JP2000277925A - Insulating resin adhesive for multilayer printed interconnection board - Google Patents

Insulating resin adhesive for multilayer printed interconnection board

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JP2000277925A
JP2000277925A JP8348699A JP8348699A JP2000277925A JP 2000277925 A JP2000277925 A JP 2000277925A JP 8348699 A JP8348699 A JP 8348699A JP 8348699 A JP8348699 A JP 8348699A JP 2000277925 A JP2000277925 A JP 2000277925A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin
epoxy
interlayer insulating
insulating adhesive
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Japanese (ja)
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Masao Kamisaka
政夫 上坂
Toshirou Komiyatani
壽郎 小宮谷
Hitoshi Kawaguchi
均 川口
Masataka Arai
政貴 新井
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a fire resistance, etc., of an inter-layer insulating adhesive for multilayer interconnection board by comprising a sulfur containing amorphous thermo-plastic resin, weight-average molecular weight in specified range of sulfur containing epoxy resin, multifunctional epoxy resin of epoxy equivalent to a specific value or less, epoxy settling agent, and phosphorus containing compound agent. SOLUTION: An interlayer insulating adhesive for multilayer interconnection board comprises, as essential component, a phosphorus containing amorphous thermo-plastic resin containing polysulfone and polyethersulfone of weight- average molecular weight 103-105, phosphorus containing epoxy resin such as bisphenol type epoxy resin, novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene epoxy resin of weight-average molecular weight 103-105, as well as multifunctional epoxy resin of epoxy equivalent 500 or less, epoxy curing agent, and phosphorus containing compound agent which does not contain halogen. Thus, fire-resistance and heat characteristics are improve.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は層間絶縁樹脂接着剤
に関し、特に熱特性に優れ、層間絶縁層厚を一定に確保
でき、難燃性及び保存安定性にすぐれ、かつ、100℃
以上の高温で速やかに硬化しうるエポキシ樹脂系層間絶
縁接着剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an interlayer insulating resin adhesive, and more particularly to an adhesive having excellent thermal characteristics, a constant thickness of an interlayer insulating layer, excellent flame retardancy and storage stability, and 100 ° C.
The present invention relates to an epoxy resin-based interlayer insulating adhesive which can be quickly cured at the above-mentioned high temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多層プリント配線板を製造する場
合、回路が形成された内層回路基板上にガラスクロス基
材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシ
ートを1枚以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱板プレ
スにて加圧一体成形するという工程を経ている。かかる
方法では、多層積層にけるガラスクロスプリプレグと銅
箔をセットする工程、及びガラスクロスプリプレグのコ
スト等により高コストとなっている。また、成形時、加
熱加圧により樹脂をフローさせて内層回路を埋め込み、
さらに樹脂のフローによりボイドを追い出すため、回路
層間の絶縁樹脂厚みを一定に保つのが難しい。加えて、
回路層間にガラスクロスが存在する場合、ガラスクロス
への樹脂の含浸性が良くないと耐吸湿性、耐マイグレー
ション性に影響がでる場合がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a multilayer printed wiring board is manufactured, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with an epoxy resin and semi-curing are laminated on an inner circuit board on which a circuit is formed. A process of laminating a copper foil thereon and integrally press-molding with a hot plate press is performed. In such a method, the cost is high due to the step of setting the glass cloth prepreg and the copper foil in the multilayer lamination and the cost of the glass cloth prepreg. Also, at the time of molding, the resin is flowed by heating and pressing to embed the inner layer circuit,
Further, since voids are expelled by the flow of the resin, it is difficult to keep the thickness of the insulating resin between circuit layers constant. in addition,
When a glass cloth is present between circuit layers, if the glass cloth is not sufficiently impregnated with the resin, the moisture absorption resistance and the migration resistance may be affected.

【0003】近年、これらの問題を解決するため、既存
のプレス設備を用い回路層間の絶縁層にガラスクロスを
用いないで多層プリント配線板を製造する技術が改めて
注目されている。しかし、プレス方式においては、絶縁
層にガラスクロス等の基材がない場合、回路層間の厚み
のバラツキを小さくするのは困難であった。
In recent years, in order to solve these problems, a technique of manufacturing a multilayer printed wiring board using existing press equipment without using a glass cloth as an insulating layer between circuit layers has been renewed. However, in the press method, when there is no base material such as glass cloth in the insulating layer, it has been difficult to reduce the thickness variation between circuit layers.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ビルドアップ方式によ
る多層プリント配線板において、フィルム状の層間絶縁
樹脂層を用いた場合、ガラスクロス基材がないためプレ
ス成形した後の層間厚みのバラツキが大きくなりやすい
ため、成形条件を厳密に制御する必要があり、成形が非
常に難しい。
In a multilayer printed wiring board using a build-up method, when a film-like interlayer insulating resin layer is used, there is no glass cloth base material, so that the thickness of the interlayer after press-molding varies greatly. Because it is easy, molding conditions must be strictly controlled, and molding is very difficult.

【0005】このようなプロセスにおいて、銅箔粗化面
へのコーティング樹脂を1層で形成し軟化点が高い樹脂
をコーティングすると、成形時のフローが小さく内層回
路の凹凸を埋め込むだけのフロー量を確保できなくな
る。また樹脂の軟化点を下げて成形時のフローを大きく
し樹脂層を1層で形成すると、内層回路の凹凸を埋め込
むことはできるが、フロー量が多すぎ絶縁層間厚を一定
に確保するのが難しくなる。そのために特願平9−20
3488号明細書では高フロー層と低フロー層の2層構
造とすることで、この問題を解決してきた。しかし、こ
の方法では、製造上工程が多い上、熱特性においても不
十分であり、CSP、MCM及びフリップチップ実装等
に耐えうるものではなく、また、絶縁層厚みを均一にす
るために、溶融粘度を高くしてフローを制御する樹脂設
計を行っている。そのため成形前の絶縁樹脂の硬化度合
いの微細な相違が成形性に大きく影響し、かつ常温での
保存安定性に欠けることになる。また、熱特性ととも
に、ハロゲン化合物を使用しないで優れた難燃性を有す
る絶縁樹脂に対する要求も大きくなっている。。
[0005] In such a process, when a coating resin on the roughened surface of the copper foil is formed in one layer and a resin having a high softening point is coated, the flow during molding is small and the flow amount for embedding irregularities of the inner layer circuit is small. It cannot be secured. If the resin layer is formed as a single layer by lowering the softening point of the resin and increasing the flow during molding, the unevenness of the inner layer circuit can be buried, but the flow amount is too large, and it is necessary to secure a constant insulating interlayer thickness. It becomes difficult. For that purpose, Japanese Patent Application 9-20
In the specification of US Pat. No. 3488, this problem has been solved by adopting a two-layer structure of a high flow layer and a low flow layer. However, this method involves many steps in manufacturing and has insufficient thermal characteristics, and cannot be used for CSP, MCM, flip-chip mounting, and the like. We are designing resin to control flow by increasing viscosity. Therefore, a minute difference in the degree of curing of the insulating resin before molding greatly affects moldability, and lacks storage stability at room temperature. In addition to the thermal characteristics, there is a growing demand for an insulating resin having excellent flame retardancy without using a halogen compound. .

【0006】本発明は、かかる問題を改善するために検
討し、完成されたものであり、ガラスクロスのない絶縁
層を有する多層プリント配線板において、難燃性及び熱
特性に優れ、かつ保存安定性に優れ、問題となる層間絶
縁樹脂厚のバラツキが少ない多層プリント配線板を提供
することを目的とする。
[0006] The present invention has been studied to improve such problems, and has been completed. A multilayer printed wiring board having an insulating layer without glass cloth has excellent flame retardancy and thermal characteristics, and is stable in storage. It is an object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board which is excellent in performance and has a small variation in the thickness of an interlayer insulating resin which is a problem.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記の各成分
を必須成分として含有することを特徴とする多層プリン
ト配線板用層間絶縁接着剤に関するものである。 (イ)重量平均分子量103〜105の硫黄成分含有非晶
性熱可塑性樹脂、(ロ)重量平均分子量103〜105
硫黄成分含有エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂、(ハ)
エポキシ当量500以下の多官能エポキシ樹脂 (ニ)エポキシ硬化剤、及び(ホ)ハロゲンを含まない
リン含有化合物剤。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board, comprising the following components as essential components. (A) an amorphous thermoplastic resin containing a sulfur component having a weight average molecular weight of 10 3 to 10 5 , (b) an epoxy resin or a phenoxy resin containing a sulfur component having a weight average molecular weight of 10 3 to 10 5 , (c)
Polyfunctional epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less (d) Epoxy curing agent, and (e) a halogen-free phosphorus-containing compound agent.

【0008】本発明において、(イ)成分の重量平均分
子量103〜105の硫黄成分含有非晶性熱可塑性樹脂
は、プレス成形時の樹脂流れを小さくし、絶縁層の厚み
を維持すること、および組成物に可とう性を付与すると
共に、絶縁樹脂の高耐熱化、熱履歴の低減を目的として
配合されている。(イ)成分としては、ポリサルフォン
及びポリエーテルサルフォンがあり、この硫黄成分含有
非晶性熱可塑性樹脂の末端が水酸基、カルボキシル基、
あるいはアミノ基で変性されていれば、エポキシ樹脂と
の反応性も良いことから、熱硬化後に硫黄成分含有熱可
塑樹脂とエポキシ樹脂との相分離を抑えるとともに、硬
化物の耐熱性が向上する。このため上記変性がなされた
硫黄成分含有非晶性熱可塑性樹脂が望ましい。この高分
子量硫黄成分含有非晶性熱可塑性樹脂の割合は樹脂全体
に対して20〜70重量%であることが好ましい。20
重量%より少ないと、粘度が高くならず厚みを保つこと
が不十分となり、従ってプレスした後の絶縁層間厚の確
保ができなくなり、外層回路の平滑性が劣るようになる
と共に、耐熱性が不十分となりやすい。一方、70重量
%より多いと、接着剤組成物が堅く弾力性に欠けるた
め、プレス成形時の基材の凹凸への追従性、密着性が悪
く、成形ボイド発生の原因となることがある。
In the present invention, the (a) component-containing amorphous thermoplastic resin having a weight average molecular weight of 10 3 to 10 5 reduces the resin flow during press molding and maintains the thickness of the insulating layer. In addition to imparting flexibility to the composition and the composition, it is blended for the purpose of increasing the heat resistance of the insulating resin and reducing the heat history. The component (a) includes polysulfone and polyethersulfone, and the terminal of the sulfur-containing amorphous thermoplastic resin has a hydroxyl group, a carboxyl group,
Alternatively, if modified with an amino group, the reactivity with the epoxy resin is good, so that the phase separation between the sulfur-containing thermoplastic resin and the epoxy resin after thermal curing is suppressed, and the heat resistance of the cured product is improved. For this reason, the above-mentioned modified amorphous thermoplastic resin containing a sulfur component is desirable. The proportion of the high-molecular-weight sulfur-containing amorphous thermoplastic resin is preferably 20 to 70% by weight based on the whole resin. 20
If the amount is less than 10% by weight, the viscosity does not increase and the thickness cannot be maintained sufficiently. Therefore, it is not possible to secure the thickness of the insulating interlayer after pressing, and the smoothness of the outer layer circuit becomes poor, and the heat resistance becomes poor. Easy enough. On the other hand, if the content is more than 70% by weight, the adhesive composition is hard and lacks elasticity, so that it has poor followability and adhesion to the unevenness of the substrate during press molding, which may cause molding voids.

【0009】(イ)成分のみでは通常のプレス条件(2
00℃以下)で成形可能な程度の流動性は期待出来ない
ため、フローの調整を目的として(ロ)成分の重量平均
分子量103〜105の硫黄成分含有エポキシ樹脂又はフ
ェノキシ樹脂を配合する。(ロ)成分は、ビスフェノー
ルS型エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂、又はビスフェ
ノールS型とビスフェノール型或いはビフェニル型との
共重合エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂が通常使用さ
れ、軟化点が70〜140℃であることが好ましい。ま
た、上記フロー調整の目的以外にも、硫黄成分を有する
ことにより、(イ)成分との相溶性も良くなり、ワニス
としたときの安定性、硬化物の均一性及び熱特性を維持
することができる。配合割合は、樹脂全体に対して、1
0〜40重量%である。10重量%より少ないと、プレ
ス成形時のフローが充分でなく、密着性の低下、成形ボ
イドの原因となりやすく、一方、40重量%より多い
と、耐熱性が不十分となりやすい。
[0009] With only the component (a), the usual pressing conditions (2
(00 ° C. or lower), a fluidity that can be molded is not expected. For the purpose of adjusting the flow, an epoxy resin or a phenoxy resin containing a sulfur component having a weight average molecular weight of 10 3 to 10 5 (b) is blended. The component (b) is usually a bisphenol S type epoxy resin or a phenoxy resin, or a copolymer epoxy resin or a phenoxy resin of a bisphenol S type and a bisphenol type or a biphenyl type, and has a softening point of 70 to 140 ° C. preferable. In addition to the purpose of the flow adjustment, by having a sulfur component, the compatibility with the component (a) is improved, and the stability as a varnish, the uniformity of the cured product, and the thermal characteristics are maintained. Can be. The mixing ratio is 1 to the entire resin.
0 to 40% by weight. If the amount is less than 10% by weight, the flow during press molding is not sufficient, which tends to cause a decrease in adhesion and molding voids, while if it is more than 40% by weight, heat resistance tends to be insufficient.

【0010】上記(イ)及び(ロ)成分の高分子量硫黄
成分含有樹脂のみでは、密着性に欠けること、半田実装
時の耐熱性が充分でないこと、及び銅箔にコートするた
めに溶剤に溶解してワニスとしたときに、粘度が高く、
コート時の塗れ性、作業性が良くない。このような欠点
を改善するために(ハ)成分であるエポキシ当量500
以下の多官能エポキシ樹脂を配合する。この配合割合は
樹脂全体の10〜70重量%である。10重量%未満で
は上記の効果が十分に期待できず、また、70重量%を
越えると前記高分子量硫黄成分含有熱可塑樹脂の効果が
小さくなる。(ハ)成分のエポキシ樹脂としてはビスフ
ェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、
ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エ
ポキシ樹脂、アルコール型エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂等があるが、
難燃性付与のためには、臭素化エポキシ樹脂を使用する
ことができるが、これ以外に、ノボラック型エポキシ樹
脂、硫黄、窒素などのヘテロ原子を含むものを使用する
ことにより、多層プリント配線板の難燃化を図ることが
できる。
[0010] The resin containing the high molecular weight sulfur component of the above components (a) and (b) alone lacks adhesiveness, has insufficient heat resistance at the time of solder mounting, and dissolves in a solvent to coat a copper foil. When varnished, the viscosity is high,
Poor coatability and workability during coating. In order to improve such a defect, an epoxy equivalent of 500 (c) is used.
The following polyfunctional epoxy resin is blended. This mixing ratio is 10 to 70% by weight of the whole resin. If the amount is less than 10% by weight, the above effects cannot be expected sufficiently, and if it exceeds 70% by weight, the effect of the high molecular weight sulfur component-containing thermoplastic resin becomes small. (C) As the epoxy resin of the component, bisphenol type epoxy resin, novolak type epoxy resin,
There are biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, alcohol type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aminophenol type epoxy resin, etc.
In order to impart flame retardancy, a brominated epoxy resin can be used, but in addition to this, a novolak type epoxy resin, a compound containing a hetero atom such as sulfur, nitrogen, etc. Can be made flame-retardant.

【0011】次に、エポキシ樹脂硬化剤はアミン化合
物、イミダゾール化合物、酸無水物など、特に限定され
るものではないが、イミダゾール化合物は配合量が少な
くてもエポキシ樹脂を十分に硬化させることができ、臭
素化等により難燃化したエポキシ樹脂を使用する場合、
難燃性を効果的に発揮できるので好ましいものである。
イミダゾール化合物は、融点130℃以上の常温で固形
であり、エポキシ樹脂への溶解性が小さく、150℃以
上の高温になって、エポキシ樹脂と速やかに反応する物
が特に好ましい。具体的には2−メチルイミダゾール、
2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル
イミダゾール、ビス(2−エチル−4−メチル−イミダ
ゾール)、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシ
メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロ
キシメチルイミダゾール、トリアジン付加型イミダゾー
ル等がある。これらのイミダゾールは微粉末としてエポ
キシ樹脂ワニス中に均一に分散される。エポキシ樹脂と
の相溶性が小さいので、常温〜100℃では反応が進行
せず、従って保存安定性を良好に保つことができる。そ
して加熱加圧成形時に150℃以上に加熱すると、エポ
キシ樹脂と反応し、均一な硬化物が得られる。
Next, the epoxy resin curing agent is not particularly limited, such as an amine compound, an imidazole compound, and an acid anhydride. However, the imidazole compound can sufficiently cure the epoxy resin even if the compounding amount is small. When using an epoxy resin that has become flame-retardant due to bromination, etc.
It is preferable because it can effectively exhibit flame retardancy.
It is particularly preferable that the imidazole compound is solid at room temperature having a melting point of 130 ° C. or higher, has low solubility in the epoxy resin, and rapidly reacts with the epoxy resin at a high temperature of 150 ° C. or higher. Specifically, 2-methylimidazole,
2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxy Examples include methyl imidazole and triazine addition type imidazole. These imidazoles are uniformly dispersed as fine powder in the epoxy resin varnish. Since the compatibility with the epoxy resin is small, the reaction does not proceed at room temperature to 100 ° C., so that the storage stability can be kept good. Then, when heated to 150 ° C. or more at the time of heat and pressure molding, it reacts with the epoxy resin to obtain a uniform cured product.

【0012】その他硬化剤として、無水フタル酸、無水
テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル
酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、
無水メチルブテニルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無
水ヘキサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピ
ロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等
の酸無水物、三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジ
アミド又はその誘導体などが挙げられ、これらをエポキ
シアダクト化したものやマイクロカプセル化したものも
使用できる。上記エポキシ樹脂及び硬化剤の他に、エポ
キシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配合することができ
る。例えば、エポキシ反応性希釈剤(一官能型としてフ
ェニルグリシジルエーテルなど、二官能型としてレゾル
シンジグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシ
ジルエーテルなど、三官能型としてグリセロールトリグ
リシジルエーテルなど)、レゾール型又はノボラック型
フェノール系樹脂、イソシアネート化合物などである。
Other curing agents include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride,
Acid anhydrides such as methylbutenyl anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic anhydride; Examples thereof include an amine complex of boron halide, dicyandiamide or a derivative thereof, and those obtained by epoxy adducting or microencapsulating these can also be used. In addition to the epoxy resin and the curing agent, a component that reacts with the epoxy resin or the curing agent can be blended. For example, epoxy reactive diluents (such as phenylglycidyl ether as a monofunctional type, resorcin diglycidyl ether and ethylene glycol glycidyl ether as a bifunctional type, and glycerol triglycidyl ether as a trifunctional type), resol type or novolac type phenol type Resins, isocyanate compounds and the like.

【0013】(ホ)成分において、1分子内に少なくと
も1個のP−H結合を有するリン化合物は、難燃性を向
上させるために配合するものであり、9,10−ジヒド
ロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10
オキシド、6−メチル−9、10−ジヒドロ−9−オキ
サ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、
2,6,8−トリターシャリブチル−9,10−ジヒド
ロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10
オキシド、6,8−ジシクロヘキシル−9,10−ジヒ
ドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−1
0オキシド、6−フェニル−9,10−ジヒドロ−9−
オキサ−10−ホスファフェナントレン−10オキシ
ド、ジエチルホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィ
ンオキシド等が例示されるが、特にこれらに限定される
ものではないが、熱分解を受けやすいアルキル基で置換
されていない9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−
ホスファフェナントレン−10オキシド、6−フェニル
−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフ
ェナントレン−10オキシド、ジフェニルホスフィンオ
キシド等が好ましく、更に原料入手の容易さから9,1
0−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナント
レン−10オキシド、ジフェニルホスフィンオキシドが
好ましい。
In the component (e), a phosphorus compound having at least one P—H bond in one molecule is compounded for improving the flame retardancy, and 9,10-dihydro-9-oxa is added. -10-phosphaphenanthrene-10
Oxide, 6-methyl-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide,
2,6,8-tritert-butyl-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10
Oxide, 6,8-dicyclohexyl-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-1
0-oxide, 6-phenyl-9,10-dihydro-9-
Examples thereof include, but are not limited to, oxa-10-phosphaphenanthrene-10 oxide, diethylphosphine oxide, diphenylphosphine oxide, and the like. 10-dihydro-9-oxa-10-
Preferred are phosphaphenanthrene-10 oxide, 6-phenyl-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 oxide, diphenylphosphine oxide and the like.
O-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 oxide and diphenylphosphine oxide are preferred.

【0014】分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有
する化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ、ビ
スフェノールF型エポキシ、ビスフェノールS型エポキ
シ、フェノールノボラックエポキシ、クレゾールノボラ
ックエポキシ、ナフタレン型エポキシ、ビフェニル型エ
ポキシ芳香族アミン及び複素環式窒素塩基からのN−グ
リシジル化合物、例えばN,N−ジグリシジルジアニリ
ン、トリグリシジルイソシアヌレート、等が例示される
が特にこれらに限定されるものではない。配合割合とし
ては樹脂全体に対し、1分子内に少なくとも1個のP−
H結合を有するリン化合物が0.1〜10重量%が好ま
しい。0.1重量%以下では硬化進行制御の効果が無
く、10重量%以上配合すると吸水量が増加し、絶縁信
頼性が低下するようになる。
Compounds having at least two epoxy groups in the molecule include bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, bisphenol S type epoxy, phenol novolak epoxy, cresol novolak epoxy, naphthalene type epoxy and biphenyl type epoxy aromatic. Examples include, but are not limited to, N-glycidyl compounds derived from amines and heterocyclic nitrogen bases, such as N, N-diglycidyl dianiline, triglycidyl isocyanurate, and the like. The mixing ratio of at least one P-
The content of the phosphorus compound having an H bond is preferably 0.1 to 10% by weight. When the content is 0.1% by weight or less, the effect of controlling the progress of curing is not obtained.

【0015】上記成分の他に、線膨張率、耐熱性、耐燃
性などの向上のために、溶融シリカ、結晶性シリカ、炭
酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、クレ
ー、硫酸バリウム、マイカ、タルク、ホワイトカーボ
ン、Eガラス微粉末などの無機充填材を樹脂分に対して
40重量%以下配合しても良い。40重量%より多く配
合すると、層間絶縁樹脂の粘性が高くなり、内層回路間
への埋込性が低下するようになる。
In addition to the above components, fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina, clay, barium sulfate, mica, talc, and the like are used for improving the coefficient of linear expansion, heat resistance, and flame resistance. Inorganic fillers such as white carbon and E glass fine powder may be blended in an amount of 40% by weight or less based on the resin content. If the content is more than 40% by weight, the viscosity of the interlayer insulating resin increases, and the embedding property between the inner layer circuits is reduced.

【0016】さらに、銅箔や内層回路基板との密着力を
高めたり、耐湿性を向上させるためにエポキシシラン等
のシランカップリング剤あるいはチタネート系カップリ
ング剤、ボイドを防ぐための消泡剤、あるいは液状又は
微粉末タイプの難燃剤の添加も可能である。溶剤として
は、接着剤を銅箔に塗布し80℃〜130℃で乾燥した
後において、接着剤中に残らないものを選択しなければ
ならない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ト
ルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノ
ール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メトキシ
プロパノール、シクロヘキサノンなどが用いられる。
Further, a silane coupling agent such as epoxy silane or a titanate coupling agent for improving adhesion to a copper foil or an inner layer circuit board or improving moisture resistance, an antifoaming agent for preventing voids, Alternatively, a liquid or fine powder type flame retardant can be added. As the solvent, one that does not remain in the adhesive after the adhesive is applied to the copper foil and dried at 80 ° C. to 130 ° C. must be selected. For example, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol, ethanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methoxypropanol, cyclohexanone and the like are used.

【0017】層間絶縁接着剤付き銅箔は、接着剤成分を
所定の溶剤に所定の濃度で溶解した接着剤ワニスを銅箔
のアンカー面に塗工後80℃〜130℃の乾燥を行って
接着剤中に揮発成分が樹脂に対して4.0%以下になる
ように作製する。その揮発成分は3.0〜1.5%が好
ましい。樹脂厚みについては100μm以下が好まし
く、100μmを越えると厚みのバラツキを生じ、均一
な絶縁層を確保できなくなる。
The copper foil with an interlayer insulating adhesive is adhered by applying an adhesive varnish in which an adhesive component is dissolved in a predetermined solvent at a predetermined concentration to an anchor surface of the copper foil and then drying at 80 ° C. to 130 ° C. It is prepared so that the volatile component in the agent is 4.0% or less based on the resin. The volatile component is preferably from 3.0 to 1.5%. The thickness of the resin is preferably 100 μm or less, and if it exceeds 100 μm, the thickness will vary, making it impossible to secure a uniform insulating layer.

【0018】この層間絶縁接着剤付き銅箔は、通常の真
空プレス又はラミネーターにより内層回路基板にラミネ
ートし硬化させて、容易に外層回路を有する多層プリン
ト配線板を成形することができる。
This copper foil with an interlayer insulating adhesive is laminated on an inner circuit board by a usual vacuum press or a laminator and cured, whereby a multilayer printed wiring board having an outer circuit can be easily formed.

【0019】[0019]

【実施例】以下に実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれによって何ら限定されるものでは
ない。まず、前記(ハ)成分である有機リン含有化合物
について合成例を説明する。次に、これらの有機リン含
有化合物を配合して、多層プリント配線板用層間絶縁接
着剤を調製する実施例について説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto. First, a synthesis example of the organic phosphorus-containing compound as the component (c) will be described. Next, examples in which these organic phosphorus-containing compounds are blended to prepare an interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board will be described.

【0020】<合成例1>温度計、攪拌機、及びコンデ
ンサーを備え付けた四つ口フラスコに9,10−ジヒド
ロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10
オキシド100部(以下、配合量は全て重量部を表す)
とクレゾールノボラックエポキシ樹脂184.3部を加
え、130〜135℃で6時間反応させて生成物(a)
を得た。元素分析によりリン含量は5.1%であった。
また、エポキシ当量は658であった。
<Synthesis Example 1> 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser.
100 parts of oxide (all amounts are parts by weight)
And 184.3 parts of cresol novolak epoxy resin, and reacted at 130 to 135 ° C. for 6 hours to obtain a product (a).
I got Elemental analysis revealed a phosphorus content of 5.1%.
The epoxy equivalent was 658.

【0021】<合成例2>温度計、攪拌機、及びコンデ
ンサーを備え付けた四つ口フラスコに9,10−ジヒド
ロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10
オキシド(三光化学(株)製 HCA)100部とフェ
ノールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量165、
日本化薬社製 EPPN501H)152.8部を加
え、130〜135℃で3時間反応させて生成物(b)
を得た。元素分析によりリン含量は5.7%であった。
また、エポキシ当量は、636であった。
<Synthesis Example 2> 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser.
100 parts of oxide (HCA manufactured by Sanko Chemical Co., Ltd.) and phenol novolak epoxy resin (epoxy equivalent: 165;
152.8 parts of Nippon Kayaku Co., Ltd. (EPPN501H) was added, and reacted at 130 to 135 ° C. for 3 hours to produce a product (b).
I got Elemental analysis revealed a phosphorus content of 5.7%.
The epoxy equivalent was 636.

【0022】<実施例1>末端水酸基変性ポリエーテル
サルフォン(重量平均分子量24000)50部、ビス
フェノールA型及びビスフェノールS型共重合エポキシ
樹脂(重量平均分子量34000、ビスフェノールA:
ビスフェノールS(モル比)=8:3)30部、臭素化フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂15部(エポキシ当
量285)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキ
シ当量175)10部、合成例1で得られた反応物
(a)5部とをMEK、DMF混合溶媒に攪拌・溶解
し、そこへ硬化剤として2−メチルイミダゾール5部、
チタネート系カップリング剤0.2重量部、炭酸カルシ
ウム20部を添加して接着剤ワニスを作製した。この接
着剤ワニスを厚さ18μmの銅箔のアンカー面にコンマ
コーターにて塗工し、乾燥全樹脂厚80μmの接着剤付
き銅箔を得た。
<Example 1> 50 parts of a hydroxyl-terminated polyether sulfone (weight average molecular weight: 24,000), bisphenol A type and bisphenol S type epoxy resin (weight average molecular weight: 34,000, bisphenol A:
Bisphenol S (molar ratio) = 8: 3) 30 parts, brominated phenol novolak type epoxy resin 15 parts (epoxy equivalent 285), bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 175) 10 parts, reaction obtained in Synthesis Example 1 The product (a) and 5 parts were stirred and dissolved in a mixed solvent of MEK and DMF, and 5 parts of 2-methylimidazole as a curing agent was added thereto.
An adhesive varnish was prepared by adding 0.2 parts by weight of a titanate coupling agent and 20 parts of calcium carbonate. This adhesive varnish was applied to an anchor surface of a copper foil having a thickness of 18 μm with a comma coater to obtain a copper foil with an adhesive having a total dried resin thickness of 80 μm.

【0023】更に、基材厚0.1mm、銅箔厚35μm
のガラスエポキシ両面銅張積層板をパターン加工して内
層回路板を得た。銅箔表面を黒化処理した後、上記接着
剤付き銅箔を両面にセットし、各積層体間に1.6mm
ステンレス製鏡面板を挟み、1段に15セット投入し、
真空プレスを用い、昇温速度3〜10℃/分、圧力10
〜30Kg/cm2 、真空度−760〜−730mmH
gの条件で加熱加圧し、積層体の温度を150℃、15
分以上確保して多層プリント配線板を作製した。
Further, the thickness of the base material is 0.1 mm, and the thickness of the copper foil is 35 μm.
The glass-epoxy double-sided copper-clad laminate was subjected to pattern processing to obtain an inner circuit board. After the copper foil surface was blackened, the copper foil with the adhesive was set on both sides, and 1.6 mm between each laminate.
Insert a stainless steel mirror plate, put 15 sets in one stage,
Using a vacuum press, heating rate 3-10 ° C / min, pressure 10
~30Kg / cm 2, the degree of vacuum -760~-730mmH
g under heat and pressure, and the temperature of
For more than a minute, a multilayer printed wiring board was manufactured.

【0024】<実施例2>硬化剤としてビスフェノール
Aノボラック樹脂(水酸基当量120)を15重量部と
した以外は実施例1と同様にして多層プリント配線板を
作製した。
Example 2 A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that 15 parts by weight of bisphenol A novolak resin (having a hydroxyl equivalent of 120) was used as a curing agent.

【0025】<実施例3>合成例1で得られた反応物
(a)を50部とした以外は実施例1と同様にして多層
プリント配線板を得た。
Example 3 A multilayer printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the reaction product (a) obtained in Synthesis Example 1 was changed to 50 parts.

【0026】<実施例4>硫黄成分含有非晶性熱可塑性
樹脂をポリサルフォン(重量平均分子量26000)、
合成例1で得られた反応物(a)を合成例2で得られた
反応物(b)とした以外は実施例1と同様にして多層プ
リント配線板を得た。
Example 4 Amorphous thermoplastic resin containing a sulfur component was prepared from polysulfone (weight average molecular weight: 26,000),
A multilayer printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1, except that the reactant (a) obtained in Synthesis Example 1 was changed to the reactant (b) obtained in Synthesis Example 2.

【0027】<比較例1>ビスフェノールA型及びビス
フェノールS型共重合エポキシ樹脂を除き、末端水酸基
変性ポリエーテルサルフォン(重量平均分子量2400
0)を80部とした以外は実施例1と同様にして多層プ
リント配線板を得た。
Comparative Example 1 Except for the bisphenol A-type and bisphenol S-type copolymerized epoxy resins, a hydroxyl-terminated polyether sulfone (weight average molecular weight 2400)
A multilayer printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1, except that 0) was changed to 80 parts.

【0028】<比較例2>末端水酸基変性ポリエーテル
サルフォン(重量平均分子量24000)を除き、ビス
フェノールA型及びビスフェノールS型共重合エポキシ
樹脂(平均分子量34000)を80部とした以外は実
施例1と同様にして多層プリント配線板を得た。
Comparative Example 2 Example 1 was repeated except that the bisphenol A type and bisphenol S type copolymerized epoxy resins (average molecular weight: 34000) were changed to 80 parts, except for the polyether sulfone modified at the terminal hydroxyl group (weight average molecular weight: 24,000). In the same manner as in the above, a multilayer printed wiring board was obtained.

【0029】<比較例3>合成例1で得られた反応物
(a)を除いた以外は実施例1と同様にして多層プリン
ト配線板を得た。
Comparative Example 3 A multilayer printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactant (a) obtained in Synthesis Example 1 was omitted.

【0030】得られた多層プリント配線板について、ガ
ラス転移温度、成形ボイド、絶縁層厚バラツキ、吸水率
を測定し、その結果を表1に示す。
With respect to the obtained multilayer printed wiring board, the glass transition temperature, the molding void, the variation in the thickness of the insulating layer, and the water absorption were measured, and the results are shown in Table 1.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】(測定方法) 内層回路板試験片:ライン幅(L)/ライン間隔(S)=1
20μm/180μmの細線回路、クリアランスホール
(1mmφ及び3mmφ)、及び周辺部に2mm幅の2
本のスリット間にライン幅3mmの銅箔部有り。 1.ガラス転移温度:動的粘弾性測定の損失正接によ
る。 2.成形ボイド:上記回路間部およびクリアランスホー
ル部におけるボイドの有無を目視にて観察した。成形性
確認は、銅箔上に樹脂塗工した直後と20℃/60%R
H条件下に2ヶ月放置後の2回行った。 3.内層回路上絶縁層厚のバラツキ:断面観察、観察部
位は細線回路のライン(回路)部と、スリット間の銅箔
部の絶縁層厚をそれぞれn=5で測定しそれぞれの平均
の差を絶縁層厚バラツキとした。 4.吸水率:JIS C6481による 5.難燃性:JIS C6481による 総有炎燃焼時間t1+t2を示す。
(Measurement method) Inner layer circuit board test piece: line width (L) / line interval (S) = 1
20 μm / 180 μm fine wire circuit, clearance holes (1 mmφ and 3 mmφ), and 2 mm width 2 mm
There is a copper foil part with a line width of 3 mm between the slits. 1. Glass transition temperature: By the loss tangent of the dynamic viscoelasticity measurement. 2. Molded voids: The presence or absence of voids in the inter-circuit portion and the clearance hole portion was visually observed. The moldability was confirmed immediately after coating the resin on the copper foil and at 20 ° C / 60% R.
The test was performed twice after being left for 2 months under the H condition. 3. Variation in the thickness of the insulating layer on the inner layer circuit: Cross-section observation, the observation site is the line (circuit) part of the fine wire circuit and the insulating layer thickness of the copper foil part between the slits is measured at n = 5, and the average difference between each is insulated. The thickness was varied. 4. 4. Water absorption: according to JIS C6481 Flame retardancy: Shows the total flaming combustion time t1 + t2 according to JIS C6481.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明の多層プリント配線板用層間絶縁
接着剤は、ガラスクロスのない絶縁層を有するにもかか
わらず、難燃性及び耐熱性に優れ、保存安定性に優れ、
回路層間の絶縁樹脂厚のバラツキが小さい多層プリント
配線板を容易に製造することができる。
The interlayer insulating adhesive for multilayer printed wiring boards of the present invention has excellent flame retardancy and heat resistance and excellent storage stability despite having an insulating layer without glass cloth.
A multilayer printed wiring board with small variations in the thickness of the insulating resin between circuit layers can be easily manufactured.

フロントページの続き (72)発明者 新井 政貴 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 4J004 AA02 AA11 AA13 AA17 AB05 CA08 CC02 FA05 4J040 EC001 EC002 EC061 EC062 EC071 EC072 EC161 EC162 EC171 EC172 EC181 EC182 EC261 EC262 EE061 EE062 EJ031 EJ032 GA23 HB47 HC01 HC24 JA09 KA16 KA36 LA01 LA05 LA08 LA09 NA20 5E346 AA06 AA12 AA16 AA32 CC08 CC09 CC16 CC41 DD03 DD12 EE02 EE06 EE07 EE19 GG27 GG28 HH11 HH16 HH18 Continued on the front page (72) Inventor Masataka Arai 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo F-term in Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (reference) 4J004 AA02 AA11 AA13 AA17 AB05 CA08 CC02 FA05 4J040 EC001 EC002 EC061 EC062 EC071 EC072 EC161 EC162 EC172

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の各成分を必須成分として含有する
ことを特徴とする多層プリント配線板用層間絶縁接着
剤。 (イ)重量平均分子量103〜105の硫黄成分含有非晶
性熱可塑性樹脂、(ロ)重量平均分子量103〜105
硫黄成分含有エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂、(ハ)
エポキシ当量500以下の多官能エポキシ樹脂 (ニ)エポキシ硬化剤、及び(ホ)1分子内に少なくと
も1個のP−H結合を有するリン化合物と分子中に少な
くとも2個のエポキシ基を有する化合物との反応物。
1. An interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board, comprising the following components as essential components. (A) an amorphous thermoplastic resin containing a sulfur component having a weight average molecular weight of 10 3 to 10 5 , (b) an epoxy resin or a phenoxy resin containing a sulfur component having a weight average molecular weight of 10 3 to 10 5 , (c)
A polyfunctional epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less; (d) an epoxy curing agent; and (e) a phosphorus compound having at least one PH bond in one molecule and a compound having at least two epoxy groups in the molecule. Reactants.
【請求項2】 (イ)成分が、ポリサルフォン及び又は
ポリエーテルサルフォンである請求項1記載の多層プリ
ント配線板用層間絶縁接着剤。
2. The interlayer insulating adhesive according to claim 1, wherein the component (a) is polysulfone and / or polyethersulfone.
【請求項3】 (ロ)成分が、ビスフェノールS型エポ
キシ樹脂又はフェノキシ樹脂、又はビスフェノールS型
とビスフェノール型或いはビフェニル型との共重合エポ
キシ樹脂又はフェノキシ樹脂である請求項1又は2記載
の多層プリント配線板用層間絶縁接着剤。
3. The multilayer print according to claim 1, wherein the component (b) is a bisphenol S type epoxy resin or phenoxy resin, or a copolymerized epoxy resin of bisphenol S type and bisphenol type or biphenyl type or phenoxy resin. Interlayer insulating adhesive for wiring boards.
【請求項4】 (ハ)成分が、ビスフェノール型、ノボ
ラック型、脂環式、及びアミノフェノール型エポキシ樹
脂から選ばれた1種又は2種以上である請求項1、2又
は3記載の多層プリント配線板用層間絶縁接着剤。
4. The multilayer print according to claim 1, wherein the component (c) is at least one member selected from bisphenol type, novolak type, alicyclic and aminophenol type epoxy resins. Interlayer insulating adhesive for wiring boards.
【請求項5】 (ホ)成分である1分子内に少なくとも
1個のP−H結合を有するリン化合物が、9,10−ジ
ヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−
10−オキシドである請求項1、2、3又は4記載の多
層プリント配線板用層間絶縁接着剤。
5. A phosphor compound having at least one P—H bond in one molecule as the component (e) is 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-
The interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board according to claim 1, which is 10-oxide.
【請求項6】 請求項1、2、3、4又は5記載の層間
絶縁接着剤を銅箔にコートしてなる多層プリント配線板
用層間絶縁接着剤付き銅箔。
6. A copper foil with an interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board, wherein the copper foil is coated with the interlayer insulating adhesive according to claim 1, 2, 3, 4, or 5.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004113466A1 (en) * 2003-06-23 2004-12-29 Toray Industries, Inc. Adhesive composition for semiconductor device and cover lay film, adhesive sheet, and copper-clad polyimide film each made with the same

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004113466A1 (en) * 2003-06-23 2004-12-29 Toray Industries, Inc. Adhesive composition for semiconductor device and cover lay film, adhesive sheet, and copper-clad polyimide film each made with the same

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