JP2000284039A - 電波発射源の位置標定方式 - Google Patents
電波発射源の位置標定方式Info
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- JP2000284039A JP2000284039A JP11089427A JP8942799A JP2000284039A JP 2000284039 A JP2000284039 A JP 2000284039A JP 11089427 A JP11089427 A JP 11089427A JP 8942799 A JP8942799 A JP 8942799A JP 2000284039 A JP2000284039 A JP 2000284039A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 繰り返し計算を行なうことなく、高速で位置
標定が可能な位置標定方式を得る。 【解決手段】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を入力する方位線入力手段１、この方位線入力手段１に
入力される複数の方位線のうち所定の一本の方位線と、
他の方位線との交点を演算する交点演算手段５及びこの
交点演算手段５によって演算された各交点の座標を所定
の幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、ヒス
トグラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源
の位置を判定する位置判定手段６を備えた構成とする。
標定が可能な位置標定方式を得る。 【解決手段】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を入力する方位線入力手段１、この方位線入力手段１に
入力される複数の方位線のうち所定の一本の方位線と、
他の方位線との交点を演算する交点演算手段５及びこの
交点演算手段５によって演算された各交点の座標を所定
の幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、ヒス
トグラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源
の位置を判定する位置判定手段６を備えた構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電波逆探装置等
の電波発射源の位置標定方式に関するものである。
の電波発射源の位置標定方式に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１４は、従来の電波発射源の位置標定
方式の構成を示すブロック図である。この図において、
１は方位線入力装置で、航空機や艦艇等の移動する方位
測定装置（図示せず）によって複数の位置で測定された
方位線情報が入力される。方位線情報とは、方位測定装
置の位置（北緯、東経）と、方位情報（真北を基準とし
た角度）とから構成されている。図１５はその概要を示
すもので、Ａ位置において真北に対する角度αの方位が
測定されたことを示している。また、２は初期位置推定
装置で、方位線情報から概略の電波発射源の位置情報を
求めるもので、電波発射源が航空機や艦艇等の方位測定
装置の左右どちらにいるかを判断し、例えば右であれ
ば、方位測定装置の右の１００Ｋｍ先にあると推定す
る。なお、得られる方位線のうちの２本を任意に抽出し
て、その交点として推定することもある。
方式の構成を示すブロック図である。この図において、
１は方位線入力装置で、航空機や艦艇等の移動する方位
測定装置（図示せず）によって複数の位置で測定された
方位線情報が入力される。方位線情報とは、方位測定装
置の位置（北緯、東経）と、方位情報（真北を基準とし
た角度）とから構成されている。図１５はその概要を示
すもので、Ａ位置において真北に対する角度αの方位が
測定されたことを示している。また、２は初期位置推定
装置で、方位線情報から概略の電波発射源の位置情報を
求めるもので、電波発射源が航空機や艦艇等の方位測定
装置の左右どちらにいるかを判断し、例えば右であれ
ば、方位測定装置の右の１００Ｋｍ先にあると推定す
る。なお、得られる方位線のうちの２本を任意に抽出し
て、その交点として推定することもある。
【０００３】３は位置計算装置で、初期位置推定装置２
で得られた概略の位置情報を「ニュートン法」と呼ばれ
る逐次近似計算によって、標定精度の向上を図るもので
ある。以下、位置標定に近似計算が採用される理由につ
いて簡単に説明する。一般に、Ｎ番目に得られた方位線
情報の北緯、東経、角度を、 方位線＝（Lat N , Lon N , θN ） と表現する場合、最適な位置は次式を最小にする位置
（Lat,Lon ）として求められることは周知である。
で得られた概略の位置情報を「ニュートン法」と呼ばれ
る逐次近似計算によって、標定精度の向上を図るもので
ある。以下、位置標定に近似計算が採用される理由につ
いて簡単に説明する。一般に、Ｎ番目に得られた方位線
情報の北緯、東経、角度を、 方位線＝（Lat N , Lon N , θN ） と表現する場合、最適な位置は次式を最小にする位置
（Lat,Lon ）として求められることは周知である。
【数１】 しかし、式(1) を最小にする位置（Lat,Lon ）の計算
が、理論上出来ないことも知られている。従って、近似
計算を用いて近似値を求めることになる。ニュートン法
は、この様な近似計算の一種であり、これを繰り返し使
用することで、より精度の高い近似値を求めることが出
来るが、ニュートン法自体は周知の手法であるため、説
明を省略する。
が、理論上出来ないことも知られている。従って、近似
計算を用いて近似値を求めることになる。ニュートン法
は、この様な近似計算の一種であり、これを繰り返し使
用することで、より精度の高い近似値を求めることが出
来るが、ニュートン法自体は周知の手法であるため、説
明を省略する。
【０００４】４は位置標定結果判定装置で、位置計算装
置３による位置標定結果が十分精度の高いものか否かを
判定するものである。ただし、真の電波発射源位置を知
らないため、位置標定結果判定装置４は、それ自身が出
力する位置標定結果が含んでいる誤差の量を評価するこ
とは出来ない。しかし、近似計算を数回繰り返した後
は、位置計算装置３の出力には次の性質があることが知
られている。 (1) 近似値は次第に真値に近づいていく。決して真値か
ら離れていくようなことは無い。 (2) １回の近似計算で近似値の値がΔＬだけ更新された
とすると、更新された近似値と真値との間の誤差はΔＬ
よりも小さい。従って、位置標定結果判定装置４は、位
置計算装置３が出力する近似値の値の変化をモニタし、
その変化量が規定値以下になった場合に位置標定計算を
終了させることになる。
置３による位置標定結果が十分精度の高いものか否かを
判定するものである。ただし、真の電波発射源位置を知
らないため、位置標定結果判定装置４は、それ自身が出
力する位置標定結果が含んでいる誤差の量を評価するこ
とは出来ない。しかし、近似計算を数回繰り返した後
は、位置計算装置３の出力には次の性質があることが知
られている。 (1) 近似値は次第に真値に近づいていく。決して真値か
ら離れていくようなことは無い。 (2) １回の近似計算で近似値の値がΔＬだけ更新された
とすると、更新された近似値と真値との間の誤差はΔＬ
よりも小さい。従って、位置標定結果判定装置４は、位
置計算装置３が出力する近似値の値の変化をモニタし、
その変化量が規定値以下になった場合に位置標定計算を
終了させることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の電波発射源の位
置標定方式は、以上のように構成されているため、次の
ような問題点があった。即ち、 (1) ニュートン法を用いて、繰り返し近似値を求めるた
め、計算負荷が高く、１個の位置標定結果を得るまでに
長時間を要する。 (2) 式(1) で示されるように、計算式の中に三角関数が
含まれているため、近似値計算の中にも三角関数が入り
込んで計算に長時間を要し、計算負荷を高める要因にな
っている。
置標定方式は、以上のように構成されているため、次の
ような問題点があった。即ち、 (1) ニュートン法を用いて、繰り返し近似値を求めるた
め、計算負荷が高く、１個の位置標定結果を得るまでに
長時間を要する。 (2) 式(1) で示されるように、計算式の中に三角関数が
含まれているため、近似値計算の中にも三角関数が入り
込んで計算に長時間を要し、計算負荷を高める要因にな
っている。
【０００６】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、複雑な三角関数や、繰り返し
計算をする回数を激減し、高速で電波発射源の位置を推
定することが可能な位置標定方式を提供することを目的
としている。
るためになされたもので、複雑な三角関数や、繰り返し
計算をする回数を激減し、高速で電波発射源の位置を推
定することが可能な位置標定方式を提供することを目的
としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る位置標定
方式は、移動する方位測定手段により、複数の位置で電
波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力
する方位線入力手段、この方位線入力手段に入力される
複数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線
との交点を演算する交点演算手段及びこの交点演算手段
によって演算された各交点の座標を所定の幅に設定され
たヒストグラムに蓄積すると共に、ヒストグラムの最も
密度の高い座標にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えたものである。
方式は、移動する方位測定手段により、複数の位置で電
波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力
する方位線入力手段、この方位線入力手段に入力される
複数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線
との交点を演算する交点演算手段及びこの交点演算手段
によって演算された各交点の座標を所定の幅に設定され
たヒストグラムに蓄積すると共に、ヒストグラムの最も
密度の高い座標にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えたものである。
【０００８】この発明に係る位置標定方式は、また、方
位線入力手段に結合され、所定の１本の方位線の傾きに
応じて位置判定手段におけるヒストグラムの幅を調整す
るようにした座標間隔決定手段を設けるものである。
位線入力手段に結合され、所定の１本の方位線の傾きに
応じて位置判定手段におけるヒストグラムの幅を調整す
るようにした座標間隔決定手段を設けるものである。
【０００９】この発明に係る位置標定方式は、また、位
置判定手段のヒストグラムにおける最も密度の高い座標
の密度が所定値以下の場合には、位置判定を行なわない
ようにした位置判定補正手段を設けるものである。
置判定手段のヒストグラムにおける最も密度の高い座標
の密度が所定値以下の場合には、位置判定を行なわない
ようにした位置判定補正手段を設けるものである。
【００１０】この発明に係る位置標定方式は、また、交
点演算手段によって算出された各交点の座標をＸ1 、Ｘ
2 、……Ｘn （ただしＸ1 ＜Ｘ2 ＜……Ｘn ）とすると
共に、全座標のうち最小のものを除いた集合の分散をσ
1 、全座標のうち最大のものを除いた集合の分散をσ2
とし、残りの座標の最小値と最大値との差が所定値以下
の時は、残りの座標の平均値を出力するようにし、残り
の座標の最小値と最大値との差が所定値以上の時は改め
て上記σ1 及びσ2 の演算を行なうようにしたものであ
る。
点演算手段によって算出された各交点の座標をＸ1 、Ｘ
2 、……Ｘn （ただしＸ1 ＜Ｘ2 ＜……Ｘn ）とすると
共に、全座標のうち最小のものを除いた集合の分散をσ
1 、全座標のうち最大のものを除いた集合の分散をσ2
とし、残りの座標の最小値と最大値との差が所定値以下
の時は、残りの座標の平均値を出力するようにし、残り
の座標の最小値と最大値との差が所定値以上の時は改め
て上記σ1 及びσ2 の演算を行なうようにしたものであ
る。
【００１１】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を得ると共に、各
方位線情報のうち同方向を向いている方位線の一つを選
択する方位線選択手段、この方位線選択手段によって選
択された方位線と他の方位線との交点を演算する交点演
算手段及びこの交点演算手段によって演算された各交点
の座標を所定の幅に設定されたヒストグラムに蓄積する
と共に、ヒストグラムの最も密度の高い座標にもとづい
て電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えたも
のである。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を得ると共に、各
方位線情報のうち同方向を向いている方位線の一つを選
択する方位線選択手段、この方位線選択手段によって選
択された方位線と他の方位線との交点を演算する交点演
算手段及びこの交点演算手段によって演算された各交点
の座標を所定の幅に設定されたヒストグラムに蓄積する
と共に、ヒストグラムの最も密度の高い座標にもとづい
て電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えたも
のである。
【００１２】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との交点を
演算する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演
算された各交点のメジアン（中央値）を求め、メジアン
に対応する交点にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えたものである。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との交点を
演算する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演
算された各交点のメジアン（中央値）を求め、メジアン
に対応する交点にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えたものである。
【００１３】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線から、入力数より小さい複数の方位線をランダムに選
択し、選択された各方位線と他の方位線との交点を演算
する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演算さ
れた各交点の座標を、選択された方位線毎に所定の幅に
設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、全ての方位
線のヒストグラム中で最も密度の高い座標にもとづいて
電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えたもの
である。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線から、入力数より小さい複数の方位線をランダムに選
択し、選択された各方位線と他の方位線との交点を演算
する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演算さ
れた各交点の座標を、選択された方位線毎に所定の幅に
設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、全ての方位
線のヒストグラム中で最も密度の高い座標にもとづいて
電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えたもの
である。
【００１４】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との周波数
情報を比較し、所定の１本の方位線と同じ周波数情報を
有する他の方位線を選別する電波諸元フィルタ、この電
波諸元フィルタによって選別された他の方位線と所定の
１本の方位線との交点を演算する交点演算手段及びこの
交点演算手段によって演算された各交点の座標を所定の
幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、ヒスト
グラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源の
位置を判定する位置判定手段を備えたものである。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との周波数
情報を比較し、所定の１本の方位線と同じ周波数情報を
有する他の方位線を選別する電波諸元フィルタ、この電
波諸元フィルタによって選別された他の方位線と所定の
１本の方位線との交点を演算する交点演算手段及びこの
交点演算手段によって演算された各交点の座標を所定の
幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、ヒスト
グラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源の
位置を判定する位置判定手段を備えたものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下、この発明の
実施の形態１を図にもとづいて説明する。図１は、実施
の形態１の構成を示すブロック図である。この図におい
て、１は電波逆探装置から方位線情報を入力する方位線
入力装置で、上述した従来の方位線入力装置と同様に構
成されている。５は入力された複数の方位線のうち所定
の１本の方位線に着目し、この方位線と他の方位線との
交点を計算する交点計算装置、６は交点計算装置５の計
算結果にもとづいて電波発射源の概略位置を判定する位
置判定装置である。
実施の形態１を図にもとづいて説明する。図１は、実施
の形態１の構成を示すブロック図である。この図におい
て、１は電波逆探装置から方位線情報を入力する方位線
入力装置で、上述した従来の方位線入力装置と同様に構
成されている。５は入力された複数の方位線のうち所定
の１本の方位線に着目し、この方位線と他の方位線との
交点を計算する交点計算装置、６は交点計算装置５の計
算結果にもとづいて電波発射源の概略位置を判定する位
置判定装置である。
【００１６】次に、実施の形態１の動作について説明す
る。例えば、図２に示すように、移動する方位測定装置
が４つの位置Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでそれぞれ測定して、方位
線１〜方位線４の４本の方位線が方位線入力装置１に入
力されたとする。交点計算装置５は、所定の１本の方位
線、例えば方位線１に着目し、この方位線と他の方位線
２〜４との交点を計算する。図示の場合の交点は、図中
に交点１〜交点３で示すように３個となる。
る。例えば、図２に示すように、移動する方位測定装置
が４つの位置Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでそれぞれ測定して、方位
線１〜方位線４の４本の方位線が方位線入力装置１に入
力されたとする。交点計算装置５は、所定の１本の方位
線、例えば方位線１に着目し、この方位線と他の方位線
２〜４との交点を計算する。図示の場合の交点は、図中
に交点１〜交点３で示すように３個となる。
【００１７】一般にｎ本（ｎは２以上とし、互いに平行
な線が無いものとする）の方位線のうちの１本が他の方
位線と交わる交点の数は、（ｎ−１）であり、座標を求
めるために行なわなければならない計算の回数は、ｎ−
１回となる。一方、従来方式のように、ｎ本の方位線の
全ての交点を考慮する方式によると、４本の方位線の場
合には図３に示すように、交点の数は６個となる。一般
にｎ本（ｎは２以上とし、互いに平行な線が無いものと
する）の方位線の全ての交点の数は、
な線が無いものとする）の方位線のうちの１本が他の方
位線と交わる交点の数は、（ｎ−１）であり、座標を求
めるために行なわなければならない計算の回数は、ｎ−
１回となる。一方、従来方式のように、ｎ本の方位線の
全ての交点を考慮する方式によると、４本の方位線の場
合には図３に示すように、交点の数は６個となる。一般
にｎ本（ｎは２以上とし、互いに平行な線が無いものと
する）の方位線の全ての交点の数は、
【数２】 式（２）であり、座標を求めるために行わなければなら
ない計算の回数は、交点の総数、即ち方位線の本数の２
乗以上となる。
ない計算の回数は、交点の総数、即ち方位線の本数の２
乗以上となる。
【００１８】上記の(2) 、(3) 式から明らかなように、
全ての交点を考慮して電波発射源を求める従来の方式で
は、計算回数が方位線の本数の２乗以上になるが、この
発明のように、１本の方位線に着目して電波発射源を求
める方式では、単に方位線の本数に比例するだけとな
り、計算回数が格段に少なくて済む。なお、位置判定装
置６は、算出された交点が密集している位置により目標
の概略位置を判定するもので、その手法としてヒストグ
ラムを用いる。即ち、着目した１本の方位線と、他の方
位線との交点を求めた後、そのＸ座標（あるいはＹ座
標）を予め幅を設定しておいたヒストグラムに蓄積す
る。（例えば、Ｘ座標を500m間隔に区切って、ヒストグ
ラムを作成する） このヒストグラムの中で、最も蜜度が高いＸ座標を、求
めるべき位置のＸ座標（Ｘ0 ）とする。また着目した方
位線と、上記で求めたＸ座標（Ｘ0 ）とから「着目した
方位線上で、Ｘ座標がＸ0 となる点のＹ座標」として電
波発射源の位置を求めることが出来る。
全ての交点を考慮して電波発射源を求める従来の方式で
は、計算回数が方位線の本数の２乗以上になるが、この
発明のように、１本の方位線に着目して電波発射源を求
める方式では、単に方位線の本数に比例するだけとな
り、計算回数が格段に少なくて済む。なお、位置判定装
置６は、算出された交点が密集している位置により目標
の概略位置を判定するもので、その手法としてヒストグ
ラムを用いる。即ち、着目した１本の方位線と、他の方
位線との交点を求めた後、そのＸ座標（あるいはＹ座
標）を予め幅を設定しておいたヒストグラムに蓄積す
る。（例えば、Ｘ座標を500m間隔に区切って、ヒストグ
ラムを作成する） このヒストグラムの中で、最も蜜度が高いＸ座標を、求
めるべき位置のＸ座標（Ｘ0 ）とする。また着目した方
位線と、上記で求めたＸ座標（Ｘ0 ）とから「着目した
方位線上で、Ｘ座標がＸ0 となる点のＹ座標」として電
波発射源の位置を求めることが出来る。
【００１９】実施の形態２．次に、この発明の実施の形
態２を図にもとづいて説明する。図４は、実施の形態２
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、座標間隔決定装置７を設けた
点である。
態２を図にもとづいて説明する。図４は、実施の形態２
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、座標間隔決定装置７を設けた
点である。
【００２０】即ち、実施の形態１では、所定の１本の方
位線と、他の方位線との交点が密集する位置を求めて目
標の概略位置を判定する際に、座標系の軸をある決まっ
た間隔（例えば５００ｍ毎）に区切り、この間隔に存在
する交点の密集度をヒストグラムを用いて判定する方式
であるが、この方式によると、方位線の傾きの程度によ
っては概略位置の判定の精度が劣化することがある。即
ち、着目した方位線の傾きが急勾配である（Ｘ軸となす
角度が９０度に近い）場合には、他の方位線との交点と
して求められるＸ座標の値がどれも類似した値になり、
ヒストグラムの同じ範囲に集中してしまう。このため、
方位線入力装置１に入力された方位線のうち、位置標定
のために使用される所定の１本の方位線の傾き（Ｘ軸に
対する角度θ）を座標間隔決定装置７で検出し、その値
に応じた座標間隔を位置判定装置６に送り込むようにし
たものである。
位線と、他の方位線との交点が密集する位置を求めて目
標の概略位置を判定する際に、座標系の軸をある決まっ
た間隔（例えば５００ｍ毎）に区切り、この間隔に存在
する交点の密集度をヒストグラムを用いて判定する方式
であるが、この方式によると、方位線の傾きの程度によ
っては概略位置の判定の精度が劣化することがある。即
ち、着目した方位線の傾きが急勾配である（Ｘ軸となす
角度が９０度に近い）場合には、他の方位線との交点と
して求められるＸ座標の値がどれも類似した値になり、
ヒストグラムの同じ範囲に集中してしまう。このため、
方位線入力装置１に入力された方位線のうち、位置標定
のために使用される所定の１本の方位線の傾き（Ｘ軸に
対する角度θ）を座標間隔決定装置７で検出し、その値
に応じた座標間隔を位置判定装置６に送り込むようにし
たものである。
【００２１】具体的には、着目した１本の方位線の傾き
（Ｘ軸に対する角度）をθとした場合、Ｘ軸に設けるヒ
ストグラムの幅を、本来の値の１／cos(θ) 倍にするも
のである。この結果、Ｘ軸に設けるヒストグラムの幅
が、図５（ａ）に示すように、θが小さい場合には大き
く、また図５（ｂ）に示すように、θが大きい場合には
小さくなり、方位線の傾きによる影響を避けることがで
きる。
（Ｘ軸に対する角度）をθとした場合、Ｘ軸に設けるヒ
ストグラムの幅を、本来の値の１／cos(θ) 倍にするも
のである。この結果、Ｘ軸に設けるヒストグラムの幅
が、図５（ａ）に示すように、θが小さい場合には大き
く、また図５（ｂ）に示すように、θが大きい場合には
小さくなり、方位線の傾きによる影響を避けることがで
きる。
【００２２】実施の形態３．次に、この発明の実施の形
態３を図にもとづいて説明する。図６は、実施の形態３
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、交点の密集度によって位置判
定の制御を行なう位置判定補正装置８を設けた点であ
る。
態３を図にもとづいて説明する。図６は、実施の形態３
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、交点の密集度によって位置判
定の制御を行なう位置判定補正装置８を設けた点であ
る。
【００２３】実施の形態１においては、所定の１本の方
位線と他の方位線との交点をヒストグラムに蓄積し、密
集度の最も大きい場所を出力するものであるが、出力の
対象となった場所のヒストグラムの値が小さい場合に
は、本当に目標が存在しておらず、誤った位置を算出す
る場合があるため、ヒストグラムの最大の密集度の値が
規定値以下である場合には、位置判定補正装置８によっ
て「偽目標」と判定し、出力をしないようにしたもので
ある。図７は、その判定の一例を示すもので、Ｘ軸上の
４と５の間のヒストグラムの値が最も大きいが、その値
（交点数）が２であり、小さいので、目標が存在しない
と判定するものである。
位線と他の方位線との交点をヒストグラムに蓄積し、密
集度の最も大きい場所を出力するものであるが、出力の
対象となった場所のヒストグラムの値が小さい場合に
は、本当に目標が存在しておらず、誤った位置を算出す
る場合があるため、ヒストグラムの最大の密集度の値が
規定値以下である場合には、位置判定補正装置８によっ
て「偽目標」と判定し、出力をしないようにしたもので
ある。図７は、その判定の一例を示すもので、Ｘ軸上の
４と５の間のヒストグラムの値が最も大きいが、その値
（交点数）が２であり、小さいので、目標が存在しない
と判定するものである。
【００２４】実施の形態４．次に、この発明の実施の形
態４を図にもとづいて説明する。図８は、実施の形態４
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、図１における位置判定装置６
を分散最小化法による位置判定装置９に置換したもので
ある。
態４を図にもとづいて説明する。図８は、実施の形態４
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、図１における位置判定装置６
を分散最小化法による位置判定装置９に置換したもので
ある。
【００２５】即ち、実施の形態１で使用するヒストグラ
ムは、簡単に密度の高い部分を求めることができるが、
事前に何らかの基準でヒストグラムの幅を設定する必要
があり、このヒストグラムの幅を設定し違えると、密度
の高い部分を得ることができないという問題点がある。
例えば、ヒストグラムの幅が狭すぎると、交点がバラけ
てしまい、ヒストグラムが積み上がらないという問題が
あり、また、ヒストグラムの幅が広すぎると、交点が集
中しすぎて、密度の高い部分が探し出せないという問題
がある。このため、実施の形態４では、ヒストグラムを
使用せず、分散最小化手法を用いた位置判定装置９を設
けるものである。これは、データの分布の密度の濃い部
分を探し出す手法で、次の手順により処理される。
ムは、簡単に密度の高い部分を求めることができるが、
事前に何らかの基準でヒストグラムの幅を設定する必要
があり、このヒストグラムの幅を設定し違えると、密度
の高い部分を得ることができないという問題点がある。
例えば、ヒストグラムの幅が狭すぎると、交点がバラけ
てしまい、ヒストグラムが積み上がらないという問題が
あり、また、ヒストグラムの幅が広すぎると、交点が集
中しすぎて、密度の高い部分が探し出せないという問題
がある。このため、実施の形態４では、ヒストグラムを
使用せず、分散最小化手法を用いた位置判定装置９を設
けるものである。これは、データの分布の密度の濃い部
分を探し出す手法で、次の手順により処理される。
【００２６】即ち、交点計算装置５によって算出される
交点の座標をＸ１、Ｘ２、・・・・ＸＮとし、Ｘ１＜Ｘ
２＜・・・・・＜ＸＮ という順番で大きさが並んでい
るものとして次の計算を行なう。 全データのうち、最も小さいデータ（最初はＸ１）
を除いた集合の分散（統計量の一種）を求める（σ1 と
する）。 全データのうち、最も大きいデータ（最初はＸＮ）
を除いた集合の分散（統計量の一種）を求める（σ2 と
する）。 σ1 ＜σ2 なら、全データのうち、最も大きいデー
タ（最初はＸＮ）を集合から削除する。σ1 ＞σ2 な
ら、全データのうち、最も小さいデータ（最初はＸ１）
を集合から削除する。 残ったデータの最小値と最大値の差が一定値以下な
らば、計算を止めて、残ったデータの平均値を出力す
る。 残ったデータの最小値と最大値の差が一定値以上な
らば、改めての計算を行なう。 この計算は、徐々にデータ数を減らし、最終的には必ず
密な部分の値を出力することになる。この手法によれ
ば、ヒストグラムを作成することなく、密度の濃い部分
を求めることが出来る。
交点の座標をＸ１、Ｘ２、・・・・ＸＮとし、Ｘ１＜Ｘ
２＜・・・・・＜ＸＮ という順番で大きさが並んでい
るものとして次の計算を行なう。 全データのうち、最も小さいデータ（最初はＸ１）
を除いた集合の分散（統計量の一種）を求める（σ1 と
する）。 全データのうち、最も大きいデータ（最初はＸＮ）
を除いた集合の分散（統計量の一種）を求める（σ2 と
する）。 σ1 ＜σ2 なら、全データのうち、最も大きいデー
タ（最初はＸＮ）を集合から削除する。σ1 ＞σ2 な
ら、全データのうち、最も小さいデータ（最初はＸ１）
を集合から削除する。 残ったデータの最小値と最大値の差が一定値以下な
らば、計算を止めて、残ったデータの平均値を出力す
る。 残ったデータの最小値と最大値の差が一定値以上な
らば、改めての計算を行なう。 この計算は、徐々にデータ数を減らし、最終的には必ず
密な部分の値を出力することになる。この手法によれ
ば、ヒストグラムを作成することなく、密度の濃い部分
を求めることが出来る。
【００２７】実施の形態５．次に、この発明の実施の形
態５を図にもとづいて説明する。図９は、実施の形態５
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、図１における方位線入力装置
１の前に方位線選択装置１０を設け、この装置によって
選択された方位線を方位線入力装置１に入力するように
したものである。
態５を図にもとづいて説明する。図９は、実施の形態５
の構成を示すブロック図である。この図において、図１
と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略
する。図１と異なる点は、図１における方位線入力装置
１の前に方位線選択装置１０を設け、この装置によって
選択された方位線を方位線入力装置１に入力するように
したものである。
【００２８】即ち、実施の形態１の方式においては、最
初の着目する１本の方位線の選択を誤ると、正しいレー
ダの位置を求めることができない場合がある。例えば、
図１０に示すような方位線が得られている場合、方位線
Ｂを選択すれば正しい位置が得られるが、方位線Ａを選
択すると、誤った結果を得ることになる。このため、方
位線選択装置１０を設けて、着目するに望ましい方位線
を選択するようにしたものである。具体的には、各方位
線の方位を求め、同方向を向いている方位線の中から、
着目すべき１本の方位線を選択する。望ましい方位線と
は、同一レーダから多くの方位線が出ているものであ
り、そのような方位線は皆同一方向を向いていることを
利用したものである。
初の着目する１本の方位線の選択を誤ると、正しいレー
ダの位置を求めることができない場合がある。例えば、
図１０に示すような方位線が得られている場合、方位線
Ｂを選択すれば正しい位置が得られるが、方位線Ａを選
択すると、誤った結果を得ることになる。このため、方
位線選択装置１０を設けて、着目するに望ましい方位線
を選択するようにしたものである。具体的には、各方位
線の方位を求め、同方向を向いている方位線の中から、
着目すべき１本の方位線を選択する。望ましい方位線と
は、同一レーダから多くの方位線が出ているものであ
り、そのような方位線は皆同一方向を向いていることを
利用したものである。
【００２９】実施の形態６．次に、この発明の実施の形
態６を図にもとづいて説明する。図１１は、実施の形態
６の構成を示すブロック図である。この図において、図
１と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省
略する。図１と異なる点は、図１における位置判定装置
６をメジアン演算による位置判定装置１１に置換したも
のである。
態６を図にもとづいて説明する。図１１は、実施の形態
６の構成を示すブロック図である。この図において、図
１と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省
略する。図１と異なる点は、図１における位置判定装置
６をメジアン演算による位置判定装置１１に置換したも
のである。
【００３０】即ち、実施の形態１の方式は、ヒストグラ
ムで交点の密度の高い部分を探すものであるが、ヒスト
グラムの幅の設定に関して実施の形態４で説明したよう
な問題点があるため、実施の形態６は、ヒストグラム処
理に代えて、交点のメジアン（中央値）を求めて目標と
判定する位置判定装置１１を設けたものである。メジア
ンを求める処理には、ヒストグラムのような「幅」とい
う概念がなく、そのようなパラメータ設定ミスによる位
置検出ミスが発生しないという特徴がある。また、メジ
アンを求める処理は、処理負荷も軽く、高速処理に適し
ている。
ムで交点の密度の高い部分を探すものであるが、ヒスト
グラムの幅の設定に関して実施の形態４で説明したよう
な問題点があるため、実施の形態６は、ヒストグラム処
理に代えて、交点のメジアン（中央値）を求めて目標と
判定する位置判定装置１１を設けたものである。メジア
ンを求める処理には、ヒストグラムのような「幅」とい
う概念がなく、そのようなパラメータ設定ミスによる位
置検出ミスが発生しないという特徴がある。また、メジ
アンを求める処理は、処理負荷も軽く、高速処理に適し
ている。
【００３１】実施の形態７．次に、この発明の実施の形
態７を図にもとづいて説明する。図１２は、実施の形態
７の構成を示すブロック図である。この図において、図
１と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省
略する。図１と異なる点は、複数の方位線を選択する交
点計算装置５Ａと、複数の方位線毎にヒストグラムに蓄
積する位置判定装置６Ａとを設けて、実施の形態５でも
説明したように、最初の方位線の選択に誤りがあって
も、正しい位置を計算することが出来るようにした点で
ある。
態７を図にもとづいて説明する。図１２は、実施の形態
７の構成を示すブロック図である。この図において、図
１と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省
略する。図１と異なる点は、複数の方位線を選択する交
点計算装置５Ａと、複数の方位線毎にヒストグラムに蓄
積する位置判定装置６Ａとを設けて、実施の形態５でも
説明したように、最初の方位線の選択に誤りがあって
も、正しい位置を計算することが出来るようにした点で
ある。
【００３２】即ち、５Ａは交点計算装置で、基本的な機
能は実施の形態１における交点計算装置５と同等である
が、上述の目的に対応するため、方位線入力装置１に入
力される複数の方位線から、入力数より小さい複数の方
位線をランダムに選択し、選択された各方位線と、他の
方位線との交点を求めるようにされている。また、６Ａ
は位置判定装置で、基本的な機能は実施の形態１におけ
る位置判定装置６と同等であるが、交点計算装置５Ａに
よって計算された各交点の座標を、選択された方位線毎
にヒストグラムに蓄積し、全ての方位線のヒストグラム
中で最も密度の高い部分を採用して目標と判定する。こ
れによって、誤った方位線に着目し、位置判定を誤る危
険性を低減することが出来る。
能は実施の形態１における交点計算装置５と同等である
が、上述の目的に対応するため、方位線入力装置１に入
力される複数の方位線から、入力数より小さい複数の方
位線をランダムに選択し、選択された各方位線と、他の
方位線との交点を求めるようにされている。また、６Ａ
は位置判定装置で、基本的な機能は実施の形態１におけ
る位置判定装置６と同等であるが、交点計算装置５Ａに
よって計算された各交点の座標を、選択された方位線毎
にヒストグラムに蓄積し、全ての方位線のヒストグラム
中で最も密度の高い部分を採用して目標と判定する。こ
れによって、誤った方位線に着目し、位置判定を誤る危
険性を低減することが出来る。
【００３３】実施の形態８．次に、この発明の実施の形
態８を図にもとづいて説明する。図１３は、実施の形態
８の構成を示すブロック図である。この図において、図
１と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省
略する。図１と異なる点は、着目した１本の方位線と同
じ周波数情報を有する他の方位線を選別する電波諸元フ
ィルタ１２を設けた点である。
態８を図にもとづいて説明する。図１３は、実施の形態
８の構成を示すブロック図である。この図において、図
１と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省
略する。図１と異なる点は、着目した１本の方位線と同
じ周波数情報を有する他の方位線を選別する電波諸元フ
ィルタ１２を設けた点である。
【００３４】即ち、実施の形態１の方式においては、所
定の１本の方位線に着目し、この方位線と他の方位線と
の交点を計算し、その密度の濃い部分を探すようにして
いるが、一般にレーダ装置は各々異なる周波数で運用し
ており、異なる周波数を持つ方位線同士の交点は意味が
ない。このため、電波諸元フィルタ１２において、所定
の１本の方位線と他の方位線との周波数情報を比較し、
同じ周波数情報を有する方位線を選別し、選別された方
位線との交点を交点計算装置５で算出し、異なる周波数
情報を有する方位線との交点は算出しないようにしてい
る。
定の１本の方位線に着目し、この方位線と他の方位線と
の交点を計算し、その密度の濃い部分を探すようにして
いるが、一般にレーダ装置は各々異なる周波数で運用し
ており、異なる周波数を持つ方位線同士の交点は意味が
ない。このため、電波諸元フィルタ１２において、所定
の１本の方位線と他の方位線との周波数情報を比較し、
同じ周波数情報を有する方位線を選別し、選別された方
位線との交点を交点計算装置５で算出し、異なる周波数
情報を有する方位線との交点は算出しないようにしてい
る。
【００３５】
【発明の効果】この発明に係る電波発射源の位置標定方
式は、移動する方位測定手段により、複数の位置で電波
発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力す
る方位線入力手段、この方位線入力手段に入力される複
数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線と
の交点を演算する交点演算手段及びこの交点演算手段に
よって演算された各交点の座標を所定の幅に設定された
ヒストグラムに蓄積すると共に、ヒストグラムの最も密
度の高い座標にもとづいて電波発射源の位置を判定する
位置判定手段を備えているため、繰り返し計算を行なう
ことなく、位置標定を高速で行なうことができる。
式は、移動する方位測定手段により、複数の位置で電波
発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力す
る方位線入力手段、この方位線入力手段に入力される複
数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線と
の交点を演算する交点演算手段及びこの交点演算手段に
よって演算された各交点の座標を所定の幅に設定された
ヒストグラムに蓄積すると共に、ヒストグラムの最も密
度の高い座標にもとづいて電波発射源の位置を判定する
位置判定手段を備えているため、繰り返し計算を行なう
ことなく、位置標定を高速で行なうことができる。
【００３６】この発明に係る位置標定方式は、また、方
位線入力手段に結合され、所定の１本の方位線の傾きに
応じて位置判定手段におけるヒストグラムの幅を調整す
るようにしたため、高精度の位置標定が可能となる。
位線入力手段に結合され、所定の１本の方位線の傾きに
応じて位置判定手段におけるヒストグラムの幅を調整す
るようにしたため、高精度の位置標定が可能となる。
【００３７】この発明に係る位置標定方式は、また、位
置判定手段のヒストグラムにおける最も密度の高い座標
の密度が所定値以下の場合には、位置判定を行なわない
ようにしたため、誤った位置標定をすることがない。
置判定手段のヒストグラムにおける最も密度の高い座標
の密度が所定値以下の場合には、位置判定を行なわない
ようにしたため、誤った位置標定をすることがない。
【００３８】この発明に係る位置標定方式は、また、交
点演算手段によって算出された各交点の座標をＸ1 、Ｘ
2 、……Ｘn （ただしＸ1 ＜Ｘ2 ＜……Ｘn ）とすると
共に、全座標のうち最小のものを除いた集合の分散をσ
1 、全座標のうち最大のものを除いた集合の分散をσ2
とし、残りの座標の最小値と最大値との差が所定値以下
の時は、残りの座標の平均値を出力するようにし、残り
の座標の最小値と最大値との差が所定値以上の時は改め
て上記σ1 及びσ2 の演算を行なうようにしたため、ヒ
ストグラムを作成することなく、密度の濃い部分を求め
ることができる。
点演算手段によって算出された各交点の座標をＸ1 、Ｘ
2 、……Ｘn （ただしＸ1 ＜Ｘ2 ＜……Ｘn ）とすると
共に、全座標のうち最小のものを除いた集合の分散をσ
1 、全座標のうち最大のものを除いた集合の分散をσ2
とし、残りの座標の最小値と最大値との差が所定値以下
の時は、残りの座標の平均値を出力するようにし、残り
の座標の最小値と最大値との差が所定値以上の時は改め
て上記σ1 及びσ2 の演算を行なうようにしたため、ヒ
ストグラムを作成することなく、密度の濃い部分を求め
ることができる。
【００３９】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を得ると共に、各
方位線情報のうち同方向を向いている方位線の一つを選
択する方位線選択手段、この方位線選択手段によって選
択された方位線と他の方位線との交点を演算する交点演
算手段及びこの交点演算手段によって演算された各交点
の座標を所定の幅に設定されたヒストグラムに蓄積する
と共に、ヒストグラムの最も密度の高い座標にもとづい
て電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えてい
るため、着目する方位線の選択を誤ることがない。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を得ると共に、各
方位線情報のうち同方向を向いている方位線の一つを選
択する方位線選択手段、この方位線選択手段によって選
択された方位線と他の方位線との交点を演算する交点演
算手段及びこの交点演算手段によって演算された各交点
の座標を所定の幅に設定されたヒストグラムに蓄積する
と共に、ヒストグラムの最も密度の高い座標にもとづい
て電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えてい
るため、着目する方位線の選択を誤ることがない。
【００４０】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との交点を
演算する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演
算された各交点のメジアン（中央値）を求め、メジアン
に対応する交点にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えているため、ヒストグラムを作成
することなく、かつ処理負荷も軽く高速処理ができる。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との交点を
演算する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演
算された各交点のメジアン（中央値）を求め、メジアン
に対応する交点にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えているため、ヒストグラムを作成
することなく、かつ処理負荷も軽く高速処理ができる。
【００４１】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線から、入力数より小さい複数の方位線をランダムに選
択し、選択された各方位線と他の方位線との交点を演算
する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演算さ
れた各交点の座標を、選択された方位線毎に所定の幅に
設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、全ての方位
線のヒストグラム中で最も密度の高い座標にもとづいて
電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えている
ため、誤った方位線に着目し、位置判定を誤る危険性を
低減することができる。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線から、入力数より小さい複数の方位線をランダムに選
択し、選択された各方位線と他の方位線との交点を演算
する交点演算手段及びこの交点演算手段によって演算さ
れた各交点の座標を、選択された方位線毎に所定の幅に
設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、全ての方位
線のヒストグラム中で最も密度の高い座標にもとづいて
電波発射源の位置を判定する位置判定手段を備えている
ため、誤った方位線に着目し、位置判定を誤る危険性を
低減することができる。
【００４２】この発明に係る位置標定方式は、また、移
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との周波数
情報を比較し、所定の１本の方位線と同じ周波数情報を
有する他の方位線を選別する電波諸元フィルタ、この電
波諸元フィルタによって選別された他の方位線と所定の
１本の方位線との交点を演算する交点演算手段及びこの
交点演算手段によって演算された各交点の座標を所定の
幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、ヒスト
グラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源の
位置を判定する位置判定手段を備えているため、誤った
位置検出を効果的に抑えることができる。
動する方位測定手段により、複数の位置で電波発射源の
方位を測定し、それぞれの方位線情報を入力する方位線
入力手段、この方位線入力手段に入力される複数の方位
線のうち所定の１本の方位線と、他の方位線との周波数
情報を比較し、所定の１本の方位線と同じ周波数情報を
有する他の方位線を選別する電波諸元フィルタ、この電
波諸元フィルタによって選別された他の方位線と所定の
１本の方位線との交点を演算する交点演算手段及びこの
交点演算手段によって演算された各交点の座標を所定の
幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると共に、ヒスト
グラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源の
位置を判定する位置判定手段を備えているため、誤った
位置検出を効果的に抑えることができる。
【図１】 この発明の実施の形態１の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図２】 実施の形態１による位置標定の具体例を示す
説明図である。
説明図である。
【図３】 従来の方式による位置標定の具体例を示す説
明図である。
明図である。
【図４】 この発明の実施の形態２の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図５】 実施の形態２による方位線の傾きとヒストグ
ラムの幅との関係を示す説明図である。
ラムの幅との関係を示す説明図である。
【図６】 この発明の実施の形態３の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図７】 実施の形態３による判定の一例を示す説明図
である。
である。
【図８】 この発明の実施の形態４の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図９】 この発明の実施の形態５の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図１０】 実施の形態５による方位線選択の一例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図１１】 この発明の実施の形態６の構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図１２】 この発明の実施の形態７の構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図１３】 この発明の実施の形態８の構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図１４】 従来の電波発射源の位置標定方式の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図１５】 従来の電波発射源の位置標定方式における
方位測定の概要を示す説明図である。
方位測定の概要を示す説明図である。
１ 方位線入力装置、 ５、５Ａ 交点計算装置、６、
６Ａ 位置判定装置、 ７ 座標間隔決定装置、８ 位
置判定補正装置、 ９ 分散最小化法による位置判定装
置、１０ 方位線選択装置、 １１ メジアン演算によ
る位置判定装置、１２ 電波諸元フィルタ。
６Ａ 位置判定装置、 ７ 座標間隔決定装置、８ 位
置判定補正装置、 ９ 分散最小化法による位置判定装
置、１０ 方位線選択装置、 １１ メジアン演算によ
る位置判定装置、１２ 電波諸元フィルタ。
Claims (8)
- 【請求項１】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を入力する方位線入力手段、上記方位線入力手段に入力
される複数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の
方位線との交点を演算する交点演算手段及び上記交点演
算手段によって演算された各交点の座標を所定の幅に設
定されたヒストグラムに蓄積すると共に、上記ヒストグ
ラムの最も密度の高い座標にもとづいて電波発射源の位
置を判定する位置判定手段を備えた電波発射源の位置標
定方式。 - 【請求項２】 請求項１において、方位線入力手段に結
合され、所定の１本の方位線の傾きに応じて位置判定手
段におけるヒストグラムの幅を調整するようにした座標
間隔決定手段を設けることを特徴とする電波発射源の位
置標定方式。 - 【請求項３】 位置判定手段のヒストグラムにおける最
も密度の高い座標の密度が所定値以下の場合には、位置
判定を行なわないようにした位置判定補正手段を設ける
ことを特徴とする請求項１記載の電波発射源の位置標定
方式。 - 【請求項４】 交点演算手段によって算出された各交点
の座標をＸ1 、Ｘ2、……Ｘn （ただしＸ1 ＜Ｘ2 ＜…
…Ｘn ）とすると共に、全座標のうち最小のものを除い
た集合の分散をσ1 、全座標のうち最大のものを除いた
集合の分散をσ2 とし、残りの座標の最小値と最大値と
の差が所定値以下の時は、残りの座標の平均値を出力す
るようにし、残りの座標の最小値と最大値との差が所定
値以上の時は改めて上記σ1 及びσ2 の演算を行なうよ
うにしたことを特徴とする請求項１記載の電波発射源の
位置標定方式。 - 【請求項５】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を得ると共に、上記各方位線情報のうち同方向を向いて
いる方位線の一つを選択する方位線選択手段、上記方位
線選択手段によって選択された方位線と他の方位線との
交点を演算する交点演算手段及び上記交点演算手段によ
って演算された各交点の座標を所定の幅に設定されたヒ
ストグラムに蓄積すると共に、上記ヒストグラムの最も
密度の高い座標にもとづいて電波発射源の位置を判定す
る位置判定手段を備えた電波発射源の位置標定方式。 - 【請求項６】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を入力する方位線入力手段、上記方位線入力手段に入力
される複数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の
方位線との交点を演算する交点演算手段及び上記交点演
算手段によって演算された各交点のメジアン（中央値）
を求め、上記メジアンに対応する交点にもとづいて電波
発射源の位置を判定する位置判定手段を備えた電波発射
源の位置標定方式。 - 【請求項７】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を入力する方位線入力手段、上記方位線入力手段に入力
される複数の方位線から、入力数より小さい複数の方位
線をランダムに選択し、選択された各方位線と他の方位
線との交点を演算する交点演算手段及び上記交点演算手
段によって演算された各交点の座標を、選択された方位
線毎に所定の幅に設定されたヒストグラムに蓄積すると
共に、全ての方位線のヒストグラム中で最も密度の高い
座標にもとづいて電波発射源の位置を判定する位置判定
手段を備えた電波発射源の位置標定方式。 - 【請求項８】 移動する方位測定手段により、複数の位
置で電波発射源の方位を測定し、それぞれの方位線情報
を入力する方位線入力手段、上記方位線入力手段に入力
される複数の方位線のうち所定の１本の方位線と、他の
方位線との周波数情報を比較し、上記所定の１本の方位
線と同じ周波数情報を有する他の方位線を選別する電波
諸元フィルタ、上記電波諸元フィルタによって選別され
た他の方位線と上記所定の１本の方位線との交点を演算
する交点演算手段及び上記交点演算手段によって演算さ
れた各交点の座標を所定の幅に設定されたヒストグラム
に蓄積すると共に、上記ヒストグラムの最も密度の高い
座標にもとづいて電波発射源の位置を判定する位置判定
手段を備えた電波発射源の位置標定方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8942799A JP3532445B2 (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 電波発射源の位置標定方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8942799A JP3532445B2 (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 電波発射源の位置標定方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000284039A true JP2000284039A (ja) | 2000-10-13 |
| JP3532445B2 JP3532445B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=13970372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8942799A Expired - Fee Related JP3532445B2 (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 電波発射源の位置標定方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3532445B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100430255B1 (ko) * | 2001-08-20 | 2004-05-04 | 엘지이노텍 주식회사 | 신호원 방향 탐지방법 |
| JP2009531697A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-03 | ミツビシ・エレクトリック・アールアンドディー・センター・ヨーロッパ・ビーヴィ | 複数の方位線からの物体の位置特定の方法及び装置 |
| JP2016038320A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 位置推定装置 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP8942799A patent/JP3532445B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| KR100430255B1 (ko) * | 2001-08-20 | 2004-05-04 | 엘지이노텍 주식회사 | 신호원 방향 탐지방법 |
| JP2009531697A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-03 | ミツビシ・エレクトリック・アールアンドディー・センター・ヨーロッパ・ビーヴィ | 複数の方位線からの物体の位置特定の方法及び装置 |
| JP2016038320A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 位置推定装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3532445B2 (ja) | 2004-05-31 |
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