JP2000284249A - Production of liquid crystal display element - Google Patents

Production of liquid crystal display element

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JP2000284249A
JP2000284249A JP11093679A JP9367999A JP2000284249A JP 2000284249 A JP2000284249 A JP 2000284249A JP 11093679 A JP11093679 A JP 11093679A JP 9367999 A JP9367999 A JP 9367999A JP 2000284249 A JP2000284249 A JP 2000284249A
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JP
Japan
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plastic substrate
plastic
substrate
heat treatment
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP11093679A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hikari Nakagawa
光 中川
Masayoshi Yonezawa
正善 米澤
Koji Fujimoto
浩司 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
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Publication date
Application filed by Kyocera Display Corp filed Critical Kyocera Display Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obviate the occurrence of a deviation between plastic substrates at the time of thermal compression bonding by correcting the dimensional change of the substrates generated by penetration of moisture and organic solvent at the time of washing of a plastic liquid crystal display element. SOLUTION: When the plastic substrates are used for the transparent electrode substrates of the liquid crystal display element, the one substrate (first plastic substrate) on the side to be sprayed with intra-surface spacers is subjected to a vacuum heat treatment between a washing stage after a rubbing treatment and a thermal compression bonding stage. The other substrate (second plastic substrate) on the side to be coated with a peripheral sealing material is subjected to the vacuum heat treatment between the washing stage after the rubbing treatment and a coating application stage for the peripheral sealing material. Both of the vacuum heat treatment conditions for the first and second plastic substrates are preferably <=100 Torr, >=60 deg.C and 1 to 24 hours of the treatment time.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は透明電極基板をプラ
スチック基板とする液晶表示素子の製造方法に関し、さ
らに詳しく言えば、基板の熱圧着時における基板間のず
れが生じないようにした液晶表示素子の製造方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device using a transparent electrode substrate as a plastic substrate, and more particularly, to a liquid crystal display device in which no displacement occurs between substrates during thermocompression bonding of the substrates. And a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチック基板はガラス基板に比べて
軽量で、しかも割れにくいという点が評価されて液晶表
示素子の分野でも取り入れられてきており、近年、携帯
電話や携帯用情報端末機器などで期待が寄せられてい
る。
2. Description of the Related Art Plastic substrates have been adopted in the field of liquid crystal display devices because of their reputation for being lighter than glass substrates and more resistant to breakage, and are expected to be used in portable telephones and portable information terminal equipment in recent years. Has been sent.

【0003】特に、情報端末機器においては、情報量の
増大に対処するため大画面化や高精細化が進められてお
り、ガラス基板による液晶表示素子ではその軽量化に限
界があるため、それに代わるものとしてプラスチック基
板による液晶表示素子の開発が急がれている。
[0003] In particular, in information terminal equipment, a large screen and high definition are being promoted in order to cope with an increase in the amount of information. As a matter of course, development of a liquid crystal display element using a plastic substrate is urgent.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透明電
極基板にプラスチック基板を用いる場合には、次のよう
な課題があった。
However, when a plastic substrate is used as the transparent electrode substrate, there are the following problems.

【0005】すなわち、プラスチック基板は本質的に水
分や有機溶剤が浸透しやすいため、工程中で放置されて
いる間や、水や有機溶剤による洗浄工程時において、水
分や有機溶剤がプラスチック基板の内部に浸透したり表
面に蓄積され、これが原因で基板の寸法が変化したり、
反りが発生したりしてセル化工程で問題を起こしてい
た。
[0005] That is, since a plastic substrate is inherently easily permeated by moisture and an organic solvent, the moisture and the organic solvent are not allowed to pass through the inside of the plastic substrate while being left in the process or during a washing process with the water or the organic solvent. And accumulate on the surface, which can change the dimensions of the substrate,
Warpage has occurred and a problem has occurred in the cell forming process.

【0006】特に、有機系周辺シール材を介して2枚の
基板を熱圧着する際には、その高熱により水分や有機溶
剤が気体となって蒸散するため、周辺シール材内に気泡
が発生じたりする。また、基板の寸法変化により基板間
にずれが生ずる。
In particular, when two substrates are thermocompression-bonded via an organic peripheral sealing material, bubbles are generated in the peripheral sealing material because moisture and an organic solvent evaporate as gas due to the high heat. Or In addition, a displacement occurs between the substrates due to a change in the dimensions of the substrates.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、液晶
表示素子の透明電極基板にプラスチック基板を用いる場
合において、2枚のプラスチック基板を反りや寸法変化
がない状態として、ずれを生じさせることなく正確に熱
圧着し得るとともに、周辺シール材内にも気泡などが発
生しないようにした液晶表示素子の製造方法を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which a plastic substrate is used as a transparent electrode substrate. Provided is a method of manufacturing a liquid crystal display element in which a substrate can be accurately thermocompression-bonded without causing a shift without causing a substrate to have a warp or a dimensional change, and bubbles and the like are not generated in a peripheral sealing material. is there.

【0008】本発明によれば、この目的は、透明電極上
に形成された配向膜をラビング処理した後の第1および
第2プラスチック基板を水もしくは有機溶剤などにより
洗浄し、第1プラスチック基板には面内スペーサを散布
して固着し、第2プラスチック基板には周辺シール材を
塗布した後、第1プラスチック基板と第2プラスチック
基板とを周辺シール材を介して熱圧着するにあたって、
第1プラスチック基板については洗浄工程後で、かつ、
第2プラスチック基板との貼り合わせ工程前の間で同第
1プラスチック基板を減圧加熱処理し、第2プラスチッ
ク基板については洗浄工程後で、かつ、周辺シール材の
塗布工程前の間で同第2プラスチック基板を減圧加熱処
理することにより達成される。
According to the present invention, an object of the present invention is to clean the first and second plastic substrates with water or an organic solvent after rubbing the alignment film formed on the transparent electrode, and to apply the first and second plastic substrates to the first plastic substrate. Are spread and fixed by in-plane spacers, and after applying a peripheral sealing material to the second plastic substrate, the first plastic substrate and the second plastic substrate are thermocompression-bonded via the peripheral sealing material.
For the first plastic substrate, after the cleaning step, and
The first plastic substrate is subjected to heat treatment under reduced pressure before the step of bonding with the second plastic substrate, and the second plastic substrate is subjected to the second heat treatment after the cleaning step and before the peripheral sealing material coating step. This is achieved by subjecting the plastic substrate to heat treatment under reduced pressure.

【0009】第1および第2プラスチック基板に対する
減圧加熱処理条件は、その材質や厚さ、それに減圧処理
装置に形態などにもよるが、本発明の好ましい態様によ
れば、減圧値は100torr以下、特には10tor
r以下、温度は60℃以上、好ましくは100℃以上で
あり、その上限温度は基板材料のガラス転移点をTgと
して、Tg−20℃の範囲である。また、処理時間は1
時間以上で、24時間以内が好ましい。
The conditions of the reduced pressure heat treatment for the first and second plastic substrates depend on the material and thickness thereof, and the form of the reduced pressure treatment apparatus. According to a preferred embodiment of the present invention, the reduced pressure value is 100 torr or less. Especially 10 torr
The temperature is 60 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, and the upper limit temperature is in the range of Tg−20 ° C., where Tg is the glass transition point of the substrate material. The processing time is 1
The time is preferably not less than 24 hours and not more than 24 hours.

【0010】このような条件で減圧加熱処理を行なった
としても、その後放置しておくと空気中に含まれる水分
や有機溶剤が基板に再度浸透もしくは付着するおそれが
あるため、減圧加熱処理後の12時間以内に第2プラス
チック基板に周辺シール材を塗布し、両プラスチック基
板を熱圧着することが好ましい。
Even if the heat treatment under reduced pressure is performed under such conditions, the moisture or organic solvent contained in the air may permeate or adhere to the substrate again if left untreated. It is preferable that a peripheral sealing material is applied to the second plastic substrate within 12 hours, and both plastic substrates are thermocompression-bonded.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】液晶表示素子の製造は、複数の液
晶表示パネルを多面取りするためのマザー基板の選択か
ら始まる。プラスチック液晶表示素子においては、マザ
ー基板として、厚さが0.1〜0.4mm程度の例えば
ポリカーボネートからなるプラスチック基板が2枚用い
られる。一方がF板(フロントパネル)用で、他方がR
板(リヤパネル)用とされる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The manufacture of a liquid crystal display element starts with the selection of a mother substrate for forming a plurality of liquid crystal display panels. In a plastic liquid crystal display device, two plastic substrates made of, for example, polycarbonate and having a thickness of about 0.1 to 0.4 mm are used as mother substrates. One is for F plate (front panel) and the other is for R
Used for boards (rear panels).

【0012】通常、この種のプラスチック基板には、ハ
ードコート層、ガスバリアコート層およびアンダーコー
ト層などが順次形成されており、片側面にはITO(i
ndium tin oxide)からなる透明導電膜
がその全面にわたって形成されている。
Usually, a hard coat layer, a gas barrier coat layer, an undercoat layer, and the like are sequentially formed on this kind of plastic substrate, and an ITO (i.
A transparent conductive film made of ndium tin oxide) is formed over the entire surface.

【0013】まず、2枚のマザー基板(F板およびR
板)はともに洗浄され、レジスト塗布、露光、現像、エ
ッチング、レジスト剥離の各工程を経て、あらかじめ割
り当てられた各表示領域に透明電極がそれぞれ形成さ
れ、その透明電極上に配向膜が形成され、ラビング処理
が施される。
First, two mother boards (F board and R board)
The plates are washed together, and through respective steps of resist application, exposure, development, etching, and resist stripping, transparent electrodes are respectively formed in the display areas allocated in advance, and an alignment film is formed on the transparent electrodes. A rubbing process is performed.

【0014】そして、ここでも洗浄が行なわれた後、例
えばF板側には面内スペーサが散布され、その固着処理
が行なわれる。R板側については、その各表示領域の周
囲にエポキシ系樹脂からなる周辺シール材が塗布され
る。
After the cleaning, the in-plane spacers are sprayed on the F plate side, for example, and the fixing process is performed. On the R plate side, a peripheral sealing material made of epoxy resin is applied around each display area.

【0015】しかる後、F板とR板とがそれらの位置合
わせマークを基準として重ね合わせられ熱圧着される。
このようにして複数のセルが同時に形成される。次に、
マザー基板から列もしくは行単位でスティック基板が切
り出され、その各セル内への液晶注入後に、スティック
基板から液晶表示パネルが個々に切り出される。
Thereafter, the F plate and the R plate are superimposed on each other with reference to their alignment marks and thermocompression-bonded.
In this way, a plurality of cells are formed simultaneously. next,
A stick substrate is cut out from the mother substrate in units of columns or rows, and after injecting liquid crystal into each cell, a liquid crystal display panel is cut out from the stick substrate individually.

【0016】F板とR板は、ラビング処理後の洗浄まで
はほぼ同じ工程を辿るが、その後においては異なる工程
(履歴)を経て熱圧着工程に至る。上記したように、F
板は面内スペーサの散布・固着工程に回されるのに対
し、R板は周辺シール材の印刷工程に回される。
The F plate and the R plate follow substantially the same process until cleaning after the rubbing treatment, but thereafter, go through a different process (history) to the thermocompression bonding process. As mentioned above, F
The plate is used for the process of spraying and fixing the in-plane spacer, whereas the R plate is used for the process of printing the peripheral seal material.

【0017】このため、熱圧着工程に至ったときに、両
基板の間には反りや寸法変化などによる形状的な誤差が
生ずる。また、熱圧着時の高温により、洗浄時に基板内
に浸透した水分や有機溶剤が気体となって蒸散するた
め、周辺シール材内に気泡が発生することもある。
For this reason, when the thermocompression bonding step is performed, a geometrical error occurs between the two substrates due to warpage or dimensional change. Further, due to the high temperature at the time of thermocompression bonding, the moisture and the organic solvent that have permeated into the substrate at the time of cleaning become gas and evaporate, so that air bubbles may be generated in the peripheral sealing material.

【0018】そこで本発明では、F板とR板を熱圧着工
程前にそれぞれ減圧加熱処理して、それらの基板内に浸
透もしくは表面に付着している水分や有機溶剤を除去す
ることにより、熱圧着時に両基板間に形状的な誤差が生
じないようにしている。また、周辺シール材内にも気泡
が発生しないようにしている。
Therefore, according to the present invention, the F plate and the R plate are each subjected to a heat treatment under reduced pressure before the thermocompression bonding step to remove moisture or an organic solvent penetrating into the substrate or adhering to the surface to thereby reduce the heat. At the time of pressure bonding, a shape error does not occur between both substrates. Also, air bubbles are not generated in the peripheral sealing material.

【0019】すなわち、F板について言えば、ラビング
処理した後の洗浄工程後で、かつ、熱圧着工程前の間で
F板を減圧加熱処理する。また、R板については、ラビ
ング処理した後の洗浄工程後で、かつ、周辺シール材の
塗布工程前の間でR板を減圧加熱処理するようにしてい
る。
That is, regarding the F plate, the F plate is subjected to a reduced pressure heat treatment after the cleaning step after the rubbing treatment and before the thermocompression bonding step. Further, the R plate is subjected to a reduced pressure heat treatment after the cleaning step after the rubbing treatment and before the coating step of the peripheral sealing material.

【0020】F板およびR板の減圧加熱処理条件は同一
であることが好ましい。減圧加熱処理には減圧値、温度
および時間が関与するが、まず、減圧値については、1
00torr以下、特には10torr以下であること
が好ましい。
It is preferable that the conditions for the heat treatment under reduced pressure of the F plate and the R plate are the same. The reduced pressure heating process involves a reduced pressure value, temperature and time.
It is preferably at most 00 torr, particularly preferably at most 10 torr.

【0021】温度については60℃以上、好ましくは水
の沸点の100℃以上とされる。その上限温度は、基板
材料のガラス転移点をTgとして、Tg−20℃の範囲
内であることが条件とされる。また、処理時間は1時間
以上で、24時間以内が好ましい。より好ましくは、8
〜16時間がよい。
The temperature is at least 60 ° C., preferably at least 100 ° C., the boiling point of water. The upper limit temperature is required to be within a range of Tg-20 ° C., where Tg is a glass transition point of the substrate material. Further, the processing time is 1 hour or more, and preferably 24 hours or less. More preferably, 8
~ 16 hours is good.

【0022】このような同一条件で減圧加熱処理を行な
うことにより、F板およびR板の形状的誤差をなくすこ
とができるが、その後いつまでも放置しておくと空気中
に含まれる水分や有機溶剤が基板に再度浸透もしくは付
着するおそれがあるため、減圧加熱処理後の12時間以
内にはR板に周辺シール材を塗布し、両基板を熱圧着す
ることが好ましい。
By performing the reduced pressure heat treatment under the same conditions as described above, it is possible to eliminate the shape error of the F plate and the R plate. It is preferable to apply a peripheral sealing material to the R plate within 12 hours after the heat treatment under reduced pressure, and thermocompression-bond both substrates, since there is a possibility that they will permeate or adhere to the substrate again.

【0023】[0023]

【実施例】《実施例1》マザー基板用のF板およびR板
として、ハードコート層、ガスバリアコート層およびア
ンダーコート層を有し、その片面にITOからなる透明
導電膜がその全面にわたって形成された厚さ0.1mm
のポリカーボネート樹脂からなるITO透明導電膜付き
のプラスチック基板を2枚用意した。
Example 1 An F plate and an R plate for a mother substrate have a hard coat layer, a gas barrier coat layer, and an undercoat layer, and a transparent conductive film made of ITO is formed on one surface thereof over the entire surface. Thickness 0.1mm
Two plastic substrates with an ITO transparent conductive film made of the above polycarbonate resin were prepared.

【0024】各基板を水洗およびIPA(イソプロピル
アルコール)により洗浄した後、F板側のマザー基板に
は、表示領域およびそれに連なる端子部を含ませて1パ
ネル単位とし、その複数を割り当て各パネル単位ごとに
透明導電膜をパターニングして、透明電極としての列電
極(例えば、X電極)および引出電極をストライプ状に
形成した。そして、端子部を除いて各表示領域にポリイ
ミドからなる厚さ400Åの配向膜を形成し、ラビング
処理を行なった。
After each substrate is washed with water and washed with IPA (isopropyl alcohol), the motherboard on the F plate side includes a display area and a terminal portion connected to the display area to form one panel unit. Each time, the transparent conductive film was patterned to form a column electrode (for example, an X electrode) as a transparent electrode and an extraction electrode in a stripe shape. Then, a 400 ° -thick alignment film made of polyimide was formed in each display region except for the terminal portion, and rubbing treatment was performed.

【0025】R板側のマザー基板には、端子部を設けず
に表示領域のみを設定してそれを1パネル単位とし、そ
の複数を割り当てて各パネル単位ごとに透明電極をパタ
ーニングして、行電極(例えば、Y電極)をストライプ
状に形成した。そして、その各表示領域にポリイミドか
らなる厚さ400Åの配向膜を形成し、ラビング処理を
行なった。
On the motherboard on the R plate side, only a display area is set without providing a terminal portion, and the display area is set as one panel unit, a plurality of the display regions are allocated, and a transparent electrode is patterned for each panel unit. Electrodes (for example, Y electrodes) were formed in a stripe shape. Then, a 400 ° -thick alignment film made of polyimide was formed in each of the display regions, and a rubbing treatment was performed.

【0026】次に、F板およびR板ともにIPAにて洗
浄した。そして、R板については100℃、10tor
r、12時間の減圧加熱処理を行ない、その後に熱硬化
性エポキシ樹脂系の周辺シール材をその表示領域の周り
に印刷により塗布した。
Next, both the F plate and the R plate were washed with IPA. And about 100 degreeC and 10 torr about R board
A heat treatment under reduced pressure for 12 hours was performed, and then a thermosetting epoxy resin-based peripheral sealing material was applied around the display area by printing.

【0027】これに対して、F板については、平均粒径
6.0μmの面内スペーサを散布し、90℃にて固着処
理を行なった後、100℃、10torr、12時間の
減圧加熱処理を実施した。
On the other hand, with respect to the F plate, an in-plane spacer having an average particle size of 6.0 μm was sprayed, fixed at 90 ° C., and then heat-treated under reduced pressure at 100 ° C., 10 torr for 12 hours. Carried out.

【0028】なお、R板側の周辺シール材内には、基板
間の導電接続材(トランスファ材)として、スチレン−
ジビニルベンゼンの共重合体からなる樹脂ビーズに金/
ニッケルの2層をメッキした平均粒径が6.0μmであ
る導電ビーズを2wt%と、導電フィラーを5wt%混
合した。また、面内スペーサには熱可塑性樹脂からなる
表面層を有し、コアがスチレン−ジビニルベンゼン共重
合体である樹脂ビーズを使用した。
In the peripheral sealing material on the side of the R plate, styrene-styrene is used as a conductive connecting material (transfer material) between the substrates.
Gold / resin beads made of divinylbenzene copolymer
2 wt% of conductive beads having an average particle diameter of 6.0 μm plated with two layers of nickel and 5 wt% of a conductive filler were mixed. Further, resin beads having a surface layer made of a thermoplastic resin and having a core of a styrene-divinylbenzene copolymer were used for the in-plane spacer.

【0029】次に、F板とR板を、液晶分子のツイスト
角が240゜となるように、それらの各表示領域を対向
させて熱圧着した。そして、この貼り合わせマザー基板
から同一列もしくは同一行に属する複数のセルを有する
スティック基板をその列単位もしくは行単位で切り出
し、併せて注入口出しを行なった。
Next, the F plate and the R plate were thermocompression-bonded with their respective display areas facing each other so that the twist angle of the liquid crystal molecules was 240 °. Then, a stick substrate having a plurality of cells belonging to the same column or the same row was cut out from the bonded mother substrate in a unit of a column or a row, and an injection port was taken out.

【0030】しかる後、それらの注入口から各セル内に
液晶を注入し、注入口の封止を行なってから、スティッ
ク基板から各セルを切り出し、液晶表示パネルを得た。
このように作製された液晶表示パネルのF板側のパター
ンとR板側のパターンを観察したところ、基板の寸法変
化に伴なう相対的なずれは10μm以下であった。ま
た、周辺シール材内にも気泡は見られず、そのシール形
状も良好であった。
Thereafter, liquid crystal was injected into each cell from the injection port, and after sealing the injection port, each cell was cut out from the stick substrate to obtain a liquid crystal display panel.
Observation of the pattern on the F plate side and the pattern on the R plate side of the liquid crystal display panel manufactured in this way showed that the relative displacement accompanying the dimensional change of the substrate was 10 μm or less. Also, no air bubbles were found in the peripheral sealing material, and the sealing shape was good.

【0031】〈比較例1〉F板とR板として実施例1と
同じプラスチック基板を用いたが、特に減圧加熱処理を
行なわなかった。そのほかは、実施例1と同様にして液
晶表示パネルを作製した。この比較例1において、基板
の寸法変化に伴なうF板側のパターンとR板側のパター
ンの相対的なずれは50μmであった。また、周辺シー
ル材内にも多数の気泡が発生しているものがあった。
<Comparative Example 1> The same plastic substrate as in Example 1 was used as the F plate and the R plate, but the heat treatment under reduced pressure was not particularly performed. Otherwise, a liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1. In Comparative Example 1, the relative displacement between the pattern on the F plate side and the pattern on the R plate side due to the dimensional change of the substrate was 50 μm. Further, there were also some bubbles generated in the peripheral sealing material.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶表示素子の透明電極基板にプラスチック基板を用い
る場合において、面内スペーサが散布される側の一方の
基板には、ラビング処理後の洗浄工程と熱圧着工程との
間で減圧加熱処理を施し、周辺シール材が塗布される側
の他方の基板には、ラビング処理後の洗浄工程と周辺シ
ール材の塗布工程との間で減圧加熱処理を施すようにし
たことにより、2枚のプラスチック基板を反りや寸法変
化がない状態として、ずれを生じさせることなく正確に
熱圧着することができるとともに、周辺シール材内の気
泡発生をも防止することができる。
As described above, according to the present invention,
In the case where a plastic substrate is used as the transparent electrode substrate of the liquid crystal display element, one of the substrates on which the in-plane spacers are scattered is subjected to a reduced pressure heat treatment between the cleaning step after the rubbing treatment and the thermocompression bonding step, The other substrate on the side to which the peripheral sealing material is applied is subjected to a reduced pressure heating process between the cleaning process after the rubbing process and the application process of the peripheral sealing material, so that the two plastic substrates are warped. As a result, the thermocompression bonding can be performed accurately without causing a displacement, and bubbles can be prevented from being generated in the peripheral sealing material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 浩司 兵庫県尼崎市上坂部1丁目2番1号 オプ トレックス株式会社尼崎工場内 Fターム(参考) 2H088 EA22 FA03 FA10 FA16 FA21 FA26 HA01 HA03 KA11 LA08 MA20 2H089 HA30 LA07 LA19 LA46 MA04X MA06Y NA09 NA24 NA45 NA55 NA58 QA12 TA01 2H090 HB08Y JB03 JC08 JC12 JD15  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Koji Fujimoto, Inventor 1-2-1 Kamisakabe, Amagasaki City, Hyogo Prefecture Opterex Amagasaki Plant F-term (reference) 2H088 EA22 FA03 FA10 FA16 FA21 FA26 HA01 HA03 KA11 LA08 MA20 2H089 HA30 LA07 LA19 LA46 MA04X MA06Y NA09 NA24 NA45 NA55 NA58 QA12 TA01 2H090 HB08Y JB03 JC08 JC12 JD15

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明電極上に形成された配向膜をラビン
グ処理した後の第1および第2プラスチック基板を水も
しくは有機溶剤などにより洗浄し、第1プラスチック基
板には面内スペーサを散布して固着し、第2プラスチッ
ク基板には周辺シール材を塗布した後、第1プラスチッ
ク基板と第2プラスチック基板とを周辺シール材を介し
て熱圧着する液晶表示素子の製造方法において、 第1プラスチック基板については洗浄工程後で、かつ、
第2プラスチック基板との貼り合わせ工程前の間で同第
1プラスチック基板を減圧加熱処理し、第2プラスチッ
ク基板については洗浄工程後で、かつ、周辺シール材の
塗布工程前の間で同第2プラスチック基板を減圧加熱処
理することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
The first and second plastic substrates after rubbing the alignment film formed on the transparent electrode are washed with water or an organic solvent, and an in-plane spacer is sprayed on the first plastic substrate. The method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein the first plastic substrate is adhered to the second plastic substrate, and then the first plastic substrate and the second plastic substrate are thermocompressed via the peripheral seal material. Is after the washing process, and
The first plastic substrate is subjected to heat treatment under reduced pressure before the step of bonding with the second plastic substrate, and the second plastic substrate is subjected to the second heat treatment after the cleaning step and before the peripheral sealing material coating step. A method for producing a liquid crystal display element, comprising subjecting a plastic substrate to heat treatment under reduced pressure.
【請求項2】 第1および第2プラスチック基板に対す
る減圧加熱処理条件がともに、100torr以下、6
0℃以上、処理時間1〜24時間である請求項1に記載
の液晶表示素子の製造方法。
2. The reduced pressure heat treatment conditions for the first and second plastic substrates are both 100 torr or less and 6
The method for producing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the temperature is 0 ° C or more and the treatment time is 1 to 24 hours.
【請求項3】 減圧加熱処理後の12時間以内に、第2
プラスチック基板に周辺シール材を塗布し、第1および
第2プラスチック基板を熱圧着する請求項1または2に
記載の液晶表示素子の製造方法。
3. Within 12 hours after the heat treatment under reduced pressure, the second
3. The method according to claim 1, wherein a peripheral sealing material is applied to the plastic substrate, and the first and second plastic substrates are thermocompression-bonded.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6924872B2 (en) 1999-12-02 2005-08-02 Sharp Kabushiki Kaisha Flexible LCD panel fabrication method and flexible LCD panel fabrication system used for the same
US7616288B2 (en) 2004-01-19 2009-11-10 Nec Lcd Technologies, Ltd Method of manufacturing liquid crystal display device with removal of contaminants after cleaning and drying
KR101130937B1 (en) * 2005-04-11 2012-03-30 엘지디스플레이 주식회사 Method for fabricating flexible display
JPWO2018117256A1 (en) * 2016-12-22 2019-10-31 大日本印刷株式会社 Light control member, method for manufacturing light control member, light control body, vehicle

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6924872B2 (en) 1999-12-02 2005-08-02 Sharp Kabushiki Kaisha Flexible LCD panel fabrication method and flexible LCD panel fabrication system used for the same
US7616288B2 (en) 2004-01-19 2009-11-10 Nec Lcd Technologies, Ltd Method of manufacturing liquid crystal display device with removal of contaminants after cleaning and drying
KR101130937B1 (en) * 2005-04-11 2012-03-30 엘지디스플레이 주식회사 Method for fabricating flexible display
JPWO2018117256A1 (en) * 2016-12-22 2019-10-31 大日本印刷株式会社 Light control member, method for manufacturing light control member, light control body, vehicle
US11243440B2 (en) 2016-12-22 2022-02-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Light control member, method for producing light control member, light control body and vehicle
JP7081497B2 (en) 2016-12-22 2022-06-07 大日本印刷株式会社 Dimming member, manufacturing method of dimming member, dimming body, vehicle

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