JP2000294822A - Surface protection sheet for solar cells and solar cell using the same - Google Patents

Surface protection sheet for solar cells and solar cell using the same

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JP2000294822A
JP2000294822A JP11102103A JP10210399A JP2000294822A JP 2000294822 A JP2000294822 A JP 2000294822A JP 11102103 A JP11102103 A JP 11102103A JP 10210399 A JP10210399 A JP 10210399A JP 2000294822 A JP2000294822 A JP 2000294822A
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solar cell
sheet
thin film
cell module
surface protection
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Yasushi Yamada
泰 山田
Yasuki Suzuura
泰樹 鈴浦
Hiroshi Yamamoto
浩 山本
Katsutoshi Konno
克俊 今野
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably obtain a more low-cost and safe surface protection sheet constituting a solar cell module; the sheet uses a fluoric resin sheet as a surface protection sheet layer constituting the module, greatly improves the moisture proof for blocking moisture, oxygen, etc., from penetrating, suppresses its long- term performance degradation about various resistances such as light resistance, heat resistance and water resistance to minimum and is superior in protection ability, antifouling property, scratch resistance, etc. SOLUTION: A surface protection sheet for solar cell modules and a solar cell module using the same are provided. The sheet comprises a fluoric resin sheet 1, an inorganic oxide-deposited thin film 2 on one surface of the sheet 1, a coating film 3 of a composition contg. a metal alkoxide compound and/or its hydrolyzed product as main components of a vehicle on the deposited thin film 2, and an antifouling layer 4 and/or ultraviolet absorbent layer on one or both surfaces of the resin sheet 1 provided with the deposited thin film 2 and the coating film 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。なお、本発
明において、シ−トとは、フィルムないしシ−トを意味
し、また、フィルムとは、フィルムないしシ−トを意味
するものである。
The present invention relates to a solar cell module.
More specifically, the present invention relates to a surface protection sheet for solar cells and a solar cell module using the same, and more specifically, a solar cell module excellent in light resistance, heat resistance, water resistance, moisture resistance, stain resistance, etc. and having extremely high protection ability. And a solar cell module using the same. In the present invention, the sheet means a film or a sheet, and the film means a film or a sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。ところで、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表
面保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一
般的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等
の樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進めら
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to solar cells as a clean energy source due to increasing awareness of environmental issues. At present, solar cell modules of various forms have been developed and proposed. . Thus, the above-mentioned solar cell module usually includes a surface protection sheet layer, a filler layer,
It is manufactured by laminating a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protective sheet layer, and the like in that order, vacuum-sucking and heat-compressing, for example, using a lamination method. By the way, a glass plate or the like is currently most commonly used as a surface protection sheet layer constituting the above-mentioned solar cell module, and recently, a resin sheet such as a fluorine-based resin sheet has been recently used. Is also attracting attention, and its development is proceeding rapidly.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、太陽光が入射し、これを透過し、吸収する透過、吸
収性に富むと共に耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性
に優れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に
優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ
等の蓄積を防止し、また、耐擦傷性に優れ、その保護能
力性が高いこと、その他等の条件が挙げられるものであ
る。しかしながら、太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−ト層として、現在、最も一般的に使用されてい
るガラス板等は、太陽光の透過、吸収性に優れ、かつ、
耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、防
湿性にも優れ、更に、表面硬度が硬く、耐擦傷性に優
れ、その保護能力性が高い等の利点を有するが、可塑
性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更に、その加工性、施
工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けるという問題
点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する
表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等の樹脂シ−ト
を使用する場合には、ガラス板等と比較して、可塑性、
耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に富むものではある
が、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に劣り、特
に、防湿性等に欠けるという問題点がある。更に、上記
のフッ素系樹脂シ−トの場合には、その表面にゴミ等が
蓄積し、表面が汚染され易く、防汚性に劣り、更に、耐
擦傷性に劣るという問題点もある。そこで本発明は、太
陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、
フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水分、酸素等の侵入
を防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐
熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性
能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、また、耐汚
染性、耐擦傷性等にも優れ、より低コストで安全な太陽
電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安定的に提
供することである。
By the way, a solar cell generally absorbs sunlight and generates photovoltaic power.
As the surface protection sheet layer constituting the solar cell module, the solar light enters, transmits and absorbs sunlight, and has high transparency and absorptivity, and various robustness such as light resistance, heat resistance, and water resistance. It has excellent moisture resistance to prevent intrusion of moisture, oxygen, etc., and also has high surface hardness, prevents accumulation of dirt and dust on the surface, and has excellent abrasion resistance and protection. Conditions such as high ability and other conditions are mentioned. However, a glass plate or the like which is currently most commonly used as a surface protection sheet layer constituting a solar cell module has excellent transmission and absorption of sunlight, and
Light fastness, heat resistance, excellent in various fastnesses such as water resistance, also excellent in moisture proof, furthermore, the surface hardness is hard, excellent in scratch resistance, has the advantages of high protection ability, There is a problem that it lacks in plasticity, impact resistance, weight reduction, etc., and is inferior in its workability, workability, etc., and lacks in cost reduction, etc. Further, when a resin sheet such as a fluororesin is used as the surface protection sheet layer constituting the solar cell module, plasticity,
Although it is rich in impact resistance, weight reduction, cost reduction, etc., it is inferior in various fastnesses such as light resistance, heat resistance, water resistance and the like, and in particular, lacks moisture resistance. Further, in the case of the above-mentioned fluororesin sheet, there is a problem that dust and the like accumulate on the surface, the surface is easily contaminated, the antifouling property is poor, and the abrasion resistance is poor. Therefore, the present invention provides a surface protection sheet layer constituting a solar cell module,
Even with the use of fluororesin sheet, the moisture-proof property to prevent the invasion of moisture, oxygen, etc. is remarkably improved, and the long-term performance of light fastness, heat resistance, water resistance, etc. Deterioration is minimized, the protection ability is excellent, and the contamination resistance and scratch resistance are also excellent. To provide.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸収剤等に着
目し、まず、フッ素系樹脂シ−トを基材シ−トとして使
用し、その片面に、酸化珪素、あるいは、酸化アルミニ
ウム等の透明な、ガラス質からなる無機酸化物の蒸着薄
膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属
アルコキシド化合物および/またはその加水分解物をビ
ヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設
け、更にまた、該無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング
膜とを設けたフッ素系樹脂シ−トのいずれかの一方の面
または両面に、光触媒粉末を含む組成物による塗布膜か
らなる防汚層および/または紫外線吸収剤を含む組成物
による塗布膜からなる紫外線吸収剤層を設けて太陽電池
モジュ−ル用表面保護シ−トを製造し、これを表面保護
シ−ト層とし、その無機酸化物の蒸着薄膜側に、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、裏面保護シ−ト層等を順次に積層し、次いで、こ
れらを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ショ
ン法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造したとこ
ろ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著し
く向上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢
性についても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、
保護能力性に優れ、更に、ゴミ等が蓄積してその表面を
汚染する汚染性を防止し、防汚性、耐擦傷性等に優れ、
より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを製造し
得ることを見出して本発明を完成したものである。
The inventor of the present invention has conducted various studies to solve the problems with respect to the surface protective sheet layer constituting the solar cell module as described above. Focusing on the properties of the glass plate used as the surface protection sheet layer constituting the above, photocatalyst powder, ultraviolet absorber, etc., first, use a fluororesin sheet as a base sheet, and use one side of the base sheet. Is provided with a transparent, glassy inorganic oxide vapor-deposited thin film such as silicon oxide or aluminum oxide, and a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. Is provided with a coating film of a composition containing as a main component of a vehicle, and furthermore, one of the surfaces of a fluororesin sheet provided with a vapor-deposited thin film of the inorganic oxide and a coating film. Light on both sides A surface protection sheet for a solar cell module is manufactured by providing an antifouling layer composed of a coating film composed of a composition containing a medium powder and / or an ultraviolet absorber layer composed of a coating film composed of a composition containing an ultraviolet absorbent. This is used as a surface protection sheet layer, and a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protection sheet layer, and the like are sequentially formed on the inorganic oxide deposited thin film side. The solar cell module was manufactured using a lamination method or the like in which these were integratedly vacuum-sucked and heated and pressed together to obtain a solar cell module. Remarkably improved, and furthermore, with respect to various fastnesses such as light resistance, heat resistance, and water resistance, the long-term performance degradation was minimized,
Excellent protection ability, furthermore, prevents contamination that accumulates dust and contaminates the surface, and is excellent in antifouling property, scratch resistance, etc.
The present invention has been completed by finding that a lower cost and safer surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module using the same can be manufactured.

【0005】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂シ−ト
の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機
酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物およ
び/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組
成物によるコ−ティング膜を設け、更にまた、該無機酸
化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けたフッ素系樹
脂シ−トのいずれかの一方の面または両面に、防汚層お
よび/または紫外線吸収剤層を設けたことを特徴とする
太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用
した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
That is, according to the present invention, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided on one side of a fluororesin sheet, and a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof is deposited on the vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. One surface of a fluorine-based resin sheet provided with a coating film made of a composition containing a substance as a main component of a vehicle, and further provided with a vapor-deposited thin film of the inorganic oxide and a coating film. Also, the present invention relates to a surface protection sheet for a solar cell module, which is provided with an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer on both sides, and a solar cell module using the same.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて
更に具体的に説明すると、図1、図2、図3、図4およ
び図5は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−トの層構成についてその二三例を例示する概略的
断面図であり、図6は、図1に示す本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製造した太
陽電池モジュ−ルの層構成についてその一例を例示する
概略的断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The above-mentioned present invention will be described below in more detail with reference to the drawings and the like. The layer structure of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the solar cell module using the same will be described more specifically with reference to the drawings and the like. 4 and 5 are schematic cross-sectional views illustrating a few examples of the layer structure of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and FIG. It is a schematic sectional drawing which illustrates an example about the layer structure of the solar cell module manufactured using the surface protection sheet for solar cell modules concerning this invention.

【0007】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トAは、図1に示すように、フッ素系樹
脂シ−ト1の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を設け、
更に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキ
シド化合物および/またはその加水分解物をビヒクルの
主成分とする組成物によるコ−ティング膜3を設け、更
にまた、該無機酸化物の蒸着薄膜2とコ−ティング膜3
とを設けたフッ素系樹脂シ−ト1のいずれかの一方の面
または両面に、防汚層4および/または紫外線吸収剤層
5を設けた構成からなることを基本構造とするものであ
る。而して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トについて、具体例を例示すると、図2に示す
ように、フッ素系樹脂シ−ト1の片面に、無機酸化物の
蒸着薄膜2を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の
上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加水
分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
ング膜3を設け、更にまた、該無機酸化物の蒸着薄膜2
とコ−ティング膜3とを設けたフッ素系樹脂シ−ト1の
フッ素系樹脂シ−ト1面に、防汚層4を設け、他方、上
記のコ−ティング膜3面に、紫外線吸収剤層5を設け、
該防汚層4を最表面とすることを特徴とする太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トA1を挙げることができる。
更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トについて、別の具体例を例示すると、図3に示すよ
うに、フッ素系樹脂シ−ト1の片面に、無機酸化物の蒸
着薄膜2を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の上
に、金属アルコキシド化合物および/またはその加水分
解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティン
グ膜3を設け、更にまた、該無機酸化物の蒸着薄膜2と
コ−ティング膜3とを設けたフッ素系樹脂シ−ト1のフ
ッ素系樹脂シ−ト1面に、防汚層4および紫外線吸収剤
層5を設け、該防汚層4を最表面とすることを特徴とす
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トA2 を挙げるこ
とができる。また、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トについて、更に別の具体例を例示する
と、図4に示すように、フッ素系樹脂シ−ト1の片面
に、無機酸化物の蒸着薄膜2の少なくとも2層以上から
なる多層膜6を設け、更に、該多層膜6を構成する無機
酸化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする
組成物によるコ−ティング膜3を設け、更にまた、該多
層膜6とコ−ティング膜3とを設けたフッ素系樹脂シ−
ト1のいずれかの一方の面または両面に、防汚層4およ
び/または紫外線吸収剤層5を設けた構成からなる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トA3 を挙げることがで
きる。更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トについて、他の具体例を例示すると、図5に
示すように、フッ素系樹脂シ−ト1の片面に、まず、化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2aを設け、
次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜2aの上に、物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2bを設けて無機酸
化物の蒸着薄膜2a、2bからなる2層以上の多層膜6
aを構成し、更に、該多層膜6aを構成する無機酸化物
の蒸着薄膜2bの上に、金属アルコキシド化合物および
/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組成
物によるコ−ティング膜3を設け、更にまた、該多層膜
6aとコ−ティング膜3とを設けたフッ素系樹脂シ−ト
1のいずれかの一方の面または両面に、防汚層4および
/または紫外線吸収剤層5を設けた構成からなる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トA4 を挙げることができ
る。
First, as shown in FIG. 1, a surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention is provided with an inorganic oxide vapor-deposited thin film 2 on one surface of a fluororesin sheet 1. ,
Further, a coating film 3 made of a composition containing a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof as a main component of the vehicle is provided on the vapor-deposited thin film 2 of the inorganic oxide. Evaporated thin film 2 and coating film 3
The basic structure is that the antifouling layer 4 and / or the ultraviolet absorbent layer 5 are provided on one or both surfaces of the fluororesin sheet 1 provided with the above. As a specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. 2, an inorganic oxide is deposited on one surface of a fluororesin sheet 1. A thin film 2 is provided, and a coating film 3 of a composition containing a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof as a main component of a vehicle is provided on the inorganic oxide vapor-deposited thin film 2. Evaporated inorganic oxide thin film 2
An antifouling layer 4 is provided on the fluororesin sheet 1 of the fluororesin sheet 1 provided with the coating film 3 and an ultraviolet absorber is provided on the surface of the coating film 3. Providing layer 5,
-Proof solar cell module, characterized in that the smudge layer 4 a top surface - can be exemplified bets A 1 - le for surface protection sheet.
Further, as another specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. 3, an inorganic oxide is deposited on one surface of a fluororesin sheet 1. A thin film 2 is provided, and a coating film 3 of a composition containing a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof as a main component of a vehicle is provided on the inorganic oxide vapor-deposited thin film 2. An antifouling layer 4 and a UV absorber layer 5 are provided on the surface of the fluororesin sheet 1 of the fluororesin sheet 1 provided with the inorganic oxide vapor-deposited thin film 2 and the coating film 3. solar cell module, characterized in that the antifouling layer 4 and the outermost surface - can be exemplified bets a 2 - le for surface protection sheet. Further, as another specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. 4, one surface of a fluororesin sheet 1 is coated with an inorganic oxide. A multilayer film 6 composed of at least two or more layers of the vapor-deposited thin film 2 is provided. A fluorine-based resin sheet provided with a coating film 3 of a composition as a component and further provided with the multilayer film 6 and the coating film 3;
On one or both sides of any sheet 1, the antifouling layer 4 and / or UV absorber layer solar cell module comprising 5 structure provided with - le surface protective sheet - it can be exemplified bets A 3. Further, as another specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. Providing a deposited thin film 2a of an inorganic oxide by a growth method,
Next, on the inorganic oxide vapor-deposited thin film 2a, an inorganic oxide vapor-deposited thin film 2b is provided by physical vapor deposition to form a multilayer film 6 composed of two or more inorganic oxide vapor-deposited thin films 2a and 2b.
a, and a coating film 3 of a composition containing a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof as a main component of a vehicle on the inorganic oxide deposited thin film 2b constituting the multilayer film 6a. And an antifouling layer 4 and / or an ultraviolet absorber layer 5 on one or both surfaces of the fluororesin sheet 1 provided with the multilayer film 6a and the coating film 3. the provided was composed of configuration solar cell module - can be exemplified bets a 4 - le for surface protection sheet.

【0008】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トAを使用した例で説明すると、図6
に示すように、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トAに、そのコ−ティング
膜3の面を内側にし、順次に、充填剤層11、光起電力
素子としての太陽電池素子12、充填剤層13、およ
び、裏面保護シ−ト層14等を積層し、次いで、これら
を一体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ショ
ン法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形
体として太陽電池モジュ−ルTを製造することができ
る。図中、1、2、3、4、5等の符号は、前述と同じ
意味である。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用して製造し
た太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示するもの
であり、本発明はこれにより限定されるものではない。
例えば、図示しないが、上記の太陽電池モジュ−ルにお
いては、太陽光の吸収性、補強、その他等の目的のもと
に、更に、他の層を任意に加えて積層することができる
ものである。また、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造する際に、無
機酸化物の蒸着薄膜を設ける工程、コ−ティング膜を設
ける工程、防汚層を設ける工程、紫外線吸収剤層を設け
る工程等の順序は、任意に行うことができるものであ
る。
Next, in the present invention, an example of a solar cell module manufactured by using the above-mentioned surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention is illustrated in FIG. The solar cell module according to the present invention shown
FIG. 6 illustrates an example in which a surface protection sheet A for a tool is used.
As shown in FIG. 1, the surface of the surface protecting sheet A for a solar cell module according to the present invention shown in FIG. A lamination method of laminating a solar cell element 12, a filler layer 13, a backside protective sheet layer 14, etc. as an electromotive element, and then vacuum-suctioning and heat-compressing them as a single unit. By using the molding method described above, the solar cell module T can be manufactured by using each of the above-mentioned layers as an integral molded body. In the drawing, reference numerals 1, 2, 3, 4, 5, etc. have the same meanings as described above. The above examples are only examples of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and a solar cell module manufactured using the same, and the present invention is not limited thereto. Not something.
For example, although not shown, in the above-described solar cell module, another layer can be arbitrarily added and laminated for the purpose of absorbing sunlight, reinforcing, and the like. is there. Further, in the present invention, when producing the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, a step of providing a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, a step of providing a coating film, and providing an antifouling layer. The order of the steps, the step of providing the ultraviolet absorbent layer, and the like can be arbitrarily performed.

【0009】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂シ−トとしては、例えば、ポリ
テトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロ
エチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共
重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂(PF
A)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピ
レンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチレンと
ペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオロエチ
レンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ET
FE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCT
FE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコ
ポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系樹脂(P
VDF)、または、フッ化ビニル系樹脂(PVF)から
なる透明性を有するフッ素系樹脂のフィルムないしシ−
トを使用することができる。なお、本発明において、上
記のフッ素系樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、フ
ッ化ビニル系樹脂(PVF)、または、テトラフルオロ
エチレンとエチレン若しくはプロピレンとのコポリマ−
(ETFE)からなるフッ素系樹脂シ−トが、透明性を
有し、太陽光の透過、吸収性等の観点から特に好ましい
ものである。而して、本発明において、上記のようなフ
ッ素系樹脂シ−トを使用することにより、該フッ素系樹
脂シ−トが有する優れた特性、特に、機械的特性、耐熱
性、光学特性等,更に、耐光性、耐熱性、耐水性、その
他等の超耐候性、耐汚染性、耐薬品性、耐擦傷性等の諸
特性を利用して太陽電池を構成する表面保護シ−トとす
るものであり、これにより、従来のガラス板等と同等の
光学特性、耐久性を有し、また、そのフレキシブル性や
機械的特性等からガラス板よりも軽く、かつ、加工性等
に優れ、そのハンドリングし易い等の利点を有するもの
である。
Next, in the present invention, the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the material constituting the solar cell module using the same, the manufacturing method, and the like will be described in more detail. Examples of the fluorine resin sheet constituting the surface protection sheet for a solar cell module, the solar cell module and the like according to the present invention include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene and perfluoroethylene. Perfluoroalkoxy resin (PF) consisting of a copolymer with alkyl vinyl ether
A), tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene and perfluoroalkylvinyl ether and hexafluoropropylene copolymer (EPE), copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ET
FE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCT)
FE), a copolymer of ethylene and chlorotrifluoroethylene (ECTFE), a vinylidene fluoride resin (P
VDF) or a transparent fluororesin film or sheet made of vinyl fluoride resin (PVF)
Can be used. In the present invention, among the above-mentioned fluororesin films or sheets, a vinyl fluoride resin (PVF) or a copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene is used.
A fluororesin sheet made of (ETFE) has transparency, and is particularly preferable from the viewpoints of sunlight transmission and absorption. Thus, in the present invention, by using the above-mentioned fluorine-based resin sheet, the excellent properties of the fluorine-based resin sheet, particularly, mechanical properties, heat resistance, optical properties, etc. Furthermore, a surface protection sheet constituting a solar cell utilizing various properties such as super weather resistance such as light resistance, heat resistance, water resistance, etc., stain resistance, chemical resistance, and scratch resistance. With this, it has the same optical properties and durability as conventional glass plates, etc., and is lighter than glass plates due to its flexibility and mechanical properties, and has excellent workability, etc. It has advantages such as easy operation.

【0010】ところで、本発明において、上記のフッ素
系樹脂シ−トとしては、例えば、上記のフッ素系樹脂の
1種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成
形法、Tダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他
等の製膜化法を用いて、上記のフッ素系樹脂を単独で製
膜化する方法、あるいは、2種以上のフッ素系樹脂を使
用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以
上のフッ素系樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製
膜化する方法等により、フッ素系樹脂のフィルムないし
シ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方
式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ない
し2軸方向に延伸してなるフッ素系樹脂のフィルムない
しシ−トを使用することができる。本発明において、フ
ッ素系樹脂シ−トの膜厚としては、12〜200μm
位、より好ましくは、25〜150μm位が望ましい。
また、本発明において、フッ素系樹脂シ−トとしては、
可視光透過率が、90%以上、好ましくは、93%以上
であって、入射する太陽光を全て透過する性質を有する
ことが望ましいものである。なお、上記において、フッ
素系樹脂の製膜化に際して、例えば、フィルムの加工
性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化
性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、
その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック
配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量と
しては、極く微量から数十%まで、その目的に応じて、
任意に添加することができる。また、上記において、一
般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、
顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用
樹脂等も使用することがてきる。本発明においては、上
記の添加剤の中でも、特に、酸化防止剤、あるいは、紫
外線吸収剤等を練れ込み加工してなるフッ素系樹脂シ−
トを使用することが望ましいものである。
In the present invention, as the above-mentioned fluororesin sheet, for example, one or more of the above-mentioned fluororesins is used, and the extrusion method, cast molding method, T-die method, and cutting method are used. A method of forming the above-mentioned fluororesin alone by using a film-forming method such as an inflation method or other method, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more kinds of fluororesins. A film or sheet of a fluorine-based resin is produced by a method of mixing two or more kinds of fluorine-based resins before the formation of the film to form a film. In this case, for example, a film or sheet made of a fluororesin that is stretched in a uniaxial or biaxial direction using a tenter method or a tuber method can be used. In the present invention, the thickness of the fluororesin sheet is 12 to 200 μm.
And more preferably about 25 to 150 μm.
Further, in the present invention, as the fluororesin sheet,
It is desirable that the visible light transmittance is 90% or more, preferably 93% or more, and that it has a property of transmitting all incident sunlight. In the above, at the time of film formation of the fluororesin, for example, processability of the film, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, sliding properties, mold release properties, flame retardancy, Anti-mold, electrical properties,
For the purpose of improving and modifying others, various plastic compounding agents and additives can be added, and the amount of addition can be from a very small amount to several tens%, depending on the purpose.
It can be arbitrarily added. Further, in the above, common additives include, for example, lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, reinforcing agents, antistatic agents, flame retardants, flame retardants , Foaming agent, fungicide,
Pigments, others, and the like can be used, and further, a modifying resin and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned additives, in particular, an antioxidant, or a fluororesin screen obtained by kneading and processing an ultraviolet absorber or the like.
It is desirable to use

【0011】また、本発明において、フッ素系樹脂シ−
トの表面は、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、
オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温
プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処
理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施すことが
できる。上記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する前に別工程で実施してもよく、また、例えば、
低温プラズマ処理やグロ−放電処理等による表面処理の
場合は、上記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理
としてインライン処理により前処理で行うことができ、
このような場合は、その製造コストを低減することがで
きるという利点がある。上記の表面前処理は、フッ素系
樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善す
るための方法として実施するものであるが、上記の密着
性を改善する方法として、その他、例えば、フッ素系樹
脂シ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アン
ダ−コ−ト剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等
を任意に形成することもできる。上記の前処理のコ−ト
剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物を使用することができる。また、上記において、コ
−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、
あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−
ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、
その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることができ、そ
のコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ−トの製膜後、
あるいは、2軸延伸処理後の後工程として、あるいは、
製膜、あるいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実
施することができる。
Further, in the present invention, the fluorine-based resin
If necessary, the surface of the substrate, for example, corona discharge treatment,
Pretreatment such as ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or the like, and the like can be arbitrarily performed. The surface pretreatment may be performed in a separate step before forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide.
In the case of a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow discharge treatment, the surface treatment can be performed by in-line treatment as a pre-treatment for forming a vapor-deposited thin film of the above inorganic oxide,
In such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced. The above-mentioned surface pretreatment is performed as a method for improving the adhesion between the fluorine-based resin sheet and the deposited thin film of the inorganic oxide. For example, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, a vapor-deposited anchor coat agent layer, or the like can be arbitrarily formed in advance on the surface of the fluororesin sheet. As the coating agent layer for the above pretreatment, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, as a method of forming the coating agent layer, for example, a solvent type, an aqueous type,
Alternatively, using a coating agent such as an emulsion type,
Rucote method, gravure roll method, kiss coat method,
The coating can be performed by using a coating method such as other methods, and the coating is performed after the film formation of the fluororesin sheet.
Alternatively, as a post-process after biaxial stretching, or
It can be carried out by film formation or in-line processing such as biaxial stretching.

【0012】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層あるい
は2層以上の多層膜を形成して、製造することができる
ものである。上記の物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティ
ング法等の物理気相成長法(Physical Vap
or Deposition法、PVD法)を用いて無
機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発明に
おいて、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを
加熱してフッ素系樹脂シ−トの上に蒸着する真空蒸着
法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用
し、酸素を導入して酸化させてフッ素系樹脂シ−トの上
に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで
助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸
着膜を形成することができる。本発明において、物理気
相成長法による無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法に
ついて、その具体例を挙げると、図7は、巻き取り式真
空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。図7に示
すように、巻き取り式真空蒸着装置21の真空チャンバ
−22の中で、巻き出しロ−ル23から繰り出すフッ素
系樹脂シ−ト1は、ガイドロ−ル24、25を介して、
冷却したコ−ティングドラム26に案内される。而し
て、上記の冷却したコ−ティングドラム26上に案内さ
れたフッ素系樹脂シ−ト1の上に、るつぼ27で熱せら
れた蒸着源28、例えば、金属アルミニウム、あるい
は、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要なら
ば、酸素ガス吹出口29より酸素ガス等を噴出し、これ
を供給しながら、マスク30、30を介して、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を成膜化
し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム
等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂シ−
ト1を、ガイドロ−ル25′、24′を介して送り出
し、巻き取りロ−ル31に巻き取ることによって、本発
明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
を形成することができる。なお、本発明においては、上
記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2回以上繰
り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装置を2連
以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそれ以上か
らなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。
また、本発明においては、使用する金属、または金属の
酸化物としては、1種または2種以上の混合物で使用
し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成する
こともできる。
Next, in the present invention, a surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module according to the present invention.
When the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide constituting the metal or the like is described, as the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, for example, a physical vapor deposition method, or a chemical vapor deposition method, or a combination thereof, It can be manufactured by forming one or two or more multilayer films of a deposited thin film of an inorganic oxide. The inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the above-mentioned physical vapor deposition method will be described in further detail. Examples of the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Physical Vap (Physical Vap)
or Deposition method, PVD method) to form a deposited thin film of inorganic oxide. In the present invention, specifically, a metal oxide is used as a raw material, and the metal oxide is used as a raw material, or a vacuum evaporation method in which the metal oxide is heated and vapor-deposited on a fluororesin sheet. A vapor deposition film is formed using an oxidation reaction vapor deposition method in which oxygen is introduced and oxidized to vapor-deposit on a fluorine-based resin sheet, and a plasma-assisted oxidation reaction vapor deposition method in which the oxidation reaction is promoted by plasma. be able to. In the present invention, a specific example of a method of forming a thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method is shown in FIG. 7. FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an example of a roll-up type vacuum evaporation apparatus. As shown in FIG. 7, in a vacuum chamber 22 of a take-up type vacuum evaporation apparatus 21, a fluororesin sheet 1 fed from an unwinding roll 23 is guided via guide rolls 24 and 25.
It is guided to the cooled coating drum 26. Then, on the fluorine-based resin sheet 1 guided on the cooled coating drum 26, a vapor deposition source 28 heated by a crucible 27, for example, metal aluminum or aluminum oxide, is placed. It is evaporated, and if necessary, oxygen gas or the like is spouted from the oxygen gas outlet 29 and supplied, for example, through the masks 30, 30.
Forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as aluminum oxide, and then forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as aluminum oxide on the fluorine-based resin screen above;
The roll 1 is sent out through guide rolls 25 'and 24' and wound up on a take-up roll 31 to form a vapor-deposited inorganic oxide thin film by physical vapor deposition according to the present invention. it can. In the present invention, the above-described method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is repeated two or more times, or two or more vacuum vapor deposition apparatuses are connected and two or more An inorganic oxide vapor-deposited thin film composed of layers or more can be formed.
Further, in the present invention, as the metal or the metal oxide to be used, one kind or a mixture of two or more kinds can be used to form a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0013】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜200
0Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。
In the above, as the thin film of the inorganic oxide, any thin film obtained by basically depositing a metal oxide can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) , Calcium (C
a), potassium (K), tin (Sn), sodium (N
a) A vapor-deposited thin film of a metal oxide such as boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), and yttrium (Y) can be used. Thus, preferred are silicon (Si), aluminum (A
1) and the like. Thus, the vapor-deposited thin film of the above-described metal oxide can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide.
For example, SiO X, AlO X, as such as MgO X MO
X (wherein, M represents a metal element, and the value of X is
The range differs depending on the metal element. ). The range of the value of X is silicon (S
i) is 0-2, and aluminum (Al) is 0-1.
5. Magnesium (Mg) is 0-1, calcium (C
a) is 0-1, potassium (K) is 0-0.5, tin (Sn) is 0-2, and sodium (Na) is 0-0.
5, boron (B) is 0-1,5, titanium (Ti) is
0-2, lead (Pb): 0-1, zirconium (Zr)
Can have a value in the range of 0 to 2 and yttrium (Y) can have a value in the range of 0 to 1.5. In the above, when X = 0,
It is a perfect metal, is not transparent and cannot be used at all, and the upper end of the range of X is a fully oxidized value. In the present invention, generally, except for silicon (Si) and aluminum (Al), examples used are scarce. Silicon (Si) is 1.0 to 2.0, aluminum (A)
For l), a value in the range of 0.5 to 1.5 can be used. In the present invention, the thickness of the thin film of the inorganic oxide as described above varies depending on the type of the metal or the metal oxide to be used.
It is desirable to arbitrarily select and form it within the range of 0 °, preferably 100 to 1000 °.

【0014】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
(Chemical Vapor Depositio
n法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、有機珪素化合物等の
蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとし
て、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用
し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、
低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気
相成長法(CVD法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物
の蒸着薄膜を形成することができる。上記において、低
温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズ
マ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装
置を使用することがてき、而して、本発明においては、
高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラ
ズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
Next, in the present invention, the vapor-deposited thin film of inorganic oxide by the above-mentioned chemical vapor deposition method will be further described. Chemical vapor deposition (Chemical Vapor Deposition) such as vapor phase epitaxy, thermochemical vapor phase epitaxy, and photochemical vapor phase epitaxy
A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide can be formed using an n method, a CVD method, or the like. In the present invention, specifically,
On one side of the fluororesin sheet, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, and an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas. Use oxygen gas, etc.
A deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed by using a low-temperature plasma chemical vapor deposition (CVD) method using a low-temperature plasma generator or the like. In the above, as the low-temperature plasma generator, for example, high-frequency plasma, pulse wave plasma, it is possible to use a generator such as microwave plasma, in the present invention,
In order to obtain highly active and stable plasma, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method.

【0015】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図8は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図8に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャン
バ−42内に配置された巻き出しロ−ル43からフッ素
系樹脂シ−ト1を繰り出し、更に、該フッ素系樹脂シ−
ト1を、補助ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電
極ドラム45周面上に搬送する。而して、本発明におい
ては、ガス供給装置46、47および、原料揮発供給装
置48等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等
の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらから
なる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズ
ル49を通して真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガ
ス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム4
5周面上に搬送されたフッ素系樹脂シ−ト1の上に、グ
ロ−放電プラズマ50によってプラズマを発生させ、こ
れを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形
成し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却
・電極ドラム45は、チャンバ−外に配置されている電
源51から所定の電力が印加されており、また、冷却・
電極ドラム45の近傍には、マグネット52を配置して
プラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂
シ−ト1は、補助ロ−ル53を介して巻き取りロ−ル5
4に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を製造することができる
ものである。なお、図中、55は、真空ポンプを表す。
また、本発明においては、上記のような無機酸化物の蒸
着薄膜の形成法を2回以上繰り返すか、あるいは、上記
のような真空蒸着装置を2連以上接続し、2層以上重層
して2層あるいはそれ以上からなる無機酸化物の蒸着薄
膜を形成することができる。また、本発明においては、
蒸着用モノマ−ガス等を1種または2種以上の混合物で
使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成
することもできる。上記の例示は、その一例を例示する
ものであり、これによって本発明は限定されるものでは
ないことは言うまでもないことである。
More specifically, an example of a method of forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by the above-described low-temperature plasma chemical vapor deposition method will be described. FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a vapor-deposited oxide thin film. As shown in FIG. 8, in the present invention, the fluororesin sheet 1 is fed out from an unwinding roll 43 disposed in a vacuum chamber 42 of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 41. The fluororesin sheath
The roller 1 is conveyed on the peripheral surface of the cooling / electrode drum 45 at a predetermined speed via the auxiliary roll 44. In the present invention, oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 46 and 47 and the raw material volatile supply device 48 and the like. While adjusting the vapor-deposition mixed gas composition, the vapor-deposition mixed gas composition was introduced into the vacuum chamber 42 through the raw material supply nozzle 49, and the cooling / electrode drum 4
Plasma is generated by the glow discharge plasma 50 on the fluororesin sheet 1 conveyed on the 5 peripheral surfaces, and the plasma is irradiated to form a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide. Film forming. In the present invention, at this time, a predetermined power is applied to the cooling / electrode drum 45 from a power source 51 disposed outside the chamber.
The generation of plasma is promoted by disposing a magnet 52 near the electrode drum 45. Next, the fluorine-based resin sheet 1 on which the deposited thin film of inorganic oxide such as silicon oxide is formed, Take-up roll 5 via roll 53
4 to produce a vapor-deposited inorganic oxide thin film by the plasma enhanced chemical vapor deposition method according to the present invention. In the figure, 55 represents a vacuum pump.
Further, in the present invention, the above-described method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is repeated two or more times, or two or more vacuum vapor deposition apparatuses as described above are connected, and two or more layers are laminated. An inorganic oxide vapor-deposited thin film composed of layers or more can be formed. In the present invention,
A monomer gas for vapor deposition or the like may be used as one kind or a mixture of two or more kinds, and a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials may be formed. The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby.

【0016】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
In the above, a monomer for vapor deposition of an organic silicon compound or the like forming a vapor deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide.
Examples of the gas include 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, Phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned organosilicon compounds, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is advantageous in terms of handleability and formed deposited film. It is a particularly preferable raw material in view of its characteristics and the like. In the above, for example, an argon gas, a helium gas, or the like can be used as the inert gas.

【0017】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物がフッ素系樹
脂シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜
を形成することができ、通常、一般式SiOX (ただ
し、Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主
体とする連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化
珪素の蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点か
ら、一般式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の
数を表す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする
薄膜であることが好ましいものである。上記において、
Xの値は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマ
のエネルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が
小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色
性を帯び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素
として有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが
一方、または、その両者の元素を微量構成元素として含
有する酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、
50Å〜2000Åの範囲であり、更に、上記の必須構
成元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において
連続的に変化しているものである。更に、上記の酸化珪
素の蒸着薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合に
は、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少し
ていることを特徴とするものである。
In the present invention, in the silicon oxide vapor-deposited thin film formed as described above, a monomer gas such as an organic silicon compound chemically reacts with oxygen gas or the like, and the reaction product is formed on a fluorine-based resin sheet. To form a dense, thin film having high flexibility and the like. Usually, silicon oxide represented by the general formula SiO x (where X represents a number of 0 to 2) is mainly used. It is a continuous vapor-deposited thin film. Thus, the above-mentioned silicon oxide vapor-deposited thin film is represented by a general formula SiO X (where X represents a number of 1.3 to 1.9) in terms of transparency, barrier properties, and the like. It is preferable to use a thin film mainly composed of a deposited silicon oxide film. In the above,
The value of X changes depending on the molar ratio of the monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, and the like. Generally, as the value of X decreases, the gas permeability decreases, but the film itself exhibits yellowness. Takes on, the transparency becomes worse. Further, the above-mentioned deposited thin film of silicon oxide has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and furthermore, one of carbon (C) and hydrogen (H), or both elements Consisting of a silicon oxide deposited film containing as a trace constituent element, and the film thickness thereof,
It is in the range of 50 ° to 2000 °, and the composition ratio of the essential constituent elements and the trace constituent elements continuously changes in the film thickness direction. Further, when the above-mentioned vapor-deposited silicon oxide thin film contains a compound composed of carbon, the carbon content is reduced in the depth direction of the film thickness.

【0018】而して、本発明において、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜について、例えば、X線光電子分光装置(X
ray Photoelectron Spectro
scopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Se
condary Ion Mass Spectros
copy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方
向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用し
て、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行うことより、上
記のような物性を確認することができるものである。ま
た、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚
としては、膜厚50Å〜2000Å位であることが望ま
しく、具体的には、その膜厚としては、100〜100
0Å位が望ましく、而して、上記において、1000
Å、更には、2000Åより厚くなると、その膜にクラ
ック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、10
0Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を
奏することが困難になることから好ましくないものであ
る。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学
製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を
用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定するこ
とができる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸
着薄膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速
度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガ
ス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等に
よって行うことができる。
Thus, in the present invention, the above-mentioned deposited silicon oxide thin film is, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (X
ray Photoelectron Spectro
, XPS), secondary ion mass spectrometer (Se
condary Ion Mass Spectros
(Copies, SIMS), etc. to confirm the above physical properties by performing elemental analysis of the deposited silicon oxide thin film using a method of analyzing by ion etching in the depth direction, etc. using a surface analyzer such as SIMS. Is what you can do. In the present invention, the thickness of the above-described silicon oxide vapor-deposited thin film is desirably about 50 to 2000 °, and specifically, the thickness is about 100 to 100.
The 0 ° position is desirable, and in the above, 1000
If the thickness is more than 2000 °, cracks and the like are likely to occur in the film, which is not preferable.
If it is 0 ° or less than 50 °, it is difficult to achieve the barrier effect, which is not preferable. In the above description, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000) manufactured by Rigaku Corporation. Further, in the above, as means for changing the thickness of the deposited silicon oxide thin film, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, a method of increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or the rate of the deposition. It can be performed by a method of slowing down.

【0019】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の2層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、フッ素系樹脂シ−トの上に、化学
気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にク
ラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、2層以上
の多層膜からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成すること
が望ましいものである。なお、本発明においては、上記
で形成した無機酸化物の蒸着薄膜の面には、その上に設
けるコ−ティング膜との密接着性、親和性等を向上させ
るために、例えば、気体をア−ク放電により電離させる
ことにより生じる酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、
ヘリウムガス等のプラズマガスを利用して表面改質を行
なうプラズマ表面処理法、あるいは、コロナ放電処理法
等を利用してプラズマ処理面あるいはコロナ処理面等を
形成することができるものである。
In the present invention, as a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide constituting a surface protection sheet for a solar cell module, a solar cell module or the like according to the present invention, for example, a physical vapor deposition method can be used. When forming a multilayer film composed of two or more layers of a vapor-deposited inorganic oxide thin film by using both of the chemical vapor deposition methods together, first, a chemical vapor deposition method is performed on a fluororesin sheet. A dense, highly flexible, thin film of inorganic oxide capable of relatively preventing cracks is provided, and then the inorganic oxide is formed on the thin film of inorganic oxide by physical vapor deposition. It is desirable to provide an evaporated thin film of inorganic oxide composed of two or more multilayer films by providing an evaporated thin film. In the present invention, for example, a gas is applied to the surface of the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed above in order to improve the close adhesion and affinity with the coating film provided thereon. Oxygen gas, nitrogen gas, argon gas generated by ionization by
A plasma-treated surface or a corona-treated surface can be formed by utilizing a plasma surface treatment method in which surface modification is performed using a plasma gas such as helium gas, or a corona discharge treatment method.

【0020】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する金属アルコキシド化合物および/または
その加水分解物をビヒクルの主成分として含む組成物に
よるコ−ティング膜について説明すると、まず、上記の
金属アルコキシド化合物および/またはその加水分解物
としては、例えば、主に、一般式、M(0R)n (式
中、Mは、Si、Ti、Al、B、Zr、W、または、
Taからなる金属原子を表し、Rは、C1 〜C10からな
るアルキル基を表し、nは、1〜4の整数を表す。)で
表される金属アルコキシド化合物、または、その加水分
解物、あるいは、その両者の混合物等を使用することが
できる。上記において、金属アルコキシド化合物として
は、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライ
ソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライ
ソブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、
テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラ−n−アミ
ルオキシシラン、テトライソアミルオキシシラン、テト
ラヘキシルオキシシラン、テトラヘプチルオキシシラ
ン、テトラオクチルオキシシラ、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、メチルトリブトキシシラ、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロ
ポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、トリメチル
メトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチ
ルブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−
(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
クロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、その他等の
アルコキシシラン化合物;トリメトキシアルミニウム、
トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミ
ニウム、その他等のアルミニウムアルコキシド化合物;
テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニ
ウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブト
キシジルコニウム、その他等のジルコニウムアルコキシ
ド化合物;テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシ
チタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラ
ブトキシチタニウム、その他等のチタニウムアルコキシ
ド化合物;タンタルペンタプロポキシド、タンタルペン
タブトキシ、その他等のタンタルアルコキシド化合物;
ボロントリメトキシド、ボロントリブトキシド、その他
等のボロンアルコキシド化合物;その他等の1種ないし
2種以上の混合物を使用することができる。
Next, in the present invention, a surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module according to the present invention.
The coating film formed of a composition containing a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof as a main component of a vehicle will be described. For example, mainly, a general formula, M (0R) n (where M is Si, Ti, Al, B, Zr, W, or
Represents a metal atom consisting of ta, R represents an alkyl group consisting of C 1 -C 10, n is an integer of 1-4. ), A hydrolyzate thereof, or a mixture thereof. In the above, as the metal alkoxide compound, specifically, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraisobutoxysilane, tetra-sec-butoxysilane,
Tetra-tert-butoxysilane, tetra-n-amyloxysilane, tetraisoamyloxysilane, tetrahexyloxysilane, tetraheptyloxysilane, tetraoctyloxysila, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, Methyltributoxysila, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylbutoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-
(Methacryloxypropyl) trimethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, and other alkoxysilane compounds; trimethoxyaluminum,
Aluminum alkoxide compounds such as triethoxyaluminum, triisopropoxyaluminum and others;
Zirconium alkoxide compounds such as tetramethoxyzirconium, tetraethoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium, tetrabutoxyzirconium and others; titanium alkoxide compounds such as tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetrabutoxytitanium and others; tantalum penta Tantalum alkoxide compounds such as propoxide, tantalum pentaboxy and others;
Boron alkoxide compounds such as boron trimethoxide, boron tributoxide, and others; and one or more mixtures of others can be used.

【0021】次に、本発明において、金属アルコキシド
化合物の加水分解物としては、上記のような金属アルコ
キシド化合物の1種ないし2種以上を適当な溶媒中に溶
解して、金属アルコキシド化合物の部分ないし完全加水
分解物を得ることができる。上記において、溶媒として
は、水、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロピルアルコ
−ル、ブタノ−ル、その他等のアルコ−ル類、上記の水
−アルコ−ル系等からなる混合溶媒、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、その他等のケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチル、その他等のエステル類、ハロゲ
ンカ炭化水素、トルエン、キシレン、その他等の芳香族
炭化水素類、その他等を使用することができる。なお、
本発明において、上記の加水分解を行う際には、例え
ば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機
酸等を触媒として少量添加して使用することができる。
Next, in the present invention, the hydrolyzate of the metal alkoxide compound is obtained by dissolving one or more of the above metal alkoxide compounds in an appropriate solvent, A complete hydrolyzate can be obtained. In the above, as the solvent, water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, alcohols such as others, the above-mentioned mixed solvent comprising water-alcohol, etc., methyl ethyl ketone, Ketones such as methyl isobutyl ketone and others, esters such as ethyl acetate and butyl acetate and others, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and others can be used. In addition,
In the present invention, when performing the above-described hydrolysis, for example, a small amount of a mineral acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, or nitric acid, or an organic acid such as acetic acid or tartaric acid can be added and used as a catalyst.

【0022】次に、本発明において、上記の金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分として含む組成物において、金属アルコキシド
化合物および/またはその加水分解物の含有量として
は、該金属アルコキシド化合物が100%加水分解およ
び縮合したとして生じるSiO2 換算で0.1重量%以
上、好ましくは、0.1〜70重量%、更には、0.1
〜50重量%位になるように溶媒中に溶解させて使用す
ることが望ましい。上記において、0.1重量%未満で
あると、形成されるコ−ティング膜が、所望の特性、す
なわち、所望のバリア性能を有する被膜を形成すること
ができず、また、50重量%、更には、70重量%を越
えると、透明な均質の被膜を形成することが困難となる
ことから好ましくないものである。
Next, in the present invention, in the composition containing the above-mentioned metal alkoxide compound and / or hydrolyzate thereof as a main component of the vehicle, the content of the metal alkoxide compound and / or hydrolyzate thereof is as follows. 0.1% by weight or more, preferably 0.1 to 70% by weight, more preferably 0.1 to 70% by weight in terms of SiO 2 generated as a result of 100% hydrolysis and condensation of the metal alkoxide compound.
It is desirable to use it by dissolving it in a solvent so as to be about 50% by weight. In the above, if the content is less than 0.1% by weight, the formed coating film cannot form a film having desired properties, that is, a desired barrier performance. When the content exceeds 70% by weight, it is difficult to form a transparent uniform film, which is not preferable.

【0023】而して、本発明において、上記の金属アル
コキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分として含む組成物によるコ−ティング膜を形
成するには、まず、例えば、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物の1種ないしそれ以上をビ
ヒクルの主成分とし、これに、更に、必要ならば、例え
ば、結合剤としての樹脂、充填剤、安定剤、可塑剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘
剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練して
なる溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等から
なる組成物を調整する。而して、本発明においては、上
記で調整した組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ−ト
法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、ス
クイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、カ
−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法によ
り、コ−ティング量、例えば、0.1g/m2 〜10g
/m2 (乾燥状態)位、好ましくは、0.5g/m2
5g/m2 (乾燥状態)位になるようにコ−ティング
し、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施
して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成することが
できる。上記において、上記の組成物としては、金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物を溶解
ないし混練し、更に、これらを硬化させることから、
水、あるいは、アルコ−ル−水系溶液等を使用して調整
した組成物を使用することが好ましく、而して、上記の
アルコ−ル成分としては、例えば、n−プロピルアルコ
−ル、イソプロピルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を
使用することができ、また、上記のアルコ−ル−水系溶
液において、アルコ−ルと水との配合割合としては、例
えば、アルコ−ル、50〜70重量部に対し水、50〜
30重量部の割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調
整することが望ましい。
In the present invention, in order to form a coating film of a composition containing the above-mentioned metal alkoxide compound and / or its hydrolyzate as a main component of the vehicle, first, for example, a metal alkoxide compound And / or one or more of its hydrolysates are the main component of the vehicle, and if necessary, furthermore, for example, resins as binders, fillers, stabilizers, plasticizers, antioxidants, Light stabilizers such as ultraviolet absorbers, dispersants, thickeners, drying agents, lubricants, antistatic agents, cross-linking agents, and other additives are optionally added, and thoroughly kneaded with a solvent, diluent, etc. A composition comprising a solvent type, an aqueous type or an emulsion type is prepared. Thus, in the present invention, the composition prepared above is used, for example, a roll coat method, a gravure roll coat method, a kiss roll coat method, a squeeze roll coat method. The coating amount, for example, 0.1 g / m 2 to 10 g, by a coating method such as a reverse roll coating method, a curtain flow coating method, etc.
/ M 2 (dry state), preferably 0.5 g / m 2 to
Coating is carried out to a level of about 5 g / m 2 (dry state), followed by heat drying and further aging treatment to form a coating film according to the present invention. In the above, as the above composition, a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof is dissolved or kneaded, and further, these are cured.
It is preferable to use a composition prepared using water or an alcohol-water solution, and the above-mentioned alcohol components include, for example, n-propyl alcohol and isopropyl alcohol. -N-butanol, t-
Butanol, ethyl alcohol, methyl alcohol and the like can be used. In the above-mentioned alcohol-water solution, the mixing ratio of alcohol and water is, for example, alcohol, 50 to 70 parts by weight of water, 50 to 70 parts by weight
It is desirable to prepare an alcohol-water solution by mixing at a ratio of 30 parts by weight.

【0024】上記の組成物において、添加剤としては、
例えば、金属酸化物微粒子等の無機充填剤を同時に混合
して使用することが好ましいものである。かかる場合に
は、金属酸化物微粒子が、それ自身で硬い構造であるの
に比べ、その表面に多くの水酸基を持つSiO2 混合ゾ
ルが加熱等によりSiO2 ゲル膜を形成する際に、その
表面の水酸基と反応し、コ−ティング膜を補強させると
いう利点を有するものである。上記の金属酸化物微粒子
としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、その他等を使用することができ、而して、その
粒子径としては、0.005〜1.0μm位のものを少
量添加して使用することがてきる。
In the above composition, the additives include
For example, it is preferable to mix and use an inorganic filler such as metal oxide fine particles at the same time. In such a case, when the SiO 2 mixed sol having a large number of hydroxyl groups on its surface forms an SiO 2 gel film by heating or the like, the surface of the metal oxide fine particles has a hard structure by itself. This has the advantage that it reacts with the hydroxyl groups of the above to reinforce the coating film. As the above-mentioned metal oxide fine particles, for example, silica, alumina, titania, zirconia, etc. can be used. It can be added and used.

【0025】また、上記の組成物においては、コ−ティ
ング膜の被膜性、コ−ティング膜の無機酸化物の蒸着薄
膜への密接着性、その他等のことから、例えば、水溶
性、親水性、疎水性、その他等の各種の樹脂の1種ない
し2種以上を添加することもできる。上記において、樹
脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、あるいは、その
酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリアクリルあるいはメタクリル系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
ポリビニルピロリドン系樹脂、メチルセルロ−ス、エチ
ルセルロ−ス、カルボキシルメチルセルロ−ス、ニトロ
セルロ−ス、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、その他等を使用することができる。
Further, in the above-mentioned composition, for example, water-soluble, hydrophilic, etc., from the viewpoint of the coating property of the coating film, the close adhesion of the coating film to the deposited thin film of the inorganic oxide, and the like. One or two or more of various resins such as hydrophobic, hydrophobic, etc. can also be added. In the above, as the resin, for example, a polyethylene resin, a polyolefin resin such as a polypropylene resin, or an acid-modified polyolefin resin thereof, a polyvinyl acetate resin,
Polyacrylic or methacrylic resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl butyral resin,
Polyvinylpyrrolidone resin, methylcellulose, ethylcellulose, carboxymethylcellulose, nitrocellulose, polyester resin, polyamide resin,
Phenol resins, melamine resins, urea resins, polyurethane resins, and others can be used.

【0026】次にまた、上記の組成物においては、架橋
剤として、例えば、二元反応性を有するシランカップリ
ング剤、あるいは、イソシアネ−ト化合物等を添加する
ことができる。上記のシランカップリング剤としては、
例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3、
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒ
ドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの1種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記のイソシアネ
−ト化合物としては、その分子中に2個以上のイソシア
ネ−ト基を有するものを使用することができ、例えば、
トリレンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイ
ソシアネ−ト、テトラメチルキシレンジイソシアネ−
ト、その他等を使用することがてきる。その使用量とし
ては、微量添加するだけでよい。
Further, in the above composition, for example, a silane coupling agent having dual reactivity or an isocyanate compound may be added as a crosslinking agent. As the above silane coupling agent,
For example, γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,
4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N -Β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ
One or more of ureidopropyltriethoxysilane, bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane and γ-aminopropylsilicone can be used. Further, as the above-mentioned isocyanate compound, those having two or more isocyanate groups in the molecule can be used.
Tolylene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate
And others can be used. Only a small amount may be used.

【0027】更に、本発明においては、金属アルコキシ
ド化合物および/またはその加水分解を架橋硬化させる
ために、更には、架橋剤等と反応させ、架橋構造を構成
する際に、例えば、硬化触媒等を添加することができ
る。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質的に不
溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン類、例え
ば、N.N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン等、ま
た、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、
酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができる。そ
の使用量としては、微量添加することで充分である。
Further, in the present invention, in order to cross-link and cure the metal alkoxide compound and / or the hydrolysis thereof, and furthermore, it is reacted with a cross-linking agent or the like to form a cross-linking structure. Can be added. Examples of the above-mentioned curing catalyst include, for example, tertiary amines which are substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent. N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine and the like, and as the acids, for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, mineral acids such as nitric acid,
Organic acids such as acetic acid and tartaric acid can be used. It is sufficient to add a small amount as the amount used.

【0028】ところで、本発明において、上記の金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒ
クルの主成分とし、これに、必要ならば、所望の添加剤
を任意に添加し、水、あるいは、アルコ−ル−水系溶
剤、希釈剤等で充分に混練してなる組成物を調整し、こ
れを通常のコ−ティング法でコ−ティングし、次いで、
加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施すことによ
り、コ−ティング膜を形成することができる。而して、
上記のコ−ティング膜は、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に優れ、その両者の接着強度は極めて強く、その
層間において剥離する等の現象は認められず、更に、本
発明においては、無機酸化物の蒸着薄膜と上記のコ−テ
ィング膜との2層からなるバリア性膜を形成し、それに
より、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対するバリア性を
更に向上させ、かつ、透明性、耐熱性、耐熱水性、ラミ
ネ−ト適性、その他等にも優れ、極めて良好な積層材を
製造し得るものである。
In the present invention, the above-mentioned metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof are used as a main component of the vehicle, and if necessary, a desired additive is optionally added thereto to obtain water or alcohol. -Aqueous solvent, a composition obtained by sufficiently kneading with a diluent or the like is prepared, and coated by a usual coating method,
A coating film can be formed by subjecting it to heat drying, aging treatment and the like. Thus,
The above-mentioned coating film is excellent in close adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, the bonding strength between the two is extremely strong, and a phenomenon such as peeling between layers is not recognized. Forming a barrier film consisting of two layers of a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide and the above-mentioned coating film, thereby further improving the barrier property against oxygen gas, water vapor gas, etc., and It is excellent in heat resistance, hot water resistance, laminating suitability, etc., and can produce an extremely good laminated material.

【0029】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する防汚層について説明すると、かかる防汚
層としては、酸化チタンを主成分とする光触媒粉末、若
しくはゾルに含まれる微粒子からなる組成物による塗布
膜から構成されるものである。上記において、光触媒粉
末を含む組成物による塗布膜としては、例えば、光触媒
粉末の1種ないし2種以上に、ビヒクルとしての結合剤
の1種ないし2種以上を添加し、更に、必要ならば、例
えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安
定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、
耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等の1種ない
し2種以上を太陽光の透過に影響しない範囲内で任意に
添加し、更に、溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例え
ば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等の組
成物を調整し、次いで、該組成物を、例えば、フロ−テ
ィングナイフコ−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト
法、インバ−ティドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ル
コ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、
グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−
ブレ−ドコ−ト法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−
テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法、ある
いは、グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−
ン印刷、転写印刷、その他等の印刷法を用いて、塗布な
いし印刷することにより塗布膜を形成することができ
る。上記において、塗布膜の膜厚としては、0.1〜1
0g/m2 位(乾燥状態)、より好ましくは、0.5〜
1g/m2 位が望ましい。
Next, in the present invention, the surface protection sheet for a solar cell module and the solar cell module according to the present invention.
The antifouling layer constituting the metal layer or the like will be described. The antifouling layer is formed of a photocatalyst powder containing titanium oxide as a main component or a coating film of a composition including fine particles contained in a sol. In the above, as a coating film of the composition containing the photocatalyst powder, for example, one or more of the photocatalyst powder, one or more of the binder as a vehicle is added, and if necessary, For example, lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, reinforcing agents, antistatic agents, flame retardants,
One or more kinds of flame retardants, foaming agents, fungicides, pigments, etc. are arbitrarily added within a range not affecting the transmission of sunlight, and further kneaded sufficiently with a solvent, a diluent or the like. For example, a composition such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is prepared, and then the composition is subjected to, for example, a floating knife coating method, a knife over roll coating method, Inverted knife coating, squeeze roll coating, reverse roll coating, roll coating,
Gravure roll coating, kiss roll coating, air
Blade coating method, extrusion coating method, car coating
A coating method such as a ten-flow coating method and others, or gravure printing, offset printing, silk screen printing, etc.
A coating film can be formed by applying or printing using a printing method such as printing, transfer printing, or the like. In the above, the thickness of the coating film is 0.1 to 1
0 g / m 2 (dry state), more preferably 0.5 to
1 g / m 2 is desirable.

【0030】上記において、光触媒粉末としては、太陽
光等の光の作用により、例えば、樹脂が、酸化等により
劣化、破壊、あるいは、分解し、または、低分子化し、
防汚層の表面に付着した塵埃等を、その粘着性を破壊
し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を清掃に保持する
ことを容易にする作用を有する化学物質を使用すること
ができる。具体的には、例えば、光触媒粉末としては、
例えば、TiO2 、ZnO、SrTiO3 、CdS、C
aP、InP、GaAs、BaTiO2 、K2 Ti
3 、K2 NbO3 、Fe2 3 、Ta2 3 、W
3 、SnO2 、Bi2 8 、NiO、Cu2 O、Si
C、SiO2 、MoS2 、InPb、RuO2 、CeO
2 等、あるいは、これらにPt、Rh、RuO2 、N
b、Cu、Sn、Ni、Fe等の金属および/またはこ
れらの金属酸化物とを混合した組成物を使用することが
できる。上記の組成物において、光触媒粉末の含有量と
しては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約
0.1〜30重量%位が好ましい。
In the above, as the photocatalyst powder, for example, the resin is deteriorated, destroyed, or decomposed by oxidation or the like by the action of light such as sunlight,
It is possible to use a chemical substance having an action of destroying the adhesiveness of the dust and the like adhered to the surface of the antifouling layer, washing and removing the dust and the like by wind and rain, and easily maintaining the surface for cleaning. . Specifically, for example, as a photocatalyst powder,
For example, TiO 2 , ZnO, SrTiO 3 , CdS, C
aP, InP, GaAs, BaTiO 2 , K 2 Ti
O 3 , K 2 NbO 3 , Fe 2 O 3 , Ta 2 O 3 , W
O 3 , SnO 2 , Bi 2 O 8 , NiO, Cu 2 O, Si
C, SiO 2 , MoS 2 , InPb, RuO 2 , CeO
2 etc., or Pt, Rh, RuO 2 , N
A composition in which a metal such as b, Cu, Sn, Ni, and Fe and / or a metal oxide thereof is mixed can be used. In the above composition, the content of the photocatalyst powder varies depending on the particle shape, density and the like, but is preferably about 0.1 to 30% by weight.

【0031】また、上記において、ビヒクルとしての結
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末の
光活性に影響を受けない結合剤を使用することができ、
具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノ
マ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチ
レン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチル
ペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリア
クリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹
脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、
ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、アミノプラ
スト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニトロセルロ−ス、無
機系ポリマ−、その他等の公知の樹脂、あるいは、その
変性樹脂、その他等の1種ないし2種以上を使用するこ
とができる。而して、本発明においては、光触媒粉末の
影響を受けない結合剤としては、上記のような結合剤の
中でも、特に、低融点ガラス、アルカリ金属シリケ−
ト、ホスフェ−ト、または、コロイダルシリカ、その他
等の無機系ポリマ−の1種ないしそれ以上を使用するこ
とが好ましいものである。
In the above, the binder as a vehicle has film-forming properties, and further has light resistance, heat resistance,
It is excellent in various fastnesses such as water resistance, it also increases the hardness of the coating film, it has excellent scratch resistance, abrasion resistance, etc., especially, it is possible to use a binder that is not affected by the photoactivity of the photocatalyst powder. Can,
Specifically, for example, polyethylene resin, polypropylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methylpentene polymer -, Polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer Copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene-vinyl acetate copolymer Combined saponified product, fluororesin,
Known resins such as diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, epoxy resin, phenol resin, aminoplast resin, silicone resin, nitrocellulose, inorganic polymer and others Alternatively, one or more kinds of modified resins, others, and the like can be used. Thus, in the present invention, among the binders not affected by the photocatalyst powder, among the binders described above, particularly, low-melting glass and alkali metal silicate
It is preferable to use one or more of inorganic polymers such as silica, phosphate and colloidal silica.

【0032】ところで、本発明においては、上記の防汚
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末の光活性が、該防汚
層の下層に位置する、例えば、紫外線吸収剤層、あるい
は、フッ素系樹脂シ−ト等に影響を与え、その劣化、分
解、あるいは、破壊等に起こさないように、その相互の
接触を遮断する無機質膜等からなる光触媒粉末の活性を
遮断する活性遮断層を設けることができる。上記の活性
遮断層は、通常、防汚層の下層に設けるものである。上
記の活性遮断層を構成する無機質膜としては、例えば、
前述の透明性を有する酸化珪素、あるいは、酸化アルミ
ニウム等の無機酸化物の蒸着膜等を使用することができ
る。上記の無機酸化物の蒸着膜の形成は、前述と同様に
して製膜化して、活性遮断層を形成することができ、そ
の膜厚としては、100〜3000Å位、より好ましく
は、100〜1500Å位が望ましい。
Incidentally, in the present invention, the photoactivity of the photocatalyst powder in the coating film constituting the antifouling layer is such that the photoactivity is located below the antifouling layer, for example, an ultraviolet absorber layer or a fluorine-based layer. Provide an activity blocking layer for blocking the activity of the photocatalyst powder consisting of an inorganic film or the like that blocks the mutual contact so as not to affect the resin sheet, etc. and to cause its degradation, decomposition, destruction, etc. Can be. The above-mentioned activity blocking layer is usually provided below the antifouling layer. Examples of the inorganic film constituting the above-mentioned activity blocking layer include, for example,
The above-described transparent silicon oxide or a deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide can be used. The above-mentioned inorganic oxide vapor-deposited film can be formed into a film in the same manner as described above to form an active cutoff layer, and the thickness thereof is about 100 to 3000 °, more preferably 100 to 1500 °. Position is desirable.

【0033】また、本発明においては、上記の防汚層の
密接着性を強固にするために、該防汚層を構成する光触
媒粉末を含む組成物による塗布膜を設けるに際し、必要
ならば、接着用プライマ−層等を設けることができる。
上記のプライマ−層を構成する材料としては、例えば、
防汚層中の光触媒粉末の光活性等によって分解されない
無機系のプライマ−層を構成する材料を使用することが
でき、具体的には、有機チタン化合物として代表的なテ
トライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−
ト、テトラステアリルチタネ−ト等のアルキルチタネ−
トやチタンキレ−ト等の加水分解による生成物等を使用
することができ、その他、無機ポリシラザン(ペルヒド
ロポリシラザラン)等も使用することができる。本発明
において、特に、加水分解の速度が極めて早く、溶液を
塗工後に分解できるテトライソプロピルチタネ−ト、テ
トラブチルチタネ−トが好ましい材料である。
In the present invention, in order to strengthen the close adhesion of the antifouling layer, when providing a coating film of a composition containing a photocatalyst powder constituting the antifouling layer, if necessary, An adhesive primer layer or the like can be provided.
As a material constituting the above-mentioned primer layer, for example,
A material constituting an inorganic primer layer that is not decomposed by the photoactivity of the photocatalyst powder in the antifouling layer can be used. Specifically, tetraisopropyl titanate, which is a typical example of an organic titanium compound, Tetrabutyl titane
Alkyl titanates such as tert., Tetrastearyl titanate, etc.
And products produced by hydrolysis of titanium chelate and the like. In addition, inorganic polysilazane (perhydropolysilazaran) and the like can also be used. In the present invention, particularly preferred are tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate, which have a very high rate of hydrolysis and can be decomposed after coating the solution.

【0034】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する紫外線吸収剤層について説明すると、か
かる紫外線吸収剤層としては、例えば、紫外線吸収剤の
1種ないし2種以上に、ビヒクルとしての結合剤の1種
ないし2種以上を添加し、更に、必要ならば、例えば、
滑剤、架橋剤、酸化防止剤、安定剤、充填剤、強化剤、
補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ
剤、顔料、その他等の1種ないし2種以上を太陽光の透
過に影響しない範囲内で任意に添加し、更に、溶剤、希
釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水性型、あ
るいは、エマルジョン型等の組成物を調整し、次いで、
該組成物を、前述の防汚層を形成するコ−ティング法、
あるいは、印刷法等を同様に用いて、同様に塗布ないし
印刷することにより塗布膜を形成することができる。上
記において、塗布膜の膜厚としては、0.1〜10g/
2 位(乾燥状態)、より好ましくは、1〜5g/m2
位が望ましい。
Next, in the present invention, a surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module according to the present invention.
The UV absorber layer that constitutes the UV absorber or the like will be described. As the UV absorber layer, for example, one or more binders as a vehicle are added to one or more UV absorbers. And, if necessary, for example,
Lubricants, crosslinking agents, antioxidants, stabilizers, fillers, reinforcing agents,
One or more of a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, a fungicide, a pigment, etc. are arbitrarily added within a range not affecting the transmission of sunlight, and a solvent is further added. By sufficiently kneading with a diluent or the like, for example, a solvent type, an aqueous type, or a composition such as an emulsion type is prepared,
A coating method for forming the antifouling layer using the composition,
Alternatively, a coating film can be formed by similarly applying or printing similarly using a printing method or the like. In the above, the thickness of the coating film is 0.1 to 10 g /
m 2 (dry state), more preferably 1 to 5 g / m 2
Position is desirable.

【0035】上記において、紫外線吸収剤としては、太
陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エ
ネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が
励起されるのを防止するものであり、例えば、ベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、ア
クリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、
超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μ
m)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μ
m)、超微粒子のタルク、カオリン、炭酸カルシウム等
の白色粉末等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそ
れ以上を使用することができる。上記の組成物におい
て、紫外線吸収剤の含有量としては、その粒子形状、密
度等によって異なるが、約0.1〜20重量%位が好ま
しい。また、上記において、ビヒクルとしての結合剤と
しては、前述の防汚層を構成する光触媒粉末を含む組成
物による塗布膜を形成する際に使用する結合剤を同様に
使用することができる。
In the above, the ultraviolet absorber absorbs harmful ultraviolet rays in sunlight, converts it into harmless heat energy in the molecule, and excites the active species that initiates photodegradation in the polymer. Benzophenone, benzotriazole, saltyl, acrylonitrile, metal complex salt, hindered amine, etc.
Ultrafine titanium oxide (particle size, 0.01-0.06μ
m) or ultrafine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm)
m), one or more of inorganic UV absorbers such as ultrafine talc, kaolin, calcium carbonate and other white powders can be used. In the above composition, the content of the ultraviolet absorber varies depending on the particle shape, density and the like, but is preferably about 0.1 to 20% by weight. In the above description, as the binder as a vehicle, the binder used when forming a coating film of the composition containing the photocatalyst powder constituting the above-described antifouling layer can be similarly used.

【0036】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、より好ましくは、3
50〜600μm位が望ましい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module constituting the solar cell module will be described. The filler layer is transparent because sunlight enters and transmits and absorbs sunlight. It is necessary that the photovoltaic element has an adhesive property with a surface protection sheet, and has a function of maintaining the smoothness of the surface of a solar cell element as a photovoltaic element. Having thermoplasticity for
Further, since the solar cell element as a photovoltaic element is to be protected, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption and the like. Specifically, as the filler layer, for example, a fluororesin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, Acrylic acid, itaconic acid, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene,
Acid-modified polyolene fin resin modified with unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and fumaric acid, polyvinyl butyral
Resin, silicone resin, epoxy resin, (meth)
A mixture of one or more resins such as acrylic resins and other resins can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the above-mentioned filler layer, in a range where the transparency is not impaired, for example, crosslinking is performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and the like can be arbitrarily added and mixed. Therefore, in the present invention, as the filler on the incident side of sunlight, in consideration of light resistance, heat resistance, and weather resistance such as water resistance, a fluororesin or an ethylene-vinyl acetate resin is a desirable material. is there. In addition, the thickness of the above-mentioned filler layer is about 200 to 1000 μm, more preferably about 3 μm.
About 50 to 600 μm is desirable.

【0037】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更には、例えば、薄膜多結晶シリコン太陽電池素子、薄
膜微結晶シリコン太陽電池素子、または、薄膜結晶シリ
コン太陽電子素子とアモルファス太陽電池素子のハイブ
リット素子等を使用することができる。
Next, in the present invention, the solar cell module
A solar cell element as a photovoltaic element constituting a solar cell will be described. As such a solar cell element, a conventionally known one, for example, a crystalline silicon solar cell element, a polycrystalline silicon solar cell element, an amorphous silicon solar cell element , A copper indium selenide solar cell element, a compound semiconductor solar cell element, and the like can be used.
Further, for example, a thin-film polycrystalline silicon solar cell element, a thin-film microcrystalline silicon solar cell element, or a hybrid element of a thin-film crystalline silicon solar electronic element and an amorphous solar cell element can be used.

【0038】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module will be described. The filler layer is the same as the filler layer laminated below the solar cell module surface protection sheet. In addition, it is necessary to have adhesiveness to the backside protection sheet, and further to have thermoplasticity to fulfill the function of maintaining the smoothness of the backside of the solar cell element as a photovoltaic element. In order to protect a solar cell element as a photovoltaic element, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption and the like. However, the filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module is different from the filler layer laminated below the surface protection sheet for the solar cell module. , Surely,
It is not necessary to have transparency. Specifically, as the above-mentioned filler layer, for example, as in the case of the above-described filler layer laminated under the surface protection sheet for a solar cell module, for example, a fluorine-based resin, ethylene-vinyl acetate copolymer may be used. A polyolefin resin such as coalesced, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene or polypropylene can be mixed with acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. One or more resins such as an acid-modified polyolefin resin modified with a saturated carboxylic acid, a polyvinyl butyral resin, a silicone resin, an epoxy resin, a (meth) acrylic resin, and the like. Mixtures can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the above-mentioned filler layer, in a range where the transparency is not impaired, for example, crosslinking is performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and the like can be arbitrarily added and mixed. The thickness of the filler layer is 200 to
About 1000 μm, more preferably 350 to 600 μm
Position is desirable.

【0039】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜20
0μm位、より好ましくは、25〜150μm位が望ま
しい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The backside protective sheet layer constituting the film will be described. As the backside protective sheet, an insulating resin film or sheet can be used, and furthermore, heat resistance, light resistance, and water resistance can be used. It has weather resistance such as, physical or chemical strength, excellent toughness, etc., furthermore, from the protection of the solar cell element as a photovoltaic element, scratch resistance,
It is necessary to be excellent in shock absorption and the like. Specific examples of the backside protection sheet include polyamide resins (various nylons), polyester resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, and the like. Films or sheets of various resins such as an acetal resin, a cellulose resin, a (meth) acrylic resin and others can be used. As the above resin film or sheet, for example, a biaxially stretched resin film or sheet can also be used. In the above resin film or sheet, the film thickness is 12 to 20.
About 0 μm, more preferably about 25 to 150 μm is desirable.

【0040】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
In the present invention, when the solar cell module according to the present invention is manufactured, in order to improve its various strengths such as strength, weather resistance, scratch resistance, etc. Material, for example, low density polyethylene,
Medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic Acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, poly Acrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin , Polyvinyl alcohol tree , Ethylene - saponified vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal - Le resins, polyurethane resins, nitrocellulose -
And any other known resin film or sheet. In the present invention, the above-mentioned film or sheet may be any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from a range of several μm to about 300 μm. Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film or a coating film.

【0041】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その無機酸化物の蒸
着薄膜の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、そ
の他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸
引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等
の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とし
て加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造するこ
とができる。上記において、必要ならば、各層間の接着
性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクル
の主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬
化型接着剤、その他等を使用することができる。
Next, a method of manufacturing a solar cell module using the above-mentioned materials in the present invention will be described. Such a manufacturing method may be a known method, for example, the present invention described above. Using a surface protection sheet for a solar cell module according to the above, with the surface of the inorganic oxide vapor-deposited thin film inside, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, A filler layer, a backside protective sheet layer, etc. are laminated, and if necessary, other materials are laminated arbitrarily between the respective layers. The solar cell module can be manufactured by using a conventional molding method such as a lamination method and forming the above-mentioned layers into an integrally molded body by thermocompression bonding. In the above, if necessary, a heat-melt adhesive containing a resin such as a (meth) acrylic resin, an olefin-based resin, a vinyl-based resin, or the like as a main component of the vehicle, in order to enhance adhesion between the layers, Solvent-based adhesives, photo-curable adhesives, and others can be used.

【0042】[0042]

【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)を使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記のポリフッ化ビニル樹脂フィルムの易
接着処理面に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着
薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 (2).次に、上記で形成した酸化アルミニウムの蒸着
薄膜面に、その蒸着直後に、グロ−放電プラズマ発生装
置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O
2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガ
スを使用し、混合ガス圧6X10-5Toor、処理速度
420m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処
理を行った。 (3).他方、ジメチルジメトキシシラン2重量部とエ
タノ−ル1重量部と0.1規定の塩酸0.2重量部とを
その配合割合で混合して、50℃にて2時間還流した。
得られたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶
液に、メチルトリメトキシシラン25重量部とエタノ−
ル5重量部とポリメチルメタクリレ−ト(PMMA)の
トルエン溶液(20%)20重量部の割合で添加し、室
温にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成物を調整し
た。次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズ
マ処理面に、上記で得られた塗布用の組成物を使用し、
これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚
さ1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。次に、上記で形成したコ−ティン
グ硬化膜面に、0.03μmの酸化チタン超微粒子5重
量部とエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体95重量部
(固形分25%)からなる紫外線吸収剤組成物をグラビ
アロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚0.5g/m2
(乾燥状態)からなる紫外線吸収剤層を形成して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造
した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)の代
わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Example 1 (1). As a base material, a polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) having a thickness of 50 μm is used, which is mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then placed on a coating drum. And then, under the following conditions, using aluminum as a deposition source and supplying oxygen gas,
By a reactive vacuum evaporation method using an electron beam (EB) heating method, an evaporated thin film of aluminum oxide having a thickness of 300 ° was formed on the surface of the above-mentioned polyvinyl fluoride resin film which had been subjected to the easy adhesion treatment. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Minutes (2). Then, immediately after the deposition, the glow discharge plasma generator was used to apply a plasma output of 1500 W and an oxygen gas (O
2 ): Oxygen / argon mixed gas plasma processing was performed using a mixed gas consisting of argon gas (Ar) = 19: 1 at a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Tool and a processing speed of 420 m / min. (3). On the other hand, 2 parts by weight of dimethyldimethoxysilane, 1 part by weight of ethanol and 0.2 part by weight of 0.1N hydrochloric acid were mixed in the mixing ratio, and the mixture was refluxed at 50 ° C. for 2 hours.
25 parts by weight of methyltrimethoxysilane and ethanol were added to the obtained partially hydrolyzed solution of dimethyldimethoxysilane.
Then, 5 parts by weight of toluene and 20 parts by weight of a toluene solution (20%) of polymethyl methacrylate (PMMA) were added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours to prepare a coating composition. Next, on the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide thin film, using the composition for coating obtained above,
This was coated by a gravure roll coating method to form a coating film having a thickness of 1.0 g / m 2 (dry state), and then subjected to a heating treatment at 120 ° C. for 5 minutes. A cured film was formed. Next, an ultraviolet absorbent composition comprising 5 parts by weight of ultrafine titanium oxide particles of 0.03 μm and 95 parts by weight of ethylene-vinyl alcohol copolymer (solid content: 25%) was applied to the surface of the cured coating film formed above. The product is applied by a gravure roll coating method to form a film having a thickness of 0.5 g / m 2.
An (ultra-dry) ultraviolet absorber layer was formed to produce a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the surface of the ultraviolet absorbent layer of the surface protection sheet manufactured as described above, The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements with an acrylic resin adhesive layer facing each other. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) as the base material, a 50 μm-thick fluororesin sheet made of tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETF) was used.
Using E), in the same manner as described above, a similar surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and
The solar cell module could be manufactured.

【0043】実施例2 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、これをプラズマ化学
気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で
厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化
ビニル樹脂フィルムの易接着処理面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記で形成した酸化珪素の蒸着薄膜面
に、その蒸着直後に、出力、10kW、処理速度100
m/minでコロナ放電処理を行って、蒸着薄膜面の表
面張力を35dyneより60dyneに向上させた。 (3).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部の割合で
混合して、50℃にて3時間還流した。得られたテトラ
エトキシシランの部分加水分解物溶液に、ポリメチルメ
タクリレ−ト(PMMA)のトルエン溶液(20%)3
0重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布
用の組成物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜のコロナ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用
し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングし
て、厚さ1.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜
を形成し、次いで、120℃で1分加熱処理してコ−テ
ィング硬化膜を形成した。次に、上記で形成したコ−テ
ィング硬化膜面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤1重
量部と熱硬化型アクリル系樹脂液99重量部(固形分2
5%)からなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ
−ト法を用いて塗布し、膜厚2g/m2 (乾燥状態)の
紫外線吸収剤層を形成して、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)の代
わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Embodiment 2 (1). As a base material, a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm was used, which was mounted on a delivery roll of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a silicon oxide vapor-deposited thin film having a thickness of 300 ° was formed under the following conditions. Was formed on the easily treated surface of the polyvinyl fluoride resin film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.0 × 10 −6 mbar Inside vapor deposition chamber Degree of vacuum: 6.0 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 20 kW Film transport speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, immediately after the deposition, an output of 10 kW and a processing speed of 100
Corona discharge treatment was performed at m / min to increase the surface tension of the vapor-deposited thin film surface from 35 dyne to 60 dyne. (3). Separately, 25 parts by weight of tetraethoxysilane, 10 parts by weight of ethanol and 5 parts by weight of 0.1 N hydrochloric acid were mixed and refluxed at 50 ° C. for 3 hours. A solution of polymethyl methacrylate (PMMA) in toluene (20%) was added to the resulting partially hydrolyzed solution of tetraethoxysilane.
0 parts by weight were added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours to prepare a coating composition. Next, the above coating composition was used on the corona-treated surface of the above-mentioned silicon oxide vapor-deposited thin film, and was coated by a gravure roll coating method to have a thickness of 1.5 g / m2. 2 (dry state) was formed, and then heat-treated at 120 ° C. for 1 minute to form a cured coating film. Next, 1 part by weight of a benzophenone-based ultraviolet absorber and 99 parts by weight of a thermosetting acrylic resin liquid (solid content 2
5%) by applying a gravure roll coating method to form an ultraviolet absorber layer having a thickness of 2 g / m 2 (dry state). -A surface protection sheet for steel was produced. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the surface of the ultraviolet absorbent layer of the surface protection sheet manufactured as described above, The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements with an acrylic resin adhesive layer facing each other. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) as the base material, a 50 μm-thick fluororesin sheet made of tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETF) was used.
Using E), in the same manner as described above, a similar surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and
The solar cell module could be manufactured.

【0044】実施例3 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、上記の実施例2と全
く同様にして、厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、
その易接着処理面形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄
膜面に、コロナ放電処理を行って、蒸着薄膜面の表面張
力を35dyneより60dyneに向上させた。 (2).次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムを使用
し、上記の実施例1と全く同様にして、上記のポリフッ
化ビニル樹脂フィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処
理面に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を
形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラ
ズマ処理を行った。 (3).他方、ジメチルジメトキシシラン5重量部とエ
タノ−ル2.5重量部と0.1規定の塩酸0.5重量部
とをその割合で混合して、50℃にて2時間還流した。
得られたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶
液に、メチルトリメトキシシラン15重量部とエタノ−
ル3重量部と環状ポリオレフィンのシクロヘキサン溶液
(30%)10重量部とを添加し、室温にて更に2時間
攪拌して、塗布用の組成物を調整した。次に、上記の酸
化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記で
得られた塗布用の組成物を使用し、これをグラビアロ
−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ2.0g/m2
(乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、12
0℃で1分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成し
た。次に、上記のコ−ティング硬化膜面に、0.03μ
mの酸化亜鉛超微粒子5重量部とエチレン−ビニルアル
コ−ル共重合体液95重量部(固形分25%)からなる
紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて
塗布し、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)の紫外線吸収
剤層を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)の代
わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Embodiment 3 (1). Using a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm as a base material, a silicon oxide vapor-deposited thin film having a thickness of 300 mm was formed in exactly the same manner as in Example 2 above.
The surface for easy adhesion treatment was formed, and the surface of the thin film of silicon oxide was subjected to a corona discharge treatment to increase the surface tension of the surface of the thin film from 35 dyne to 60 dyne. (2). Next, using a polyvinyl fluoride resin film on which a vapor-deposited silicon oxide thin film subjected to the corona treatment was formed, the silicon oxide vapor deposition of the polyvinyl fluoride resin film was performed in exactly the same manner as in Example 1 above. An aluminum oxide deposited thin film having a thickness of 300 ° was formed on the corona-treated surface of the thin film, and plasma treatment was further performed on the aluminum oxide deposited thin film surface. (3). On the other hand, 5 parts by weight of dimethyldimethoxysilane, 2.5 parts by weight of ethanol and 0.5 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were mixed at the same ratio and refluxed at 50 ° C. for 2 hours.
15 parts by weight of methyltrimethoxysilane and ethanol were added to the resulting partially hydrolyzed solution of dimethyldimethoxysilane.
Then, 3 parts by weight of toluene and 10 parts by weight of a cyclohexane solution of cycloolefin (30%) were added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours to prepare a coating composition. Next, the coating composition obtained above was used for the plasma-treated surface of the aluminum oxide vapor-deposited thin film, and the composition was coated by a gravure roll coating method to a thickness of 2.0 g. / M 2
(Dry state) coating film is formed, and then
Heat treatment was performed at 0 ° C. for 1 minute to form a cured coating film. Next, 0.03 μm is applied to the coating cured film surface.
m of zinc oxide ultrafine particles and 95 parts by weight of ethylene-vinyl alcohol copolymer solution (solid content: 25%) was applied by a gravure roll coating method to form an ultraviolet absorbent composition. An ultraviolet absorber layer of 0.5 g / m 2 (dry state) was formed to produce a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the surface of the ultraviolet absorbent layer of the surface protection sheet manufactured as described above, The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements with an acrylic resin adhesive layer facing each other. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) as the base material, a 50 μm-thick fluororesin sheet made of tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETF) was used.
Using E), in the same manner as described above, a similar surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and
The solar cell module could be manufactured.

【0045】実施例4 (1).上記の実施例1で製造した膜厚300Åの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の実
施例1と全く同様にして、膜厚300Åの酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜を形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸
着薄膜面に、プラズマ処理を行って、2層の酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とをその
割合で混合して、50℃にて3時間還流した。得られた
テトラエトキシシランの部分加水分解物溶液に、フッ素
系アクリル樹脂液(旭硝子株式会社製、商品名、ルミフ
ロン)25重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌し
て、塗布用の組成物を調整した。次に、上記の酸化アル
ミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の塗布用
の組成物をを使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法で
コ−ティングして、厚さ0.5g/m2 (乾燥状態)の
コ−ティング膜を形成し、次いで、120℃で5分間加
熱処理してコ−ティング硬化膜を形成した。 (3).次に、上記で形成したコ−ティング硬化膜面
に、上記の実施例1の(3)と同様にして紫外線吸収剤
層を形成した後、更に、基材としての厚さ50μmのポ
リフッ化ビニル樹脂フィルムの他方の面(最表面)に、
粒径0.03μmの酸化チタン超微粒子10重量部とテ
トラエトキシシラン液90重量部(固形分20%)から
なる光触媒組成物をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗
布し、膜厚1g/m2 (乾燥状態)の防汚層を形成し
て、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トを製造した。更に、上記で製造した表面保護シ−トを
使用し、上記の実施例1と同様にして本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造した。
Embodiment 4 (1). On the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide thin film having a thickness of 300 ° produced in Example 1 above, a deposited aluminum oxide thin film having a thickness of 300 ° was formed in exactly the same manner as in Example 1 above. Plasma deposition was performed on the aluminum thin film deposition surface to form two aluminum oxide thin films. (2). On the other hand, 25 parts by weight of tetraethoxysilane, 10 parts by weight of ethanol and 5 parts by weight of 0.1 N hydrochloric acid were mixed at the same ratio and refluxed at 50 ° C. for 3 hours. To the obtained partial hydrolyzate solution of tetraethoxysilane, 25 parts by weight of a fluorinated acrylic resin solution (trade name, Lumiflon, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. The composition was prepared. Next, the above-mentioned composition for coating was used on the plasma-treated surface of the above-mentioned vapor-deposited thin film of aluminum oxide, and was coated by a gravure roll coating method to have a thickness of 0.5 g / m 2. 2 (dry state) was formed, and then heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film. (3). Next, on the surface of the coating cured film formed above, an ultraviolet absorber layer was formed in the same manner as in (3) of Example 1, and then a 50 μm-thick polyvinyl fluoride as a base material was further formed. On the other surface (outermost surface) of the resin film,
A photocatalyst composition comprising 10 parts by weight of ultrafine titanium oxide particles having a particle size of 0.03 μm and 90 parts by weight of tetraethoxysilane solution (solid content: 20%) is applied by a gravure roll coating method, and the film thickness is 1 g / m 2. 2 A (dry state) antifouling layer is formed to provide a solar cell module surface protection seal according to the present invention.
Manufactured. Further, a solar cell module according to the present invention was manufactured in the same manner as in Example 1 using the surface protection sheet manufactured as described above.

【0046】実施例5 (1).上記の実施例2において製造した酸化珪素の蒸
着薄膜のコロナ処理面に、上記の実施例2と全く同様に
して、更に、膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成
し、次に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処
理を行って、2層の酸化珪素の蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン20重量部と水5
0重量部とエタノ−ル30重量部と0.1規定の塩酸5
重量部とをその割合で混合して、50℃にて3時間還流
した。得られたテトラエトキシシランの部分加水分解物
溶液に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体の水−イ
ソプロピ−ルアルコ−ル溶液(固形分8%)50重量部
を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成
物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のコロ
ナ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用し、これを
グラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ1.
0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次
いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティング硬化
膜を形成した。次いで、上記でコ−ティング硬化膜を形
成した後、基材としての厚さ50μmのポリフッ化ビニ
ル樹脂シ−トの面(最表面、非コ−ティング硬化膜面)
に、上記の実施例2の(3)と同様にして、その紫外線
吸収剤組成物を使用し、紫外線吸収剤層を形成し、更
に、該紫外線吸収材層の上に、粒径0.03μmの酸化
チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシラン液9
0重量部(固形分20%)からなる光触媒組成物をグラ
ビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚1g/m
2 (乾燥状態)の防汚層を形成して、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、
上記で製造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例
2と同様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製
造した。
Embodiment 5 (1). Vaporization of the silicon oxide produced in Example 2 above
On the corona-treated surface of the deposited thin film, exactly the same as in Example 2 above
Then, a silicon oxide deposited thin film having a thickness of 300 mm is formed.
Next, a corona discharge treatment is applied to the surface of the silicon oxide film.
Then, two layers of deposited silicon oxide thin films were formed. (2). On the other hand, 20 parts by weight of tetraethoxysilane and water 5
0 parts by weight, 30 parts by weight of ethanol and 0.1 N hydrochloric acid 5
Parts by weight and the mixture was refluxed at 50 ° C. for 3 hours.
did. Partial hydrolyzate of the obtained tetraethoxysilane
The water-aqueous ethylene-vinyl alcohol copolymer is added to the solution.
50 parts by weight of isopropyl alcohol solution (solid content 8%)
, And further stirred at room temperature for 2 hours to obtain a composition for coating.
I adjusted things. Next, the roller of the above-mentioned silicon oxide deposited thin film
On the treated surface, use the composition for application described above,
Coating by gravure roll coating method, thickness 1.
0 g / mTwo(Dry state) coating film is formed,
Next, heat-treat at 120 ° C for 5 minutes to coat and cure
A film was formed. Next, a cured coating film is formed as described above.
After the formation, a 50 μm thick polyvinyl fluoride
Surface of resin sheet (outermost surface, non-coated cured film surface)
Then, in the same manner as in (3) of Example 2 above,
Using the absorbent composition, forming an ultraviolet absorbent layer,
Then, an oxidized particle having a particle size of 0.03 μm
10 parts by weight of titanium ultra-fine particles and tetraethoxysilane liquid 9
0 parts by weight (solid content: 20%) of a photocatalyst composition
Coating using a via roll coating method, film thickness 1 g / m
Two(Dry state) antifouling layer is formed, and
A surface protection sheet for a solar cell module was manufactured. Furthermore,
Using the surface protection sheet manufactured above,
2. A solar cell module according to the present invention was manufactured in the same manner as in 2.
Built.

【0047】実施例6 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、上記の実施例1と全
く同様にして、厚さ300Åの酸化アルミニウムの蒸着
薄膜を、その易接着処理面形成し、更に、その酸化アル
ミニウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行った。0d
yneに向上させた。次に、上記でプラズマ処理を行っ
た酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成したポリフッ化ビ
ニル樹脂フィルムを使用し、上記の実施例2と全く同様
にして、上記のポリフッ化ビニル樹脂フィルムの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、膜厚300
Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、酸化珪素の蒸
着薄膜面に、コロナ放電処理を行った。 (2).次に、上記で形成した酸化珪素の蒸着薄膜のコ
ロナ処理面に、上記の実施例2と全く同様にして、コ−
ティング硬化膜を形成した。次に、上記で形成したコ−
ティング硬化膜面に、上記の実施例2の(3)と同様に
して紫外線吸収剤層を形成した後、更に、基材としての
厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィルムの他方の
面(最表面)に、粒径0.03μmの酸化チタン超微粒
子10重量部とテトラエトキシシラン液90重量部(固
形分20%)からなる光触媒組成物をグラビアロ−ルコ
−ト法を用いて塗布し、膜厚1g/m 2 (乾燥状態)の
防汚層を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを製造した。更に、上記で製造した表
面保護シ−トを使用し、上記の実施例3と同様にして本
発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
Embodiment 6 (1). 50μm thick polyvinyl fluoride as base material
Using resin film (PVF)
In the same way, depositing aluminum oxide with a thickness of 300mm
A thin film is formed on the surface for easy adhesion treatment, and
Plasma treatment was performed on the surface of the deposited thin film of minium. 0d
yne. Next, plasma treatment is performed as described above.
Polyfluorinated Aluminum Oxide Deposited Thin Film
Exactly the same as in Example 2 above, using a vinyl resin film
The above-mentioned oxidation of the polyvinyl fluoride resin film
On the plasma treated surface of the deposited thin film of luminium, a film thickness of 300
蒸 着 A silicon oxide vapor deposition thin film is formed.
Corona discharge treatment was performed on the deposited thin film surface. (2). Next, the core of the deposited silicon oxide thin film formed above was used.
In the same manner as in Example 2 above,
A hardened film was formed. Next, the core formed above
In the same manner as in (3) of Example 2 above,
After forming an ultraviolet absorber layer, and further as a substrate
The other side of the 50 μm thick polyvinyl fluoride resin film
Ultrafine titanium oxide particles with a particle size of 0.03 μm on the surface (outermost surface)
10 parts by weight of the polymer and 90 parts by weight of the tetraethoxysilane solution (solid
(Photoform composition 20%)
-Using a coating method, and a film thickness of 1 g / m Two(Dry)
A solar cell module according to the present invention having an antifouling layer formed thereon
A surface protection sheet for use was manufactured. In addition, the table produced above
Using a surface protection sheet, similar to the third embodiment,
A solar cell module according to the invention was manufactured.

【0048】比較例1 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、これを表面保護シ−トとし、
その片面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素
子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池
素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して
積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
Comparative Example 1 A 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) was used as a substrate, and this was used as a surface protection sheet.
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on one surface thereof, and an adhesive layer of an acrylic resin with the solar cell element surfaces facing each other. To produce a solar cell module.

【0049】比較例2 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、上記の実施例1と全く同様に
して、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形
成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズ
マ処理を行って、表面保護シ−トを製造した。次いで、
上記のプラズマ処理面に、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、
その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着
剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造し
た。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 Using a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm as a substrate, a vapor-deposited thin film of aluminum oxide having a thickness of 300 ° was formed in the same manner as in Example 1 described above. Further, the surface of the deposited thin film of aluminum oxide was subjected to plasma treatment to produce a surface protection sheet. Then
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the plasma-treated surface,
The photovoltaic module was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements so as to face each other with an adhesive layer of an acrylic resin interposed therebetween.

【0050】比較例3 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、上記の実施例2と全く同様に
して、厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、その易接
着処理面形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、
コロナ放電処理を行って、表面保護シ−トを製造した。
次いで、上記のコロナ処理面に、アモルファスシリコン
からなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光
面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを
製造した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 A 50 μm thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) was used as a base material. Adhesion processing surface formed, further, on the silicon oxide deposited thin film surface,
A corona discharge treatment was performed to produce a surface protection sheet.
Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the corona-treated surface, with the solar cell element surfaces facing each other, The solar cell module was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【0051】実験例 上記の実施例1〜6で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜6
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜3で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 (1).全光線透過率の測定これは、基材フィルムを基
準とし、実施例1〜6で製造した本発明にかかる表面保
護シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについ
てカラ−コンピュ−タ−を使用して全光線透過率(%)
を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験これは、JIS規
格C8917−1989に基づいて、太陽電池モジュ−
ルの環境試験を行い、試験前後の光起電力の出力を測定
して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定水蒸気透過度
は、実施例1〜6で製造した本発明にかかる表面保護シ
−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについて、
温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン
(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン
(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、酸素透過
度は、上記と同様の対象物について、温度23℃、湿度
90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製
の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN)〕に
て測定した。上記の測定結果について下記の表1に示
す。
Experimental Example The total light transmittance of the surface protective sheets according to the present invention produced in Examples 1 to 6 and the surface protective sheets according to Comparative Examples 1 to 3 was measured. Examples 1 to 6
A solar cell module evaluation test was conducted for the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1 to 3 and the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1 to 3. (1). Measurement of Total Light Transmittance This is based on the base film and the color protection of the surface protection sheets according to the present invention manufactured in Examples 1 to 6 and the surface protection sheets according to Comparative Examples 1 to 3. Total light transmittance (%) using-
Was measured. (2). Solar cell module evaluation test This is based on JIS standard C8917-1989.
Of the photovoltaic power before and after the test, and compared and evaluated. (3). Measurement of Water Vapor Permeability and Oxygen Permeability The water vapor permeability was measured for the surface protection sheets according to the present invention manufactured in Examples 1 to 6 and the surface protection sheets according to Comparative Examples 1 to 3.
Measured with a measuring device (model name, PERMATRAN) manufactured by MOCON, USA, under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH. The object was measured at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH using a measuring device (model name, OXTRAN) manufactured by MOCON, USA. The results of the above measurements are shown in Table 1 below.

【0052】 上記の表1において、水蒸気透過度は、〔g/m2 /d
ay・40℃・100%RH〕の単位であり、また、酸
素透過度は、〔cc/m2 /day・23℃・90%R
H〕の単位である。
[0052] In Table 1 above, the water vapor permeability is [g / m 2 / d
ay.40 ° C. · 100% RH], and the oxygen permeability is [cc / m 2 / day · 23 ° C. · 90% RH].
H].

【0053】上記の表1に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例1〜6にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水蒸気バリ
ア性、酸素バリア性に優れていた。また、実施例1〜6
にかかる表面保護シ−トを使用した太陽電池モジュ−ル
は、その出力低下率も低いものであった。これに対し、
比較例1にかかる表面保護シ−トは、全光線透過率が高
いものの、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低く、その
ため、これを使用した太陽電池モジュ−ルは、出力低下
率が高い等の問題点があった。更に、比較例2、3にか
かる表面保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水
蒸気バリア性、酸素バリア性に優れ、更に、出力低下率
も低いものであったが、実施例1〜6のそれらと比較す
ると、水蒸気バリア性、酸素バリア性において若干劣
り、出力低下率も若干高めであった。
As is evident from the measurement results shown in Table 1 above, the surface protection sheets for solar cell modules according to Examples 1 to 6 have high total light transmittance, high water vapor barrier properties, It had excellent oxygen barrier properties. Examples 1 to 6
The solar cell module using the surface protection sheet according to (1) also has a low output reduction rate. In contrast,
Although the surface protection sheet according to Comparative Example 1 has a high total light transmittance, it has low water vapor barrier properties and oxygen barrier properties. Therefore, a solar cell module using the same has a high output reduction rate. There was a problem. Furthermore, the surface protection sheets according to Comparative Examples 2 and 3 had high total light transmittance, excellent water vapor barrier properties and oxygen barrier properties, and had low output reduction rates. As compared with those of Examples 1 to 6, the water vapor barrier property and the oxygen barrier property were slightly inferior, and the output reduction rate was slightly higher.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸
収剤等に着目し、まず、フッ素系樹脂シ−トを基材シ−
トとして使用し、その片面に、酸化珪素、あるいは、酸
化アルミニウム等の透明な、ガラス質からなる無機酸化
物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加水
分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
ング膜を設け、更にまた、上記で無機酸化物の蒸着薄膜
とコ−ティング膜とを設けたフッ素系樹脂シ−トのいず
れかの一方の面または両面に、防汚層および/または紫
外線吸収剤層を設けて太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、そのコ−
ティング膜側に、充填剤層、光起電力素子としての太陽
電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等を順
次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池モジ
ュ−ルを製造して、水分、酸素等の侵入を防止する防湿
性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等
の諸堅牢性についても、その長期的な性能劣化を最小限
に抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性、耐擦傷性等
に優れた、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルを製造し得ることができるというものである。
As is apparent from the above description, the present invention
Focusing on the properties of the glass plate used as the surface protection sheet layer constituting the solar cell module, the photocatalyst powder, the ultraviolet absorber, etc., first, a fluororesin sheet is used as the base sheet.
Used on one side, a silicon oxide, or a transparent, glassy inorganic oxide vapor-deposited thin film such as aluminum oxide is provided, and a metal alkoxide compound is further formed on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. And / or a fluorine-containing resin sheet provided with a coating film made of a composition containing a hydrolyzate thereof as a main component of a vehicle, and further provided with a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide and a coating film as described above. A surface protection sheet for a solar cell module is manufactured by providing an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer on one or both surfaces of the above, and this is used as a surface protection sheet layer. Co
A filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protection sheet layer, and the like are sequentially laminated on the side of the coating film, and then these are integrally vacuum-heated and heated. A solar cell module is manufactured by using a lamination method for pressure bonding, etc., and the moisture-proof property for preventing intrusion of moisture, oxygen, etc. is remarkably improved, and various properties such as light resistance, heat resistance, water resistance, etc. In terms of robustness, it is a low cost and safe surface for solar cell modules that minimizes long-term performance deterioration, has excellent protection ability, and is also excellent in antifouling and scratch resistance. Protection sheet and solar cell module using the same
Can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図4】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図5】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図6】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 6 shows a solar cell module manufactured using the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically illustrating a layer configuration of an example of the structure.

【図7】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a take-up type vacuum evaporation apparatus showing an outline of a method for forming a deposited thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method.

【図8】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A1 〜A4 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト 1 フッ素系樹脂シ−ト 2 無機酸化物の蒸着薄膜 2a 無機酸化物の蒸着薄膜 2b 無機酸化物の蒸着薄膜 3 コ−ティング膜 4 防汚層 5 紫外線吸収剤層 6 多層膜 6a 多層膜 T 太陽電池モジュ−ル 11 充填剤層 12 太陽電池素子 13 充填剤層 14 裏面保護シ−トA solar cell module - le for surface protective sheet - DOO A 1 to A 4 solar cell module - le for surface protective sheet - sheet 1 fluororesin sheet - DOO 2 deposition film 2b of the inorganic oxide vapor deposition film 2a inorganic oxides Inorganic oxide deposited thin film 3 Coating film 4 Antifouling layer 5 UV absorber layer 6 Multilayer film 6a Multilayer film T Solar cell module 11 Filler layer 12 Solar cell element 13 Filler layer 14 Backside protection sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5F051 BA18 EA01 EA18 HA20 JA05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Katsutoshi Konno 1-chome, Ichigaya-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. F-term (reference) 5F051 BA18 EA01 EA18 HA20 JA05

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸化
物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加水
分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
ング膜を設け、更にまた、該無機酸化物の蒸着薄膜とコ
−ティング膜とを設けたフッ素系樹脂シ−トのいずれか
の一方の面または両面に、防汚層および/または紫外線
吸収剤層を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト。
1. An inorganic oxide vapor-deposited thin film is provided on one side of a fluororesin sheet, and a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof is added to a vehicle on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. A coating film of a composition as a main component is provided, and further, on one or both surfaces of a fluorine-based resin sheet provided with a vapor-deposited thin film of the inorganic oxide and a coating film, A surface protection sheet for a solar cell module, comprising an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer.
【請求項2】 防汚層が、フッ素系樹脂シ−ト面に設け
られ、他方、紫外線吸収剤層が、コ−ティング膜面に設
けられ、該防汚層が、最表面を構成することを特徴とす
る上記の請求項1に記載する太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−ト。
2. An antifouling layer is provided on a fluororesin sheet surface, while an ultraviolet absorber layer is provided on a coating film surface, and the antifouling layer constitutes the outermost surface. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, characterized in that:
【請求項3】 防汚層と紫外線吸収剤層が、フッ素系樹
脂シ−ト面に設けられ、該防汚層が、最表面を構成する
ことを特徴とする上記の請求項1に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−ト。
3. An antifouling layer and an ultraviolet absorber layer are provided on a fluororesin sheet surface, and the antifouling layer constitutes the outermost surface. Surface protection sheet for solar cell module.
【請求項4】 フッ素系樹脂シ−トが、可視光透過率が
90%以上である透明フッ素系樹脂シ−トからなること
を特徴とする上記の請求項1〜3に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−ト。
4. The solar cell module according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is a transparent fluororesin sheet having a visible light transmittance of 90% or more. -Surface protection sheet for steel.
【請求項5】 フッ素系樹脂シ−トが、フッ化ビニル系
樹脂、または、エチレン−テトラフルオロエチレンコポ
リマ−からなる透明フッ素系樹脂シ−トであることを特
徴とする上記の請求項1〜4に記載する太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−ト。
5. A sheet according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is a vinyl fluoride resin or a transparent fluororesin sheet made of ethylene-tetrafluoroethylene copolymer. 4. A surface protection sheet for a solar cell module according to item 4.
【請求項6】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜5に
記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
6. The method according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film is formed of one or more multilayer films of the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by physical vapor deposition. A surface protection sheet for a solar cell module to be described.
【請求項7】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜5に
記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
7. The method according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film comprises one or more multilayer films of the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by chemical vapor deposition. A surface protection sheet for a solar cell module to be described.
【請求項8】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法および化学気相成長法による2層以上の多層膜からな
ることを特徴とする上記の請求項1〜5に記載する太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
8. The solar cell according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film is composed of two or more multilayer films formed by physical vapor deposition and chemical vapor deposition. Surface protection sheet for modules.
【請求項9】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機酸
化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化
物の蒸着薄膜を設けた2層以上の多層膜からなることを
特徴とする上記の請求項8に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。
9. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, wherein a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided by a chemical vapor deposition method, and then the inorganic oxide is deposited on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide by a physical vapor deposition method. 9. The solar cell module according to claim 8, comprising a multilayer film of two or more layers provided with a deposited thin film of an object.
Surface protection sheet for
【請求項10】 組成物が、樹脂成分を含むことを特徴
とする上記の請求項1〜9に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。
10. The solar cell module according to claim 1, wherein the composition contains a resin component.
Surface protection sheet for
【請求項11】 樹脂成分が、水溶性ないし親水性樹脂
からなることを特徴とする上記の請求項1〜10に記載
する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
11. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the resin component comprises a water-soluble or hydrophilic resin.
【請求項12】 組成物が、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物の硬化触媒を含むことを特
徴とする上記の請求項1〜11に記載する太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−ト。
12. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the composition comprises a curing catalyst for a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof. .
【請求項13】 組成物が、無機酸化物微粒子を含むこ
とを特徴とする上記の請求項1〜12に記載する太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
13. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the composition contains inorganic oxide fine particles.
【請求項14】 組成物が、架橋剤を含むことを特徴と
する上記の請求項1〜13に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。
14. The solar cell module according to claim 1, wherein the composition contains a crosslinking agent.
Surface protection sheet for
【請求項15】 防汚層が、酸化チタンを主成分とする
光触媒粉末、若しくはゾルに含まれる微粒子からなる組
成物による塗布膜からなることを特徴とする上記の請求
項1〜14に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−ト。
15. The antifouling layer according to claim 1, wherein the antifouling layer comprises a coating film of a photocatalyst powder containing titanium oxide as a main component or a composition comprising fine particles contained in a sol. Surface protection sheet for solar cell module.
【請求項16】 紫外線吸収剤層が、紫外線吸収剤を含
む組成物による塗布膜からなることを特徴とする上記の
請求項1〜15に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−ト。
16. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the ultraviolet absorbent layer comprises a coating film of a composition containing the ultraviolet absorbent.
【請求項17】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸
化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜
の上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加
水分解物をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によるコ
−ティング膜を設け、更にまた、該無機酸化物の蒸着薄
膜とコ−ティング膜とを設けたフッ素系樹脂シ−トのい
ずれかの一方の面または両面に、防汚層および/または
紫外線吸収剤層を設けた太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トの無機酸化物の蒸着薄膜側に、充填剤層、光起電
力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面
保護シ−ト層を順次に積層し、これらを真空吸引して加
熱圧着ラミネ−ション法等により一体成形体としたこと
を特徴とする太陽電池モュジュ−ル。
17. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided on one side of a fluorine-based resin sheet, and a metal alkoxide compound and / or a hydrolyzate thereof is added to a vehicle on the vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. A coating film made of a resin composition as a main component is provided, and further, on one or both surfaces of a fluorine-based resin sheet provided with a vapor-deposited thin film of the inorganic oxide and a coating film. A filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, and a filler, on the inorganic oxide deposited thin film side of the surface protection sheet for a solar cell module provided with an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer. A solar cell module, comprising: an agent layer and a backside protective sheet layer sequentially laminated, and vacuum-suctioning these layers to form an integrally formed body by a heat-compression lamination method or the like.
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