JP2000236194A - Electromagnetic shielding filter and its manufacture - Google Patents

Electromagnetic shielding filter and its manufacture

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JP2000236194A
JP2000236194A JP11332215A JP33221599A JP2000236194A JP 2000236194 A JP2000236194 A JP 2000236194A JP 11332215 A JP11332215 A JP 11332215A JP 33221599 A JP33221599 A JP 33221599A JP 2000236194 A JP2000236194 A JP 2000236194A
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JP
Japan
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adhesive
base material
transparent base
conductive material
electromagnetic wave
Prior art date
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Pending
Application number
JP11332215A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Imaizumi
純一 今泉
Hiroaki Takahashi
宏明 高橋
Hajime Nakamura
一 中村
Hiroshi Nomura
宏 野村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JP2000236194A publication Critical patent/JP2000236194A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily bond adhesive to the adhered to a plastic base material and a display surface by bonding a transparent base material, where an adhesive layer is installed at a rear face and a conduction material, where a mesh-like geometric graphic is formed by means of chemical etching work via adhesive. SOLUTION: For forming a mesh-like geometric graphic in a conduction material, it is advantageous to generate it by a microlithography in terms of precision and the efficiency of circuit work. When the conduction material is formed of copper and a bonding face with a transparent base material is blacking-processed, contrast becomes high. A plastic film is most preferable as a transparent base material by taking into consideration chemical resistance, handling property and cost at chemical etching of the conduction material. The adhesion property of the transparent base material and the conduction material can be improved by a primer processing on the surface of the transparent base material. Composition flowing at a prescribed temperature is desirable as adhesive for bonding the transparent base material and the conduction material. An adhesion resin layer is made to flow by heating and pressurizing the base material and the conduction material, and they can be bonded.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CRT,PDP、
ELなどのディスプレイ前面から発生する電磁波を遮蔽
する電磁波シールドフィルタ及びその製造方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a CRT, a PDP,
The present invention relates to an electromagnetic wave shield filter for shielding electromagnetic waves generated from the front of a display such as an EL, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、社会の高度情報化が急速に進んで
おり、これを達成するのに必要不可欠なものの一つにデ
ィスプレイが挙げられる。TVはもちろんのこと、ワー
ドプロセッサ、パーソナルコンピュータ、分析機器、ゲ
ーム機、自動車の車載モニタ等いたるところで多用され
ている。また、各々の大型化はめざましいものがある。
一方で電気、電子器械から放射される電磁波は大きな社
会問題になりつつある。電磁波により周囲の機器にノイ
ズが入ったり誤動作させる恐れがある。電子機器そのも
のの増加やそれぞれの機器の制御にコンピュータが多用
されることから、障害が起り易く重大な事故につながる
可能性がある。また、人体に対する健康障害の危険性も
指摘されている。欧米ではすでに法規制がなされてお
り、日本でもメーカ団体の自主規制がある。これら電磁
波の遮蔽方法としては、機器筐体そのものを金属体又
は、高導電体にしたり、回路基板と回路基板の間に金属
板を挿入する、ケーブルに金属箔を巻きつける等の方法
がある。しかし、ディスプレイ表面から放射される電磁
波については、前述のような方法をとると、ディスプレ
イ本来の最も重要な“見る”という機能が満たされなく
なってしまう。そこでディスプレイに対する電磁波遮蔽
には、電磁波遮蔽性と視認性を得るための透明性の両方
が求められる。
2. Description of the Related Art In recent years, society has become increasingly sophisticated, and a display is one of the indispensable elements for attaining this. It is widely used not only for TV but also for word processors, personal computers, analytical instruments, game machines, in-car monitors, and the like. In addition, each of them has a remarkable increase in size.
On the other hand, electromagnetic waves radiated from electric and electronic instruments are becoming a major social problem. Electromagnetic waves may cause noise or malfunction in surrounding equipment. Since computers are frequently used to increase the number of electronic devices themselves and to control each device, a failure may easily occur, which may lead to a serious accident. It has also been pointed out that there is a risk of health problems for the human body. Legal regulations have already been set in Europe and the United States, and in Japan there are also self-regulations by manufacturers. As a method for shielding these electromagnetic waves, there are a method of making the device housing itself a metal body or a high conductor, a method of inserting a metal plate between circuit boards, and a method of winding a metal foil around a cable. However, for the electromagnetic waves radiated from the display surface, the above-mentioned method does not satisfy the most important function of “viewing” the display. Therefore, for shielding electromagnetic waves for a display, both electromagnetic shielding properties and transparency for obtaining visibility are required.

【0003】電磁波遮蔽性と透明性を両立する方法とし
て、種々の方法が提案されている。なかでも特開平10
−41682号、特開平10−75087号公報等に開
示されているように、透明プラスチックフィルムと導電
性材料を接着剤を介して貼り合せ、導電性材料にケミカ
ルエッチングプロセスにより幾何学図形を形成させる方
法が最も良い特性が得られることがわかっている。しか
しながらこの方法は、ディスプレイ等の被着体の表面に
貼り付ける場合、透明基材と導電性材料を貼り合わせる
ために用いた接着剤の加熱加圧を必要とし、流動性に優
れた接着剤を用いる必要がある。
[0003] Various methods have been proposed as methods for achieving both electromagnetic shielding properties and transparency. In particular,
As disclosed in JP-A-41682 and JP-A-10-75087, a transparent plastic film and a conductive material are bonded together via an adhesive, and a geometric pattern is formed on the conductive material by a chemical etching process. It has been found that the method gives the best properties. However, when this method is applied to the surface of an adherend such as a display, the method requires heating and pressurizing the adhesive used for bonding the transparent substrate and the conductive material, and an adhesive having excellent fluidity is required. Must be used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる状況に
鑑みなされたもので、プラスチック基材やディスプレイ
表面等の被着体に容易に貼りつけることができる電磁波
シールドフィルタを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide an electromagnetic wave shielding filter which can be easily attached to an adherend such as a plastic substrate or a display surface. I do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、透明
基材とケミカルエッチング加工によりメッシュ状幾何学
図形を形成した導電性材料が接着剤を介して貼り合せて
なる電磁波シールドフィルタにおいて、透明基材の背面
に粘(接)着剤層を設けてなる電磁波シールドフィルタ
および、透明基材と導電性材料を接着剤により貼り合せ
る工程、ケミカルエッチング加工により導電性材料にメ
ッシュ状幾何学図形を形成する工程、および透明基材背
面に粘(接)着剤層を形成する工程からなることを特徴
とする電磁波シールドフィルタの製造方法に関する。
That is, the present invention relates to an electromagnetic wave shielding filter comprising a transparent base material and a conductive material having a mesh-like geometric pattern formed by chemical etching, which are bonded together via an adhesive. An electromagnetic wave shield filter with a viscous (adhesive) adhesive layer provided on the back of the material, a process of bonding a transparent substrate and a conductive material with an adhesive, and forming a mesh-like geometric figure on the conductive material by chemical etching And a step of forming a viscous (contact) adhesive layer on the back surface of the transparent substrate.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明に用いられる透明基材としては、特に制限はない
が、導電性材料をケミカルエッチングする際の耐薬品
性、取扱い性、価格などを勘案するとプラスチックフィ
ルムが最も好ましい。それらを例示すると、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポ
リエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、
アクリル樹脂などからなるフィルムがあげられる。フィ
ルムの厚みは10〜500μmのものが好ましく、透明
性、耐熱性、取り扱い性等を考慮してポリエチレンテレ
フタレートまたはポリカーボネートフィルムが好まし
い。また、透明基材表面にプライマ塗布、コロナ処理あ
るいはプラズマ処理などを行うことにより透明基材と導
電性材料との密着性を向上させることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The transparent substrate used in the present invention is not particularly limited, but a plastic film is most preferable in consideration of chemical resistance, handleability, cost, and the like when a conductive material is chemically etched. For example, polyethylene terephthalate, polyesters such as polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polyolefins such as polystyrene, polyvinyl chloride, vinyl resins such as polyvinylidene chloride, polycarbonate,
A film made of an acrylic resin or the like can be given. The thickness of the film is preferably 10 to 500 μm, and a polyethylene terephthalate or polycarbonate film is preferable in consideration of transparency, heat resistance, handleability, and the like. Further, by performing primer coating, corona treatment or plasma treatment on the surface of the transparent substrate, the adhesion between the transparent substrate and the conductive material can be improved.

【0007】本発明において、導電性材料としては、特
に制限はないが、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、
金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンな
どの金属の内の1種又は2種以上を組み合わせた合金を
使うことができるが、導電性、回路加工の容易さ、価格
点から銅、アルミニウムまたはニッケルが適しており、
厚みが3〜40μmの金属箔を使用することが好まし
い。厚みが40μmを超えると、細かいライン幅の形成
が困難であり、視野角が狭くなる。また厚みが3μm未
満では、表面抵抗が大きくなり電磁波シード効果が劣る
ためである。導電性材料が銅であり、透明基材との貼り
合せ面が黒化処理されたものであると、コントラストが
高くなるので好ましい。また導電性材料が経時的に酸化
され退色することが防止できる。
In the present invention, the conductive material is not particularly limited, but may be copper, aluminum, nickel, iron,
Alloys of one or more of metals such as gold, silver, stainless steel, tungsten, chromium, and titanium can be used, but copper, aluminum, or copper is preferred in view of conductivity, ease of circuit processing, and price. Nickel is suitable,
It is preferable to use a metal foil having a thickness of 3 to 40 μm. When the thickness exceeds 40 μm, it is difficult to form a fine line width, and the viewing angle becomes narrow. If the thickness is less than 3 μm, the surface resistance increases and the electromagnetic wave seed effect is poor. It is preferable that the conductive material is copper and the surface to be bonded to the transparent substrate is subjected to blackening treatment because the contrast is increased. Further, it is possible to prevent the conductive material from being oxidized with time and discolored.

【0008】上記透明基材と導電性材料を貼り合せる接
着剤としては、特に限定はないが、所定の温度で流動す
る組成物が好ましく、基材と導電性材料を加熱及び加圧
により接着樹脂層を流動させて容易に接着できるものが
好ましい。これらの接着樹脂層となるポリマーの軟化温
度は、取り扱い性から150℃以下が好ましい。電磁波
シールドフィルタの用途から、使用される環境が通常8
0℃以下であるので接着樹脂の軟化温度は、加工性から
80〜120℃が最も好ましい。一方、用いる樹脂系に
もよるが一般にはポリマーの重量平均分子量は1万以上
であることが好ましい。更にかかるポリマーは、屈折率
が1.40〜1.70の範囲のものが好ましい。これは
本発明で使用する透明基材と接着剤層の屈折率が異なる
と可視光透過率が低下するためである。
The adhesive for bonding the transparent substrate and the conductive material is not particularly limited, but is preferably a composition that flows at a predetermined temperature. Those which can be easily adhered by flowing the layer are preferable. The softening temperature of the polymer that forms these adhesive resin layers is preferably 150 ° C. or less from the viewpoint of handleability. The use environment is usually 8
Since it is 0 ° C. or lower, the softening temperature of the adhesive resin is most preferably 80 to 120 ° C. from the viewpoint of workability. On the other hand, although it depends on the resin system used, it is generally preferable that the weight average molecular weight of the polymer is 10,000 or more. Further, such a polymer preferably has a refractive index in the range of 1.40 to 1.70. This is because if the refractive index of the transparent substrate used in the present invention is different from that of the adhesive layer, the visible light transmittance is reduced.

【0009】このような加熱または加圧により流動して
接着層となる材料としては、主に以下に示す熱可塑性樹
脂または熱硬化性樹脂が挙げられる。天然ゴム(屈折率
n=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリイソ
ブテン(n=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.51
3)、などの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン(n=
1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビ
ニルエチルエーテル(n=1.454)などのポリエーテル
類、ポリビニルアセテート(n=1.467)、ポリビニル
プロピオネート(n=1.467)などのポリエステル類、
ポリアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロ
ニトリル(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、
ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=
1.5〜1.6)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜
1.480)、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリ
ブチルアクリレート(n=1.466)、ポリメチルメタク
リレート(n=1.489)などのポリ(メタ)アクリル酸
エステルがある。また、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポ
リ塩化ビニル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、クレゾ
ール樹脂、ニトリルゴム、環化ゴムなども使用すること
ができる。これらは必要に応じて2種以上共重合しても
よいし、2種類以上をブレンドして使用することも可能
である。
As a material which flows into the adhesive layer by heating or pressurizing, the following thermoplastic resins or thermosetting resins are mainly used. Natural rubber (refractive index
n = 1.52), polyisoprene (n = 1.521), polyisobutene (n = 1.505-1.51), polybutene (n = 1.51)
3), (di) enes such as polyoxyethylene (n =
1.456), polyoxypropylene (n = 1.450), polyethers such as polyvinyl ethyl ether (n = 1.454), polyesters such as polyvinyl acetate (n = 1.467), polyvinyl propionate (n = 1.467),
Polyacrylonitrile (n = 1.52), polymethacrylonitrile (n = 1.52), polysulfone (n = 1.633),
Polysulfide (n = 1.6), phenoxy resin (n =
1.5-1.6), polymethyl acrylate (n = 1.472-
1.480), poly (meth) acrylates such as polyethyl acrylate (n = 1.469), polybutyl acrylate (n = 1.466), polymethyl methacrylate (n = 1.489). Also uses polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl chloride, epoxy resin, phenol resin, cresol resin, nitrile rubber, cyclized rubber, etc. can do. If necessary, two or more of these may be copolymerized, or two or more of them may be used as a blend.

【0010】次に前述の透明基材と導電性材料を上記接
着剤を介して貼り合せる。接着剤は透明基材又は導電性
材料のどちらか一方、又は両方に塗布する。その塗布、
乾燥方法は公知の方法であれば限定はない。接着剤の厚
みとしては10〜50μm、さらに好ましくは10〜2
0μmである。また貼り合せ方法についても限定はない
が例示すると、プレス法、ロールラミネート法、オート
クレーブ法によるものが挙げられる。量産性、経済性を
勘案するとロールラミネート法が最も好ましい。
Next, the above-mentioned transparent substrate and the conductive material are bonded together via the above-mentioned adhesive. The adhesive is applied to either the transparent substrate or the conductive material, or both. Its application,
The drying method is not limited as long as it is a known method. The thickness of the adhesive is 10 to 50 μm, more preferably 10 to 2 μm.
0 μm. The bonding method is not limited, but examples thereof include a pressing method, a roll laminating method, and an autoclave method. The roll lamination method is most preferable in consideration of mass productivity and economy.

【0011】本発明のメッシュ状幾何学図形とは、正三
角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方
形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、
(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)
二十角形などの(正)n角形、円、だ円、星型などを組
み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返
し、あるいは2種類以上組み合わせで使用することも可
能である。電磁波シールド性の観点からは三角形が最も
有効であるが、可視光透過性の点からは同一の線幅なら
(正)n角形のn数が大きいほど開口率が上がるが、可
視光透過性の点から開口率は50%以上が必要で60%
以上がさらに好ましい。開口率は、電磁波シールドフィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性材料で描か
れた幾何学図形の導電性材料の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ドフィルムの有効面積とした場合、その画面が見える割
合となる。
The mesh-shaped geometric figures of the present invention include triangles such as equilateral triangles, isosceles triangles and right triangles, squares such as rectangles, rectangles, rhombuses, parallelograms and trapezoids,
(Regular) hexagon, (Regular) octagon, (Regular) dodecagon, (Regular)
The pattern is a combination of (positive) n-sided polygons such as icosagons, circles, ellipses, and stars, and these units can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of electromagnetic wave shielding, a triangle is most effective, but from the viewpoint of visible light transmission, the aperture ratio increases as the number of (positive) n-gons increases for the same line width. From the point, the aperture ratio must be 50% or more and 60%
The above is more preferred. The aperture ratio is a percentage of the ratio of the area obtained by subtracting the area of the conductive material of the geometric figure drawn with the conductive material from the effective area to the effective area of the electromagnetic wave shielding film. When the area of the display screen is defined as the effective area of the electromagnetic wave shielding film, the display screen is a ratio that can be seen.

【0012】導電性材料にメッシュ状の幾何学図形を形
成させる方法としては、マイクロリソグラフ法で作製す
るのが回路加工の精度および効率の点から有利である。
このマイクロリソグラフ法には、フォトリソグラフ法、
X線リソグラフ法、電子線リソグラフ法、イオンビーム
リソグラフ法などがあり、これらの他にスクリーン印刷
法なども含まれる。こられの中でも、その簡便性、量産
性の点からフォトリソグラフ法が最も効率がよい。なか
でも、ケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラ
フ法は、その簡便性、経済性、回路加工精度などの点か
ら最も好ましい。マイクロリソグラフ法を利用する方法
は、透明基材と導電性材料を貼り合せた導電性材料の表
面に感光層を設け、この感光層にメッシュ状パターンを
形成したマスクを密着させ露光現像して、レジスト像を
形成し、次いで導電性材料をエッチングして幾何学模様
を形成し、最後にレジストを剥離する方法である。フォ
トリソグラフ法の中では、ケミカルエッチング法の他に
も無電解めっきや電気めっきによる方法、または無電解
めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組み合わ
せて幾何学図形を形成することも可能である。
As a method for forming a mesh-like geometric figure on a conductive material, it is advantageous to produce the figure by a microlithographic method from the viewpoint of the precision and efficiency of circuit processing.
This microlithography includes photolithography,
There are an X-ray lithography method, an electron beam lithography method, an ion beam lithography method and the like, and in addition to these, a screen printing method and the like are also included. Among these, the photolithographic method is the most efficient in terms of its simplicity and mass productivity. Above all, a photolithography method using a chemical etching method is most preferable in terms of its simplicity, economy, circuit processing accuracy, and the like. The method using the microlithography method is to provide a photosensitive layer on the surface of a conductive material obtained by laminating a transparent substrate and a conductive material, and to expose and develop a mask having a mesh-shaped pattern formed on the photosensitive layer, In this method, a resist image is formed, the conductive material is etched to form a geometric pattern, and finally, the resist is peeled. Among the photolithographic methods, in addition to the chemical etching method, it is also possible to form a geometric figure by a method using electroless plating or electroplating, or a combination of electroless plating or electroplating and chemical etching.

【0013】エッチングレジストパターンの線幅は、良
好なパターン形成を容易にするという観点から10〜5
0μmであることが好ましく、更に好ましくは10〜3
0μmである。導電性材料で描かれた幾何学図形の線幅
は30μm以下が好ましく、20μm以下であれば更に
好ましい。また、その線ピッチは100〜500μmの
範囲とするのが好ましい。また、線幅は、電気的に導通
していれば、可視光透過率の点から細いほうが好ましい
が、細すぎると製造が難しくなるため10μm以上であ
ることが好ましい。線ピッチは、大きいほど開口率は向
上し、可視光透過率は向上するが、電磁波シールド性が
低下するため、線ピッチは500μm以下とするのが好
ましい。なお、線ピッチは、幾何学図形等の組合せで複
雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を
正方形の面積に換算してその一辺の長さを線ピッチとす
る。
The line width of the etching resist pattern is 10 to 5 from the viewpoint of facilitating formation of a good pattern.
0 μm, more preferably 10 to 3 μm.
0 μm. The line width of a geometric figure drawn with a conductive material is preferably 30 μm or less, and more preferably 20 μm or less. The line pitch is preferably in the range of 100 to 500 μm. Further, the line width is preferably narrower from the viewpoint of visible light transmittance as long as the line is electrically conductive. However, if the line width is too narrow, the production becomes difficult, so that the line width is preferably 10 μm or more. The larger the line pitch, the higher the aperture ratio and the higher the visible light transmittance, but the lower the electromagnetic wave shielding property. Therefore, the line pitch is preferably 500 μm or less. When the line pitch is complicated by a combination of geometric figures and the like, the area is converted into the area of a square on the basis of the repeating unit, and the length of one side is defined as the line pitch.

【0014】本発明においては上記透明基材の背面に粘
(接)着剤を適用する。粘(接)着剤を適用するための
方法としては特に制約はなく、予め透明基材に粘着剤を
塗布しておく方法、ケミカルエッチング終了後に行う方
法等があげられる。 しかしながら前記感光層の現像剤
やエッチング剤等の染込み、汚染を考慮するとケミカル
エッチング終了後に行うのが好ましい。塗布する粘
(接)着剤の種類に制限はないが、アクリルゴム、天然
ゴム、合成ゴム、塩化ゴム、シリコーンゴム、ポリビニ
ルブチラール、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂等の熱可塑性、熱硬化性樹脂が挙げられ、2
種類以上の樹脂を組み合わせても構わない。なかでも、
粘着剤を用いる場合には、アクリル系樹脂は分子設計に
より粘着性、ガラス転移温度等を容易に設定できるため
好ましい。必要に応じて、架橋剤、粘着付与剤、可塑
剤、充填剤をいれてもかまわない。また、加熱や光照射
等により硬化するもの、水溶性の粘着剤をもちいること
もできる。重要なことは、加圧により粘着剤層を流動さ
せてディスプレイ表面等の被着体に容易に接着させる必
要がある。そのため粘(接)着剤のガラス転移温度は、
貼付けを室温付近で行うことを勘案すると−50〜40
℃下が好ましく。−50〜10℃であればさらに好まし
い。分子量については、用いる樹脂系にもよるが一般に
は重量平均分子量が10万以上のものを使用することが
好ましい。分子量が10万未満では粘着剤の凝集力が低
すぎるために被着体との密着性が低下するおそれがあ
る。塗布する粘着層の厚さは、所望の粘着力にあわせて
決定されるが、一般には1〜80μmである。その塗布
・乾燥方法は特に制限がなく公知の方法が採用できる。
塗布した粘(接)着剤層にセパレータを設けることによ
り、ごみやちりの付着が防止でき、また被着体に貼りつ
ける時間的制約がなくなるので好ましい。接着剤を用い
る場合は、ポリエステル樹脂がアクリル樹脂と同様分子
量やガラス転移温度の制御が容易に行えるからである。
架橋剤や可塑剤等の添加剤を配合することもできる。接
着剤のガラス転移温度は、60〜90℃であることが好
ましく、これ以上になると熱流動温度が高くなってしま
うので好ましくない。また、分子量については重量平均
分子量が1〜10万であることが好ましい。重量平均分
子量が1万未満であると十分な凝集力が得られなかった
り、溶液にして塗布する際に均一に塗布することが困難
になる恐れがある。また、10万より大きいと溶融粘度
が高くなり、作業性が悪くなる。接着剤の厚みは通常5
〜20μmとされる。
In the present invention, a tackifier is applied to the back surface of the transparent substrate. The method for applying the adhesive (contact) is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying a pressure-sensitive adhesive to a transparent substrate in advance, and a method of performing the method after chemical etching. However, it is preferable to perform it after the completion of chemical etching in consideration of the penetration of the developer and the etching agent into the photosensitive layer and contamination. There is no limitation on the type of adhesive to be applied. Resins, 2
More than one kind of resin may be combined. Above all,
In the case of using an adhesive, an acrylic resin is preferable because the adhesiveness, glass transition temperature and the like can be easily set by molecular design. If necessary, a crosslinking agent, a tackifier, a plasticizer, and a filler may be added. Further, a material which is cured by heating or light irradiation or a water-soluble adhesive can be used. What is important is that the pressure-sensitive adhesive layer needs to be made to flow under pressure to easily adhere to an adherend such as a display surface. Therefore, the glass transition temperature of the adhesive
Considering that the paste is performed at around room temperature, -50 to 40
C. is preferred. It is more preferable that the temperature is -50 to 10C. Although the molecular weight depends on the resin system used, it is generally preferable to use those having a weight average molecular weight of 100,000 or more. When the molecular weight is less than 100,000, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive is too low, and there is a possibility that the adhesion to the adherend is reduced. The thickness of the adhesive layer to be applied is determined according to the desired adhesive strength, but is generally from 1 to 80 μm. The coating and drying method is not particularly limited, and a known method can be employed.
Providing a separator on the applied adhesive (contact) adhesive layer is preferable because adhesion of dust and dust can be prevented, and there is no time limit for sticking to an adherend. This is because when an adhesive is used, the molecular weight and the glass transition temperature of the polyester resin can be easily controlled in the same manner as the acrylic resin.
Additives, such as a crosslinking agent and a plasticizer, can also be compounded. The glass transition temperature of the adhesive is preferably from 60 to 90 ° C., and if it is higher than that, the heat flow temperature is undesirably high. As for the molecular weight, the weight average molecular weight is preferably from 1 to 100,000. If the weight-average molecular weight is less than 10,000, sufficient cohesion may not be obtained, or it may be difficult to apply uniformly in a solution. On the other hand, if it is larger than 100,000, the melt viscosity increases, and the workability deteriorates. Adhesive thickness is usually 5
2020 μm.

【0015】この電磁波シールドフィルタは、透明なプ
ラスチックまたはガラス板に貼りつけることによって電
磁波遮蔽体とされる。プラスチックとしてはアクリル樹
脂(n=1.49)、ポリメチルメタクリレート樹脂(n
=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n=1.58)、ポリ
塩化ビニル樹脂(n=1.54)などが好適に用いられ
る。そのプラスチック板の厚みは0.5mm〜5mmが
ディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。ガラ
スは、重いという欠点はあるが、耐候性、化学的耐久
性、透光性、一応の耐熱性に優れていることから好まし
い。貼付け方法については制限はないが、プレス法、ロ
ールラミネート法、オートクレーブ法によるものが挙げ
られる。量産性、経済性を勘案するとロールラミネート
法が最も好ましい。
This electromagnetic wave shield filter is used as an electromagnetic wave shield by attaching it to a transparent plastic or glass plate. Acrylic resin (n = 1.49) and polymethyl methacrylate resin (n
= 1.49), polycarbonate resin (n = 1.58), polyvinyl chloride resin (n = 1.54) and the like. The thickness of the plastic plate is preferably 0.5 mm to 5 mm from the viewpoint of protection, strength, and handleability of the display. Although glass has the disadvantage of being heavy, glass is preferable because of its excellent weather resistance, chemical durability, light transmission, and tentative heat resistance. There is no particular limitation on the method of sticking, and examples thereof include a method using a press method, a roll laminating method, and an autoclave method. The roll lamination method is most preferable in consideration of mass productivity and economy.

【0016】[0016]

【実施例】以下の実施例に於いて本発明を具体的に述べ
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 (実施例1)透明基材として、アクリル系粘着フィルム
(日立化成工業(株)製商品名;ヒタレックスK330
3、25μmPETベ一ス、粘着剤厚み7μm)の粘着
剤層に、セパレータとして離型処理ポリエステル(ユニ
チカ(株)製商品名;エンブレットSC25、厚み25
μm)を適用したものを用いた。また、透明基材と導電
性材料を接着する接着剤として、飽和ポリエステル樹脂
(東洋紡績(株)製商品名;バイロンUR−140を選
定した。透明基材の未処理面(粘着フィルム基材の背
面)に前記接着剤を塗工機を用いて乾燥塗布厚30μm
になるように塗布・乾燥した。その接着剤を介して導電
性材料である厚さ18μmの圧延銅箔((株)ジャパン
エナジー製商品名;BHY−02B−T、マツト面黒化
処理品)の粗化面が接着剤側になるようにして、150
℃、200N/cmの条件でロールラミネートして銅箔
付きプラスチックフィルムを得た。得られた銅箔付きプ
ラスチックフィルムにケミカルエッチング法を使用した
フォトリソグラフ工程(レジストフイルム貼付け−露光
−現像−ケミカルエツチング−レジストフイルム剥離)
を経て、ライン幅25μm、ライン間隔250μmの銅
格子パターンを有する電磁波シールドフィルタを得た。
次いで、前記粘着フィルムの粘着処理した側のセパレー
タを剥離して被着体である厚みが3mmのソーダガラス
板に温度:25℃、圧力:60N/cm、速度:2m/
分の条件でゴムロールを用いて貼り付けた。得られた電
磁波遮蔽体はその周囲に薬剤による若干の汚染が見られ
たが実用上問題のない範囲であった。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto. (Example 1) As a transparent substrate, an acrylic pressure-sensitive adhesive film (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .; HITALEX K330)
A release-treated polyester (trade name, manufactured by Unitika Ltd .; Embret SC25, thickness 25) was used as a separator on the pressure-sensitive adhesive layer of 3,25 μm PET base and pressure-sensitive adhesive thickness of 7 μm.
μm) was used. In addition, a saturated polyester resin (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd .; Byron UR-140) was selected as an adhesive for bonding the transparent base material and the conductive material. Apply the above adhesive on the back side) using a coating machine and dry apply thickness 30 μm
And dried. The roughened surface of a 18 μm-thick rolled copper foil (trade name, manufactured by Japan Energy Co., Ltd .; BHY-02B-T, blackened matte surface), which is a conductive material, is provided on the adhesive side via the adhesive. So that 150
Roll lamination was performed at 200 ° C. and 200 N / cm to obtain a plastic film with a copper foil. Photolithographic process using a chemical etching method on the obtained plastic film with copper foil (resist film sticking-exposure-development-chemical etching-resist film peeling)
After that, an electromagnetic wave shielding filter having a copper grid pattern with a line width of 25 μm and a line interval of 250 μm was obtained.
Next, the separator on the side of the pressure-sensitive adhesive film on which the pressure-sensitive adhesive treatment was performed was peeled off, and a 3 mm-thick soda glass plate as an adherend was subjected to temperature: 25 ° C., pressure: 60 N / cm, and speed: 2 m /
It was pasted using a rubber roll under the conditions of minutes. The obtained electromagnetic wave shield showed some contamination by the drug around it, but it was in a range where there was no practical problem.

【0017】(実施例2)実施例1の粘着フィルムを設
けないで作成した電磁波シールドフィルタのPET側
に、離型処理ポリエステルフィルム(ユニチカ(株)製
商品名;エンブレットSC25 厚み25μm)の片側
に、飽和ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製商品名;
バイロン24SS)を乾燥後厚みが25μmになるよう
塗布してなる接着フィルムを120℃、50N/cmで
ロールラミネートし、次いで、前記接着フィルムのポリ
エステルフィルムを剥離して被着体である厚みが3mm
のソーダガラス板に100℃、圧力:0.5MPa、5
分の条件で貼り付けた。得られた電磁波遮蔽体には実用
上特に問題はなかった。
Example 2 One side of a release-treated polyester film (trade name, manufactured by Unitika Ltd .; Emblet SC25, thickness 25 μm) was placed on the PET side of the electromagnetic wave shielding filter prepared in Example 1 without the adhesive film. In addition, saturated polyester resin (trade name of Toyobo Co., Ltd .;
(Byron 24SS) is dried and roll-laminated with an adhesive film having a thickness of 25 μm at 120 ° C. and 50 N / cm. Then, the polyester film of the adhesive film is peeled off, and the thickness of the adherend is 3 mm.
100 ° C, pressure: 0.5MPa, 5
Pasted under the conditions of minutes. There was no practical problem in the obtained electromagnetic wave shield.

【0018】(実施例3)実施例2の接着フィルムに代
えて、離型処理ポリエステルフィルム(ユニチカ(株)
製商品名;エンブレットSC25 厚み25μm)の片
側に、アクリル系粘着剤(Tg:−45℃、Mw:70
万、架橋剤:ブチル化メラミン25phr)を乾燥後厚
みが8μmになるよう塗布してなる粘着フィルムを、実
施例1の粘着フィルムを設けないで作成した電磁波シー
ルドフィルタのPET側に温度:25℃、圧力:60N
/cm、速度:2m/分の条件でゴムロールを用いて貼
り付けた。次いで、前記粘着フィルムのポリエステルフ
ィルムを剥離して被着体であるソーダガラスに100
℃、圧力:0.5MPa、5分の条件で貼り付けた。得
られた電磁波遮蔽体には実用上特に問題はなかった。
Example 3 Instead of the adhesive film of Example 2, a release-treated polyester film (Unitika Co., Ltd.)
Product name; Emblet SC25, thickness 25 μm), an acrylic pressure-sensitive adhesive (Tg: -45 ° C, Mw: 70)
A cross-linking agent: 25 phr of butylated melamine) is dried and then applied to a thickness of 8 μm to form a pressure-sensitive adhesive film. The electromagnetic wave shield filter prepared without the pressure-sensitive adhesive film of Example 1 and having a temperature of 25 ° C. , Pressure: 60N
/ Cm, speed: 2 m / min, using a rubber roll. Next, the polyester film of the pressure-sensitive adhesive film was peeled off, so that 100
C., pressure: 0.5 MPa, for 5 minutes. There was no practical problem in the obtained electromagnetic wave shield.

【0019】(比較例)実施例1の粘着フィルムを設け
ないで作成した電磁波シールドフィルタのPET側とソ
ーダガラス板を、EVAシート(積水化学(株)製商品
名R5011厚み400μm)を介してオートクレーブ
機を用いて接着したが、150℃、0.5MPa,30
分と実施例に比較すると過酷な条件が必要であった。
(Comparative Example) The PET side and the soda glass plate of the electromagnetic wave shielding filter prepared without providing the adhesive film of Example 1 were autoclaved through an EVA sheet (trade name: R5011 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., thickness: R5011: 400 μm). Bonding at 150 ° C, 0.5MPa, 30MPa
Severe conditions were required compared to the minutes and the examples.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上述べたように、電磁波シールドフィ
ルタにおいて、透明基材として導電性材料と接しない側
が粘(接)着加工してあるので、容易にディスプレイ表
面等の被着体に適用することができ、これにより安価に
電磁波シールドフィルタを提供することが可能になっ
た。
As described above, in the electromagnetic wave shielding filter, the side which is not in contact with the conductive material as the transparent substrate is subjected to the adhesive (contact) processing, so that it can be easily applied to the adherend such as the display surface. As a result, it has become possible to provide an electromagnetic wave shield filter at low cost.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 一 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社五所宮事業所内 (72)発明者 野村 宏 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社五所宮事業所内 Fターム(参考) 5E321 AA04 BB23 BB41 BB44 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 BB02 BB05 BB06 FF00 GG33 HH12 KK07  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Kazumi Nakamura 1150 Goshomiya, Oaza, Shimodate, Ibaraki Pref.Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd. F-term (reference) at Goshomiya Works of Chemical Industry Co., Ltd. 5E321 AA04 BB23 BB41 BB44 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 BB02 BB05 BB06 FF00 GG33 HH12 KK07

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基材とケミカルエッチング加工により
メッシュ状幾何学図形を形成した導電性材料が接着剤を
介して貼り合せてなる電磁波シールドフィルタにおい
て、透明基材の背面に粘(接)着剤層を設けてなる電磁
波シールドフィルタ。
1. An electromagnetic wave shielding filter comprising a transparent base material and a conductive material having a mesh-like geometric pattern formed by chemical etching and bonded to each other via an adhesive, to adhere (stick) to the back surface of the transparent base material. An electromagnetic wave shield filter provided with an agent layer.
【請求項2】導電性材料の透明基材と接着する側が黒化
処理してある請求項1記載の電磁波シールドフィルタ。
2. The electromagnetic wave shielding filter according to claim 1, wherein the side of the conductive material that adheres to the transparent substrate is blackened.
【請求項3】透明基材がプラスチックフィルムであり、
導電性材料が銅箔である請求項1または2記載の電磁波
シールドフィルタ。
3. The transparent substrate is a plastic film,
3. The electromagnetic wave shielding filter according to claim 1, wherein the conductive material is a copper foil.
【請求項4】透明基材と導電性材料を接着剤により貼り
合せる工程、ケミカルエッチング加工により導電性材料
にメッシュ状幾何学図形を形成する工程、および透明基
材背面に粘(接)着剤層を形成する工程からなることを
特徴とする電磁波シールドフィルタの製造方法。
4. A step of bonding a transparent substrate and a conductive material with an adhesive, a step of forming a mesh-like geometric pattern on the conductive material by chemical etching, and a step of attaching a viscous (adhesive) adhesive to the back surface of the transparent substrate. A method for manufacturing an electromagnetic wave shield filter, comprising a step of forming a layer.
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