JP2000169184A - Crystallized glass for information recording disk and its production - Google Patents

Crystallized glass for information recording disk and its production

Info

Publication number
JP2000169184A
JP2000169184A JP34396498A JP34396498A JP2000169184A JP 2000169184 A JP2000169184 A JP 2000169184A JP 34396498 A JP34396498 A JP 34396498A JP 34396498 A JP34396498 A JP 34396498A JP 2000169184 A JP2000169184 A JP 2000169184A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
mol
information recording
glass substrate
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP34396498A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4323597B2 (en
Inventor
Gakuroku Suu
学禄 鄒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP34396498A priority Critical patent/JP4323597B2/en
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to EP99104949A priority patent/EP0941973B1/en
Priority to EP05013441A priority patent/EP1577275B1/en
Priority to EP08165769A priority patent/EP2011770A3/en
Priority to DE69940130T priority patent/DE69940130D1/en
Priority to DE69928589T priority patent/DE69928589T2/en
Priority to US09/266,753 priority patent/US6294490B1/en
Publication of JP2000169184A publication Critical patent/JP2000169184A/en
Priority to US09/912,562 priority patent/US6569792B2/en
Priority to US10/372,109 priority patent/US6774072B2/en
Priority to US10/873,130 priority patent/US6960399B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4323597B2 publication Critical patent/JP4323597B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a crystallized glass and a crystallized glass substrate having a high Young's modulus, a low melting temperature and a low liquid phase temperature and excellent in surface smoothness and to obtain an information recording disk such as a magnetic disk. SOLUTION: The crystallized glass for an information recording disk contains, by mol, 42-65% SiO2, 0-15% Al2O3, 5-30% MgO, 0.5-8% Y2O3 and >10 to 25% Li2O and has a β-quartz solid solution and/or enstatite as the predominant crystal phase. The crystallized glass substrate for an information recording disk comprises the glass and the surface on which an information recording layer is formed has 0.1-0.9 nm surface roughness Ra. The information recording medium has the glass substrate and a recording layer formed on the glass substrate. The magnetic disk has the glass substrate and a magnetic recording layer formed on the glass substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
や各種電子部品用基板に適した結晶化ガラス及びこの結
晶化ガラスを用いたガラス基板に関する。さらに詳しく
は、本発明は、高いヤング率、優れた機械強度、表面平
坦性及び耐熱性を有し、かつ研磨加工することにより優
れた表面平滑性を有するガラス基板を提供できる結晶化
ガラス及びこの結晶化ガラスを用いた優れた表面平滑性
を有するガラス基板に関する。さらに本発明は、上記ガ
ラス基板を用いた情報記録媒体及び磁気ディスクに関す
る。
The present invention relates to a crystallized glass suitable for a magnetic disk substrate or a substrate for various electronic components, and a glass substrate using the crystallized glass. More specifically, the present invention provides a crystallized glass having high Young's modulus, excellent mechanical strength, surface flatness and heat resistance, and capable of providing a glass substrate having excellent surface smoothness by polishing, and a crystallized glass. The present invention relates to a glass substrate having excellent surface smoothness using crystallized glass. Further, the present invention relates to an information recording medium and a magnetic disk using the glass substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピューターなどの磁気記憶装置の主
要構成要素は、磁気記録媒体と磁気記録再生用の磁気ヘ
ッドである。磁気記録媒体としてはフレキシブルディス
クとハードディスクとが知られている。このうちハード
ディスク用の基板材料としては主としてアルミニウム合
金が使用されてきている。最近、ノートパソコン用ハー
ドディスクドライブの小型化や磁気記録の高密度化にと
もなって磁気ヘッドの浮上量が顕著に減少してきてい
る。これに伴い、磁気ディスク基板の表面平滑性につい
て、きわめて高い精度が要求されてきている。しかし、
アルミニウム合金の場合には、硬度が低いことから高精
度の研磨材及び工作機器を使用して研磨加工を行って
も、この研磨面が塑性変形するので、ある程度以上高精
度の平坦面を製造することは困難である。また、ハード
ディスクドライブの小型化・薄型化に伴い、磁気ディス
ク用基板の厚みを小さくすることも要求されている。し
かし、アルミニウム合金は、強度、剛性が低いので、ハ
ードディスクドライブの仕様から要求される所定の強度
を保持しつつ、ディスクを薄くすることは困難である。
2. Description of the Related Art The main components of a magnetic storage device such as a computer are a magnetic recording medium and a magnetic head for magnetic recording and reproduction. Flexible disks and hard disks are known as magnetic recording media. Among them, aluminum alloys have been mainly used as substrate materials for hard disks. Recently, the flying height of a magnetic head has been remarkably reduced with the miniaturization of hard disk drives for notebook personal computers and the densification of magnetic recording. Accordingly, extremely high accuracy has been required for the surface smoothness of the magnetic disk substrate. But,
In the case of aluminum alloy, since the hardness is low, even if polishing is performed using a high-precision abrasive and a machine tool, the polished surface is plastically deformed, so that a flat surface with a high degree of accuracy is manufactured. It is difficult. Also, with the miniaturization and thinning of hard disk drives, it is required to reduce the thickness of the magnetic disk substrate. However, since aluminum alloy has low strength and rigidity, it is difficult to make the disk thin while maintaining a predetermined strength required by the specifications of the hard disk drive.

【0003】そこで、アルミニウム合金基板に代わっ
て、高強度、高剛性、高耐衝撃性、高表面平滑性を必要
される磁気ディスク用ガラス基板が登場してきた。この
うち、基板表面をイオン交換法で強化した化学強化ガラ
ス基板(例えば、特開平1−239036号公報参照)
や、結晶化処理を施した結晶化基板(例えば、米国特許
5391522公報、米国特許5476821公報参照)などが
よく知られている。特開平1−239036号公報に記
載のイオン交換強化ガラス基板は、重量%表示で、Si
O2:50−65%、Al2O3:0.5−14%、R2O(ただ
しRはアルカリ金属イオン):10−32、ZnO:1−
15%、B2O3:1.1−14%を含むガラス基板の表面
に、アルカリイオンによるイオン交換法によって圧縮応
力層形成し強化された磁気ディスク用ガラス基板であ
る。また、米国特許5391522公報に記載の結晶化
ガラスは、重量%表示で、SiO2:65−83%、Li2O:
8−13%、K2O:0−7%、MgO:0.5−5.5%、
ZnO:0−5%、PbO:0−5%(ただしMgO+ZnO+ PbO:
0.5−5%)P2O5:1−4%、Al2O3:0−7%、As2
O3+Sb2O3:0−2%を含み、主結晶として微細なLi2O・
2SiO2結晶粒子を含む磁気ディスク用結晶化ガラスであ
る。米国特許5476821公報には、重量%表示でSiO2:35-
60%、Al2O3:20-35%、MgO:0-25%、ZnO:0-25%、但
し、MgO+ZnO>10%、TiO2:0-20%、ZrO2:0-10%、Li2O:
0-2%、NiO:0-8%、但しTiO2+ZrO2+NiO>5%などの酸
化物成分を含み、主結晶としてスピネル結晶粒子を含む
ディスク用結晶化ガラスが開示されいる。
Therefore, glass substrates for magnetic disks, which require high strength, high rigidity, high impact resistance and high surface smoothness, have appeared instead of aluminum alloy substrates. Among them, a chemically strengthened glass substrate whose substrate surface is strengthened by an ion exchange method (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-239036)
Also, a crystallized substrate subjected to a crystallization treatment (for example, see US Pat. No. 5,391,522 and US Pat. No. 5,47,621) is well known. The ion exchange strengthened glass substrate described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
O 2: 50-65%, Al 2 O 3: 0.5-14%, R 2 O ( wherein R is an alkali metal ion): 10-32, ZnO: 1-
This is a magnetic disk glass substrate formed by forming a compressive stress layer on the surface of a glass substrate containing 15% and B 2 O 3 : 1.1 to 14% by an ion exchange method using alkali ions, and strengthening it. Furthermore, the crystallized glass described in U.S. Patent 5391522 publication, in weight percentages, SiO 2: 65-83%, Li 2 O:
8-13%, K 2 O: 0-7 %, MgO: 0.5-5.5%,
ZnO: 0-5%, PbO: 0-5% (MgO + ZnO + PbO:
0.5-5%) P 2 O 5: 1-4%, Al 2 O 3: 0-7%, As 2
O 3 + Sb 2 O 3 : containing 0-2%, and fine Li 2 O ·
This is crystallized glass for magnetic disks containing 2SiO 2 crystal particles. U.S. Pat. No. 5,476,821 discloses that SiO 2 : 35-
60%, Al 2 O 3: 20-35%, MgO: 0-25%, ZnO: 0-25%, however, MgO + ZnO> 10%, TiO 2: 0-20%, ZrO 2: 0-10 %, Li 2 O:
Disclosed is a crystallized glass for a disk containing an oxide component such as 0-2%, NiO: 0-8%, and TiO2 + ZrO2 + NiO> 5%, and containing spinel crystal particles as a main crystal.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
ハードディスクの小型化、薄型化、記録の高密度化に伴
って、磁気ヘッドの低浮上化及びディスク回転の高速化
が急速に進み、そのため、ディスク基板材料の強度やヤ
ング率、表面平滑性などが一層厳しく要求されてきてい
る。特に最近パソコン及びサーバー用3.5インチハード
ディスク情報記録の高密度化によって基板材料の表面平
滑性及び表面平坦性が厳しく要求され、またデータ処理
の高速化に対応してディスクの回転数を10000rpm以上に
する必要があるため、基板材料の剛性度に対する要求が
一層厳しくなってきており、従来のアルミ基板の限界が
すでにはっきりとなっている。今後、ハードディスクの
高容量化、高速回転化の需要が必然であるかぎり、磁気
記録媒体用基板材料としては高ヤング率、高強度、優れ
た表面平坦性、耐衝撃性などが強く要求されつつあるに
間違いない。
However, with the recent miniaturization, thinning, and high-density recording of hard disks, low flying height of magnetic heads and high speed of disk rotation have rapidly progressed. There are increasing demands on the strength, Young's modulus, surface smoothness and the like of the substrate material. In particular, due to the recent increase in the density of 3.5-inch hard disk information recording for personal computers and servers, the surface smoothness and surface flatness of substrate materials are strictly required. Therefore, the requirements for the rigidity of the substrate material have become more severe, and the limitations of the conventional aluminum substrate have already become clear. In the future, as long as the demand for high capacity and high speed rotation of hard disks is inevitable, high Young's modulus, high strength, excellent surface flatness, impact resistance, etc. are being strongly demanded as substrate materials for magnetic recording media. No doubt.

【0005】そのため、特開平1−239036号公報
に開示されているような化学強化ガラスでは、ヤング率
が約80Gpa程度で今後のハードディスクの厳しい要求に
対応できなくなるのは明らかである。また、イオン交換
による化学強化を施したガラスには多量のアルカリ成分
含まれるため、高温、多湿環境下において長時間使用す
ると磁気膜のピンホール部または磁気膜の周辺部など磁
気膜が薄い部分またはガラスが露出した部分からアルカ
リイオンが析出し、これが引き金となって磁気膜が腐食
或いは変質するなどの欠点が見出されている。また、こ
れまでのイオン交換強化基板ガラスはイオン交換のため
多量のアルカリイオンをガラスに導入しており、そのた
めほとんどの強化ガラスのヤング率が低く(100Gpa)、剛
性度も低いので、3.5インチのハイエンドディスク基板
や薄型化ディスク基板に対応できないという欠点があ
る。さらに磁気記録媒体の製造過程においては、ガラス
基板上に磁気層を設けた後に、磁気層の保磁力などの特
性を向上させるために所定の熱処理を施する場合がある
が、上記従来のイオン交換強化ガラスではガラスの転移
温度もせいぜい500℃程度で耐熱性に乏しいので、高
保磁力が得られないという問題がある。
For this reason, it is clear that the chemically strengthened glass disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-239036 cannot meet the severe requirements of hard disks in the future when the Young's modulus is about 80 GPa. In addition, since glass that has been chemically strengthened by ion exchange contains a large amount of alkali components, if it is used for a long time in a high-temperature, high-humidity environment, the thin portion of the magnetic film, such as the pinhole portion of the magnetic film or the periphery of the magnetic film, or It has been found that alkali ions are precipitated from a portion where the glass is exposed, and this causes a trigger to corrode or deteriorate the magnetic film. In addition, the conventional ion exchange strengthened substrate glass introduces a large amount of alkali ions into the glass for ion exchange, and therefore, most of the tempered glass has a low Young's modulus (100 GPa) and low rigidity, so that 3.5 inch There is a drawback that it cannot be applied to a high-end disk substrate or a thin disk substrate. Further, in the process of manufacturing a magnetic recording medium, after a magnetic layer is provided on a glass substrate, a predetermined heat treatment may be performed to improve characteristics such as a coercive force of the magnetic layer. In the tempered glass, the transition temperature of the glass is at most about 500 ° C. and the heat resistance is poor, so that there is a problem that a high coercive force cannot be obtained.

【0006】また、米国特許5391522公報に開示
されているような従来の結晶化ガラスは、ヤング率や耐
熱性の点では、上記の化学強化ガラス基板より少々優れ
ている。しかるに、表面粗さは10オンク゛ストロームより大き
く表面平滑性が乏しいので、磁気ヘッドの低浮上化に限
界があるため、磁気記録の高密度化に対応できないとい
う問題がある。さらに、ヤング率もせいぜい90-100Gpa
程度で3.5インチハイエンドディスク基板や薄型化ディ
スク基板に対応することができないという欠点もある。
また、米国特許5476821公報に開示されている磁気ディ
スク用結晶化ガラスは140Gpa程度の高いヤング率をもつ
ものの、スピネルを主結晶となるので溶解温度や液相温
度が高い上、硬度の高いスピネル結晶と母体ガラスとの
硬度差が大きすぎて研磨し難いという欠点がある。この
ような高ヤング率結晶化ガラスを安価的に製造するのは
難しく、採算性も悪いので、大量製造に相応しくない。
The conventional crystallized glass disclosed in US Pat. No. 5,391,522 is slightly superior to the above-mentioned chemically strengthened glass substrate in Young's modulus and heat resistance. However, since the surface roughness is greater than 10 angstroms and the surface smoothness is poor, there is a limit to the low flying height of the magnetic head, and there is a problem that it is impossible to cope with high density of magnetic recording. Furthermore, Young's modulus is at most 90-100Gpa
There is also a drawback that it cannot be used for a 3.5-inch high-end disk substrate or a thin disk substrate.
The crystallized glass for a magnetic disk disclosed in U.S. Pat. No. 5,447,821 has a high Young's modulus of about 140 Gpa, but has a high melting temperature and a high liquidus temperature because spinel is a main crystal, and a high hardness spinel crystal. Has a disadvantage that the hardness difference between the base glass and the base glass is too large to be polished. It is difficult to produce such a high Young's modulus crystallized glass at low cost, and the profitability is poor, so that it is not suitable for mass production.

【0007】そこで本発明の目的は、磁気ディスク等の
情報記録用ディスクに用いることができる高いヤング率
を有する結晶化ガラスであって、表面平滑性に優れ、か
つ溶解温度や液相温度が低い結晶化ガラスを提供するこ
とにある。さらに本発明の目的は、高いヤング率を有
し、かつ溶解温度や液相温度が低い結晶化ガラスからな
り、表面平滑性にも優れた、磁気ディスク等の情報記録
用ディスクに用いることができるガラス基板を提供する
ことにある。また、本発明の目的は、上記結晶化ガラス
基板を用いた情報記録媒体及び磁気ディスクを提供する
ことにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a crystallized glass having a high Young's modulus which can be used for an information recording disk such as a magnetic disk, has excellent surface smoothness, and has a low melting temperature and a low liquidus temperature. It is to provide a crystallized glass. Further, an object of the present invention is to use a crystallized glass having a high Young's modulus, a low melting temperature or a low liquidus temperature, and excellent surface smoothness, and can be used for an information recording disk such as a magnetic disk. It is to provide a glass substrate. Another object of the present invention is to provide an information recording medium and a magnetic disk using the crystallized glass substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、SiO2:42−65
モル%、Al2O3:0−15モル%、MgO:5−30モル%、Y
2O3:0.5−8モル%、Li2O:10モル%を超え、25モル%
以下、を含有し、主結晶相がβ―石英固溶体及び/又は
エンスタタイトであることを特徴とする情報記録ディス
ク用結晶化ガラスに関する。さらに本発明は、上記結晶
化ガラスからなる情報記録ディスク用基板並びにこの基
板を用いた情報記録媒体及び磁気ディスクに関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing SiO 2 : 42-65.
Mol%, Al 2 O 3: 0-15 mol%, MgO: 5-30 mol%, Y
2 O 3 : 0.5-8 mol%, Li 2 O: more than 10 mol%, 25 mol%
The present invention relates to a crystallized glass for an information recording disk, comprising: a main crystal phase of which is β-quartz solid solution and / or enstatite. Further, the present invention relates to an information recording disk substrate made of the above crystallized glass, and an information recording medium and a magnetic disk using the substrate.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の結晶化ガラスの組成は、
原ガラスと同様に酸化物基準で表示する。原ガラスの組
成範囲を上記のように限定した理由について以下に述べ
る。尚、本明細書中、「%」は特に断らない限り「モル
%」である SiO2はガラスの網目構造の形成物であり、主な析出結晶
であるβ−石英固溶体やエンスタタイトの構成成分でも
ある。また、主結晶ではないが、β−スポジュメン固溶
体の構成成分でもある。SiO2の含有量は42%未満では溶
解したガラスが不安定なので、高温成形ができなくなる
傾向がある上、上記のような結晶を主結晶として析出し
難しくなる。また、SiO2の含有量が42%より少なくなる
と、残存ガラスマトリックス相の化学耐久性が悪化した
り、耐熱性も悪化する傾向もある。一方、SiO2の含有量
が65%を超えるとガラスのヤング率が急激に小さくなる
傾向がある。このように、SiO2の含有量は、析出結晶種
及びその析出量、ヤング率、化学耐久性、耐熱性及び成
形・生産性を考慮すると、42〜65%の範囲であり、下限
は、好ましく45%以上、より好ましくは、48%以上であ
り、上限は好ましくは62%以下、より好ましくは60%以下
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The composition of the crystallized glass of the present invention is as follows.
It is indicated on an oxide basis as in the original glass. The reason why the composition range of the raw glass is limited as described above will be described below. In this specification, “%” means “mol” unless otherwise specified.
% ”SiO 2 is a formation of a glass network structure, and is also a component of β-quartz solid solution and enstatite, which are the main precipitated crystals. Although not a main crystal, it is also a component of β-spodumene solid solution. If the content of SiO 2 is less than 42%, the melted glass is unstable, so that high-temperature molding tends to be impossible, and the above crystals are difficult to precipitate as main crystals. When the content of SiO 2 is less than 42%, the chemical durability of the remaining glass matrix phase tends to deteriorate, and the heat resistance tends to deteriorate. On the other hand, when the content of SiO 2 exceeds 65%, the Young's modulus of the glass tends to rapidly decrease. As described above, the content of SiO 2 is in the range of 42 to 65% in consideration of the precipitated crystal seed and the amount of the precipitated crystal, Young's modulus, chemical durability, heat resistance, and molding / productivity, and the lower limit is preferable. It is at least 45%, more preferably at least 48%, and the upper limit is preferably at most 62%, more preferably at most 60%.

【0010】Al2O3はガラスの中間酸化物であり、主な
結晶種であるβ−石英固溶体の構成成分でもある。Al2O
3の導入は準安定なβ-石英固溶体結晶の析出を促進し、
ガラス表面硬度の向上に寄与する。しかし、Al2O3の含
有量が 15%を超えると、溶融温度や液相温度が高くな
ってガラスが溶けにくくなるうえ、成形しにくくなる。
そこで、Al2O3の含有量は15%以下とする。ガラスの溶解
性、高温度成形性、析出結晶種などのことを考慮する
と、Al2O3の含有量は0〜15%の範囲とし、下限は好まし
くは1%以上、より好ましくは2%以上てあり、上限は好ま
しくは10%以下、より好ましくは7%以下である。さら
に、SiO2+ Al2O3の含有量は、ガラスに成形可能な高温
粘性を持たせるという観点から50%以上であることが好
ましく、より好ましくは55%以上である。
[0010] Al 2 O 3 is an intermediate oxide of glass and also a component of β-quartz solid solution which is a main crystal seed. Al 2 O
The introduction of 3 promotes the precipitation of metastable β-quartz solid solution crystals,
Contributes to improvement of glass surface hardness. However, when the content of Al 2 O 3 exceeds 15%, the melting temperature and the liquidus temperature increase, so that the glass is hardly melted and the glass is hardly formed.
Therefore, the content of Al 2 O 3 is set to 15% or less. Soluble glass, high temperature moldability, considering that such precipitated crystals species, the content of Al 2 O 3 is in the range from 0 to 15% lower limit is preferably 1% or more, more preferably 2% or more The upper limit is preferably 10% or less, more preferably 7% or less. Further, the content of SiO 2 + Al 2 O 3 is preferably at least 50%, more preferably at least 55%, from the viewpoint of giving the glass a high-temperature viscosity capable of being formed.

【0011】MgOはSiO2成分とともに原ガラスの熱処理
によりβ−石英固溶体やエンスタタイト結晶を生成し、
硬度や耐熱性を向上しつつ透明性を維持させる効果を有
するきわめて重要な成分である。しかし、MgOの含有量
が 5%未満では上記のような効果が得られない。さら
に、MgOの含有量が少なくなると、ガラスの失透傾向
も、溶融温度も高くなるので、MgOの含有量は5%以上と
する。一方、MgOの含有量が30モル%を超えると、ガラ
スの液相温度が急激に高くなり、生産性や加工性も悪化
する。そこで、MgOの含有量は30%以下とする。MgOの含
有量はガラスの生産性や溶融性及び機械強度などのこと
を考慮すると、5〜30%の範囲であり、下限は、好ましく
は7%以上、より好ましくは10%以上であり、上限は好ま
しくは25%以下、より好ましくは20%以下である。
MgO forms β-quartz solid solution and enstatite crystal by heat treatment of raw glass together with SiO 2 component,
It is a very important component that has the effect of maintaining transparency while improving hardness and heat resistance. However, if the content of MgO is less than 5%, the above effects cannot be obtained. Further, when the content of MgO decreases, the tendency of devitrification of the glass and the melting temperature also increase, so the content of MgO is set to 5% or more. On the other hand, when the content of MgO exceeds 30 mol%, the liquidus temperature of the glass rapidly increases, and the productivity and workability also deteriorate. Therefore, the content of MgO is set to 30% or less. The content of MgO is in the range of 5 to 30% in consideration of productivity, melting property and mechanical strength of the glass, and the lower limit is preferably 7% or more, more preferably 10% or more, and the upper limit. Is preferably 25% or less, more preferably 20% or less.

【0012】上記の結晶化ガラスは、Y2O3を含有する。
少なくとも0.5%のY2O3を導入することによって結晶化ガ
ラスのヤング率を5Gpa程度増大させ、かつ液相温度を5
0℃程度低減することができる。さらに、少なくとも0.5
%のY2O3を導入することによってガラスの熱的な安定性
を向上させることもできる。このように、少量のY2O3
導入することによってガラスの特性や生産性を格段に向
上させることができる。しかし、Y2O3は上記のガラス主
結晶の核生成を抑制する作用も有するので、Y2O3の導入
量が多くなり過ぎると、ガラスは熱処理中で表面結晶化
を起こし、目標とする表面平滑性を有する結晶化ガラス
が得難くなる傾向がある。そこで、Y2O3の含有量を8%
以下とする。Y2O3の含有量の下限は、好ましくは0.5%で
あり、より好ましくは1%である。Y2O3の含有量の上限
は、好ましくは5%であり、より好ましくは3%である。
The above crystallized glass contains Y 2 O 3 .
By introducing at least 0.5% of Y 2 O 3 , the Young's modulus of the crystallized glass is increased by about 5 GPa, and the liquidus temperature is increased by 5 GPa.
It can be reduced by about 0 ° C. In addition, at least 0.5
By introducing% Y 2 O 3 , the thermal stability of the glass can also be improved. Thus, by introducing a small amount of Y 2 O 3 , the properties and productivity of the glass can be remarkably improved. However, since Y 2 O 3 also has the function of suppressing the nucleation of the above glass main crystal, if the introduction amount of Y 2 O 3 becomes too large, the glass undergoes surface crystallization during heat treatment, and the target There is a tendency that it is difficult to obtain crystallized glass having surface smoothness. Therefore, the content of Y 2 O 3 is reduced to 8%.
The following is assumed. The lower limit of the content of Y 2 O 3 is preferably 0.5%, more preferably 1%. The upper limit of the content of Y 2 O 3 is preferably 5%, more preferably 3%.

【0013】Li2OはSiO2とともに原ガラスの熱処理によ
りβ−石英固溶体やβ−スポジュメン固溶体等の結晶を
生成し、ガラスの液相温度や結晶化処理温度を低める効
果を有する成分である。Li2Oの含有量は10%以下では上
記のような効果が得られない。さらに、Li2Oの含有量が
10%以下では、ガラスの溶融温度も高くなり、ガラスデ
ィスク成形の作業温度幅も狭くなってしまう。そこで、
Li2Oの含有量は10%を超えることが適当である。一方、L
i2Oの含有量が25%を超えると、ガラスが非常に不安定と
なり、得られた結晶化ガラスのヤング率も大きく低下す
る傾向がある。そこで、Li2Oの含有量は25%以下とす
る。ガラスの生産性、化学耐久性、機械的な特性を考慮
すると、Li2Oの含有量の下限は、好ましくは10.5%以
上、より好ましくは11%以上である。また、Li2Oの含有
量の上限は、好ましくは22%以下、より好ましくは20%以
下である。
Li 2 O is a component that produces a crystal such as β-quartz solid solution or β-spodumene solid solution by heat treatment of the raw glass together with SiO 2 , and has the effect of lowering the liquidus temperature and crystallization temperature of the glass. If the content of Li 2 O is 10% or less, the above effects cannot be obtained. Furthermore, the content of Li 2 O
If it is less than 10%, the melting temperature of the glass will be high, and the working temperature range for forming the glass disc will be narrow. Therefore,
Suitably, the content of Li 2 O exceeds 10%. On the other hand, L
When the content of i 2 O exceeds 25%, the glass becomes extremely unstable, and the Young's modulus of the obtained crystallized glass tends to be greatly reduced. Therefore, the content of Li 2 O is set to 25% or less. In consideration of productivity, chemical durability and mechanical properties of glass, the lower limit of the content of Li 2 O is preferably 10.5% or more, more preferably 11% or more. Further, the upper limit of the content of Li 2 O is preferably 22% or less, more preferably 20% or less.

【0014】本発明の結晶化ガラスは、主結晶相として
β―石英固溶体及びエンスタタイトの一方または両方を
含有する。β―石英固溶体の結晶相は、2MgO・2Al2O3・5S
iO2、MgO・Al2O3・3SiO2、及びMgO・Al2O3・4SiO2からなる
群から選ばれる1種又は2種以上の組成を有するが準安
定なクオーツ(石英固溶体)である。また、エンスタタ
イトの結晶相は、例えば、Mg2SiOの組成を有するク
リノエンスタタイト結晶相であることができる。さらに
本発明の結晶化ガラスは、上記の結晶の他に、結晶相と
してβ−スポジュメン固溶体などその他の結晶を含むこ
ともできる。
The crystallized glass of the present invention contains one or both of β-quartz solid solution and enstatite as a main crystal phase. The crystal phase of β-quartz solid solution is 2MgO ・ 2Al 2 O 3・ 5S
Although in metastable quartz (quartz solid solution) having one or more compositions selected from iO 2, MgO · Al 2 O 3 · 3SiO 2, and the group consisting of MgO · Al 2 O 3 · 4SiO 2 . In addition, the crystal phase of enstatite can be, for example, a clinoenstatite crystal phase having a composition of Mg 2 Si 2 O 6 . Further, the crystallized glass of the present invention may contain other crystals such as β-spodumene solid solution as a crystal phase in addition to the above-mentioned crystals.

【0015】さらに、本発明の結晶化ガラスに含まれる
上記結晶の結晶粒子サイズは、本発明の結晶化ガラスを
表面粗さRaが0.1−0.9nmの範囲となるように研磨表面を
形成できる程度であることが好ましく、より好ましくは
結晶相の結晶粒子サイズが、表面粗さRaが0.1−0.5nmの
範囲となるように研磨表面を形成できる程度である。結
晶化ガラスに含まれる結晶相の結晶粒子サイズが上記範
囲となることで、優れた表面平滑性を有する情報記録デ
ィスクを提供することができる。
Further, the crystal grain size of the crystal contained in the crystallized glass of the present invention is such that the crystallized glass of the present invention can form a polished surface so that the surface roughness Ra is in the range of 0.1 to 0.9 nm. It is more preferable that the crystal grain size of the crystal phase is such that the polished surface can be formed such that the surface roughness Ra is in the range of 0.1 to 0.5 nm. When the crystal grain size of the crystal phase contained in the crystallized glass is within the above range, an information recording disk having excellent surface smoothness can be provided.

【0016】さらに、本発明の結晶化ガラスにおいて、
ガラスの組成は、原ガラスの液相温度が1200℃以下
となるように選択することが好ましい。より好ましく
は、原ガラスの液相温度が1150℃以下となるように
選択する。原ガラスの液相温度が低いことで、結晶化ガ
ラス基板の製造が容易となる。即ち、ガラス基板を製造
する際に行われる原料の熔解、成形等の工程において、
著しく高い温度を用いる必要がないため、熔解炉や成形
型の材質の採用範囲が広がる等、製造が容易になっと言
う利点がある。
Further, in the crystallized glass of the present invention,
The composition of the glass is preferably selected so that the liquidus temperature of the raw glass is 1200 ° C. or lower. More preferably, it is selected such that the liquidus temperature of the raw glass is 1150 ° C. or lower. The low liquidus temperature of the raw glass facilitates the production of a crystallized glass substrate. That is, in the steps of melting the raw materials performed when manufacturing the glass substrate, forming and the like,
Since it is not necessary to use a remarkably high temperature, there is an advantage that manufacturing is easy, for example, the range of adoption of the material of the melting furnace and the forming die is widened.

【0017】TiO2、ZrO2、及びP2O5は、いずれも結晶核
の生成剤として作用し、β石英固溶体やエンスタタイト
などの微細結晶粒子の析出を促進する。また、SiO2の含
有量が比較的少ない場合には、ガラスに熱的な安定性を
持たせる成分でもある。従って、本発明の結晶化ガラス
は、TiO2、ZrO2、及びP2O5の少なくとも1種を含むこと
が好ましい。その場合、TiO2+ZrO+P2O5の合計含有量が5
%未満では、主結晶の核生成剤としての効果が十分に得
られず、ガラスが表面結晶化となり、均質な結晶化ガラ
スの作製が難かしい傾向がある。そこで、TiO2、ZrO2
及びP2O5の合計含有量を5%以上にすることが好まし
い。一方、TiO2、ZrO2、及びP2O5の合計含有量が18%を
超えると、ガラスの高温粘性が低くなりすぎて分相した
り、失透したりするので、ガラスの生産性は極端に悪化
してしまう傾向がある。そこで、TiO2+ZrO+P2O5の合計
含有量は18%以下にすることが好ましい。ガラスの生産
性、化学耐久性、高温粘性、結晶核生成などのことを考
慮すると、TiO2+ZrO+P2O5の合計含有量は、上述のよう
に5〜18%の範囲であることが好ましい。TiO2+ZrO+P2O5
の合計含有量の下限は、好ましくは6%以上、より好ま
しい7%以上であり、上限は好ましくは15%以下、より好
ましくは13%以下である。
TiO 2 , ZrO 2 , and P 2 O 5 all act as crystal nucleus generating agents and promote the precipitation of fine crystal particles such as β-quartz solid solution and enstatite. Also, when the content of SiO 2 is relatively small, it is a component that gives the glass thermal stability. Therefore, the crystallized glass of the present invention preferably contains at least one of TiO 2 , ZrO 2 , and P 2 O 5 . In that case, the total content of TiO 2 + ZrO + P 2 O 5 is 5
If it is less than%, the effect of the main crystal as a nucleating agent cannot be sufficiently obtained, and the glass is crystallized on the surface, which tends to make it difficult to produce a homogeneous crystallized glass. Therefore, TiO 2 , ZrO 2 ,
And the total content of P 2 O 5 is preferably 5% or more. On the other hand, if the total content of TiO 2 , ZrO 2 , and P 2 O 5 exceeds 18%, the high-temperature viscosity of the glass becomes too low, causing phase separation or devitrification. There is a tendency to be extremely deteriorated. Therefore, the total content of TiO 2 + ZrO + P 2 O 5 is preferably 18% or less. Glass productivity, chemical durability, high temperature viscosity, considering that such crystal nucleation, total content of TiO 2 + ZrO + P 2 O 5 is in the range 5 to 18%, as described above Is preferred. TiO 2 + ZrO + P 2 O 5
Is preferably 6% or more, more preferably 7% or more, and the upper limit is preferably 15% or less, more preferably 13% or less.

【0018】Na2O、K2O、CaO、SrO、BaO、ZnO、NiOなど
のアルカリ及びアルカリ土類金属酸化物成分は、主にガ
ラス高温粘性を調整し、失透傾向を抑え、結晶粒子を均
質化することができる成分である。これらの成分の少な
くとも1つをガラスに添加することで、ガラスのヤング
率は多少小さくなるが、ガラスの生産性が向上し、結晶
化粒子のサイズが均質化するなど、ガラスの他の特性を
改善することができる。ガラスのヤング率、生産性、結
晶化ガラスの表面平滑性、強度などの特性を考慮すると
Na2Oの含有量は0〜10%の範囲、K2Oの含有量は0〜10%
の範囲であり、かつNa2O+K2Oの含有量は10%以下である
ことが好ましい。Na2O、K2O及びNa2O+K2Oの含有量は、
いずれも好ましくは8%以下である。また、同様に、CaO
の含有量は0−10%の範囲、SrOの含有量は0−10%の範
囲、BaOの含有量は0−10%の範囲、ZnOの含有量は0−10
%の範囲、NiOの含有量は0−10%の範囲であり、かつCa
O+SrO+BaO+ZnO+NiOの含有量は10モル%以下であること
が好ましい。さらに、CaO、SrO、BaO、ZnO、NiO及びCaO
+SrO+BaO+ZnO+NiOの含有量は、いずれも好ましくは8%以
下である。
Alkali and alkaline earth metal oxide components such as Na 2 O, K 2 O, CaO, SrO, BaO, ZnO and NiO mainly adjust the high temperature viscosity of glass, suppress the tendency of devitrification, Is a component that can be homogenized. By adding at least one of these components to the glass, the Young's modulus of the glass is slightly reduced, but the productivity of the glass is improved, and other properties of the glass, such as the size of crystallized particles are homogenized. Can be improved. Considering properties such as Young's modulus of glass, productivity, surface smoothness and strength of crystallized glass
Na 2 O content ranges from 0 to 10%, K 2 O content from 0 to 10%
And the content of Na 2 O + K 2 O is preferably 10% or less. The contents of Na 2 O, K 2 O and Na 2 O + K 2 O are:
Both are preferably at most 8%. Similarly, CaO
Is in the range of 0-10%, SrO is in the range of 0-10%, BaO is in the range of 0-10%, and ZnO is in the range of 0-10%.
%, The content of NiO is in the range of 0-10%, and
The content of O + SrO + BaO + ZnO + NiO is preferably at most 10 mol%. Furthermore, CaO, SrO, BaO, ZnO, NiO and CaO
The content of + SrO + BaO + ZnO + NiO is preferably at most 8%.

【0019】本発明の結晶化ガラスは、上記の成分の他
に、所望の特性を損なわない範囲でB2O3、Nb2O5、Ta
2O5、及びLa2O3等の希土類金属酸化物成分を含有するこ
とができる。しかし、これらの成分は著しくガラスのヤ
ング率を低下させる。そこで、B2O3の含有量は0−5%の
範囲、R2O3の含有量は0−5%の範囲(但し、Rは希土類
金属イオン(例えば、Nd3+、Pr3+、Pm3+、Sm3+、Eu3+、G
d3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb3+)である)、
CeO2の含有量は0−5%の範囲、N2O5の含有量は0−5%の
範囲(但し、NはNbまたはTaである)とし、かつB2O3+R
2O3+CeO2+N2O5≦5モル%であることが好ましい。さら
に、ガラスの生産性を考慮すると、上記各成分の含有量
及び合計の含有量は4%以下にすることがさらに好まし
い。
In addition to the above components, the crystallized glass of the present invention contains B 2 O 3 , Nb 2 O 5 , and Ta as long as desired properties are not impaired.
Rare earth metal oxide components such as 2 O 5 and La 2 O 3 can be contained. However, these components significantly reduce the Young's modulus of the glass. Therefore, the content of B 2 O 3 is in the range of 0-5%, and the content of R 2 O 3 is in the range of 0-5% (where R is a rare earth metal ion (eg, Nd 3+ , Pr 3+ , Pm 3+ , Sm 3+ , Eu 3+ , G
d 3+ , Tb 3+ , Dy 3+ , Ho 3+ , Er 3+ , Tm 3+ , Yb 3+ ),
The content of CeO 2 is in the range of 0-5%, the content of N 2 O 5 is in the range of 0-5% (where N is Nb or Ta), and B 2 O 3 + R
It is preferable that 2 O 3 + CeO 2 + N 2 O 5 ≦ 5 mol%. Further, considering the productivity of glass, it is more preferable that the content of each of the above components and the total content be 4% or less.

【0020】As2O3とSb2O3は、結晶化ガラスの原料とな
るガラスの均質化を図るために脱泡剤として添加される
成分である。各ガラスの高温粘性に応じて適当量のAs2O
3及びSb2O3の一方又は両方をガラスに添加することで、
より均質なガラスが得られる。しかし、これら脱泡剤の
添加量が多くなり過ぎると、ガラスの比重が上昇してヤ
ング率を低下させる傾向があり、また溶解用白金るつぼ
と反応してるつぼにダメージを与える恐れもある。そこ
で、As2O3の含有量は0−2%の範囲、Sb2O3の含有量は0
−2%の範囲とし、かつAs2O3+Sb2O3≦2モル%とするこ
とが好ましい。特に、As2O3、Sb2O3及びAs2O3+Sb2O3
含有量は、いずれも1.5%以下であることが好ましい。
As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are components added as defoaming agents in order to homogenize glass as a raw material of crystallized glass. An appropriate amount of As 2 O according to the high temperature viscosity of each glass
By adding one or both of 3 and Sb 2 O 3 to the glass,
A more homogeneous glass is obtained. However, if the amount of the defoaming agent is too large, the specific gravity of the glass tends to increase and the Young's modulus tends to decrease, and the glass may react with the melting platinum crucible and damage the crucible. Therefore, the content of As 2 O 3 is in the range of 0 to 2 %, and the content of Sb 2 O 3 is 0%.
It is preferred that the content be in the range of −2% and that As 2 O 3 + Sb 2 O 3 ≦ 2 mol%. In particular, the content of each of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and As 2 O 3 + Sb 2 O 3 is preferably 1.5% or less.

【0021】本発明の結晶化ガラスの製造方法は、特に
限定されず、各種ガラス製造方法を用いて得られたガラ
スを熱処理することで結晶化ガラスを得ることができ
る。例えば、高温溶融法、即ち所定の割合のガラス原料
を空気中または不活性ガス雰囲気で溶解し、バブリング
や脱泡剤の添加や撹拌などによってガラスの均質化を行
い、周知のプレス法、フロート法やダウンドーロ成形な
どの方法により板ガラスに成形され、その後、研削、研
磨などの加工を施し、所望のサイズ、形状のガラス成形
品とすることができる。得られたガラス成形品の熱処理
方法には、特に制限はなく、結晶化促進剤の含有量やガ
ラスの転移温度、結晶化ピーク温度などに応じて選択す
ることができる。但し、始めに比較的に低い温度で熱処
理して多数の結晶核を発生させた後、温度を上げて結晶
を成長させることが、微細な結晶を得るうえで好まし
い。適当な条件での熱処理により結晶粒子のサイズが5-
500nm範囲にあるβ石英固溶体やエンスタタイトの一
方または両方を含む結晶化ガラスが得られる。
The method for producing crystallized glass of the present invention is not particularly limited, and crystallized glass can be obtained by heat-treating glass obtained by using various glass production methods. For example, a high-temperature melting method, that is, a glass material of a predetermined ratio is melted in the air or an inert gas atmosphere, and the glass is homogenized by bubbling, addition of a defoaming agent, stirring, etc. It is formed into a sheet glass by a method such as molding or down-drawing, and then subjected to processing such as grinding and polishing to obtain a glass molded product having a desired size and shape. The heat treatment method of the obtained glass molded article is not particularly limited, and can be selected according to the content of the crystallization promoter, the glass transition temperature, the crystallization peak temperature, and the like. However, it is preferable to grow the crystal at a higher temperature after first generating a large number of crystal nuclei by heat treatment at a relatively low temperature in order to obtain fine crystals. Heat treatment under appropriate conditions reduces the crystal grain size to 5-
A crystallized glass containing one or both of β-quartz solid solution and enstatite in the range of 500 nm is obtained.

【0022】熱処理を終えた成形品は常法を用いて表面
を研磨することができる。研磨方法については特に制限
がなく、合成ダイヤモンド、炭化珪素、酸化アルミニウ
ム、炭化ホウ素などの合成砥粒や、天然ダイヤモンド、
酸化セリウムなどの天然砥粒を用いて、公知の方法によ
り研磨することができる。例えば、通常の研磨方法およ
び装置でラッピングおよび酸化セリウムにてポリシング
加工することによって、表面粗さ(Ra)を0.1−0.9n
mの範囲にすることができる。
The surface of the molded article after the heat treatment can be polished by a conventional method. There is no particular limitation on the polishing method, synthetic diamond, silicon carbide, aluminum oxide, synthetic abrasive grains such as boron carbide, natural diamond,
Polishing can be performed by a known method using natural abrasive grains such as cerium oxide. For example, by lapping and polishing with cerium oxide by a usual polishing method and apparatus, the surface roughness (Ra) is 0.1-0.9 n.
m.

【0023】このようにして得られる本発明の結晶化ガ
ラスは、情報記録ディスク用として好適である。本発明
の結晶化ガラスを用いた磁気ディスク基板は、磁気ディ
スク基板として必要な表面平滑性、平坦性、強度、硬
度、化学耐久性、耐熱性などをすべて満足する。また、
従来の結晶化ガラス(Li2O−SiO2結晶化ガラス)に比
べ、より高いヤング率をもつので、ディスクの高速回転
化によるたわみをより小さく抑えることができ、高TPI
ハードディスクの実現のため基板材料として好適であ
る。
The crystallized glass of the present invention thus obtained is suitable for use in information recording disks. The magnetic disk substrate using the crystallized glass of the present invention satisfies all of the surface smoothness, flatness, strength, hardness, chemical durability, heat resistance, and the like required for the magnetic disk substrate. Also,
Compared to conventional crystallized glass (Li 2 O-SiO 2 crystallized glass), it has a higher Young's modulus, so it can reduce the deflection due to high-speed rotation of the disk, and has a high TPI
It is suitable as a substrate material for realizing a hard disk.

【0024】本発明の結晶化ガラスを製造するに際し
て、熱処理のスケジュールやガラス組成を適宜変えるこ
とにより、析出結晶サイズや結晶量を制御することがで
き、必要に応じて結晶化ガラスの特性を大幅に調整する
ことができる。
In producing the crystallized glass of the present invention, the size and amount of precipitated crystals can be controlled by appropriately changing the heat treatment schedule and the glass composition, and if necessary, the characteristics of the crystallized glass can be greatly increased. Can be adjusted.

【0025】次に、本発明の情報記録媒体について説明
する。本発明の情報記録媒体は、本発明の情報記録媒体
用ガラス基板と、該ガラス基板上に形成された記録層と
を有することを特徴とする。ここで、「ガラス基板上に
形成された記録層」とは、ガラス基板表面に直接または
所望の層を介して形成された単層構造または複数層構造
の記録層を意味し、当該記録層の材料及び層構造は、目
的とする情報記録媒体の種類に応じて、磁気記録層、光
記録層、光磁気記録層等として機能するよう適宜選択さ
れる。
Next, the information recording medium of the present invention will be described. An information recording medium according to the present invention includes the glass substrate for an information recording medium according to the present invention, and a recording layer formed on the glass substrate. Here, the “recording layer formed on the glass substrate” means a recording layer having a single-layer structure or a multi-layer structure formed directly or via a desired layer on the surface of the glass substrate. The material and the layer structure are appropriately selected so as to function as a magnetic recording layer, an optical recording layer, a magneto-optical recording layer, and the like, depending on the type of the intended information recording medium.

【0026】次に、本発明の磁気ディスクについて説明
する。本発明の磁気ディスクは、本発明のガラス基板
と、このガラス基板上に形成された磁気記録層とを有す
ることを特徴とする。上述した本発明のガラスからなる
基板の主表面に、少なくとも磁性層を形成した磁気ディ
スク(ハードディスク)ものについて以下に説明する。
磁性層以外の層としては、機能面から、下地層、保護
層、潤滑層、凹凸制御層などが挙げられ、必要に応じて
形成される。これらの各層の形成には各種薄膜形成技術
が利用される。磁性層の材料は特に制限されない。磁性
層としては、例えば、Co系の他、フェライト系、鉄−希
土類系などが挙げられる。磁性層は、水平磁気記録、垂
直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。磁性層として
は、具体的には、例えば、Coを主成分とするCoPt、CoC
r、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCrやCoNiCrPt、CoNiCrT
a、CoCrPtTa、CoCrPtSiO などの磁性薄膜が挙げられ
る。また、磁性層を非磁性層で分割してノイズ低減を図
った多層構成としてもよい。
Next, the magnetic disk of the present invention will be described. A magnetic disk according to the present invention includes the glass substrate according to the present invention and a magnetic recording layer formed on the glass substrate. A magnetic disk (hard disk) in which at least a magnetic layer is formed on the main surface of the above-described glass substrate of the present invention will be described below.
The layers other than the magnetic layer include an underlayer, a protective layer, a lubricating layer, an unevenness control layer, and the like from the functional aspect, and are formed as necessary. Various thin film forming techniques are used to form these layers. The material of the magnetic layer is not particularly limited. Examples of the magnetic layer include, in addition to Co-based, ferrite-based and iron-rare-earth-based. The magnetic layer may be any of horizontal magnetic recording and perpendicular magnetic recording. As the magnetic layer, specifically, for example, CoPt containing Co as a main component, CoC
r, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiCrPt, CoNiCrT
a, CoCrPtTa, CoCrPtSiO and the like. Further, the magnetic layer may be divided by a non-magnetic layer to have a multilayer structure in which noise is reduced.

【0027】磁性層における下地層は、磁性層に応じて
選択される。下地層としては、例えば、Cr、Mo、Ta、T
i、W、V、B、Alなどの非磁性金属から選ばれる少な
くとも一種以上の材料、又はそれらの金属の酸化物、窒
化物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。Coを主
成分とする磁性層の場合には、磁気特性向上の観点から
Cr単体やCr合金であることが好ましい。下地層は単層と
は限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造とす
ることもできる。例えば、Al/Cr/CrMo、Al/Cr/Cr等
の多層下地層等が挙げられる。
The underlayer in the magnetic layer is selected according to the magnetic layer. As the underlayer, for example, Cr, Mo, Ta, T
Examples include at least one or more materials selected from nonmagnetic metals such as i, W, V, B, and Al, and an underlayer made of an oxide, nitride, carbide, or the like of those metals. In the case of a magnetic layer containing Co as a main component, from the viewpoint of improving magnetic properties
Preferably, it is Cr alone or a Cr alloy. The underlayer is not limited to a single layer, and may have a multilayer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer base layer of Al / Cr / CrMo, Al / Cr / Cr, or the like can be given.

【0028】また、基板と磁性層の間又は磁性層の上部
に、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着することを防止す
るための凹凸制御層を基板表面の一部又は全部に設けて
もよい。この凹凸制御層を設けることによって、磁気デ
ィスクの表面粗さは適度に調整されるので、磁気ヘッド
と磁気ディスクが吸着することがなくなり、信頼性の高
い磁気ディスクが得られる。凹凸制御層の材料及び形成
方法は多種知られており、特に制限されない。例えば、
凹凸制御層の材料としては、Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、
Si、Zr、Cr、Cu、Au、Sn、Pd、Sb、Ge、Mgなどから選ば
れる少なくとも一種以上の金属、又はそれらの合金、あ
るいは、それらの酸化物、窒化物、炭化物等からなる下
地層等が挙げられる。形成が容易であるという観点から
は、Al単体やAl合金、酸化Al、窒化AlといったAlを主成
分とする金属であることが望ましい。
An unevenness control layer for preventing the magnetic head and the magnetic disk from being attracted to each other may be provided on a part or all of the substrate surface between the substrate and the magnetic layer or on the magnetic layer. By providing the unevenness control layer, the surface roughness of the magnetic disk is appropriately adjusted, so that the magnetic head and the magnetic disk do not stick to each other, and a highly reliable magnetic disk can be obtained. There are various known materials and methods for forming the unevenness control layer, and there is no particular limitation. For example,
As the material of the unevenness control layer, Al, Ag, Ti, Nb, Ta, Bi,
At least one or more metals selected from Si, Zr, Cr, Cu, Au, Sn, Pd, Sb, Ge, Mg, etc., or alloys thereof, or oxides, nitrides, carbides thereof, etc. And the like. From the viewpoint of easy formation, it is desirable to use a metal containing Al as a main component, such as Al alone, an Al alloy, Al oxide, or Al nitride.

【0029】また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸形成層の表面粗さは、Rmax=50〜300オン
グストロームであることが好ましい。より好ましい範囲
は、Rmax=100〜200オングストロームである。Rm
axが50オングストローム未満の場合、磁気ディスク表
面が平坦に近いため、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着
し、磁気ヘッドや磁気ディスクが吸着し、磁気ヘッドや
磁気ディスクが傷ついてしまったり、吸着によるヘッド
クラッシュを起こすので好ましくない。また、Rmaxが3
00オングストロームを超える場合、グライド高さ(グ
ライドハイト)が大きくなり記録密度の低下を招くので
好ましくない。尚、凹凸制御層を設けずに、ガラス基板
表面に、エッチング処理やレーザー光の照射等の手段で
凹凸を付け、テクスチャリング処理を施してもよい。
In consideration of head stiction, the surface roughness of the unevenness forming layer is preferably Rmax = 50 to 300 angstroms. A more preferred range is Rmax = 100-200 Å. Rm
When ax is less than 50 angstroms, the magnetic disk surface is almost flat, so the magnetic head and the magnetic disk are attracted, the magnetic head and the magnetic disk are attracted, and the magnetic head and the magnetic disk are damaged or the head is crashed due to the attracting. It is not preferable because it causes Also, Rmax is 3
If the thickness exceeds 00 angstroms, the glide height (glide height) is increased, and the recording density is undesirably reduced. Note that, without providing the unevenness control layer, the surface of the glass substrate may be subjected to texturing by providing an unevenness by means of etching treatment, laser light irradiation, or the like.

【0030】保護層としては、例えば、Cr膜、Cr合金
膜、炭素膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられる。
これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにインライ
ン型スパッタ装置等で連続して形成できる。また、これ
らの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一又は
異種の膜からなる多層構成としてもよい。上記保護層上
に、あるいは上記保護膜に替えて、他の保護層を形成し
てもよい。例えば、上記保護層上にテトラアルコキシラ
ンをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシ
リカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ
素(SiO2)膜を形成してもよい。この場合、保護膜と凹
凸制御層の両方の機能を果たす。
Examples of the protective layer include a Cr film, a Cr alloy film, a carbon film, a zirconia film, and a silica film.
These protective films can be continuously formed with an underlayer, a magnetic layer, and the like by an in-line type sputtering apparatus or the like. Further, these protective films may have a single-layer structure or a multi-layer structure composed of the same or different films. Another protective layer may be formed on the protective layer or in place of the protective film. For example, colloidal silica fine particles may be dispersed and applied while diluting tetraalkoxylan with an alcohol-based solvent on the protective layer, followed by firing to form a silicon oxide (SiO 2 ) film. In this case, it functions as both the protective film and the unevenness control layer.

【0031】潤滑層としては多種多様な提案がなされて
いるが、一般的には、液体潤滑剤であるパーフルオロポ
リエーテルをフレオン系などの溶媒で希釈し、媒体表面
にディッピング法、スピンコート法、スプレイ法によっ
て塗布し、必要に応じて加熱処理を行って形成する。
Although various proposals have been made for a lubricating layer, generally, a liquid lubricant, perfluoropolyether, is diluted with a solvent such as Freon, and the surface of the medium is dipped or spin-coated. It is formed by applying a spray method and performing a heat treatment as needed.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明の結晶化ガラスは、容易に成形す
ることができ、110GPa以上大きなヤング率及び700℃程
度の高い耐熱性を有し、優れた表面平滑性(表面粗さRa
で0.1-0.9nm範囲)を有する。そのため硬度や強度の
大きい基板材料や電子部品用材料を提供できる。また、
本発明の結晶化ガラスを用いた磁気ディスクは、磁気膜
の特性向上に必要な熱処理を基板の変形無しに施すこと
ができる。さらに、本発明の結晶化ガラスを用いた磁気
ディスクは、平坦性が優れるため、磁気ヘッドの低浮上
化即ち高密度記録化が達成でき、ヤング率や強度が大き
いので、磁気ディスクの薄型化及び高速回転化を達成で
きると共に磁気ディスクの破損も避けられる。さらに原
ガラスの溶融条件は、1350-1450℃の温度範囲で2-5時間
で清澄、均質化できるため、ガラスの溶融性がよく工業
的規模での生産が容易であり、安価な次世代磁気記録媒
体用基板ガラスとして大きく期待できる。また、本発明
の情報記録媒体は、高いヤング率を有し、表面平滑性に
優れた結晶化ガラス基板を用いるので、基板の高回転時
においても振動を少なくすることができ、特にサーバー
等の高性能のハードディスクドライブに好適に用いるこ
とができる。
The crystallized glass of the present invention can be easily formed, has a large Young's modulus of 110 GPa or more and a high heat resistance of about 700 ° C., and has excellent surface smoothness (surface roughness Ra).
In the range of 0.1-0.9 nm). Therefore, it is possible to provide a substrate material and a material for electronic components having high hardness and strength. Also,
The magnetic disk using the crystallized glass of the present invention can be subjected to the heat treatment necessary for improving the characteristics of the magnetic film without deforming the substrate. Further, the magnetic disk using the crystallized glass of the present invention is excellent in flatness, so that low flying of the magnetic head, that is, high-density recording can be achieved, and the Young's modulus and strength are large. High-speed rotation can be achieved, and damage to the magnetic disk can be avoided. Furthermore, the melting conditions of the raw glass can be clarified and homogenized in a temperature range of 1350-1450 ° C in 2-5 hours, so that the glass has good melting properties and is easy to produce on an industrial scale. It can be greatly expected as a substrate glass for recording media. Further, since the information recording medium of the present invention has a high Young's modulus and uses a crystallized glass substrate having excellent surface smoothness, vibration can be reduced even at a high rotation of the substrate, especially for a server or the like. It can be suitably used for high-performance hard disk drives.

【0033】[0033]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明の詳細を説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。表1には実施例のガラス組成をモル%で示した。こ
れらのガラスを溶解する際の出発原料としては、SiO2
Al2O3、Al(OH)3、MgO、CaCO3、Y2O3、TiO2、ZrO2、Li2C
O3などを用いて表1に示した所定の割合に250〜30
0g秤量し、十分に混合して調合バッチと成し、これを
白金るつぼに入れ、1550℃で攪拌しながら空気中4
ー5時間ガラスの溶解を行った。熔融後、ガラス融液を
サイズ180×15×25mmのカーボンの金型に流し、
ガラスの転移点温度まで 放冷してから直ちにアニール
炉に入れ、ガラスの転移温度範囲で約1時間アニールし
て炉内で室温まで放冷した。得られたガラスは顕微鏡で
観察できる結晶が析出しなかった。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Table 1 shows the glass compositions of the examples in mol%. Starting materials for melting these glasses include SiO 2 ,
Al 2 O 3 , Al (OH) 3 , MgO, CaCO 3 , Y 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , Li 2 C
O 3 by using a 250-30 in a predetermined ratio shown in Table 1
0 g was weighed and mixed well to form a blended batch, which was placed in a platinum crucible and stirred at 1550 ° C. in air for 4 hours.
The glass was melted for -5 hours. After melting, pour the glass melt into a carbon mold of size 180 × 15 × 25 mm,
After allowing to cool to the glass transition point temperature, it was immediately placed in an annealing furnace, annealed for about 1 hour in the glass transition temperature range, and allowed to cool to room temperature in the furnace. The obtained glass did not precipitate crystals that could be observed with a microscope.

【0034】180×15×25mmサイズのガラスを1
00×10×10mm、10×10×20mm、10×1×
20mmに研磨した後、熱処理炉に入れ、表1に示した第
一次熱処理温度(核形成温度)まで3〜10℃/分の昇
温速度で昇温し、当該温度で2〜15時間程度保温し第一
次熱処理を行い、第一次熱処理を終えた後直ちに第一次
熱処理温度から表1に示した第二次熱処理温度(結晶化
温度)までに1〜20℃/分の昇温速度で昇温し、1〜8時
間程度保温した後、炉内で室温まで冷却することによっ
て結晶化ガラスを作製した。
A glass of 180 × 15 × 25 mm size is
00 × 10 × 10mm, 10 × 10 × 20mm, 10 × 1 ×
After polishing to 20 mm, it is placed in a heat treatment furnace and heated up to the primary heat treatment temperature (nucleation temperature) shown in Table 1 at a rate of 3 to 10 ° C./min, and at that temperature for about 2 to 15 hours. Keep the temperature and perform the first heat treatment. Immediately after completing the first heat treatment, raise the temperature from the first heat treatment temperature to the second heat treatment temperature (crystallization temperature) shown in Table 1 by 1 to 20 ° C / min. The temperature was raised at a rate, and the temperature was kept for about 1 to 8 hours, and then cooled to room temperature in a furnace to produce crystallized glass.

【0035】得られた結晶化ガラスをさらに長さを95mm
に研磨してヤング率、比重の測定サンプルとした。ヤン
グ率の測定に用いたサンプルをさらに切断し、25mm×2m
m×15mmのサイズに精密研磨して表面粗さ測定用サンプ
ルとした。ヤング率の測定は95×10×10mmのサンプ
ルを用いて超音波法で行った。測定で得られたデータを
ガラスの組成と共に表1に示した。
The obtained crystallized glass was further extended to a length of 95 mm.
The sample was polished to obtain a sample for measuring Young's modulus and specific gravity. The sample used for measuring the Young's modulus was further cut, and 25 mm x 2 m
It was precisely polished to a size of mx 15 mm to obtain a sample for measuring surface roughness. The measurement of the Young's modulus was performed by an ultrasonic method using a sample of 95 × 10 × 10 mm. The data obtained by the measurement are shown in Table 1 together with the composition of the glass.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】表面粗さの測定は原子間力顕微鏡(AFM)
を用いて表面観察を行った。サンプル表面中3〜5個所あ
たり5×5μmの視野中の算数平均粗さを算出した。勿
論表面粗さは研磨条件や熱処理条件によって違うが、図
1には、表1に示した熱処理条件で熱処理した実施例4
の結晶化ガラスを光学ガラスの研磨工程で研磨した後の
AFM写真を示す。実施例4の表面粗さは約0.3nmと小さく
次世代磁気ディスクの表面平滑性に対する要求に十分に
対応できる。さらに熱処理条件や研磨条件を最適化すれ
ば表面平滑性のもっと優れた結晶化ガラスの作製が可能
である。
The surface roughness is measured by an atomic force microscope (AFM)
Was used to observe the surface. Arithmetic average roughness in a visual field of 5 × 5 μm per 3 to 5 places on the sample surface was calculated. Of course, the surface roughness varies depending on the polishing conditions and the heat treatment conditions, but FIG. 1 shows Example 4 in which the heat treatment was performed under the heat treatment conditions shown in Table 1.
After polishing the crystallized glass in the optical glass polishing process
An AFM photograph is shown. The surface roughness of Example 4 is as small as about 0.3 nm, which can sufficiently meet the demand for the surface smoothness of the next-generation magnetic disk. Further, by optimizing the heat treatment conditions and the polishing conditions, it is possible to produce crystallized glass having more excellent surface smoothness.

【0038】なお、比較のため、特開平1ー23903
6号に開示されたイオン交換ガラス基板と米国特許第25
16553号に記載されたガラス基板とをそれぞれ比較例
1、2として、表2に組成と特性を記載する。
Incidentally, for comparison, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-29033
No. 6 and the ion exchange glass substrate disclosed in US Pat.
Table 2 shows the composition and characteristics of the glass substrate described in No. 16553 as Comparative Examples 1 and 2, respectively.

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】表1から明らかなように、本発明のガラス
基板(実施例1〜8)はヤング率(115-150Gpaの範囲)
が大きいことから、磁気記録媒体用基板として使用した
場合、このガラス基板が高速回転しても、基板に反りや
ブレが生じにくく、より基板の薄型化にも対応できるこ
とが分かる。さらに、これらの結晶化ガラスの表面粗度
(Ra)を5Å(0.5nm)以下に研磨することがで
き、平坦性に優れているので、磁気ヘッドの低浮上化を
図ることができ、磁気記録媒体用ガラス基板として有用
である。
As is clear from Table 1, the glass substrates of the present invention (Examples 1 to 8) have a Young's modulus (range of 115 to 150 Gpa).
This indicates that, when used as a substrate for a magnetic recording medium, even if the glass substrate is rotated at a high speed, the substrate is unlikely to be warped or blurred, and the substrate can be made thinner. Furthermore, the surface roughness (Ra) of these crystallized glasses can be polished to 5 ° (0.5 nm) or less, and the flatness is excellent, so that the flying height of the magnetic head can be reduced. It is useful as a glass substrate for a recording medium.

【0041】これに対し、表2に示す比較例1の化学強
化ガラス基板は、表面平滑性及び平坦性に優れているも
のの、耐熱性及びヤング率などの強度特性で本発明のガ
ラス基板に比べかなり劣る。従って、磁気記録媒体を製
造する際、高い保磁力を得るために行う磁気層に対する
熱処理が十分できず、高保磁力を有する磁気記録媒体が
得られないし、また、比較例1のガラスには多量のアル
カリを含有するため、磁気膜と基板とのコロージョンが
生じやすく、磁気膜にダメージを与えるおそれがある。
On the other hand, the chemically strengthened glass substrate of Comparative Example 1 shown in Table 2 has excellent surface smoothness and flatness, but has strength characteristics such as heat resistance and Young's modulus which are lower than those of the glass substrate of the present invention. Pretty poor. Therefore, when manufacturing a magnetic recording medium, the heat treatment on the magnetic layer to obtain a high coercive force cannot be performed sufficiently, so that a magnetic recording medium having a high coercive force cannot be obtained. Because of containing alkali, corrosion between the magnetic film and the substrate is likely to occur, which may damage the magnetic film.

【0042】また、比較例2の結晶化ガラス基板は、ヤ
ング率や比弾性率及び平滑性の点で本発明のガラスに比
べ劣る。特に基板の平滑性が大きな結晶粒子の存在によ
って損なわれるので、高密度記録化を図ることが難し
い。
The crystallized glass substrate of Comparative Example 2 is inferior to the glass of the present invention in Young's modulus, specific elastic modulus and smoothness. In particular, since the smoothness of the substrate is impaired by the presence of large crystal grains, it is difficult to achieve high-density recording.

【0043】本発明の結晶化ガラスは、高ヤング率を有
し、かつ優れた表面平滑性も有することから、磁気記録
媒体等の情報記録媒体用の基板として非常に有用である
ことが分かる。
The crystallized glass of the present invention has a high Young's modulus and excellent surface smoothness, indicating that it is very useful as a substrate for an information recording medium such as a magnetic recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 熱処理した実施例4の結晶化ガラスを光学ガ
ラスの研磨工程で研磨した後の状態を示す図面に変わる
AFM写真。
FIG. 1 is changed to a drawing showing a state after heat-treated crystallized glass of Example 4 is polished in an optical glass polishing step.
AFM photo.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 5/84 G11B 5/84 Z Fターム(参考) 4G062 AA11 BB01 CC09 CC10 DA05 DA06 DB01 DB02 DB03 DB04 DC01 DC02 DC03 DD01 DD02 DD03 DD04 DE01 DE02 DE03 DF01 EA04 EB01 EC01 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FB02 FB03 FB04 FC01 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH00 FJ02 FJ03 FK01 FK02 FK03 FL01 FL02 FL03 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH12 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ02 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK02 KK03 KK04 KK05 KK06 KK07 KK08 KK10 MM27 NN33 NN40 QQ02 QQ08 QQ10 5D006 CB04 CB07 DA03 FA00 5D112 AA02 AA24 BA03 GA02 GA09──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11B 5/84 G11B 5/84 Z F term (Reference) 4G062 AA11 BB01 CC09 CC10 DA05 DA06 DB01 DB02 DB03 DB04 DC01 DC02 DC03 DD01 DD02 DD03 DD04 DE01 DE02 DE03 DF01 EA04 EB01 EC01 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FB02 FB03 FB04 FC01 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 F01 F03 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 F01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH12 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ02 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK02 KK03 KK04 KK05 KK06 KK07 KK08 KK10 MM27 NN33 NN40 Q04A07 NN40 Q04A08

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 SiO2:42−65モル%、Al2O3:0−15モル
%、MgO:5−30モル%、Y2O3:0.5−8モル%、Li2O:10
モル%を超え、25モル%以下、を含有し、主結晶相がβ
−石英固溶体及び/又はエンスタタイトであることを特
徴とする情報記録ディスク用結晶化ガラス。
1. SiO 2 : 42-65 mol%, Al 2 O 3 : 0-15 mol%, MgO: 5-30 mol%, Y 2 O 3 : 0.5-8 mol%, Li 2 O: 10
More than 25 mol%, and the main crystal phase is β
A crystallized glass for an information recording disk, which is a quartz solid solution and / or enstatite.
【請求項2】 SiO2+Al2O3≧50モル%である請求項1に
記載のガラス。
2. The glass according to claim 1, wherein SiO 2 + Al 2 O 3 ≧ 50 mol%.
【請求項3】 ZrO2、TiO2及びP2O5、の少なくとも1種
をさらに含有し、かつZrO2+TiO2+P2O5:5−18モル%で
ある請求項1または2に記載のガラス。
3. The method according to claim 1, further comprising at least one of ZrO 2 , TiO 2 and P 2 O 5 , and wherein ZrO 2 + TiO 2 + P 2 O 5 : 5-18 mol%. The glass described.
【請求項4】 Na2O:0−10モル%及びK2O:0−10モル
%をさらに含有し、かつNa2O+K2O≦10モル%である請求
項1〜3のいずれか1項に記載のガラス。
4. The method according to claim 1, further comprising 0-10 mol% of Na 2 O and 0-10 mol% of K 2 O, and wherein Na 2 O + K 2 O ≦ 10 mol%. Or the glass of item 1.
【請求項5】 CaO:0−10モル%、SrO:0−10モル%、
BaO:0−10モル%、ZnO:0−10モル%、NiO:0−10モル
%をさらに含有し、かつCaO+SrO+BaO+ZnO+NiO≦10モル
%である請求項1〜4のいずれか1項に記載のガラス。
5. CaO: 0-10 mol%, SrO: 0-10 mol%,
5. The composition according to claim 1, further comprising 0-10 mol% of BaO, 0-10 mol% of ZnO and 0-10 mol% of NiO, and wherein CaO + SrO + BaO + ZnO + NiO ≦ 10 mol%. A glass according to any one of the preceding claims.
【請求項6】 B2O3:0−5モル%、R2O3:0−5モル%
(但し、Rは希土類金属イオンである)、CeO2:0−5モ
ル%、N2O5:0−5モル%(但し、NはNbまたはTaであ
る)をさらに含有し、かつB2O3+R2O3+CeO2+N2O5≦5モ
ル%である請求項1〜5のいずれか1項に記載のガラ
ス。
6. B 2 O 3 : 0-5 mol%, R 2 O 3 : 0-5 mol%
(Here, R is a rare earth metal ions), CeO 2: 0-5 mol%, N 2 O 5: 0-5 mol% (where, N represents a is Nb or Ta) further contains, and B 2 The glass according to claim 1, wherein O 3 + R 2 O 3 + CeO 2 + N 2 O 5 ≦ 5 mol%.
【請求項7】、As2O3:0−2モル%、Sb2O3:0−2モル%
をさらに含有し、かつAs 2O3+Sb2O3≦2モル%である請
求項1〜6のいずれか1項に記載のガラス。
7. The AsTwoOThree: 0-2 mol%, SbTwoOThree: 0-2mol%
And further contains As TwoOThree+ SbTwoOThree≦ 2 mol%
The glass according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 結晶相としてβ−スポジュメン固溶体を
さらに含有する請求項1〜7のいずれか1項に記載のガ
ラス。
8. The glass according to claim 1, further comprising a β-spodumene solid solution as a crystal phase.
【請求項9】 原ガラスの液相温度が1200℃以下と
なるように組成を選択した請求項1〜8のいずれか1項
に記載のガラス。
9. The glass according to claim 1, wherein the composition is selected such that the liquidus temperature of the raw glass is 1200 ° C. or lower.
【請求項10】 結晶相の結晶粒子サイズが、表面粗さ
Raが0.1−0.9nmの範囲となるように研磨表面を形成でき
る程度であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか
1項に記載のガラス。
10. The crystal phase of the crystal phase has a surface roughness.
The glass according to any one of claims 1 to 9, wherein the polished surface can be formed so that Ra is in a range of 0.1 to 0.9 nm.
【請求項11】 結晶相の結晶粒子サイズが、表面粗さ
Raが0.1−0.5nmの範囲となるように研磨表面を形成でき
る程度であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか
1項に記載のガラス。
11. The method according to claim 11, wherein the crystal phase of the crystal phase has a surface roughness.
The glass according to any one of claims 1 to 9, wherein a polished surface can be formed so that Ra is in a range of 0.1 to 0.5 nm.
【請求項12】 請求項1〜9のいずれか1項に記載の
ガラスからなり、かつ情報記録層を形成するための表面
が0.1−0.9nmの範囲の表面粗さRaを有することを特徴と
する情報記録ディスク用結晶化ガラス基板。
12. A glass material according to claim 1, wherein a surface for forming an information recording layer has a surface roughness Ra in a range of 0.1-0.9 nm. Crystallized glass substrate for information recording disks.
【請求項13】 情報記録層を形成するための表面が0.
1−0.5nmの範囲の表面粗さRaを有する請求項12に記載の
ガラス基板。
13. The surface for forming an information recording layer has a thickness of 0.1 mm.
13. The glass substrate according to claim 12, having a surface roughness Ra in the range of 1-0.5 nm.
【請求項14】 請求項12または13に記載のガラ
ス基板と、該ガラス基板上に形成された記録層とを有す
ることを特徴とする情報記録媒体。
14. An information recording medium comprising: the glass substrate according to claim 12; and a recording layer formed on the glass substrate.
【請求項15】 請求項12または13に記載のガラ
ス基板と、該ガラス基板上に形成された磁気記録層とを
有することを特徴とする磁気ディスク。
15. A magnetic disk comprising: the glass substrate according to claim 12; and a magnetic recording layer formed on the glass substrate.
JP34396498A 1998-03-13 1998-12-03 Crystallized glass for information recording disk and method for producing the same Expired - Fee Related JP4323597B2 (en)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34396498A JP4323597B2 (en) 1998-12-03 1998-12-03 Crystallized glass for information recording disk and method for producing the same
EP05013441A EP1577275B1 (en) 1998-03-13 1999-03-12 Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass
EP08165769A EP2011770A3 (en) 1998-03-13 1999-03-12 Crystallized glass for information recording medium, cystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass
DE69940130T DE69940130D1 (en) 1998-03-13 1999-03-12 Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
DE69928589T DE69928589T2 (en) 1998-03-13 1999-03-12 Crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
US09/266,753 US6294490B1 (en) 1998-03-13 1999-03-12 Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
EP99104949A EP0941973B1 (en) 1998-03-13 1999-03-12 Crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
US09/912,562 US6569792B2 (en) 1998-03-13 2001-07-26 Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
US10/372,109 US6774072B2 (en) 1998-03-13 2003-02-25 Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
US10/873,130 US6960399B2 (en) 1998-03-13 2004-06-23 Crystalized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34396498A JP4323597B2 (en) 1998-12-03 1998-12-03 Crystallized glass for information recording disk and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000169184A true JP2000169184A (en) 2000-06-20
JP4323597B2 JP4323597B2 (en) 2009-09-02

Family

ID=18365608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34396498A Expired - Fee Related JP4323597B2 (en) 1998-03-13 1998-12-03 Crystallized glass for information recording disk and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4323597B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001048581A (en) * 1999-06-01 2001-02-20 Ohara Inc High-rigidity glass ceramic substrate
WO2003102927A1 (en) * 2002-06-03 2003-12-11 Hoya Corporation Glass substrate for information recording media and information recording medium
US6703332B2 (en) * 2000-05-16 2004-03-09 Hubei New Huanguang New Information Materials Co., Ltd. Glass-ceramic for substrate of magnetic disk having higher strength and process for the production of the same
US6905988B2 (en) * 1999-07-07 2005-06-14 Hoya Corporation Substrate for information recording medium and magnetic recording medium composed of crystallized glass
US8795859B2 (en) 2010-06-24 2014-08-05 Hoya Corporation Magnetic recording medium
JP2020063183A (en) * 2018-10-15 2020-04-23 深▲セン▼精匠云創科技有限公司 Glass manufacturing device and glass manufacturing method
JP2020063182A (en) * 2018-10-15 2020-04-23 深▲セン▼精匠云創科技有限公司 Glass manufacturing device and glass manufacturing method
CN115784616A (en) * 2022-11-15 2023-03-14 常熟佳合显示科技有限公司 MAS microcrystalline glass and preparation method thereof
JP7404942B2 (en) 2020-03-10 2023-12-26 Agc株式会社 Chemically strengthened glass and its manufacturing method

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001048581A (en) * 1999-06-01 2001-02-20 Ohara Inc High-rigidity glass ceramic substrate
JP4680347B2 (en) * 1999-06-01 2011-05-11 株式会社オハラ High rigidity glass ceramic substrate
US6905988B2 (en) * 1999-07-07 2005-06-14 Hoya Corporation Substrate for information recording medium and magnetic recording medium composed of crystallized glass
US7015161B2 (en) 1999-07-07 2006-03-21 Hoya Corporation Substrate for information recording medium and magnetic recording medium composed of crystallized glass
US6703332B2 (en) * 2000-05-16 2004-03-09 Hubei New Huanguang New Information Materials Co., Ltd. Glass-ceramic for substrate of magnetic disk having higher strength and process for the production of the same
WO2003102927A1 (en) * 2002-06-03 2003-12-11 Hoya Corporation Glass substrate for information recording media and information recording medium
US8795859B2 (en) 2010-06-24 2014-08-05 Hoya Corporation Magnetic recording medium
JP2020063183A (en) * 2018-10-15 2020-04-23 深▲セン▼精匠云創科技有限公司 Glass manufacturing device and glass manufacturing method
JP2020063182A (en) * 2018-10-15 2020-04-23 深▲セン▼精匠云創科技有限公司 Glass manufacturing device and glass manufacturing method
JP7204472B2 (en) 2018-10-15 2023-01-16 深▲セン▼精匠云創科技有限公司 Glass production equipment and glass manufacturing method
JP7404942B2 (en) 2020-03-10 2023-12-26 Agc株式会社 Chemically strengthened glass and its manufacturing method
CN115784616A (en) * 2022-11-15 2023-03-14 常熟佳合显示科技有限公司 MAS microcrystalline glass and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4323597B2 (en) 2009-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6774072B2 (en) Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
JP3996294B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
JP4467597B2 (en) Inorganic composition article
JPH1079122A (en) Method for selecting material suitable for substrate of information recording medium, material selected by using the method, and substrate and magnetic disk using the material
JPH1081540A (en) Material for base of information recording medium, base for information recording medium made of the material, magnetic disk and its production
US7264894B2 (en) Crystallized glass for information recording medium, crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
JP4072275B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
EP0858974B1 (en) Glass for information recording medium substrate and glass substrate
EP1067101B1 (en) Process for preparation of crystallized glass for information recording disk
JP3379621B2 (en) Material used for information recording medium substrate, substrate using the same, and magnetic disk using the substrate
JP4074027B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
JP3950203B2 (en) Glass with high specific modulus
US6627565B1 (en) Crystallized glass substrate for information recording medium
JP4323597B2 (en) Crystallized glass for information recording disk and method for producing the same
JPH10241134A (en) Glass substrate for information-recording medium and magnetic recording medium using the same
JP3793401B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
JP4323598B2 (en) Crystallized glass for information recording disks
JP4043171B2 (en) Method for producing crystallized glass for information recording disk
JP3793003B2 (en) Crystallized glass substrate for information recording media
JP2001325718A (en) Substrate for information recording medium and information recording medium
JP2001325722A (en) Method for manufacturing substrate for information recording medium and method for manufacturing information recording medium
WO2024053741A1 (en) Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate, and magnetic recording/reproducing apparatus
WO2024053056A1 (en) Glass for magnetic recording medium substrate or for glass spacer to be used in magnetic recording/reproduction device, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer to be used in magnetic recording/reproduction device, and magnetic recording/reproduction device
JP2005119963A (en) Process for preparation of crystallized glass for information recording disk

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051027

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080909

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090127

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090602

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090605

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130612

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140612

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees