JP2000243292A - Manufacturing device and manufacture of electron source - Google Patents

Manufacturing device and manufacture of electron source

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JP2000243292A
JP2000243292A JP4599799A JP4599799A JP2000243292A JP 2000243292 A JP2000243292 A JP 2000243292A JP 4599799 A JP4599799 A JP 4599799A JP 4599799 A JP4599799 A JP 4599799A JP 2000243292 A JP2000243292 A JP 2000243292A
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JP
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voltage
electron
driving
applying
electron source
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JP4599799A
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Eiji Yamaguchi
英司 山口
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Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide within a short process time an electron source having a plurality of electron emission elements, each having uniform electron emission characteristic. SOLUTION: When a drive method, wherein there are provided that the relationship between a current I and a voltage V in a voltage range causing electron emission from electron emissive elements is expressed as a function of equation I: I=f(V), where f'(V) is differential coefficient of the f(V) at the voltage V, after drive is previously carried out with a preliminary drive voltage V1, normal drive is carried out with a voltage V2 satisfying expression II: f(V1)/ V1*f'(V1)-2f(V1)}>f(V2)/ V2*f'(V2)-2f(V2)} is employed in a manufacturing process of an electron source having a plurality of electron emission elements on a substrate 101, a plurality of the elements are divided into plural groups, voltages are sequentially applied to by each group, and drive for applying the preliminary drive voltage V1 to all the elements of the electron source is performed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子放出素子を多
数個備えるマルチ電子源の製造装置及び方法に関し、特
にマルチ電子源を予備駆動する製造装置及び方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a multi-electron source having a large number of electron-emitting devices, and more particularly to an apparatus and method for pre-driving a multi-electron source.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電子放出素子として熱陰極素
子と冷陰極素子の2種類が知られている。このうち冷陰
極素子では、例えば電界放出型素子(以下FE型と記
す)や、金属/絶縁層/金属型放出素子(以下MIM型
と記す)や、表面伝導型放出素子などが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, two types of electron emitting devices, a hot cathode device and a cold cathode device, are known. Among them, as the cold cathode device, for example, a field emission device (hereinafter referred to as FE type), a metal / insulating layer / metal type emission device (hereinafter referred to as MIM type), a surface conduction type emission device, and the like are known. .

【0003】FE型の例としては、例えば、W.P.D
yke & W.W.Dolan,”Field em
ission”,Advance in Electr
onPhysics,8,89(1956)や、あるい
は、C.A.Spindt,”Physical pr
operties of thin−film fie
ld emission cathodes with
molybdenium cones”,J.App
l.Phys.,47,5248(1976)などが知
られている。
As an example of the FE type, see, for example, P. D
yke & W. W. Dolan, "Field em
issue ", Advance in Electr
on Physics, 8, 89 (1956) or C.I. A. Spindt, "Physical pr
operations of thin-film figure
ld emission cathodes with
molybdenium cones ", J. App.
l. Phys. , 47, 5248 (1976).

【0004】また、MIM型の例としては、例えば、
C.A.Mead,”Operation of tu
nnel−emission Devices,J.A
ppl.Phys.,32,646(1961)などが
知られている。
As an example of the MIM type, for example,
C. A. Mead, “Operation of tu
nnel-emission Devices, J. et al. A
ppl. Phys. , 32, 646 (1961).

【0005】また、表面伝導型放出素子としては、例え
ば、M.I.Elinson,Radio Eng.E
lectron Phys.,10,1290,(19
65)や、後述する他の例が知られている。
Further, as a surface conduction type emission device, for example, M.S. I. Elinson, Radio Eng. E
electron Phys. , 10, 1290, (19
65) and other examples described later.

【0006】表面伝導型放出素子は、基板上に形成され
た小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより
電子放出が生ずる現象を利用するものである。この表面
伝導型放出素子としては、前記エリンソン等によるSn
2 薄膜を用いたものの他に、Au薄膜によるもの
[G.Dittmer:”Thin Solid Fil
ms”,9,317(1972)]や、In23 /S
nO2 薄膜によるもの[M.Hartwell and
C.G.Fonstad:”IEEE Trans.
ED Conf.”,519(1975)]や、カ−ボ
ン薄膜によるもの[荒木久 他:真空、第26巻、第1
号、22(1983)]等が報告されている。
[0006] The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which an electron is emitted when a current flows in a small-area thin film formed on a substrate in parallel with the film surface. As this surface conduction type emission element, Sn described by Elinson et al.
In addition to those using the O 2 thin film, those using the Au thin film [G. Dittmer: "Thin Solid Fil
ms ", 9,317 (1972)] and In 2 O 3 / S
nO 2 thin film [M. Hartwell and
C. G. FIG. Fonstad: "IEEE Trans.
ED Conf. , 519 (1975)] and those using carbon thin films [Hisashi Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1,
No. 22 (1983)].

【0007】これらの表面伝導型放出素子の素子構成の
典型的な例として、図16に前述のM.Hartwel
lらによる素子の平面図を示す。同図において、300
1は基板で、3004はスパッタで形成された金属酸化
物よりなる導電性薄膜である。導電性薄膜3004は図
示のようにH字形の平面形状に形成されている。該導電
性薄膜3004に後述の通電フォ−ミングと呼ばれる通
電処理を施すことにより、電子放出部3005が形成さ
れる。図中の間隔Lは、0. 5〜1[mm]、Wは、
0. 1[mm]で設定されている。なお、図示の便宜か
ら、電子放出部3005は導電性薄膜3004の中央に
矩形の形状で示したが、これは模式的なものであり、実
際の電子放出部の位置や形状を忠実に表現しているわけ
ではない。
[0007] As a typical example of the element configuration of these surface conduction electron-emitting devices, FIG. Hartwel
1 shows a plan view of an element according to the present invention. In FIG.
Reference numeral 1 denotes a substrate, and reference numeral 3004 denotes a conductive thin film made of a metal oxide formed by sputtering. The conductive thin film 3004 is formed in an H-shaped planar shape as shown. An electron emission portion 3005 is formed by subjecting the conductive thin film 3004 to an energization process called energization forming described later. The interval L in the figure is 0.5 to 1 [mm], and W is
It is set at 0.1 [mm]. For convenience of illustration, the electron-emitting portion 3005 is shown in a rectangular shape at the center of the conductive thin film 3004, but this is a schematic shape, and the position and shape of the actual electron-emitting portion are faithfully represented. Not necessarily.

【0008】M.Hartwellらによる素子をはじ
めとして上述の表面伝導型放出素子においては、電子放
出を行う前に導電性薄膜3004に通電フォ−ミングと
呼ばれる通電処理を施すことにより電子放出部3005
を形成するのが一般的であった。すなわち、通電フォ−
ミングとは、前記導電性薄膜3004の両端に一定の直
流電圧、もしくは、例えば1V/分程度の非常にゆっく
りとしたレ−トで昇圧する直流電圧を印加して通電し、
導電性薄膜3004を局所的に破壊もしくは変形もしく
は変質せしめ、電気的に高抵抗な状態の電子放出部30
05を形成することである。なお、局所的に破壊もしく
は変形もしくは変質した導電性薄膜3004の一部に
は、亀裂が発生する。前記通電フォ−ミング後に導電性
薄膜3004に適宜の電圧を印加した場合には、前記亀
裂付近において電子放出が行われる。
M. In the above-described surface conduction type electron-emitting device including the device by Hartwell et al., The electron-emitting portion 3005 is formed by applying an energization process called energization forming to the conductive thin film 3004 before electron emission.
It was common to form That is, the energizing form
The term “ming” refers to applying a constant DC voltage to both ends of the conductive thin film 3004, or applying a DC voltage that is boosted at a very slow rate of, for example, about 1 V / min, to conduct electricity.
The electron emitting portion 30 in a state where the conductive thin film 3004 is locally destroyed, deformed or deteriorated, and is in an electrically high resistance state.
05 is formed. Note that a crack is generated in a part of the conductive thin film 3004 that is locally broken, deformed, or altered. When an appropriate voltage is applied to the conductive thin film 3004 after the energization forming, electrons are emitted in the vicinity of the crack.

【0009】このように、表面伝導型放出素子の電子放
出部を形成する際には、導電性薄膜に電流を流して該薄
膜を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質させて亀裂
を形成する処理(通電フォ−ミング処理)を行う。この
後さらに通電活性化処理を行うことにより電子放出特性
を大幅に改善することが可能である。
As described above, when forming the electron-emitting portion of the surface conduction electron-emitting device, a current is applied to the conductive thin film to locally break, deform or alter the thin film, thereby forming a crack ( Energization forming process). Thereafter, by further performing the activation process, it is possible to greatly improve the electron emission characteristics.

【0010】すなわち、通電活性化処理とは通電フォ−
ミング処理により形成された電子放出部に適宜の条件で
通電を行って、その近傍に炭素もしくは炭素化合物を堆
積せしめる処理のことである。例えば、適宜の分圧の有
機物が存在し、全圧が10-2ないし10-3[Pa]程度
の真空雰囲気中において、電圧パルスを定期的に印加す
ることにより、電子放出部の近傍に単結晶グラファイ
ト、多結晶グラファイト、非晶質カ−ボンのいずれか、
もしくはその混合物を500[Å]以下の膜厚で堆積さ
せる。但し、この条件はほんの一例であって、表面伝導
型放出素子の材質や形状により適宜変更されるべきであ
るのは言うまでもない。
That is, the energization activation process is an energization form.
This is a process of energizing the electron-emitting portion formed by the trimming process under appropriate conditions and depositing carbon or a carbon compound in the vicinity thereof. For example, in a vacuum atmosphere having an appropriate partial pressure of an organic substance and a total pressure of about 10 −2 to 10 −3 [Pa], a voltage pulse is periodically applied so that a single voltage is applied near the electron emitting portion. Any of crystalline graphite, polycrystalline graphite, and amorphous carbon,
Alternatively, the mixture is deposited to a thickness of 500 [Å] or less. However, it is needless to say that this condition is only an example and should be appropriately changed depending on the material and shape of the surface conduction electron-emitting device.

【0011】このような処理を行うことにより、通電フ
ォ−ミング直後と比較して、同じ印加電圧における放出
電流を典型的には100倍以上増加させることが可能で
ある。なお、通電活性化終了後には、真空雰囲気中の有
機物の分圧を低減させるのが望ましい。これを安定化工
程と呼ぶ。
By performing such processing, the emission current at the same applied voltage can typically be increased by 100 times or more as compared with immediately after the energization forming. It is desirable to reduce the partial pressure of the organic substance in the vacuum atmosphere after the completion of the activation. This is called a stabilization step.

【0012】上述の表面伝導型放出素子は、構造が単純
で製造も容易であることから、大面積にわたり多数の素
子を形成できる利点がある。そこで、例えば本出願人に
よる特開昭64−31332において開示されるよう
に、多数の素子を配列して駆動するための方法が研究さ
れている。
The above-described surface conduction electron-emitting device has an advantage that a large number of devices can be formed over a large area because the structure is simple and the production is easy. Therefore, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-31332 by the present applicant, a method for arranging and driving a large number of elements has been studied.

【0013】また、表面伝導型放出素子の応用について
は、例えば、画像表示装置、画像記録装置などの画像形
成装置や、荷電ビ−ム源等が研究されている。特に、画
像表示装置への応用としては、例えば本出願人によるU
SP5,066,883や特開平2−257551にお
いて開示されているように、表面伝導型放出素子と電子
の照射により発光する螢光体とを組み合わせて用いた画
像表示装置が研究されている。表面伝導型放出素子と螢
光体とを組み合わせて用いた画像表示装置は、従来の他
の方式の画像表示装置よりも優れた特性が期待されてい
る。例えば、近年普及してきた液晶表示装置と比較して
も、自発光型であるためバックライトを必要としない点
や、視野角が広い点が優れていると言える。
As for the application of the surface conduction electron-emitting device, for example, an image forming apparatus such as an image display device and an image recording device, and a charged beam source have been studied. In particular, as an application to an image display device, for example, U.S. Pat.
As disclosed in SP5, 066, 883 and JP-A-2-257551, an image display device using a combination of a surface conduction electron-emitting device and a phosphor which emits light by irradiation with electrons has been studied. An image display device using a combination of a surface conduction emission device and a phosphor is expected to have better characteristics than other conventional image display devices. For example, compared to a liquid crystal display device that has become widespread in recent years, it can be said that it is excellent in that it is a self-luminous type and does not require a backlight and has a wide viewing angle.

【0014】本出願人らは、上記従来技術に記載したも
のをはじめとして、様々な材料、製法、構造の表面伝導
型放出素子の製作を試みてきた。さらに、多数の表面伝
導型放出素子を配列したマルチビーム電子源、並びにこ
のマルチビーム電子源を応用した画像表示装置について
研究を行ってきた。
The present applicants have tried to manufacture surface conduction type emission devices having various materials, manufacturing methods and structures, including those described in the above-mentioned prior art. Furthermore, research has been conducted on a multi-beam electron source in which a large number of surface conduction electron-emitting devices are arranged, and on an image display device using the multi-beam electron source.

【0015】本出願人らは、例えば図17に示す電気的
な配線方法によるマルチ電子ビーム源の製作を試みてき
た。すなわち、表面伝導型放出素子を2次元的に多数個
配列し、これらの素子を図示のようにマトリクス状に配
線したマルチ電子ビーム源である。図中、4001は表
面伝導型放出素子を模式的に示したもの、4002は行
方向配線、4003は列方向配線である。行方向配線4
002および列方向配線4003は、実際には有限の電
気抵抗を有するものであるが、図においては配線抵抗4
004および4005として示されている。上述のよう
な配線方法を、単純マトリクス配線と呼ぶ。
The present applicants have attempted to produce a multi-electron beam source by, for example, an electrical wiring method shown in FIG. That is, it is a multi-electron beam source in which a large number of surface conduction emission devices are two-dimensionally arranged and these devices are wired in a matrix as shown in the figure. In the figure, 4001 schematically shows a surface conduction electron-emitting device, 4002 shows a row direction wiring, and 4003 shows a column direction wiring. Row direction wiring 4
002 and the column wiring 4003 actually have a finite electrical resistance, but in the drawing, the wiring resistance 4
004 and 4005. The above-described wiring method is called simple matrix wiring.

【0016】なお、図示の便宜上、6×6のマトリクス
で示しているが、マトリクスの規模はむろんこれに限っ
たわけではなく、例えば画像表示装置用のマルチ電子ビ
ーム源の場合には、所望の画像表示を行うのに足りるだ
けの素子を配列し配線するものである。
Although a 6 × 6 matrix is shown for convenience of illustration, the size of the matrix is not limited to this. For example, in the case of a multi-electron beam source for an image display device, a desired image is displayed. Elements that are sufficient for displaying are arranged and wired.

【0017】表面伝導型放出素子を単純マトリクス配線
したマルチ電子ビーム源においては、所望の電子ビーム
を出力させるため、行方向配線4002および列方向配
線4003に適宜の電気信号を印加する。例えば、マト
リクスの中の任意の1行の表面伝導型放出素子を駆動す
るには、選択する行の行方向配線4002には選択電圧
Vsを印加し、同時に非選択の行の行方向配線4002
には非選択電圧Vnsを印加する。これと同期して列方
向配線4003に電子ビームを出力するための駆動電圧
Veを印加する。この方法によれば、配線抵抗4004
および4005による電圧降下を無視すれば、選択する
行の表面伝導型放出素子には、Ve−Vsの電圧が印加
され、また非選択行の表面伝導型放出素子にはVe−V
nsの電圧が印加される。Ve、Vs、Vnsを適宜の
大きさの電圧にすれば選択する行の表面伝導型放出素子
だけから所望の強度の電子ビームが出力されるはずであ
り、また列方向配線の各々に異なる駆動電圧Veを印加
すれば、選択する行の素子の各々から異なる強度の電子
ビームが出力されるはずである。また、表面伝導型放出
素子の応答速度は高速であるため、駆動電圧Veを印加
する時間の長さを変えれば、電子ビ−ムが出力される時
間の長さも変えることができるはずである。したがっ
て、表面伝導型放出素子を単純マトリクス配線したマル
チ電子ビ−ム源にはいろいろな用途が考えられており、
例えば画像情報に応じた電圧信号を適宜印加すれば、画
像表示装置用の電子源として応用できるものと期待され
る。
In a multi-electron beam source in which surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix, appropriate electric signals are applied to the row-direction wiring 4002 and the column-direction wiring 4003 in order to output a desired electron beam. For example, to drive a surface conduction electron-emitting device of an arbitrary row in a matrix, a selection voltage Vs is applied to a row-directional wiring 4002 of a selected row, and at the same time, a row-directional wiring 4002 of a non-selected row is applied.
Is applied with a non-selection voltage Vns. In synchronization with this, a drive voltage Ve for outputting an electron beam is applied to the column wiring 4003. According to this method, the wiring resistance 4004
Neglecting the voltage drop caused by Ve and Vs, the voltage of Ve−Vs is applied to the surface conduction type emission element of the selected row, and Ve−V is applied to the surface conduction type emission element of the non-selected row.
A voltage of ns is applied. If Ve, Vs, and Vns are set to voltages of appropriate magnitudes, an electron beam of a desired intensity should be output only from the surface conduction electron-emitting device of the selected row, and a different driving voltage is applied to each of the column wirings. If Ve is applied, each of the elements in the selected row should output a different intensity electron beam. Further, since the response speed of the surface conduction electron-emitting device is high, if the length of time for applying the driving voltage Ve is changed, the length of time for outputting the electron beam can be changed. Therefore, various applications are considered for the multi-electron beam source in which the surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix.
For example, if a voltage signal corresponding to image information is appropriately applied, it is expected that the device can be applied as an electron source for an image display device.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】本出願人らは表面伝導
型放出素子の特性を改善するための研究を鋭意行った結
果、製造工程において通常の駆動に先立ち、予備駆動処
理を行うことが効果的であることを見い出した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have intensively studied to improve the characteristics of a surface conduction electron-emitting device, and as a result, it has been found that performing a preliminary driving process prior to a normal driving in a manufacturing process is effective. Was found to be a target.

【0019】すでに述べたように、表面伝導型放出素子
の電子放出部を形成する際には、通電フォーミング処理
後、通電活性化処理により電子放出部の近傍に炭素もし
くは炭素化合物を堆積せしめている。さらに通電活性化
終了後には、安定化工程を行うことが好ましい。この工
程は、真空容器内の有機物質を排気する工程である。真
空容器を排気する真空排気装置は、装置から発生するオ
イル等の有機物質が素子の特性に影響を与えないよう
に、オイルを使用しないものを用いるのが好ましい。具
体的には、磁気浮上型ターボ分子ポンプ、クライオポン
プ、ソープションポンプ、イオンポンプ等の真空排気装
置を挙げることが出来る。真空容器内の有機成分の分圧
は、上記の炭素及び炭素化合物がほぼ新たに堆積しない
分圧で1×10-6Pa以下が好ましく、さらには1×1
-8Pa以下が特に好ましい。さらに真空容器内を排気
するときには、真空容器全体を加熱して、真空容器内壁
や、電子放出素子に吸着した有機物質分子を排気しやす
くするのが好ましい。安定化工程により得られるこのよ
うな真空雰囲気中の有機物の分圧を低減した雰囲気で、
通常の駆動に先立って施される通電処理が予備駆動処理
である。
As described above, when forming the electron-emitting portion of the surface conduction electron-emitting device, carbon or a carbon compound is deposited near the electron-emitting portion by the activation process after the energization forming process. . Further, it is preferable to perform a stabilization step after the activation of the current supply. This step is a step of exhausting the organic substance in the vacuum container. It is preferable to use a vacuum-evacuation device that does not use oil so that an organic substance such as oil generated from the device does not affect the characteristics of the element. Specifically, a vacuum evacuation device such as a magnetic levitation type turbo molecular pump, a cryopump, a sorption pump, an ion pump and the like can be mentioned. The partial pressure of the organic component in the vacuum vessel is preferably 1 × 10 −6 Pa or less, more preferably 1 × 1 −6 Pa, at which the above-mentioned carbon and carbon compounds are hardly newly deposited.
It is particularly preferably 0-8 Pa or less. Further, when evacuating the inside of the vacuum vessel, it is preferable to heat the entire vacuum vessel to facilitate evacuating the organic substance molecules adsorbed on the inner wall of the vacuum vessel and the electron-emitting device. In an atmosphere in which the partial pressure of organic substances in such a vacuum atmosphere obtained by the stabilization process is reduced,
The energization process performed before the normal driving is the preliminary driving process.

【0020】表面伝導型放出素子において駆動中の電子
放出部近傍の電界強度は極めて高い。このため同一の駆
動電圧で長期間駆動すると、放出電子量が徐々に低下す
るという問題があった。高い電界強度に起因する電子放
出部近傍の経時的な変化が、放出電子量の低下となって
現れているものと思われる。
In the surface conduction electron-emitting device, the electric field intensity near the electron-emitting portion during driving is extremely high. For this reason, when driven for a long time at the same driving voltage, there is a problem that the amount of emitted electrons gradually decreases. It is considered that a change with time in the vicinity of the electron emitting portion due to the high electric field strength is caused by a decrease in the amount of emitted electrons.

【0021】この点について説明する。Fowlerと
Nordheimらによれば、FE型の電子放出素子か
ら放出される電流Iと、カソード−ゲート間に印加され
る電圧Vとの関係は
This will be described. According to Fowler and Nordheim et al., The relationship between the current I emitted from the FE type electron-emitting device and the voltage V applied between the cathode and the gate is:

【0022】[0022]

【数5】 で表される。上記式中、A並びにBは、電子放出部近傍
の材料並びに放出面積に依存する定数であり、βは電子
放出部近傍の形状に依存するパラメータであり、電圧V
にβを乗じた値が電界強度となる。ここで、FE型の電
子放出素子を例に取って説明するのは、表面伝導型の電
子放出素子においても同式を一対の電極間に印加した電
圧Vに対して、素子電流または放出電流Iと置き換える
だけで同様に表現されることを見出したためである。
(Equation 5) It is represented by In the above formula, A and B are constants depending on the material and the emission area near the electron emission portion, β is a parameter depending on the shape near the electron emission portion, and the voltage V
Multiplied by β is the electric field strength. Here, the FE type electron-emitting device will be described as an example. In the case of a surface conduction type electron-emitting device, the same equation is applied to a device current or an emission current I with respect to a voltage V applied between a pair of electrodes. This is because they have been found to be expressed in the same way simply by replacing.

【0023】図11のグラフにプロットされた電気特性
を直線(図11中の破線)で近似すると、印加電圧Vを
近似直線の傾きSで除した値に負符号を付けた値
When the electrical characteristics plotted in the graph of FIG. 11 are approximated by a straight line (broken line in FIG. 11), a value obtained by dividing the applied voltage V by the slope S of the approximate straight line has a minus sign.

【0024】[0024]

【数6】 が、カソード23とゲート24間に形成される電界の強
度に比例することが分かる。
(Equation 6) Is proportional to the intensity of the electric field formed between the cathode 23 and the gate 24.

【0025】更に、上記関係をもう少し一般化して表現
すると、放出電流Iと電圧Vとの関係を
Further, if the above relationship is expressed more generally, the relationship between the emission current I and the voltage V can be expressed as

【0026】[0026]

【数7】 なる関数で表現し、f’(V)を電圧Vにおけるf
(V)の微係数とする時、電圧Vにおける電界強度は
(式3)より、
(Equation 7) F ′ (V) is expressed by f
When the differential coefficient of (V) is obtained, the electric field strength at voltage V is given by (Equation 3).

【0027】[0027]

【数8】 と表され、(Equation 8) Is expressed as

【0028】[0028]

【数9】 に比例することがわかる。(Equation 9) It turns out that it is proportional to.

【0029】FE型電子放出素子における上記電界強度
の代表的な値は、およそ107 V/cmのオーダーと非
常に高い値である。この点もまた、表面伝導型電子放出
素子の一対の電極間に適用される。
A typical value of the electric field intensity in the FE type electron-emitting device is a very high value on the order of about 10 7 V / cm. This point is also applied between the pair of electrodes of the surface conduction electron-emitting device.

【0030】このように大きな電界強度のもとで、通常
の方法によって長期間駆動を継続していくと、強電界下
における構成部材の変化が不定期に発生し、放出電流値
が不安定になる。また、上記変化が不可逆的に起こる
と、放出電流の低下を伴うことが多く、画像表示装置に
おいては輝度の低下となって現れる。上述の駆動中の電
流の不安定性は、通常の駆動に先立ち行われる駆動方法
である予備駆動を行うことで低減することが出来る。
If driving is continued for a long period of time under a large electric field intensity by a usual method under the strong electric field, the structural members change irregularly under a strong electric field, and the emission current value becomes unstable. Become. In addition, when the above-mentioned change occurs irreversibly, the emission current is often reduced, and appears as a decrease in luminance in the image display device. The above-described instability of the current during driving can be reduced by performing preliminary driving, which is a driving method performed prior to normal driving.

【0031】本発明の予備駆動は、例えば以下のような
手順にて実施する。先ず、予備駆動を適用する電子放出
素子の、少なくとも二組の異なる駆動電圧における印加
電圧と放出電流、並びに、それぞれの印加電圧における
放出電流の微係数を求める。例えば、図12に示すよう
に、V1の印加電圧に対応する放出電流値I1と、V1
をdV1だけ微小変化させた時の放出電流の変化量dI
1から、放出電流の微係数I’1をI’1=dI1/d
V1より求め、同様に、V2に対応する放出電流値I2
と、微係数I’2を求める。
The preliminary driving according to the present invention is performed, for example, in the following procedure. First, the applied voltage and emission current of at least two different drive voltages of the electron-emitting device to which the preliminary driving is applied, and the derivative of the emission current at each applied voltage are determined. For example, as shown in FIG. 12, the emission current value I1 corresponding to the applied voltage of V1 and V1
The amount of change dI in the emission current when the value is slightly changed by dV1
From 1, the derivative I′1 of the emission current is calculated as I′1 = dI1 / d
V1 and similarly, the emission current value I2 corresponding to V2
And the differential coefficient I′2.

【0032】次に、各印加電圧V1、V2に対応する
(式7)中のf(V)をI1、I2とし、f’(V)を
I’1、I’2として、(式7)から求まる値を比較す
る。この時例えば、
Next, f (V) in (Equation 7) corresponding to each applied voltage V1 and V2 is defined as I1 and I2, and f '(V) is defined as I'1 and I'2 (Equation 7). Compare the values obtained from At this time, for example,

【0033】[0033]

【数10】 という関係が得られた場合、V1を予備駆動電圧(以
下、Vpreと表記する)として採用し、V2を通常の
駆動電圧(以下、Vdrvと表記する)として採用す
る。逆に、
(Equation 10) Is obtained, V1 is adopted as a preliminary drive voltage (hereinafter, referred to as Vpre), and V2 is adopted as a normal drive voltage (hereinafter, referred to as Vdrv). vice versa,

【0034】[0034]

【数11】 という関係が得られた場合、V2を予備駆動電圧(以
下、Vpreと表記する)として採用し、V1を通常の
駆動電圧(以下、Vdrvと表記する)として採用す
る。
[Equation 11] Is obtained, V2 is adopted as a preliminary driving voltage (hereinafter, referred to as Vpre), and V1 is employed as a normal driving voltage (hereinafter, referred to as Vdrv).

【0035】以上予備駆動は、駆動時における電界強度
が安定するまでの時間行うことが望ましいが、予備駆動
時の電界強度の相対的な変化率が5%以内に収まるまで
予備駆動を継続すれば、引き続き駆動を行っても電界強
度の変動率は5%程度以内に収まり、予備駆動の効果が
十分実現されることがわかった。従って、(式7)よ
り、f(V1)/{V・f’(V1)−2f(V1)}
の値の変化率が5%以内になるまでの時間予備駆動を実
施すればよい。
It is desirable that the preliminary driving be performed for a time until the electric field intensity during driving is stabilized. However, if the preliminary driving is continued until the relative change rate of the electric field intensity during the preliminary driving is within 5%. Further, it was found that the fluctuation rate of the electric field intensity was within about 5% even if the driving was continued, and the effect of the preliminary driving was sufficiently realized. Therefore, from (Equation 7), f (V1) / {V · f ′ (V1) −2f (V1)}
The preliminary driving may be performed until the rate of change of the value becomes within 5%.

【0036】上記予備駆動時には、予備駆動時における
電界強度の変化率をモニタしながら、電圧の印加を行う
とよい。予備駆動電圧にはパルス電圧を好適に用いるこ
とができ、例えばパルス休止時間(パルス電圧が印加さ
れてから、次のパルス電圧が印加されるまでの間)に電
界強度の変化率を算出しながら電圧の印加を行い、上記
変化率が5%以内になったところで電圧の印加を停止す
ればよい。
At the time of the preliminary driving, it is preferable to apply a voltage while monitoring the rate of change of the electric field intensity during the preliminary driving. A pulse voltage can be preferably used as the pre-driving voltage. For example, the change rate of the electric field intensity is calculated during the pulse pause time (between the application of the pulse voltage and the application of the next pulse voltage). The application of the voltage may be performed, and the application of the voltage may be stopped when the rate of change becomes within 5%.

【0037】予備駆動時の電界強度の変化率を見るため
には、例えば以下の方法を用いることができる。予備駆
動時に、予備駆動電圧V1とV1と微少電圧dV1異な
る電圧V12を連続して印加し、それぞれの電圧を印加
した時に流れる電流I1、I12、及びI1、I12の
差dI1を求める。ここで、f’(V1)=dI1/d
V1であり、また、(式5)よりf(V1)=I1であ
るから、上記f(V1)/{V・f’(V1)−2f
(V1)}は
The following method can be used to check the rate of change of the electric field intensity during the preliminary driving. During the pre-driving, the pre-driving voltages V1 and V1 and the voltage V12 different from the very small voltage dV1 are continuously applied, and the currents I1, I12 flowing when the respective voltages are applied and the difference dI1 between I1, I12 are obtained. Here, f ′ (V1) = dI1 / d
V1 and f (V1) = I1 from (Equation 5), the above-mentioned f (V1) / {V · f ′ (V1) −2f
(V1)}

【0038】[0038]

【数12】 となり、Epreの値の変化率を見ればよいことにな
る。
(Equation 12) It follows that the rate of change of the value of Epre can be seen.

【0039】予備駆動における電圧波形としては、図1
3(a)、(b)、(c)に示すような電圧波形を用い
ることができる。図13(a)は予備駆動電圧V1をT
1時間印加した直後に電圧V12までT12時間かけて
電圧が変化する電圧波形である。図13(b)は、予備
駆動電圧V1をT1時間印加した直後に電圧V12をT
12時間印加する電圧波形である。また、図13(c)
は、予備駆動電圧V1をT1時間印加した後にV12の
電圧をT12時間印加する電圧波形である。各印加電圧
V1、V12における電流値より、上記Epreの値の
変化率を求め、変化率が5%以内になるまで予備駆動を
実施すればよい。
FIG. 1 shows a voltage waveform in the preliminary driving.
Voltage waveforms as shown in 3 (a), (b) and (c) can be used. FIG. 13A shows that the preliminary drive voltage V1 is set to T.
This is a voltage waveform in which the voltage changes to voltage V12 over T12 hours immediately after application for one hour. FIG. 13B shows that the voltage V12 is changed to T just after the preliminary drive voltage V1 is applied for T1 time.
It is a voltage waveform applied for 12 hours. FIG. 13 (c)
Is a voltage waveform in which the voltage V12 is applied for T12 after the preliminary driving voltage V1 is applied for T1. From the current values at the applied voltages V1 and V12, the rate of change of the value of Epre is determined, and the preliminary driving may be performed until the rate of change is within 5%.

【0040】さらに、安定化工程を施した(式8)に該
当する電子放出素子においては、素子電流If、放出電
流Ieは素子電圧Vfに対してMI特性を有し、素子電
圧Vfに対して素子電流Ifおよび放出電流Ieが一義
的に決まる特性を有する。またこの時のIf−Vf特
性、Ie−Vf特性は、安定化工程後に印加された最大
電圧Vmaxに依存する。
Further, in the electron-emitting device corresponding to (Equation 8) subjected to the stabilization step, the device current If and the emission current Ie have MI characteristics with respect to the device voltage Vf, and have the MI characteristics with respect to the device voltage Vf. The element current If and the emission current Ie are uniquely determined. At this time, the If-Vf characteristics and the Ie-Vf characteristics depend on the maximum voltage Vmax applied after the stabilization step.

【0041】この電子放出素子のI−V特性について、
図14(a)、(b)を用いて説明する。図14(a)
はIfとVfの関係を示した図であり、図14(b)は
IeとVfとの関係を示した図である。
With respect to the IV characteristics of this electron-emitting device,
This will be described with reference to FIGS. FIG. 14 (a)
FIG. 14B is a diagram showing a relationship between If and Vf, and FIG. 14B is a diagram showing a relationship between Ie and Vf.

【0042】図14(a)、(b)において、 実線で示
されるのは、 最大電圧Vmax=Vmax1で駆動した
素子のI−V特性である。この素子をVmaxlより以
下の素子電圧で駆動する時には、この実線で示されるI
−V特性と同じI−V特性を有する。しかし、Vmax
l以上の電圧Vmax2で駆動すると、 素子は図中破線
で示されるように異なるI−V特性を示すようになり、
この素子をVmax2以下の素子電圧で駆動する時に
は、 この破線で示されるI−V特性と同じI−V特性を
有するようになる。これは、 電子放出素子に印加される
最大電圧Vmaxによって、 電子放出部の形状や電子放
出面積等が変化するためと考えられる。
In FIGS. 14A and 14B, the solid line shows the IV characteristics of the element driven at the maximum voltage Vmax = Vmax1. When this element is driven at an element voltage lower than Vmaxl, I shown by the solid line
It has the same IV characteristics as the -V characteristics. However, Vmax
When driven at a voltage Vmax2 of 1 or more, the device exhibits different IV characteristics as indicated by the broken line in the figure,
When this device is driven with a device voltage of Vmax2 or less, the device has the same IV characteristics as the IV characteristics shown by the broken line. This is probably because the maximum voltage Vmax applied to the electron-emitting device changes the shape of the electron-emitting portion, the electron-emitting area, and the like.

【0043】予備駆動工程において素子電圧V1なる電
圧で素子を予備駆動することにより、 電子放出素子は図
15に示すようにVmax=V1なる電圧によって一義
的に決められるlf−Vf特性およびIe−Vf特性を
有するようになる。
By pre-driving the element with the element voltage V1 in the pre-driving step, as shown in FIG. 15, the electron-emitting element has the lf-Vf characteristic and Ie-Vf uniquely determined by the voltage Vmax = V1. It has characteristics.

【0044】次に、 予備駆動終了時の素子電圧Vf1に
おける素子電流をIf1とし、 予備駆動により決められ
たIf−Vf特性より、If2≦0.7IflとなるV
f2を選択し駆動電圧とする(図15中のVf2)。こ
れは、If2≦0.7If1となる駆動電圧とすること
により、放出電流の低下を長時間抑制することができる
からである。
Next, the element current at the element voltage Vf1 at the end of the pre-driving is defined as If1, and from the If-Vf characteristic determined by the pre-driving, V is such that If2 ≦ 0.7Ifl.
f2 is selected as the drive voltage (Vf2 in FIG. 15). This is because a decrease in emission current can be suppressed for a long time by setting the drive voltage to satisfy If2 ≦ 0.7If1.

【0045】素子電圧Vf1で予備駆動を行った素子
に、 上述のようにIf2≦0.7Iflとなる駆動電圧
Vf2を印加しても、 電子放出部の形状や放出面積の変
化はほとんど生じないと考えられるため、 駆動時におい
ては、 予備駆動時とほぼ同じ放出面積を有しながら、 予
備駆動時よりも低い素子電流Ifで駆動することにな
る。そのため、 駆動時に電子放出部に流れる素子電流の
電流密度を下げることができ、電子放出部の熱的な劣化
を抑え、長時間安定に電子放出させることができるもの
と考えられる。
Even if the driving voltage Vf2 that satisfies If2 ≦ 0.7 Ifl is applied to the element that has been preliminarily driven at the element voltage Vf1 as described above, the shape of the electron emission portion and the emission area hardly change. Therefore, during driving, the device is driven with a lower device current If than during pre-driving, while having substantially the same emission area as during pre-driving. Therefore, it is considered that the current density of the device current flowing to the electron-emitting portion during driving can be reduced, the thermal deterioration of the electron-emitting portion can be suppressed, and electrons can be stably emitted for a long time.

【0046】上記予備駆動は、予備駆動後に予備駆動電
圧よりも低い電圧で駆動する際に、電子放出素子のIf
−Vf特性およびIe−Vf特性が変化しないために必
要な時間行えばよく、パルス幅が数μsec〜数十ms
ec、好ましくは10μsec〜10msecのパルス
電圧を数パルス〜数十パルス以上印加することにより、
行うことができる。
In the pre-driving, when driving at a voltage lower than the pre-driving voltage after the pre-driving, the
It may be performed for a time necessary for the -Vf characteristic and the Ie-Vf characteristic not to change, and the pulse width may be several μsec to several tens ms.
ec, preferably by applying a pulse voltage of 10 μsec to 10 msec several pulses to several tens of pulses or more,
It can be carried out.

【0047】なお、V1>V2なる電圧において、 (式
9)のような関係がある場合は、 予備駆動電圧Vpre
に対して通常の駆動電圧Vdrvが高い電圧となり、V
preの電圧にて変化させた電子放出部 (電子放出部A
と呼ぶ) に対しては、Vdrvの電圧を印加した時点で
更に高い電界強度がかかることになる。しかし、 この時
点での電子放出量を左右する主たる電子放出源は異なる
別の電子放出部 (電子放出部Bと呼ぶ) となっており、
全放出電流に占める電子放出部Aの寄与は小さい。この
ような関係であっても、 やはり予備駆動は有効であり、
予めVpreの電圧を印加することで、電子放出部Aの
大幅な変動要因を予め減少させ、その後のVdrvの駆
動電圧における破壊的な変動を未然に防ぐことが出来
る。
In the case where V1> V2, there is a relation such as (Equation 9), the preliminary driving voltage Vpre
The normal drive voltage Vdrv becomes higher than
The electron emission portion changed by the voltage of pre (electron emission portion A
) Is applied when the voltage of Vdrv is applied. However, the main electron emission source that determines the amount of electron emission at this point is a different electron emission portion (referred to as an electron emission portion B).
The contribution of the electron emission portion A to the total emission current is small. Even in such a relationship, the preliminary drive is still effective,
By applying the voltage of Vpre in advance, a significant variation factor of the electron emission portion A can be reduced in advance, and the subsequent destructive variation in the drive voltage of Vdrv can be prevented.

【0048】以上のように説明した予備駆動方法は、F
E型電子放出素子や表面伝導型電子放出素子以外の電子
放出素子、例えばMIM型の電子放出素子に対しても有
効である。
The pre-driving method described above is based on the F
It is also effective for electron-emitting devices other than the E-type electron-emitting device and the surface conduction electron-emitting device, for example, MIM-type electron-emitting devices.

【0049】多数の電子放出素子を単純マトリクス配線
したマルチ電子源のように複数の電子放出素子を有する
電子源を製造する際においても、駆動に先立って、電子
源を構成する全ての素子に対し予備駆動処理を行うこと
で安定した電子放出特性を有するマルチ電子源を実現す
ることができる。
When manufacturing an electron source having a plurality of electron-emitting devices, such as a multi-electron source in which a large number of electron-emitting devices are arranged in a simple matrix, all the elements constituting the electron source must be controlled before driving. By performing the preliminary driving process, a multi-electron source having stable electron emission characteristics can be realized.

【0050】本発明は、このような予備駆動処理を、複
数の電子放出素子を有する電子源に適用し、その電子源
が均一な電子放出特性を短いプロセス時間で得られるよ
うな製造装置及び方法を提供することを目的としてい
る。
According to the present invention, such a pre-driving process is applied to an electron source having a plurality of electron-emitting devices so that the electron source can obtain uniform electron-emitting characteristics in a short process time. It is intended to provide.

【0051】[0051]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明では、電子放出素子からの電子放出を伴う電圧
範囲における電流Iと電圧Vとの関係を
In order to achieve the above object, according to the present invention, the relationship between the current I and the voltage V in a voltage range involving emission of electrons from an electron-emitting device is defined.

【0052】[0052]

【数13】 なる関数で表現し、f’(V)を電圧Vにおけるf
(V)の微係数とする時、予めV1なる予備駆動電圧で
駆動を行った後に、
(Equation 13) F ′ (V) is expressed by f
When the differential coefficient of (V) is used, after driving in advance with the preliminary driving voltage of V1,

【0053】[0053]

【数14】 となる電圧V2にて通常の駆動を行う駆動法を、基板上
に複数の電子放出素子を有する電子源の製造工程で適用
する際、前記複数の素子を複数のグループに分け、各グ
ループごとに順次電圧印加を行い、前記電子源の全素子
に予備駆動電圧V1を印加する駆動するようにしてい
る。
[Equation 14] When applying a driving method of performing normal driving at a voltage V2 in a manufacturing process of an electron source having a plurality of electron-emitting devices on a substrate, the plurality of devices are divided into a plurality of groups, and each group is divided into a plurality of groups. A voltage is sequentially applied, and driving is performed by applying a pre-driving voltage V1 to all the elements of the electron source.

【0054】[0054]

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態にお
いて、前記駆動は、前記各グループごとに順次行われる
電圧印加を、複数回繰り返すことにより行う。また、複
数の電圧パルスよりなる電圧を前記各グループに印加す
るとともに、該複数の電圧パルス間に、別のグループへ
電圧パルスを印加して行う。さらに、各グループは、複
数の電子放出素子が共通配線されており、前記駆動は、
該共通配線の両端または片端から前記電圧を印加して行
う。
In a preferred embodiment of the present invention, the driving is performed by repeating a voltage application sequentially performed for each group a plurality of times. In addition, a voltage composed of a plurality of voltage pulses is applied to each group, and a voltage pulse is applied to another group between the plurality of voltage pulses. Further, in each group, a plurality of electron-emitting devices are commonly wired, and the driving is performed by:
The voltage is applied from both ends or one end of the common wiring.

【0055】前記複数の電子放出素子が、複数の行方向
配線と複数の列方向配線とでマトリクス状に結線された
ものである場合、単数または複数の行方向配線または列
配線ごとに電子放出素子のグループを設定する。あるい
は、単数または複数の行方向配線と列方向配線とで規定
されるブロックを前記電子放出素子のグループとして設
定する。
In the case where the plurality of electron-emitting devices are connected in a matrix by a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, the electron-emitting devices are provided for each of one or more row-direction wirings or column wirings. Set the group of. Alternatively, a block defined by one or a plurality of row-direction wirings and column-direction wirings is set as a group of the electron-emitting devices.

【0056】前記電圧V1は、前記電圧印加工程の後
に、前記電子放出素子を駆動すべく前記電圧V2を印加
した時に前記電子放出素子に流れる電流をIf2、前記
電圧印加工程において前記電子放出素子に前記電圧V1
を印加した時に前記電子放出素子に流れる電流をIfl
としたときに、If2≦0.7If1となる電圧に設定
することが好ましい。また、前記電圧V1での駆動は、
前記(式2)における左辺の値の変化率が5%以下にな
るまでの時間行うことが好ましい。
The voltage V1 is a current If2 which is applied to the electron-emitting device when the voltage V2 is applied to drive the electron-emitting device after the voltage applying step. The voltage V1
Is applied to the electron-emitting device when Ifl is applied.
In this case, it is preferable to set the voltage to satisfy If2 ≦ 0.7If1. The driving at the voltage V1 is as follows.
It is preferable to perform the process until the rate of change of the value on the left side in (Equation 2) becomes 5% or less.

【0057】[0057]

【作用】上記の構成によれば、グループ分けした複数の
電子放出素子を同時に選択しながら予備駆動することに
よって短時間で全素子を予備駆動することが可能にな
り、その結果特性の変動の少ない電子源が実現できる。
また、各グループに複数の電圧パルスよりなる電圧を印
加するとともに、この複数の電圧パルス間に、別のグル
ープへの電圧パルス印加を行うことにより、予備駆動時
間をさらに短縮することができる。これにより、沢山の
電子放出素子を構成したマルチ電子源を均一に、かつ、
短いプロセス時間で作製することが可能になる。
According to the above arrangement, by pre-driving while simultaneously selecting a plurality of grouped electron-emitting devices, all the devices can be pre-driven in a short time, and as a result, there is little variation in characteristics. An electron source can be realized.
Further, by applying a voltage composed of a plurality of voltage pulses to each group and applying a voltage pulse to another group between the plurality of voltage pulses, the pre-driving time can be further reduced. As a result, a multi-electron source comprising many electron-emitting devices can be uniformly and
It is possible to manufacture in a short process time.

【0058】[0058]

【実施例】以下、実施例に基づき本発明をさらに詳しく
説明する。 [実施例1]図1に、本実施例における表面伝導型電子
放出素子の製造装置である予備駆動装置の例を示す。図
1において、103は予備駆動電圧パルスを発生する予
備駆動電源部、102は予備駆動電源部103で発生し
た電圧パルスを必要なラインに印加するためのライン選
択部、104は予備駆動電源部103及びライン選択部
102を制御するための制御部、101は予備駆動され
るための、複数の表面伝導型電子放出素子がm行×n列
に単純マトリクス配線された電子源基板である。本実施
例において、基板101は、既にフォーミング処理及び
活性化処理が完了し、安定化工程にあるものとする。基
板101は不図示の真空排気装置に接続されており、1
×10-7Pa以下程度に真空排気されている。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. [Embodiment 1] FIG. 1 shows an example of a pre-driving apparatus which is an apparatus for manufacturing a surface conduction electron-emitting device in this embodiment. In FIG. 1, reference numeral 103 denotes a pre-driving power supply unit for generating a pre-driving voltage pulse, 102 denotes a line selection unit for applying a voltage pulse generated by the pre-driving power supply unit 103 to a required line, and 104 denotes a pre-driving power supply unit 103 A control unit 101 for controlling the line selection unit 102 is an electron source substrate in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices are preliminarily driven and arranged in a simple matrix of m rows × n columns. In the present embodiment, it is assumed that the forming process and the activation process of the substrate 101 have already been completed and the substrate 101 is in a stabilization process. The substrate 101 is connected to a vacuum exhaust device (not shown).
It is evacuated to about 10-7 Pa or less.

【0059】以下、図1を用いて本実施例における表面
伝導型電子放出素子の予備駆動方法について説明する。
予備駆動電源部103は予備駆動に必要な電圧パルスを
発生するためのものであり、本実施例において、該予備
駆動電源部103は上述した図2に示す電圧波形を出力
し、T1(パルス幅)=1msec、T2(パルス間
隔)=10msec、電圧波高値Vpreは17Vであ
った。この電圧波形および出力のオン/オフは、制御部
104により制御される。予備駆動電源部103から出
力された電圧波形は、ライン選択部102に入力され、
そこで選択されたラインに印加される。
Hereinafter, a method of pre-driving the surface conduction electron-emitting device in this embodiment will be described with reference to FIG.
The pre-driving power supply unit 103 is for generating a voltage pulse necessary for pre-driving. In the present embodiment, the pre-driving power supply unit 103 outputs the above-described voltage waveform shown in FIG. ) = 1 msec, T2 (pulse interval) = 10 msec, and the voltage peak value Vpre was 17V. The voltage waveform and the output on / off are controlled by the control unit 104. The voltage waveform output from the preliminary drive power supply unit 103 is input to the line selection unit 102,
There, it is applied to the selected line.

【0060】ここで、ライン選択部102について、図
3を参照して説明する。ライン選択部102は例えばリ
レーやアナログスイッチ等のスイッチで構成され、電子
源基板101がm×nのマトリクスであるとき、swx
1〜swxmのようにm個のスイッチが並列に並べら
れ、配線Sx1〜Sxmを介して電子源基板4の配線端
子Dx1〜Dxmに接続されている。また該スイッチs
wx1〜swxmは制御部104にて制御され、予備駆
動するべきラインに予備駆動電源部103からの電圧波
形が加わるように作動する。図3の例ではsw1が作動
することにより第1ラインが選択され、その他のライン
はグランド(GND)に接続されている様子を示す。
Here, the line selection unit 102 will be described with reference to FIG. The line selection unit 102 is configured by a switch such as a relay or an analog switch. When the electron source substrate 101 is an m × n matrix,
M switches such as 1 to swxm are arranged in parallel, and are connected to the wiring terminals Dx1 to Dxm of the electron source substrate 4 via the wirings Sx1 to Sxm. The switch s
wx1 to swxm are controlled by the control unit 104, and operate so that a voltage waveform from the pre-drive power supply unit 103 is applied to a line to be pre-driven. In the example of FIG. 3, the first line is selected by the operation of sw1, and the other lines are connected to the ground (GND).

【0061】次に、図4を用いて制御部104によるラ
イン選択部102の制御について説明する。図4は、ラ
イン選択部の切り替えの仕方を示したタイミングチャー
トである。まず一番上には電源部103の出力電圧波形
を示している。ここで示すとおり、電源部の出力はDC
電圧である。それより下は、ライン選択部102のスィ
ッチの切り替えタイミングである。ここで示したのは、
swx1 〜swx10のみであり、それ以外のスィッチ
は、すべてGnd側に落ちている。本図で、T1は1m
secである。まず最初にswx1がオンされ、T1後
にはGND側に戻るとともに今度はswx2がオンされ
る。これをswx10まで繰り返し、さらにこの後は最
初のswx1に戻る。このように、行選択を10行単位
で走査することで、T2はほぼ10msecになる。
Next, control of the line selection unit 102 by the control unit 104 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a timing chart showing how the line selection unit is switched. First, the output voltage waveform of the power supply unit 103 is shown at the top. As shown here, the output of the power supply is DC
Voltage. Below that is the switch timing of the line selection unit 102. What was shown here is
Only swx1 to swx10, and all other switches have fallen to the Gnd side. In this drawing, T1 is 1 m
sec. First, swx1 is turned on, and after T1, it returns to the GND side, and this time, swx2 is turned on. This is repeated up to swx10, and thereafter, the process returns to the first swx1. In this manner, by scanning the row in units of 10 rows, T2 becomes approximately 10 msec.

【0062】このようにして予備駆動を一定時間行なっ
た後、制御部104はライン選択部102を次の10行
走査の組みswx11〜swx20に切り替えて同じ駆
動を繰り返し、さらに同様にしてmのラインまで駆動を
して終了した。さてVpre=17Vを印加した表面伝
導型放出素子基板101から適当な素子を選んで、前述
の(式3)、(式6)により、素子の電界強度を用いて
算出したところ、βが4.5×106 (1/cm)と見
積もられた。16V印加時の電界強度F=β×Vpre
は、7.2×107 (V/cm) であった。そこで、そ
の後通常駆動電圧Vdrvとして、14.5Vで駆動を
行った。14.5Vにおけるβを測定したところ、βは
4.5×106 (1/cm)で、F=6.5×107
(V/cm) と見積もられた。
After performing the preliminary driving for a certain period of time in this way, the control unit 104 switches the line selection unit 102 to the next set of 10-row scans swx11 to swx20 and repeats the same driving. Driving until the end. Now, an appropriate element is selected from the surface conduction electron-emitting element substrate 101 to which Vpre = 17 V is applied, and is calculated using the electric field strength of the element according to (Equation 3) and (Equation 6). It was estimated to be 5 × 10 6 (1 / cm). Electric field strength when 16 V is applied F = β × Vpre
Was 7.2 × 10 7 (V / cm). Then, after that, driving was performed at 14.5 V as the normal driving voltage Vdrv. When β at 14.5 V was measured, β was 4.5 × 10 6 (1 / cm) and F = 6.5 × 10 7
(V / cm).

【0063】別の表面伝導型放出素子基板を用意し、予
備駆動を行わずに最初から駆動電圧を14. 5Vに設定
して駆動を行って、両者を比較した。すると予備駆動を
行った表面伝導型放出素子基板は、予備駆動を行わなか
った表面伝導型放出素子基板に比べて、駆動中の素子電
流並びに放出電流の減少と変動が少なく安定な電子放出
特性が得られた。
Another surface conduction electron-emitting device substrate was prepared, and driving was performed by setting the driving voltage to 14.5 V from the beginning without performing preliminary driving, and the two were compared. Then, the surface conduction electron-emitting device substrate that has been preliminarily driven has a stable electron emission characteristic with less decrease and fluctuation of the device current and the emission current during driving than the surface conduction electron-emitting device substrate that has not been preliminarily driven. Obtained.

【0064】この結果、各表面伝導型電子放出素子の経
時変化は実用上問題無いレベルに低減し、該表面伝導型
電子放出素子の複数を有する電子源を利用して製作した
画像表示装置(ディスプレイ装置)では高品位な画像が
得られた。ここで予備駆動に必要な時間は同じ条件で作
成された1素子のデータから求められ、1ライン毎に予
備駆動する方法と比べてほぼ10分の1の時間で予備駆
動処理が終了した。以上説明したように本実施例のよう
な予備駆動装置を用いて複数の表面伝導型電子放出素子
に対して予備駆動電圧をライン走査しながら印加するこ
とにより、予備駆動時間を短縮し、尚且つ、各素子の特
性を安定化することができる。
As a result, the time-dependent change of each surface conduction electron-emitting device is reduced to a level that causes no practical problem, and an image display device (display) manufactured using an electron source having a plurality of the surface conduction electron-emitting devices. (Device), a high-quality image was obtained. Here, the time required for the pre-driving is obtained from the data of one element prepared under the same conditions, and the pre-driving process is completed in about one tenth of the time required for the pre-driving for each line. As described above, the pre-driving time is reduced by applying the pre-driving voltage to the plurality of surface conduction electron-emitting devices while performing line scanning by using the pre-driving device as in the present embodiment. In addition, the characteristics of each element can be stabilized.

【0065】尚、本実施例は、電子源基板4が、複数の
表面伝導型電子放出素子が梯子型配線により接続されて
いてる電子源基板であっても同様に適用可能である。
The present embodiment can be similarly applied to the case where the electron source substrate 4 is an electron source substrate in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices are connected by ladder wiring.

【0066】[実施例2]図5に第2の実施例における
予備駆動装置の構成を示した。同図において、第1の実
施例における予備駆動装置の構成と同様の動作をする部
分については同じ番号を付与した。同図において、10
3は予備駆動電圧パルスを発生する第1の予備駆動電源
部、102は第1の予備駆動電源部103で発生した電
圧パルスを電子源基板101の配線端子Dx1、Dx
2、…、Dxmのうちの必要なラインに印加するための
第1のライン選択部、104は第1の予備駆動電源部1
03及びライン選択部102を制御するための第1の制
御部、106は予備駆動電圧パルスを発生する第2の予
備駆動電源部、105は第2の予備駆動電源部106で
発生した電圧パルスを電子源基板101の配線端子Dy
1、Dy2、…、Dynのうちの必要なラインに印加す
るための第2のライン選択部、107は第2の予備駆動
電源部106及び第2のライン選択部105を制御する
ための第2の制御部である。本実施例では、電源部10
3、ライン選択部102及び制御部104の動作は実施
例1と同じである。但し、電源部103の出力電圧10
5は、Vpreよりも小さい8.5Vである。一方、電
源部106は、−8.5Vで電源部103の出力電圧
8.5とともに印加した時にVpre=17Vとなるよ
うな電圧である。すなわち、電源部103と電源部10
6とで予備駆動電圧Vpreを振り分けた電位が設定さ
れる。
[Embodiment 2] FIG. 5 shows the configuration of a preliminary driving device according to a second embodiment. In the figure, the same numbers are given to the parts that operate in the same manner as the configuration of the preliminary driving device in the first embodiment. In the figure, 10
Reference numeral 3 denotes a first pre-driving power supply for generating pre-driving voltage pulses, and reference numeral 102 denotes a voltage pulse generated by the first pre-driving power supply 103 for wiring terminals Dx1 and Dx of the electron source substrate 101.
,..., Dxm, a first line selection unit 104 for applying to a required line,
03, a first control unit for controlling the line selection unit 102, a second pre-drive power supply unit 106 that generates a pre-drive voltage pulse, and 105 a voltage pulse generated by the second pre-drive power supply unit 106. Wiring terminal Dy of electron source substrate 101
, Dyn2,..., Dyn, a second line selection unit 107 for applying to a required line, and a second line selection unit 107 for controlling the second preliminary driving power supply unit 106 and the second line selection unit 105. Of the control unit. In this embodiment, the power supply 10
3. The operations of the line selection unit 102 and the control unit 104 are the same as in the first embodiment. However, the output voltage of the power supply unit 103 is 10
5 is 8.5V which is smaller than Vpre. On the other hand, the power supply unit 106 has a voltage such that Vpre = 17 V when applied at −8.5 V together with the output voltage 8.5 of the power supply unit 103. That is, the power supply unit 103 and the power supply unit 10
6, the potential obtained by dividing the pre-driving voltage Vpre is set.

【0067】ここで、ライン選択部105について、図
6を参照して説明する。ライン選択部105は例えばリ
レーやアナログスイッチ等のスイッチで構成され、sw
y1〜swynのようにn個のスイッチが並列に並べら
れ、配線Sy1〜Synを介して電子源基板101の配
線端子Dy1〜Dynに接続されている。また該スイッ
チswy1〜swynは制御部107にて制御され、電
源部103の出力が配線端子Dy1、Dx2、…、Dx
mのいずれかに印加された時に同期して、電源部106
の出力をすべての配線端子Dy1、Dy2、…、Dyn
に印加する様に制御部107の司令に基づいて動作す
る。
Here, the line selection unit 105 will be described with reference to FIG. The line selection unit 105 is configured by a switch such as a relay and an analog switch, for example.
N switches like y1 to swyn are arranged in parallel, and connected to wiring terminals Dy1 to Dyn of the electron source substrate 101 via wirings Sy1 to Syn. The switches swy1 to swyn are controlled by the control unit 107, and the output of the power supply unit 103 is output to the wiring terminals Dy1, Dx2,.
m, the power supply unit 106
Are output to all the wiring terminals Dy1, Dy2,.
Is operated based on the command of the control unit 107.

【0068】図7は、ライン選択部の切り替えの仕方を
示したタイミングチャートである。同図(a)はライン
選択部102の動作を示しており、実施例1の動作と同
じである。一方、同(b)はライン選択部105の動作
を示している。一番上に電源部106の出力電圧波形を
示している。ここで示すとおり、電源部の出力は−8.
5VのDC電圧である。それより下は、ライン選択部1
05のswの切り替えタイミングである。swy1 〜s
wynは、Dx1からDxmのいずれか一つが電源部1
03に接続されている時にオンされるように制御され
る。したがって、ライン選択部105は予備駆動動作中
は連続してオン状態になるように制御される。本図で、
T1は実施例1のT1と同じ1msecである。ライン
選択部102では、まず最初にswx1がオンされ、T
1後にはGND側に戻るとともに今度はswx2がオン
される。これをswx10まで繰り返し、さらにこの後
は最初のswx1に戻る。このように、選択を10行単
位で走査することで、T2は結果的に実施例1と同様に
ほぼ10msecになる。
FIG. 7 is a timing chart showing how to switch the line selection unit. FIG. 7A shows the operation of the line selection unit 102, which is the same as the operation of the first embodiment. 2B shows the operation of the line selection unit 105. The output voltage waveform of the power supply unit 106 is shown at the top. As shown here, the output of the power supply unit is -8.
5V DC voltage. Below that, line selection unit 1
This is the switching timing of sw of 05. swy1 to s
wyn indicates that any one of Dx1 to Dxm is the power supply unit 1
03 is controlled to be turned on when connected. Therefore, the line selection unit 105 is controlled to be continuously turned on during the pre-driving operation. In this figure,
T1 is 1 msec, which is the same as T1 of the first embodiment. In the line selection unit 102, first, swx1 is turned on, and Tx
After one, the process returns to the GND side and the swx2 is turned on. This is repeated up to swx10, and thereafter, the process returns to the first swx1. In this way, by scanning the selection in units of 10 rows, T2 becomes approximately 10 msec as in the first embodiment.

【0069】このようにして予備駆動を一定時間行なっ
た後、制御部104はライン選択部102を次の10行
走査の組みswx11〜swx20に切り替えて同じ駆
動を繰り返し、さらに同様にしてmのラインまで駆動を
して終了した。この結果、各表面伝導型電子放出素子の
経時変化は実用上問題無いレベルに低減し、該表面伝導
型電子放出素子の複数を有する電子源を利用して製作し
た画像表示装置(ディスプレイ装置)では高品位な画像
が得られた。ここで予備駆動に必要な時間は同じ条件で
作成された1素子のデータから求められ、1ライン毎に
予備駆動する方法と比べてほぼ20分の1の時間で予備
駆動処理が終了した。
After performing the preliminary driving for a certain period of time in this manner, the control unit 104 switches the line selecting unit 102 to the next set of 10-row scans swx11 to swx20 and repeats the same driving, and further, in the same manner, for the m-th line. Driving until the end. As a result, the time-dependent change of each surface conduction electron-emitting device is reduced to a level that does not cause a problem in practical use, and in an image display device (display device) manufactured using an electron source having a plurality of the surface conduction electron-emitting devices. High quality images were obtained. Here, the time required for the pre-driving is obtained from the data of one element prepared under the same conditions, and the pre-driving process is completed in about 1/20 of the time required for the pre-driving for each line.

【0070】この実施例では、電源部103と電源部1
06の出力電圧をそれぞれ8.5Vと−8.5とした
が、この二つの電位の差がVpre電圧である17Vと
なる組み合せであればいずれの値でもよい。
In this embodiment, the power supply unit 103 and the power supply unit 1
Although the output voltage of the reference voltage 06 is 8.5 V and −8.5, respectively, any value may be used as long as the difference between the two potentials is 17 V which is the Vpre voltage.

【0071】以上説明したように本実施例のような予備
駆動装置を用いて複数の表面伝導型電子放出素子に対し
て予備駆動電圧をライン走査しながら印加することによ
り、予備駆動時間を短縮し、尚且つ、各素子の特性を安
定化することができる。尚、本実施例は、実施例1と同
様に電子源基板101が、複数の表面伝導型電子放出素
子が梯子型配線により接続されていてる電子源基板であ
っても同様に適用可能である。
As described above, the pre-driving time is shortened by applying the pre-driving voltage to the plurality of surface conduction electron-emitting devices while scanning the lines using the pre-driving device as in the present embodiment. In addition, the characteristics of each element can be stabilized. Note that, like the first embodiment, the present embodiment can be similarly applied even when the electron source substrate 101 is an electron source substrate in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices are connected by a ladder-type wiring.

【0072】[実施例3]本実施例の構成は、図5に示
した第2の実施例における予備駆動装置の構成と同様で
ある。本実施例では、電源部103および電源部106
の出力電圧は実施例2と同様に、それぞれ8.5Vと−
8.5Vである。制御部104によるライン選択部10
2の動作及び、制御部107によるライン選択部105
の動作のみが実施例2と異なるため以下にその動作を説
明する。本実施例では、3行100列のブロック領域の
素子を単位として駆動選択する動作がなされる。仮に、
mは30で割り切れるライン数、nは100で割り切れ
る列数とする。
[Embodiment 3] The configuration of this embodiment is the same as the configuration of the pre-driving device in the second embodiment shown in FIG. In this embodiment, the power supply unit 103 and the power supply unit 106
Output voltages of 8.5 V and −
8.5V. Line selection unit 10 by control unit 104
2 and the line selection unit 105 by the control unit 107
Only the operation is different from that of the second embodiment, and the operation will be described below. In the present embodiment, an operation of driving and selecting is performed in units of elements in a block region of 3 rows and 100 columns. what if,
m is the number of lines divisible by 30, and n is the number of columns divisible by 100.

【0073】始めに、ライン選択部102の動作につい
て、図8を参照して説明する。ライン選択部102は、
例えばリレーやアナログスイッチ等のスイッチで構成さ
れ、swx1〜swxmのようにm個のスイッチが並列
に並べられ、配線Sx1〜Sxmを介して電子源基板1
01の配線端子Dx1〜Dxmに接続されている。また
該スイッチswx1〜swxmは制御部104にて制御
され、電源部103の出力が配線端子Dx1〜Dxmの
うち一部の配線端子Dx1〜Dx3に接続し、残りの配
線端子Dx4、Dx5、…、DxmにはGndが印加す
る様に制御部104の司令に基づいて動作する。
First, the operation of the line selection unit 102 will be described with reference to FIG. The line selection unit 102
For example, a switch such as a relay or an analog switch is configured, and m switches such as swx1 to swxm are arranged in parallel, and the electron source substrate 1 is connected via wirings Sx1 to Sxm.
01 wiring terminals Dx1 to Dxm. The switches swx1 to swxm are controlled by the control unit 104, and the output of the power supply unit 103 is connected to some of the wiring terminals Dx1 to Dx3 among the wiring terminals Dx1 to Dxm, and the remaining wiring terminals Dx4, Dx5,. Dxm operates based on the command of the control unit 104 so that Gnd is applied.

【0074】次に、ライン選択部105の動作につい
て、図9を参照して説明する。ライン選択部105は、
例えばリレーやアナログスイッチ等のスイッチで構成さ
れ、swy1〜swynのようにn個のスイッチが並列
に並べられ、配線Sy1〜Synを介して電子源基板1
01の配線端子Dy1〜Dynに接続されている。また
該スイッチswy1〜swymは制御部107にて制御
され、電源部103の出力が配線端子Dx1、Dx2、
…、Dxmのいずれかに印加された時に同期して、電源
部106の出力を配線端子Dy1〜Dynのうち一部の
配線端子Dy1〜Dy100に接続し、残りの配線端子
Dy101、Dy102、…、DynにはGndが印加
する様に制御部107の司令に基づいて動作する。
Next, the operation of the line selection unit 105 will be described with reference to FIG. The line selection unit 105
For example, it is configured by switches such as relays and analog switches, and n switches such as swy1 to swyn are arranged in parallel, and the electron source substrate 1 is connected via wirings Sy1 to Syn.
01 wiring terminals Dy1 to Dyn. The switches swy1 to swym are controlled by the control unit 107, and the output of the power supply unit 103 is connected to the wiring terminals Dx1, Dx2,
, Dxm, the output of the power supply unit 106 is connected to some of the wiring terminals Dy1 to Dy100 among the wiring terminals Dy1 to Dyn, and the remaining wiring terminals Dy101, Dy102,. It operates based on the command of the control unit 107 so that Gnd is applied to Dyn.

【0075】図10は、ライン選択部の切り替えの仕方
を示したタイミングチャートである。同図(a)はライ
ン選択部102の動作を、同(b)はライン選択部10
5の動作を示している。同図(a)において、一番上に
電源部103の出力電圧波形を示している。ここで示す
とおり、電源部の出力は8.5VのDC電圧である。そ
れより下は、ライン選択部102のswの切り替えタイ
ミングである。swx1 〜swxmは、電源部103の
出力を配線端子Dx1〜Dxmのうち一部の配線端子D
x1〜Dx3に接続されるようにswx1〜swx3が
オンし、残りの配線端子Dx4、Dx5、…、Dxmに
はGndが印加する様にswx4〜swxmがGnd状
態になる。
FIG. 10 is a timing chart showing how to switch the line selection unit. 10A shows the operation of the line selection unit 102, and FIG.
5 shows the operation of FIG. In FIG. 5A, the output voltage waveform of the power supply unit 103 is shown at the top. As shown here, the output of the power supply is a DC voltage of 8.5V. Below this is the switching timing of the sw of the line selection unit 102. swx1 to swxm connect the output of the power supply unit 103 to some of the wiring terminals Dx1 to Dxm.
swx1 to swx3 are turned on so as to be connected to x1 to Dx3, and swx4 to swxm enter the Gnd state so that Gnd is applied to the remaining wiring terminals Dx4, Dx5,..., Dxm.

【0076】また、同図(b)において、一番上に電源
部106の出力電圧波形を示している。ここで示すとお
り、電源部の出力は−8.5VのDC電圧である。それ
より下は、ライン選択部105のswの切り替えタイミ
ングである。swy1 〜swynは、電源部103の出
力が配線端子Dx1、Dx2、…、Dxmのいずれかに
印加された時に同期して、電源部106の出力を配線端
子Dy1〜Dynのうち一部の配線端子Dy1〜Dy1
00に接続されるようにswy1〜swy100がオン
し、残りの配線端子Dy101、Dy102、…、Dy
nにはGndが印加する様にswy101〜swynが
Gnd状態になる。
In FIG. 10B, the output voltage waveform of the power supply unit 106 is shown at the top. As shown here, the output of the power supply is a DC voltage of -8.5V. Below that is the switching timing of sw of the line selection unit 105. swy1 to swyn synchronize the output of the power supply unit 103 to any of the wiring terminals Dx1, Dx2,..., Dxm, and synchronize the output of the power supply unit 106 with some of the wiring terminals Dy1 to Dyn. Dy1 to Dy1
, And the remaining wiring terminals Dy101, Dy102,..., Dy are turned on.
Swy101 to swyn enter the Gnd state so that Gnd is applied to n.

【0077】すなわち、3行100列の素子がVpre
電圧の17Vが印加されることになる。本図で、T1は
実施例1のT1と同じ1msecである。ライン選択部
102では、まず最初にswx1〜swx3が同時にオ
ンされ、T1後にはGND側に戻るとともに今度はsw
x4〜swx6が同時にオンされる。これをswx30
まで繰り返し、さらにこの後は最初のswx1〜swx
3に戻る。このように、選択を30行単位で走査するこ
とで、T2は結果的に実施例1と同様にほぼ10mse
cになる。
That is, the element of 3 rows and 100 columns is Vpre
A voltage of 17 V will be applied. In this figure, T1 is 1 msec, which is the same as T1 of the first embodiment. In the line selection unit 102, first, swx1 to swx3 are turned on at the same time, and after T1, the line returns to the GND side and the sw
x4 to swx6 are simultaneously turned on. This is swx30
Until the first swx1 to swx
Return to 3. In this manner, by scanning the selection in units of 30 rows, T2 is consequently substantially 10 msec as in the first embodiment.
c.

【0078】このようにして予備駆動を一定時間行なっ
た後、制御部107はライン選択部105を次の100
列の組みswy101〜swx200に切り替えて同じ
駆動を繰り返し、さらに同様にしてnの列まで駆動をし
て終了した。
After performing the preliminary driving for a predetermined time in this manner, the control unit 107 causes the line selecting unit 105 to execute the next 100
The same driving was repeated by switching to the row combination swy101 to swx200, and the driving was similarly performed up to the row n, and the processing was completed.

【0079】そして、以上説明した3ライン同時の予備
駆動を一定時間行なった後、制御部104はライン選択
部102を次の30行走査の組みswx31〜swx6
0に切り替えて同じ駆動を繰り返し、さらに同様にして
mのラインまで駆動をして終了した。
After performing the above-described three-line simultaneous pre-driving for a certain period of time, the control unit 104 causes the line selection unit 102 to perform the next 30-row scan sets swx31 to swx6.
The driving was switched to 0, and the same driving was repeated. Further, the driving was performed up to the line of m in the same manner and the operation was completed.

【0080】この結果、各表面伝導型電子放出素子の経
時変化は実用上問題無いレベルに低減し、該表面伝導型
電子放出素子の複数を有する電子源を利用して製作した
画像表示装置(ディスプレイ装置)では高品位な画像が
得られた。
As a result, the time-dependent change of each surface conduction electron-emitting device is reduced to a level that does not cause a practical problem, and an image display device (display) manufactured using an electron source having a plurality of the surface conduction electron-emitting devices is used. (Device), a high-quality image was obtained.

【0081】以上説明したように本実施例のような予備
駆動装置を用いて複数の表面伝導型電子放出素子に対し
て予備駆動電圧をブロック走査しながら印加することに
より、ブロックごとの駆動処理を順に続ける場合に比
べ、予備駆動時間を短縮し、尚且つ、各素子の特性を安
定化することができる。
As described above, by applying the pre-driving voltage to a plurality of surface conduction electron-emitting devices while performing block scanning by using the pre-driving device as in this embodiment, the driving processing for each block can be performed. Compared to the case of sequentially continuing, the pre-driving time can be shortened and the characteristics of each element can be stabilized.

【0082】尚、本実施例では、複数の素子を3 行10
0列の複数のグループに分け、グループ単位で走査しな
がら予備駆動を行う例について説明したが、グループの
分け方はこれに限らず、本発明の効果が得られる範囲に
おいてどのような分け方を用いても良い。
In this embodiment, a plurality of elements are arranged in three rows and ten rows.
The example in which the pre-driving is performed while scanning the data in groups of a plurality of groups and performing scanning in group units has been described. However, the grouping method is not limited to this, and any grouping method may be used as long as the effects of the present invention can be obtained. May be used.

【0083】尚、本実施例は、実施例1、2と同様に電
子源基板101が、複数の表面伝導型電子放出素子が梯
子型配線により接続されていてる電子源基板であっても
同様に適用可能である。
In the present embodiment, similarly to the first and second embodiments, even if the electron source substrate 101 is an electron source substrate in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices are connected by a ladder wiring. Applicable.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、表
面伝導型放出素子をマトリックス状または梯子型に配線
した表面伝導型放出素子基板を予備駆動により製造する
際に、多数の表面伝導型放出素子を単純マトリクス配線
または梯子型配線した電子源が均一な電子放出特性を得
られるような予備駆動を短いプロセス時間で実現できる
ようになった。これにより、この電子源基板を用いて輝
度または濃度のばらつきが少ない高品位な画像表示装置
が実現された。
As described above, according to the present invention, when a surface conduction type emission device substrate in which surface conduction type emission devices are wired in a matrix or ladder shape is manufactured by preliminary driving, a large number of surface conduction type emission devices are manufactured. Pre-driving can be realized in a short process time so that an electron source in which the emission elements are arranged in a simple matrix wiring or a ladder-type wiring can obtain uniform electron emission characteristics. As a result, a high-quality image display device with less variation in luminance or density using this electron source substrate has been realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例に係る表面伝導型放出
素子の予備駆動装置の例を示す配線図である。
FIG. 1 is a wiring diagram showing an example of a preliminary driving device for a surface conduction electron-emitting device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 第1の実施例で使用した予備駆動信号の電圧
波形図である。
FIG. 2 is a voltage waveform diagram of a pre-driving signal used in the first embodiment.

【図3】 第1の実施例で使用したライン選択回路の回
路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a line selection circuit used in the first embodiment.

【図4】 図3のライン選択回路の動作を説明するタイ
ミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart illustrating the operation of the line selection circuit of FIG. 3;

【図5】 本発明の第2及び第3の実施例に係る表面伝
導型放出素子の予備駆動装置の例を示す配線図である。
FIG. 5 is a wiring diagram showing an example of a pre-driving device of a surface conduction electron-emitting device according to second and third embodiments of the present invention.

【図6】 第2の実施例で使用したライン選択回路の回
路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram of a line selection circuit used in the second embodiment.

【図7】 図6のライン選択回路の動作を説明するタイ
ミングチャートである。
FIG. 7 is a timing chart illustrating the operation of the line selection circuit of FIG. 6;

【図8】 第3の実施例で使用した第1のライン選択回
路の回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram of a first line selection circuit used in the third embodiment.

【図9】 第3の実施例で使用した第2のライン選択回
路の回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram of a second line selection circuit used in the third embodiment.

【図10】 図8及び図9のライン選択回路の動作を説
明するタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart illustrating an operation of the line selection circuit of FIGS. 8 and 9;

【図11】 本発明の適用が可能な電子放出素子の電気
特性の一例を示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing an example of electric characteristics of an electron-emitting device to which the present invention can be applied.

【図12】 図11の目盛りを変更して表した電気特性
図である。
FIG. 12 is an electrical characteristic diagram obtained by changing the scale of FIG. 11;

【図13】 本発明の実施例に係る予備駆動に使用され
る電圧波形を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing voltage waveforms used for pre-driving according to the embodiment of the present invention.

【図14】 本発明の実施例に係る電子放出素子につい
ての、放出電流Ie及び素子電流Ifと素子電圧Vfの
関係の一例を示すグラフである。
FIG. 14 is a graph showing an example of the relationship between the emission current Ie, the device current If, and the device voltage Vf for the electron-emitting device according to the example of the present invention.

【図15】 本発明の実施例に係る電子放出素子につい
ての、放出電流Ie及び素子電流Ifと素子電圧Vfの
関係の一例を示すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing an example of the relationship between the emission current Ie, the device current If, and the device voltage Vf for the electron-emitting device according to the example of the present invention.

【図16】 表面伝導型放出素子の概略平面図である。FIG. 16 is a schematic plan view of a surface conduction electron-emitting device.

【図17】 単純マトリクス配置の電子源の概略図であ
る。
FIG. 17 is a schematic view of an electron source having a simple matrix arrangement.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101:電子源基板、102,105:ライン選択部、
103,106:予備駆動電源部、104,107:制
御部。
101: electron source substrate, 102, 105: line selection unit,
103, 106: preliminary drive power supply unit, 104, 107: control unit.

Claims (40)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子放出素子からの電子放出を伴う電圧
範囲における電流Iと電圧Vとの関係を 【数1】 なる関数で表現し、f’(V)を電圧Vにおけるf
(V)の微係数とする時、予めV1なる予備駆動電圧で
駆動を行った後に、 【数2】 となる電圧V2にて通常の駆動を行う駆動法を、基板上
に複数の電子放出素子を有する電子源に適用するための
製造装置であって、 前記複数の素子を複数のグループに分け、各グループご
とに順次電圧印加を行い、前記電子源の全素子に予備駆
動電圧V1を印加する駆動手段を有することを特徴とす
る電子源の製造装置。
1. The relationship between a current I and a voltage V in a voltage range involving electron emission from an electron-emitting device is given by F ′ (V) is expressed by f
When the differential coefficient of (V) is obtained, after driving in advance with the preliminary driving voltage of V1, the following equation is obtained. A manufacturing method for applying a driving method of performing a normal driving at a voltage V2 to an electron source having a plurality of electron-emitting devices on a substrate, wherein the plurality of devices are divided into a plurality of groups, An apparatus for manufacturing an electron source, comprising: driving means for sequentially applying a voltage for each group and applying a preliminary driving voltage V1 to all elements of the electron source.
【請求項2】 前記駆動手段は、前記各グループごとに
順次行われる電圧印加を、複数回繰り返すことを特徴と
する請求項1に記載の電子源の製造装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the driving unit repeats the voltage application sequentially performed for each of the groups a plurality of times.
【請求項3】 前記駆動手段は、複数の電圧パルスより
なる電圧を前記各グループに印加するとともに、該複数
の電圧パルス間に、別のグループへの電圧パルスの印加
を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の電子
源の製造装置。
3. The driving unit applies a voltage composed of a plurality of voltage pulses to each group, and applies a voltage pulse to another group between the plurality of voltage pulses. An apparatus for manufacturing an electron source according to claim 1.
【請求項4】 前記各グループは、複数の電子放出素子
が共通配線されており、前記駆動手段は、前記電圧印加
を該共通配線の両端から行うことを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の電子源の製造装置。
4. The device according to claim 1, wherein a plurality of electron-emitting devices are commonly connected to each group, and the driving unit applies the voltage from both ends of the common line.
4. The apparatus for manufacturing an electron source according to any one of claims 3 to 3.
【請求項5】 前記各グループは、複数の電子放出素子
が共通配線されており、前記駆動手段は、前記電圧印加
を該共通配線の片端から行うことを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の電子源の製造装置。
5. The device according to claim 1, wherein a plurality of electron-emitting devices are commonly connected to each group, and the driving unit applies the voltage from one end of the common lines.
4. The apparatus for manufacturing an electron source according to any one of claims 3 to 3.
【請求項6】 前記複数の電子放出素子は、複数の行方
向配線と複数の列方向配線とで、マトリクス状に結線さ
れており、前記駆動手段は、前記複数の電子放出素子へ
の前記電圧印加を、前記各行方向配線ごとまたは前記各
列配線ごとに順次行うようにしたことを特徴とする請求
項1に記載の電子源の製造装置。
6. The plurality of electron-emitting devices are connected in a matrix by a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, and the driving unit controls the voltage applied to the plurality of electron-emitting devices. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the application is sequentially performed for each of the row wirings or each of the column wirings.
【請求項7】 前記駆動手段は、前記各行方向配線ごと
または前記列方向配線ごとに順次行われる電圧印加を、
複数回繰り返すことを特徴とする請求項6に記載の電子
源の製造装置。
7. The driving unit may apply a voltage applied sequentially to each of the row wirings or each of the column wirings.
The apparatus for manufacturing an electron source according to claim 6, wherein the apparatus is repeated a plurality of times.
【請求項8】 前記駆動手段は、前記各行方向配線また
は前記列方向配線に複数の電圧パルスよりなる電圧を印
加し、該複数の電圧パルス間に、別の行方向配線または
列方向配線への電圧パルスの印加を行うことを特徴とす
る請求項6または7に記載の電子源の製造装置。
8. The driving means applies a voltage composed of a plurality of voltage pulses to each of the row-direction wirings or the column-direction wirings, and applies a voltage to another row-direction wiring or a column-direction wiring between the plurality of voltage pulses. 8. The apparatus for manufacturing an electron source according to claim 6, wherein a voltage pulse is applied.
【請求項9】 前記駆動手段は、前記電圧印加を該行方
向配線または前記列方向配線の両端から行うことを特徴
とする請求項6〜8のいずれかに記載の電子源の製造装
置。
9. The electron source manufacturing apparatus according to claim 6, wherein said driving means applies said voltage from both ends of said row direction wiring or said column direction wiring.
【請求項10】 前記駆動手段は、前記電圧印加を前記
行方向配線または前記列方向配線の片端から行うことを
特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の電子源の製
造装置。
10. The apparatus according to claim 6, wherein the driving unit applies the voltage from one end of the row direction wiring or the column direction wiring.
【請求項11】 前記複数の電子放出素子は、複数の行
方向配線と複数の列方向配線とで、マトリクス状に結線
されており、前記駆動手段は、前記複数の電子放出素子
への前記電圧印加を、前記行方向配線の複数行ごと、か
つ、前記列方向配線の複数列ごとをグループ単位とし
て、これを順次走査して行うようにしたことを特徴とす
る請求項1に記載の電子源の製造装置。
11. The plurality of electron-emitting devices are connected in a matrix by a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, and the driving unit controls the voltage applied to the plurality of electron-emitting devices. 2. The electron source according to claim 1, wherein the application is performed by sequentially scanning the plurality of rows of the row wirings and the plurality of columns of the column wirings as a group unit. Manufacturing equipment.
【請求項12】 前記駆動手段は、前記グループごとに
順次行われる電圧印加を、複数回繰り返すことを特徴と
する請求項11に記載の電子源の製造装置。
12. The apparatus according to claim 11, wherein the driving unit repeats voltage application sequentially performed for each group a plurality of times.
【請求項13】 前記駆動手段は、前記グループごとに
複数の電圧パルスよりなる電圧を印加し、該複数の電圧
パルス間に、別の前記グループへの電圧パルスの印加を
行うことを特徴とする請求項11または12に記載の電
子源の製造装置。
13. The method according to claim 12, wherein the driving unit applies a voltage composed of a plurality of voltage pulses for each of the groups, and applies a voltage pulse to another of the groups between the plurality of voltage pulses. An apparatus for manufacturing an electron source according to claim 11.
【請求項14】 前記駆動手段は、前記電圧印加を該行
方向配線及び/または前記列方向配線の両端から行うこ
とを特徴とする請求項11〜13のいずれかに記載の電
子源の製造装置。
14. The apparatus according to claim 11, wherein said driving means applies said voltage from both ends of said row direction wiring and / or said column direction wiring. .
【請求項15】 前記駆動手段は、前記電圧印加を前記
行方向配線及び前記列方向配線のそれぞれの片端から行
うことを特徴とする請求項11〜13のいずれかに記載
の電子源の製造装置。
15. The apparatus according to claim 11, wherein the driving unit applies the voltage from one end of each of the row wiring and the column wiring. .
【請求項16】 前記電圧V1は、前記電圧印加工程の
後に、前記電子放出素子を駆動すべく前記電圧V2を印
加した時に前記電子放出素子に流れる電流をIf2、前
記電圧印加工程において前記電子放出素子に前記電圧V
1を印加した時に前記電子放出素子に流れる電流をIf
lとしたときに、If2≦0.7If1となる電圧に設
定される請求項1〜15のいずれかに記載の電子源の製
造装置。
16. The voltage V1 is If2, a current flowing through the electron-emitting device when the voltage V2 is applied to drive the electron-emitting device after the voltage applying step, and the electron emission in the voltage applying step is performed. The voltage V is applied to the element.
1 is applied, and the current flowing through the electron-emitting device is If.
16. The apparatus for manufacturing an electron source according to claim 1, wherein a voltage that satisfies If2 ≦ 0.7If1 when l is set.
【請求項17】 前記電圧V1での駆動を、前記(式
2)における左辺の値の変化率が5%以下になるまでの
時間行うことを特徴とする請求項1〜16のいずれかに
記載の電子源の製造装置。
17. The method according to claim 1, wherein the driving at the voltage V1 is performed for a period of time until the rate of change of the value on the left side in (Equation 2) becomes 5% or less. Electron source manufacturing equipment.
【請求項18】 電子放出素子からの電子放出を伴う電
圧範囲における電流Iと電圧Vとの関係を 【数3】 なる関数で表現し、f’(V)を電圧Vにおけるf
(V)の微係数とする時、予めV1なる予備駆動電圧で
駆動を行った後に、 【数4】 となる電圧V2にて通常の駆動を行う駆動法を、基板上
に複数の電子放出素子を有する電子源に適用するための
製造方法であって、 前記複数の素子を複数のグループに分け、各グループご
とに順次電圧印加を行い、前記電子源の全素子に予備駆
動電圧V1を印加する工程を有することを特徴とする電
子源の製造方法。
18. The relationship between a current I and a voltage V in a voltage range involving electron emission from an electron-emitting device is expressed by F ′ (V) is expressed by f
When the differential coefficient of (V) is obtained, after driving with the preliminary driving voltage of V1 in advance, A method for applying a driving method of performing normal driving at a voltage V2 to an electron source having a plurality of electron-emitting devices on a substrate, comprising: dividing the plurality of devices into a plurality of groups; A method for manufacturing an electron source, comprising: applying a voltage sequentially to each group, and applying a pre-driving voltage V1 to all elements of the electron source.
【請求項19】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記各グループごとに順次行われる電圧印加を、複数回
繰り返す工程を含むことを特徴とする請求項18に記載
の電子源の製造方法。
19. The step of applying the pre-driving voltage,
20. The method according to claim 18, further comprising a step of repeating the voltage application sequentially performed for each group a plurality of times.
【請求項20】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
複数の電圧パルスよりなる電圧を前記各グループに印加
するとともに、該複数の電圧パルス間に、別のグループ
への電圧パルスの印加を行う工程を含むことを特徴とす
る請求項18または19に記載の電子源の製造方法。
20. The step of applying the pre-driving voltage,
20. The method according to claim 18, further comprising: applying a voltage composed of a plurality of voltage pulses to each of the groups, and applying a voltage pulse to another group between the plurality of voltage pulses. Method of manufacturing electron source.
【請求項21】 前記各グループは、複数の電子放出素
子が共通配線されており、前記予備駆動電圧を印加する
工程は、前記電圧印加を該共通配線の両端から行う工程
を含むことを特徴とする請求項18〜20のいずれかに
記載の電子源の製造方法。
21. In each of the groups, a plurality of electron-emitting devices are commonly wired, and the step of applying the pre-driving voltage includes a step of applying the voltage from both ends of the common wiring. The method for manufacturing an electron source according to any one of claims 18 to 20.
【請求項22】 前記各グループは、複数の電子放出素
子が共通配線されており、前記予備駆動電圧を印加する
工程は、前記電圧印加を該共通配線の片端から行う工程
を含むことを特徴とする請求項18〜20のいずれかに
記載の電子源の製造方法。
22. In each of the groups, a plurality of electron-emitting devices are commonly wired, and the step of applying the pre-driving voltage includes the step of applying the voltage from one end of the common wiring. The method for manufacturing an electron source according to any one of claims 18 to 20.
【請求項23】 前記複数の電子放出素子は、複数の行
方向配線と複数の列方向配線とで、マトリクス状に結線
されており、前記予備駆動電圧を印加する工程は、前記
複数の電子放出素子への前記電圧印加を、前記各行方向
配線ごとまたは前記各列配線ごとに順次行う工程を含む
ことを特徴とする請求項18に記載の電子源の製造方
法。
23. The plurality of electron-emitting devices are connected in a matrix by a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings, and the step of applying the preliminary driving voltage includes the step of applying the plurality of electron-emitting devices. 19. The method of manufacturing an electron source according to claim 18, further comprising a step of sequentially applying the voltage to the element for each of the row wirings or for each of the column wirings.
【請求項24】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記各行方向配線ごとまたは前記列方向配線ごとに順次
行われる電圧印加を、複数回繰り返す工程を含むことを
特徴とする請求項23に記載の電子源の製造方法。
24. The step of applying the pre-driving voltage,
24. The method for manufacturing an electron source according to claim 23, further comprising a step of repeating a voltage application sequentially performed for each of said row direction wirings or for each of said column direction wirings a plurality of times.
【請求項25】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記各行方向配線または前記列方向配線に複数の電圧パ
ルスよりなる電圧を印加し、該複数の電圧パルス間に、
別の行方向配線または列方向配線への電圧パルスの印加
を行う工程を含むことを特徴とする請求項23または2
4に記載の電子源の製造方法。
25. The step of applying the pre-driving voltage,
Applying a voltage consisting of a plurality of voltage pulses to each of the row direction wiring or the column direction wiring, between the plurality of voltage pulses,
23. The method according to claim 23, further comprising the step of applying a voltage pulse to another row-direction wiring or another column-direction wiring.
5. The method for producing an electron source according to item 4.
【請求項26】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記電圧印加を該行方向配線または前記列方向配線の両
端から行う工程を含むことを特徴とする請求項23〜2
5のいずれかに記載の電子源の製造方法。
26. The step of applying a pre-driving voltage,
3. The method according to claim 2, further comprising the step of applying the voltage from both ends of the row wiring or the column wiring.
5. The method for producing an electron source according to any one of items 5.
【請求項27】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記電圧印加を前記行方向配線または前記列方向配線の
片端から行う工程を含むことを特徴とする請求項23〜
25のいずれかに記載の電子源の製造方法。
27. The step of applying a pre-driving voltage,
24. The method according to claim 23, further comprising a step of performing the voltage application from one end of the row direction wiring or the column direction wiring.
25. The method for manufacturing an electron source according to any one of items 25.
【請求項28】 前記複数の電子放出素子は、複数の行
方向配線と複数の列方向配線とで、マトリクス状に結線
されており、前記予備駆動電圧を印加する工程は、前記
複数の電子放出素子への前記電圧印加を、前記行方向配
線の複数行ごと、かつ、前記列方向配線の複数列ごとを
グループ単位として、これを順次走査して行うようにし
た工程を含むことを特徴とする請求項18に記載の電子
源の製造方法。
28. The plurality of electron-emitting devices are connected in a matrix by a plurality of row-direction wirings and a plurality of column-direction wirings. Applying the voltage to the element for each of a plurality of rows of the row-direction wirings and for each of a plurality of columns of the column-direction wirings as a group unit. A method for manufacturing the electron source according to claim 18.
【請求項29】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記グループごとに順次行われる電圧印加を、複数回繰
り返す工程を含むことを特徴とする請求項28に記載の
電子源の製造方法。
29. The step of applying the pre-driving voltage,
29. The method according to claim 28, further comprising a step of repeating the voltage application sequentially performed for each group a plurality of times.
【請求項30】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記グループごとに複数の電圧パルスよりなる電圧を印
加し、該複数の電圧パルス間に、別の前記グループへの
電圧パルスの印加がなされる工程を含むことを特徴とす
る請求項28または29に記載の電子源の製造方法。
30. The step of applying the pre-driving voltage,
30. The method according to claim 28, further comprising the step of applying a voltage consisting of a plurality of voltage pulses to each of the groups, and applying a voltage pulse to another of the groups between the plurality of voltage pulses. A method for producing the electron source according to the above.
【請求項31】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記電圧印加を該行方向配線及び/または前記列方向配
線の両端から行う工程を含むことを特徴とする請求項2
8〜30のいずれかに記載の電子源の製造方法
31. The step of applying the pre-driving voltage,
3. The method according to claim 2, further comprising the step of applying the voltage from both ends of the row direction wiring and / or the column direction wiring.
31. The method for manufacturing an electron source according to any one of 8 to 30
【請求項32】 前記予備駆動電圧を印加する工程は、
前記電圧印加を前記行方向配線及び前記列方向配線の片
端から行う工程を含むことを特徴とする請求項28〜3
0のいずれかに記載の電子源の製造方法。
32. The step of applying the pre-driving voltage,
4. The method according to claim 2, further comprising the step of applying said voltage from one end of said row direction wiring and said column direction wiring.
0. The method for producing an electron source according to any one of the above items.
【請求項33】 前記電圧V1は、前記電圧印加工程の
後に、前記電子放出素子を駆動すべく前記電圧V2を印
加した時に前記電子放出素子に流れる電流をIf2、前
記電圧印加工程において前記電子放出素子に前記電圧V
1を印加した時に前記電子放出素子に流れる電流をIf
lとしたときに、If2≦0.7If1となる電圧に設
定される請求項18〜32のいずれかに記載の電子源の
製造方法。
33. The voltage V1 is a current flowing through the electron-emitting device when the voltage V2 is applied to drive the electron-emitting device after the voltage applying process, and If2 is a current flowing through the electron-emitting device in the voltage applying process. The voltage V is applied to the element.
1 is applied, and the current flowing through the electron-emitting device is If.
33. The method for manufacturing an electron source according to claim 18, wherein the voltage is set so that If2 ≦ 0.7If1 when l is set.
【請求項34】 前記電圧V1での駆動を、前記(式
2)における左辺の値の変化率が5%以下になるまでの
時間行うことを特徴とする請求項18〜33のいずれか
に記載の電子源の製造方法。
34. The driving method according to claim 18, wherein the driving at the voltage V1 is performed for a period of time until the rate of change of the value on the left side in (Equation 2) becomes 5% or less. Method of manufacturing electron source.
【請求項35】 前記基板上に複数個の電子放出素子を
配置した電子源であって、請求項1〜17いずれかに記
載の電子源製造装置または請求項18〜34いずれかに
記載の電子源製造方法を用いて製造されたことを特徴と
する電子源。
35. An electron source in which a plurality of electron-emitting devices are disposed on the substrate, wherein the electron source manufacturing apparatus according to claim 1 or the electron source according to claim 18 An electron source manufactured using a source manufacturing method.
【請求項36】 前記電子放出素子のそれぞれは、前記
基板上で2次元的に配列され、行方向配線と列方向配線
によりマトリックス状に配線されていることを特徴とす
る請求項35記載の電子源。
36. The electron according to claim 35, wherein each of the electron-emitting devices is two-dimensionally arranged on the substrate, and is wired in a matrix by row-direction wiring and column-direction wiring. source.
【請求項37】 前記電子放出素子は、表面伝導型放出
素子であることを特徴とする請求項35または36に記
載の電子源。
37. The electron source according to claim 35, wherein the electron-emitting device is a surface conduction electron-emitting device.
【請求項38】前記基板上に複数個の電子放出素子を配
置した電子源を有する画像表示装置であって、 請求項35〜37のいずれかに記載の電子源と、 画像信号を入力する入力手段と、 前記入力手段により入力された画像信号により電子源を
駆動する駆動手段と、 前記駆動手段により駆動された前記電子源から放出され
る電子の照射により発光する発光手段とを有することを
特徴とする画像表示装置。
38. An image display device having an electron source in which a plurality of electron-emitting devices are arranged on the substrate, the electron source according to claim 35, and an input for inputting an image signal. Means, a driving means for driving an electron source in accordance with an image signal inputted by the input means, and a light emitting means for emitting light by irradiation of electrons emitted from the electron source driven by the driving means. Image display device.
【請求項39】 複数の電子放出素子を有する電子源
と、該電子源からの電子線の照射により画像を形成する
画像形成部材とを備える画像形成装置の製造方法であっ
て、 前記電子源が、請求項18〜34のいずれかの方法にて
製造されることを特徴とする画像形成装置の製造方法。
39. A method of manufacturing an image forming apparatus, comprising: an electron source having a plurality of electron-emitting devices; and an image forming member that forms an image by irradiating an electron beam from the electron source. 35. A method of manufacturing an image forming apparatus, wherein the image forming apparatus is manufactured by the method according to claim 18.
【請求項40】 前記画像形成部材は、螢光体であるこ
とを特徴とする請求項39に記載の画像形成装置の製造
方法。
40. The method according to claim 39, wherein the image forming member is a phosphor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7774152B2 (en) 2005-01-06 2010-08-10 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing image display apparatus

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