JP2000260018A - Magnetic disk substrate and its production - Google Patents
Magnetic disk substrate and its productionInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
およびその製造方法に関するものである。The present invention relates to a magnetic disk substrate and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】最近、ガラス製の磁気ディスク基板が、
一部で実用化されている。ただし、ハードディスクドラ
イブ用の磁気ディスク基板としては、特に高い強度が要
求される。しかし、ガラスは、一般的に強度が低いこと
から、ハードディスクドライブ用の磁気ディスク基板と
して使用するには、信頼性が十分ではない。このため、
化学強化ガラスやガラスセラミックス等の強度を改善し
たガラスを使用する必要がある。2. Description of the Related Art Recently, glass magnetic disk substrates have been
Some have been put to practical use. However, a particularly high strength is required for a magnetic disk substrate for a hard disk drive. However, glass is generally not sufficiently reliable for use as a magnetic disk substrate for a hard disk drive because of its low strength. For this reason,
It is necessary to use glass with improved strength, such as chemically strengthened glass or glass ceramics.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、結晶化ガラス
の場合には、結晶相と非晶質相との硬度が相違している
ので、不適切なポリッシング加工条件下においては、結
晶相と非晶質相との間で微小な凹凸が発生してしまう。However, in the case of crystallized glass, the hardness of the crystalline phase is different from that of the amorphous phase. Fine irregularities occur with the crystalline phase.
【０００４】更に、コンピュータの処理速度を高速化す
る要請から、データ転送速度の高速化が望まれている。
これに対応するために、ハードディスクドライブでは、
回転数を大きくしようとしている。例えば、現在は７２
００ｒｐｍである回転数を、１００００−１４０００ｒ
ｐｍに上昇させることが求められている。しかし、磁気
ディスクが高速で回転するときには、いわゆるフラッタ
リング（面ぶれ）と呼ばれる現象が生ずる。回転速度が
大きくなると、フラッタリングの大きさは著しく増大す
る。[0004] Further, from the demand for increasing the processing speed of the computer, it is desired to increase the data transfer speed.
To address this, hard disk drives
Attempting to increase rotation speed. For example, currently 72
The rotation speed of 00 rpm is 10,000-14000 r.
pm. However, when the magnetic disk rotates at high speed, a phenomenon called so-called fluttering occurs. As the rotational speed increases, the magnitude of fluttering increases significantly.
【０００５】磁気ディスクのような円盤を高速で回転さ
せたときの、フラッタリングについての理論式は、各種
あり、確立していない。しかし、一例では、フラッタリ
ングの大きさは、回転数の二乗に比例し、円盤を構成す
る材料のヤング率Ｅに反比例するとされているので、Ｅ
を大きくすることが必要である。また、高速回転時のモ
ーターの発熱量を考えると、円盤の材料の比重ρが小さ
い材料が好ましいと言われている。このため、今後、磁
気ディスクの回転数が高速化すると、これに対応するた
めには、Ｅ／ρが大きい材料が必要不可欠である。各材
料のＥ／ρの代表値を示すと、アルミニウムは２７であ
り、化学強化ガラスは３４であるのに対して、Ｌｉ2 Ｏ
−ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 系結晶化ガラスは３７であり、
更に、ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＭｇＯ系やＳｉＯ2 −Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系の結晶化ガラスには、Ｅ／ρが４０
−６０に達する材料もあるので、結晶化ガラスが高速回
転に対して有利であることが分かる。[0005] There are various theoretical formulas for fluttering when a disk such as a magnetic disk is rotated at a high speed, and it has not been established. However, in one example, the magnitude of the fluttering is proportional to the square of the number of revolutions, and is inversely proportional to the Young's modulus E of the material constituting the disk.
It is necessary to increase. Also, considering the heat generated by the motor during high-speed rotation, it is said that a material having a small specific gravity ρ of the material of the disk is preferable. For this reason, if the rotational speed of the magnetic disk increases in the future, a material having a large E / ρ is indispensable in order to cope with this. A typical value of E / ρ of each material is 27 for aluminum and 34 for chemically strengthened glass, whereas Li 2 O
-SiO 2 -Al 2 O 3 system glass-ceramics is 37,
Furthermore, a SiO 2 —Al 2 O 3 —MgO system or SiO 2 —A
l The 2 O 3 -ZnO based crystallized glass, E / [rho 40
Some materials reach -60, indicating that crystallized glass is advantageous for high speed rotation.
【０００６】しかし、ヤング率の高い材料は、ポリッシ
ュ加工を完了するのに、通常の材料よりもはるかに長時
間必要であるので、工業的に実施する上で障害がある。However, a material having a high Young's modulus requires much longer time to complete the polishing process than a normal material, and thus has a problem in industrial implementation.
【０００７】本発明の課題は、高速回転させたときにフ
ラッタリングが少なく、磁性層へのアルカリ成分の溶出
がなく、かつ短時間のポリッシュ加工によって容易に平
坦な表面が得られるような磁気ディスク基板を提供する
ことである。An object of the present invention is to provide a magnetic disk which has little fluttering when rotated at a high speed, does not elute an alkaline component into a magnetic layer, and can easily obtain a flat surface by polishing in a short time. To provide a substrate.
【０００８】また、本発明の課題は、こうした磁気ディ
スク基板を低いコストで、かつ高い歩留りで生産するた
めの方法を提供することである。Another object of the present invention is to provide a method for producing such a magnetic disk substrate at a low cost and at a high yield.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録媒体
を形成するための磁気ディスク基板であって、磁気ディ
スク基板の媒体が形成されるべき少なくとも一方の主面
側に設けられており、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＭｇＯ系
非晶質ガラス、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3−ＺｎＯ系非晶質
ガラス、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＣａＯ系非晶質ガラ
ス、ＳＩＯ2 −ＣａＯ−ＭｇＯ系非晶質ガラス、ＳＩＯ
2 −Ａｌ2 Ｏ3 −Ｙ2 Ｏ3 系非晶質ガラスおよびＳＩＯ
2 −ＺｎＯ系非晶質ガラスからなる群より選ばれた非晶
質ガラスからなる第一の層と、第一の層と接触し、積層
されており、非晶質ガラスとは少なくとも異なる組成を
有する、セラミックス、結晶化ガラスおよび非晶質ガラ
スからなる群より選ばれた材料からなる第二の層とを備
えていることを特徴とする。The present invention relates to a magnetic disk substrate for forming a magnetic recording medium, which is provided on at least one main surface of the magnetic disk substrate on which the medium is to be formed. SIO 2 -Al 2 O 3 -MgO based amorphous glass, SIO 2 -Al 2 O 3 -ZnO based amorphous glass, SIO 2 -Al 2 O 3 -CaO based amorphous glass, SIO 2 -CaO- MgO-based amorphous glass, SIO
2 -Al 2 O 3 -Y 2 O 3 based amorphous glass and SIO
A first layer made of an amorphous glass selected from the group consisting of 2- ZnO-based amorphous glasses, and a first layer, which is in contact with and stacked on the first layer, has a composition different from at least the amorphous glass. And a second layer made of a material selected from the group consisting of ceramics, crystallized glass, and amorphous glass.
【００１０】上記した特定組成系の非晶質ガラスからな
る表面層を、磁気ディスク基板の硬質材料層に設けるこ
とによって、磁気ディスクを高速度で回転させたとき
に、ディスクの本体部分を構成する第二の層の本来の強
度に加えて、各層の内部摩擦（ダンピング）の作用によ
って、磁気ディスク基板のフラッタリングを小さくする
ことができる。しかも、短時間のポリッシュ加工によっ
て容易に磁気ディスク基板の表面の中心線平均表面粗さ
を１０オングストローム以下まで低下させることができ
る。By providing a surface layer made of the above-mentioned amorphous glass having a specific composition on the hard material layer of the magnetic disk substrate, the main body of the disk is formed when the magnetic disk is rotated at a high speed. The fluttering of the magnetic disk substrate can be reduced by the internal friction (damping) of each layer in addition to the original strength of the second layer. Moreover, the center line average surface roughness of the surface of the magnetic disk substrate can be easily reduced to 10 angstroms or less by a short polishing process.
【００１１】第一の層を構成する非晶質ガラスとして
は、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3−ＭｇＯ系、ＳＩＯ2 −Ａｌ
2 Ｏ3 −ＺｎＯ系、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＣａＯ系、
ＳＩＯ2 −ＣａＯ−ＭｇＯ系の無アルカリ非晶質ガラス
が好ましい。ＳＩＯ 2 −Ａｌ2 Ｏ3 −Ｙ2 Ｏ3 系非晶質
ガラス、ＳＩＯ2 −ＺｎＯ系の１０％以下のアルカリ金
属を含む非晶質ガラスも使用可能である。[0011] As an amorphous glass constituting the first layer
Is SIOTwo-AlTwoOThree-MgO system, SIOTwo-Al
TwoOThree-ZnO-based, SIOTwo-AlTwoOThree-CaO system,
SIOTwo-CaO-MgO based alkali-free amorphous glass
Is preferred. SIO Two-AlTwoOThree-YTwoOThreeSystem amorphous
Glass, SIOTwo-10% or less alkali gold based on ZnO
Amorphous glasses containing genus can also be used.
【００１２】上記の非晶質ガラスは、化学強化等の表面
処理をしなくとも、ビッカース硬度で６００以上の値を
示すため、磁気ディスク基板として使用したときにも、
十分な耐衝撃性を有している。また、これらの非晶質ガ
ラスは、アルカリ金属をまったく含んでいないか、ある
いは含んでいるとしてもごく僅かな量であるため、ハー
ドディスクドライブの使用環境の温度、湿度による磁性
膜へのアルカリ金属の浸食を防止できる。The above amorphous glass exhibits a Vickers hardness of 600 or more without any surface treatment such as chemical strengthening.
Has sufficient impact resistance. In addition, since these amorphous glasses do not contain any alkali metal or contain only a very small amount of alkali metal, the alkali metal on the magnetic film due to the temperature and humidity of the environment in which the hard disk drive is used is used. Erosion can be prevented.
【００１３】前記各系の非晶質ガラスは、対応する前記
の各金属酸化物成分を主成分としている。即ち、非晶質
ガラスの少なくとも５０重量％以上が前記の金属酸化物
からなっている必要がある。また、上記の非晶質ガラス
の組成範囲は、例えば、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＭｇＯ
系非晶質ガラスの場合、ＳＩＯ2 ３５−７０重量％、Ａ
ｌ2 Ｏ3 ５−３０重量％、ＭｇＯ１０−３５重量％の範
囲内であることが好ましい。また、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ
3 −ＺｎＯ系非晶質ガラスの場合、ＳＩＯ2 ３０−６５
重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ３−３５重量％、ＺｎＯ５−３５重
量％の範囲内であることが好ましい。The amorphous glass of each of the above systems contains the corresponding metal oxide component as a main component. That is, it is necessary that at least 50% by weight or more of the amorphous glass is composed of the metal oxide. The composition range of the above amorphous glass is, for example, SIO 2 —Al 2 O 3 —MgO
35-70% by weight of SIO 2 , A
l 2 O 3 5-30% by weight, preferably in the range of MgO10-35 wt%. In addition, SIO 2 -Al 2 O
In the case of 3- ZnO-based amorphous glass, SIO 2 30-65
%, Al 2 O 3 3-35 wt%, and ZnO 5-35 wt%.
【００１４】図１（ａ）に部分的に示すように、磁気デ
ィスク基板１Ａにおいては、第二の層３の両方の主面３
ａ、３ｂに第一の層２Ａ、２Ｂを形成することができ
る。また、図１（ｂ）に示すように、第一の層３の一方
の主面３ａのみに、第一の層２を形成することができ
る。As shown partially in FIG. 1A, in the magnetic disk substrate 1A, both main surfaces 3 of the second layer 3 are formed.
The first layers 2A and 2B can be formed on a and 3b. Further, as shown in FIG. 1B, the first layer 2 can be formed only on one main surface 3a of the first layer 3.
【００１５】ハードディスクドライブでは、ハードディ
スクの両面を記録、再生に利用するのが一般的である
が、ドライブの小型化と低価格化とを目的として、ハー
ドディスクの一方の主面のみを使用することがある。こ
の場合には、図１（ｂ）に示す構造の磁気ディスク基板
を利用する。In a hard disk drive, both sides of the hard disk are generally used for recording and reproduction. However, for the purpose of reducing the size and cost of the drive, only one main surface of the hard disk may be used. is there. In this case, a magnetic disk substrate having the structure shown in FIG. 1B is used.
【００１６】第二の層を構成する材料は、セラミック
ス、結晶化ガラスまたは非晶質ガラスである。アルミ
ナ、炭化珪素、炭化ホウ素、ジルコニア、窒化珪素、窒
化アルミニウム等の一般的なセラミックスは、ガラスよ
りもヤング率が高いことから、好適に使用できる。特
に、アルミナ、炭化珪素、炭化ホウ素は、Ｅ／ρで１１
０以上の値を得ることができるので、特に好ましい。非
晶質ガラスとしては、上述した非晶質ガラスが好まし
い。The material constituting the second layer is ceramics, crystallized glass or amorphous glass. General ceramics such as alumina, silicon carbide, boron carbide, zirconia, silicon nitride, and aluminum nitride can be suitably used because they have a higher Young's modulus than glass. In particular, alumina, silicon carbide and boron carbide have an E / ρ of 11
It is particularly preferable because a value of 0 or more can be obtained. As the amorphous glass, the above-mentioned amorphous glass is preferable.
【００１７】結晶化ガラスとしては、ＳｉＯ2 −Ｌｉ2
Ｏ−Ａｌ2 Ｏ3 系、ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＭｇＯ系、
ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系、ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ
3 −ＣａＯ系の各結晶化ガラスが好ましい。図１（ａ）
に示す磁気ディスク基板１Ａでは、基板端面３ｃにおい
て、また図１（ｂ）に示す磁気ディスク基板１Ｂにおい
ては、基板端面３ｃと他方の主面３ｂにおいて、第二の
層が露出しているため、これらの露出部分からのアルカ
リ金属イオンの溶出に注意しなければならない。結晶化
ガラスにおいては、含有されるアルカリ金属イオンのほ
とんどが結晶相中に存在しており、ガラスマトリックス
中には微量しか存在しないために、アルカリ金属成分が
溶出して磁性膜を腐食するという問題は生じない。この
ため、無アルカリ結晶化ガラスが好ましいが、結晶化ガ
ラス中にアルカリ金属元素が含まれている場合も許容さ
れる。As the crystallized glass, SiO 2 —Li 2
O-Al 2 O 3 system, SiO 2 -Al 2 O 3 -MgO based,
SiO 2 —Al 2 O 3 —ZnO system, SiO 2 —Al 2 O
Each of the 3- CaO-based crystallized glasses is preferable. FIG. 1 (a)
In the magnetic disk substrate 1A shown in FIG. 1, the second layer is exposed at the substrate end surface 3c, and in the magnetic disk substrate 1B shown in FIG. Care must be taken to elute alkali metal ions from these exposed parts. In crystallized glass, most of the alkali metal ions contained are present in the crystal phase, and only a small amount is present in the glass matrix. Does not occur. For this reason, alkali-free crystallized glass is preferable, but a case where an alkali metal element is contained in crystallized glass is also acceptable.
【００１８】磁気ディスク基板が高速回転する際のフラ
ッタリングを防止するという観点から、各層の熱膨張係
数には以下の関係があることが特に好ましいことを見い
だした。From the viewpoint of preventing fluttering when the magnetic disk substrate rotates at high speed, it has been found that it is particularly preferable that the thermal expansion coefficients of the respective layers have the following relationship.
【００１９】加工精度上の問題から、第一の層の厚さに
若干のバラツキが生ずる。一方、磁気ディスク基板を高
速回転させる際には、摩擦熱によって基板の表面温度も
大きく上昇する。そして、第一の層の厚さにバラツキが
生じた基板は、磁気ディスクドライブの温度上昇に応じ
て基板それ自体の平面度が悪化する。しかも、この際、
各層の熱膨張係数差が大きいと、温度上昇時には、各層
の水平方向への熱膨張量が異なっていることから、基板
に一種のしわが発生し、基板の表面にうねりが現れるこ
とになる。磁気ディスク基板を高速回転させると、その
高速回転それ自体によって、温度上昇に起因する基板の
うねりが増幅され、結果的に基板のフラッタリングが拡
大する。Due to a problem in processing accuracy, a slight variation occurs in the thickness of the first layer. On the other hand, when the magnetic disk substrate is rotated at a high speed, the surface temperature of the substrate is greatly increased by frictional heat. Then, the flatness of the substrate itself is deteriorated as the temperature of the magnetic disk drive rises in the substrate in which the thickness of the first layer varies. And at this time,
If the difference in thermal expansion coefficient between the layers is large, when the temperature rises, the amount of thermal expansion in the horizontal direction of each layer is different, so that a kind of wrinkle is generated on the substrate and undulation appears on the surface of the substrate. When the magnetic disk substrate is rotated at a high speed, the undulation of the substrate due to the temperature rise is amplified by the high-speed rotation itself, and as a result, the fluttering of the substrate is enlarged.
【００２０】図１（ｂ）に示すように、第二の層の一方
の主面側のみに第二の層が形成されている場合には、フ
ラッタリングが大きくなる傾向があるので、第二の層の
材質としては、ヤング率の高いセラミックスまたは結晶
化ガラスを採用することが好ましい。しかも、上記した
温度上昇に伴う基板のうねりも最小限に抑制する必要が
あることから、第二の層を構成する結晶化ガラスまたは
セラミックスの熱膨張係数を１００としたとき、第一の
層を構成する非晶質ガラスの熱膨張係数を９０−１１０
とすることが好ましい。As shown in FIG. 1B, when the second layer is formed only on one main surface side of the second layer, the fluttering tends to increase. It is preferable to employ ceramics or crystallized glass having a high Young's modulus as the material of the layer. Moreover, since it is necessary to minimize the undulation of the substrate due to the above-mentioned temperature rise, when the coefficient of thermal expansion of the crystallized glass or ceramic constituting the second layer is 100, the first layer The coefficient of thermal expansion of the constituting amorphous glass is 90-110.
It is preferable that
【００２１】図１（ａ）に示すように、第二の層の両側
の主面にそれぞれ第一の層が形成されている場合には、
第二の層を構成する結晶化ガラスまたはセラミックスの
熱膨張係数を１００としたとき、第一の層を構成する非
晶質ガラスの熱膨張係数を５０−１１０とすることが好
ましい。特に、第一の層を構成する非晶質ガラスの熱膨
張係数を５０−１００、更には５０−８０とすることに
よって、内部のセラミックスまたは結晶化ガラスから非
晶質ガラスへと圧縮応力が加わり、基板全体の強度およ
びヤング率が一層向上する。As shown in FIG. 1A, when the first layer is formed on the main surfaces on both sides of the second layer,
When the coefficient of thermal expansion of the crystallized glass or ceramics constituting the second layer is 100, it is preferable that the coefficient of thermal expansion of the amorphous glass constituting the first layer is 50-110. In particular, by setting the coefficient of thermal expansion of the amorphous glass constituting the first layer to 50-100, and more preferably to 50-80, compressive stress is applied from the internal ceramics or crystallized glass to the amorphous glass. In addition, the strength and Young's modulus of the entire substrate are further improved.
【００２２】また、第二の層の両側の主面にそれぞれ第
一の層が形成されており、第二の層が非晶質ガラスから
なる場合には、第一の層を構成する非晶質ガラスの熱膨
張係数を１００としたとき、第二の層を構成する非晶質
ガラスの熱膨張係数を１０５−１５０とすることが好ま
しい。これによって、第二の層側から第一の層側へと圧
縮応力が加わった状態となり、基板全体の強度およびヤ
ング率が向上する。When the first layer is formed on both main surfaces on both sides of the second layer, and the second layer is made of amorphous glass, the amorphous layer constituting the first layer is formed. When the coefficient of thermal expansion of the porous glass is 100, the coefficient of thermal expansion of the amorphous glass constituting the second layer is preferably 105 to 150. As a result, compressive stress is applied from the second layer side to the first layer side, and the strength and Young's modulus of the entire substrate are improved.
【００２３】本発明の磁気ディスク基板を製造するのに
際しては、第一の層のガラスガラス素材と第二の層とを
積層して積層体を得、積層体を非晶質ガラスの軟化点以
上の温度に加圧下で加熱することによって、第一の層と
第二の層とを一体的に固着させることができる。第二の
層をセラミックスによって形成する場合には、特にこの
方法が好ましい。In manufacturing the magnetic disk substrate of the present invention, the first layer of glass glass material and the second layer are laminated to obtain a laminate, and the laminate is heated to a temperature higher than the softening point of the amorphous glass. The first layer and the second layer can be integrally fixed by heating under pressure to the above temperature. When the second layer is formed of ceramics, this method is particularly preferable.
【００２４】また、第二の層が非晶質ガラスまたは結晶
化ガラスからなる場合には、第一の層のガラスガラス素
材と第二の層のガラスガラス素材とをそれぞれ溶融させ
ることによって各溶融体を得、各溶融体を溶融状態を保
持したままで積層して積層溶融体を得、この積層溶融体
に対して圧力を加えることによって平板状の積層溶融体
を得、この平板状の積層溶融体を固化させることができ
る。この方法は、極めて量産性が高い。When the second layer is made of amorphous glass or crystallized glass, each glass glass material of the first layer and the glass glass material of the second layer are respectively melted so as to melt each glass. To obtain a laminate melt, while maintaining the molten state of each melt, to obtain a laminate melt, by applying pressure to the laminate melt to obtain a plate-like laminate melt, this plate-like laminate The melt can be solidified. This method has extremely high productivity.
【００２５】この方法を実施する際には、図２（ａ）に
模式的に示すように、溶融炉４中において、第一の層の
ガラス素材２Ｃと第二の層のガラス素材３Ａとをそれぞ
れ溶融させ、溶融炉４の出口ノズル４ａにおいて、図２
（ｂ）に示すようにガラス素材３Ａと２Ｃとを積層し、
溶融積層体５を得る。本例では、ガラス素材３Ａと２Ｃ
とは同心円状に積層されている。この溶融積層体５を、
ローラー６で挟み込んで引き出すことにより、平板形状
の溶融積層体７を得る。溶融積層体９の各層を固化させ
ることによって、ディスク材料を得る。軟化温度の低い
ガラスでは、図３に示すように、溶融積層体５をコンベ
ヤー８上に載せ、保温しながら搬送する。コンベヤー８
の途中にプレス装置の上型９と下型１０とを設置し、溶
融積層体５をプレスすることによって、平板形状の溶融
積層体７を得ることもできる。When this method is carried out, as shown schematically in FIG. 2A, a first layer glass material 2C and a second layer glass material 3A are mixed in a melting furnace 4. Each of them is melted, and at the outlet nozzle 4a of the melting furnace 4, FIG.
As shown in (b), the glass materials 3A and 2C are laminated,
A molten laminate 5 is obtained. In this example, the glass materials 3A and 2C
Are concentrically stacked. This molten laminate 5 is
By pulling out by sandwiching between the rollers 6, a flat laminate 7 is obtained. By solidifying each layer of the molten laminate 9, a disk material is obtained. In the case of glass having a low softening temperature, as shown in FIG. 3, the molten laminate 5 is placed on a conveyor 8 and transported while keeping the temperature. Conveyor 8
By placing the upper die 9 and the lower die 10 of the pressing device in the middle of the process, and pressing the molten laminated body 5, the flat laminated molten laminated body 7 can also be obtained.
【００２６】[0026]
【発明の効果】以上述べてきたように、本発明によれ
ば、高速回転させたときにフラッタリングが少なく、磁
性層へのアルカリ成分の溶出がなく、かつ短時間のポリ
ッシュ加工によって容易に平坦な表面が得られるような
磁気ディスク基板を提供できる。As described above, according to the present invention, when rotating at high speed, there is little fluttering, there is no elution of alkali components into the magnetic layer, and it is easily flattened by polishing in a short time. It is possible to provide a magnetic disk substrate capable of obtaining a suitable surface.
【図１】（ａ）は、磁気ディスク基板１Ａの端部を示す
部分断面図であり、（ｂ）は、磁気ディスク基板１Ｂの
端部を示す部分断面図である。FIG. 1A is a partial cross-sectional view illustrating an end of a magnetic disk substrate 1A, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view illustrating an end of a magnetic disk substrate 1B.
【図２】（ａ）は、第一の層のガラス素材と第二の層の
ガラス素材との平板形状の溶融積層体７を作製する装置
を模式的に示す図であり、（ｂ）は、図２（ａ）の溶融
積層体５のＩＩｂ−ＩＩｂ線断面図である。FIG. 2A is a view schematically showing an apparatus for producing a plate-shaped molten laminate 7 of a first layer glass material and a second layer glass material, and FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line IIb-IIb of the molten laminated body 5 of FIG.
【図３】（ａ）は、第一の層のガラス素材と第二の層の
ガラス素材との平板形状の溶融積層体７を作製する他の
装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、図３（ａ）の
溶融積層体５のＩＩＩｂ−ＩＩＩｂ線断面図である。FIG. 3A is a view schematically showing another apparatus for producing a plate-shaped molten laminate 7 of a first layer glass material and a second layer glass material, and FIG. 3) is a cross-sectional view taken along line IIIb-IIIb of the molten laminated body 5 in FIG.
１Ａ、１Ｂ 磁気ディスク基板 ２、２Ａ 第二
の層の一方の主面上の第一の層 ２Ｂ 第二の
層の他方の主面上の第一の層 ２Ｃ 第一の層のガラス素材の溶融物 ３ 第二
の層 ３Ａ第二の層のガラス素材の溶融物
４ 溶融炉 ５ 溶融積層体 ７ 平板形状の溶融積層体1A, 1B Magnetic disk substrate 2, 2A First layer on one main surface of second layer 2B First layer on other main surface of second layer 2C Melting of glass material of first layer Material 3 Second layer 3A Melt of glass material of second layer
4 Melting furnace 5 Melted laminated body 7 Plate-shaped molten laminated body
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０３Ｃ 19/00 Ｃ０３Ｃ 19/00 Ｚ Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｚ Ｆターム(参考） 4G059 AA09 AB03 AC03 4G062 AA01 BB01 BB06 DA05 DA06 DB03 DB04 DB05 DC01 DD01 DE02 DE05 DF01 EA01 EA02 EA03 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED04 ED05 EE02 EF01 EG01 FA01 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ02 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM29 NN29 5D006 CB04 CB07 CB08 DA03 FA00 5D112 AA02 AA11 AA24 BA03 BA04 GB01 GB05 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) C03C 19/00 C03C 19/00 Z G11B 5/84 G11B 5/84 Z F term (reference) 4G059 AA09 AB03 AC03 4G062 AA01 BB01 BB06 DA05 DA06 DB03 DB04 DB05 DC01 DD01 DE02 DE05 DF01 EA01 EA02 EA03 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED04 ED05 EE02 EF01 EG01 FA01 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ02 FK01 H01 H01 H01 H01 H01 H01 H01 H01 H HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM29 NN29 5D006 CB04 CB07 CB08 DA03 FA00 5D112 AA02 AA11 AA24 BA03 BA04 GB01 GB05
Claims (9)
ク基板であって、磁気ディスク基板の前記磁気記録媒体
が形成されるべき少なくとも一方の主面側に設けられて
おり、ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＭｇＯ系非晶質ガラス、
ＳＩＯ2−Ａｌ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系非晶質ガラス、ＳＩＯ
2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＣａＯ系非晶質ガラス、ＳＩＯ2 −Ｃ
ａＯ−ＭｇＯ系非晶質ガラス、ＳＩＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −
Ｙ 2 Ｏ3 系非晶質ガラスおよびＳｉＯ2 −ＺｎＯ系非晶
質ガラスからなる群より選ばれた非晶質ガラスからなる
第一の層と、この第一の層と接触し、積層されており、
前記非晶質ガラスとは少なくとも異なる組成を有する、
セラミックス、結晶化ガラスおよび非晶質ガラスからな
る群より選ばれた材料からなる第二の層とを備えている
ことを特徴とする、磁気ディスク基板。1. A magnetic disk for forming a magnetic recording medium.
A magnetic substrate, wherein the magnetic recording medium is a magnetic disk substrate.
Is provided on at least one main surface side to be formed
And SiOTwo-AlTwoOThree-MgO-based amorphous glass,
SIOTwo-AlTwoOThree-ZnO-based amorphous glass, SIO
Two-AlTwoOThree-CaO-based amorphous glass, SIOTwo-C
aO-MgO amorphous glass, SIOTwo-AlTwoOThree−
Y TwoOThree-Based amorphous glass and SiOTwo-ZnO-based amorphous
Made of amorphous glass selected from the group consisting of porous glass
A first layer, which is in contact with and laminated to the first layer,
Having at least a different composition from the amorphous glass,
Ceramics, crystallized glass and amorphous glass
A second layer made of a material selected from the group consisting of
A magnetic disk substrate, characterized in that:
面粗さＲａが１オングストローム以上、１０オングスト
ローム以下であることを特徴とする、請求項１記載の磁
気ディスク基板。2. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein an average surface roughness Ra of said first layer after polishing is 1 angstrom or more and 10 angstrom or less.
層が設けられており、前記第二の層の他方の主面側に前
記第一の層が設けられていないことを特徴とする、請求
項１または２記載の磁気ディスク基板。3. The first layer is provided on one main surface side of the second layer, and the first layer is not provided on the other main surface side of the second layer. 3. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein:
主面側にそれぞれ前記第一の層が設けられていることを
特徴とする、請求項１または２記載の磁気ディスク基
板。4. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the first layer is provided on one main surface side and the other main surface side of the second layer, respectively. .
ックスからなり、前記第二の層を構成する前記結晶化ガ
ラスまたはセラミックスの熱膨張係数を１００としたと
き、前記第一の層を構成する前記非晶質ガラスの熱膨張
係数が９０−１１０の比率であることを特徴とする、請
求項３記載の磁気ディスク基板。5. The method according to claim 1, wherein the second layer is made of crystallized glass or ceramics and the first layer is formed when the crystallized glass or ceramics constituting the second layer has a coefficient of thermal expansion of 100. 4. The magnetic disk substrate according to claim 3, wherein said amorphous glass has a coefficient of thermal expansion of 90-110.
ックスからなり、前記第二の層を構成する前記結晶化ガ
ラスまたはセラミックスの熱膨張係数を１００としたと
き、前記第一の層を構成する前記非晶質ガラスの熱膨張
係数が５０−１１０の比率であることを特徴とする、請
求項４記載の磁気ディスク基板。6. A method according to claim 1, wherein said second layer is made of crystallized glass or ceramics and said first layer is formed when the crystallized glass or ceramics constituting said second layer has a coefficient of thermal expansion of 100. 5. The magnetic disk substrate according to claim 4, wherein said amorphous glass has a coefficient of thermal expansion of 50-110.
記第一の層を構成する前記非晶質ガラスの熱膨張係数を
１００としたとき、前記第二の層を構成する前記非晶質
ガラスの熱膨張係数が１０５−１５０の比率であること
を特徴とする、請求項４記載の磁気ディスク基板。7. A method according to claim 1, wherein said second layer is made of amorphous glass, and said amorphous glass forming said first layer has a thermal expansion coefficient of 100. 5. The magnetic disk substrate according to claim 4, wherein the thermal expansion coefficient of the amorphous glass is in a ratio of 105-150.
るのに際して、前記第一の層のガラス素材と前記第二の
層とを積層して積層体を得、この積層体を前記非晶質ガ
ラスの軟化点以上の温度に加圧下で加熱することによっ
て、前記第一の層と前記第二の層とを一体的に固着させ
ることを特徴とする、磁気ディスク基板の製造方法。8. When manufacturing the magnetic disk substrate according to claim 1, the glass material of the first layer and the second layer are laminated to obtain a laminate, and the laminate is formed of the amorphous material. A method for manufacturing a magnetic disk substrate, characterized in that the first layer and the second layer are integrally fixed by heating under pressure to a temperature equal to or higher than the softening point of the glass.
るのに際して、前記第二の層が非晶質ガラスまたは結晶
化ガラスからなり、前記第一の層のガラス素材と前記第
二の層のガラス素材とをそれぞれ溶融させることによっ
て各溶融体を得、各溶融体を溶融状態を保持したままで
積層して積層溶融体を得、この積層溶融体に対して圧力
を加えることによって平板状の積層溶融体を得、この平
板状の積層溶融体を固化させることによって前記第一の
層と前記第二の層を生成および接合させることを特徴と
する、磁気ディスク基板の製造方法。9. The method of manufacturing a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the second layer is made of amorphous glass or crystallized glass, and the glass material of the first layer and the second layer Each melt is obtained by melting each of the glass materials, and the respective melts are laminated while maintaining the molten state to obtain a laminated melt, and a plate is formed by applying pressure to the laminated melt. Wherein the first layer and the second layer are formed and joined by solidifying the plate-shaped laminated melt.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11062890A JP2000260018A (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Magnetic disk substrate and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11062890A JP2000260018A (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Magnetic disk substrate and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260018A true JP2000260018A (en) | 2000-09-22 |
Family
ID=13213306
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|---|---|---|---|
| JP11062890A Withdrawn JP2000260018A (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Magnetic disk substrate and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000260018A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6699605B2 (en) * | 2001-08-21 | 2004-03-02 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Glass ceramic laminate becoming relatively high in bending strength after fired |
| JP2012126626A (en) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | Glass substrate for recording medium |
| JP2012128927A (en) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | Glass substrate for recording medium |
-
1999
- 1999-03-10 JP JP11062890A patent/JP2000260018A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6699605B2 (en) * | 2001-08-21 | 2004-03-02 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Glass ceramic laminate becoming relatively high in bending strength after fired |
| JP2012126626A (en) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | Glass substrate for recording medium |
| JP2012128927A (en) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | Glass substrate for recording medium |
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