JP2000258776A - 液晶用スペーサー粒子の散布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示素子用の片方の基板上にスペーサー
粒子を散布法で均一に散布させるに際して、支持台上に
基板を密着させて、特に、外部応力等で容易に撓みがち
なプラスチックフィルム基板でも、基板面を水平に保持
させて、スペーサー粒子を均一に散布させることができ
るスペーサー粒子の散布装置に関する 【解決手段】 液晶表示素子に用いる対向する２枚の基
板の片方の基板上にスペーサー粒子を散布させて、前記
素子に間隙を設けるスペーサー粒子の散布装置におい
て、散布槽内に設ける支持台上に前記基板を水平に保持
させるに際して、前記支持台に多孔板を設け、前記基板
を吸引密着させることを特徴とする液晶表示素子用スペ
ーサー粒子の散布装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子用の
スペーサー粒子の散布装置に関し、更に詳しくは、散布
法によってスペーサー粒子を片方の基板上に均一に散布
するに際して、支持台上に基板を密着させて、基板面を
水平に保持させることにより、基板上に均一にスペーサ
ー粒子を散布させるスペーサー粒子の散布装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、液晶表示装置は、対向する２
枚の基板間に一定の間隙を持たせるスペーサー材が設け
られ、このスペーサーは間隙の均一さに係わって液晶表
示の品質に大きく影響を及ぼす重要な補助部材である。
液晶表示素子は、この基板には互いに直交する透明電極
群が配置され、この間隙内に液晶組成物を封入させて液
晶層を形成し、このスペーサーが、基板間隙（ギャッ
プ）をコントロールさせて表示デバイスとして、液晶層
を適正な厚みにしているのである。

【０００３】また、この液晶表示素子は、実用的な観点
からも、最近は、より高速応答、高コントラス、広視
覚、高信頼性等の諸特性が求められ、これらのうちで
も、特に、応答やコントラス、視覚等は液晶層の厚さに
密接に関わり、例えば、ある種の表示モードにおいて、
液晶材料の光学特性に併せて、液晶層の厚さを高度に設
定しないと、良好なコントラスを得ることができない。
また、一部の表示モードでは、特に液晶層の厚みムラ
が、デバイスの表示ムラを発生させ、目視認識を低下さ
せる。従って、スペーサーを適材適所の観点から適宜選
択して、液晶層を所望する厚さに設定させているスペー
サーの係わりが、極めて重要なのである。

【０００４】また、液晶表示素子の用途も、軽量、低消
費電力の特性が生かされて、テレビ或いはパソコン等の
ディスプレイデバイスとして各分野で利用され、特に、
最近ではカラー表示の液晶表示素子が質・量とも急速に
進展・拡大している。カラー液晶表示素子では、信号が
画像を捜引する間、カラー画像を保持させるため、ガラ
ス基板の上のシリコン薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を
マトリックス状に配置し、そのスイッチング作用を利用
する。また、この主構成が単一な単純マットリックス駆
動タイプと、また、カラー液晶ディスプレイのように多
数の各表示画素毎に信号電圧の書込みを制御するスイッ
チング素子が設けられたアクテイブマトリックス駆動タ
イプ等がある。

【０００５】従来から、このスペーサーを基板間に設け
るに、スペーサー材を基板上に散布する方法で行われて
いる。その散布方法としては、湿式法又は乾式法が用い
られ、最近は、前者の湿式法が多く用いられ、スペーサ
ー材をアルコール等の有機溶媒中に均一に分散させ、ス
プレガン等で圧縮気体（空気、窒素）と共に基板上に散
布される。また、通常、散布装置に設ける加温手段によ
って、使用される溶媒は、この噴霧されたスペーサー流
が液晶電極基板に達する前に完全に飛散、乾燥するよう
に調整されている。

【０００６】一方、後者の乾式法は、例えば、特開平６
−３４９８２号、特開平６−１４８６５４号及び特開平
７−３０１８０８号公報等に記載されているように、湿
式法のように有機溶媒にスペーサー粒子を分散させず
に、その気体流として、基板上に散布されるが、通常、
基板上に設けられている透明電極上に遍って散布される
傾向から、散布層厚の不均一性に係わる光ヌケ、表示コ
ントラス不良の原因となる。

【０００７】特に、特開平７−３０１８０８号公報に
は、スペーサー粒子に帯電処理を施し、支持台上の基板
の静電気蓄積を防止させ、基板支持台には剣山状の複数
本のピンが設けられ、且つこのピンの下部にはバネを設
けて、常に、基板裏面を支持台に当接させて基板面を水
平に支持させて、スペーサーの散布層厚を均一にさせる
方法が提案されている。このような大気との接触を多く
することにより、大気中の湿度により支持台上の吸湿性
を無視できなくなり、基板がプラスチック製では、特
に、吸湿による影響が大きく、基板の平面性を維持させ
ることが困難である。

【０００８】また、上述するように、スペーサー粒子を
基板に均一厚で散布されることが極めて重要であるが、
湿式法及び乾式法の何れの方法においても、微細粒のス
ペーサー粒子は、常に凝集粗大化する傾向にある。従っ
て、従来から、スペーサー粒子の凝集を防止させて、散
布層厚を均一にさせる散布方法が、種々提案されてい
る。例えば、特開昭６１−１０７２２２号公報には、散
布口の前方に障害部材を設けて、直接基板上に散布され
るのを避けて、この部材に一端、スペーサー材を衝突さ
せ、分散させながら散布させ、均一性を向上させようと
する散布方法及びその装置が記載されている。

【０００９】また、特開平６−１４８６５４号公報に
は、散布ノズルにイオン化電極を設けて、ノズルを通過
するスペーサー粒子に電荷を与えるとか、また、特開平
６−３４９８２号公報には、スペーサー材の散布時にイ
オン化した空気流をこのスペーサー粒子に吹きつける等
の手段で、スペーサーの帯電極性を均一にさせて、凝集
を防止させながら散布させる方法が記載されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述するように、液晶
表示素子の基板上に散布されるスペーサー粒子は、液晶
層の厚みの制御に係わって液晶表示素子の実用上の、応
答速度、高コントラス、広視覚、高信頼性等の諸特性に
係わり、液晶材料の光学特性に併せて、液晶層の厚さを
高度に設定しないと、良好なコントラス、また、特に液
晶層の厚みムラによる表示ムラを発生させ、目視認識を
低下させる。

【００１１】また、白黒及び階色表示において、最近
は、特に、より高精細化（又は高精彩化）、多画素化に
対処すべく、益々スペーサーの配置に高い精度を必要と
し、基板間隙の僅かなムラ・変化でも、しきい値電圧や
点灯状態の変化や干渉現象による画質の色調ムラを起こ
して、表示品質の安定・均一性を著しく損ねる。

【００１２】そのため、この基板間隙のバラッキが±
０．１μｍ以内等の高い精度が必要とされ、特にガラス
基板に比べてポリマーフィルム基板（以後、ＰＦ基板と
記す）においては、スペーサーの散布量が著しく多くな
り、その散布される密度が高くなる分だけ、上記する高
精度を得ることはより困難であり、スペーサー粒子の散
布密度として、例えば±１０個／ｍｍ² 以内に制御する
ことが求められている。

【００１３】しかしながら、このような精度を達成させ
るために、上記した公報及び従来からの多く提案される
方法、例えば、湿式散布法において、ノズル等での散布
前後に、機械的及び／又は帯電処理をスペーサー材に施
して、散布されるスペーサー粒子流を高度に分散させて
も、基板上での重なり、再凝集粗大化（クラスター化）
及び基板の保持条件等が重なり、散布層厚のバラツキを
完全に防止させるには、未だ十分に満足されるものでな
いのが実状である。

【００１４】このような状況下で、本発明の目的は、ス
プレノズル等を用いる散布方法であって、スペーサー粒
子が散布される基板が、ガラス基板及び特にその面が僅
かな外部応力で撓んで基板上で浮き上がりやすいＰＦ基
板であっても、常に、支持台上に基板を水平に保持させ
て、基板上に均斉にスペーサー粒子が散布され、散布密
度分布の少ない液晶表示素子用基板を得て、素子として
表示ムラ、色ムラのない良好な画像表示が得られる液晶
表示素子用スペーサー粒子の散布装置を提供することで
ある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑みて、これらの課題を解決すべく鋭意検討した結
果、絶縁性の球状及び円柱状の定形スペーサー粒子を用
いて、散布させる基板をスペーサー粒子の散布前後を通
して、基板面を水平に維持させ、基板面の浮き等を防止
させることにより、基板上にスペーサー粒子を均一厚に
散布されること見出して、本発明を完成させるに至っ
た。

【００１６】すなわち、本発明は、液晶表示素子に用い
る対向する２枚の基板の片方の基板上にスペーサー粒子
を散布させて前記素子に間隙を設けるスペーサ粒子の散
布装置において、散布槽内に設ける支持台上に前記基板
を水平に保持させるに際して、前記支持台に多孔板を設
け、前記基板を吸引密着させることを特徴とする液晶表
示素子用スペーサー粒子の散布装置を提供する。

【００１７】本発明によれば、図１及び図２に示すごと
く、例えば、ＰＦ基板８を基板支持台９に乗せ、真空ポ
ンプＰ系で減圧させて排気口１１から、その支持台内の
空気を排出することによりＰＦ基板８は、水平である支
持台９面に密着される。すなわち、本発明において、例
えば、図２に示す如く、この支持台内に形成されている
減圧槽１６上部には、例えば、図２（ａ）及びその拡大
断面図（ｂ）から明らかなように、多数の吸着孔を有す
る多孔板１３が、基板支持面として支持台９に装着され
ている。従って、上述するように、この減圧槽を減圧系
にすることで、平面状の多孔板１３上にＰＦ基板８が水
平に、しかも、安定に密着固定される。これにより、そ
の基板がわずかな外的応力で撓みストレスや、浮き上が
り傾きがちなＰＦ基板でも、スペーサー粒子の散布前後
を通して、水平に維持されることから、基板面の表面電
位も均一になり、特に、帯電されているスペーサ−粒子
は、基板上に効果的に均一に散布させることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】上述するように、本発明のスペー
サー粒子の散布装置は、基板にスペーサー粒子を均一に
散布させるために、支持台に装着されている連通孔を有
する多孔板を介して減圧下に基板を吸引密着させて、ス
ペーサー粒子の散布中を通じて支持台に基板を水平に保
持されていることを特徴とするものである。

【００１９】以下に、図１〜図６を参照しながら、本発
明による液晶表示素子用スペーサー粒子の散布装置の実
施について詳細に説明する。

【００２０】本発明において、スペーサー粒子として
は、従来から公知のものであれば特に限定することなく
使用され、好ましくは、絶縁性であって、例えば、ポリ
スチレン等のプラスチックスペーサー、シリカ、ガラス
等の無機製スペーサー等が挙げられ、粒子サイズ、その
粒子の形状及び粒子径の均斎度、分散密度、弾性率、熱
膨張率又は液晶材料の光学特性との係わり等の観点か
ら、適宜選択して使用される。また、その粒子形状は、
球状又は円柱状等の定形粒子であって、好ましくは、そ
の厚さの制御の容易さから、球状で真球であるものが好
適である。また、必要に応じて、これらの２種の形状物
を混ぜて使用することもできる。また、その粒子径は、
液晶素子の基板間隙との係わりで、通常２〜１０μｍ、
より好ましく８μｍ以下にあるものが好適である。更に
また、このスペーサー粒子には、散布後、基板上に安定
に固着させる観点から、予めスペーサー粒子表面に固着
剤（又は接着剤）をコートさせておくことができる。

【００２１】また、基板としては、従来から公知の、透
明性のガラス基板や、ポリカーボネート（ＰＣ）、非晶
質ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートル（ＰＭ
ＭＡ）等のプラスチックフィルム基板（ＰＦ基板）が使
用され、通常、その基板上には、透明電極が施され且つ
配向膜を被覆形成されており、その端部は、電極配線が
露出されているのが一般的である。

【００２２】また、これらの基板に、このスペーサ−粒
子の所定量を散布させるために、例えば、図１に示す秤
量装置１で、通常の重量法で容易に秤量された所定量の
スペーサー粒子が、例えば、振動させながらホッパを介
して絶縁性圧送管２内を空気叉は窒素ガス等の圧縮気体
４で分散器５に供給される。

【００２３】また、本発明においては、この分散器５の
噴霧口を図１（ａ）に示すノズル型でも、図１（ｂ）に
示すメッシュ型でも適宜変えて使用することができる。
またこの分散器には、好ましくは、イオン化電極を装着
することができ、圧送管２で圧送されたスペーサー粒子
流を、このイオン化電極を介すことにより、その周囲の
イオン化気体流に接触させて電気二重層粒子を形成させ
て、互いに同一の極性に帯電したスペーサー粒子として
散布させてスペーサー粒子の凝集を効果的に防止させる
ことができる。なお、このイオン化電極には、図１
（ａ）に示すイオン化装置３ａで、散布前の圧縮気体４
を正負何れのかの極性に帯電させられ、従って、スペー
サー粒子は電気二重層粒子として、また、散布槽壁面も
帯電電位分布を０Ｖ以下になるように、印加電圧、雰囲
気湿度等を予め設定しておくことができ、本発明では、
例えば、−２０〜−１００ＫＶの高電圧を印加させて、
スペーサー粒子も、散布槽内もマイナスにイオン化させ
ることができる。

【００２４】また、通常、散布ノズルから散布されたス
ペーサー粒子は、基板以外に散布槽内壁や、分散器周辺
に付着し、スペーサー粒子の分散ロスだけではなく、装
置のメンテナンスや、特に、分散器周辺に付着成長した
塊が、基板上に落下する等の支障を来たすことから、本
発明の分散装置においても、これらの付着をできるだけ
少なくすることが好ましい。

【００２５】そこで、既に上述するように、使用される
スペーサー粒子は絶縁性であり、従って、好ましくは、
散布槽内において、上記した、散布槽壁面、分散器及び
支持台において基板に接触する部分以外等の少なくとも
表面を同様に絶縁性にすることで、スペーサー粒子同様
の極性の帯電させることができる。ここで、これらの基
板上以外のスペーサー粒子を付着を減らすため、本発明
では、上記した散布スペーサー粒子を帯電させると共
に、好ましくは、散布前に散布槽内の雰囲気を同極性の
イオンが分散している雰囲気に予めしておくこともでき
る。これにより、図１（ｂ）に示す如く、その壁面に、
例えば、スペーサー粒子と同極性のイオンを付着させら
れ、スペーサー粒子の付着を抑制することができる。

【００２６】そこで、特に、図１に示す散布槽内壁６
ａ、分散器５及び図３に示す支持台９の外側面等に使用
される絶縁性材としては、特に限定されないが、例え
ば、テフロン、シリコン、ナイロン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリアセタール、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、塩化ビニル等のプラスチック
や、アルミナ、ジルコニア、窒化ボロン等のセラミック
スや、金属にこれらのプラスチックやセラミックスを被
覆させた材質等を挙げるこができる。そこで、本発明お
いては、これらの材質の単独及び２種以上を組み合わせ
た無垢叉は被覆或いはこれらの絶縁性塗料を塗布させ
て、上記した部分を絶縁性にすることができる。

【００２７】また、本発明において、支持台に設けられ
ている図２（ａ）に示す多孔板部１３は、支持台と一体
に装着されていてもよく、また、支持台に装着−脱着が
可能な型として設けられていてもよい。特に、何れかに
特定することはないが、後者の例として、例えば、図２
（ｂ）に示す例の如く、特定のパターン化されてセルを
設けるＰＦ基板に合わせて、このセル２４部位に対向す
るパターンで多孔を有する多孔板を、特に、装着−脱着
が可能な型で装着させることができる。

【００２８】また、好ましくは、支持台９上の基板８を
乗せる面が導電性であることに併せて、この多孔板も導
電性であって、しかも、これらの導電性部を接地させて
おくことが好適である。すなわち、本発明では、この基
体が、既に上述する如くこの支持台の多孔体面に吸引密
着されて水平に保持されていることから、その上に乗る
基板面の電位を均一にすることができ、電荷の蓄積を低
下させられて、その結果、浮きがなく水平に密着されて
電位の均一な基板面には、例えば、マイナスに帯電する
スペーサー粒子が均一に散布されることになる。

【００２９】また、このような多孔板の部材としては、
連通孔を有する多孔性である、例えば、磁器製板、ガラ
ス製板、金属製板及びプラスチック製板等が挙げられ、
必ずしもその全体が導電性である必要がなく、少なくと
も、基板に接触する面が導電性であって、その面が平面
であれば、特に何れかに特定することなく使用すること
ができる。さらに、例えば、図２〜図４に示される基板
支持台の本体９部の導電性部材及び多孔板の部分を接地
させておこことが好適である。

【００３０】

【実施例】以下に、本発明を実施例で説明するが、本発
明はこれらに少しも限定されるものではない。 （実施例１）上記した本発明による図１（ｂ）に示す散
布装置において、平均径６μｍのポリスチレン製の真球
状で、その表面に固着剤を被覆されているスペーサー粒
子を秤量器１でその所定量を秤量し、振動させながらポ
ッパを介して窒素ガス４が圧送されている圧送管２に供
給し、分散器５に設ける、既に−６０〜８０ＫＶに印加
されているイオン化電極間を通して、図１（ｂ）に示す
メッシュ型散布孔から、マイナスイオンが雰囲気下の分
散槽内に噴霧させた。スペーサー粒子は、基板支持台９
に吸引密着されて、水平な面を保持されているＰＦ基板
８上に効果的に散布された。なお、この散布を通して散
布槽内壁面６ａには、ほとんどスペーサー粒子が付着さ
れなかった。また、スペーサー粒子は電気二重層粒子と
して、マイナスに帯電し、且つ散布される雰囲気も上記
するようにマイナスイオンが分散され、スペーサー粒子
同志が静電気的に効果的に反発しあって、凝集するよう
な傾向が見られなかった。

【００３１】また、散布されたスペーサー粒子は、この
ＰＦ基板８が図２（ａ）に示す如く、導電性の支持台９
及びこれに一体に装着されている導電性の多孔板１３上
に、減圧されて吸引密着されている。すなわち、この多
孔板下部が減圧槽１６として、真空ポンプＰ系によっ
て、大気圧（７６０ｍｍＨｇ）に対して、任意の差圧に
減圧させることができる。本実施例では、基板表面が凹
（窪む）面にならない程度に減圧度を調整して吸引密着
させた。なお、上記する導電性の支持台９部及び導電性
の多孔板１３部は一体になっており、図２（ｂ）に示す
ように接地されている。

【００３２】また、図２（ｂ）に示す如く、この支持台
に吸引密着されているＰＦ基板８は、特定の電極パター
ンを有し、フォトリソグラフィで発生する局所的伸縮も
この電極部に変形ストレスを及ぼすので、これらを防止
できるようにこのパターン部に対応して吸引孔を密にし
た、図（ｂ）に示すような多孔板１３を設けている。通
常、この吸引孔は、その多孔体の種類にもよるが、例え
ば、この実施例で使用するような、孔を有するものであ
れば、その孔のピッチ幅は５〜１００ｍｍで加工され、
吸引状態で、基板面に０．１ｍｍ以上の凸が生じないよ
うにすれば、平面精度が０．５ｍｍ程度になり、基板に
は、局所的突起（浮き上がり）がなく、支持台上の基板
は、その一辺が５〜１００ｍｍ範囲内の基板に対して、
その表面電位を均一化させられ、スペーサー粒子を均一
に散布することができる。

【００３３】（実施例２）実施例１において、図参
（ａ）に示す如く、支持台の側面全体をを、散布槽材と
同じ絶縁性の塩化ビニル材で覆った。これにより、実施
例１ではかなりのスペーサー粒子が支持台の側面に付着
していたが、本実施例では、その付着量を低減させるこ
とができた。また、この付着を更に少なくするために
は、この被覆材を、例えば、図３（ｂ）に示す如く厚く
して、しかも、比誘電率の小さい、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等の材料で、覆うことにより、図（ｂ）に拡
大概念図として示されているように、その表面は帯電能
が向上し、より密に負イオンが帯電されて、散布された
負帯電スペーサー粒子は、同帯電の表面に反発（模式的
に表すＲ）して、より付着し難くなる。

【００３４】（実施例３）図５に示す如く、実施例１の
メッシュ型に換えて、散布孔をノズル型を使用し、しか
も、支持台には図６（ａ）及び（ｂ）に示す如くの金属
繊維をフェルト状に成型焼結した、開口率７５％、孔径
０．１ｍｍの完全貫通孔を有する多孔板を装着させた。
この密着面は、平面研磨で、平面度を０．１ｍｍ以下に
してある。この角形の多孔板は、その密着面が３００×
３００ｍｍ、厚さ５ｍｍで、周辺部は、Ｎｉメッキで封
孔処理２３してた（又は、エポキシ樹脂等を塗布して封
孔処理してもよい）。また、その他に、金属製の多孔体
として、その幅が２〜１００ｍｍで、金属粉末を成型焼
結させた開口率６０〜８０％で、穴径０．３〜１ｍｍの
完全貫通孔を有するもの、又は、多孔率が９８％で全て
貫通孔で、発砲金属を板状に成型した金属製多孔体とし
て使用される。この実施例においては、基板の吸引密着
は、上述した減圧差圧が、２ｍｍＨｇ程度の減圧で、基
板は、安定に支持台の多孔板上に水平に固定される。ま
た、図６に示すように減圧槽には、吸引が平均に行われ
るように、圧力拡散板２１が装着され、また、基板への
スペーサー散布後、支持台から基板を簡単に取り外すた
めに、図５に示す如く、この減圧槽のガス導入口Ｇか
ら、空気又は窒素ガス等をイオン化装置３ｂでイオン化
させて導入することで、基板と多孔板との電気的固着が
緩和されて、速やかに基板を取り出すことができる。ま
た、このような金属製の多孔板を用いることにより、吸
引孔が完全貫通孔で高密度に有していて、比較的に高い
多孔体面を有する部材が得られることから、広い面積
で、吸引時の減圧度が均一化され、比較的に低減圧で、
密着性よく、良好な平面度で基板を保持させられ、均一
にスペーサー粒子を散布させることができる。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、基板の支持台の基体を
保持する面に多孔板を設けて、減圧下に基板を吸引密着
させることにより、特に、基板が僅かな外的応力で撓ん
だりして、支持台面から浮き上がり傾くようなＰＦ板で
あっても、スペーサー散布中を通じて、基板支持台上に
基板を水平に維持させられ、しかも、導電性の多孔板面
に良好な平面度で密着されることから、基板の表面電位
分布が均一になり、特に、帯電されているスペーサー粒
子は、効果的に基板上に均一に散布される。

【００３６】また、基板支持台側面を絶縁部材を被覆さ
せることにより、支持台周辺部のスペーサー粒子付着を
防止されて、繰返し散布においても支持台からの基板上
への異物混入を効果的に防止され、しかも、導電性多孔
板とその上の絶縁性の基板の電気的固着に係わり、散布
後、多孔板裏面にイオン化気体を導入させて、基板の取
り外しを容易にすることにより、本発明の散布装置の散
布効率及び生産性を著しく向上させる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスペーサー粒子の散布装置を説明する
概念断面図である。図（ａ）では、ペーサー粒子分散器
の散布口がノズル型で、図（ｂ）は、そのスペーサー粒
子分散器の散布口がメッシュ型である。

【図２】図（ａ）は、本発明による基板を吸引密着させ
る多孔板を設けた基板支持台の概略断面図を表し、図
（ｂ）は、多孔板の多孔密度を特定のパターンを有する
そのパターン部に合わせた多孔板の一例を表す概略断面
及び平面図である。

【図３】本発明による基板支持台の上面を除く、周辺部
を絶縁部材で覆った例の概略断面図であり、図（ｂ）
は、その表面の帯電状態と基板上の帯電散布スペーサー
粒子の挙動を説明する図である。

【図４】本発明に用いる同様の基板支持台の別の例を表
している概略断面図である。

【図５】本発明によるスペーサー粒子の散布装置であ
り、散布終了後に、基板の取り外しを容易にするため
に、支持台の多孔板裏面にイオン化気体を導入させる本
発明によるスペーサー粒子の散布装置である。

【図６】本発明に用いる完全貫通孔を有する金属製の多
孔板を装着する基板支持台の概略断面図である。

【符号の説明】

１ 秤量部 ２ 絶縁性圧送管 ３ａ、３ｂ イオン化装置 ４ 圧縮気体 ５ 分散器（ノズル型又はメッシュ型散布孔及びイオン
化電極を有す） ６ａ 散布槽内壁 ７ スペーサー粒子 ７ｂ 帯電スペーサー粒子 ８ ＰＦ基板 ９、17 導電性基板支持台 10 排気孔 11 真空ポンプＰ系へ 12 付着負イオン 13 導電性多孔板 14 電極配線 15 絶縁部材 16 減圧槽 19 吸引孔 21 圧力拡散板 22 連通孔を有する金属製多孔板 23 封孔材 24 パターン

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶表示素子に用いる対向する２枚の基
   板の片方の基板上にスペーサー粒子を散布させて、前記
   素子に間隙を設けるスペーサ粒子の散布装置において、
   散布槽内に設ける支持台上に前記基板を水平に保持させ
   るに際して、前記支持台に多孔板を設け、前記基板を吸
   引密着させることを特徴とする液晶表示素子用スペーサ
   ー粒子の散布装置。
2. 【請求項２】 前記支持台の少なくとも基板に接触する
   面が、導電性であることを特徴とする請求項１に記載の
   散布装置。
3. 【請求項３】 前記多孔板が、導電性であって、前記支
   持台に一体叉は装脱着型に設けられていることを特徴と
   する請求項１に記載の散布装置。
4. 【請求項４】 前記多孔板が、連通孔を有する磁器製
   板、ガラス製板、金属製板及びプラスチック製板の何れ
   か１種であることを特徴とする請求項４に記載の散布装
   置。
5. 【請求項５】 前記支持台の導電性部が接地されている
   ことを特徴とする請求項２に記載の散布装置。
6. 【請求項６】 前記散布装置内において、支持台の基板
   に接触する部分以外の少なくとも表面が絶縁性であるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の散布装置。
7. 【請求項７】 前記支持台上の基板が、プラスチックフ
   イルム基板であることを特徴とする請求項１に記載の散
   布装置。