent having an amino group such as a chromic chloride-based compound can be used.

【0024】[0024]

【化2】 Embedded image

【0025】また、コア2に付与すべき官能基がエポキ
シ基の場合は、表面処理剤として、2−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシシランなどを用いるこ
とができる。これらの表面処理剤は、2種以上のものが
併用されてもよい。
When the functional group to be imparted to the core 2 is an epoxy group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and the like can be used. Two or more of these surface treatment agents may be used in combination.

【0026】上述の各種表面処理剤を用いてコア2の表
面に所定の官能基を付与する場合は、コア2を表面処理
剤を用いて処理する。表面処理剤を用いてコア2を処理
する方法としては、表面処理剤中にコア2を浸漬する方
法、或いはコア2に対して表面処理剤を塗布する方法な
どが採用され得る。表面処理剤を塗布する場合には、例
えば、刷毛、各種ローラー、スプレー等を用いることが
できる。また、コア2を形成するための材料を表面処理
剤の存在下で湿式粉砕する方法を採用することもでき
る。
When a predetermined functional group is imparted to the surface of the core 2 by using the above-mentioned various surface treating agents, the core 2 is treated with the surface treating agent. As a method of treating the core 2 using the surface treatment agent, a method of dipping the core 2 in the surface treatment agent, a method of applying the surface treatment agent to the core 2, and the like can be adopted. When applying the surface treatment agent, for example, a brush, various rollers, a spray, or the like can be used. Further, a method of wet pulverizing a material for forming the core 2 in the presence of a surface treatment agent may be employed.

【0027】コア2を上述の表面処理剤により処理する
際の処理温度は、表面処理剤の種類等により異なり、特
に限定されるものではないが、通常、室温〜90℃に設
定するのが好ましい。また、処理時間は、表面処理剤の
種類や表面処理剤の処理方法により異なるが、例えば表
面処理剤中にコア2を浸漬する場合は、浸漬時間を1〜
24時間に設定するのが好ましい。
The treatment temperature at the time of treating the core 2 with the above-mentioned surface treatment agent varies depending on the type of the surface treatment agent and the like, and is not particularly limited. . Further, the treatment time varies depending on the type of the surface treatment agent and the treatment method of the surface treatment agent.
Preferably, it is set to 24 hours.

【0028】上述の表面処理剤により処理されたコア2
は、後述する撥水層3を形成するための工程へ移る前に
十分に乾燥させておくのが好ましい。コア2の乾燥条件
は、コア2の種類や耐熱温度にもよるが、通常、60〜
150℃で1〜24時間に設定するのが好ましい。この
ようなコア2の乾燥処理は、減圧下で実施されてもよ
い。
Core 2 treated with the above surface treatment agent
Is preferably sufficiently dried before moving to a step for forming the water-repellent layer 3 described later. The drying condition of the core 2 depends on the type of the core 2 and the heat-resistant temperature, but is usually 60 to
It is preferable to set the temperature at 150 ° C. for 1 to 24 hours. Such a drying treatment of the core 2 may be performed under reduced pressure.

【0029】一方、撥水層3は、界面活性能を有するフ
ッ化ピッチを用いて形成されている。ここで、フッ化ピ
ッチは、ピッチをフッ素ガスを用いてフッ素化すること
により製造できる公知の物質であり、例えば、特開昭6
2−275190号公報に開示されている。
On the other hand, the water-repellent layer 3 is formed by using fluorinated pitch having surface activity. Here, the fluorinated pitch is a known substance that can be produced by fluorinating the pitch using a fluorine gas.
No. 2-275190.

【0030】このようなフッ化ピッチを製造するために
用いられるピッチは、一般に芳香族縮合六員環平面がメ
チレンなどの脂肪族炭化水素基により架橋しながら積層
した層構造を有するものであり、通常、石油蒸留残渣、
ナフサ熱分解残渣、エチレンボトム油、石炭液化油およ
びコールタールなどの石油系または石炭系重質油を蒸留
して沸点が200℃未満の低沸点成分を除去したもの、
ナフタレン等の縮合によって合成されたもの、およびこ
れらをさらに熱処理や水添処理したものである。具体的
には、等方性ピッチ、メソフェースピッチ、水素化メソ
フェースピッチ、石油系または石炭系重質油を蒸留して
低沸点成分を除去した後に生成するメソフェース球体か
らなるメソカーボンマイクロビーズなどを挙げることが
できる。
The pitch used for producing such a fluorinated pitch generally has a layer structure in which aromatic condensed six-membered ring planes are laminated while being cross-linked by an aliphatic hydrocarbon group such as methylene. Usually, petroleum distillation residue,
Naphtha pyrolysis residue, ethylene bottom oil, coal liquefied oil and petroleum or coal heavy oil such as coal tar are distilled to remove low boiling components having a boiling point of less than 200 ° C.,
These are those synthesized by condensation of naphthalene or the like, and those further subjected to heat treatment or hydrogenation treatment. Specifically, isotropic pitch, mesophase pitch, hydrogenated mesophase pitch, mesocarbon microbeads composed of mesophase spheres formed after distilling petroleum-based or coal-based heavy oil to remove low-boiling components, etc. Can be mentioned.

【0031】上述のピッチを用いて目的とするフッ化ピ
ッチを製造する際には、ピッチとフッ素ガスとを直接反
応させる。この反応時の温度は、0〜350℃程度に設
定するのが好ましく、ピッチの軟化点以下に設定するの
がより好ましい。また、反応時のフッ素ガス圧は、特に
限定されるものではないが、一般に0.07〜1.5気
圧に設定するのが好ましい。なお、フッ素ガスとして
は、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオンなどの不活性ガ
スを用いて希釈したものが用いられてもよい。
When producing the desired fluorinated pitch using the above-mentioned pitch, the pitch is directly reacted with fluorine gas. The temperature at the time of this reaction is preferably set to about 0 to 350 ° C., and more preferably to the softening point of the pitch or lower. In addition, the fluorine gas pressure during the reaction is not particularly limited, but is generally preferably set to 0.07 to 1.5 atm. Note that, as the fluorine gas, a gas diluted with an inert gas such as nitrogen, helium, argon, or neon may be used.

【0032】本発明で利用可能なフッ化ピッチとして好
ましいものは、実質的に炭素原子とフッ素原子とからな
り、フッ素と炭素との原子比(フッ素/炭素)が、例え
ば0.5〜1.8程度の粉末状のものである。このよう
なフッ化ピッチは、次の(a)、(b)、(c)および
(d)の特性を示す。
Preferable fluorinated pitches usable in the present invention are substantially composed of carbon atoms and fluorine atoms, and the atomic ratio of fluorine to carbon (fluorine / carbon) is, for example, 0.5 to 1. It is about 8 powders. Such a fluorinated pitch exhibits the following characteristics (a), (b), (c) and (d).

【0033】(a)粉末X線回折において、2θ=13
゜付近に最大強度のピークを示し、2θ=40゜付近に
最大強度ピークよりも強度の小さなピークを示す。 (b)X線光電子分光分析において、290.0±1.
0eVにCFに相当するピークおよび292.5±0.
9eV付近にCF2に相当するピークを示し、CFに相
当するピークに対するCF2に相当するピークの強さの
比が0.15〜1.5程度である。 (c)真空蒸留により膜を形成することができる。 (d)30℃における水に対する接触角が141°±8
°である。
(A) In powder X-ray diffraction, 2θ = 13
A peak with the maximum intensity is shown near ゜, and a peak with a smaller intensity than the maximum intensity peak is shown near 2θ = 40 °. (B) 290.0 ± 1.
The peak corresponding to CF at 0 eV and 292.5 ± 0.
A peak corresponding to CF 2 is shown around 9 eV, and the ratio of the intensity of the peak corresponding to CF 2 to the peak corresponding to CF is about 0.15 to 1.5. (C) A film can be formed by vacuum distillation. (D) The contact angle with water at 30 ° C. is 141 ± 8.
°.

【0034】また、本発明では、透明樹脂状のフッ化ピ
ッチを使用することもできる。透明樹脂状のフッ化ピッ
チは、例えば、フッ化ピッチをフッ素ガス雰囲気下にお
いて0.1〜3℃/分程度、好ましくは0.5〜1.5
℃/分程度の昇温速度で250〜400℃程度まで昇温
し、所定時間、例えば1〜18時間程度、好ましくは6
〜12時間程度反応させることにより製造することがで
きる。この方法によれば、例えば次のような特性を示す
透明樹脂状のフッ化ピッチを得ることができる。
In the present invention, pitch fluoride of a transparent resin can be used. The pitch of the fluorinated pitch in the form of a transparent resin is, for example, about 0.1 to 3 ° C./min, preferably 0.5 to 1.5 ° C. in a fluorine gas atmosphere.
The temperature is raised to about 250 to 400 ° C. at a rate of about 250 ° C./minute, and the temperature is raised for a predetermined time, for example, about 1 to 18 hours, preferably
It can be produced by reacting for about 12 hours. According to this method, for example, a fluorinated pitch in the form of a transparent resin having the following characteristics can be obtained.

【0035】F/C原子比:1.5〜1.7 光透過率(250〜900nm):90% 分子量:1,500〜2,000 軟化点:150〜250℃F / C atomic ratio: 1.5 to 1.7 Light transmittance (250 to 900 nm): 90% Molecular weight: 1,500 to 2,000 Softening point: 150 to 250 ° C.

【0036】なお、フッ化ピッチは、上述の粉末状のも
のと透明樹脂状のものとが併用されてもよい。
As the fluorinated pitch, the powdery powder and the transparent resinous powder described above may be used in combination.

【0037】上述のようなフッ化ピッチは、その構造中
にコア2側の上述の官能基と直接に化学反応可能な化学
構造部位、例えば、モノフルオロカーボン構造やカルボ
ン酸の酸無水物構造などを有している。ここで、モノフ
ルオロカーボン構造とは、炭素原子に対して1つのフッ
素原子が結合している炭素−フッ素結合構造をいい、具
体的には下記の構造式で示される構造をいう。このよう
なモノフルオロカーボン構造には、酸フルオライド構造
も含まれる。因みに、モノフルオロカーボン構造は、コ
ア2側の上述の官能基のうち、特にアミノ基、水酸基お
よびメルカプト基との反応性が高い。
The above-mentioned fluorinated pitch has, in its structure, a chemical structural part capable of directly reacting with the above-mentioned functional group on the core 2 side, for example, a monofluorocarbon structure or a carboxylic acid anhydride structure. Have. Here, the monofluorocarbon structure refers to a carbon-fluorine bond structure in which one fluorine atom is bonded to a carbon atom, and specifically refers to a structure represented by the following structural formula. Such a monofluorocarbon structure also includes an acid fluoride structure. Incidentally, the monofluorocarbon structure has high reactivity with the amino group, hydroxyl group and mercapto group among the above-mentioned functional groups on the core 2 side.

【0038】[0038]

【化3】 Embedded image

【0039】本発明で用いられる界面活性能を有するフ
ッ化ピッチは、上述のフッ化ピッチに対してジアミン化
合物を反応させたものである。ここで用いられるジアミ
ン化合物は、アミノ基を2つ有するものであれば特に限
定されるものではなく、公知の各種のものであるが、好
ましくは下記の一般式(1)で示されるものである。
The pitch fluoride having surface activity used in the present invention is obtained by reacting the above-mentioned pitch fluoride with a diamine compound. The diamine compound used here is not particularly limited as long as it has two amino groups, and is a variety of known compounds. Preferably, the diamine compound is represented by the following general formula (1). .

【0040】[0040]

【化4】 Embedded image

【0041】一般式(1)中、Rは炭素数が1〜3のア
ルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基またはiso−プロピル基を示している。Rで示さ
れるアルキル基の炭素数が3を超える場合は、その立体
障害により、ジアミン化合物とフッ化ピッチとが反応し
にくくなる可能性がある。一方、nは2〜5の整数を示
している。nが1の場合は、ジアミン化合物が不安定に
なり、取扱いが困難になるおそれがある。逆に、5を超
えると、界面活性能の高いフッ化ピッチが得られ難くな
るおそれがある。
In the general formula (1), R represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an iso-propyl group. When the carbon number of the alkyl group represented by R exceeds 3, the steric hindrance may make it difficult for the diamine compound to react with the fluorinated pitch. On the other hand, n has shown the integer of 2-5. When n is 1, the diamine compound becomes unstable and handling may be difficult. Conversely, if it exceeds 5, it may be difficult to obtain a fluorinated pitch having a high surface activity.

【0042】なお、一般式(1)で示されるジアミン化
合物のうち特に好ましいものは、Rで示されるアルキル
基がメチル基でありかつnが3の、N,N−ジメチル−
1,3−プロパンジアミンである。
Particularly preferred among the diamine compounds represented by the general formula (1) are those in which the alkyl group represented by R is a methyl group and n is 3,
1,3-propanediamine.

【0043】上述のフッ化ピッチとジアミン化合物とを
反応させる際には、通常、両者をそれぞれ適当な溶媒に
溶解した溶液を調製し、両溶液を混合してフッ化ピッチ
とジアミン化合物とを反応させる。フッ化ピッチおよび
ジアミン化合物を溶解させるための溶媒は、両者を溶解
することができるものであれば特に限定されるものでは
ないが、例えば、アルコール類、フラン類などを用いる
ことができる。
When reacting the above-mentioned pitch fluoride with a diamine compound, usually, a solution is prepared by dissolving both in a suitable solvent, and both solutions are mixed to react the pitch fluoride with the diamine compound. Let it. The solvent for dissolving the pitch fluoride and the diamine compound is not particularly limited as long as both can be dissolved, and for example, alcohols, furans, and the like can be used.

【0044】フッ化ピッチとジアミン化合物とを反応さ
せる際の反応温度は、通常、常温〜100℃に設定する
のが好ましく、10〜40℃に設定するのがより好まし
く、10〜20℃に設定するのがさらに好ましい。反応
温度が100℃を超える場合は、生成物がタール化する
おそれがある。また、上述の反応の際には、フッ化ピッ
チに対するジアミン化合物の使用量が実質的に当量にな
るよう設定するのが好ましいが、通常はジアミン化合物
の使用量をフッ化ピッチに比べて多目に設定するのが好
ましい。
The reaction temperature at the time of reacting the pitch fluoride and the diamine compound is usually preferably set at room temperature to 100 ° C., more preferably at 10 to 40 ° C., and preferably at 10 to 20 ° C. More preferably, When the reaction temperature exceeds 100 ° C., the product may be tarred. In the above reaction, it is preferable to set the amount of the diamine compound to be substantially equivalent to the pitch fluoride. However, the amount of the diamine compound to be used is generally larger than that of the pitch fluoride. It is preferable to set

【0045】上述のような界面活性能を有するフッ化ピ
ッチ(以下、変性フッ化ピッチという場合がある)によ
る撥水層3をコア2の表面に形成する場合は、変性フッ
化ピッチを溶媒に溶解した溶液を調製し、これをコア2
に塗布する。塗布方法としては、例えば、コア2に対し
て変性フッ化ピッチの溶液を吹き付ける方法やコア2を
当該溶液中に浸漬する方法などを採用することができ
る。
In the case where the water-repellent layer 3 is formed on the surface of the core 2 by the above-mentioned surface-active fluorinated pitch (hereinafter sometimes referred to as modified fluorinated pitch), the modified fluorinated pitch is used as a solvent. A dissolved solution was prepared, and this was
Apply to. As a coating method, for example, a method of spraying a solution of modified pitch fluoride onto the core 2 or a method of dipping the core 2 in the solution can be adopted.

【0046】変性フッ化ピッチを溶解するための溶媒
は、変性フッ化ピッチを溶解し得るものであれば特に限
定されないが、通常はフッ素系の溶媒が好ましく用いら
れる。ここで、フッ素系の溶媒としては、例えば、パー
フルオロデカヒドロフェナンスレン、パーフルオロデカ
リン、パーフルオロ−1−メチルデカリン、パーフルオ
ロジメチルナフタレン、パーフルオロ−1,3−ジメチ
ルシクロヘキサン、2,5−ジクロロベンゾトリフロラ
イド、クロロペンタフルオロベンゼン、1,1,2−ト
リクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(例えば、
旭硝子株式会社製の商品名”フロンソルブ”)、ヘキサ
フルオロベンゼン、1.3−ジトリフルオロメチルベン
ゼン、2,2,2−トリフルオロエタノール、トリフル
オロメチルベンゼン、住友スリーエム株式会社製の商品
名”PF5052”、パーフルオロ−2−ノルマルブチ
ルフラン系溶媒(例えば、住友スリーエム株式会社製の
商品名”フロリナートFC75”)、トリスパーフルオ
ロn−ブチルアミン系溶媒(例えば、住友スリーエム株
式会社製の商品名”フロリナートFC43”)、同じく
トリスパーフルオロアルキルアミン系溶媒(例えば、住
友スリーエム株式会社製の商品名”フロリナートFC3
283”、同”フロリナートFC40”および同”フロ
リナートFC70”)、日本モンテジソン株式会社製の
ガルデンDO2(商品名)並びにクロロフルオロカーボ
ン(例えば、旭硝子株式会社製の商品名”フロン11
3”)などを挙げることができる。このようなフッ素系
の溶媒のうち特に好ましいものは、変性フッ化ピッチを
溶解し易い点でクロロペンタフルオロベンゼン、ヘキサ
フルオロベンゼンおよびトリスパーフルオロアルキルア
ミン系溶媒である。
The solvent for dissolving the modified fluorinated pitch is not particularly limited as long as it can dissolve the modified fluorinated pitch, but usually a fluorine-based solvent is preferably used. Here, as the fluorine-based solvent, for example, perfluorodecahydrophenanthrene, perfluorodecalin, perfluoro-1-methyldecalin, perfluorodimethylnaphthalene, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, 2,5 Dichlorobenzotrifluoride, chloropentafluorobenzene, 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane (for example,
Asahi Glass Co., Ltd. product name "FLONSOLV"), hexafluorobenzene, 1.3-ditrifluoromethylbenzene, 2,2,2-trifluoroethanol, trifluoromethylbenzene, Sumitomo 3M Co., Ltd. product name "PF5052"", A perfluoro-2-normal butylfuran-based solvent (for example, trade name" Fluorinert FC75 "manufactured by Sumitomo 3M Limited), a trisperfluoro n-butylamine-based solvent (for example, trade name manufactured by Sumitomo 3M Limited," Fluorinert " FC43 ″), a trisperfluoroalkylamine-based solvent (for example, “Fluorinert FC3” manufactured by Sumitomo 3M Limited)
283 "," Fluorinert FC40 "and" Fluorinert FC70 "), Galden DO2 (trade name) manufactured by Montezison Japan Co., Ltd., and chlorofluorocarbon (for example, Freon 11 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
3 ″). Among these fluorine-based solvents, particularly preferred are chloropentafluorobenzene, hexafluorobenzene, and trisperfluoroalkylamine-based solvents in that modified pitch fluoride is easily dissolved. It is.

【0047】変性フッ化ピッチを溶媒に溶解して用いる
場合は、通常、変性フッ化ピッチの濃度が0.01〜5
0重量%になるよう設定するのが好ましく、0.1〜2
0重量%になるよう設定するのがより好ましい。当該濃
度が0.01重量%未満の場合は、例えば後述するよう
な浸漬によりコア2に対して撥水層3を形成する場合に
浸漬時間を長く設定する必要があり、また、コア2に対
して所要の撥水層3を形成しにくくなるおそれがある。
逆に、50重量%を超える場合は、変性フッ化ピッチ溶
液の液粘度が高くなり過ぎて取り扱いが困難になるおそ
れがあり、また、溶媒中に変性フッ化ピッチの不溶物が
残存し、コア2に対して均一な撥水層3を形成しにくい
場合がある。
When the modified pitch fluoride is used by dissolving it in a solvent, the concentration of the modified pitch fluoride is usually 0.01 to 5%.
0% by weight, preferably 0.1 to 2% by weight.
More preferably, it is set to be 0% by weight. When the concentration is less than 0.01% by weight, for example, when the water-repellent layer 3 is formed on the core 2 by immersion as described later, it is necessary to set the immersion time to be long. Therefore, it may be difficult to form the required water-repellent layer 3.
On the other hand, if the content exceeds 50% by weight, the liquid viscosity of the modified pitch fluoride solution may be too high, which may make handling difficult. In some cases, it is difficult to form a uniform water-repellent layer 3 with respect to 2.

【0048】撥水性微粒子1の粒径(平均粒径)は、特
に限定されるものではないが、一般に、本発明の複合メ
ッキ液を用いて形成しようとする複合メッキ被膜の金属
母材層の厚さよりも小さく設定されるのが好ましい。粒
径が金属母材層の厚さを超える場合は、複合メッキ被膜
に摩擦が加わった場合、撥水性微粒子1が金属母材層か
ら脱落し易くなる。因みに、撥水性微粒子1の粒径の好
ましい範囲は、通常、0.01〜20μmであり、0.
1〜5μmがより好ましい。なお、撥水性微粒子1は、
金属母材層中における均一な分散性を確保するために、
粒径が20μm以上の粗大粒子を含まないように分級さ
れたものを用いるのが好ましい。
The particle size (average particle size) of the water-repellent fine particles 1 is not particularly limited, but generally, the metal base material layer of the composite plating film to be formed by using the composite plating solution of the present invention. Preferably, the thickness is set smaller than the thickness. When the particle size exceeds the thickness of the metal base material layer, when friction is applied to the composite plating film, the water-repellent fine particles 1 easily fall off the metal base material layer. Incidentally, the preferable range of the particle size of the water-repellent fine particles 1 is usually 0.01 to 20 μm,
1-5 μm is more preferred. In addition, the water-repellent fine particles 1
In order to ensure uniform dispersibility in the metal base material layer,
It is preferable to use those classified so as not to include coarse particles having a particle size of 20 μm or more.

【0049】本発明の複合メッキ液は、水中に上述の金
属塩を溶解した水溶液を調製し、この水溶液中に上述の
撥水性微粒子1を添加して均一に分散させると製造する
ことができる。ここで調製する水溶液中における金属塩
の濃度は、通常、30〜60重量%に設定するのが好ま
しい。金属塩の濃度が30重量%未満の場合は、所要の
厚さの金属母材層が形成されにくい場合がある。逆に、
60重量%を超える場合は、複合メッキ液の粘性が高く
なり、撥水性微粒子1を均一に分散させるのが困難にな
るおそれがある。
The composite plating solution of the present invention can be produced by preparing an aqueous solution in which the above-mentioned metal salt is dissolved in water, and adding the above-mentioned water-repellent fine particles 1 to the aqueous solution to be uniformly dispersed. The concentration of the metal salt in the aqueous solution prepared here is usually preferably set to 30 to 60% by weight. When the concentration of the metal salt is less than 30% by weight, it may be difficult to form a metal base material layer having a required thickness. vice versa,
If the content exceeds 60% by weight, the viscosity of the composite plating solution may increase, and it may be difficult to uniformly disperse the water-repellent fine particles 1.

【0050】また、本発明の複合メッキ液中における撥
水性微粒子1の含有量は、複合メッキ被膜において撥水
性微粒子1の占める体積分率が1〜50%になるよう設
定するのが好ましく、10〜40%になるよう設定する
のがより好ましいが、通常は5〜100g/l、好まし
くは10〜80g/lに設定すると、このような体積分
率を達成することができる。
The content of the water-repellent fine particles 1 in the composite plating solution of the present invention is preferably set so that the volume fraction of the water-repellent fine particles 1 in the composite plating film is 1 to 50%. It is more preferable to set the volume fraction to 〜40%, but usually to 5 to 100 g / l, preferably 10 to 80 g / l, such a volume fraction can be achieved.

【0051】本発明の複合メッキ液は、上述の各種成分
の他に、一次光沢剤、二次光沢剤、複合メッキ被膜を着
色するための顔料などの、メッキ液に通常添加され得る
各種の添加剤を含んでいてもよい。
The composite plating solution of the present invention may contain various additives which can be usually added to the plating solution, such as a primary brightener, a secondary brightener, and a pigment for coloring the composite plating film, in addition to the above-mentioned various components. It may contain an agent.

【0052】本発明の複合メッキ液は、上述の金属塩が
溶解された水溶液中に撥水性微粒子1およびその他の添
加剤などを添加して混合・分散させると製造することが
できる。ここで、撥水性微粒子1は、上述のように表面
部の撥水層3が界面活性能を有するフッ化ピッチからな
るため、水溶液中に別の界面活性剤を添加しなくても水
溶液中に均一にかつ安定に分散し得る。
The composite plating solution of the present invention can be produced by adding and mixing and dispersing the water-repellent fine particles 1 and other additives into an aqueous solution in which the above-mentioned metal salt is dissolved. Here, since the water-repellent fine particles 1 have the surface-repellent layer 3 made of fluorinated pitch as described above, the water-repellent fine particles 1 can be added to the aqueous solution without adding another surfactant. It can be uniformly and stably dispersed.

【0053】上述の複合メッキ液を用いて複合メッキ被
膜を形成する場合は、上述のようにして調製された複合
メッキ液中に所定の基材を浸漬し、当該基材に対してメ
ッキ法を適用する。
When a composite plating film is formed using the above-described composite plating solution, a predetermined base material is immersed in the composite plating solution prepared as described above, and a plating method is applied to the base material. Apply.

【0054】この際、複合メッキ被膜に含まれる撥水性
微粒子1が金属母材層中でムラなく均一に分散するよう
にするため、複合メッキ液は十分に撹拌するのが好まし
い。撹拌方法は、特に限定されるものではないが、例え
ば、スクリュー撹拌、マグネチックスターラーによる撹
拌など、公知の種々の方法を採用することができる。ま
た、メッキ法としては、公知の無電解メッキ法や電解メ
ッキ法を採用することができる。この際のメッキ条件
は、一般的な複合メッキ法において採用されているもの
と同様に設定することができる。具体的には、基材の性
質や複合メッキ液の種類などに応じて、液温、pH値お
よび電流密度などを適宜設定することができる。
At this time, it is preferable that the composite plating solution is sufficiently stirred so that the water-repellent fine particles 1 contained in the composite plating film are evenly and uniformly dispersed in the metal base material layer. The stirring method is not particularly limited, but various known methods such as screw stirring and stirring with a magnetic stirrer can be adopted. In addition, as the plating method, a known electroless plating method or electrolytic plating method can be adopted. The plating conditions at this time can be set in the same manner as those employed in a general composite plating method. Specifically, the solution temperature, pH value, current density, and the like can be appropriately set according to the properties of the base material, the type of the composite plating solution, and the like.

【0055】このような複合メッキ被膜の形成方法で
は、複合メッキ液中に含まれる金属塩が還元されて金属
になり、当該金属が基材上に電着する。これにより、基
材上に金属母材層が形成される。この際、複合メッキ液
中に含まれる撥水性微粒子1が同時に共析し、金属母材
層中に均一に分散する。これにより、基材上には目的と
する複合メッキ被膜が形成される。
In such a method for forming a composite plating film, the metal salt contained in the composite plating solution is reduced to a metal, and the metal is electrodeposited on the substrate. Thereby, a metal base material layer is formed on the base material. At this time, the water-repellent fine particles 1 contained in the composite plating solution are simultaneously eutectoid and uniformly dispersed in the metal base material layer. Thereby, a target composite plating film is formed on the base material.

【0056】このようにして形成された複合メッキ被膜
は、さらに熱処理するのが好ましい。このような熱処理
を施すことにより、複合メッキ被膜の撥水性をより高め
ることができる。ここでの熱処理は、通常、処理温度を
150〜300℃に設定し、処理時間を30分〜2時間
に設定するのが好ましい。熱処理温度が150℃未満の
場合は、十分な熱処理効果を得るために熱処理時間を長
く設定する必要があり、効率的ではない。逆に、処理温
度が300℃を超える場合は、複合メッキ被膜が劣化す
るおそれがある。
It is preferable that the composite plating film thus formed is further heat-treated. By performing such a heat treatment, the water repellency of the composite plating film can be further increased. In this heat treatment, it is usually preferable to set the processing temperature to 150 to 300 ° C. and the processing time to 30 minutes to 2 hours. When the heat treatment temperature is lower than 150 ° C., it is necessary to set a long heat treatment time in order to obtain a sufficient heat treatment effect, which is not efficient. Conversely, if the processing temperature exceeds 300 ° C., the composite plating film may be deteriorated.

【0057】上述のようにして形成される複合メッキ被
膜の概念図(縦断面図)を図1に示す。図において、複
合メッキ被膜10は、基材S上に形成されており、金属
母材層11と、当該金属母材層11中に分散共析された
多数の撥水性微粒子1とを主に備えている。ここで、多
数の撥水性微粒子1のうちの一部は、金属母材層11の
表面から一部が突出している。
FIG. 1 shows a conceptual diagram (longitudinal sectional view) of the composite plating film formed as described above. In the figure, a composite plating film 10 is formed on a base material S and mainly includes a metal base material layer 11 and a large number of water-repellent fine particles 1 dispersed and eutectoid in the metal base material layer 11. ing. Here, some of the large number of water-repellent fine particles 1 partially protrude from the surface of the metal base material layer 11.

【0058】このような複合メッキ被膜10が形成され
る基材Sは、通常、複合メッキ被膜10により撥水性を
付与する必要があるものであり、例えば、下記の通りで
ある。
The substrate S on which such a composite plating film 10 is formed generally needs to be imparted with water repellency by the composite plating film 10, and is, for example, as follows.

【0059】◎防錆性が要求される部材。例えば、各種
の建築用資材や船舶用資材など。 ◎着雪・着氷があると不都合が生じるおそれのある部
材。例えば、製氷板、送電線、パラボラアンテナなど。 ◎耐汚染性、撥油性、耐熱焦げ付き性などが要求される
部材。例えば、食器洗い機の内面、洗濯機水槽内面、レ
ンジフード、換気扇、テーブルコンロ天板、テーブルコ
ンロ汁受け皿、オーブン皿、焼き肉用鉄板、ロストル、
ジンギスカン鍋、フライパン、ごとく、焼き網、ガスコ
ンロ、オーブン、電子レンジ、炊飯器、バーベキューコ
ンロ、ホットプレート、鍋、オーブントースター、電気
ポット、電磁誘導ヒーター、システムキッチン天板、流
し台(シンク)、水栓、混合水栓、ガス管内外面コート
など。 ◎結露防止性が要求される部材。例えば、浴室の内装
材。 ◎撥水性および防汚性が要求される部材。例えば、浴
槽。 ◎熱伝導性が損なわれると不都合のある部材。例えば、
排気トップ、熱交換器のフィン部、炭素繊維表面コー
ト、炭素材コート、LNG気化器蒸発板、コピーローラ
ーなど。 ◎離型性が要求される部材。例えば、金型。 ◎撥水性および離氷性が要求される部材。例えば、航空
機およびヘリコプター用部品。 ◎摺動性が要求される部材。例えば、ガスバルブ内面コ
ートなど。 ◎良好な液切れ性が要求される部材。例えば、マイクロ
シリンジのニードル、ピペット、ディスペンサ、分液ロ
ートおよび一般のノズルなどの液体供給管。
A member requiring rust prevention. For example, various building materials and ship materials. ◎ Materials that may cause inconvenience if snow or icing occurs. For example, ice plates, transmission lines, parabolic antennas, etc. ◎ Materials that are required to have stain resistance, oil repellency, heat scorch, etc. For example, the inner surface of a dishwasher, the inner surface of a washing machine tank, a range hood, a ventilation fan, a table stove top plate, a table stove juice saucer, an oven plate, a grilled iron plate, a roster,
Genghis Khan hot pot, frying pan, goku, grill, gas stove, oven, microwave oven, rice cooker, barbecue stove, hot plate, pot, oven toaster, electric pot, electromagnetic induction heater, system kitchen top plate, sink, faucet, Mixing faucet, gas pipe inner and outer coats, etc. ◎ Materials requiring dew condensation prevention. For example, bathroom interior materials. ◎ Materials requiring water repellency and antifouling properties. For example, a bathtub. ◎ A member that is inconvenient if thermal conductivity is impaired. For example,
Exhaust top, heat exchanger fins, carbon fiber surface coat, carbon material coat, LNG vaporizer evaporator plate, copy roller, etc. ◎ Materials requiring mold release properties. For example, a mold. ◎ A member that requires water repellency and ice repellency. For example, parts for aircraft and helicopters. ◎ Materials that require slidability. For example, gas valve inner surface coating. ◎ A member that requires good liquid drainage. For example, liquid supply tubes such as micro syringe needles, pipettes, dispensers, separating funnels and general nozzles.

【0060】このような基材Sを構成する具体的な材質
は、電気メッキ法を適用可能なものであれば特に限定さ
れるものではないが、例えば、銅、ステンレス鋼、一般
鋼、アルミニウムおよびアルミニウム合金などの各種金
属、炭素プレートや黒鉛プレートなどの炭素材などであ
る。
The specific material constituting the base material S is not particularly limited as long as it can be applied with the electroplating method. Examples of the material include copper, stainless steel, general steel, aluminum and the like. Various metals such as aluminum alloys, and carbon materials such as carbon plates and graphite plates.

【0061】基材Sは、複合メッキ被膜10との密着性
を高めるために、当該複合メッキ被膜10が形成される
部位が予め微細な凹凸状に粗面化されていてもよい。こ
のような粗面化の方法としては、フッ化水素酸,フッ化
アンモニウムまたは塩酸などのエッチング剤水溶液を用
いて基材Sを化学的に処理する方法、或いはショットブ
ラスト処理,サンドブラスト処理,液体ホーニング処理
およびスチールワイヤやスチールウールを用いた研摩処
理などの機械的処理方法を採用することができる。
In the base material S, in order to enhance the adhesion with the composite plating film 10, a portion where the composite plating film 10 is formed may be roughened in advance into fine irregularities. As such a method of surface roughening, a method of chemically treating the substrate S using an aqueous solution of an etching agent such as hydrofluoric acid, ammonium fluoride, or hydrochloric acid, or a shot blasting treatment, a sand blasting treatment, or a liquid honing Processing and mechanical processing methods such as polishing using steel wire or steel wool can be employed.

【0062】また、基材Sは、複合メッキ被膜10が形
成される面に、ニッケルメッキ層や銅メッキ層などの下
地メッキ層を備えていてもよい。
The substrate S may be provided with a base plating layer such as a nickel plating layer or a copper plating layer on the surface on which the composite plating film 10 is formed.

【0063】上述のような複合メッキ被膜10は、それ
に含まれる撥水性微粒子1の撥水層3のために良好な撥
水性を発揮し得る。ここで、複合メッキ液中の撥水性微
粒子1は、複合メッキ被膜10の撥水性を阻害する原因
となる界面活性剤を用いて分散されているのではなく、
その撥水層3を形成するフッ化ピッチそのものの界面活
性能により分散されているので、複合メッキ被膜10
は、高い撥水性を示し得る。また、この複合メッキ被膜
10は、界面活性剤を利用する必要の無い複合メッキ液
を用いて形成されているため、ムラの発生や変色が少な
く、仕上がり具合、すなわち外観が良好である。
The composite plating film 10 as described above can exhibit good water repellency due to the water repellent layer 3 of the water repellent fine particles 1 contained therein. Here, the water-repellent fine particles 1 in the composite plating solution are not dispersed by using a surfactant that causes the water-repellency of the composite plating film 10 to be disturbed.
Since the dispersion is dispersed by the surface activity of the pitch fluoride itself forming the water-repellent layer 3, the composite plating film 10
May exhibit high water repellency. Further, since the composite plating film 10 is formed by using a composite plating solution that does not require the use of a surfactant, the occurrence of unevenness and discoloration is small, and the finished condition, that is, the appearance is good.

【0064】また、この撥水性微粒子1は、内部にコア
2を有しているため、金属母材層11中に安定にかつ強
固に保持され得る。したがって、複合メッキ被膜10
は、摩擦を受けた場合でも撥水性微粒子1が金属母材層
11から脱落しにくいため、周辺の環境を汚染するおそ
れが少なく、また、撥水性が長期間良好に維持され得
る。
Since the water-repellent fine particles 1 have the core 2 inside, they can be stably and firmly held in the metal base material layer 11. Therefore, the composite plating film 10
Since the water-repellent fine particles 1 hardly fall off from the metal base material layer 11 even when subjected to friction, there is little risk of contaminating the surrounding environment, and the water repellency can be maintained satisfactorily for a long time.

【0065】[0065]

【実施例】製造例1(撥水性微粒子の製造) 平均粒径が0.2μmのシリカ真球微粉末(株式会社ア
ドマティクス製の商品名”シリカSO−C1”)の表面
を、アミノ基を有するシランカップリング剤(N−β
(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン:信越化学工業株式会社製の商品名”KBM60
3”)の3重量%水溶液を用いて処理した後、100℃
で1時間乾燥した。
EXAMPLES Production Example 1 (Production of Water Repellent Fine Particles) The surface of fine silica fine powder (trade name “Silica SO-C1” manufactured by Admatics Co., Ltd. ) having an average particle size of 0.2 μm was treated with amino groups. Silane coupling agent (N-β
(Aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane: brand name “KBM60” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
3 ″), and then treated at 100 ° C.
For 1 hour.

【0066】一方、界面活性能を有するフッ化ピッチを
調製した。ここでは、粉末状のフッ化ピッチ(大阪瓦斯
株式会社の試作品名“N−6”)100gを200ml
のエタノールに溶解し、フッ化ピッチ溶液を得た。ま
た、5gのN,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミ
ンを200mlのエタノールに溶解し、ジアミン化合物
溶液を得た。そして、得られたフッ化ピッチ溶液とジア
ミン化合物溶液とを常温下で混合したところ、フッ化ピ
ッチとN,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミンと
が発熱しながら反応し、黒褐色の固形物(界面活性能を
有するフッ化ピッチ)が得られた。
On the other hand, a pitch fluoride having surface activity was prepared. Here, 200 g of powdered fluorinated pitch (prototype name “N-6” of Osaka Gas Co., Ltd.) was added to 200 ml.
Was dissolved in ethanol to obtain a pitch fluoride solution. Further, 5 g of N, N-dimethyl-1,3-propanediamine was dissolved in 200 ml of ethanol to obtain a diamine compound solution. Then, when the obtained pitch fluoride solution and the diamine compound solution are mixed at room temperature, the pitch fluoride and N, N-dimethyl-1,3-propanediamine react while generating heat, and a black-brown solid substance is formed. (A fluorinated pitch having surface activity) was obtained.

【0067】上述のようにして得られた界面活性能を有
するフッ化ピッチを6重量%含む六フッ化ベンゼン溶液
を調製し、これにシランカップリング剤で処理されたシ
リカ真球微粉末を浸漬して100℃で2時間処理した。
その後、ボールミルを用いてシリカ真球微粉末を解砕し
たところ、シリカをコアとし、その表面に界面活性能を
有するフッ化ピッチによる撥水層が形成された撥水性微
粒子が得られた。
A hexafluorobenzene solution containing 6% by weight of the pitch fluoride having surface activity obtained as described above was prepared, and the fine silica fine powder treated with the silane coupling agent was immersed in the solution. And treated at 100 ° C. for 2 hours.
After that, when the fine spherical silica powder was crushed using a ball mill, water-repellent fine particles having silica as a core and a water-repellent layer made of pitch fluoride having surface activity on the surface thereof were obtained.

【0068】製造例2(撥水性微粒子の製造) 平均粒径が5μmのナイロン真球微粉末(東レ株式会社
製)を製造例1で用いたものと同様の界面活性能を有す
るフッ化ピッチを6重量%含む六フッ化ベンゼン溶液中
に浸漬し、80℃で1時間処理した後に乾燥した。これ
により、ナイロン真球をコアとし、その表面に界面活性
能を有するフッ化ピッチによる撥水層が形成された撥水
性微粒子が得られた。
Production Example 2 (Production of Water-Repellent Fine Particles ) A pitch-fluorinated powder having the same surface activity as that used in Production Example 1 was prepared using fine nylon sphere fine powder having an average particle size of 5 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.). It was immersed in a hexafluorobenzene solution containing 6% by weight, treated at 80 ° C. for 1 hour, and dried. As a result, water-repellent fine particles having a nylon sphere as a core and a water-repellent layer made of pitch fluoride having surface activity on the surface thereof were formed.

【0069】実施例1〜3 スルファミン酸ニッケルを360g/l、塩化ニッケル
を45g/lおよびホウ酸を30g/l含むニッケルメ
ッキ水溶液を調製した。これに製造例1で得られた撥水
性微粒子を50g/lの割合で添加して懸濁させ、複合
メッキ液を得た。
Examples 1 to 3 A nickel plating aqueous solution containing 360 g / l of nickel sulfamate, 45 g / l of nickel chloride and 30 g / l of boric acid was prepared. To this, the water-repellent fine particles obtained in Production Example 1 were added at a rate of 50 g / l and suspended to obtain a composite plating solution.

【0070】得られた複合メッキ液に板状基材を浸漬し
て電解メッキ処理を施し、当該板状基材に複合メッキ被
膜を形成した。ここでは、板状基材として鏡面を有する
ステンレス板(SUS430)を用い、また、メッキ処
理の条件を下記のように設定した。
The plate-like substrate was immersed in the obtained composite plating solution and subjected to an electrolytic plating treatment to form a composite plating film on the plate-like substrate. Here, a stainless steel plate (SUS430) having a mirror surface was used as the plate-like base material, and the conditions of the plating treatment were set as follows.

【0071】 pH:4.1 電流密度:3,5または7A/dm2 被膜の厚さ:10〜13μmPH: 4.1 Current density: 3, 5 or 7 A / dm 2 Coating thickness: 10 to 13 μm

【0072】実施例4〜6 板状基材をサンドブラスト処理(#80)されたステン
レス板(SUS430)に変更した点を除き、実施例1
〜3の場合と同様にして複合メッキ被膜を形成した。
Examples 4 to 6 Example 1 was repeated except that the plate-shaped substrate was changed to a stainless steel plate (SUS430) subjected to sandblasting (# 80).
In the same manner as in cases Nos. 1 to 3, a composite plating film was formed.

【0073】実施例7〜9 実施例1〜3で得られた複合メッキ被膜を熱処理した。
ここでの熱処理条件は、250℃で30分間に設定し
た。
Examples 7 to 9 The composite plating films obtained in Examples 1 to 3 were heat-treated.
The heat treatment conditions here were set at 250 ° C. for 30 minutes.

【0074】実施例10〜12 実施例4〜6で得られた複合メッキ被膜を熱処理した。
ここでの熱処理条件は、実施例7〜9と同様に設定し
た。
Examples 10 to 12 The composite plating films obtained in Examples 4 to 6 were heat-treated.
The heat treatment conditions here were set in the same manner as in Examples 7 to 9.

【0075】実施例13〜15 スルファミン酸ニッケルを360g/l、塩化ニッケル
を45g/lおよびホウ酸を30g/l含むニッケルメ
ッキ水溶液を調製した。これに製造例2で得られた撥水
性微粒子を50g/lの割合で添加して懸濁させ、さら
に炭酸ニッケルを添加してpHを4.0〜4.2に調整
し、複合メッキ液を得た。
Examples 13 to 15 An aqueous nickel plating solution containing 360 g / l of nickel sulfamate, 45 g / l of nickel chloride and 30 g / l of boric acid was prepared. The water-repellent fine particles obtained in Production Example 2 were added and suspended at a rate of 50 g / l, and nickel carbonate was added to adjust the pH to 4.0 to 4.2. Obtained.

【0076】得られた複合メッキ液に板状基材を浸漬し
て電解メッキ処理を施し、当該板状基材に複合メッキ被
膜を形成した。ここでは、板状基材として鏡面を有する
ステンレス板(SUS430)を用い、また、メッキ処
理の条件は実施例1〜3の場合と同様に設定した。
The plate-like substrate was immersed in the obtained composite plating solution and subjected to electrolytic plating to form a composite plating film on the plate-like substrate. Here, a stainless steel plate (SUS430) having a mirror surface was used as the plate-like base material, and the conditions of the plating treatment were set in the same manner as in Examples 1 to 3.

【0077】実施例16〜18 板状基材をサンドブラスト処理(#80)されたステン
レス板(SUS430)に変更した点を除き、実施例1
3〜15の場合と同様にして複合メッキ被膜を形成し
た。
Examples 16 to 18 Example 1 was repeated except that the plate-like substrate was changed to a stainless steel plate (SUS430) subjected to sandblasting (# 80).
A composite plating film was formed in the same manner as in cases 3 to 15.

【0078】実施例19〜21 実施例13〜15で得られた複合メッキ被膜を熱処理し
た。ここでの熱処理条件は、250℃で1時間に設定し
た。
Examples 19 to 21 The composite plating films obtained in Examples 13 to 15 were heat-treated. The heat treatment conditions here were set at 250 ° C. for 1 hour.

【0079】実施例22〜24 実施例16〜18で得られた複合メッキ被膜を熱処理し
た。ここでの熱処理条件は、実施例19〜21と同様に
設定した。
Examples 22 to 24 The composite plating films obtained in Examples 16 to 18 were heat-treated. The heat treatment conditions here were set in the same manner as in Examples 19 to 21.

【0080】比較例1 製造例1で得られた撥水性微粒子に代えて平均粒径が
0.8μmのフッ化ピッチ粉末を70g/lの割合でニ
ッケルメッキ水溶液に添加し、これをニッケルメッキ水
溶液に対して1.5g/lの割合で添加された界面活性
剤(大日本インキ株式会社製のカチオン性界面活性剤:
商品名”150Br”)を用いて分散させた点を除いて
実施例1〜3と同様に操作し、複合メッキ被膜を得た。
Comparative Example 1 In place of the water-repellent fine particles obtained in Production Example 1, pitch fluoride powder having an average particle size of 0.8 μm was added to the nickel plating aqueous solution at a rate of 70 g / l, and this was added to the nickel plating aqueous solution. (A cationic surfactant manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd .:
A composite plating film was obtained in the same manner as in Examples 1 to 3, except that the dispersion was carried out using the trade name “150Br”).

【0081】比較例2 比較例1で得られた複合メッキ被膜を熱処理した。ここ
での熱処理条件は、250℃で30分間に設定した。
Comparative Example 2 The composite plating film obtained in Comparative Example 1 was heat-treated. The heat treatment conditions here were set at 250 ° C. for 30 minutes.

【0082】評価 実施例1〜24および比較例1、2で得られた複合メッ
キ被膜について、蒸留水を滴下した場合の接触角および
転落角、ビッカース硬さ並びに動摩擦係数を調べた。こ
こでは、形成直後の複合メッキ被膜に対する場合(形成
直後)および十条キンバリー株式会社製の商品名”キム
ワイプ”を用いて表面を20回強く拭いた場合(摩擦処
理後)のそれぞれについて、各評価をした。なお、摩擦
処理後については、撥水性微粒子またはフッ化ピッチ粉
末の脱落状況をさらに調べた。各評価の方法は下記の通
りである。結果を表1および表2に示す。因に、通常の
ニッケルメッキ被膜は、ビッカース硬さが250〜40
0Hvであり、また、動摩擦係数が0.5程度である。
Evaluation The contact angles and falling angles, Vickers hardness, and dynamic friction coefficients of the composite plating films obtained in Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 and 2 when distilled water was dropped were examined. Here, each evaluation was performed for the case of the composite plating film immediately after formation (immediately after formation) and the case of strongly wiping the surface 20 times using the product name “Kimwipe” manufactured by Jujo Kimberly Co., Ltd. (after the friction treatment). did. After the friction treatment, the state of the water-repellent fine particles or the pitch fluoride powder falling off was further examined. The method of each evaluation is as follows. The results are shown in Tables 1 and 2. Incidentally, a normal nickel plating film has a Vickers hardness of 250 to 40.
0Hv, and the dynamic friction coefficient is about 0.5.

【0083】(接触角)接触角計(協和界面科学株式会
社製の”CA−A型”)を用いて評価した。
(Contact angle) Evaluation was made using a contact angle meter ("CA-A type" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

【0084】(転落角)接触角の測定で用いた接触角計
に水滴を滴下して滴下面を水平面から徐々に傾けて行
き、水滴が流れるときの角度を転落角とした。
(Falling Angle) A water drop was dropped on the contact angle meter used in the measurement of the contact angle, the drop surface was gradually inclined from the horizontal plane, and the angle at which the water droplet flowed was defined as the falling angle.

【0085】(ビッカース硬さ)ビッカース硬さ計(松
沢精機株式会社製の商品名”DVK−1”)を用いて評
価した。
(Vickers Hardness) Evaluation was made using a Vickers hardness tester (trade name “DVK-1” manufactured by Matsuzawa Seiki Co., Ltd.).

【0086】(動摩擦係数)メッキ面を有する15cm
×15cmの大きさのメッキ板を水平に固定し、その上
に同様のメッキ面を有する5cm×5cmの大きさのメ
ッキ板をメッキ面同士が対向するように重ねて配置し
た。そして、5cm×5cmの大きさのメッキ板上に1
00gの鉄製おもりを固定し、当該おもりに水平荷重を
加えてメッキ板が滑っているときの荷重を動荷重とし
た。この動荷重から、下記の数式に従って動摩擦係数を
求めた。
(Coefficient of dynamic friction) 15 cm having a plated surface
A plating plate having a size of 15 cm was fixed horizontally, and a plating plate having a size of 5 cm 5 cm having a similar plating surface was placed on the plating plate so that the plating surfaces faced each other. Then, 1cm on a 5cm x 5cm plating plate
A 00 g iron weight was fixed, a horizontal load was applied to the weight, and a load when the plated plate was slipping was defined as a dynamic load. From this dynamic load, the dynamic friction coefficient was determined according to the following equation.

【0087】[0087]

【数1】 (Equation 1)

【0088】(脱落状況)キムワイプに付着した撥水性
微粒子またはフッ化ピッチ粉末の付着状況を目視で判定
した。評価の基準は次の通りである。 ○:付着なし。 △:僅かな付着がある。 ×:多量の付着がある。
(Dropping state) The adhesion state of the water-repellent fine particles or the pitch fluoride powder adhering to the Kimwipe was visually judged. The evaluation criteria are as follows. :: No adhesion. Δ: There is slight adhesion. X: There is a large amount of adhesion.

【0089】[0089]

【表1】 [Table 1]

【0090】[0090]

【表2】 [Table 2]

【0091】[0091]

【発明の効果】本発明の複合メッキ液は、コアの表面が
界面活性能を有するフッ化ピッチを用いて被覆された撥
水性微粒子を含んでいるため、界面活性剤を用いずに調
製することができる。このため、この複合メッキ液によ
り形成される複合メッキ被膜は、高い撥水性を示し得
る。また、撥水性微粒子は、コアを含んでいるために摩
擦を受けても複合メッキ被膜から脱落しにくく、摩擦に
対して安定である。このため、この複合メッキ被膜は、
周辺の環境を汚染するおそれが少なく、また、撥水性が
低下しにくい。
The composite plating solution of the present invention should be prepared without using a surfactant because the surface of the core contains water-repellent fine particles coated with fluorinated pitch having surface activity. Can be. Therefore, the composite plating film formed by the composite plating solution can exhibit high water repellency. Further, since the water-repellent fine particles contain the core, they do not easily fall off the composite plating film even when subjected to friction, and are stable against friction. For this reason, this composite plating film
There is little risk of contaminating the surrounding environment, and the water repellency is not easily reduced.

【0092】また、本発明に係る複合メッキ被膜の形成
方法は、本発明の複合メッキ液を用いているので、高い
撥水性を示し、しかも摩擦に対して安定な複合メッキ被
膜を形成することができる。
Further, since the method for forming a composite plating film according to the present invention uses the composite plating solution of the present invention, it is possible to form a composite plating film exhibiting high water repellency and being stable against friction. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態に係る複合メッキ液に含
まれる撥水性微粒子の一例の断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of water-repellent fine particles contained in a composite plating solution according to an embodiment of the present invention.

【図2】前記複合メッキ液を用いて形成された複合メッ
キ被膜の一例の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a composite plating film formed using the composite plating solution.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 撥水性微粒子 2 コア 3 撥水層 10 複合メッキ被膜 11 金属母材層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Water-repellent fine particle 2 Core 3 Water-repellent layer 10 Composite plating film 11 Metal base material layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属塩と撥水性微粒子とを含み、 前記撥水性微粒子は、コアと、その表面を被覆する撥水
層とを有しており、前記撥水層は界面活性能を有するフ
ッ化ピッチを用いて形成されている、複合メッキ液。
1. A water-repellent fine particle comprising a metal salt and water-repellent fine particles, wherein the water-repellent fine particles have a core and a water-repellent layer covering the surface of the core. A composite plating solution that is formed using a chemical pitch.
【請求項2】前記コアは、前記フッ化ピッチと化学結合
可能な官能基を前記表面に有している、請求項1に記載
の複合メッキ液。
2. The composite plating solution according to claim 1, wherein said core has a functional group capable of chemically bonding to said fluoride pitch on said surface.
【請求項3】前記官能基がアミノ基、水酸基、アルコラ
ート基、フェノラート基、酸のアルカリ金属塩基、メル
カプト基およびエポキシ基からなる群から選ばれた少な
くとも1つである、請求項3に記載の複合メッキ液。
3. The method according to claim 3, wherein said functional group is at least one selected from the group consisting of an amino group, a hydroxyl group, an alcoholate group, a phenolate group, an alkali metal base of an acid, a mercapto group and an epoxy group. Composite plating solution.
【請求項4】前記官能基は、表面処理剤を用いて前記コ
アの表面に付与されている、請求項2または3に記載の
複合メッキ液。
4. The composite plating solution according to claim 2, wherein the functional group is provided on the surface of the core using a surface treatment agent.
【請求項5】金属母材層中に撥水性微粒子が分散された
複合メッキ被膜を基材に対して形成するための方法であ
って、 前記金属母材層を形成するための金属塩と、コアおよび
その表面を被覆する撥水層を有しかつ前記撥水層が界面
活性能を有するフッ化ピッチを用いて形成されている撥
水性微粒子とを含む複合メッキ液を用意する工程と、 前記複合メッキ液中に前記基材を浸漬し、前記基材に対
してメッキ法を適用する工程と、を含む複合メッキ被膜
の形成方法。
5. A method for forming, on a substrate, a composite plating film in which water-repellent fine particles are dispersed in a metal base material layer, comprising: a metal salt for forming the metal base material layer; A step of preparing a composite plating solution comprising a core and a water-repellent layer covering the surface thereof, and the water-repellent layer comprising water-repellent fine particles formed by using fluorinated pitch having surface activity; Dipping the substrate in a composite plating solution and applying a plating method to the substrate.
【請求項6】前記メッキ法により得られた複合メッキ被
膜を熱処理する工程をさらに含む、請求項5に記載の複
合メッキ被膜の形成方法。
6. The method for forming a composite plating film according to claim 5, further comprising a step of heat-treating the composite plating film obtained by said plating method.
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