JP4984385B2 - Epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

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JP4984385B2 JP2004302770A JP2004302770A JP4984385B2 JP 4984385 B2 JP4984385 B2 JP 4984385B2 JP 2004302770 A JP2004302770 A JP 2004302770A JP 2004302770 A JP2004302770 A JP 2004302770A JP 4984385 B2 JP4984385 B2 JP 4984385B2
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an eco-friendly epoxy resin composition giving a cured material having excellent heat-resistance and moisture-resistance and exhibiting excellent flame-retardancy without using a halogen-based flame-retardant and suitable for a printed circuit board, an interlayer insulation material for a printed circuit board and a resin-coated copper foil, a sealing material for electronic parts, a resist ink, a conductive paste, a coating material, an adhesive material, a composite material, etc., and provide a cured material of the resin composition. <P>SOLUTION: The epoxy resin composition contains (A) an epoxy resin, (B) a phenolic resin having triazine ring and (C) a phosphorus compound having triazine ring, and the cured material is produced by curing the epoxy resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&amp;NCIPI

Description

本発明は、得られる硬化物の耐熱性、耐湿性に優れ、さらにハロゲン系の難燃剤を使用しなくても難燃性に優れる硬化物を得る事が出来、プリント基板用、プリント基板および樹脂付き銅箔に使用する層間絶縁材料用、電子部品の封止材用、レジストインキ用、導電ペースト用、塗料用、接着材料用、複合材料用等に好適に用いることができる環境対応型のエポキシ樹脂組成物およびその硬化物に関する。   The present invention provides a cured product having excellent heat resistance and moisture resistance of the obtained cured product, and further capable of obtaining a cured product having excellent flame retardancy without using a halogen-based flame retardant. For printed circuit boards, printed circuit boards and resins Environmentally friendly epoxy that can be suitably used for interlayer insulation materials used in coated copper foils, sealing materials for electronic components, resist inks, conductive pastes, paints, adhesive materials, composite materials, etc. The present invention relates to a resin composition and a cured product thereof.

従来よりエポキシ樹脂組成物は、耐熱性、密着性、電気絶縁性等に優れた硬化物が得られることから、半導体封止材、プリント配線基板、塗料、注型材料用途等に好適に用いられている。例えば、半導体分野では、現在大部分の半導体装置においてエポキシ樹脂組成物を用いた封止材料が用いられている。このエポキシ樹脂組成物には通常難燃性を付与するために臭素化エポキシ樹脂等のハロゲン系難燃剤や難燃助剤として三酸化アンチモン、四酸化アンチモン及び五酸化アンチモン等のアンチモン化合物が配合されている。しかしながら、近年の環境・安全への取り組みの中で、ダイオキシン発生が懸念されるハロゲン系難燃剤や、発ガン性が疑われているアンチモン化合物の使用を避けることが求められており、これらを使用せずとも難燃性に優れる硬化物が得られる、地球環境、使用環境にやさしい樹脂組成物の開発要求が強くなっている。   Conventionally, epoxy resin compositions are suitable for use in semiconductor encapsulants, printed wiring boards, paints, casting materials, etc., because cured products with excellent heat resistance, adhesion, electrical insulation, etc. are obtained. ing. For example, in the semiconductor field, a sealing material using an epoxy resin composition is currently used in most semiconductor devices. In order to impart flame retardancy to this epoxy resin composition, halogen-based flame retardants such as brominated epoxy resins and antimony compounds such as antimony trioxide, antimony tetraoxide and antimony pentoxide are blended as flame retardant aids. ing. However, in recent environmental and safety initiatives, it is required to avoid the use of halogenated flame retardants that are likely to generate dioxins and antimony compounds that are suspected of causing carcinogenicity. There is an increasing demand for development of a resin composition that is easy to use and can be used to obtain a cured product that is excellent in flame retardancy.

また、近年の技術革新に伴って、より高いレベルで耐熱性、耐湿性、難燃性を兼備するエポキシ樹脂組成物が求められている。このような中で、前記のハロゲン系難燃剤を使用せずとも(ハロゲンフリーで)、耐熱性、耐湿性、難燃性に優れるエポキシ樹脂組成物を得るべく、難燃成分としてリン及び窒素を含有するエポキシ樹脂が開発されており、例えば、分子内にトリアジン環を含有するリン化合物とエポキシ樹脂とを反応させて得られたリン及び窒素変性エポキシ樹脂を含有する組成物が開示されている。(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、このリン及び窒素変性エポキシ樹脂組成物はエポキシ樹脂をトリアジン環を含有するリン化合物で変性させているため分子量の増大が避けられず、その結果、溶剤溶解性が悪く、またガラス繊維等への含浸性も悪いため、プリプレグや積層板用途では使用できるものではなかった。また、このリン及び窒素変性エポキシ樹脂組成物を用いて得られる硬化物は、耐熱性、耐湿性も十分ではない。   In addition, with recent technological innovation, there is a demand for an epoxy resin composition that has higher levels of heat resistance, moisture resistance, and flame retardancy. Under such circumstances, phosphorus and nitrogen are used as flame retardant components in order to obtain an epoxy resin composition excellent in heat resistance, moisture resistance, and flame retardancy without using the above-mentioned halogen flame retardant (free of halogen). Epoxy resins containing them have been developed. For example, a composition containing phosphorus obtained by reacting a phosphorus compound containing a triazine ring in the molecule with an epoxy resin and a nitrogen-modified epoxy resin is disclosed. (For example, refer to Patent Document 1). However, since the phosphorus and nitrogen-modified epoxy resin composition is modified with a phosphorus compound containing a triazine ring, an increase in molecular weight is inevitable, resulting in poor solvent solubility and glass fiber. Since the impregnation property is also poor, it could not be used for prepregs and laminates. Moreover, the cured product obtained using this phosphorus and nitrogen-modified epoxy resin composition is not sufficient in heat resistance and moisture resistance.

特開2002−284850号公報JP 2002-284850 A

本発明の課題は、得られる硬化物の耐熱性、耐湿性に優れ、さらにハロゲン系の難燃剤を使用しなくても難燃性に優れる硬化物を得る事が出来、プリント基板用、プリント基板および樹脂付き銅箔に使用する層間絶縁材料用、電子部品の封止材用、レジストインキ用、導電ペースト用、塗料用、接着材料用、複合材料用等に好適に用いることができる環境対応型のエポキシ樹脂組成物およびその硬化物を提供することにある。   An object of the present invention is to obtain a cured product having excellent heat resistance and moisture resistance of the obtained cured product and excellent flame retardancy without using a halogen-based flame retardant. Environmentally friendly type that can be suitably used for interlayer insulation materials used for copper foils with resin, sealing materials for electronic components, resist inks, conductive pastes, paints, adhesive materials, composite materials, etc. An epoxy resin composition and a cured product thereof are provided.

本発明者は、上記課題を解決する為に鋭意検討した結果、エポキシ樹脂、硬化剤および難燃剤を含有するエポキシ樹脂であり、前記硬化剤としてトリアジン環を有するフェノール樹脂を、前記難燃剤としてトリアジン環を有するリン化合物をそれぞれ含有するエポキシ樹脂組成物を用いて得られる硬化物は耐熱性、耐湿性及び難燃性に優れること、また、該エポキシ樹脂組成物は溶剤への溶解性も良好で、ガラス繊維等に含浸しやすく、プリプレグや積層板用途にも好適であること等を見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor is an epoxy resin containing an epoxy resin, a curing agent and a flame retardant, and a phenol resin having a triazine ring as the curing agent and a triazine as the flame retardant. Cured products obtained using epoxy resin compositions each containing a ring-containing phosphorus compound are excellent in heat resistance, moisture resistance and flame retardancy, and the epoxy resin composition also has good solubility in solvents. The present invention has been completed by finding that it is easily impregnated into glass fibers and the like and is suitable for prepregs and laminates.

即ち、本発明は、エポキシ樹脂(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)およびトリアジン環を有するリン化合物(C)を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物を提供するものである。   That is, the present invention provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin (A), a phenol resin (B) having a triazine ring, and a phosphorus compound (C) having a triazine ring.

また、本発明は前記エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化物を提供するものである。   The present invention also provides a cured product obtained by curing the epoxy resin composition.

本発明によれば、実用レベルの成形性、硬化性を有し、従来材料よりも一層優れた難燃性、耐熱性、耐湿性を有する硬化物を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供できる。このエポキシ樹脂組成物はプリント基板用樹脂組成物、電子部品用封止材用樹脂組成物、レジストインキ、導電ペースト等の電子材料分野に用いた場合は、高密度実装化や、高周波対応化、高速演算化などに対応する樹脂組成物としてきわめて有用である。また、得られる該成形硬化物は耐湿性、密着性等においても上記用途や、更に接着剤、複合材料等における高度の要求を満たすものであり、高信頼性が必要な分野に対応できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can provide the epoxy resin composition which has a moldability and curability of a practical level, and can obtain the hardened | cured material which has the flame retardance, heat resistance, and moisture resistance further superior to the conventional material. . When this epoxy resin composition is used in the field of electronic materials such as a resin composition for printed circuit boards, a resin composition for electronic component encapsulants, resist ink, and conductive paste, It is extremely useful as a resin composition for high-speed computing. In addition, the obtained molded cured product satisfies the above-mentioned uses in moisture resistance, adhesion and the like, and further high demands on adhesives, composite materials, and the like, and can respond to fields requiring high reliability.

本発明で用いるエポキシ樹脂(A)としては、種々のエポキシ樹脂を用いることができ特に限定されるものではないが、例示するならば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂等の2価のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂等の2官能性のエポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール変性型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等の3価以上のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂等の多官能性のエポキシ樹脂等が挙げられる。更にこれらのエポキシ樹脂を有機リン化合物で変性させたエポキシ樹脂等もエポキシ樹脂(A)として用いることができる。エポキシ樹脂(A)は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As the epoxy resin (A) used in the present invention, various epoxy resins can be used and are not particularly limited. However, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type are exemplified. Epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, catechol type epoxy resin, dihydroxynaphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, xanthene type epoxy resin, etc. Bifunctional epoxy resins such as epoxy resins derived from various phenols; phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, tetraphenylethane type Poxy resin, dicyclopentadiene-phenol modified epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolak type epoxy resin, naphthol-cresol Polyfunctional epoxy resins such as epoxy resins derived from trivalent or higher phenols such as co-condensed novolac type epoxy resins, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin type epoxy resins, biphenyl modified novolak type epoxy resins, etc. Can be mentioned. Furthermore, an epoxy resin obtained by modifying these epoxy resins with an organic phosphorus compound can also be used as the epoxy resin (A). An epoxy resin (A) may be used independently and may use 2 or more types together.

これらの中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール変性型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂を用いることが耐熱性、耐湿性、難燃性が良好となるため好ましい。中でも、難燃性を向上させるためにはビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂等の2官能性エポキシ樹脂あるいは有機リン化合物で変性されたエポキシ樹脂が好ましく、耐熱性を向上させるためには、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂等の多官能性エポキシ樹脂を用いることが特に好ましい。   Among these, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, catechol type epoxy resin, dihydroxynaphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin , Cresol novolak type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol modified epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol Aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed novolak Epoxy resin, the heat resistance to use a biphenyl-modified novolak type epoxy resin, moisture resistance is preferable since flame retardancy is improved. Among them, in order to improve flame retardancy, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, dihydroxynaphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, xanthene type epoxy A bifunctional epoxy resin such as a resin or an epoxy resin modified with an organophosphorus compound is preferable. In order to improve heat resistance, a phenol novolac type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin, a triphenylmethane type epoxy resin, tetra It is particularly preferable to use a polyfunctional epoxy resin such as a phenylethane type epoxy resin or a naphthol novolac type epoxy resin.

本発明で用いるフェノール樹脂(B)はトリアジン環を有していれば良く、その製造方法等には特に制限はないが、例えば、特開平11−21419号公報に記載された方法により好ましく製造することができる。具体的には、例えば、フェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)とを縮合反応させることによって得る事が出来る。この縮合反応により得られる反応物はトリアジン環を有するフェノール樹脂(B)としてのフェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)との縮合反応物の他にフェノール類(b1)とアルデヒド類(b3)との縮合物、アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)との縮合物、未反応のフェノール類(b1)、未反応のアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)等を含む組成物であっても良い。   The phenol resin (B) used in the present invention only needs to have a triazine ring, and the production method thereof is not particularly limited. For example, the phenol resin (B) is preferably produced by the method described in JP-A No. 11-21419. be able to. Specifically, it can be obtained, for example, by subjecting a phenol (b1), a compound (b2) having an amino group-containing triazine ring, and an aldehyde (b3) to a condensation reaction. The reaction product obtained by this condensation reaction includes a phenol (b1) as a phenol resin (B) having a triazine ring, a condensation reaction product of a compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and an aldehyde (b3). A condensate of phenols (b1) and aldehydes (b3), a condensate of compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and aldehydes (b3), unreacted phenols (b1), unreacted A composition containing the compound (b2) having an amino group-containing triazine ring may be used.

前記フェノール類(b1)としては、特に限定されるものではなく、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、o−イソプロピルフェノール、m−プロピルフェノール、p−プロピルフェノール、p−sec−ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノール、p−シクロヘキシルフェノール、p−クロロフェノール、o−ブロモフェノール、m−ブロモフェノール、p−ブロモフェノール等のフェノール類、α−ナフトール、β−ナフトール等のナフトール類、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール等のキシレノール類等の一価フェノール類;レゾルシン、カテコール、ハイドロキノン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1’−ビス(ジヒドロキシフェニル)メタン、1,1’−ビス(ジヒドロキシナフチル)メタン、テトラメチルビフェノール、ビフェノール、ヘキサメチルビフェノール、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等のナフタレンジオール類等の二価フェノール類;トリスヒドロキシフェニルメタン等の三価フェノール類等を挙げることができる。特にフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、ナフトール類、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,6−キシレノール、レゾルシン、ハイドロキノン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレンが経済的な点、フェノール樹脂(B)が製造しやすい点から好ましく、フェノールがより好ましい。フェノール類(b1)としては、その使用にあたって1種類のみに限定されるものではなく、2種以上の併用も可能である。   The phenols (b1) are not particularly limited, and examples thereof include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, o- Isopropylphenol, m-propylphenol, p-propylphenol, p-sec-butylphenol, p-tert-butylphenol, p-cyclohexylphenol, p-chlorophenol, o-bromophenol, m-bromophenol, p-bromophenol, etc. Phenols, naphthols such as α-naphthol and β-naphthol, monohydric phenols such as xylenols such as 2,4-xylenol, 2,5-xylenol and 2,6-xylenol; resorcin, catechol, hydroquinone, 2,2- Bis (4′-hydroxyphenyl) propane, 1,1′-bis (dihydroxyphenyl) methane, 1,1′-bis (dihydroxynaphthyl) methane, tetramethylbiphenol, biphenol, hexamethylbiphenol, 1,2-dihydroxynaphthalene 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, Examples thereof include dihydric phenols such as naphthalenediols such as 2,6-dihydroxynaphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene; trihydric phenols such as trishydroxyphenylmethane. Especially phenol, o-cresol, m-cresol, naphthols, 2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) propane, 2,6-xylenol, resorcin, hydroquinone, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxy Naphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene are preferable from the economical point and the phenol resin (B) is easy to produce, and phenol is more preferable. The phenols (b1) are not limited to one type in use, and two or more types can be used in combination.

前記化合物(b2)としてはアミノ基含有トリアジン環を有するものであれば良いが、例えば、下記一般式(1)   The compound (b2) may be any compound having an amino group-containing triazine ring. For example, the compound represented by the following general formula (1)

Figure 0004984385
(式中、R、Rは、同一でも異なっていても良く、それぞれアミノ基、アルキル基、フェニル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、酸基、ビニル基、シアノ基、ハロゲン原子のいずれかを表す)
で表わされる化合物を好ましく使用することができる。
Figure 0004984385
(In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different, and amino group, alkyl group, phenyl group, hydroxy group, hydroxyalkyl group, alkoxy group, alkylcarbonyloxy group, alkyloxycarbonyl group, acid, respectively. Group, vinyl group, cyano group, or halogen atom)
The compound represented by can be preferably used.

前記一般式(1)で表わされる化合物としては、具体的にはメラミン;アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン誘導体;シアヌル酸、メチルシアヌレート、エチルシアヌレート、アセチルシアヌレート、塩化シアヌル等のシアヌル酸誘導体等が挙げられる。これらの中でも、R、Rのうちのいずれか1つ又は2つがアミノ基であるメラミン又はアセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン誘導体がより好ましい。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include melamine; guanamine derivatives such as acetoguanamine and benzoguanamine; cyanuric acid derivatives such as cyanuric acid, methyl cyanurate, ethyl cyanurate, acetyl cyanurate, and cyanuric chloride. Etc. Among these, melamine or guanamine derivatives such as acetoguanamine and benzoguanamine, in which any one or two of R 1 and R 2 are amino groups, are more preferable.

前記トリアジン環を有する化合物(b2)の使用にあたっては、1種類のみに限定されるものではなく、2種以上を併用することも可能である。   The use of the compound (b2) having a triazine ring is not limited to one type, and two or more types can be used in combination.

前記アルデヒド類(c3)としては、1分子中に1個以上のアルデヒド基をもつ化合物であれば特に限定されるものではなく、例示するならば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒドなどが挙げられ、これらの中でもホルムアルデヒドが、得られるエポキシ樹脂組成物の流動性や硬化性、硬化物の耐熱性に優れる点から好ましい。   The aldehyde (c3) is not particularly limited as long as it is a compound having one or more aldehyde groups in one molecule. Examples thereof include formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, crotonaldehyde and the like. Among these, formaldehyde is preferable from the viewpoint of excellent fluidity and curability of the resulting epoxy resin composition and heat resistance of the cured product.

フェノール樹脂(B)として好ましく用いることができるフェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)との縮合反応物を含む組成物としては、成型時の揮発分発生を抑え、均一な硬化物を得ることができる点から、フェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)との縮合物を含有し、該縮合物中に未反応アルデヒド類を含まず、且つメチロール基を含まない樹脂組成物である事が好ましい。この樹脂組成物は、具体的には、フェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)との混合物を、系のpHを5〜10に調整する工程(i)、アルデヒド類(x3)が揮散しない条件下で該混合物を反応させる工程(ii)及び系内の反応水を除去する工程(iii)を含み、第1段反応として工程(i)、工程(ii)及び工程(iii)を順次実施し、次いで第2段反応として工程(ii)及び工程(iii)を第1段反応より高い温度下に順次実施し、第3段反応として工程(ii)及び工程(iii)を第2段反応より高い温度下に実施することにより、分子中のジメチレンエーテル結合をメチレン結合に変換する方法により得ることができる。ここで、第2段反応と第3段反応は更に必要に応じて繰り返し実施しても良い。この時のフェノール類(b1)及びアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)とのモル比が、1:0.2〜0.9となるように反応を行うのが好ましい。前記フェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)との縮合物を含有し、該縮合物中に未反応アルデヒド類を含まず、且つメチロール基を含まない樹脂組成物の市販品としては、例えば、PHENOLITE LA−7054(大日本インキ化学工業株式会社製)、PHENOLITE LA−1356(大日本インキ化学工業株式会社製等が挙げられる。   As a composition containing a condensation reaction product of a phenol (b1), a compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and an aldehyde (b3), which can be preferably used as the phenol resin (B), volatilization during molding Condensation product of phenols (b1), a compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and aldehydes (b3) from the point that it is possible to obtain a uniform cured product by suppressing generation of fractions, It is preferable that the resin composition does not contain unreacted aldehydes and does not contain a methylol group. Specifically, this resin composition is a step of adjusting the pH of the system to 5 to 10 with a mixture of the phenols (b1), the compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and the aldehydes (b3). (I), comprising a step (ii) of reacting the mixture under conditions where aldehydes (x3) are not volatilized and a step (iii) of removing reaction water in the system, and the step (i) as a first stage reaction, Step (ii) and step (iii) are carried out sequentially, then step (ii) and step (iii) are carried out sequentially as a second stage reaction at a temperature higher than that of the first stage reaction, and step ( By carrying out ii) and step (iii) at a temperature higher than that of the second stage reaction, it can be obtained by a method of converting dimethylene ether bonds in the molecule into methylene bonds. Here, the second-stage reaction and the third-stage reaction may be repeated as necessary. The reaction is carried out so that the molar ratio of the phenol (b1) and the compound (b2) having an amino group-containing triazine ring to the aldehyde (b3) is 1: 0.2 to 0.9. preferable. Contains a condensate of the phenols (b1), the compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and the aldehydes (b3), the condensate does not contain unreacted aldehydes, and contains a methylol group Examples of commercially available resin compositions that do not include PHENOLITE LA-7054 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) and PHENOLITE LA-1356 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.).

本発明のエポキシ樹脂組成物にはトリアジン環を有するフェノール樹脂(B)以外の硬化剤を発明の効果が損なわれない範囲で併用してもよい。トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)以外の硬化剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノールアラルキル樹脂、フェノールトリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂等を始めとする多価フェノール化合物、及びこれらの変性物、イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、並びにグアニジン誘導体などが挙げられる。またこれらの硬化剤は単独で用いてもよく、2種以上を混合してもよい。 In the epoxy resin composition of the present invention, a curing agent other than the phenol resin (B) having a triazine ring may be used in combination as long as the effects of the invention are not impaired. Curing agents other than the phenol resin (B) having a triazine ring are not particularly limited, and examples thereof include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, and linolenic acid. Polyamide resin synthesized with ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl Hexahydrophthalic anhydride, phenol novolac resin, cresol novolac resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, dicyclopentadiene phenol addition type resin, pheno Ruaralkyl resin, cresol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, biphenyl-modified phenol aralkyl resin, phenol trimethylol methane resin, tetraphenylol ethane resin, naphthol novolac resin, naphthol-phenol co-condensed novolac resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl Examples thereof include polyphenol compounds such as modified phenol resins and aminotriazine-modified phenol resins, and modified products thereof, imidazoles, BF 3 -amine complexes, and guanidine derivatives. Moreover, these hardening | curing agents may be used independently and may mix 2 or more types.

フェノール樹脂(B)を含む硬化剤の使用量は、硬化が充分で、硬化物性が良好となる点から、エポキシ樹脂(A)のエポキシ基1当量に対して、硬化剤中の活性水素基が0.5〜1.5当量になる範囲が好ましい。   The amount of the curing agent containing the phenol resin (B) is such that the active hydrogen group in the curing agent is equivalent to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (A) from the viewpoint that the curing is sufficient and the cured physical properties are good. A range of 0.5 to 1.5 equivalents is preferred.

本発明で用いるリン化合物(C)はトリアジン環を有していれば良く、製造方法等に制限はない。例えば、アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(c1)とアルデヒド類(c2)と有機リン化合物(c3)とを反応させることにより得られ、具体的には、例えば、特開昭54−3081号公報(特公昭59−6318号公報)に記載の通り、アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(c1)をアルカリ性触媒の存在下にアルデヒド類(c2)を反応させてメチロール化し、酸性触媒下でアルコールと脱水縮合させたのち有機リン化合物(c3)と反応させることによって好ましく得ることができる。   The phosphorus compound (C) used in the present invention only needs to have a triazine ring, and the production method and the like are not limited. For example, it can be obtained by reacting a compound (c1) having an amino group-containing triazine ring, an aldehyde (c2) and an organophosphorus compound (c3). Specifically, for example, JP-A-54-3081 (Japanese Examined Patent Publication No. 59-6318), the compound (c1) having an amino group-containing triazine ring is reacted with an aldehyde (c2) in the presence of an alkaline catalyst to form a methylol, and an alcohol is reacted with an alcohol under an acidic catalyst. It can obtain preferably by making it react with an organophosphorus compound (c3) after carrying out dehydration condensation.

前記アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(c1)としては、例えば、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)の調製に用いるアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)が使用できる。ここで(c1)は(b2)と同じものを使用しても良いし、異なるものを使用しても良い。   As said compound (c1) which has an amino group containing triazine ring, the compound (b2) which has an amino group containing triazine ring used for preparation of the phenol resin (B) which has a triazine ring can be used, for example. Here, (c1) may be the same as (b2), or may be different.

前記アルデヒド類(c2)としては、例えば、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)の調製に用いるアルデヒド類(b3)が使用できる。ここで(c2)は(b3)と同じものを使用しても良いし、異なるものを使用しても良い。   As said aldehydes (c2), the aldehydes (b3) used for preparation of the phenol resin (B) which has a triazine ring can be used, for example. Here, (c2) may be the same as (b3) or may be different.

前記有機リン化合物(c3)としては、例えば、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10オキサイド、6−メチル−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等が挙げられる。これらの化合物の中でも難燃性が良好な点から9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10オキサイドが好ましい。   Examples of the organic phosphorus compound (c3) include 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 oxide, 6-methyl-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene. -10-oxide etc. are mentioned. Among these compounds, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 oxide is preferable from the viewpoint of good flame retardancy.

トリアジン環を有するリン化合物(C)としては、具体的には下記構造式(2)で示される2,4、6−トリス(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−1,3,5−トリアジン、下記構造式(3)で示される2、4−ビス(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−6−アミノ−1,3,5−トリアジン、下記構造式(4)で示される2−(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−4、6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン、下記構造式(5)で示される2,4−ビス(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、下記構造式(6)で示される2−アミノ−4−(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。これらの化合物の中でもエポキシ樹脂組成物の溶剤溶解性が良好となる点から2,4−ビス(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−アミノ−4−(O、P−ビフェニル2、2‘−ジイルホスホノメチルアミノ)−6−フェニル−1,3,5−トリアジンが好ましい。   As the phosphorus compound (C) having a triazine ring, specifically, 2,4,6-tris (O, P-biphenyl 2, 2′-diylphosphonomethylamino)-represented by the following structural formula (2): 1,3,5-triazine, 2,4-bis (O, P-biphenyl 2,2′-diylphosphonomethylamino) -6-amino-1,3,5- represented by the following structural formula (3) Triazine, 2- (O, P-biphenyl 2,2′-diylphosphonomethylamino) -4,6-diamino-1,3,5-triazine represented by the following structural formula (4), 2,4-bis (O, P-biphenyl 2,2′-diylphosphonomethylamino) -6-phenyl-1,3,5-triazine, represented by the following structural formula (6) Amino-4- (O, P-biphenyl 2,2′-diylpho Phosphono-methyl) -6-phenyl-1,3,5-triazine. Among these compounds, 2,4-bis (O, P-biphenyl 2,2′-diylphosphonomethylamino) -6-phenyl-1,3 is preferable because the solvent solubility of the epoxy resin composition is good. 5-Triazine, 2-amino-4- (O, P-biphenyl 2,2′-diylphosphonomethylamino) -6-phenyl-1,3,5-triazine is preferred.

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前記トリアジン環を有するリン化合物(C)の使用量は、特に限定されるものではないが、本発明のエポキシ樹脂組成物中の樹脂分に対してリン含有量が0.5〜7.0重量%となるように使用するのが好ましく、1.0〜4.0重量%となるように使用するのが特に好ましい。   Although the usage-amount of the phosphorus compound (C) which has the said triazine ring is not specifically limited, Phosphorus content is 0.5 to 7.0 weight with respect to the resin part in the epoxy resin composition of this invention. It is preferable to use it so that it may become%, and it is especially preferable to use it so that it may become 1.0 to 4.0 weight%.

前記トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)と前記トリアジン環を有するリン化合物(C)の使用割合は窒素とリンの相乗効果を考えると〔(B)/(C)〕が重量比で0.1〜1で、且つ、エポキシ樹脂組成物中の窒素とリンの含有量の割合〔(窒素含有量)/(リン含有量)〕が重量比で0.2〜1であることが好ましい。   The use ratio of the phenol resin (B) having the triazine ring and the phosphorus compound (C) having the triazine ring is 0.1 [(B) / (C)] in terms of a weight ratio in consideration of the synergistic effect of nitrogen and phosphorus. It is preferable that the ratio of the content of nitrogen and phosphorus in the epoxy resin composition [(nitrogen content) / (phosphorus content)] is 0.2 to 1 in weight ratio.

本発明のエポキシ樹脂組成物には更に硬化促進剤(D)を加えることもできる。硬化促進剤(D)としては特に限定されることはないが、例えば、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられ、これらは単独のみならず2種以上の併用も可能である。   A curing accelerator (D) can be further added to the epoxy resin composition of the present invention. The curing accelerator (D) is not particularly limited, and examples thereof include phosphorus compounds, tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, amine complex salts, and the like. Two or more types can be used in combination.

また本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて、無機充填剤、改質剤として使用される熱硬化性および熱可塑性樹脂、難燃付与剤、顔料、シランカップリング剤、離型剤等の種々の配合剤を添加することができる。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention includes, as necessary, an inorganic filler, a thermosetting and thermoplastic resin used as a modifier, a flame retardant, a pigment, a silane coupling agent, a release agent, and the like. The various compounding agents can be added.

前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ、水酸化マグネシウム等が挙げられる。無機充填材の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いるのが一般的である。溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は適用用途や所望特性によって、望ましい範囲が異なるが、例えば半導体封止材用途に使用する場合は、線膨張係数や難燃性を鑑みれば高い方が好ましく、組成物全体量に対して65重量%以上が好ましく、特に好ましくは85重量%以上である。また導電ペーストや導電フィルムなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。   Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide. In order to increase the blending amount of the inorganic filler, it is common to use fused silica. The fused silica can be used in either a crushed shape or a spherical shape. However, in order to increase the blending amount of the fused silica and suppress an increase in the melt viscosity of the molding material, it is preferable to mainly use a spherical shape. In order to further increase the blending amount of the spherical silica, it is preferable to appropriately adjust the particle size distribution of the spherical silica. The desired range varies depending on the application and desired properties, but for example, when used in semiconductor encapsulant applications, it is preferably higher in view of the coefficient of linear expansion and flame retardancy. It is preferably 65% by weight or more, particularly preferably 85% by weight or more. Moreover, when using for uses, such as an electrically conductive paste and an electrically conductive film, electroconductive fillers, such as silver powder and copper powder, can be used.

前記改質剤として使用される熱硬化性および熱可塑性樹脂としては種々のものが全て使用できるが、例えばフェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂などが例示できる。   Various thermosetting and thermoplastic resins can be used as the modifier. For example, phenoxy resin, polyamide resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyethersulfone resin, polyphenylene ether resin. And polyphenylene sulfide resin, polyester resin, polystyrene resin, polyethylene terephthalate resin and the like.

前記難燃付与剤としては種々のものが全て使用できるが、例えば、ハロゲン化合物、燐原子含有化合物や窒素原子含有化合物や無機系難燃化合物などが挙げられる。それらの具体例を挙げるならばテトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂やブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂などのハロゲン化合物、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−2−エチルヘキシルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、トリス(2,6ジメチルフェニル)ホスフェート、レゾルシンジフェニルホスフェートなどのリン酸エステル、ポリリン酸アンモニウム、ポリリン酸アミド、赤リン、リン酸グアニジン、ジアルキルヒドロキシメチルホスホネートなどの縮合リン酸エステル化合物などの燐原子含有化合物、メラミンなどの窒素原子含有化合物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、硼酸カルシウムなどの無機系難燃化合物が例示できる。このなかで、ハロゲン化合物は、ハロゲン含有難燃剤及びアンチモン化合物を使用しない地球環境にやさしい新規の難燃化方法の開発要求とは合致しないことを付記する。   Various flame retardants can be used as the flame retardant, and examples thereof include halogen compounds, phosphorus atom-containing compounds, nitrogen atom-containing compounds, and inorganic flame retardant compounds. Specific examples thereof include halogen compounds such as tetrabromobisphenol A type epoxy resin and brominated phenol novolac type epoxy resin, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, tri Phosphate esters such as phenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, tris (2,6 dimethylphenyl) phosphate, resorcin diphenyl phosphate, polyphosphorus Ammonium acid, polyphosphoric acid amide, red phosphorus, guanidine phosphate, dialkylhydroxymethylphospho Phosphorus atom-containing compounds such as condensed phosphoric acid ester compounds such as chromatography bets, nitrogen atom-containing compound such as melamine, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, inorganic flame retardant compounds such as calcium borate may be exemplified. Among these, it is added that the halogen compound does not meet the development requirements of a new flame retardant method friendly to the global environment that does not use halogen-containing flame retardants and antimony compounds.

本発明のエポキシ樹脂組成物の使用用途としては、特に制限されるものではなく、例えば、プリント基板用、電子部品の封止材用、レジストインキ用、層間絶縁材料用、導電ペースト用、樹脂注型材料用、接着材料用、複合材料用、絶縁塗料用等として好ましく使用することができる。これらの中でも、得られる硬化物の誘電特性に優れる点から、プリント基板用、電子部品の封止材用、レジストインキ用、導電ペースト用としてより好適に用いることができ、耐湿性に優れる点から接着材料用として好適に用いることができ、更に高機能性である点から複合材料用として好適に用いることができる。   The use of the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, and for example, for printed circuit boards, electronic component sealing materials, resist inks, interlayer insulating materials, conductive pastes, resin injections. It can be preferably used for mold materials, adhesive materials, composite materials, insulating paints and the like. Among these, from the point which is excellent in the dielectric property of the hardened | cured material obtained, it can be used more suitably for printed circuit boards, electronic component sealing materials, resist inks, and conductive pastes. It can be suitably used as an adhesive material, and can be suitably used as a composite material because of its high functionality.

前記プリント基板用としては、特にプリプレグ用、銅張り積層板用、ビルドアッププリント基板の層間絶縁材料用に好適に用いることができる。   As the printed circuit board, it can be suitably used particularly for prepregs, copper-clad laminates, and interlayer insulation materials for build-up printed circuit boards.

本発明のエポキシ樹脂組成物をプリント基板用のプリプレグ用樹脂組成物とするには、有機溶剤を用いてワニス化することでプリプレグ用樹脂組成物とすることが好ましい。前記有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素性溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド等の非アルコール性極性溶媒等沸点160℃以下の溶剤が挙げられ、適宜に2種または、それ以上の混合溶剤として使用することができる。得られた該ワニスを、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などの各種補強基材に含浸し、用いた溶剤種に応じた加熱温度、好ましくは50〜170℃で加熱することによって、硬化物であるプリプレグを得ることができる。この時用いる樹脂組成物と補強基材の重量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20〜60重量%となるように調整することが好ましい。   In order to make the epoxy resin composition of the present invention into a resin composition for a prepreg for a printed circuit board, it is preferably made into a resin composition for a prepreg by varnishing with an organic solvent. Examples of the organic solvent include alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, and ethyl cellosolve, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, dimethylformamide, and the like. Non-alcoholic polar solvents and the like have a boiling point of 160 ° C. or lower, and can be used as a mixed solvent of two or more as appropriate. The obtained varnish is impregnated into various reinforcing substrates such as paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat, and glass roving cloth, and the heating temperature according to the solvent type used, preferably 50 By heating at ˜170 ° C., a prepreg that is a cured product can be obtained. The weight ratio of the resin composition and the reinforcing substrate used at this time is not particularly limited, but it is usually preferable that the resin content in the prepreg is adjusted to 20 to 60% by weight.

本発明のエポキシ樹脂組成物から銅張り積層板用樹脂組成物を得るには、上記プリプレグ用樹脂組成物とする方法と同じであり、得られたプリプレグを、例えば特開平7−41543号公報に記載されているように積層し、適宜銅箔を重ねて、1〜10MPaの加圧下に170〜250℃で10分〜3時間、加熱圧着させることにより、銅張り積層板を得ることができる。   In order to obtain a resin composition for a copper-clad laminate from the epoxy resin composition of the present invention, it is the same as the method for preparing the resin composition for prepreg, and the obtained prepreg is disclosed in, for example, JP-A-7-41543. A copper-clad laminate can be obtained by laminating as described, stacking copper foils as appropriate, and thermocompression bonding at 170-250 ° C. for 10 minutes to 3 hours under a pressure of 1-10 MPa.

本発明のエポキシ樹脂組成物からビルドアップ基板用層間絶縁材料を得る方法としては特に限定されないが、例えば特公平4−6116号公報、特開平7−304931号公報、特開平8−64960号公報、特開平9−71762号公報、特開平9−298369号公報などに記載の各種方法を採用できる。より具体的には、ゴム、フィラーなどを適宜配合した当該樹脂組成物を、回路を形成した配線基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって、凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する。前記めっき方法としては、無電解めっき、電解めっき処理が好ましく、また前記粗化剤としては酸化剤、アルカリ、有機溶剤等が挙げられる。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成することにより、ビルドアップ基板を得ることができる。但し、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170〜250℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。   Although it does not specifically limit as a method of obtaining the interlayer insulation material for buildup boards from the epoxy resin composition of the present invention, for example, Japanese Patent Publication No. 4-6116, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-304931, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-64960, Various methods described in JP-A-9-71762, JP-A-9-298369 and the like can be employed. More specifically, the resin composition appropriately blended with rubber, filler, and the like is applied to a wiring board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, or the like, and then cured. Then, after drilling a predetermined through-hole part etc. as needed, it treats with a roughening agent, forms the unevenness | corrugation by washing the surface with hot water, and metal-treats, such as copper. As the plating method, electroless plating or electrolytic plating treatment is preferable, and examples of the roughening agent include an oxidizing agent, an alkali, and an organic solvent. Such operations are sequentially repeated as desired, and a build-up substrate can be obtained by alternately building up and forming a resin insulating layer and a conductor layer having a predetermined circuit pattern. However, the through-hole portion is formed after the outermost resin insulating layer is formed. In addition, a resin-coated copper foil obtained by semi-curing the resin composition on the copper foil is thermocompression-bonded at 170 to 250 ° C. on a circuit board on which a circuit is formed, thereby forming a roughened surface and plating treatment. It is also possible to produce a build-up substrate by omitting the process.

前記電子部品の封止材用としては、半導体チップのテープ状封止材用、ポッティング型液状封止剤、アンダーフィル用樹脂、半導体の層間絶縁膜用に好適に用いることができる。   As a sealing material for the electronic component, it can be suitably used for a tape-shaped sealing material for a semiconductor chip, a potting type liquid sealing agent, an underfill resin, and a semiconductor interlayer insulating film.

本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止材料用に調整するためには、前記エポキシ樹脂(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)、トリアジン環を有するリン化合物(C)、必要に応じて配合される硬化促進剤(D)やその他のカップリング剤、離型剤などの添加剤や無機充填材などを予備混合した後、押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分に混合する手法が挙げられる。テープ状封止剤として使用する場合には、前述の手法によって得られた樹脂組成物を加熱して半硬化シートを作製し、封止剤テープとした後、この封止剤テープを半導体チップ上に置き、100〜150℃に加熱して軟化させ成形し、170〜250℃で完全に硬化させる方法を挙げることができる。   In order to adjust the epoxy resin composition of the present invention for a semiconductor sealing material, the epoxy resin (A), the phenol resin (B) having a triazine ring, the phosphorus compound (C) having a triazine ring, as required After pre-mixing the curing accelerator (D), other coupling agents, mold release agents, and other inorganic fillers, etc., blended in a uniform manner using an extruder, kneader, roll, etc. The method of mixing thoroughly until it becomes is mentioned. When used as a tape-like sealant, the resin composition obtained by the above-described method is heated to produce a semi-cured sheet, which is used as a sealant tape, and then this sealant tape is applied to a semiconductor chip. And a method of softening by heating to 100 to 150 ° C. and completely curing at 170 to 250 ° C. can be mentioned.

更にポッティング型液状封止剤として使用する場合には、前述の手法によって得られた樹脂組成物を必要に応じて溶剤に溶解した後、半導体チップや電子部品上に塗布し、直接、硬化させればよい。   Further, when used as a potting type liquid sealant, the resin composition obtained by the above-mentioned method is dissolved in a solvent as necessary, and then applied onto a semiconductor chip or an electronic component and directly cured. That's fine.

本発明のエポキシ樹脂組成物をアンダーフィル用樹脂として使用する方法についても特に限定されないが、予め基板ないし半導体素子上に本発明のエポキシ樹脂組成物を半硬化させてから、加熱して半導体素子と基板を密着させ、完全硬化させるコンプレッションフロー法等が挙げられる。   The method of using the epoxy resin composition of the present invention as an underfill resin is not particularly limited. However, the epoxy resin composition of the present invention is semi-cured on a substrate or a semiconductor element in advance, and then heated to form a semiconductor element. For example, a compression flow method in which the substrate is brought into close contact and completely cured can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体の層間絶縁材料として使用する場合は、例えば特開平6−85091号公報の記載の方法が採用できる。層間絶縁膜に用いる場合は半導体に直接接することになるため、高温環境下において線膨張率の差によるクラックが生じないよう、絶縁材の線膨張率を半導体の線膨張率に近づけることが要求される。また、半導体の微細化、多層化、高密度化による信号遅延の問題に対応するため、絶縁材の低容量化技術が求められており、絶縁材を低誘電化することによってこの問題を解決することができる。当該樹脂組成物は、これらの要求を満たす特性を有するため好ましい。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as a semiconductor interlayer insulating material, for example, the method described in JP-A-6-85091 can be employed. When used as an interlayer insulating film, it will be in direct contact with the semiconductor, so it is required that the linear expansion coefficient of the insulating material be close to the linear expansion coefficient of the semiconductor so that cracks due to the difference in linear expansion coefficient do not occur in a high temperature environment. The In addition, in order to deal with the problem of signal delay due to miniaturization, multilayering, and high density of semiconductors, there is a demand for technology for reducing the capacity of insulating materials, and this problem can be solved by reducing the dielectric of insulating materials. be able to. The resin composition is preferable because it has characteristics satisfying these requirements.

本発明のエポキシ樹脂組成物をレジストインキとして使用する場合には、例えば特開平5−186567号公報に記載の方法に準じて、レジストインキ用組成物とした後、スクリーン印刷方式にてプリント基板上に塗布した後、レジストインキ硬化物とする方法が挙げられる。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as a resist ink, for example, according to the method described in JP-A No. 5-186567, a resist ink composition is prepared and then printed on a printed circuit board by a screen printing method. The method of making it a resist ink hardened | cured material after apply | coating to is mentioned.

本発明のエポキシ樹脂組成物を導電ペーストとして使用する場合には、例えば、特開平3−46707号公報に記載の微細導電性粒子を該樹脂組成物中に分散させ異方性導電膜用組成物とする方法、特開昭62−40183号公報、特開昭62−76215号公報、特開昭62−176139号公報などに開示されているような室温で液状である回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とする方法が挙げられる。   When using the epoxy resin composition of the present invention as a conductive paste, for example, fine conductive particles described in JP-A-3-46707 are dispersed in the resin composition, and the composition for anisotropic conductive film is used. And a paste resin composition for circuit connection which is liquid at room temperature as disclosed in JP-A-62-240183, JP-A-62-276215, JP-A-62-176139, etc. And an anisotropic conductive adhesive.

本発明のエポキシ樹脂組成物を接着剤用樹脂組成物として使用する場合には、例えば前記(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)、トリアジン環を有するリン化合物(C)、硬化促進剤(D)、必要に応じて配合されるその他の硬化剤、樹脂類、硬化促進剤、溶剤、添加剤等を室温または加熱下で混合ミキサー等を用いて均一に混合することによって得ることができ、各種の基材に塗布した後、室温又は加熱下に放置することによって基材の接着を行うことができる。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as a resin composition for an adhesive, for example, (A), a phenol resin (B) having a triazine ring, a phosphorus compound (C) having a triazine ring, and a curing accelerator. (D) Can be obtained by uniformly mixing other curing agents, resins, curing accelerators, solvents, additives, and the like blended as necessary using a mixing mixer or the like at room temperature or under heating. After applying to various base materials, the base materials can be adhered by allowing them to stand at room temperature or under heating.

本発明のエポキシ樹脂組成物から複合材料を得るには、用途に応じた粘度に調製するために有機溶剤を用いてワニス化し、該当ワニスを補強基材に含浸し、加熱してプリプレグを得た後、それを繊維の方向を少しずつ変えて、擬似的に等方性を持たせるように積層し、その後加熱することにより硬化成形する方法が挙げられる。前記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素性溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド等の非アルコール性極性溶媒等沸点160℃以下の溶剤が挙げられ、適宜に2種または、それ以上の混合溶剤として使用することができる。加熱温度としては、用いる溶剤の種類を考慮して決定され、好ましくは50〜150℃とされる。補強基材の種類は特に限定されず、例えば炭素繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などが挙げられる。樹脂分と補強基材の割合も特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20〜60重量%となるように調整するのが好ましい。   In order to obtain a composite material from the epoxy resin composition of the present invention, a varnish was formed using an organic solvent in order to adjust the viscosity according to the application, the varnish was impregnated into a reinforcing substrate, and heated to obtain a prepreg. Thereafter, it is possible to include a method in which the direction of the fiber is changed little by little, the layers are laminated so as to have pseudo-isotropic properties, and then cured and cured by heating. Examples of the organic solvent include alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, and ethyl cellosolve, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and dimethylformamide. Examples thereof include non-alcoholic polar solvents such as solvents having a boiling point of 160 ° C. or lower, and can be appropriately used as a mixed solvent of two or more. The heating temperature is determined in consideration of the type of solvent used, and is preferably 50 to 150 ° C. The type of the reinforcing substrate is not particularly limited, and examples thereof include carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat, and glass roving cloth. The ratio of the resin component and the reinforcing substrate is not particularly limited, but it is usually preferable that the resin component in the prepreg is adjusted to 20 to 60% by weight.

本発明の硬化物は、前述の本発明のエポキシ樹脂組成物を成形硬化させて得られるものであり、積層物、注型物、接着剤、塗膜、フィルム等として使用できる。その硬化方法としては特に制限されるものではなく、例えば、前記エポキシ樹脂(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)、トリアジン環を有するリン化合物(C)、硬化促進剤(D)必要に応じて配合されるその他の硬化剤、各種配合剤等を均一に混合した後、室温または80〜200℃で加熱硬化する方法を挙げることができる。また、前述の各種用途に応じて調製されたエポキシ樹脂組成物は、適応する用途に応じた硬化方法を適宜採用することが好ましい。   The cured product of the present invention is obtained by molding and curing the above-described epoxy resin composition of the present invention, and can be used as a laminate, a cast product, an adhesive, a coating film, a film and the like. The curing method is not particularly limited. For example, the epoxy resin (A), the phenol resin (B) having a triazine ring, the phosphorus compound (C) having a triazine ring, and a curing accelerator (D) are necessary. The method of thermally curing at room temperature or 80-200 degreeC can be mentioned, after mixing uniformly the other hardening | curing agent mix | blended according to various, various compounding agents, etc. Moreover, it is preferable to employ | adopt suitably the hardening method according to the use to which the epoxy resin composition prepared according to the above-mentioned various uses.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、以下において「部」「%」は特に断わりのない限り重量基準である。   Next, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples. In the following, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.

参考例1(比較対照用リン及び窒素変性エポキシ樹脂組成物の調製)
2,4−ビス{[6H−ジベンゾ−<c,e>(1,2)−オキサフォスフォリン−6−イル]−メチルアミノ}−6−フェニル−1,3,5−トリアジン100g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート828 ジャパンエポキシレジン社製)380g、ジシアンジアミド19g及びベンジルジメチルアミン0.9gを仕込み、150℃で1時間加熱し、リン及び窒素変性エポキシ樹脂組成物を調製した。
Reference Example 1 (Preparation of comparative control phosphorus and nitrogen-modified epoxy resin composition)
2,4-bis {[6H-dibenzo- <c, e> (1,2) -oxaphosphorin-6-yl] -methylamino} -6-phenyl-1,3,5-triazine, 100 g, bisphenol A Type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 380 g, dicyandiamide 19 g and benzyldimethylamine 0.9 g were charged and heated at 150 ° C. for 1 hour to prepare phosphorus and nitrogen-modified epoxy resin composition.

実施例1
第1表に示す配合でエポキシ樹脂(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)、トリアジン環を有するリン化合物(C)及び硬化促進剤(D)を用いて本発明のエポキシ樹脂組成物を調製した。このエポキシ樹脂組成物を用いて下記に示す方法でワニスを調製した。得られたワニスを用いて下記条件にて積層板を作成した。
Example 1
The epoxy resin composition of the present invention is prepared using the epoxy resin (A), the phenol resin (B) having a triazine ring, the phosphorus compound (C) having a triazine ring and the curing accelerator (D) in the formulation shown in Table 1. Prepared. Varnish was prepared by the method shown below using this epoxy resin composition. A laminate was prepared using the obtained varnish under the following conditions.

[ワニスの調整]
本発明のエポキシ樹脂組成物に溶剤を混合して最終的に組成物の不揮発分(N.V.)が55%となるように調整し、ワニスを調製した。
[Adjustment of varnish]
A solvent was mixed with the epoxy resin composition of the present invention, and finally the non-volatile content (NV) of the composition was adjusted to 55% to prepare a varnish.

[積層板作製条件]
基材 :日東紡績株式会社製 ガラスクロス「WEA7628H258」180μm
プライ数 :8
プリプレグ化条件:160℃/2分
銅 箔 :古河サ−キットフォイル株式会社製「GTS−MP」35μm
硬化条件 :170℃、2.9MPa、1時間
成型後板厚 :1.6mm 樹脂含有量 :40%
[Laminate production conditions]
Base material: Nitto Boseki Co., Ltd. glass cloth “WEA7628H258” 180 μm
Number of plies: 8
Prepregation conditions: 160 ° C / 2 minutes
Copper foil: “GTS-MP” 35 μm manufactured by Furukawa-Sakit Foil Co., Ltd.
Curing conditions: 170 ° C., 2.9 MPa, 1 hour
Thickness after molding: 1.6mm Resin content: 40%

得られた積層板の成形状態の観察と物性試験(ガラス転移温度、ピール強度、層間剥離強度、吸湿率、耐湿耐ハンダ性、燃焼試験)を行った。各評価項目の試験条件を以下に示す。また、結果を第1表に示す。   Observation of the molded state of the laminate and the physical properties tests (glass transition temperature, peel strength, delamination strength, moisture absorption rate, moisture resistance solder resistance, combustion test) were performed. The test conditions for each evaluation item are shown below. The results are shown in Table 1.

成形状態:エッチング処理を施し銅箔除去した後、目視で外観検査を行い、欠損、カスレ、ミーズリングが無く、均一に成形されているものを○とし、欠損、カスレ、ミーズリングがあるもの、または均一に成形されていないものを×とした。
ガラス転移温度: エッチング処理を施し銅箔除去した後、DMA法にて測定。昇温スピード3℃/min。
ピール強度:JIS−K6481に準拠した方法で測定。
層間剥離強度:JIS−K6481に準拠した方法で測定。
吸湿率: プレッシャークッカー試験機を使用し、121℃、2.1気圧、100%RHの条件において試験片(25mm×50mm)を1〜3時間保持後、その前後の重量変化を測定した。
耐湿耐ハンダ性:プレッシャークッカー試験機を使用し、121℃、2.1気圧、100%RHの条件において試験片(25mm×50mm)を2〜6時間保持後、その試験片を260℃のハンダ浴に30秒間浸漬させて、その前後の状態変化を観察した。
○:外観変化なし、△:直径5mm以下の膨れが5個以下、×:直径5mmより大きい膨れ発生、又は直径5mm以下の膨れが6個以上。
燃焼試験 : UL−94垂直試験に準拠した。
Molding state: After removing the copper foil by etching, visually inspect the appearance, and there is no defect, crease, and mising, and the one that is uniformly molded is marked with ◯, and there is a defect, crease, and mising. Or what was not shape | molded uniformly was set as x.
Glass transition temperature: Measured by DMA method after removing copper foil by etching. Temperature rising speed 3 ° C / min.
Peel strength: measured by a method based on JIS-K6481.
Interlaminar peel strength: Measured by a method based on JIS-K6481.
Moisture absorption: Using a pressure cooker tester, a test piece (25 mm × 50 mm) was held for 1 to 3 hours under the conditions of 121 ° C., 2.1 atm and 100% RH, and the weight change before and after the test piece was measured.
Moisture resistance / solder resistance: Using a pressure cooker tester, hold a test piece (25 mm × 50 mm) for 2 to 6 hours under the conditions of 121 ° C., 2.1 atm and 100% RH, and then solder the test piece to 260 ° C. It was immersed in a bath for 30 seconds, and the state change before and after that was observed.
○: No change in appearance, Δ: 5 or less bulges with a diameter of 5 mm or less, X: Generation of bulge larger than 5 mm in diameter, or 6 or more bulges with a diameter of 5 mm or less.
Combustion test: Conforms to UL-94 vertical test.

実施例1〜6、比較例1〜3
第1表及び第2表に示す配合でエポキシ樹脂(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)、トリアジン環を有するリン化合物(C)硬化促進剤(D)及び溶剤を用いる以外は実施例1と同様にしてワニスを調製した。これらのワニスを用いて実施例1と同様にして積層板を作成し、成形状態の観察と物性試験を行った。これらの結果を第1表及び第2表に示す。
Examples 1-6, Comparative Examples 1-3
Except for using the epoxy resin (A), the phenol resin (B) having a triazine ring, the phosphorus compound (C) having a triazine ring (C) and a curing accelerator (D) and a solvent in the formulations shown in Tables 1 and 2. A varnish was prepared in the same manner as in 1. Using these varnishes, a laminate was prepared in the same manner as in Example 1, and the molded state was observed and the physical properties were tested. These results are shown in Tables 1 and 2.

実施例7及び比較例4
クラフト紙の中央部を10cm各に切り取ったものを10数枚重ねて2mm厚とし、実施例7及び参考例1の組成物をクラフト紙の中央部に入れて鏡面板で挟み、170℃、2.9MPa、1時間の硬化条件でプレス成型して2mm厚の硬化物を得た。この硬化物を用いて成形状態の観察と物性試験を行った。これらの結果を第3表に示す。
Example 7 and Comparative Example 4
Ten pieces of kraft paper cut into 10 cm pieces are stacked to a thickness of 2 mm. The compositions of Example 7 and Reference Example 1 are placed in the center of kraft paper and sandwiched between mirror plates, 170 ° C., 2 ° C. It was press-molded under curing conditions of 9 MPa for 1 hour to obtain a cured product having a thickness of 2 mm. Using this cured product, the molded state was observed and the physical properties were tested. These results are shown in Table 3.

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尚、第1〜3表中の各原料及び略号は以下の通りである。
「N−770」 :フェノールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名[EPICLON N−770]、エポキシ当量188g/eq.)
「N−690」 :クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名[EPICLON N−690]、エポキシ当量215g/eq.)
「HP−7200H」 :ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名[EPICLON HP−7200H]、エポキシ当量275g/eq.)
「LA−7054」 :メラミン−フェノール共縮ノボラック型フェノール樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名[PHENOLITE LA−7054]、水酸基当量125g/eq.)
「LA−1356」 :メラミン−フェノール共縮ノボラック型フェノール樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名[PHENOLITE LA−1356]、水酸基当量146g/eq.)
「TD−2090」 :ノボラック型フェノール樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名[PHENOLITE TD−2090]、水酸基当量105g/eq.)
「2E4MZ」 :2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製、商品名[キュアゾール 2E4MZ])。
「MEK」 :メチルエチルケトン
「DMF」 :ジメチルホルムアミド
「828」 :ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名[エピコート 828]、エポキシ当量188g/eq.)
「DICY」 :ジシアンジアミド
「BDMA」 :ベンジルジメチルアミン
In addition, each raw material and abbreviation in Tables 1-3 are as follows.
“N-770”: phenol novolac type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, trade name [EPICLON N-770], epoxy equivalent 188 g / eq.)
"N-690": Cresol novolac type epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name [EPICLON N-690], epoxy equivalent 215 g / eq.)
“HP-7200H”: dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name [EPICLON HP-7200H], epoxy equivalent 275 g / eq.)
“LA-7054”: Melamine-phenol co-condensed novolac type phenol resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name [PHENOLITE LA-7054], hydroxyl group equivalent 125 g / eq.)
"LA-1356": Melamine-phenol co-condensed novolak type phenol resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name [PHENOLITE LA-1356], hydroxyl group equivalent 146 g / eq.)
"TD-2090": Novolac type phenol resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name [PHENOLITE TD-2090], hydroxyl group equivalent 105 g / eq.)
“2E4MZ”: 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name [CURESOL 2E4MZ]).
"MEK": Methyl ethyl ketone "DMF": Dimethylformamide "828": Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resins, trade name [Epicoat 828], epoxy equivalent 188 g / eq.)
“DICY”: Dicyandiamide “BDMA”: Benzyldimethylamine

Claims (17)

エポキシ樹脂(A)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(B)およびトリアジン環を有するリン化合物(C)を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 An epoxy resin composition comprising an epoxy resin (A), a phenol resin (B) having a triazine ring, and a phosphorus compound (C) having a triazine ring. 前記フェノール樹脂(B)が、フェノール類(b1)とアミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)とアルデヒド類(b3)とを反応させて得られる縮合物を含有する樹脂組成物であり、該縮合物中に未反応アルデヒド類を含まず、且つメチロール基を含まない樹脂組成物である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 The phenol resin (B) is a resin composition containing a condensate obtained by reacting a phenol (b1), a compound (b2) having an amino group-containing triazine ring and an aldehyde (b3), The epoxy resin composition according to claim 1, which is a resin composition containing no unreacted aldehydes and no methylol group in the condensate. 前記アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(b2)がメラミン、アセトグアナミン及びベンゾグアナミンからなる群から選ばれる1種以上の化合物である請求項2記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 2, wherein the compound (b2) having an amino group-containing triazine ring is one or more compounds selected from the group consisting of melamine, acetoguanamine and benzoguanamine. 前記フェノール樹脂(B)の含有量がエポキシ樹脂組成物中のエポキシ基1当量に対して活性水素基の量が0.5〜1.5当量となる量である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the content of the phenol resin (B) is such that the amount of active hydrogen groups is 0.5 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of epoxy groups in the epoxy resin composition. object. 前記リン化合物(C)が、アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(c1)とアルデヒド類(c2)と有機リン化合物(c3)とを反応させて得られるものである請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the phosphorus compound (C) is obtained by reacting a compound (c1) having an amino group-containing triazine ring, an aldehyde (c2), and an organic phosphorus compound (c3). object. 前記アミノ基含有トリアジン環を有する化合物(c1)がメラミン、アセトグアナミン及びベンゾグアナミンからなる群から選ばれる1種以上の化合物で、前記有機リン化合物(c3)が9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドである請求項4記載のエポキシ樹脂組成物。 The compound (c1) having an amino group-containing triazine ring is one or more compounds selected from the group consisting of melamine, acetoguanamine and benzoguanamine, and the organophosphorus compound (c3) is 9,10-dihydro-9-oxa- The epoxy resin composition according to claim 4, which is 10-phosphaphenanthrene-10-oxide. 前記フェノール樹脂(B)とリン化合物(C)の使用割合〔(B)/(C)〕が重量比で0.1〜1で、且つ、エポキシ樹脂組成物中の窒素とリンの含有量の割合〔(窒素含有量)/(リン含有量)〕が重量比で0.2〜1である請求項6記載のエポキシ樹脂組成物。 The use ratio [(B) / (C)] of the phenol resin (B) and the phosphorus compound (C) is 0.1 to 1 by weight, and the content of nitrogen and phosphorus in the epoxy resin composition The epoxy resin composition according to claim 6, wherein the ratio [(nitrogen content) / (phosphorus content)] is 0.2 to 1 in weight ratio. 更に硬化促進剤を含有する請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 Furthermore, the epoxy resin composition of any one of Claims 1-7 containing a hardening accelerator. 前記エポキシ樹脂(A)がフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂またはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the epoxy resin (A) is a phenol novolac type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin, or a dicyclopentadiene type epoxy resin. プリント基板用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 It is a resin composition for printed circuit boards, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 電子部品の封止材用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 1, which is a resin composition for a sealing material for electronic parts. レジストインキ用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 It is a resin composition for resist inks, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 導電ペースト用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 It is a resin composition for electrically conductive pastes, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 層間絶縁材料用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 It is a resin composition for interlayer insulation materials, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 接着材料用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 It is a resin composition for adhesive materials, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 複合材料用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。 It is a resin composition for composite materials, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 請求項1〜14のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化物。
A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 1.
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