JP2000124486A - Surface protective sheet for solar battery module and solar battery module using it - Google Patents

Surface protective sheet for solar battery module and solar battery module using it

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JP2000124486A
JP2000124486A JP10290579A JP29057998A JP2000124486A JP 2000124486 A JP2000124486 A JP 2000124486A JP 10290579 A JP10290579 A JP 10290579A JP 29057998 A JP29057998 A JP 29057998A JP 2000124486 A JP2000124486 A JP 2000124486A
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solar cell
thin film
sheet
cell module
inorganic oxide
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Yasushi Yamada
泰 山田
Yasuki Suzuura
泰樹 鈴浦
Hiroshi Yamamoto
浩 山本
Katsutoshi Konno
克俊 今野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the moisture resistance of a surface protective film so as to minimize the long-term performance deterioration of various fastness properties, such as the light resistance, etc., of the sheet and to reduce the cost of the sheet, by successively laminating a filler layer, a solar battery element, another filler layer, a rear-surface protective sheet layer, etc., upon the surface a surface protective sheet layer carrying a vapor-deposited thin film. SOLUTION: A surface protective sheet A for solar battery module is provided with a vapor-deposited thin film 2 of an organic oxide on one surface of a fluororesin sheet, and a coating film 3 having a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as the main component of its vehicle on the thin film 2. A solar battery module T is manufactured by laminating a filler layer 11, a solar battery element 12 which works as a photovoltaic element, another filler layer 13, a rear-surface protective sheet layer 14, etc., upon the coating film 3 and uniting the laminated layers into one molded body by utilizing an ordinary molding method, such as the lamination method, etc., in which the layers are sucked by vacuum and thermocompression bonded to each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。
The present invention relates to a solar cell module.
More specifically, the present invention relates to a surface protection sheet for solar cells and a solar cell module using the same, and more specifically, a solar cell module excellent in light resistance, heat resistance, water resistance, moisture resistance, stain resistance, etc. and having extremely high protection ability. And a solar cell module using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。ところで、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表
面保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一
般的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等
の樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進めら
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to solar cells as a clean energy source due to increasing awareness of environmental issues. Currently, solar cell modules of various forms have been developed and proposed. . Thus, the above-mentioned solar cell module usually includes a surface protection sheet layer, a filler layer,
It is manufactured by laminating a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protective sheet layer, and the like in that order, vacuum-sucking and heat-compressing, for example, using a lamination method. By the way, a glass plate or the like is currently most commonly used as a surface protection sheet layer constituting the above-mentioned solar cell module, and recently, a resin sheet such as a fluorine-based resin sheet has been recently used. Is also attracting attention, and its development is proceeding rapidly.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、太陽光が入射し、これを透過し、吸収する透過、吸
収性に富むと共に耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性
に優れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に
優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ
等の蓄積を防止し、その保護能力性が高いこと、その他
等の条件が挙げられるものである。しかしながら、太陽
電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、現
在、最も一般的に使用されているガラス板等は、太陽光
の透過、吸収性に優れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性
等の諸堅牢性に優れ、また、防湿性にも優れ、更に、表
面硬度が硬く、その保護能力性が高い等の利点を有する
が、可塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更に、その加
工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けると
いう問題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを
構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等の樹
脂シ−トを使用する場合には、ガラス板等と比較して、
可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に富むもので
はあるが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に劣
り、特に、防湿性等に欠けるという問題点がある。そこ
で本発明は、太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ
−ト層として、フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水
分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、
更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性について
も、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性
に優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構
成する表面保護シ−トを安定的に提供することである。
By the way, a solar cell generally absorbs sunlight and generates photovoltaic power.
As the surface protection sheet layer constituting the solar cell module, sunlight is incident, transmits and absorbs the sunlight, and is rich in transmission and absorptivity, and also has various robustness such as light resistance, heat resistance, water resistance and the like. It has excellent moisture resistance to prevent moisture and oxygen from entering, and has high surface hardness and prevents accumulation of dirt and dust on the surface, and has high protection ability. The conditions are as follows. However, a glass plate or the like which is currently most commonly used as a surface protection sheet layer constituting a solar cell module is excellent in sunlight transmission and absorption, light resistance and heat resistance. It has the advantages of excellent water-resistance and other robustness, and also has excellent moisture-proof properties, and has the advantage of having a high surface hardness and a high protective ability, but lacks plasticity, impact resistance, weight reduction, etc. Further, there is a problem that the workability and the workability are inferior, and the cost is not reduced. When a resin sheet such as a fluororesin is used as the surface protection sheet layer constituting the solar cell module, compared with a glass plate or the like,
Although it is rich in plasticity, impact resistance, weight reduction, cost reduction, etc., it is inferior in various fastnesses such as light resistance, heat resistance, water resistance and the like, and in particular, lacks moisture resistance. Thus, the present invention uses a fluorine-based resin sheet as a surface protection sheet layer constituting a solar cell module, but also significantly improves moisture-proof properties for preventing intrusion of moisture, oxygen, and the like,
Furthermore, with respect to various fastnesses such as light resistance, heat resistance, and water resistance, a long-term performance deterioration is minimized, and a protective solar cell module having excellent protection ability is provided at a lower cost. The purpose is to stably provide a surface protection sheet.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性に着目し、まず、フッ素系樹脂シ−
トを基材シ−トとして使用し、その片面に、酸化珪素、
あるいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質から
なる無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物
の蒸着薄膜の上に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によるコ−ティ
ング膜を設けて太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを
製造し、これを表面保護シ−ト層とし、その無機酸化物
の蒸着薄膜面を内側にし、充填剤層、光起電力素子とし
ての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト
層等を順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸
引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽
電池モジュ−ルを製造したところ、特に、水分、酸素等
の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光
性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期
的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、より
低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト
およびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを製造し得る
ことを見出して本発明を完成したものである。
The inventor of the present invention has conducted various studies to solve the problems with respect to the surface protective sheet layer constituting the solar cell module as described above. Focusing on the characteristics of the glass plate used as the surface protection sheet layer constituting
Sheet is used as a base sheet, and silicon oxide,
Alternatively, a transparent, glassy inorganic oxide vapor-deposited thin film such as aluminum oxide is provided, and further, on the vapor-deposited inorganic oxide thin film, an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of the vehicle. A coating film made of a resin composition is provided to produce a surface protection sheet for a solar cell module, and this is used as a surface protection sheet layer, with the inorganic oxide vapor-deposited thin film surface inside, and a filler. A layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protective sheet layer, and the like are sequentially laminated, and then, a vacuum suction method, a vacuum suction method, and a thermocompression bonding method are performed. When the solar cell module was manufactured using, especially, the moisture resistance to prevent the invasion of moisture, oxygen, etc. was remarkably improved, and further, the light fastness, heat resistance, and various robustness such as water resistance, Minimize long-term performance degradation The present invention has been completed by finding that a surface protection sheet for a solar cell module which is excellent in protection ability, is lower in cost, and is safer, and a solar cell module using the same can be manufactured. Things.

【0005】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂シ−ト
の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機
酸化物の蒸着薄膜の上に、エチレン−ビニルアルコ−ル
共重合体をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によるコ
−ティング膜を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モ
ジュ−ルに関するものである。
That is, according to the present invention, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided on one surface of a fluororesin sheet, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer is further coated on the vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. The present invention relates to a surface protection sheet for a solar cell module, which is provided with a coating film made of a resin composition containing a main component of a vehicle, and a solar cell module using the same.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて
更に具体的に説明すると、図1、図2および図3は、本
発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの層
構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
り、図4は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジ
ュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面
図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below with reference to the drawings. The layer structure of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the solar cell module using the same will be described more specifically with reference to the drawings and the like. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating a few examples of the layer configuration of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a solar cell module manufactured using a surface protection sheet for a solar cell.

【0007】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トAは、図1に示すように、フッ素系樹
脂シ−ト1の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を設け、
更に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の上に、エチレン−ビ
ニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分とする樹脂
組成物によるコ−ティング膜3を設けた構成からなるこ
とを基本構造とするものである。而して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、別の
例を例示すると、図2に示すように、フッ素系樹脂シ−
ト1の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を少なくとも2
層以上設けた多層膜4を構成し、更に、該多層膜4を構
成する無機酸化物の蒸着薄膜2の上に、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物によるコ−ティング膜3を設けた構成からなる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トA1 を挙げることがで
きる。更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トについて、他の例を例示すると、図3に示す
ように、フッ素系樹脂シ−ト1の片面に、まず、化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2aを設け、次い
で、該無機酸化物の蒸着薄膜2aの上に、物理気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜2bを設けて無機酸化物
の蒸着薄膜2a、2bからなる2層以上の多層膜4aを
構成し、更に、該多層膜4aを構成する無機酸化物の蒸
着薄膜2bの上に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によるコ−ティ
ング膜3を設けた構成からなる太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トA2 を挙げることができる。次に、本発明
において、上記の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ル
についてその一例を例示すると、上記の図1に示す本発
明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トAを使
用した例で説明すると、図4に示すように、上記の図1
に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トAに、そのコ−ティング膜3の面を内側にし、順次
に、充填剤層11、光起電力素子としての太陽電池素子
12、充填剤層13、および、裏面保護シ−ト層14等
を積層し、次いで、これらを一体として、真空吸引して
加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用
し、上記の各層を一体成形体として太陽電池モジュ−ル
Tを製造することができる。上記の例示は、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを
使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてその一例
を例示するものであり、本発明はこれにより限定される
ものではない。例えば、図示しないが、上記の太陽電池
モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収性、補強、その他
等の目的のもとに、更に、他の層を任意に加えて積層す
ることができるものである。
First, as shown in FIG. 1, a surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention is provided with an inorganic oxide vapor-deposited thin film 2 on one surface of a fluororesin sheet 1. ,
Further, the basic structure is such that a coating film 3 of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle is provided on the inorganic oxide deposited thin film 2. Things. As another example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. 2, as shown in FIG.
At least one of the inorganic oxide deposited thin films 2
A multilayer film 4 having at least two layers is formed, and a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle is further formed on the inorganic oxide vapor-deposited thin film 2 constituting the multilayer film 4. co - coating film solar cell module comprising 3 structure in which a - can be exemplified bets a 1 - le for surface protection sheet. Further, as another example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. 3, first, a chemical vapor deposition is performed on one surface of a fluorine-based resin sheet 1. A vapor-deposited thin film 2a of an inorganic oxide is provided by a method, and then a vapor-deposited thin film 2a of an inorganic oxide is provided on the vapor-deposited thin film 2a of the inorganic oxide by depositing a vapor-deposited thin film 2b of an inorganic oxide on the vapor-deposited inorganic oxide thin film 2a. 2b comprising a multilayer film 4a comprising two or more layers, and a resin containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle on the inorganic oxide deposited thin film 2b constituting the multilayer film 4a. with compositions co - coating film solar cell module comprising 3 structure in which a - le surface protective sheet - can be exemplified bets a 2. Next, in the present invention, an example of a solar cell module manufactured by using the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention will be described. In the example using the surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG.
In the surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention, the surface of the coating film 3 is inward, a filler layer 11 and a solar cell element 12 as a photovoltaic element in this order. , A filler layer 13, a back protective sheet layer 14 and the like are laminated, and then they are integrally formed using a normal molding method such as a lamination method in which vacuum suction is performed and thermocompression bonding is performed. The solar cell module T can be manufactured by using each layer as an integrated body. The above examples are only examples of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and a solar cell module manufactured using the same, and the present invention is not limited thereto. Not something. For example, although not shown, in the above-described solar cell module, another layer can be arbitrarily added and laminated for the purpose of absorbing sunlight, reinforcing, and the like. is there.

【0008】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂シ−トとしては、例えば、ポリ
テトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロ
エチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共
重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂(PF
A)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピ
レンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチレンと
ペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオロエチ
レンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ET
FE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCT
FE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコ
ポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系樹脂(P
VDF)、または、フッ化ビニル系樹脂(PVF)から
なる透明性を有するフッ素系樹脂のフィルムないしシ−
トを使用することができる。なお、本発明において、上
記のフッ素系樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、フ
ッ化ビニル系樹脂(PVF)、または、テトラフルオロ
エチレンとエチレン若しくはプロピレンとのコポリマ−
(ETFE)からなるフッ素系樹脂シ−トが、透明性を
有し、太陽光の透過、吸収性等の観点から特に好ましい
ものである。而して、本発明において、上記のようなフ
ッ素系樹脂シ−トを使用することにより、該フッ素系樹
脂シ−トが有する優れた特性、特に、機械的特性、耐熱
性、光学特性等,更に、耐光性、耐熱性、耐水性、その
他等の超耐候性、耐汚染性、耐薬品性等の諸特性を利用
して太陽電池を構成する表面保護シ−トとするものであ
り、これにより、従来のガラス板等と同等の光学特性、
耐久性を有し、また、そのフレキシブル性や機械的特性
等からガラス板よりも軽く、かつ、加工性等に優れ、そ
のハンドリングし易い等の利点を有するものである。
Next, in the present invention, the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, the material constituting the solar cell module using the same, the manufacturing method, and the like will be described in more detail. Examples of the fluorine resin sheet constituting the surface protection sheet for a solar cell module, the solar cell module and the like according to the present invention include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene and perfluoroethylene. Perfluoroalkoxy resin (PF) consisting of a copolymer with alkyl vinyl ether
A), tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene and perfluoroalkylvinyl ether and hexafluoropropylene copolymer (EPE), copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ET
FE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCT)
FE), a copolymer of ethylene and chlorotrifluoroethylene (ECTFE), a vinylidene fluoride resin (P
VDF) or a transparent fluororesin film or sheet made of vinyl fluoride resin (PVF)
Can be used. In the present invention, among the above-mentioned fluororesin films or sheets, a vinyl fluoride resin (PVF) or a copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene is used.
A fluororesin sheet made of (ETFE) has transparency, and is particularly preferable from the viewpoints of sunlight transmission and absorption. Thus, in the present invention, by using the above-mentioned fluorine-based resin sheet, the excellent properties of the fluorine-based resin sheet, particularly, mechanical properties, heat resistance, optical properties, etc. Furthermore, the surface protection sheet for a solar cell is formed by utilizing various properties such as light resistance, heat resistance, water resistance, etc., such as super weather resistance, contamination resistance, and chemical resistance. With the same optical characteristics as a conventional glass plate,
It has durability, is lighter than a glass plate due to its flexibility, mechanical properties, and the like, has excellent workability, and has advantages such as easy handling.

【0009】ところで、本発明において、上記のフッ素
系樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記
のフッ素系樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押し出
し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−
ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記のフッ素
系樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の
フッ素系樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方
法、更には、2種以上のフッ素系樹脂を使用し、製膜化
する前に混合して製膜化する方法等により、フッ素系樹
脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、
例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等
を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなるフッ素系
樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、フッ素系樹脂シ−トの膜厚としては、
12〜200μm位、より好ましくは、25〜150μ
m位が望ましい。また、本発明において、フッ素系樹脂
シ−トとしては、可視光透過率が、90%以上、好まし
くは、95%以上であって、入射する太陽光を全て透過
し、これを吸収する性質を有することが望ましいもので
ある。なお、上記において、フッ素系樹脂の製膜化に際
して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機
械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難
燃性、抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質す
る目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加
することができ、その添加量としては、極く微量から数
十%まで、その目的に応じて、任意に添加することがで
きる。また、上記において、一般的な添加剤としては、
例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光
安定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃
剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用
することができ、更には、改質用樹脂等も使用すること
がてきる。本発明においては、上記の添加剤の中でも、
特に、酸化防止剤、あるいは、紫外線吸収剤等を練れ込
み加工してなるフッ素系樹脂シ−トを使用することが望
ましいものである。
In the present invention, as the above-mentioned fluororesin film or sheet, for example, one or more of the above-mentioned fluororesins is used, and the extrusion method, cast molding method, T-die method is used. , Cutting method, inflation
A method of forming a film of the above-mentioned fluororesin alone, or a method of forming a multi-layer co-extrusion film using two or more kinds of fluororesins, Furthermore, by using two or more kinds of fluorine-based resins, a method of mixing and forming a film before forming a film to produce a film or sheet of a fluorine-based resin, and further, if necessary,
For example, a fluororesin film or sheet stretched in a uniaxial or biaxial direction using a tenter method or a tuber method can be used.
In the present invention, the thickness of the fluororesin sheet is
About 12 to 200 μm, more preferably 25 to 150 μm
The m position is desirable. In the present invention, the fluororesin sheet has a visible light transmittance of 90% or more, preferably 95% or more, and has a property of transmitting all incident sunlight and absorbing it. It is desirable to have. In the above, at the time of film formation of the fluororesin, for example, processability of the film, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, sliding properties, mold release properties, flame retardancy, Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving or modifying the antifungal property, electric properties, etc., and the amount of addition can be from a very small amount to several tens%. They can be arbitrarily added according to the purpose. In the above, as a general additive,
For example, lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, reinforcing agents, antistatic agents, flame retardants, flame retardants, foaming agents, antifungal agents, pigments, etc. It can be used, and furthermore, a modifying resin or the like can be used. In the present invention, among the above additives,
In particular, it is desirable to use a fluororesin sheet obtained by kneading an antioxidant or an ultraviolet absorber.

【0010】また、本発明において、フッ素系樹脂シ−
トの表面は、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、
オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温
プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処
理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施すことが
できる。上記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する前に別工程で実施してもよく、また、例えば、
低温プラズマ処理やグロ−放電処理等による表面処理の
場合は、上記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理
としてインライン処理により前処理で行うことができ、
このような場合は、その製造コストを低減することがで
きるという利点がある。上記の表面前処理は、フッ素系
樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善す
るための方法として実施するものであるが、上記の密着
性を改善する方法として、その他、例えば、フッ素系樹
脂シ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アン
ダ−コ−ト剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等
を任意に形成することもできる。上記の前処理のコ−ト
剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物を使用することができる。また、上記において、コ
−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、
あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−
ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、
その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることができ、そ
のコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ−トの製膜後、
あるいは、2軸延伸処理後の後工程として、あるいは、
製膜、あるいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実
施することができる。
[0010] In the present invention, the fluorine-based resin
If necessary, the surface of the substrate, for example, corona discharge treatment,
Pretreatment such as ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or the like, and the like can be arbitrarily performed. The surface pretreatment may be performed in a separate step before forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide.
In the case of a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow discharge treatment, the surface treatment can be performed by in-line treatment as a pre-treatment for forming a vapor-deposited thin film of the above inorganic oxide,
In such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced. The above-mentioned surface pretreatment is performed as a method for improving the adhesion between the fluorine-based resin sheet and the deposited thin film of the inorganic oxide. For example, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, a vapor-deposited anchor coat agent layer, or the like can be arbitrarily formed in advance on the surface of the fluororesin sheet. As the coating agent layer for the above pretreatment, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, as a method of forming the coating agent layer, for example, a solvent type, an aqueous type,
Alternatively, using a coating agent such as an emulsion type,
Rucote method, gravure roll method, kiss coat method,
The coating can be performed by using a coating method such as other methods, and the coating is performed after the film formation of the fluororesin sheet.
Alternatively, as a post-process after biaxial stretching, or
It can be carried out by film formation or in-line processing such as biaxial stretching.

【0011】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層あるい
は2層以上の多層膜を形成して、製造することができる
ものである。上記の物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティ
ング法等の物理気相成長法(Physical Vap
or Deposition法、PVD法)を用いて無
機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発明に
おいて、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを
加熱してフッ素系樹脂シ−トの上に蒸着する真空蒸着
法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用
し、酸素を導入して酸化させてフッ素系樹脂シ−トの上
に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで
助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸
着膜を形成することができる。本発明において、物理気
相成長法による無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法に
ついて、その具体例を挙げると、図5は、巻き取り式真
空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。図5に示
すように、巻き取り式真空蒸着装置21の真空チャンバ
−22の中で、巻き出しロ−ル23から繰り出すフッ素
系樹脂シ−ト1は、ガイドロ−ル24、25を介して、
冷却したコ−ティングドラム26に案内される。而し
て、上記の冷却したコ−ティングドラム26上に案内さ
れたフッ素系樹脂シ−ト1の上に、るつぼ27で熱せら
れた蒸着源28、例えば、金属アルミニウム、あるい
は、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要なら
ば、酸素ガス吹出口29より酸素ガス等を噴出し、これ
を供給しながら、マスク30、30を介して、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を成膜化
し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム
等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂シ−
ト1を、ガイドロ−ル25′、24′を介して送り出
し、巻き取りロ−ル31に巻き取ることによって、本発
明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
を形成することができる。
Next, in the present invention, a surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module according to the present invention.
When the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide constituting the metal or the like is described, as the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, for example, a physical vapor deposition method, or a chemical vapor deposition method, or a combination thereof, It can be manufactured by forming one or two or more multilayer films of a deposited thin film of an inorganic oxide. The inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the above-mentioned physical vapor deposition method will be described in further detail. Examples of the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Physical Vap (Physical Vap)
or Deposition method, PVD method) to form a deposited thin film of inorganic oxide. In the present invention, specifically, a metal oxide is used as a raw material, and the metal oxide is used as a raw material, or a vacuum evaporation method in which the metal oxide is heated and vapor-deposited on a fluororesin sheet. A vapor deposition film is formed using an oxidation reaction vapor deposition method in which oxygen is introduced and oxidized to vapor-deposit on a fluorine-based resin sheet, and a plasma-assisted oxidation reaction vapor deposition method in which the oxidation reaction is promoted by plasma. be able to. In the present invention, a specific example of a method of forming a thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method is shown in FIG. 5. FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing an example of a roll-up type vacuum evaporation apparatus. As shown in FIG. 5, in a vacuum chamber 22 of a take-up type vacuum evaporation apparatus 21, a fluororesin sheet 1 fed from an unwinding roll 23 is guided through guide rolls 24 and 25.
It is guided to the cooled coating drum 26. Then, on the fluorine-based resin sheet 1 guided on the cooled coating drum 26, a vapor deposition source 28 heated by a crucible 27, for example, metal aluminum or aluminum oxide, is placed. It is evaporated, and if necessary, oxygen gas or the like is spouted from the oxygen gas outlet 29 and supplied, for example, through the masks 30, 30.
Forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as aluminum oxide, and then forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as aluminum oxide on the fluorine-based resin screen above;
The roll 1 is sent out through guide rolls 25 'and 24' and wound up on a take-up roll 31 to form a vapor-deposited inorganic oxide thin film by physical vapor deposition according to the present invention. it can.

【0012】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜200
0Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。また、本発明
においては、無機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化
物の蒸着薄膜の1層だけではなく、2層あるいはそれ以
上を積層した積層体の状態でもよく、また、使用する金
属、または金属の酸化物としては、1種または2種以上
の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の
薄膜を構成することもできる。
In the above description, as the inorganic oxide vapor-deposited thin film, basically any thin film on which a metal oxide is vapor-deposited can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) , Calcium (C
a), potassium (K), tin (Sn), sodium (N
a) A vapor-deposited thin film of an oxide of a metal such as boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), and yttrium (Y) can be used. Thus, preferred are silicon (Si), aluminum (A
1) and the like. Thus, the vapor-deposited thin film of the above-described metal oxide can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide.
For example, SiO X, AlO X, as such as MgO X MO
X (wherein, M represents a metal element, and the value of X is
The range differs depending on the metal element. ). The range of the value of X is silicon (S
i) is 0-2, and aluminum (Al) is 0-1.
5. Magnesium (Mg) is 0-1, calcium (C
a) is 0-1, potassium (K) is 0-0.5, tin (Sn) is 0-2, and sodium (Na) is 0-0.
5, boron (B) is 0-1,5, titanium (Ti) is
0-2, lead (Pb): 0-1, zirconium (Zr)
Can have a value in the range of 0 to 2 and yttrium (Y) can have a value in the range of 0 to 1.5. In the above, when X = 0,
It is a perfect metal, is not transparent and cannot be used at all, and the upper end of the range of X is a fully oxidized value. In the present invention, generally, except for silicon (Si) and aluminum (Al), examples used are scarce. Silicon (Si) is 1.0 to 2.0, aluminum (A)
For l), a value in the range of 0.5 to 1.5 can be used. In the present invention, the thickness of the thin film of the inorganic oxide as described above varies depending on the type of the metal or the metal oxide to be used.
It is desirable to arbitrarily select and form it within the range of 0 °, preferably 100 to 1000 °. In the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited thin film is not limited to one layer of the inorganic oxide vapor-deposited thin film, but may be a laminate of two or more layers. Alternatively, as the metal oxide, one kind or a mixture of two or more kinds may be used to form a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0013】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
(Chemical Vapor Depositio
n法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、有機珪素化合物等の
蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとし
て、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用
し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、
低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気
相成長法(CVD法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物
の蒸着薄膜を形成することができる。上記において、低
温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズ
マ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装
置を使用することがてき、而して、本発明においては、
高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラ
ズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
Next, in the present invention, the vapor-deposited thin film of an inorganic oxide formed by the chemical vapor deposition method will be further described. Chemical vapor deposition methods such as a vapor phase growth method, a thermochemical vapor deposition method, and a photochemical vapor deposition method.
A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide can be formed using an n method, a CVD method, or the like. In the present invention, specifically,
On one side of the fluororesin sheet, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, and an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas. Use oxygen gas, etc.
A deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed by using a low-temperature plasma chemical vapor deposition (CVD) method using a low-temperature plasma generator or the like. In the above, as the low-temperature plasma generator, for example, high-frequency plasma, pulse wave plasma, it is possible to use a generator such as microwave plasma, in the present invention,
In order to obtain highly active and stable plasma, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method.

【0014】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図6は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図6に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャン
バ−42内に配置された巻き出しロ−ル43からフッ素
系樹脂シ−ト1を繰り出し、更に、該フッ素系樹脂シ−
ト1を、補助ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電
極ドラム45周面上に搬送する。而して、本発明におい
ては、ガス供給装置46、47および、原料揮発供給装
置48等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等
の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらから
なる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズ
ル49を通して真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガ
ス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム4
5周面上に搬送されたフッ素系樹脂シ−ト1の上に、グ
ロ−放電プラズマ50によってプラズマを発生させ、こ
れを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形
成し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却
・電極ドラム45は、チャンバ−外に配置されている電
源51から所定の電力が印加されており、また、冷却・
電極ドラム45の近傍には、マグネット52を配置して
プラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂
シ−ト1は、補助ロ−ル53を介して巻き取りロ−ル5
4に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を製造することができる
ものである。なお、図中、55は、真空ポンプを表す。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これに
よって本発明は限定されるものではないことは言うまで
もないことである。図示しないが、本発明においては、
無機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化物の蒸着薄膜
の1層だけではなく、2層あるいはそれ以上を積層した
積層体の状態でもよく、また、使用する材料も1種また
は2種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合
した無機酸化物の蒸着薄膜を構成することもできる。
More specifically, an example of a method of forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by the low-temperature plasma enhanced chemical vapor deposition method will be described. FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a vapor-deposited thin film of an oxide. As shown in FIG. 6, in the present invention, the fluororesin sheet 1 is fed out from an unwinding roll 43 disposed in a vacuum chamber 42 of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 41. The fluororesin sheath
The roller 1 is conveyed over the peripheral surface of the cooling / electrode drum 45 at a predetermined speed via the auxiliary roll 44. In the present invention, oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 46 and 47 and the raw material volatile supply device 48 and the like. While adjusting the vapor-deposition mixed gas composition, the vapor-deposition mixed gas composition was introduced into the vacuum chamber 42 through the raw material supply nozzle 49, and the cooling / electrode drum 4
Plasma is generated by the glow discharge plasma 50 on the fluororesin sheet 1 conveyed on the 5 peripheral surfaces, and the plasma is irradiated to form a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide. Film forming. In the present invention, at this time, a predetermined power is applied to the cooling / electrode drum 45 from a power source 51 disposed outside the chamber.
The generation of plasma is promoted by disposing a magnet 52 near the electrode drum 45. Next, the fluorine-based resin sheet 1 on which the deposited thin film of inorganic oxide such as silicon oxide is formed, Take-up roll 5 via roll 53
4 to produce a vapor-deposited inorganic oxide thin film by the plasma enhanced chemical vapor deposition method according to the present invention. In the figure, 55 represents a vacuum pump.
The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby. Although not shown, in the present invention,
The inorganic oxide vapor-deposited thin film is not limited to one layer of the inorganic oxide vapor-deposited thin film, but may be in the form of a laminate in which two or more layers are laminated, and one or two or more materials are used. It is also possible to use a mixture and form a vapor deposited thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0015】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
In the above, a monomer for vapor deposition of an organic silicon compound or the like for forming a vapor deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide.
As the gas, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, Phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned organosilicon compounds, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is advantageous in terms of handleability and formed deposited film. It is a particularly preferable raw material in view of its characteristics and the like. In the above description, as the inert gas, for example, argon gas, helium gas, or the like can be used.

【0016】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物がフッ素系樹
脂シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜
を形成することができ、通常、一般式SiOX (ただ
し、Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主
体とする連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化
珪素の蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点か
ら、一般式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の
数を表す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする
薄膜であることが好ましいものである。上記において、
Xの値は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマ
のエネルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が
小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色
性を帯び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素
として有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが
一方、または、その両者の元素を微量構成元素として含
有する酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、
50Å〜500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成
元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連
続的に変化しているものである。更に、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合に
は、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少し
ていることを特徴とするものである。
In the present invention, the silicon oxide vapor-deposited thin film formed as described above undergoes a chemical reaction between a monomer gas such as an organic silicon compound and oxygen gas and the reaction product is formed on a fluorine-based resin sheet. And can form a dense, thin film having high flexibility and the like. Usually, silicon oxide represented by the general formula SiO X (where X represents a number of 0 to 2) is mainly used. This is a continuous vapor-deposited thin film. Thus, the above-mentioned vapor-deposited thin film of silicon oxide is represented by the general formula SiO X (where X represents a number of 1.3 to 1.9) from the viewpoint of transparency, barrier properties and the like. It is preferably a thin film mainly composed of a deposited silicon oxide film. In the above,
The value of X changes depending on the molar ratio of the monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, and the like. Generally, as the value of X decreases, the gas permeability decreases, but the film itself exhibits yellowness. Takes on, the transparency becomes worse. Further, the above-mentioned deposited thin film of silicon oxide has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and furthermore, one of carbon (C) and hydrogen (H), or both elements Consisting of a silicon oxide deposited film containing as a trace constituent element, and the film thickness thereof,
It is in the range of 50 ° to 500 °, and the composition ratio of the essential constituent elements and the trace constituent elements continuously changes in the film thickness direction. Further, when the silicon oxide vapor-deposited thin film contains a compound made of carbon, the carbon content is reduced in the depth direction of the film thickness.

【0017】而して、本発明において、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜について、例えば、X線光電子分光装置(X
ray Photoelectron Spectro
scopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Se
condary Ion Mass Spectros
copy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方
向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用し
て、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行うことより、上
記のような物性を確認することができるものである。ま
た、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚
としては、膜厚50Å〜2000Å位であることが望ま
しく、具体的には、その膜厚としては、100〜100
0Å位が望ましく、而して、上記において、1000
Å、更には、2000Åより厚くなると、その膜にクラ
ック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、10
0Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を
奏することが困難になることから好ましくないものであ
る。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学
製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を
用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定するこ
とができる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸
着薄膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速
度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガ
ス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等に
よって行うことができる。
Thus, in the present invention, the above-mentioned deposited silicon oxide thin film is, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (X
ray Photoelectron Spectro
, XPS), secondary ion mass spectrometer (Se
condary Ion Mass Spectros
(Copies, SIMS), etc. to confirm the above physical properties by performing elemental analysis of the deposited silicon oxide thin film using a method of analyzing by ion etching in the depth direction, etc. using a surface analyzer such as SIMS. Is what you can do. In the present invention, the thickness of the above-described silicon oxide vapor-deposited thin film is desirably about 50 to 2000 °, and specifically, the thickness is about 100 to 100.
The 0 ° position is desirable, and in the above, 1000
If the thickness is more than 2000 °, cracks and the like are likely to occur in the film, which is not preferable.
If it is 0 ° or less than 50 °, it is difficult to achieve the barrier effect, which is not preferable. In the above description, the film thickness can be measured, for example, by a fundamental parameter method using a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. Further, in the above, as means for changing the thickness of the deposited silicon oxide thin film, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, a method of increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or the rate of the deposition. It can be performed by a method of slowing down.

【0018】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の2層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、フッ素系樹脂シ−トの上に、化学
気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にク
ラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、2層以上
の多層膜からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成すること
が望ましいものである。
Incidentally, in the present invention, as a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide constituting a surface protection sheet for a solar cell module, a solar cell module or the like according to the present invention, for example, a physical vapor deposition method can be used. When forming a multilayer film composed of two or more layers of a vapor-deposited inorganic oxide thin film by using both of the chemical vapor deposition methods together, first, a chemical vapor deposition method is performed on a fluororesin sheet. A dense, highly flexible, thin film of inorganic oxide capable of relatively preventing cracks is provided, and then the inorganic oxide is formed on the thin film of inorganic oxide by physical vapor deposition. It is desirable to provide an evaporated thin film of inorganic oxide composed of two or more multilayer films by providing an evaporated thin film.

【0019】次にまた、本発明において、無機酸化物の
蒸着薄膜の面に形成するプラズマ処理面について説明す
ると、かかるプラズマ処理面は、気体をア−ク放電によ
り電離させることにより生じるプラズマガスを利用して
表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用してプラ
ズマ処理面を形成することができるものである。すなわ
は、本発明においては、酸素ガス、窒素ガス、アルゴン
ガス、ヘリウムガス等のガスをプラズマガスとして使用
する方法でプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形
成することができる。而して、本発明において、上記の
プラズマ処理としては、プラズマ放電処理の際に、酸素
ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウム
ガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行なうこと
が好ましく、このようなプラズマ処理により、より低い
電圧でプラズマ処理を行なうことが可能であり、これに
より、無機酸化物の蒸着薄膜の劣化等を防止して、その
表面に、良好にプラズマ処理面を設けることができるも
のである。
Next, in the present invention, a plasma treatment surface formed on the surface of the deposited inorganic oxide thin film will be described. The plasma treatment surface is provided with a plasma gas generated by ionizing a gas by arc discharge. A plasma-treated surface can be formed using a plasma surface treatment method or the like in which surface modification is performed by using the method. That is, in the present invention, the plasma processing surface can be formed by performing the plasma processing using a gas such as an oxygen gas, a nitrogen gas, an argon gas, or a helium gas as a plasma gas. Therefore, in the present invention, it is preferable that the plasma treatment is performed by using an oxygen gas or a mixed gas of an oxygen gas and an argon gas or a helium gas during the plasma discharge treatment. By such a plasma treatment, it is possible to perform the plasma treatment at a lower voltage, thereby preventing the deterioration of the deposited thin film of the inorganic oxide and the like, and providing a good plasma treatment surface on its surface. Is what you can do.

【0020】ところで、本発明において、上記のプラズ
マ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウ
ムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行うこと
が最も望ましく、また、そのプラズマ処理は、無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した直後にインラインで行うことが
望ましいものである。すなわち、本発明においては、無
機酸化物の蒸着薄膜の表面に、例えば、その形成直後
で、かつ、蒸着薄膜が、ガイドロ−ル等に接する前に、
インラインでプラズマ処理を行うことにより、無機酸化
物の蒸着薄膜の表面に付着している不純物、塵等を除去
すると共に、更に、蒸着薄膜の表層近くに存在するハイ
ドロカ−ボングル−プ(例えば、C−C、C−H、C=
等)が減少し、かつ、その表面の酸化度が増加し、多数
のカルボキシル基、ケト基、アセト基、OH基等が表面
にできて、その表面濡れ性が大幅に向上し、蒸着薄膜の
密接着性、印刷性、コ−ティング性等の後加工適性が向
上するものである。而して、本発明においては、上記の
ようなプラズマ処理面上に、後述するように、エチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分として
含む樹脂組成物によるコ−ティング膜を設けることによ
り、その密接着性を高め、ラミネ−ト強度等に優れた積
層材を形成することができ、しかも、無機酸化物の蒸着
薄膜とコ−ティング膜との2層からなるバリア性膜によ
り、十分に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて
高いバリア性を有し、それを使用して種々の形態からな
る積層材等を製造することができるものである。しか
も、本発明においては、密接着性に優れ、ラミネ−ト強
度を高めることができることから、例えば、フィルムの
巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋
加工等の後処理加工において、上記の無機酸化物の蒸着
薄膜にクラック等の発生等を防止することができ、いわ
ゆる、後加工適性を向上させることができるという利点
も有するものである。また、本発明においては、インラ
インでプラズマ処理を行うことから、その製造コスト面
においても、極めて優れているものである。
In the present invention, it is most preferable that the plasma treatment is performed by using a mixed gas of oxygen gas and argon gas or helium gas. It is desirable to perform the process in-line immediately after forming the deposited thin film of the object. That is, in the present invention, on the surface of the inorganic oxide deposited thin film, for example, immediately after its formation, and before the deposited thin film comes into contact with a guide roll or the like,
By performing in-line plasma treatment, impurities, dust and the like adhering to the surface of the deposited thin film of inorganic oxide are removed, and furthermore, a hydrocarbon group (for example, C -C, CH, C =
Etc.) and the degree of oxidation of the surface increases, and a large number of carboxyl groups, keto groups, aceto groups, OH groups, etc. are formed on the surface, and the surface wettability is greatly improved, and Post-processing suitability such as close adhesion, printability and coating property is improved. Thus, in the present invention, a coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle is provided on the above-mentioned plasma-treated surface, as described later. Thereby, it is possible to form a laminated material having high tight adhesion, excellent laminating strength, etc., and furthermore, a barrier film composed of two layers of a deposited thin film of inorganic oxide and a coating film, It has a sufficiently high barrier property against oxygen gas, water vapor and the like, and can be used to produce laminated materials having various forms. In addition, in the present invention, since the adhesiveness is excellent and the laminating strength can be increased, for example, in the post-processing such as film winding, printing, laminating, or bag making. In addition, cracks and the like can be prevented from being formed in the above-mentioned inorganic oxide vapor-deposited thin film, and so-called post-processing suitability can be improved. Further, in the present invention, since the plasma processing is performed in-line, the manufacturing cost is extremely excellent.

【0021】なお、本発明において、上記のプラズマ処
理においては、プラズマ処理条件が極めて重要であり、
その条件によって得られる効果は、全く異なる。而し
て、本発明において、プラズマ処理と化学反応に影響す
る要因としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガスの供
給量、および、処理時間等を挙げることができる。本発
明において、プラズマ処理としては、具体的には、酸素
ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを
使用することが望ましく、そして、その酸素ガスとアル
ゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧とし
ては、1〜1×10-4mbar位、より好ましくは、1
×10-1〜1×10-3mbar位が望ましく、また、酸
素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率とし
ては、分圧比でアルゴンガスまたはヘリウムガス:酸素
ガス=1:1〜1:10位、より好ましくは、1:2〜
1:6位が望ましく、更に、そのプラズマ出力として
は、0.3〜20kW位、より好ましくは、0.5〜1
5kW位が望ましく、更にまた、その処理速度として
は、50〜500m/min位、より好ましくは、10
0〜400m/min位が望ましい。上記の酸素ガスと
アルゴンガスまたはヘリウムガスとの分圧比において、
アルゴンガスまたはヘリウムガス分圧が高くなると、プ
ラズマで活性化される酸素分子が少なくなり、アルゴン
ガスまたはヘリウムガスが還元性ガスとして作用し、無
機酸化物の蒸着薄膜面に酸化被膜の形成、あるいは、水
酸基等の導入が阻害されることから好ましくないもので
ある。また、上記のプラズマ出力が、0.5kW未満、
更には、0.3kW未満の場合には、酸素ガスの活性化
が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいことから好
ましくなく、また、15kWを越えると、更には、20
kWを越えると、プラズマ出力が高すぎるので、無機酸
化物の蒸着薄膜の劣化によりクラック等が発生する傾向
になり、透明バリア性フィルムそのものの物性が低下す
るという問題を引き起こすことから好ましくないもので
ある。更に、上記の処理速度が、400m/min以
上、更には、500m/min以上であると、酸素プラ
ズマ量が少なく、また、50m/min未満、更には、
30m/min未満であると、無機酸化物の蒸着薄膜の
劣化等が急速に進み、バリア性が低下して好ましくない
ものである。
In the present invention, in the above-mentioned plasma processing, plasma processing conditions are extremely important.
The effect obtained by the condition is completely different. Thus, in the present invention, factors affecting the plasma processing and the chemical reaction include plasma output, gas type, gas supply amount, processing time, and the like. In the present invention, as the plasma treatment, specifically, it is desirable to use a mixed gas of oxygen gas and argon gas or helium gas, and a gas mixture of oxygen gas and argon gas or helium gas. The pressure is preferably about 1 to 1 × 10 −4 mbar, more preferably about 1 × 10 −4 mbar.
It is desirably about × 10 −1 to 1 × 10 −3 mbar, and the ratio of oxygen gas to argon gas or helium gas is argon gas or helium gas: oxygen gas = 1: 1 to 1:10 in partial pressure ratio. Position, more preferably 1: 2
1: 6 is desirable, and the plasma output is about 0.3 to 20 kW, more preferably 0.5 to 1 kW.
5 kW is desirable, and the processing speed is about 50 to 500 m / min, more preferably 10 to 500 m / min.
A range of 0 to 400 m / min is desirable. In the above partial pressure ratio of oxygen gas and argon gas or helium gas,
When the partial pressure of argon gas or helium gas increases, oxygen molecules activated by plasma decrease, and argon gas or helium gas acts as a reducing gas, forming an oxide film on the deposited thin film surface of the inorganic oxide, or This is not preferred because the introduction of a hydroxyl group or the like is inhibited. Further, the plasma output is less than 0.5 kW,
Further, when the power is less than 0.3 kW, the activation of the oxygen gas is reduced, and it is difficult to generate highly active oxygen atoms, which is not preferable.
If it exceeds kW, the plasma output is too high, so that cracks and the like tend to occur due to the deterioration of the deposited thin film of the inorganic oxide, which is not preferable because it causes a problem that the physical properties of the transparent barrier film itself deteriorate. is there. Further, when the above processing speed is 400 m / min or more, furthermore, 500 m / min or more, the amount of oxygen plasma is small, and less than 50 m / min.
If it is less than 30 m / min, the deterioration of the deposited thin film of the inorganic oxide or the like proceeds rapidly, and the barrier property is deteriorated, which is not preferable.

【0022】ところで、本発明において、プラズマ処理
において、プラズマを発生させる方法としては、例え
ば、直流グロ−放電、高周波(Audio Frequ
ency:AF、Radio Frequency:R
F)放電、マイクロ波放電等の3通りの装置を利用して
行うことができる。而して、本発明においては、通常
は、13.56MHzの高周波(AF)放電装置を利用
して行うことができる。
In the present invention, a method of generating plasma in the plasma processing includes, for example, a DC glow discharge and a high frequency (Audio Frequency).
ency: AF, Radio Frequency: R
F) It can be performed using three types of devices such as discharge and microwave discharge. Thus, in the present invention, it can be usually carried out using a 13.56 MHz high frequency (AF) discharge device.

【0023】なお、本発明において、無機酸化物の蒸着
薄膜の表面に上記のようなプラズマ処理により形成され
るプラズマ処理面について、例えば、X線光電子分光装
置(Xray Photoelectron Spec
troscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置
(Secondary Ion Mass Spect
roscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、
深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を
利用して、プラズマ処理部の分析を行うことより、前述
のように、不純物、塵等を除去されると共に、更に、そ
の処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成したプラ
ズマ処理面であること、更に、例えば、水酸基(−OH
基)等の官能基が形成されているプラズマ処理面である
ことを確認することができるものである。具体的には、
X線源として、MgKα1.2、X線出力として15K
v、20mAの測定条件で表面〜100ÅのXPS分析
を行い、Si、C、O等の元素比を測定して処理状態を
確認することができる。また、本発明においては、蒸着
薄膜の表面自由エネルギ−は、濡れ試薬を用いて測定す
ることができる。本発明において、表面自由エネルギ−
が、45dyne/cm未満であると、良好な密接着性
は得られず、而して、表面自由エネルギ−が、45dy
ne/cm、特に、50dyne/cm以上であること
が良好な密接着性を得る観点から好ましいものである。
In the present invention, a plasma-treated surface formed on the surface of the inorganic oxide vapor-deposited thin film by the above-described plasma treatment may be, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron Spec.).
Troscopy, XPS), secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spect)
roscopy, SIMS), etc.
By analyzing the plasma processing section using a method of performing analysis by ion etching in the depth direction or the like, impurities and dust are removed as described above, and furthermore, the processing surface is thinned. Plasma-treated surface on which an oxide film having high smoothness is formed, and further, for example, a hydroxyl group (-OH
It can be confirmed that the surface is a plasma-treated surface on which a functional group such as a group is formed. In particular,
MgKα1.2 as X-ray source, 15K as X-ray output
XPS analysis of the surface to 100 ° is performed under the measurement conditions of v and 20 mA, and the treatment state can be confirmed by measuring the element ratio of Si, C, O and the like. In the present invention, the surface free energy of the deposited thin film can be measured using a wetting reagent. In the present invention, the surface free energy
Is less than 45 dynes / cm, good close adhesion cannot be obtained, and the surface free energy becomes less than 45 dynes / cm.
Ne / cm, in particular, 50 dyne / cm or more is preferable from the viewpoint of obtaining good tight adhesion.

【0024】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成するエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体を
ビヒクルの主成分として含む樹脂組成物によるコ−ティ
ング膜について説明すると、かかるコ−ティング膜とし
ては、例えば、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体の
1種ないしそれ以上をビヒクルの主成分とし、これに、
更に、必要ならば、例えば、充填剤、安定剤、可塑剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘
剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練して
なる溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等から
なる樹脂組成物を調整し、而して、該樹脂組成物を使用
し、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト
法、キスロ−ルコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、
リバ−スロ−ルコ−ト法、カ−テンフロ−コ−ト法、そ
の他等のコ−ティング法により、コ−ティング量、例え
ば、0.1g/m2 〜10g/m2 (乾燥状態)位、好
ましくは、0.5g/m2 〜5g/m2 (乾燥状態)位
になるようにコ−ティングし、次いで、加熱乾燥、更に
は、エ−ジング処理等を施して、本発明にかかるコ−テ
ィング膜を形成することができる。上記において、上記
の樹脂組成物としては、エチレン−ビニルアルコ−ル共
重合体等を溶解ないし混練し、更に、これらを硬化させ
ることから、アルコ−ル−水系溶液等を使用して調整し
た樹脂組成物を使用することが好ましく、而して、上記
のアルコ−ル成分としては、例えば、n−プロピルアル
コ−ル、イソプロピルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t
−ブタノ−ル、エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等
を使用することができ、また、上記のアルコ−ル−水系
溶液において、アルコ−ルと水との配合割合としては、
例えば、アルコ−ル、50〜70重量部に対し水、50
〜30重量部の割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を
調整することが望ましい。
Next, in the present invention, the surface protection sheet for a solar cell module and the solar cell module according to the present invention.
A coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle will be described. As the coating film, for example, an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used. One or more of the following as the main component of the vehicle,
Further, if necessary, for example, fillers, stabilizers, plasticizers,
Add optional additives such as light stabilizers such as antioxidants and ultraviolet absorbers, dispersants, thickeners, drying agents, lubricants, antistatic agents, crosslinking agents, etc. A resin composition composed of a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is prepared by kneading the resin composition, and the resin composition is used, for example, by a roll coating method, gravure roll coating, or the like. Method, kiss roll coat method, squeeze roll coat method,
The coating amount, for example, 0.1 g / m 2 to 10 g / m 2 (dry state) is determined by a coating method such as a reverse roll coating method, a curtain flow coating method, or the like. preferably, co to be 0.5g / m 2 ~5g / m 2 ( dry state) position - and coating, and then drying by heating, and further, e - is subjected to treatment for aging, etc., according to the present invention A coating film can be formed. In the above, as the resin composition, an ethylene-vinyl alcohol copolymer or the like is dissolved or kneaded, and further, these are cured, so that the resin composition adjusted using an alcohol-water-based solution or the like is used. It is preferable to use an alcohol component such as n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, or t-type alcohol.
-Butanol, ethyl alcohol, methyl alcohol and the like can be used. In the above-mentioned alcohol-water solution, the mixing ratio of alcohol and water is as follows:
For example, alcohol, 50 to 70 parts by weight of water, 50 parts by weight
It is desirable to prepare an alcohol-water solution by blending in an amount of up to 30 parts by weight.

【0025】上記において、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体としては、例えば、酢酸ビニルの含有率が約
79〜92wt%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体
を完全ケン化したエチレン含有率25〜50モル%のエ
チレン−ビニアルコ−ル共重合体を使用することができ
る。上記のエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体は、高
いガスバリア性を有し、更に、保香性、透明性等に優れ
ているものであり、而して、上記において、エチレン含
有率が、50モル%以上のものは、酸素ガスバリア性が
急激に低下し、また、透明性も悪くなることから好まし
くなく、また、25モル%以下のものは、その薄膜がも
ろくなり、また、高湿度下において酸素ガスバリア性が
低下して好ましくないものである。
In the above, ethylene-vinyl alcohol
Examples of the ethylene-vinyl acetate copolymer include ethylene-vinyl acetate copolymer having an ethylene content of 25 to 50 mol%, which is obtained by completely saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of about 79 to 92 wt%. Coalescing can be used. The ethylene-vinyl alcohol copolymer has a high gas barrier property, and is further excellent in fragrance retention, transparency, and the like. % Or less is not preferred because the oxygen gas barrier property is rapidly lowered and the transparency is deteriorated, and if less than 25 mol%, the thin film becomes brittle and It is not preferable because the gas barrier property is lowered.

【0026】また、上記において、添加剤としては、具
体的には、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体が有す
るヒドロキシル等と反応し、該エチレン−ビニルアルコ
−ル共重合体の分子を互いに化学結合で結び付けて、三
次元網状構造(硬化)の高分子化合物等を構成し得る多
官能性化合物を使用することができ、例えば、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシランテ、テトラブトキ
シシラン等のアルコキシシラン化合物、テトラメトキシ
ジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム等のジルコ
ニウムアルコキシド化合物、テトラメトキシチタニウ
ム、テトラエトキシチタニウムチタニウムアルコキシド
化合物等の金属アルコキシド化合物等を使用することが
できる。更に、本発明において、添加剤としては、例え
ば、−CH=CH2 基、=C=O基、−C≡N基、エポ
キシ基、エチレンイミン基等の活性水素と反応する官能
基を有する化合物、−OH基、−SH基、−COOH
基、−NH2 基等の活性水素を有する化合物、その他、
ハロゲン基、塩、キレ−ト形成基等を有する化合物等か
らなる架橋剤を使用することができる。具体的には、例
えば、ジアルデヒド化合物、ジカルボン酸化合物、ジイ
ミド化合物、ジないし多価アルコ−ル化合物、ジアミン
化合物、ジイソシアナ−ト化合物、ビスエポキシ化合
物、ビスエチレンイミン化合物、ジビニル化合物、ジル
コニウム化合物、チタンキレ−ト化合物、その他等を使
用することができる。
Further, in the above, specifically, as an additive, it reacts with hydroxyl and the like of the ethylene-vinyl alcohol copolymer to form molecules of the ethylene-vinyl alcohol copolymer by chemical bonding with each other. A polyfunctional compound capable of forming a three-dimensional network structure (cured) polymer compound or the like can be used in combination, for example, an alkoxysilane compound such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, or the like. Zirconium alkoxide compounds such as methoxyzirconium and tetraethoxyzirconium, and metal alkoxide compounds such as tetramethoxytitanium and tetraethoxytitanium titanium alkoxide compounds can be used. Further, in the present invention, as the additive, for example, a compound having a functional group that reacts with active hydrogen such as a —CH = CH 2 group, = C = O group, —C≡N group, epoxy group, ethyleneimine group, etc. , -OH group, -SH group, -COOH
Group, compound having active hydrogen, such as -NH 2 group, and other,
A crosslinking agent comprising a compound having a halogen group, a salt, a chelate-forming group, or the like can be used. Specifically, for example, a dialdehyde compound, a dicarboxylic acid compound, a diimide compound, a di- or polyhydric alcohol compound, a diamine compound, a diisocyanate compound, a bisepoxy compound, a bisethyleneimine compound, a divinyl compound, a zirconium compound, Titanium chelate compounds and the like can be used.

【0027】更にまた、本発明においては、無機酸化物
の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−、例えば、ポリ
エチレンイミン等のN−未置換ポリアルキレンイミン、
N−アルキル置換ポリアルキレンイミン、N−アシル置
換ポリアルキレンイミン等のポリエチレンイミン系ポリ
マ−、ポリカルボジイミド等のポリカルボジイミド系ポ
リマ−、ポリビニルピロリドン、ポリアルキル化ビニル
ピロリドン、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合
体、ビニルピロリドンとスチレンとの共重合体等のポリ
ビニルピロリドン系ポリマ−等を使用することができ
る。
Furthermore, in the present invention, a polymer having a high adhesion to a deposited thin film of an inorganic oxide, for example, an N-unsubstituted polyalkyleneimine such as polyethyleneimine,
Polyethyleneimine-based polymers such as N-alkyl-substituted polyalkyleneimines and N-acyl-substituted polyalkyleneimines; polycarbodiimide-based polymers such as polycarbodiimide; polyvinylpyrrolidone; polyalkylated vinylpyrrolidone; A polymer, a polyvinylpyrrolidone-based polymer such as a copolymer of vinylpyrrolidone and styrene, and the like can be used.

【0028】次にまた、本発明においては、二元反応性
を有するシランカップリング剤を添加することができ
る。上記のシランカップリング剤としては、例えば、γ
−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロ
ロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス
(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、β−(3、4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプ
ロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒドロキシエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルシリコ−ンの1種ないしそれ以上を使用す
ることができる。その使用量としては、微量添加するだ
けでよい。更に、本発明においては、エチレン−ビニル
アルコ−ル共重合体が有するヒドロキシル基等と上記の
金属アルコキシド化合物、架橋剤等とが反応し、架橋構
造を構成する際に、例えば、硬化触媒等を添加すること
ができる。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質
的に不溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン
類、例えば、N.N−ジメチルベンジルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン
等、また、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の
鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができ
る。その使用量としては、微量添加することで充分であ
る。
Next, in the present invention, a silane coupling agent having binary reactivity can be added. Examples of the silane coupling agent include, for example, γ
-Chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane Γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ- One or more of aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylsilicone can be used. As the amount of use, only a small amount may be added. Furthermore, in the present invention, when a hydroxyl group or the like of the ethylene-vinyl alcohol copolymer and the above-mentioned metal alkoxide compound, a cross-linking agent or the like reacts to form a cross-linked structure, for example, a curing catalyst or the like is added. can do. Examples of the above-mentioned curing catalyst include, for example, tertiary amines which are substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent. N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine and the like, and as the acids, for example, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, and organic acids such as acetic acid and tartaric acid can be used. It is sufficient to add a small amount as the amount used.

【0029】ところで、本発明において、上記のエチレ
ン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分と
し、これに、必要ならば、添加剤を任意に添加し、アル
コ−ル−水系溶剤、希釈剤等で充分に混練してなる樹脂
組成物を調整し、これを通常のコ−ティング法でコ−テ
ィングし、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理
等を施すことにより、コ−ティング膜を形成することが
できる。而して、上記のコ−ティング膜は、無機酸化物
の蒸着薄膜との密接着性に優れ、その両者の接着強度は
極めて強く、その層間において剥離する等の現象は認め
られず、更に、本発明においては、無機酸化物の蒸着薄
膜と上記のコ−ティング膜との2層からなるバリア性膜
を形成し、それにより、その酸素ガス、水蒸気ガス等に
対するバリア性を更に向上させ、かつ、透明性、耐熱
性、耐熱水性、ラミネ−ト適性、その他等にも優れ、極
めて良好な積層材を製造し得るものである。
In the present invention, the above-mentioned ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of the vehicle, and if necessary, an additive is optionally added thereto to form an alcohol-water-based solvent and a diluent. A resin composition which is sufficiently kneaded is prepared by a method such as the above, coated by a usual coating method, and then heated and dried, and further subjected to an aging treatment or the like to thereby obtain a coating. A film can be formed. Thus, the above-mentioned coating film is excellent in close adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, the bonding strength between the two is extremely strong, and no phenomenon such as peeling between the layers is observed. In the present invention, a barrier film composed of two layers of a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide and the above-described coating film is formed, thereby further improving the barrier properties against oxygen gas, water vapor gas, and the like, and It is excellent in transparency, heat resistance, hot water resistance, laminating suitability, etc., and can produce an extremely good laminated material.

【0030】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、より好ましくは、3
50〜600μm位が望ましい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module constituting the solar cell module will be described. The filler layer is transparent because sunlight enters, transmits and absorbs sunlight. It is necessary to have a property to adhere to the surface protection sheet, and also to function to maintain the smoothness of the surface of the solar cell element as a photovoltaic element. Having thermoplasticity for
Further, since the solar cell element as a photovoltaic element is protected, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption, and the like. Specifically, as the filler layer, for example, a fluororesin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, Acrylic acid, itaconic acid, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene,
Acid-modified polyolene fin-based resin modified with unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and fumaric acid, polyvinyl butyral
Resin, silicone resin, epoxy resin, (meth)
A mixture of one or more resins such as acrylic resins and other resins can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the filler layer, as long as the transparency is not impaired, for example, crosslinking may be performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and others can be arbitrarily added and mixed. Thus, in the present invention, as the filler on the incident side of sunlight, in consideration of light resistance, heat resistance, and weather resistance such as water resistance, a fluororesin or an ethylene-vinyl acetate resin is a desirable material. is there. In addition, the thickness of the above-mentioned filler layer is about 200 to 1000 μm, more preferably about 3 μm.
About 50 to 600 μm is desirable.

【0031】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更には、例えば、薄膜多結晶シリコン太陽電池素子、薄
膜微結晶シリコン太陽電池素子、または、薄膜結晶シリ
コン太陽電子素子とアモルファス太陽電池素子のハイブ
リット素子等を使用することができる。
Next, in the present invention, the solar cell module
A solar cell element as a photovoltaic element constituting a cell will be described. As such a solar cell element, a conventionally known solar cell element, for example, a crystalline silicon solar cell element, a polycrystalline silicon solar cell element, an amorphous silicon solar cell element , A copper indium selenide solar cell element, a compound semiconductor solar cell element, and the like can be used.
Further, for example, a thin-film polycrystalline silicon solar cell element, a thin-film microcrystalline silicon solar cell element, or a hybrid element of a thin-film crystalline silicon solar electronic element and an amorphous solar cell element can be used.

【0032】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module will be described. The filler layer is the same as the filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module. In addition, it is necessary to have an adhesive property with a back surface protection sheet, and further, to have a function of maintaining the smoothness of the back surface of the solar cell element as a photovoltaic element, and to have thermoplasticity. In order to protect a solar cell element as a photovoltaic element, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption and the like. However, the filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module is different from the filler layer laminated below the surface protection sheet for the solar cell module. ,
It is not necessary to have transparency. Specifically, as the above-mentioned filler layer, for example, as in the case of the above-mentioned filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module, for example, a fluorine-based resin, ethylene-vinyl acetate copolymer may be used. Coalesced, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or polyolefin-based resin such as methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene or polypropylene, etc., with acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. One or more resins such as an acid-modified polyolefin resin modified with a saturated carboxylic acid, a polyvinyl butyral resin, a silicone resin, an epoxy resin, a (meth) acrylic resin, and the like. Mixtures can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the filler layer, as long as the transparency is not impaired, for example, crosslinking may be performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and others can be arbitrarily added and mixed. The thickness of the filler layer is 200 to
About 1000 μm, more preferably 350 to 600 μm
Position is desirable.

【0033】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜20
0μm位、より好ましくは、25〜150μm位が望ま
しい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The backside protective sheet layer constituting the sheet will be described. As the backside protective sheet, an insulating resin film or sheet can be used, and further, heat resistance, light resistance, and water resistance With weather resistance such as, physical or chemical strength, excellent in toughness, etc., furthermore, from the protection of the solar cell element as a photovoltaic element, scratch resistance,
It is necessary to be excellent in shock absorption and the like. Specific examples of the back surface protection sheet include polyamide resins (various nylons), polyester resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, and the like. Films or sheets of various resins such as an acetal-based resin, a cellulose-based resin, a (meth) acrylic resin, and others can be used. As the above resin film or sheet, for example, a biaxially stretched resin film or sheet can also be used. The film thickness of the resin film or sheet is 12 to 20.
About 0 μm, more preferably about 25 to 150 μm is desirable.

【0034】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
In the present invention, when the solar cell module according to the present invention is manufactured, in order to improve its various strengths such as strength, weather resistance, scratch resistance, etc. Material, for example, low density polyethylene,
Medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic Acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, poly Acrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin , Polyvinyl alcohol tree , Ethylene - saponified vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal - Le resins, polyurethane resins, nitrocellulose -
And any other known resin film or sheet. In the present invention, the above-mentioned film or sheet can be used in any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from a range of several μm to about 300 μm. Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film, or a coating film.

【0035】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その無機酸化物の蒸
着薄膜の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、そ
の他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸
引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等
の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とし
て加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造するこ
とができる。上記において、必要ならば、各層間の接着
性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクル
の主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬
化型接着剤、その他等を使用することができる。
Next, a method of manufacturing a solar cell module using the above-mentioned materials in the present invention will be described. Such a manufacturing method includes a known method, for example, the above-described method of the present invention. A surface protection sheet for a solar cell module according to (1), the surface of the inorganic oxide vapor-deposited thin film being on the inside, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, A filler layer, a backside protective sheet layer, etc. are laminated, and if necessary, other materials are optionally laminated between the respective layers. The solar cell module can be manufactured by using a conventional molding method such as a lamination method and forming the above-mentioned layers into an integrally molded body by thermocompression bonding. In the above, if necessary, a heat-melt adhesive containing a resin such as a (meth) acrylic resin, an olefin-based resin, a vinyl-based resin, or the like as a main component of the vehicle, in order to enhance adhesion between the layers, Solvent-based adhesives, photo-curable adhesives, and others can be used.

【0036】[0036]

【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)を使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記のポリフッ化ビニル樹脂フィルムの易
接着処理面に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着
薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 (2).次に、上記で膜厚300Åの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムに
ついて、その蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着
薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラ
ズマ出力、1500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガ
ス(Ar)=19:1からなる混合ガスを使用し、混合
ガス圧6X10-5Toor、処理速度420m/min
で酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行った。 (3).次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプ
ラズマ処理面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色
目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体(エチレン含有率32モル%)の
イオン交換水とn−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒
による15%溶液を100重量部からなる樹脂組成物を
使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティング
して、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング
膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ
−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、アモルファ
スシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ
38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム(受光面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)の代
わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Example 1 (1). As a base material, a polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) having a thickness of 50 μm is used, which is mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then placed on a coating drum. And then, under the following conditions, using aluminum as a deposition source and supplying oxygen gas,
By a reactive vacuum evaporation method using an electron beam (EB) heating method, an evaporated thin film of aluminum oxide having a thickness of 300 ° was formed on the surface of the above-mentioned polyvinyl fluoride resin film which had been subjected to the easy adhesion treatment. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Minutes (2). Next, immediately after the deposition, a glow discharge plasma generator was used to apply a plasma output power to the polyvinyl fluoride resin film on which the aluminum oxide vapor-deposited thin film having a thickness of 300 mm was formed. A mixed gas consisting of 1500 W, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 19: 1, a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Toor, and a processing speed of 420 m / min.
To perform an oxygen / argon mixed gas plasma treatment. (3). Next, using a gravure printing machine, a gravure coat roll was placed in the first color on the plasma-treated surface of the above-mentioned evaporated aluminum oxide thin film, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene A resin composition consisting of 100 parts by weight of a 15% solution of ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent having a content of 32 mol%) was used for the gravure roll coating method. To form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state), followed by heat treatment at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film. The surface protection sheet for a solar cell module was manufactured. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide thin film of the surface protection sheet manufactured above. The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic module of the present invention with the photovoltaic cell face facing the photovoltaic cell element face and an acrylic resin adhesive layer. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) as the base material, a 50 μm-thick fluororesin sheet made of tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETF) was used.
Using E), in the same manner as described above, a similar surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and
The solar cell module could be manufactured.

【0037】実施例2 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、これをプラズマ化学
気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で
厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化
ビニル樹脂フィルムの易接着処理面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記で膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄
膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、
その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、出力、
10kW、処理速度100m/minでコロナ放電処理
を行って、蒸着薄膜面の表面張力を35dyneより6
0dyneに向上させて、本発明にかかる表面保護シ−
トを製造した。 (3).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理
面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビ
アコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体(エチレン含有率32モル%)10重量部、
テトラエトキシシラン34重量部、水15重量部、イソ
プロピルアルコ−ル10重量部、三級アミン触媒0.1
7重量部、その他、エポキシシラン3.4重量部からな
る水性樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−
ト法でコ−ティングして、厚さ0.9g/m2 (乾燥状
態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、120℃で1
分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成して、本発明
にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造し
た。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの酸化珪
素の蒸着薄膜のコロナ処理面に、アモルファスシリコン
からなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光
面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)の代
わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Embodiment 2 (1). As a base material, a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm was used, which was mounted on a delivery roll of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a silicon oxide vapor-deposited thin film having a thickness of 300 ° was formed under the following conditions. Was formed on the easily treated surface of the polyvinyl fluoride resin film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.0 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 6.0 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 20 kW Film transport speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, regarding the polyvinyl fluoride resin film on which the above-described 300-mm-thick silicon oxide vapor-deposited thin film was formed,
Immediately after the deposition, the output,
A corona discharge treatment was performed at 10 kW and a treatment speed of 100 m / min, and the surface tension of the vapor-deposited thin film surface was increased from 35 dyne to 6
0 dyne to improve the surface protection seal according to the present invention.
Manufactured. (3). Next, using a gravure printing machine, a gravure coat roll was placed on the first color of the silicon oxide vapor-deposited thin film on the corona-treated surface, and ethylene-vinyl alcohol was applied.
Copolymer (ethylene content: 32 mol%) 10 parts by weight,
34 parts by weight of tetraethoxysilane, 15 parts by weight of water, 10 parts by weight of isopropyl alcohol, tertiary amine catalyst 0.1
An aqueous resin composition consisting of 7 parts by weight and 3.4 parts by weight of epoxy silane was used.
A coating film having a thickness of 0.9 g / m 2 (dry state) was formed by a coating method.
A coating cured film was formed by heat treatment for a minute to prepare a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving) in which solar cell elements made of amorphous silicon were arranged in parallel on the corona-treated surface of the deposited silicon oxide thin film of the surface protection sheet produced above. The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic module of the present invention with the photovoltaic cell face facing the photovoltaic cell element face and an acrylic resin adhesive layer. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) as the base material, a 50 μm-thick fluororesin sheet made of tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETF) was used.
Using E), in the same manner as described above, a similar surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and
The solar cell module could be manufactured.

【0038】実施例3 (1).基材として、紫外線吸収剤を練り込み加工した
厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィルム(PV
F)を使用し、上記の実施例2と全く同様にして、厚さ
300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、その易接着処理面形
成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放電
処理を行って、蒸着薄膜面の表面張力を35dyneよ
り60dyneに向上させた。 (2).次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムを使用
し、上記の実施例1と全く同様にして、上記のポリフッ
化ビニル樹脂フィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処
理面に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を
形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラ
ズマ処理を行った。 (3).次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプ
ラズマ処理面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色
目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体(エチレン含有率32モル%)1
0重量部、テトラエトキシシラン34重量部、水15重
量部、イソプロピルアルコ−ル10重量部、三級アミン
触媒0.17重量部、その他、エポキシシラン3.4重
量部からなる水性樹脂組成物を使用し、これをグラビア
ロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ0.9g/m
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、1
20℃で1分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成し
て、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、アモルファ
スシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ
38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム(受光面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込み加工した厚さ50μmのポリフッ化
ビニル樹脂シ−ト(PVF)の代わりに、紫外線吸収剤
を練り込み加工した厚さ50μmのテトラフルオロエチ
レン−エチレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト
(ETFE)を使用し、上記と全く同様にして、同様な
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、
および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Embodiment 3 (1). As a base material, a 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PV
F), a thin film of silicon oxide having a thickness of 300 mm was formed on the surface of the silicon oxide film in the same manner as in Example 2, and the surface of the thin film of the silicon oxide was subjected to corona discharge treatment. Was performed to increase the surface tension of the vapor-deposited thin film surface from 35 dyne to 60 dyne. (2). Next, using a polyvinyl fluoride resin film on which a vapor-deposited silicon oxide thin film subjected to the corona treatment was formed, the silicon oxide vapor deposition of the polyvinyl fluoride resin film was performed in exactly the same manner as in Example 1 above. An aluminum oxide deposited thin film having a thickness of 300 ° was formed on the corona-treated surface of the thin film, and plasma treatment was further performed on the aluminum oxide deposited thin film surface. (3). Next, using a gravure printing machine, a gravure coat roll was placed in the first color on the plasma-treated surface of the above-mentioned evaporated aluminum oxide thin film, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene Content 32 mol%) 1
An aqueous resin composition comprising 0 parts by weight, 34 parts by weight of tetraethoxysilane, 15 parts by weight of water, 10 parts by weight of isopropyl alcohol, 0.17 parts by weight of a tertiary amine catalyst, and 3.4 parts by weight of epoxysilane. This was coated by a gravure roll coating method and had a thickness of 0.9 g / m2.
2 (dry state) coating film is formed.
A heat treatment is carried out at 20 ° C. for 1 minute to form a coating cured film, and the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention is provided.
Manufactured. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide thin film of the surface protection sheet manufactured above. The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic module of the present invention with the photovoltaic cell face facing the photovoltaic cell element face and an acrylic resin adhesive layer. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride sheet (PVF) kneaded with an ultraviolet absorbent as the base material, a 50 μm-thick tetrafluoroethylene-kneaded tetrafluoroethylene resin sheet is used. Using a fluororesin sheet (ETFE) made of fluoroethylene-ethylene copolymer, in exactly the same manner as described above, a similar surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention,
And a solar cell module was able to be manufactured.

【0039】実施例4 上記の実施例1において製造した酸化アルミニウムの蒸
着薄膜のプラズマ処理面に、グラビア印刷機を使用し、
その第1色目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチ
レン−ビニルアルコ−ル共重合体(エチレン含有率32
モル%)のイオン交換水とn−プロピルアルコ−ル(1
/1)溶媒による15%溶液を100重量部に対し、ポ
リエチレンイミン(日本触媒化学株式会社製)の5%溶
液を20重量部添加樹脂組成物を使用し、これをグラビ
アロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ1.1g/
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、
120℃で5分間加熱処理してコ−ティング硬化膜を形
成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを製造した。更に、上記で製造した表面保護シ−
トを使用し、上記の実施例1と同様にして本発明にかか
る太陽電池モジュ−ルを製造した。
Example 4 A gravure printing machine was used on the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide thin film produced in Example 1 above.
A roll for gravure coating is arranged in the first color, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content 32
Mole%) of ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1
/ 1) A resin composition containing 20 parts by weight of a 5% solution of polyethyleneimine (manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd.) was used for 100 parts by weight of a 15% solution in a solvent, and this was obtained by a gravure roll coating method. Coating, thickness 1.1g /
forming a coating film of m 2 (dry state);
A heat-treated film was formed at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film, thereby producing a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention. Further, the surface protection sheet manufactured as described above is used.
The solar cell module according to the present invention was manufactured in the same manner as in Example 1 using the above-described method.

【0040】実施例5 上記の実施例2において製造した酸化珪素の蒸着薄膜の
コロナ処理面に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
(エチレン含有率32モル%)のイオン交換水とn−プ
ロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15%溶液を1
00重量部に対し、酢酸ジルコニウムの同一溶媒による
30%溶液を1重量部添加してなる樹脂組成物を使用
し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングし
て、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜
を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−
ティング硬化膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上記で製
造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例2と同様
にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
Example 5 An ion-exchanged water of ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content: 32 mol%) and n-propyl alcohol were applied to the corona-treated surface of the silicon oxide vapor-deposited thin film produced in Example 2 above. 1% 15% solution in
A resin composition was prepared by adding 1 part by weight of a 30% solution of zirconium acetate in the same solvent to 00 parts by weight, and this was coated by a gravure roll coating method to have a thickness of 1.1 g. / M 2 (dry state) to form a coating film, and then heat-treat at 120 ° C. for 5 minutes.
A surface cured sheet for a solar cell module according to the present invention was produced by forming a cured film. Further, a solar cell module according to the present invention was manufactured in the same manner as in Example 2 using the surface protection sheet manufactured as described above.

【0041】実施例6 上記の実施例1において製造した酸化アルミニウムの蒸
着薄膜のプラズマ処理面に、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体(エチレン含有率32モル%)のイオン交換
水とn−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15
%溶液を100重量部に対し、カルボジイミドの同一溶
媒による30%溶液を1重量部添加してなる樹脂組成物
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理して
コ−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上記
で製造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例2と
同様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造し
た。
Example 6 An ethylene-vinyl alcohol was applied to the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide thin film produced in Example 1 above.
Of ethylene copolymer (ethylene content 32 mol%) with ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent
% Solution is added to 100 parts by weight of the resin composition and 1 part by weight of a 30% solution of the carbodiimide in the same solvent is used. The resin composition is coated by a gravure roll coating method to give a thickness of 1%. A coating film of 0.1 g / m 2 (dry state) was formed, followed by a heat treatment at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film. A protective sheet was produced. Further, a solar cell module according to the present invention was manufactured in the same manner as in Example 2 using the surface protection sheet manufactured as described above.

【0042】比較例1 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、これを表面保護シ−
トとし、その片面に、アモルファスシリコンからなる太
陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その
太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層
を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
Comparative Example 1 (1). As a base material, a 50 μm thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) was used, and this was used as a surface protection sheet.
And a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on one side, with the solar cell element surfaces facing each other. The solar cell module was manufactured by laminating via an adhesive layer.

【0043】比較例2 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、上記の実施例1と全く同様に
して、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形
成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズ
マ処理を行って、表面保護シ−トを製造した。次いで、
上記のプラズマ処理面に、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、
その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着
剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造し
た。
Comparative Example 2 Using a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm as a substrate, a vapor-deposited thin film of aluminum oxide having a thickness of 300 ° was formed in exactly the same manner as in Example 1 above. Further, the surface of the deposited thin film of aluminum oxide was subjected to plasma treatment to produce a surface protection sheet. Then
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the plasma-treated surface,
The photovoltaic module was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements so as to face each other with an adhesive layer of an acrylic resin interposed therebetween.

【0044】比較例3 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、上記の実施例2と全く同様に
して、厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、その易接
着処理面形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、
コロナ放電処理を行って、表面保護シ−トを製造した。
次いで、上記のコロナ処理面に、アモルファスシリコン
からなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光
面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを
製造した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 A 50 μm thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) was used as a base material. Adhesion processing surface formed, further, on the silicon oxide deposited thin film surface,
A corona discharge treatment was performed to produce a surface protection sheet.
Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the corona-treated surface, with the solar cell element surfaces facing each other, The solar cell module was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【0045】実験例 上記の実施例1〜6で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜6
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜3で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例1〜6で製造
した本発明にかかる表面保護シ−トと比較例1〜3にか
かる表面保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−を使
用して全光線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜6で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−
トについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米
国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度23
℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCO
N)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRA
N)〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
1に示す。
Experimental Example The total light transmittance of the surface protective sheets according to the present invention produced in Examples 1 to 6 and the surface protective sheets according to Comparative Examples 1 to 3 was measured. Examples 1 to 6
A solar cell module evaluation test was conducted for the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1 to 3 and the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1 to 3. (1). Measurement of Total Light Transmittance This is based on the base film and the color protection of the surface protection sheets according to the present invention manufactured in Examples 1 to 6 and the surface protection sheets according to Comparative Examples 1 to 3. The total light transmittance (%) was measured by using a negative electrode. (2). Solar cell module evaluation test This is based on JIS standard C8917-1989.
An environmental test of the solar cell module was performed, and the output of the photovoltaic power before and after the test was measured and compared. (3). Measurement of Water Vapor Permeability and Oxygen Permeability The water vapor permeability was determined by the surface protection sheet according to the present invention manufactured in Examples 1 to 6 and the surface protection sheet according to Comparative Examples 1 to 3.
Under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH, a measuring instrument manufactured by MOCON, USA [model name, part
MATTRAN (PERMATRAN)]
Oxygen permeability was measured at a temperature of 23 for the same object as described above.
C., humidity 90% RH, USA, MOCON (MOCO
N) [Model name, OXTRA
N)]. The above measurement results are shown in Table 1 below.

【0046】[0046]

【表1】 上記の表1において、水蒸気透過度は、〔g/m2 /d
ay・40℃・100%RH〕の単位であり、また、酸
素透過度は、〔cc/m2 /day・23℃・90%R
H〕の単位である。
[Table 1] In Table 1 above, the water vapor permeability is [g / m 2 / d
ay.40 ° C. · 100% RH], and the oxygen permeability is [cc / m 2 / day · 23 ° C. · 90% RH].
H].

【0047】上記の表1に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例1〜6にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水蒸気バリ
ア性、酸素バリア性に優れていた。また、実施例1〜6
にかかる表面保護シ−トを使用した太陽電池モジュ−ル
は、その出力低下率も低いものであった。これに対し、
比較例1にかかる表面保護シ−トは、全光線透過率が高
いものの、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低く、その
ため、これを使用した太陽電池モジュ−ルは、出力低下
率が高い等の問題点があった。更に、比較例2、3にか
かる表面保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水
蒸気バリア性、酸素バリア性に優れ、更に、出力低下率
も低いものであったが、実施例1〜6のそれらと比較す
ると、水蒸気バリア性、酸素バリア性において若干劣
り、出力低下率も若干高めであった。
As is clear from the measurement results shown in Table 1 above, the surface protection sheets for solar cell modules according to Examples 1 to 6 have high total light transmittance, high water vapor barrier property, It had excellent oxygen barrier properties. Examples 1 to 6
The solar cell module using the surface protection sheet according to (1) also has a low output reduction rate. In contrast,
Although the surface protection sheet according to Comparative Example 1 has a high total light transmittance, it has low water vapor barrier properties and oxygen barrier properties. Therefore, a solar cell module using the same has a high output reduction rate. There was a problem. Furthermore, the surface protection sheets according to Comparative Examples 2 and 3 had high total light transmittance, excellent water vapor barrier properties and oxygen barrier properties, and low output reduction rates. As compared with those of Examples 1 to 6, the water vapor barrier property and the oxygen barrier property were slightly inferior, and the output reduction rate was slightly higher.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性に着目し、まず、フッ素
系樹脂シ−トを基材シ−トとして使用し、その片面に、
酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガ
ラス質からなる無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該
無機酸化物の蒸着薄膜の上に、エチレン−ビニルアルコ
−ル共重合体をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によ
るコ−ティング膜を設けて太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、その
コ−ティング膜の面を内側にし、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一体的に
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用し
て太陽電池モジュ−ルを製造して、水分、酸素等の侵入
を防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐
熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性
能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、より低コス
トで安全な太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよび
それを使用した太陽電池モジュ−ルを製造し得ることが
できるというものである。
As is apparent from the above description, the present invention
Focusing on the properties of a glass plate used as a surface protection sheet layer constituting a solar cell module, first, a fluororesin sheet is used as a base sheet, and on one side thereof,
A vapor-deposited transparent thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is provided. Further, on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, an ethylene-vinyl alcohol copolymer is mainly used as a vehicle. A coating film of a resin composition as a component is provided to produce a surface protection sheet for a solar cell module, and this is used as a surface protection sheet layer, with the surface of the coating film facing inside. Lamination in which a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protection sheet layer, and the like are sequentially laminated, and then these are integrally vacuum-evacuated and heated and pressed. The solar cell module is manufactured by using the method and the like, and the moisture-proof property for preventing the invasion of moisture, oxygen, etc. is remarkably improved, and the light-fastness, heat-resistance, water-fastness, etc. Minimize long-term performance degradation For example, excellent protection capability, more cost and safe solar cell module - is that it can be produced Le - solar cell module using the door and it - Le for surface protection sheet.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図4】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 4 is a photovoltaic module manufactured using the surface protection sheet for a photovoltaic module according to the present invention shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of the structure.

【図5】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a take-up type vacuum evaporation apparatus showing an outline of a method of forming an evaporated thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method.

【図6】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method of forming a deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A1 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A2 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト 1 フッソ系樹脂シ−ト 2 無機酸化物の蒸着薄膜 2a 無機酸化物の蒸着薄膜 2b 無機酸化物の蒸着薄膜 3 コ−ティング膜 4 多層膜 4a 多層膜 T 太陽電池モジュ−ル 11 充填剤層 12 太陽電池素子 13 充填剤層 14 裏面保護シ−トA Surface protection sheet for solar cell module A 1 Surface protection sheet for solar cell module A 2 Surface protection sheet for solar cell module 1 Fluoro resin sheet 2 Inorganic oxide Evaporated thin film 2a Evaporated thin film of inorganic oxide 2b Evaporated thin film of inorganic oxide 3 Coating film 4 Multilayer film 4a Multilayer film T Solar cell module 11 Filler layer 12 Solar cell element 13 Filler layer 14 Backside protection sheet G

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5F051 AA05 BA18 EA01 EA18 JA02 JA04 JA05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Katsutoshi Konno 1-chome, Ichigaya-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. F term (reference) 5F051 AA05 BA18 EA01 EA18 JA02 JA04 JA05

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸化
物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクル
の主成分とする樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け
たことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト。
An inorganic oxide vapor-deposited thin film is provided on one side of a fluororesin sheet, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer is further provided on the inorganic oxide vapor-deposited thin film as a main component of a vehicle. Characterized in that a coating film made of a resin composition is provided.
G.
【請求項2】 フッ素系樹脂シ−トが、可視光透過率が
90%以上である透明フッ素系樹脂シ−トからなること
を特徴とする上記の請求項1に記載する太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−ト。
2. The solar cell module according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is a transparent fluororesin sheet having a visible light transmittance of 90% or more. Surface protection sheet.
【請求項3】 フッ素系樹脂シ−トが、フッ化ビニル系
樹脂、または、エチレン−テトラフルオロエチレンコポ
リマ−からなる透明フッ素系樹脂シ−トであることを特
徴とする上記の請求項1〜2に記載する太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−ト。
3. The transparent resin sheet according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is a vinyl fluoride resin or a transparent fluororesin sheet made of ethylene-tetrafluoroethylene copolymer. 2. The surface protection sheet for a solar cell module according to item 2.
【請求項4】 フッ素系樹脂シ−トが、紫外線吸収剤お
よび/または酸化防止剤を練り込んでなることを特徴と
する上記の請求項1〜3に記載する太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト。
4. The surface protection for a solar cell module according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is kneaded with an ultraviolet absorber and / or an antioxidant. Sheet.
【請求項5】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜4に
記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
5. The method according to claim 1, wherein the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide comprises one or more multilayer films of the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by physical vapor deposition. The surface protection sheet for a solar cell module to be described.
【請求項6】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜4に
記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
6. The method according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film comprises one or more multilayer films of the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by a chemical vapor deposition method. The surface protection sheet for a solar cell module to be described.
【請求項7】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法および化学気相成長法による2層以上の多層膜からな
ることを特徴とする上記の請求項1〜4に記載する太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
7. The solar cell according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film comprises a multilayer film of two or more layers formed by a physical vapor deposition method and a chemical vapor deposition method. Surface protection sheet for modules.
【請求項8】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機酸
化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化
物の蒸着薄膜を設けた2層以上の多層膜からなることを
特徴とする上記の請求項7に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。
8. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, wherein a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is formed by a chemical vapor deposition method, and then the inorganic oxide is deposited on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide by a physical vapor deposition method. 8. The solar cell module according to claim 7, comprising a multilayer film of two or more layers provided with a deposited thin film of an object.
Surface protection sheet for
【請求項9】 無機酸化物の蒸着薄膜が、プラズマ処理
面を形成していることを特徴とする上記の請求項1〜8
に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
9. The method according to claim 1, wherein the deposited thin film of the inorganic oxide forms a plasma-treated surface.
2. A surface protection sheet for a solar cell module according to item 1.
【請求項10】 プラズマ処理面の表面自由エネルギ−
が、45dyne/cm以上であることを特徴とする上
記の請求項9に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−ト。
10. The surface free energy of a plasma processing surface
Is not less than 45 dyne / cm, the surface protection sheet for a solar cell module according to claim 9, wherein
【請求項11】 エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
が、エチレン含有率25〜50モル%であることを特徴
とする上記の請求項1〜10に記載する太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−ト。
11. The surface protection seal for a solar cell module according to claim 1, wherein the ethylene-vinyl alcohol copolymer has an ethylene content of 25 to 50 mol%. G.
【請求項12】 樹脂組成物が、金属アルコキシド化合
物を含むことを特徴とする上記の請求項1〜11に記載
する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
12. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the resin composition contains a metal alkoxide compound.
【請求項13】 樹脂組成物が、架橋剤を含むことを特
徴とする上記の請求項1〜12に記載する太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−ト。
13. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the resin composition contains a crosslinking agent.
【請求項14】 樹脂組成物が、無機酸化物の蒸着薄膜
との密接着性に富むポリマ−を含むことを特徴とする上
記の請求項1〜13に記載する太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−ト。
14. The surface protection for a solar cell module according to claim 1, wherein the resin composition contains a polymer having a high adhesiveness to a deposited thin film of an inorganic oxide. Sheet.
【請求項15】 樹脂組成物が、シランカップリング剤
を含むことを特徴とする上記の請求項1〜14に記載す
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
15. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the resin composition contains a silane coupling agent.
【請求項16】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸
化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜
の上に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒク
ルの主成分とする樹脂組成物によるコ−ティング膜を設
けた太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの無機酸化物
の蒸着薄膜面に、充填剤層、光起電力素子としての太陽
電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層を順次
に積層し、これらを真空吸引して加熱圧着ラミネ−ショ
ン法等により一体成形体としたことを特徴とする太陽電
池モュジュ−ル。
16. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided on one surface of a fluororesin sheet, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer is further provided on the vapor-deposited thin film of an inorganic oxide as a main component of a vehicle. A filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, and a filler, on the surface of a thin film of inorganic oxide deposited on a surface protection sheet for a solar cell module provided with a coating film made of a resin composition to be used A solar cell module comprising a layer and a backside protective sheet layer sequentially laminated, and vacuum-suctioning these layers to form an integrally formed body by a heat-compression lamination method or the like.
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