JP2000263753A - Printing method, printing device, wiring board and manufacture thereof, semiconductor device and manufacture thereof, circuit board and electronic device - Google Patents

Printing method, printing device, wiring board and manufacture thereof, semiconductor device and manufacture thereof, circuit board and electronic device

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JP2000263753A
JP2000263753A JP11073044A JP7304499A JP2000263753A JP 2000263753 A JP2000263753 A JP 2000263753A JP 11073044 A JP11073044 A JP 11073044A JP 7304499 A JP7304499 A JP 7304499A JP 2000263753 A JP2000263753 A JP 2000263753A
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JP
Japan
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mask
printing
paste
semiconductor device
manufacturing
Prior art date
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JP11073044A
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Japanese (ja)
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Ikuya Miyazawa
郁也 宮沢
Toshiaki Kori
利明 郡
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing method by which the screen separation is con trolled in screen process printing, a printing device, a wiring board and a manu facturing method therefor, a semiconductor device and a manufacturing method therefor, a circuit board and electronic device. SOLUTION: This printing method comprises a first step to arrange a mask 12 which is flexible with an opening for printing formed and an object to be printed 30 by bringing the mask 12 into contact with the object 30, a second step to supply paste to the surface of the object 30 by filling the opening part of the mask 12 with the paste and a third step to peel the mask 12 from the object 30 while regulating the deflection of the mask 12 and print the paste on the object 30.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷方法、印刷装
置、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製
造方法、回路基板並びに電子機器に関する。
The present invention relates to a printing method, a printing apparatus, a wiring board and a method of manufacturing the same, a semiconductor device and a method of manufacturing the same, a circuit board, and an electronic apparatus.

【0002】[0002]

【発明の背景】スクリーン印刷は、スキージング工程と
版離れ工程とを含む。スキージング工程では、スキージ
を使用してマスク上でペーストをローリングさせて、マ
スクの開口部にペーストを充填し、印刷対象物上にペー
ストを密着させる。続いて、版離れ工程では、マスクの
開口部に充填されたペーストを印刷対象物に転写しなが
ら、マスクを引き剥がす。
BACKGROUND OF THE INVENTION Screen printing includes a squeezing step and a plate release step. In the squeegeeing step, the paste is rolled on the mask using a squeegee, the paste is filled into the openings of the mask, and the paste is brought into close contact with the print target. Subsequently, in the plate separation step, the mask is peeled off while transferring the paste filled in the openings of the mask to the printing target.

【0003】スクリーン印刷には、オフコンタクト印刷
とコンタクト印刷があるが、前者は、マスクと印刷対象
物との間にギャップを設けて印刷を行う方法であり、細
密な印刷に適していなかったので、後者の方法を適用す
ることが多かった。コンタクト印刷では、版離れ工程で
版離れ速度を遅くする必要があった。詳しくは、ペース
トがマスクの開口部内に残留しようとする力を小さくす
るために、ゆっくりとマスクを引き剥がすことが必要で
あった。
There are two types of screen printing: off-contact printing and contact printing. The former is a method of performing printing by providing a gap between a mask and an object to be printed, and is not suitable for fine printing. In many cases, the latter method was applied. In contact printing, it was necessary to reduce the plate separation speed in the plate separation step. Specifically, in order to reduce the force with which the paste tends to remain in the opening of the mask, it was necessary to slowly peel off the mask.

【0004】しかし、コンタクト印刷の版離れ工程で
は、マスクが印刷対象物に密着して貼り付くので、ある
時点で急に版離れが生じる。そのため、版離れ制御を行
うことが難しかった。
[0004] However, in the plate separation step of contact printing, the mask comes into close contact with the printing object, so that plate separation suddenly occurs at a certain point. Therefore, it has been difficult to perform plate separation control.

【0005】本発明は、上述したような課題を解決する
ものであり、その目的は、スクリーン印刷において版離
れの制御を行える印刷方法、印刷装置、配線基板及びそ
の製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並
びに電子機器を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a printing method, a printing apparatus, a wiring board and a method of manufacturing the same, and a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which can control separation of a plate in screen printing. A method, a circuit board, and an electronic device are provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】(1)本発明に係る印刷
方法は、印刷用の開口部が形成されて可撓性を有するマ
スクと印刷対象物と、を接触させて配置する第1工程
と、前記マスクの前記開口部にペーストを充填し、前記
ペーストを前記印刷対象物上に供給する第2工程と、前
記マスクの撓みを規制しながら、前記印刷対象物と前記
マスクとを剥離して、前記ペーストを前記印刷対象物上
に印刷する第3工程と、を含む。
(1) In a printing method according to the present invention, a first step in which a flexible mask having a printing opening formed therein and a printing target are brought into contact with each other is arranged. Filling a paste into the opening of the mask, supplying the paste onto the printing target, and peeling the printing target and the mask while controlling the deflection of the mask. And printing the paste on the printing object.

【0007】本発明によれば、マスクと印刷対象物とが
接触するので、スクリーン印刷のうちコンタクト印刷が
行われる。コンタクト印刷では、マスクの開口部にペー
ストが充填されると、マスクと印刷対象物とが密着して
版離れしにくい。本発明では、第3工程でマスクの撓み
が規制されているので、版離れ工程で、マスクと印刷対
象物とが急に剥離しないようになっている。これによ
り、版離れ速度を制御することができ、その結果、良好
な印刷が可能になる。
According to the present invention, the contact between the mask and the object to be printed is made, so that the contact printing of the screen printing is performed. In the contact printing, when the paste is filled in the opening of the mask, the mask and the printing target are in close contact with each other, and it is difficult for the plate to separate. In the present invention, since the deflection of the mask is regulated in the third step, the mask and the printing object are not suddenly separated in the plate separating step. As a result, the separation speed can be controlled, and as a result, good printing can be performed.

【0008】(2)この印刷方法において、前記マスク
は、前記印刷対象物よりも大きく形成され、第3工程
で、前記マスクにおける前記印刷対象物よりも外側の部
分の撓みを防止することで、前記マスク全体の撓みを規
制してもよい。
(2) In this printing method, the mask is formed larger than the object to be printed, and in a third step, bending of a portion of the mask outside the object to be printed is prevented. The deflection of the entire mask may be restricted.

【0009】(3)この印刷方法において、第3工程
で、前記印刷対象物及び前記マスクの少なくとも一方
を、前記マスクにおける前記印刷対象物との接触面に対
してほぼ垂直な方向に移動させて剥離してもよい。
(3) In this printing method, in the third step, at least one of the printing object and the mask is moved in a direction substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the printing object. You may peel off.

【0010】このような方向で、印刷対象物とマスクと
を剥離することで、ペーストの版抜け性が良くなる。
[0010] By peeling the print object and the mask in such a direction, the paste can be easily removed.

【0011】(4)この印刷方法において、第3工程
で、前記マスクにおける前記印刷対象物と接触する側の
面を支持してもよい。
(4) In this printing method, in the third step, a surface of the mask that is in contact with the printing object may be supported.

【0012】こうすることで、前記マスクの撓みを防止
することができる。
By doing so, the deflection of the mask can be prevented.

【0013】(5)この印刷方法において、前記印刷対
象物は、複数の電極が形成された半導体ウエーハであ
り、前記ペーストは、金属ペーストであり、前記金属ペ
ーストを前記電極に印刷してもよい。
(5) In this printing method, the object to be printed is a semiconductor wafer on which a plurality of electrodes are formed, the paste is a metal paste, and the metal paste may be printed on the electrodes. .

【0014】こうすることで、半導体ウエーハの電極
に、金属ペーストを設けることができる。
By doing so, the metal paste can be provided on the electrode of the semiconductor wafer.

【0015】(6)この印刷方法において、前記マスク
は、弾性部材を介してフレームの内側に設けられていて
もよい。
(6) In this printing method, the mask may be provided inside the frame via an elastic member.

【0016】これによれば、弾性部材を介してマスクが
撓みやすくなっている。したがって、スキージング工程
では、印刷対象物の印刷面にマスクが追従しやすくなっ
ており、印刷面にペーストを供給しやすくなっている。
According to this, the mask is easily bent via the elastic member. Therefore, in the squeezing process, the mask easily follows the printing surface of the printing target, and the paste is easily supplied to the printing surface.

【0017】(7)本発明に係る配線基板の製造方法
は、印刷用の開口部が形成されて可撓性を有するマスク
と、配線パターンが形成された基板と、を接触させて配
置する第1工程と、前記マスクの前記開口部に金属ペー
ストを充填し、前記金属ペーストを前記配線パターンの
少なくとも一部に供給する第2工程と、前記マスクの撓
みを規制しながら、前記基板と前記マスクとを剥離し
て、前記金属ペーストを前記配線パターンの少なくとも
一部に印刷する第3工程と、を含む。
(7) In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, a flexible mask having an opening for printing formed thereon and a substrate on which a wiring pattern is formed are placed in contact with each other. A first step, a second step of filling the opening of the mask with a metal paste, and supplying the metal paste to at least a part of the wiring pattern, and controlling the bending of the mask while maintaining the substrate and the mask. And printing the metal paste on at least a part of the wiring pattern.

【0018】本発明によれば、マスクと基板とが接触す
るので、スクリーン印刷のうちコンタクト印刷が行われ
る。コンタクト印刷では、マスクの開口部に金属ペース
トが充填されると、マスクと基板とが密着して版離れし
にくい。本発明では、第3工程でマスクの撓みが規制さ
れているので、版離れ工程で、マスクと基板とが急に剥
離しないようになっている。これにより、版離れ速度を
制御することができ、その結果、良好な印刷が可能にな
る。
According to the present invention, since the mask and the substrate are in contact with each other, contact printing of screen printing is performed. In contact printing, when the metal paste is filled in the openings of the mask, the mask and the substrate are in close contact with each other and the plate is not easily separated. In the present invention, since the deflection of the mask is regulated in the third step, the mask and the substrate are not suddenly separated in the plate separation step. As a result, the separation speed can be controlled, and as a result, good printing can be performed.

【0019】(8)この配線基板の製造方法において、
前記マスクは、前記基板よりも大きく形成され、第3工
程で、前記マスクにおける前記基板よりも外側の部分の
撓みを防止することで、前記マスク全体の撓みを規制し
てもよい。
(8) In this method of manufacturing a wiring board,
The mask may be formed larger than the substrate, and in a third step, the bending of the entire mask may be restricted by preventing a portion of the mask outside the substrate from being bent.

【0020】(9)この配線基板の製造方法において、
第3工程で、前記基板及び前記マスクの少なくとも一方
を、前記マスクにおける前記基板との接触面に対してほ
ぼ垂直な方向に移動させて剥離してもよい。
(9) In this method of manufacturing a wiring board,
In the third step, at least one of the substrate and the mask may be removed by moving the mask in a direction substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the substrate.

【0021】このような方向で、基板とマスクとを剥離
することで、金属ペーストの版抜け性が良くなる。
By peeling the substrate and the mask in such a direction, the metal paste can be easily removed.

【0022】(10)この配線基板の製造方法におい
て、第3工程で、前記マスクにおける前記基板と接触す
る側の面を支持してもよい。
(10) In this method of manufacturing a wiring board, in the third step, a surface of the mask that is in contact with the substrate may be supported.

【0023】こうすることで、前記マスクの撓みを防止
することができる。
By doing so, the deflection of the mask can be prevented.

【0024】(11)この配線基板の製造方法におい
て、前記マスクは、弾性部材を介してフレームの内側に
設けられていてもよい。
(11) In this method of manufacturing a wiring board, the mask may be provided inside the frame via an elastic member.

【0025】これによれば、弾性部材を介してマスクが
撓みやすくなっている。したがって、スキージング工程
では、基板の配線パターンの表面にマスクが追従しやす
くなっており、配線パターンにペーストを供給しやすく
なっている。
According to this, the mask is easily bent via the elastic member. Therefore, in the squeezing step, the mask easily follows the surface of the wiring pattern of the substrate, and the paste is easily supplied to the wiring pattern.

【0026】(12)本発明に係る半導体装置の製造方
法は、上記方法により製造された配線基板に、半導体チ
ップを実装する工程を含む。
(12) A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of mounting a semiconductor chip on a wiring board manufactured by the above method.

【0027】これによれば、上記配線基板に半導体チッ
プが実装されて、半導体装置が構成される。
According to this, a semiconductor chip is mounted on the wiring board to form a semiconductor device.

【0028】(13)本発明に係る半導体装置の製造方
法は、印刷用の開口部が形成されて可撓性を有するマス
クと、複数の集積回路が形成されていると共にそれぞれ
の集積回路について複数の電極が形成された半導体ウエ
ーハと、を接触させて配置する第1工程と、前記マスク
の前記開口部に金属ペーストを充填し、前記金属ペース
トを前記電極上に供給する第2工程と、前記マスクの撓
みを規制しながら、前記半導体ウエーハと前記マスクと
を剥離して、前記金属ペーストを前記電極に印刷する第
3工程と、前記半導体ウエーハを加熱し、前記金属ペー
ストを固化又は溶融する第4工程と、前記半導体ウエー
ハを、それぞれの集積回路ごとに個片に切断する第5工
程と、を含む。
(13) In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a flexible mask having an opening for printing is formed, a plurality of integrated circuits are formed, and a plurality of integrated circuits are formed. A first step of contacting and arranging a semiconductor wafer on which an electrode is formed, a second step of filling a metal paste into the opening of the mask, and supplying the metal paste onto the electrode; A third step of peeling the semiconductor wafer and the mask and printing the metal paste on the electrodes while regulating the deflection of the mask, and a third step of heating the semiconductor wafer and solidifying or melting the metal paste. And a fifth step of cutting the semiconductor wafer into individual pieces for each integrated circuit.

【0029】本発明によれば、マスクと半導体ウエーハ
とが接触するので、スクリーン印刷のうちコンタクト印
刷が行われる。コンタクト印刷では、マスクの開口部に
金属ペーストが充填されると、マスクと半導体ウエーハ
とが密着して版離れしにくい。特、半導体ウエーハの表
面は高い平坦性を有するので密着性が高い。本発明で
は、第3工程でマスクの撓みが規制されているので、版
離れ工程で、マスクと半導体ウエーハとが急に剥離しな
いようになっている。これにより、版離れ速度を制御す
ることができ、その結果、良好な印刷が可能になる。
According to the present invention, since the mask and the semiconductor wafer are in contact with each other, the contact printing of the screen printing is performed. In contact printing, when the metal paste is filled in the openings of the mask, the mask and the semiconductor wafer are in close contact with each other, and it is difficult to separate the plate. In particular, since the surface of the semiconductor wafer has high flatness, the adhesion is high. In the present invention, since the deflection of the mask is regulated in the third step, the mask and the semiconductor wafer are not suddenly separated in the plate separation step. As a result, the separation speed can be controlled, and as a result, good printing can be performed.

【0030】(14)この半導体装置の製造方法におい
て、前記マスクは、前記半導体ウエーハよりも大きく形
成され、第3工程で、前記マスクにおける前記半導体ウ
エーハよりも外側の部分の撓みを防止することで、前記
マスク全体の撓みを規制してもよい。
(14) In this method of manufacturing a semiconductor device, the mask is formed larger than the semiconductor wafer, and in a third step, bending of a portion of the mask outside the semiconductor wafer is prevented. The deflection of the entire mask may be restricted.

【0031】(15)この半導体装置の製造方法におい
て、第3工程で、前記半導体ウエーハ及び前記マスクの
少なくとも一方を、前記マスクにおける前記半導体ウエ
ーハとの接触面に対してほぼ垂直な方向に移動させて剥
離してもよい。
(15) In this method of manufacturing a semiconductor device, in the third step, at least one of the semiconductor wafer and the mask is moved in a direction substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the semiconductor wafer. May be peeled off.

【0032】このような方向で、基板とマスクとを剥離
することで、金属ペーストの版抜け性が良くなる。
By peeling the substrate and the mask in such a direction, the metal paste can be easily removed.

【0033】(16)この半導体装置の製造方法におい
て、第3工程で、前記マスクにおける前記半導体ウエー
ハと接触する側の面を支持してもよい。
(16) In this method of manufacturing a semiconductor device, in the third step, the surface of the mask on the side in contact with the semiconductor wafer may be supported.

【0034】こうすることで、前記マスクの撓みを防止
することができる。
This makes it possible to prevent the mask from bending.

【0035】(17)この半導体装置の製造方法におい
て、前記マスクは、弾性部材を介してフレームの内側に
設けられていてもよい。
(17) In this method of manufacturing a semiconductor device, the mask may be provided inside the frame via an elastic member.

【0036】(18)本発明に係る配線基板は、上記方
法により製造される。
(18) The wiring board according to the present invention is manufactured by the above method.

【0037】(19)本発明に係る半導体装置は、上記
方法により製造される。
(19) The semiconductor device according to the present invention is manufactured by the above method.

【0038】(20)本発明に係る回路基板には、上記
配線基板が使用されている。
(20) The circuit board according to the present invention uses the above wiring board.

【0039】(21)本発明に係る回路基板には、上記
半導体装置が搭載されている。
(21) The semiconductor device is mounted on a circuit board according to the present invention.

【0040】(22)本発明に係る電子機器は、上記配
線基板を備えている。
(22) An electronic device according to the present invention includes the above wiring board.

【0041】(23)本発明に係る電子機器は、上記半
導体装置を備えている。
(23) An electronic apparatus according to the present invention includes the above semiconductor device.

【0042】(24)本発明に係る印刷装置は、印刷用
の開口部が形成されて可撓性を有するマスクと、前記マ
スクの前記開口部にペーストを充填するためのスキージ
と、前記マスクよりも小さい印刷対象物の周囲に配置さ
れて前記マスクを支持して撓みを規制する支持部材と、
を含む。
(24) A printing apparatus according to the present invention includes a mask having a flexible opening formed with a printing opening, a squeegee for filling the opening of the mask with a paste, and a mask. A support member that is arranged around a small printing target and supports the mask to regulate the bending,
including.

【0043】本発明によれば、マスクとスキージを使用
して、スクリーン印刷を行うことができる。スクリーン
印刷のうちコンタクト印刷では、マスクと印刷対象物と
が接触するので、マスクの開口部にペーストが充填され
ると、マスクと印刷対象物とが密着して版離れしにく
い。本発明では、支持部材によってマスクの撓みが規制
されるので、版離れ工程で、マスクと印刷対象物とが急
に剥離しないようになっている。これにより、版離れ速
度を制御することができ、その結果、良好な印刷が可能
になる。
According to the present invention, screen printing can be performed using a mask and a squeegee. In contact printing of screen printing, the mask and the printing target come into contact with each other. Therefore, when the opening of the mask is filled with the paste, the mask and the printing target are in close contact with each other, and the plate is not easily separated. According to the present invention, since the deflection of the mask is regulated by the support member, the mask and the printing object are not suddenly separated from each other in the plate separating step. As a result, the separation speed can be controlled, and as a result, good printing can be performed.

【0044】(25)この半導体装置の製造方法におい
て、前記支持部材は、前記マスクにおける前記印刷対象
物よりも外側の部分の撓みを防止することで、前記マス
ク全体の撓みを規制してもよい。
(25) In this method of manufacturing a semiconductor device, the support member may restrict the deflection of the mask as a whole by preventing a portion of the mask outside the object to be printed. .

【0045】(26)この印刷装置において、前記印刷
対象物に前記マスクを接触させて前記ペーストを前記開
口部に充填して前記印刷対象物上に前記ペーストを供給
することで密着した前記印刷対象物と前記マスクとを剥
離するための剥離手段を含んでもよい。
(26) In this printing apparatus, the mask is brought into contact with the printing object, the paste is filled in the opening, and the paste is supplied onto the printing object so that the printing object adheres to the printing object. A peeling unit for peeling the object and the mask may be included.

【0046】(27)この印刷装置において、前記剥離
手段は、前記印刷対象物及び前記マスクの少なくとも一
方を、前記マスクにおける前記印刷対象物との接触面に
対してほぼ垂直な方向に移動させて剥離してもよい。
(27) In this printing apparatus, the peeling means moves at least one of the printing object and the mask in a direction substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the printing object. You may peel off.

【0047】このような方向で、印刷対象物とマスクと
を剥離することで、ペーストの版抜け性が良くなる。
By peeling the printing object and the mask in such a direction, the paste can be easily removed.

【0048】(28)この印刷装置において、前記マス
クは、所定の位置で支持され、前記剥離手段は、前記印
刷対象物を、前記マスクにおける前記印刷対象物との接
触面に対してほぼ垂直な方向に移動させて剥離してもよ
い。
(28) In this printing apparatus, the mask is supported at a predetermined position, and the peeling means holds the printing object substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the printing object. You may move in the direction and peel.

【0049】(29)この印刷装置において、前記マス
クは、弾性部材を介してフレームの内側に設けられてい
てもよい。
(29) In this printing apparatus, the mask may be provided inside the frame via an elastic member.

【0050】これによれば、弾性部材を介してマスクが
撓みやすくなっている。したがって、スキージング工程
では、印刷対象物の印刷面にマスクが追従しやすくなっ
ており、印刷面にペーストを供給しやすくなっている。
According to this, the mask is easily bent via the elastic member. Therefore, in the squeezing process, the mask easily follows the printing surface of the printing target, and the paste is easily supplied to the printing surface.

【0051】[0051]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0052】(第1の実施の形態)図1〜図6は、本発
明の第1の実施の形態に係る印刷方法を説明する図であ
る。図1には、この印刷方法で使用される印刷装置の平
面図が示され、図2は図1のII−II線断面図である。印
刷装置10は、マスク12と、スキージ14(図3参
照)と、支持部材16と、を含む。なお、印刷装置10
は、全て又は一部が自動化された装置のみならず、全て
の作業を人が行う治具も含む。
(First Embodiment) FIGS. 1 to 6 are diagrams for explaining a printing method according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view of a printing apparatus used in this printing method, and FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG. The printing device 10 includes a mask 12, a squeegee 14 (see FIG. 3), and a support member 16. The printing device 10
Includes not only fully or partially automated devices, but also jigs that perform all operations manually.

【0053】マスク12は、鋼鈑または樹脂等で形成す
ることができ、印刷対象物の印刷面に対応できるように
可撓性を有することが好ましい。金属で構成されたマス
ク12はメタル部である。マスク12は、100mm×
100mm〜1000mm×1000mm程度で形成す
ることができる。マスク12は、20μm〜0.50m
m程度の薄さであることが好ましい。マスク12には、
複数の開口部18が形成されている。各開口部18は、
エッチング、レーザ又はメッキ等で形成することができ
る。各開口部18には、印刷で使用されるペーストが充
填される。ここで、ペーストは、インキの他に、ソルダ
ペースト、銀ペースト、銅ペースト及びニッケルペース
ト等の金属ペーストを含む。
The mask 12 can be formed of a steel plate or a resin, and preferably has flexibility so as to correspond to a printing surface of a printing object. The mask 12 made of metal is a metal part. The mask 12 is 100 mm ×
It can be formed in a size of about 100 mm to 1000 mm × 1000 mm. The mask 12 is 20 μm to 0.50 m
Preferably, the thickness is about m. The mask 12
A plurality of openings 18 are formed. Each opening 18
It can be formed by etching, laser, plating, or the like. Each opening 18 is filled with a paste used for printing. Here, the paste includes a metal paste such as a solder paste, a silver paste, a copper paste, and a nickel paste, in addition to the ink.

【0054】例えば、QFP(Quad Flat Package)
型の半導体装置が実装される回路基板の配線パターン
に、本発明を適用してハンダを設けるときには、開口部
18の形状を矩形にする。具体的には、開口部18の形
状が、2mm以下×0.2mm以下の長方形であり、そ
の短辺方向に沿って、0.4mm以下の開口ピッチで複
数の開口部18が並べられる。QFP型の半導体装置の
アウターリードが、4辺に設けられているときには、図
1に示すように、4辺のそれぞれに沿って複数の開口部
18が形成される。アウターリードが、2辺に設けられ
ているときには、2辺のそれぞれに沿って複数の開口部
18が形成される。また、複数の半導体装置に対応する
ときには、図1に示すように、複数箇所に複数の開口部
18を形成する。
For example, QFP (Quad Flat Package)
When solder is applied to a wiring pattern of a circuit board on which a semiconductor device of a type is mounted by applying the present invention, the shape of the opening 18 is rectangular. Specifically, the shape of the opening 18 is a rectangle of 2 mm or less × 0.2 mm or less, and the plurality of openings 18 are arranged along the short side direction at an opening pitch of 0.4 mm or less. When the outer leads of the QFP type semiconductor device are provided on four sides, a plurality of openings 18 are formed along each of the four sides as shown in FIG. When the outer leads are provided on two sides, a plurality of openings 18 are formed along each of the two sides. Further, when corresponding to a plurality of semiconductor devices, a plurality of openings 18 are formed at a plurality of locations as shown in FIG.

【0055】マスク12は、弾性部材18を介してフレ
ーム20の内側に設けられている。弾性部材18はサス
ペンション部であり、例えば樹脂などで形成される。弾
性部材18によって、マスク12が撓みやすくなってい
る。フレーム20は、マスク枠であり、アルミニウムや
スチールなどで構成された剛体である。フレーム20に
よってマスク12は支持される。
The mask 12 is provided inside the frame 20 via the elastic member 18. The elastic member 18 is a suspension portion, and is formed of, for example, resin. The mask 12 is easily bent by the elastic member 18. The frame 20 is a mask frame, and is a rigid body made of aluminum, steel, or the like. The mask 12 is supported by the frame 20.

【0056】マスク12は、所定の位置で支持される。
具体的には、弾性部材18を介してマスク12を支持す
るフレーム20が、受け部材24に支持される。受け部
材24は、図示しない部材にて固定されている。マスク
12は、水平に位置されることが好ましい。
The mask 12 is supported at a predetermined position.
Specifically, the frame 20 that supports the mask 12 via the elastic member 18 is supported by the receiving member 24. The receiving member 24 is fixed by a member (not shown). The mask 12 is preferably located horizontally.

【0057】マスク12の一方の面に対向する位置に、
印刷対象物30は配置される。例えば、マスク12の下
方に印刷対象物30を配置する。印刷対象物30は、マ
スク12に平行に配置される。印刷対象物30は、特に
限定されないが、例えば、配線パターンが形成された基
板が挙げられる。この基板は、半導体装置が実装される
回路基板であっても、半導体装置の一部をなす基板(例
えばフレキシブル基板)であってもよい。この場合に
は、配線パターンに金属ペーストを設けて覆ったり、ハ
ンダを設けることができる。
At a position facing one surface of the mask 12,
The print object 30 is arranged. For example, the print target 30 is arranged below the mask 12. The printing object 30 is arranged parallel to the mask 12. The printing target 30 is not particularly limited, and includes, for example, a substrate on which a wiring pattern is formed. This substrate may be a circuit board on which the semiconductor device is mounted, or a substrate (for example, a flexible substrate) forming a part of the semiconductor device. In this case, a metal paste can be provided on the wiring pattern to cover it, or solder can be provided.

【0058】印刷装置10は、印刷対象物30を自動的
に送り出すための手段を有していてもよい。例えば、搬
送手段26によって、印刷対象物30をマスク12と向
かい合う位置に自動的に送り出し、その後、マスク12
から離れた位置に送り出してもよい。詳しくは、マスク
12の開口部18と、印刷対象物30の被印刷領域と、
が向かい合う位置に、印刷対象物30が送り出されるこ
とが好ましい。また、マスク12と向かい合う位置で、
印刷対象物30の位置を調整してもよい。搬送手段26
は、印刷対象物30を、マスク12と非接触の位置で搬
送する。搬送手段26の具体的な構成は、図1に示すよ
うに、一対のベルトであってもよい。一対のベルトの間
に印刷対象物30が掛け渡される。それぞれのベルトが
同一方向で同一速度で送り出されることで、印刷対象物
30が移動する。
The printing apparatus 10 may have means for automatically sending out the print object 30. For example, the transport target 26 automatically sends the print target 30 to a position facing the mask 12, and thereafter,
It may be sent to a position distant from. Specifically, the opening 18 of the mask 12, the print target area of the print target 30,
It is preferable that the print target 30 is sent out to a position where the print object 30 faces. Also, at a position facing the mask 12,
The position of the print target 30 may be adjusted. Conveying means 26
Transports the print target 30 at a position not in contact with the mask 12. The specific configuration of the transporting unit 26 may be a pair of belts as shown in FIG. The printing object 30 is stretched between the pair of belts. The printing target 30 moves by each belt being sent out at the same speed in the same direction.

【0059】印刷対象物30は、マスク12に平行かつ
非接触の状態で対面してから、マスク12に接触し、印
刷(コンタクト印刷)工程が終了すると元の状態に戻
る。そのために、印刷対象物30又はマスク12の少な
くとも一方が移動する。例えば、印刷対象物30がマス
ク12の下方に平行かつ非接触の状態で配置されてか
ら、昇降手段(剥離手段)28によって、印刷対象物3
0を昇降させられる。昇降手段28は、マスク12に密
着した印刷対象物30を剥離するためにも使用される。
マスク12は所定の位置で支持されて動かないことが好
ましい。昇降手段(剥離手段)28は、印刷対象物30
を支持して昇降させる。例えば、昇降手段(剥離手段)
28は、印刷対象物30における印刷面とは反対側の面
を支持する。マスク12の開口部18と、印刷対象物3
0の被印刷領域と、が向かい合う位置に印刷対象物30
を配置して、昇降手段(剥離手段)28が、印刷対象物
30を、水平移動させることなくその印刷面に垂直な方
向に昇降させることが好ましい。印刷対象物30の平行
移動、すなわち、ずれを防ぐために、昇降手段(剥離手
段)28は印刷対象物30を吸着するなどして一時的に
固定することが好ましい。あるいは、昇降手段(剥離手
段)28は、印刷対象物30を平行移動させてその位置
を調整してもよい。
The object 30 to be printed faces the mask 12 in a state of being in parallel and non-contact with the mask 12, and then comes into contact with the mask 12, and returns to the original state when the printing (contact printing) step is completed. Therefore, at least one of the printing target 30 and the mask 12 moves. For example, after the printing object 30 is arranged below the mask 12 in a parallel and non-contact state, the printing object 3 is
0 can be raised and lowered. The elevating means 28 is also used to peel off the printing object 30 that is in close contact with the mask 12.
Preferably, the mask 12 is supported in place and does not move. The lifting / lowering means (peeling means) 28
And lift it up and down. For example, lifting means (peeling means)
28 supports the surface of the printing object 30 opposite to the printing surface. The opening 18 of the mask 12 and the printing object 3
The print object 30 is located at a position where the print target area
It is preferable that the elevating means (peeling means) 28 elevate and lower the printing object 30 in a direction perpendicular to the printing surface without horizontal movement. In order to prevent the parallel movement of the printing object 30, that is, the displacement, it is preferable that the lifting / lowering means (peeling means) 28 is temporarily fixed by suctioning the printing object 30 or the like. Alternatively, the lifting / lowering means (peeling means) 28 may move the printing object 30 in parallel to adjust its position.

【0060】支持部材16は、マスク12の撓みを、必
要なときにのみ一時的に防止する。例えば、印刷対象物
30がマスク12よりも小さいときには、支持部材16
は、印刷対象物30の周囲で、マスク12に接触してそ
の撓みを防止する。詳しくは、マスク12における印刷
対象物30の印刷面と接触する面に、支持部材16が接
触する。また、マスク12の撓みを許容するときには、
支持部材16はマスク12に対して非接触の状態とな
る。このように、支持部材16は、マスク12との接触
及び非接触が可能になっている。そのために、支持部材
16は、駆動手段に連結されていてもよい。支持部材1
6は、印刷対象物30にできるだけ接近していること
が、撓みを防止する上で好ましい。支持部材16の形状
は特に限定されず、印刷対象物30の周囲を囲む形状で
あってもよいし、印刷対象物30の周囲でマスク12の
複数部分に接触する形状であってもよい。また、支持部
材16は、マスク12のみならず、弾性部材20も支持
してもよい。
The support member 16 temporarily prevents the mask 12 from bending only when necessary. For example, when the print target 30 is smaller than the mask 12, the support member 16
Contacts the mask 12 around the printing object 30 to prevent the bending thereof. Specifically, the support member 16 contacts a surface of the mask 12 that contacts the printing surface of the print target 30. Further, when allowing the deflection of the mask 12,
The support member 16 is in a non-contact state with the mask 12. As described above, the support member 16 can be in contact with and not in contact with the mask 12. To that end, the support member 16 may be connected to a driving means. Support member 1
6 is preferably as close as possible to the printing object 30 in order to prevent bending. The shape of the support member 16 is not particularly limited, and may be a shape surrounding the printing object 30 or may be a shape contacting a plurality of portions of the mask 12 around the printing object 30. Further, the support member 16 may support not only the mask 12 but also the elastic member 20.

【0061】スキージ14は、マスク12の開口部18
にペースト32(図4参照)を充填するためもので、公
知のものを使用することができる。スキージ14は、図
示しない駆動手段によって自動的に操作されてもよい
し、手動で使用されてもよい。
The squeegee 14 is provided at the opening 18 of the mask 12.
And a paste 32 (see FIG. 4), and a known paste can be used. The squeegee 14 may be automatically operated by driving means (not shown) or may be used manually.

【0062】本実施の形態に係る印刷装置10は、上記
のように構成されており、以下、印刷装置10を使用し
た印刷方法(配線基板又は半導体装置の製造方法)につ
いて説明する。この印刷方法は、スクリーン印刷のうち
コンタクト印刷である。
The printing apparatus 10 according to the present embodiment is configured as described above, and a printing method (a method of manufacturing a wiring board or a semiconductor device) using the printing apparatus 10 will be described below. This printing method is contact printing in screen printing.

【0063】図1及び図2に示すように、マスク12に
対面する位置に印刷対象物30を配置する。たとえば、
印刷装置10の搬送手段26によって印刷対象物30を
搬送する。また、マスク12の開口部18と、印刷対象
物30の被印刷領域と、が対面するように位置を調整し
てもよい。マスク12の下方に印刷対象物30が位置す
るときには、開口部18の直下に、印刷対象物30の被
印刷領域を位置させる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the printing object 30 is arranged at a position facing the mask 12. For example,
The printing object 30 is transported by the transport unit 26 of the printing apparatus 10. Further, the position may be adjusted so that the opening 18 of the mask 12 and the print target area of the print target 30 face each other. When the print target 30 is located below the mask 12, the print target area of the print target 30 is positioned immediately below the opening 18.

【0064】(第1工程)図3に示すように、印刷対象
物30及びマスク12の少なくとも一方を移動させて、
両者を接触させる。例えば、マスク12の位置を固定
し、印刷対象物30を昇降手段(剥離手段)28を介し
てマスク12に接触させる。
(First Step) As shown in FIG. 3, at least one of the printing object 30 and the mask 12 is moved,
Contact both. For example, the position of the mask 12 is fixed, and the printing target 30 is brought into contact with the mask 12 via the elevating means (peeling means) 28.

【0065】(第2工程)図4に示すように、スキージ
14によって、ペースト32をマスク12の開口部18
に充填する。この工程はスキージング工程である。例え
ば、印刷対象物30が、配線パターン34の形成された
基板である場合には、ペースト32を配線パターン34
上に供給する。この場合は、ペースト32は、ハンダペ
ーストなどの金属ペーストである。ペースト32は、配
線パターン34の表面(側端面を除く)の全面上に供給
してもよいし、その一部、例えばランド部上に供給して
もよい。この工程で、マスク12は、撓みやすい状態で
あれば、印刷対象物30の表面形状に対応しやすくな
る。
(Second Step) As shown in FIG. 4, a paste 32 is applied to the opening 18 of the mask 12 with a squeegee 14.
Fill. This step is a squeezing step. For example, when the printing object 30 is a substrate on which the wiring pattern 34 is formed, the paste 32 is
Supply on top. In this case, the paste 32 is a metal paste such as a solder paste. The paste 32 may be supplied on the entire surface of the wiring pattern 34 (excluding the side end surfaces), or may be supplied on a part thereof, for example, on a land portion. In this step, if the mask 12 is easily bent, the mask 12 can easily conform to the surface shape of the printing target 30.

【0066】こうして、ペースト32が、開口部18に
充填されて印刷対象物30上に供給されると、ペースト
32の粘性等によって、マスク12と印刷対象物30と
が密着する。
When the paste 32 is filled in the opening 18 and supplied onto the printing object 30 in this manner, the mask 12 and the printing object 30 come into close contact with each other due to the viscosity of the paste 32 and the like.

【0067】(第3工程)次に、マスク12の撓みを防
止しながら、マスク12と印刷対象物30とを剥離す
る。この工程は版離れ工程である。例えば、図5に示す
ように、マスク12における印刷対象物30との接触面
に支持部材16を接触させ、図6に示すように、印刷対
象物30とマスク12とを剥離する。
(Third Step) Next, the mask 12 and the printing object 30 are peeled off while preventing the mask 12 from bending. This step is a plate separation step. For example, as shown in FIG. 5, the support member 16 is brought into contact with the contact surface of the mask 12 with the print target 30, and the print target 30 and the mask 12 are separated as shown in FIG.

【0068】詳しくは、マスク12が印刷対象物30よ
りも大きく形成され、印刷対象物30の周囲で、支持部
材16がマスク12を支持する。マスク12と印刷対象
物30とを剥離するときには、ペースト32によって両
者が密着しているが、支持部材16によってマスク12
の撓みが防止される。そして、図6に示すように、マス
ク12の位置を固定し、印刷対象物30をマスク12か
ら離れる方向に移動させて、両者を剥離することができ
る。印刷対象物30の移動は、昇降手段28によって行
われるので、この昇降手段28は剥離手段となる。な
お、昇降手段28は、印刷対象物30を吸着などにより
保持していることが好ましい。あるいは、印刷対象物3
0の位置を固定し、マスク12及び支持部材16を移動
させてもよい。
More specifically, the mask 12 is formed to be larger than the printing object 30, and the support member 16 supports the mask 12 around the printing object 30. When the mask 12 and the printing object 30 are separated from each other, they are in close contact with each other by the paste 32.
Is prevented from bending. Then, as shown in FIG. 6, the position of the mask 12 is fixed, and the printing target 30 is moved in a direction away from the mask 12, so that the two can be separated. Since the movement of the printing object 30 is performed by the elevating unit 28, the elevating unit 28 serves as a peeling unit. It is preferable that the elevating means 28 holds the printing object 30 by suction or the like. Alternatively, the print object 3
The position of 0 may be fixed, and the mask 12 and the support member 16 may be moved.

【0069】マスク12及び印刷対象物30の少なくと
も一方は、マスク12に対してほぼ垂直な方向に移動す
ることが好ましい。こうすることで、マスク12の開口
部18に充填されたペースト32の版抜け性が良くな
る。
It is preferable that at least one of the mask 12 and the printing object 30 move in a direction substantially perpendicular to the mask 12. By doing so, the plate removal property of the paste 32 filled in the opening 18 of the mask 12 is improved.

【0070】本実施の形態によれば、マスク12の撓み
を防止しながら、マスク12と印刷対象物30との剥離
を行うので、両者が急に剥離することがない。したがっ
て、版離れの速度制御を行うことができる。
According to the present embodiment, since the mask 12 and the printing object 30 are separated while the bending of the mask 12 is prevented, both are not suddenly separated. Therefore, speed control of plate separation can be performed.

【0071】以上の工程により、印刷対象物30への印
刷を行うことができる。印刷対象物30が配線パターン
34の形成された基板であって、ペースト32がハンダ
ペーストなどの金属ペーストである場合には、配線パタ
ーン34に金属を設けることができる。この金属で覆わ
れた配線パターン34を有する配線基板を製造すること
ができる。あるいは、本実施の形態によれば、半導体装
置などの電子部品を実装するためのハンダを印刷によっ
て設けることもできる。
Through the above steps, printing on the printing object 30 can be performed. When the printing target 30 is a substrate on which the wiring pattern 34 is formed, and the paste 32 is a metal paste such as a solder paste, the wiring pattern 34 can be provided with a metal. A wiring board having the wiring pattern 34 covered with the metal can be manufactured. Alternatively, according to the present embodiment, solder for mounting electronic components such as a semiconductor device can be provided by printing.

【0072】図7は、本発明を適用した方法により製造
された配線基板を示す図である。同図に示す配線基板
は、印刷対象物30としての基板に、配線パターン34
が形成されており、配線パターン34にはペースト32
が設けられている。ペースト32としてハンダペースト
などの金属ペーストが使用される。ペースト32が設け
られた配線パターン34上に半導体装置などの電子部品
を搭載し、リフロー工程で、金属ペーストを溶融して、
電子部品を実装することができる。
FIG. 7 is a diagram showing a wiring board manufactured by a method to which the present invention is applied. The wiring substrate shown in FIG.
Are formed, and the wiring pattern 34 has a paste 32
Is provided. As the paste 32, a metal paste such as a solder paste is used. An electronic component such as a semiconductor device is mounted on the wiring pattern 34 on which the paste 32 is provided, and the metal paste is melted in a reflow process.
Electronic components can be mounted.

【0073】あるいは、本発明を適用して製造された配
線基板をインターポーザとして、半導体装置を製造する
ことができる。詳しくは、上述した方法で配線基板を製
造し、金属ペーストが設けられた配線パターンに半導体
チップの電極を接合して半導体装置を製造することがで
きる。
Alternatively, a semiconductor device can be manufactured using a wiring board manufactured by applying the present invention as an interposer. More specifically, a semiconductor device can be manufactured by manufacturing a wiring board by the above-described method and joining an electrode of a semiconductor chip to a wiring pattern provided with a metal paste.

【0074】図8には、本発明を適用して製造された半
導体装置が実装された回路基板が示されている。半導体
装置40は複数の外部端子42を有し、この外部端子4
2が回路基板50の配線パターン52に接合されてい
る。なお、回路基板50として、本発明を適用して製造
された配線基板を使用してもよい。回路基板50とし
て、例えばガラスエポキシ基板等の有機系基板を用いる
ことが一般的である。
FIG. 8 shows a circuit board on which a semiconductor device manufactured by applying the present invention is mounted. The semiconductor device 40 has a plurality of external terminals 42.
2 is joined to the wiring pattern 52 of the circuit board 50. Note that, as the circuit board 50, a wiring board manufactured by applying the present invention may be used. Generally, an organic substrate such as a glass epoxy substrate is used as the circuit board 50.

【0075】(第2の実施の形態)図9は、本発明を適
用した第2の実施の形態に係るマスクを示す図である。
同図に示すマスク60には、円形の複数の開口部62が
形成されている。それ以外の構成は、第1の実施の形態
に係るマスク12と同じである。
(Second Embodiment) FIG. 9 is a view showing a mask according to a second embodiment of the present invention.
A plurality of circular openings 62 are formed in the mask 60 shown in FIG. Other configurations are the same as those of the mask 12 according to the first embodiment.

【0076】開口部62は、直径50μm〜0.3mm
程度、開口ピッチ70μm〜0.8mm程度で形成する
ことができる。このような円形の開口部62によって、
円形の印刷を行うことができる。例えば、CSP(Chip
Scale/Size Package)型又はBGA(Ball Grid A
rray)型の半導体装置を実装するための配線基板(回路
基板)の製造工程で、配線パターンに金属ペーストを設
けるときに、本実施の形態に係るマスク60を使用する
ことができる。あるいは、CSP型又はBGA型の半導
体装置の一部をなすインターポーザとしての配線基板の
製造工程で、配線パターンに金属ペーストを設けるとき
に、本実施の形態に係るマスク60を使用することがで
きる。あるいは、本発明を適用して、配線パターンのラ
ンド部にハンダを設けて、これをリフロー工程で溶融し
て、外部端子としてのハンダボールを形成することもで
きる。図8に示す外部端子42は、この方法で形成する
ことができる。
The opening 62 has a diameter of 50 μm to 0.3 mm.
And an opening pitch of about 70 μm to 0.8 mm. With such a circular opening 62,
Circular printing can be performed. For example, CSP (Chip
Scale / Size Package or BGA (Ball Grid A)
In the process of manufacturing a wiring board (circuit board) for mounting a (ray) type semiconductor device, the mask 60 according to the present embodiment can be used when a metal paste is provided on a wiring pattern. Alternatively, the mask 60 according to the present embodiment can be used when a metal paste is provided on a wiring pattern in a process of manufacturing a wiring board as an interposer forming a part of a CSP type or BGA type semiconductor device. Alternatively, by applying the present invention, solder may be provided on the land portion of the wiring pattern and melted in a reflow process to form a solder ball as an external terminal. The external terminal 42 shown in FIG. 8 can be formed by this method.

【0077】(第3の実施の形態)図10は、本発明を
適用した第3の実施の形態に係る半導体装置の製造方法
を説明する図である。本実施の形態では、複数の集積回
路が形成され、かつ、それぞれの集積回路について複数
の電極82が形成された半導体ウエーハ80を用意す
る。そして、スクリーン印刷によって、半導体ウエーハ
80の電極82に金属ペーストを設ける。例えば、ハン
ダペーストを電極82上に設け、これをハンダボールに
する。その後半導体ウエーハ80を切断して、半導体装
置を製造する。
(Third Embodiment) FIG. 10 is a diagram illustrating a method of manufacturing a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, a semiconductor wafer 80 in which a plurality of integrated circuits are formed and a plurality of electrodes 82 are formed for each integrated circuit is prepared. Then, a metal paste is provided on the electrodes 82 of the semiconductor wafer 80 by screen printing. For example, a solder paste is provided on the electrode 82, and this is used as a solder ball. Thereafter, the semiconductor wafer 80 is cut to manufacture a semiconductor device.

【0078】(第1工程)図10に示すように、半導体
ウエーハ80における電極82が形成された面に、マス
ク70を接触させる。マスク70には、電極82に対応
する複数の開口部72が形成されており、その他の構成
は、第1の実施の形態のマスク12と同じである。マス
ク70の開口部72と、電極72とは位置合わせされ
る。
(First Step) As shown in FIG. 10, a mask 70 is brought into contact with the surface of the semiconductor wafer 80 on which the electrodes 82 are formed. A plurality of openings 72 corresponding to the electrodes 82 are formed in the mask 70, and other configurations are the same as those of the mask 12 of the first embodiment. The opening 72 of the mask 70 and the electrode 72 are aligned.

【0079】(第2工程)マスク70の開口部72に、
ハンダなどの金属ペーストを充填し、金属ペーストを電
極82上に供給する。その詳細は、図4に示す工程と同
じでよい。
(Second Step) In the opening 72 of the mask 70,
A metal paste such as solder is filled, and the metal paste is supplied onto the electrode 82. The details may be the same as the steps shown in FIG.

【0080】(第3工程)マスク70の撓みを防止しな
がら、半導体ウエーハ80とマスク70とを剥離する。
その詳細は、図5及び図6に示す工程と同じでよい。こ
うして、電極82に金属ペーストを設けることができ
る。
(Third Step) The semiconductor wafer 80 and the mask 70 are peeled off while preventing the mask 70 from bending.
The details may be the same as the steps shown in FIGS. Thus, the metal paste can be provided on the electrode 82.

【0081】(第4工程)半導体ウエーハ80を加熱
し、金属ペーストを固化又は溶融する。金属ペーストと
してハンダペーストが使用される場合には、リフロー工
程を経てこれをハンダボールにしてもよい。
(Fourth Step) The semiconductor wafer 80 is heated to solidify or melt the metal paste. When a solder paste is used as the metal paste, it may be formed into a solder ball through a reflow process.

【0082】(第5工程)半導体ウエーハ80を、それ
ぞれの集積回路ごとに個片に切断する。こうして、複数
の半導体装置を製造することができる。なお、この切断
工程の前に、それぞれの半導体装置をパッケージングす
る工程を含んでもよい。
(Fifth Step) The semiconductor wafer 80 is cut into individual pieces for each integrated circuit. Thus, a plurality of semiconductor devices can be manufactured. Note that, before this cutting step, a step of packaging each semiconductor device may be included.

【0083】そして、本発明を適用した半導体装置を有
する電子機器100として、図11には、ノート型パー
ソナルコンピュータが示されている。
FIG. 11 shows a notebook personal computer as an electronic apparatus 100 having a semiconductor device to which the present invention is applied.

【0084】なお、上記本発明の構成要件「半導体チッ
プ」を「電子素子」に置き換えて、半導体チップと同様
に電子素子(能動素子か受動素子かを問わない)を、基
板に実装して電子部品を製造することもできる。このよ
うな電子素子を使用して製造される電子部品として、例
えば、抵抗器、コンデンサ、コイル、発振器、フィル
タ、温度センサ、サーミスタ、バリスタ、ボリューム又
はヒューズなどがある。
It should be noted that the constituent element "semiconductor chip" of the present invention is replaced with "electronic element", and an electronic element (whether active or passive) is mounted on a substrate in the same manner as a semiconductor chip. Parts can also be manufactured. Electronic components manufactured using such electronic elements include, for example, resistors, capacitors, coils, oscillators, filters, temperature sensors, thermistors, varistors, volumes, or fuses.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る印刷装置を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a printing apparatus according to a first embodiment to which the present invention has been applied.

【図2】図2は、図1のII−II線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】図3は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る印刷方法を説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a printing method according to a first embodiment to which the present invention is applied.

【図4】図4は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る印刷方法を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a printing method according to the first embodiment to which the present invention is applied.

【図5】図5は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る印刷方法を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a printing method according to the first embodiment to which the present invention is applied.

【図6】図6は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る印刷方法を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a printing method according to the first embodiment to which the present invention is applied.

【図7】図7は、本発明の実施の形態に係る配線基板を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a wiring board according to the embodiment of the present invention.

【図8】図8は、本発明の実施の形態に係る半導体装置
が実装された回路基板を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a circuit board on which the semiconductor device according to the embodiment of the present invention is mounted;

【図9】図9は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係るマスクを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a mask according to a second embodiment to which the present invention is applied.

【図10】図10は、本発明を適用した第3の実施の形
態に係るマスクを示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a mask according to a third embodiment to which the present invention is applied.

【図11】図11は、本発明に係る方法を適用して製造
された半導体装置を備える電子機器を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an electronic apparatus including a semiconductor device manufactured by applying the method according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 印刷装置 12 マスク 14 スキージ 16 支持部材 18 開口部 20 弾性部材 22 フレーム 28 昇降手段(剥離手段) 30 印刷対象物 32 ペースト 34 配線パターン 40 半導体装置 50 回路基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Printing apparatus 12 Mask 14 Squeegee 16 Support member 18 Opening 20 Elastic member 22 Frame 28 Elevating means (peeling means) 30 Printed object 32 Paste 34 Wiring pattern 40 Semiconductor device 50 Circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C035 AA06 FA30 FC04 FC07 FD01 FF17 FF18 FF22 FF26 2H113 AA01 AA02 AA05 BA10 BA13 BB22 BC12 CA17 DA04 FA10 FA54  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2C035 AA06 FA30 FC04 FC07 FD01 FF17 FF18 FF22 FF26 2H113 AA01 AA02 AA05 BA10 BA13 BB22 BC12 CA17 DA04 FA10 FA54

Claims (29)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 印刷用の開口部が形成されて可撓性を有
するマスクと印刷対象物と、を接触させて配置する第1
工程と、 前記マスクの前記開口部にペーストを充填し、前記ペー
ストを前記印刷対象物上に供給する第2工程と、 前記マスクの撓みを規制しながら、前記印刷対象物と前
記マスクとを剥離して、前記ペーストを前記印刷対象物
上に印刷する第3工程と、 を含む印刷方法。
A first opening for forming a flexible mask and an object to be printed which are arranged in contact with each other;
A step of filling the opening of the mask with a paste and supplying the paste onto the object to be printed; and peeling the object to be printed from the mask while controlling the deflection of the mask. And printing the paste on the printing target.
【請求項2】 請求項1記載の印刷方法において、 前記マスクは、前記印刷対象物よりも大きく形成され、 第3工程で、前記マスクにおける前記印刷対象物よりも
外側の部分の撓みを防止することで、前記マスク全体の
撓みを規制する印刷方法。
2. The printing method according to claim 1, wherein the mask is formed larger than the object to be printed, and in a third step, bending of a portion of the mask outside the object to be printed is prevented. A printing method for restricting deflection of the entire mask.
【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の印刷方法に
おいて、 第3工程で、前記印刷対象物及び前記マスクの少なくと
も一方を、前記マスクにおける前記印刷対象物との接触
面に対してほぼ垂直な方向に移動させて剥離する印刷方
法。
3. The printing method according to claim 1, wherein in the third step, at least one of the printing target and the mask is substantially moved with respect to a contact surface of the mask with the printing target. A printing method that moves in a vertical direction and peels off.
【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれかに記載
の印刷方法において、 第3工程で、前記マスクにおける前記印刷対象物と接触
する側の面を支持する印刷方法。
4. The printing method according to claim 1, wherein, in the third step, a surface of the mask on a side in contact with the printing target is supported.
【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
の印刷方法において、 前記印刷対象物は、複数の電極が形成された半導体ウエ
ーハであり、 前記ペーストは、金属ペーストであり、 前記金属ペーストを前記電極に印刷する印刷方法。
5. The printing method according to claim 1, wherein the object to be printed is a semiconductor wafer on which a plurality of electrodes are formed, the paste is a metal paste, A printing method for printing a metal paste on the electrode.
【請求項6】 請求項1から請求項5のいずれかに記載
の印刷方法において、 前記マスクは、弾性部材を介してフレームの内側に設け
られている印刷方法。
6. The printing method according to claim 1, wherein the mask is provided inside a frame via an elastic member.
【請求項7】 印刷用の開口部が形成されて可撓性を有
するマスクと、配線パターンが形成された基板と、を接
触させて配置する第1工程と、 前記マスクの前記開口部に金属ペーストを充填し、前記
金属ペーストを前記配線パターンの少なくとも一部に供
給する第2工程と、 前記マスクの撓みを規制しながら、前記基板と前記マス
クとを剥離して、前記金属ペーストを前記配線パターン
の少なくとも一部に印刷する第3工程と、 を含む配線基板の製造方法。
7. A first step in which a flexible mask having an opening for printing formed thereon and a substrate on which a wiring pattern is formed are brought into contact with each other, and a metal is provided in the opening of the mask. A second step of filling the paste and supplying the metal paste to at least a part of the wiring pattern; and peeling off the substrate and the mask while restricting bending of the mask, thereby forming the wiring on the metal paste. And a third step of printing on at least a part of the pattern.
【請求項8】 請求項7記載の配線基板の製造方法にお
いて、 前記マスクは、前記基板よりも大きく形成され、 第3工程で、前記マスクにおける前記基板よりも外側の
部分の撓みを防止することで、前記マスク全体の撓みを
規制する配線基板の製造方法。
8. The method of manufacturing a wiring board according to claim 7, wherein the mask is formed to be larger than the substrate, and in a third step, bending of a portion of the mask outside the substrate is prevented. And a method of manufacturing a wiring board for restricting deflection of the entire mask.
【請求項9】 請求項7又は請求項8記載の配線基板の
製造方法において、 第3工程で、前記基板及び前記マスクの少なくとも一方
を、前記マスクにおける前記基板との接触面に対してほ
ぼ垂直な方向に移動させて剥離する配線基板の製造方
法。
9. The method for manufacturing a wiring board according to claim 7, wherein in the third step, at least one of the substrate and the mask is substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the substrate. A method of manufacturing a wiring board which is moved in a desired direction and peeled off.
【請求項10】 請求項7から請求項9のいずれかに記
載の配線基板の製造方法において、 第3工程で、前記マスクにおける前記基板と接触する側
の面を支持する配線基板の製造方法。
10. The method of manufacturing a wiring board according to claim 7, wherein in the third step, a surface of the mask on a side in contact with the substrate is supported.
【請求項11】 請求項7から請求項10のいずれかに
記載の配線基板の製造方法において、 前記マスクは、弾性部材を介してフレームの内側に設け
られている配線基板の製造方法。
11. The method for manufacturing a wiring board according to claim 7, wherein the mask is provided inside a frame via an elastic member.
【請求項12】 請求項7から請求項11のいずれかに
記載の方法により製造された配線基板に、半導体チップ
を実装する工程を含む半導体装置の製造方法。
12. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of mounting a semiconductor chip on a wiring board manufactured by the method according to claim 7. Description:
【請求項13】 印刷用の開口部が形成されて可撓性を
有するマスクと、複数の集積回路が形成されていると共
にそれぞれの集積回路について複数の電極が形成された
半導体ウエーハと、を接触させて配置する第1工程と、 前記マスクの前記開口部に金属ペーストを充填し、前記
金属ペーストを前記電極上に供給する第2工程と、 前記マスクの撓みを規制しながら、前記半導体ウエーハ
と前記マスクとを剥離して、前記金属ペーストを前記電
極に印刷する第3工程と、 前記半導体ウエーハを加熱し、前記金属ペーストを固化
又は溶融する第4工程と、 前記半導体ウエーハを、それぞれの集積回路ごとに個片
に切断する第5工程と、 を含む半導体装置の製造方法。
13. A flexible mask having an opening for printing formed thereon and a semiconductor wafer on which a plurality of integrated circuits are formed and a plurality of electrodes are formed for each integrated circuit. A second step of filling the opening of the mask with a metal paste and supplying the metal paste onto the electrodes; and a step of controlling the deflection of the mask while maintaining the bending of the mask. A third step of removing the mask and printing the metal paste on the electrodes, a fourth step of heating the semiconductor wafer and solidifying or melting the metal paste, and integrating the semiconductor wafers respectively. And a fifth step of cutting into individual pieces for each circuit.
【請求項14】 請求項13記載の半導体装置の製造方
法において、 前記マスクは、前記半導体ウエーハよりも大きく形成さ
れ、 第3工程で、前記マスクにおける前記半導体ウエーハよ
りも外側の部分の撓みを防止することで、前記マスク全
体の撓みを規制する半導体装置の製造方法。
14. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 13, wherein the mask is formed larger than the semiconductor wafer, and in a third step, bending of a portion of the mask outside the semiconductor wafer is prevented. A method of manufacturing a semiconductor device that restricts deflection of the entire mask.
【請求項15】 請求項13又は請求項14記載の半導
体装置の製造方法において、 第3工程で、前記半導体ウエーハ及び前記マスクの少な
くとも一方を、前記マスクにおける前記半導体ウエーハ
との接触面に対してほぼ垂直な方向に移動させて剥離す
る半導体装置の製造方法。
15. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 13, wherein in the third step, at least one of the semiconductor wafer and the mask is brought into contact with a contact surface of the mask with the semiconductor wafer. A method for manufacturing a semiconductor device in which the semiconductor device is separated by being moved in a substantially vertical direction.
【請求項16】 請求項13から請求項15のいずれか
に記載の半導体装置の製造方法において、 第3工程で、前記マスクにおける前記半導体ウエーハと
接触する側の面を支持する半導体装置の製造方法。
16. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 13, wherein in the third step, a surface of the mask on a side in contact with the semiconductor wafer is supported. .
【請求項17】 請求項13から請求項16のいずれか
に記載の半導体装置の製造方法において、 前記マスクは、弾性部材を介してフレームの内側に設け
られている半導体装置の製造方法。
17. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 13, wherein the mask is provided inside a frame via an elastic member.
【請求項18】 請求項7から請求項11のいずれかに
記載の方法により製造された配線基板。
18. A wiring board manufactured by the method according to claim 7. Description:
【請求項19】 請求項12から請求項17のいずれか
に記載の方法により製造された半導体装置。
19. A semiconductor device manufactured by the method according to claim 12. Description:
【請求項20】 請求項18記載の配線基板を使用した
回路基板。
20. A circuit board using the wiring board according to claim 18.
【請求項21】 請求項19記載の半導体装置が搭載さ
れた回路基板。
21. A circuit board on which the semiconductor device according to claim 19 is mounted.
【請求項22】 請求項18記載の配線基板を備える電
子機器。
22. An electronic device comprising the wiring board according to claim 18.
【請求項23】 請求項19記載の半導体装置を備える
電子機器。
23. Electronic equipment comprising the semiconductor device according to claim 19.
【請求項24】 印刷用の開口部が形成されて可撓性を
有するマスクと、 前記マスクの前記開口部にペーストを充填するためのス
キージと、 前記マスクよりも小さい印刷対象物の周囲に配置されて
前記マスクを支持して撓みを規制する支持部材と、 を含む印刷装置。
24. A mask having an opening for printing and having flexibility, a squeegee for filling the opening of the mask with a paste, and being disposed around a printing target smaller than the mask. And a support member configured to support the mask and restrict deflection.
【請求項25】 請求項24記載の半導体装置の製造方
法において、 前記支持部材は、前記マスクにおける前記印刷対象物よ
りも外側の部分の撓みを防止することで、前記マスク全
体の撓みを規制する半導体装置の製造方法。
25. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 24, wherein the support member prevents the portion of the mask outside the print target from bending, thereby restricting the entire mask from bending. A method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項26】 請求項24又は請求項25記載の印刷
装置において、 前記印刷対象物に前記マスクを接触させて前記ペースト
を前記開口部に充填して前記印刷対象物上に前記ペース
トを供給することで密着した前記印刷対象物と前記マス
クとを剥離するための剥離手段を含む印刷装置。
26. The printing apparatus according to claim 24, wherein the mask is brought into contact with the print target, the paste is filled in the opening, and the paste is supplied onto the print target. A printing apparatus including a peeling unit for peeling off the printing object and the mask that have come into close contact with each other.
【請求項27】 請求項26記載の印刷装置において、 前記剥離手段は、前記印刷対象物及び前記マスクの少な
くとも一方を、前記マスクにおける前記印刷対象物との
接触面に対してほぼ垂直な方向に移動させて剥離する印
刷装置。
27. The printing apparatus according to claim 26, wherein the peeling unit moves at least one of the printing target and the mask in a direction substantially perpendicular to a contact surface of the mask with the printing target. A printing device that moves and separates.
【請求項28】 請求項26記載の印刷装置において、 前記マスクは、所定の位置で支持され、 前記剥離手段は、前記印刷対象物を、前記マスクにおけ
る前記印刷対象物との接触面に対してほぼ垂直な方向に
移動させて剥離する印刷装置。
28. The printing apparatus according to claim 26, wherein the mask is supported at a predetermined position, and the peeling unit moves the print target with respect to a contact surface of the mask with the print target. A printing device that moves in a substantially vertical direction and peels off.
【請求項29】 請求項24から請求項28のいずれか
に記載の印刷装置において、 前記マスクは、弾性部材を介してフレームの内側に設け
られている印刷装置。
29. The printing apparatus according to claim 24, wherein the mask is provided inside the frame via an elastic member.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006272583A (en) * 2005-03-28 2006-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for screen printing, and substrate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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