JP2000229912A - Production of cinnamic acid derivative - Google Patents

Production of cinnamic acid derivative

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JP2000229912A
JP2000229912A JP11352388A JP35238899A JP2000229912A JP 2000229912 A JP2000229912 A JP 2000229912A JP 11352388 A JP11352388 A JP 11352388A JP 35238899 A JP35238899 A JP 35238899A JP 2000229912 A JP2000229912 A JP 2000229912A
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智 成塚
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a cinnamic acid derivative in high yield by reacting a halogenated aromatic compound with an acrylic acid derivative using a palladium complex compound as a catalyst. SOLUTION: (B) a halogenated aromatic compound [e.g. 2- trifluoromethylbromobenzene] is reacted with (B) an acrylic acid derivative, preferably at 50-180 deg.C using (A) a palladium complex compound represented by formula I [Ar1 is an aryl represented by formula II (R1 is trifluoromethyl; and (n) is 1-3); Ar2 is an aryl represented by formula III (R2 is trifluoromethyl, a halogen, nitro, acetyl or the like; and (m) is 0-4); L is a phosphine ligand], e.g. [3,5-bis(trifluoromethyl)benzoato]3',5'-bis(trifluoromethyl)phenylbis( triphenylphosphine)-palladium (II) as a catalyst. In the above reaction, the amount of Pd in the component A is preferably 0.0001-1 mol% based on the component B and the ratio of the components B:A is preferably (1:0.7) to (1.3) molar ratio.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、桂皮酸誘導体の製
造方法に関し、より詳しくは、新規なパラジウム−ホス
フィン錯化合物を触媒とする、ハロゲン化芳香族化合物
とアクリル酸誘導体から桂皮酸誘導体を製造する方法に
関する。
The present invention relates to a method for producing a cinnamic acid derivative, and more particularly to a method for producing a cinnamic acid derivative from a halogenated aromatic compound and an acrylic acid derivative using a novel palladium-phosphine complex compound as a catalyst. On how to do it.

【0002】[0002]

【従来技術】パラジウム触媒、ホスフィン配位子及び塩
基の存在下にオレフィンを臭素化芳香族化合物によって
アリール化できることは既に知られている(R.F.Hec
k,Org.React.27,345-391(1982))。
It is already known that olefins can be arylated by brominated aromatic compounds in the presence of a palladium catalyst, a phosphine ligand and a base (RF. Hec).
k, Org. React. 27, 345-391 (1982)).

【0003】この方法において、パラジウムは酸化価0
及び+2価のパラジウム化合物例えばパラジウム(I
I)ハライド及びパラジウム(II)カルボキシレー
ト、並びにパラジウム錯体化合物、例えばPdX22
びPdL4などのパラジウム錯体化合物が使用できるこ
とが知られている。但しここにXはハロゲン原子を表わ
し、またLは配位子例えばトリフェニルホスフィン、ト
リ(o−トリル)ホスフィン、又はトリ(p−アニシ
ル)ホスフィンなどのものが通常使用されている。
In this method, palladium has an oxidation value of 0.
And +2 valent palladium compounds such as palladium (I
It is known that I) halides and palladium (II) carboxylate, and palladium complex compounds, for example, palladium complex compounds such as PdX 2 L 2 and PdL 4 can be used. Here, X represents a halogen atom, and L represents a ligand such as triphenylphosphine, tri (o-tolyl) phosphine, or tri (p-anisyl) phosphine.

【0004】また、塩素化芳香族化合物を使用するアル
ケンのアリール化は二座ホスフィン配位子の存在下にお
いて行うことができ(Y.Ben-Davidら、Organometallic
s 11,1995(1992))、また、トリシクロヘキシルホスフ
ィンなどの親油性脂肪族ホスフィンを用いることでも可
能であることが開示されている(特表平09-509420号公
報)。
Alkylation of alkenes using chlorinated aromatic compounds can also be performed in the presence of bidentate phosphine ligands (Y. Ben-David et al., Organometallic).
s 11, 1995 (1992)), and that it is possible to use lipophilic aliphatic phosphines such as tricyclohexylphosphine (Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-509420).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、触媒および
塩基の存在下にアクリル酸エステル類をハロゲン化芳香
族化合物によってアリール化する方法において、新規な
触媒を用いた方法を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for arylating acrylates with a halogenated aromatic compound in the presence of a catalyst and a base, using a novel catalyst.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記課題は、触媒として
[(Ph3P)2PdPh(PhCOO)]で表される錯
化合物のベンゾアト基のフェニル基にトリフルオロメチ
ル基を有するパラジウム錯化合物を使用することで解決
される。
An object of the present invention is to use a palladium complex compound having a trifluoromethyl group as a phenyl group of a benzoato group of a complex compound represented by [(Ph3P) 2PdPh (PhCOO)] as a catalyst. It is solved by.

【0007】すなわち、本発明は、パラジウム触媒の存
在下、ハロゲン化芳香族化合物(ハロゲンは塩素、臭素
またはヨウ素)とアクリル酸誘導体から桂皮酸誘導体を
製造する方法であって、パラジウム触媒として一般式
(1)
That is, the present invention relates to a method for producing a cinnamic acid derivative from a halogenated aromatic compound (halogen is chlorine, bromine or iodine) and an acrylic acid derivative in the presence of a palladium catalyst. (1)

【0008】[0008]

【化6】 Embedded image

【0009】(式中、Ar1は一般式(2)Wherein Ar 1 is a group represented by the general formula (2)

【0010】[0010]

【化7】 Embedded image

【0011】(式中、R1はトリフルオロメチル基を表
し、nは1〜3の整数を表す。)で表されるアリール基
を表し、Ar2は一般式(3)
(Wherein, R 1 represents a trifluoromethyl group, and n represents an integer of 1 to 3), and Ar 2 represents a general formula (3)

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】(式中、R2はそれぞれ独立に、トリフル
オロメチル基、トリフルオロメチルオキシ基、ハロゲン
(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素をいう)、ニトロ
基、アセチル基、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル
基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜5のアル
コキシカルボニル基を表し、mは0〜4の整数を表
す。)で表されるアリール基を表し、Lはそれぞれ独立
にホスフィン配位子を表す。)で表されるパラジウム錯
化合物であることを特徴とする方法である。
(Wherein R 2 is independently a trifluoromethyl group, a trifluoromethyloxy group, a halogen (refers to fluorine, chlorine, bromine or iodine), a nitro group, an acetyl group, a cyano group, L represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 0 to 4). Independently represents a phosphine ligand. ), Which is a palladium complex compound represented by the following formula:

【0014】以下、本発明にかかるパラジウム錯化合物
について説明する。一般式(2)で表されるアリール基
としては、具体的にはトリフルオロメチル基を1個有す
る、2−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリフル
オロメチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニ
ル基、トリフルオロメチル基を2個有する、2,3−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル基、2,4−ビス
(トリフルオロメチル)フェニル基、2,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェニル基、2,6−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニル基、3,4−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル基などが挙げられる。
Hereinafter, the palladium complex compound according to the present invention will be described. Specific examples of the aryl group represented by the general formula (2) include a 2-trifluoromethylphenyl group, a 3-trifluoromethylphenyl group, and a 4-trifluoromethylphenyl group having one trifluoromethyl group. A 2,3-bis (trifluoromethyl) phenyl group, a 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, a 2,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group having two trifluoromethyl groups, A 6,6-bis (trifluoromethyl) phenyl group, a 3,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, and the like.

【0015】これらのうち、トリフルオロメチル基を2
個有するアリール基が好ましく、さらに3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニル基が好ましい。
Of these, a trifluoromethyl group is
Aryl groups are preferred, and a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group is more preferred.

【0016】したがって、一般式(1)で表される錯化
合物としては、
Therefore, as the complex compound represented by the general formula (1),

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】(式中、R2、m、Lは一般式(1)にお
ける意味と同じ。)で表される錯化合物が好ましく、
(Wherein, R 2 , m and L have the same meanings as in the general formula (1)).

【0019】[0019]

【化10】 Embedded image

【0020】(式中R2、m、Lは一般式(1)におけ
る意味と同じ。)で表されるの錯化合物がより好まし
い。
(Wherein R 2 , m and L have the same meanings as in formula (1)).

【0021】一般式(3)で表されるアリール基の置換
基は、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルオキ
シ基、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素をい
う)、ニトロ基、アセチル基、シアノ基、炭素数1〜4
のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2
〜5のアルコキシカルボニル基であり、アリール基は0
〜4個の置換基を有する。
The substituent of the aryl group represented by the general formula (3) is trifluoromethyl group, trifluoromethyloxy group, halogen (refers to fluorine, chlorine, bromine or iodine), nitro group, acetyl group, cyano group. Group, 1-4 carbon atoms
An alkyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and 2 carbon atoms
To 5 alkoxycarbonyl groups, and the aryl group is 0
It has up to 4 substituents.

【0022】炭素数1〜4のアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピ
ル基)、炭素数1〜4のアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−
プロポキシ基、炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基
としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、i−プロポ
キシカルボニル基を挙げることができる。
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and an i-propyl group, and examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include a methoxy group and an ethoxy group. Group, n-propoxy group, i-
Examples of the propoxy group and the alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, and an i-propoxycarbonyl group.

【0023】さらに、一般式(3)で表されるアリール
基としては少なくとも1個がトリフルオロメチル基であ
るアリール基が好ましい。
Further, as the aryl group represented by the general formula (3), an aryl group having at least one trifluoromethyl group is preferable.

【0024】一般式(3)で表されるアリール基を例示
すれば、2−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリ
フルオロメチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフ
ェニル基などのトリフルオロメチル基を1個有するアリ
ール基;2−トリフルオロメトキシフェニル基、3−ト
リフルオロメトキシフェニル基、4−トリフルオロメト
キシフェニル基などのトリフルオロメトキシ基を1個有
するアリール基;2−フルオロフェニル基、3−フルオ
ロフェニル基、4−フルオロフェニル基などのフッ素を
1個有するアリール基;2−クロロフェニル基、3−ク
ロロフェニル基、4−クロロフェニル基などの塩素を1
個有するアリール基;2−ブロモフェニル基、3−ブロ
モフェニル基、4−ブロモフェニル基などの臭素を1個
有するアリール基;2−ヨードフェニル基、3−ヨード
フェニル基、4−ヨードフェニル基などのヨウ素を1個
有するアリール基;2−ニトロフェニル基、3−ニトロ
フェニル基、4−ニトロフェニル基などのニトロ基を1
個有するアリール基;2−アセチルフェニル基、3−ア
セチルフェニル基、4−アセチルフェニル基などのアセ
チル基を1個有するアリール基;2−シアノフェニル
基、3−シアノフェニル基、4−シアノフェニル基など
のシアノ基を1個有するアリール基;2−メチルフェニ
ル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、
2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エ
チルフェニル基などのアルキル基を1個有するアリール
基;2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル
基、4−メトキシフェニル基、2−エトキシフェニル
基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基
などのアルコキシ基を1個有するアリール基;2−メト
キシカルボニルフェニル基、3−メトキシカルボニルフ
ェニル基、4−メトキシカルボニルフェニル基、2−エ
トキシカルボニルフェニル基、3−エトキシカルボニル
フェニル基、4−エトキシカルボニルフェニル基などの
アルコキシ基を1個有するアリール基などが挙げられ
る。
As an example of the aryl group represented by the general formula (3), a trifluoromethyl group such as a 2-trifluoromethylphenyl group, a 3-trifluoromethylphenyl group or a 4-trifluoromethylphenyl group may be used. Aryl group having one trifluoromethoxy group such as 2-trifluoromethoxyphenyl group, 3-trifluoromethoxyphenyl group, and 4-trifluoromethoxyphenyl group; 2-fluorophenyl group, 3-fluoro Aryl group having one fluorine such as phenyl group and 4-fluorophenyl group; chlorine such as 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group and 4-chlorophenyl group
Aryl group having one bromine such as 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group; 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group, etc. An aryl group having one iodine; a nitro group such as a 2-nitrophenyl group, a 3-nitrophenyl group, a 4-nitrophenyl group
Aryl group having one acetyl group such as 2-acetylphenyl group, 3-acetylphenyl group, 4-acetylphenyl group; 2-cyanophenyl group, 3-cyanophenyl group, 4-cyanophenyl group Aryl groups having one cyano group such as 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group,
Aryl group having one alkyl group such as 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group; 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-ethoxyphenyl Group having one alkoxy group such as a group, 3-ethoxyphenyl group or 4-ethoxyphenyl group; 2-methoxycarbonylphenyl group, 3-methoxycarbonylphenyl group, 4-methoxycarbonylphenyl group, 2-ethoxycarbonylphenyl And aryl groups having one alkoxy group such as a 3-ethoxycarbonylphenyl group and a 4-ethoxycarbonylphenyl group.

【0025】また、一般式(3)で表されるアリール基
は、2個以上の置換基を有することもでき、任意の組み
合わせが可能であるが、そのうちの1個の置換基がトリ
フルオロメチル基であるアリール基が好ましく、たとえ
ば、2−クロロ−3−(トリフルオロメチル)フェニル
基、2−フルオロ−3−(トリフルオロメチル)フェニ
ル基、2−フルオロ−4−(トリフルオロメチル)フェ
ニル基、3−フルオロ−5−(トリフルオロメチル)フ
ェニル基、2−ブロモ−6−(トリフルオロメチル)フ
ェニル基、4−クロロ−2−(トリフルオロメチル)フ
ェニル基、4−フルオロ−2−(トリフルオロメチル)
フェニル基、2−クロロ−6−(トリフルオロメチル)
フェニル基、4−フルオロ−3−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、1−クロロ−4−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、2−フルオロ−6−(トリフルオロメ
チル)フェニル基、2−フルオロ−5−(トリフルオロ
メチル)フェニル基、2−クロロ−4−(トリフルオロ
メチル)フェニル基、4−クロロ−3−(トリフルオロ
メチル)フェニル基、4−クロロ−2−(トリフルオロ
メチル)フェニル基など;2−メチル−3−(トリフル
オロメチル)フェニル基、3−メチル−5−(トリフル
オロメチル)フェニル基、2−メチル−4−(トリフル
オロメチル)フェニル基、4,5−ジメチル−2−(ト
リフルオロメチル)フェニル基、2−メチル−5−(ト
リフルオロメチル)フェニル基、5,6−ジメチル−2
−(トリフルオロメチル)フェニル基、2−メチル−5
−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−メチル−3
−(トリフルオロメチル)フェニル基など;2−メトキ
シ−4−(トリフルオロメチル)フェニル基、2−エト
キシ−4−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−エ
トキシ−2−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−
メトキシ−2−(トリフルオロメチル)フェニル基、2
−メトキシ−5−(トリフルオロメチル)フェニル基な
ど;2−トリフルオロメトキシフェニル基、3−トリフ
ルオロメトキシフェニル基、4−トリフルオロメトキシ
フェニル基など;2−ニトロ−3−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、2−ニトロ−4−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、4−ニトロ−2−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、3−ニトロ−5−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、2−ニトロ−5−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、4−ニトロ−3−(トリフルオロメチ
ル)フェニル基など;2−シアノ−5−(トリフルオロ
メチル)フェニル基、2−シアノ−4−(トリフルオロ
メチル)フェニル基、4−フルオロ−3−シアノ−5−
(トリフルオロメチル)フェニル基、4−シアノ−3−
(トリフルオロメチル)フェニル基、2−クロロ−5−
シアノ−3−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−
シアノ−2−(トリフルオロメチル)フェニル基など;
2−アミノ−6−(トリフルオロメチル)フェニル基、
2−アミノ−5−(トリフルオロメチル)フェニル基、
2−アミノ−4−(トリフルオロメチル)フェニル基、
2−アミノ−3−(トリフルオロメチル)フェニル基、
3−アミノ−6−(トリフルオロメチル)フェニル基、
3−アミノ−5−(トリフルオロメチル)フェニル基、
4−アミノ−2−(トリフルオロメチル)フェニル基、
4−アミノ−3−(トリフルオロメチル)フェニル基、
4−アミノ−2−(トリフルオロメチル)フェニル基、
3−アミノ−5−(トリフルオロメチル)フェニル基な
どを例示することできるがこれらに限られない。
The aryl group represented by the general formula (3) can have two or more substituents and can be in any combination. One of the substituents is trifluoromethyl. An aryl group which is a group is preferable, for example, a 2-chloro-3- (trifluoromethyl) phenyl group, a 2-fluoro-3- (trifluoromethyl) phenyl group, a 2-fluoro-4- (trifluoromethyl) phenyl Group, 3-fluoro-5- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-bromo-6- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-chloro-2- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-fluoro-2- (Trifluoromethyl)
Phenyl group, 2-chloro-6- (trifluoromethyl)
Phenyl group, 4-fluoro-3- (trifluoromethyl) phenyl group, 1-chloro-4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-fluoro-6- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-fluoro-5 -(Trifluoromethyl) phenyl group, 2-chloro-4- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-chloro-3- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-chloro-2- (trifluoromethyl) phenyl group 2-methyl-3- (trifluoromethyl) phenyl group, 3-methyl-5- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-methyl-4- (trifluoromethyl) phenyl group, 4,5-dimethyl- 2- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-methyl-5- (trifluoromethyl) phenyl group, 5,6-dimethyl-2
-(Trifluoromethyl) phenyl group, 2-methyl-5
-(Trifluoromethyl) phenyl group, 4-methyl-3
-(Trifluoromethyl) phenyl group, etc .; 2-methoxy-4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-ethoxy-4- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-ethoxy-2- (trifluoromethyl) phenyl Group, 4-
Methoxy-2- (trifluoromethyl) phenyl group, 2
-Methoxy-5- (trifluoromethyl) phenyl group; 2-trifluoromethoxyphenyl group, 3-trifluoromethoxyphenyl group, 4-trifluoromethoxyphenyl group; 2-nitro-3- (trifluoromethyl) Phenyl group, 2-nitro-4- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-nitro-2- (trifluoromethyl) phenyl group, 3-nitro-5- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-nitro-5 -(Trifluoromethyl) phenyl group, 4-nitro-3- (trifluoromethyl) phenyl group and the like; 2-cyano-5- (trifluoromethyl) phenyl group, 2-cyano-4- (trifluoromethyl) phenyl Group, 4-fluoro-3-cyano-5
(Trifluoromethyl) phenyl group, 4-cyano-3-
(Trifluoromethyl) phenyl group, 2-chloro-5-
Cyano-3- (trifluoromethyl) phenyl group, 4-
A cyano-2- (trifluoromethyl) phenyl group and the like;
2-amino-6- (trifluoromethyl) phenyl group,
2-amino-5- (trifluoromethyl) phenyl group,
2-amino-4- (trifluoromethyl) phenyl group,
2-amino-3- (trifluoromethyl) phenyl group,
A 3-amino-6- (trifluoromethyl) phenyl group,
A 3-amino-5- (trifluoromethyl) phenyl group,
4-amino-2- (trifluoromethyl) phenyl group,
4-amino-3- (trifluoromethyl) phenyl group,
4-amino-2- (trifluoromethyl) phenyl group,
Examples thereof include a 3-amino-5- (trifluoromethyl) phenyl group, but are not limited thereto.

【0026】また、一般式(3)で表されるアリール基
としてはトリフルオロメチル基を二個以上有するアリー
ル基がより好ましい。
The aryl group represented by the general formula (3) is more preferably an aryl group having two or more trifluoromethyl groups.

【0027】トリフルオロメチル基を2個のみ有するア
リール基としては、2,3−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル基、2,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
基、3,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基などが
挙げられる。
The aryl group having only two trifluoromethyl groups includes 2,3-bis (trifluoromethyl) phenyl group and 2,4-bis (trifluoromethyl)
Phenyl group, 2,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2,6-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 3,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group,
3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group and the like.

【0028】また、さらに前記した置換基を有するアリ
ール基としては、2,3,4−トリス(トリフルオロメ
チル)フェニル基、2,4,5−トリス(トリフルオロ
メチル)フェニル基、2,3,5−トリス(トリフルオ
ロメチル)フェニル基、1,3,5−トリス(トリフル
オロメチル)フェニル基、3,4,5−トリス(トリフ
ルオロメチル)フェニル基、2,3,4,6−テトラキ
ス(トリフルオロメチル)フェニル基、1−ブロモ−
2,3,4−トリス(トリフルオロメチル)フェニル
基、2−ブロモ−4,5、6−トリス(トリフルオロメ
チル)フェニル基など;3,5−ジクロロ−4,6−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル基、2−クロロ−
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、2−
メトキシ−3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基、2−ブロモ−3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、2−ニトロ−4,6−ビス(トリフル
オロメチル)フェニル基、5,6−ジクロロ−1,3−
ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、4−クロロ−
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基などが
例示できるがこれらに限られない。
Further, examples of the aryl group having a substituent described above include a 2,3,4-tris (trifluoromethyl) phenyl group, a 2,4,5-tris (trifluoromethyl) phenyl group, and a 2,3,4-tris (trifluoromethyl) phenyl group. , 5-tris (trifluoromethyl) phenyl group, 1,3,5-tris (trifluoromethyl) phenyl group, 3,4,5-tris (trifluoromethyl) phenyl group, 2,3,4,6- Tetrakis (trifluoromethyl) phenyl group, 1-bromo-
2,3,4-tris (trifluoromethyl) phenyl group, 2-bromo-4,5,6-tris (trifluoromethyl) phenyl group and the like; 3,5-dichloro-4,6-bis (trifluoromethyl ) Phenyl group, 2-chloro-
3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2-
Methoxy-3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2-bromo-3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2-nitro-4,6-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 5 , 6-Dichloro-1,3-
Bis (trifluoromethyl) phenyl group, 4-chloro-
Examples thereof include a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, but are not limited thereto.

【0029】一般式(1)で表される化合物においてL
で表されるホスフィン配位子は、特に限定されないが、
一般式(4)、 P(R3)3 (4) (式中、R3はそれぞれ独立に置換基を有することもあ
るフェニル基、炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で
表されるホスフィン配位子である。ここで、R3はそれ
ぞれ独立に無置換であるかまたは炭素数1〜6のアルキ
ル基が置換したフェニル基、または炭素数1〜6の分岐
を有することもあるアルキル基である。具体的には、フ
ェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル
基、メチル基、エチル基、n−ブチル基などから選ばれ
た基であることが好ましい。また、Lで表されるホスフ
ィン配位子は、トリフェニルホスフィン、トリス(o−
トリル)ホスフィン、トリス(m−トリル)ホスフィ
ン、トリス(p−トリル)ホスフィンまたはトリス(n
−ブチル)ホスフィンなどが好ましく、トリフェニルホ
スフィンは特に好ましい。
In the compound represented by the general formula (1), L
The phosphine ligand represented by is not particularly limited,
Formula (4), P (R 3 ) 3 (4) (wherein R 3 independently represents a phenyl group which may have a substituent, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms). Phosphine ligand. Here, R 3 is each independently unsubstituted or a phenyl group substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having a branched chain having 1 to 6 carbon atoms. Specifically, it is preferably a group selected from a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group and the like. The phosphine ligand represented by L is triphenylphosphine, tris (o-
Tolyl) phosphine, tris (m-tolyl) phosphine, tris (p-tolyl) phosphine or tris (n
-Butyl) phosphine and the like are preferable, and triphenylphosphine is particularly preferable.

【0030】この新規化合物は結晶性であり、多くの有
機溶媒に溶解し、安定である。また、室温において空気
中で安定である。
This novel compound is crystalline, is soluble in many organic solvents, and is stable. It is stable in air at room temperature.

【0031】このような物理的、化学的性質を有するた
めに単離操作が容易であるので高純度の物質が得られや
すく、保存も容易であるので工業的な使用においても取
り扱い易いという特徴がある。
Because of these physical and chemical properties, the isolation operation is easy, so that a high-purity substance is easily obtained, and storage is easy, so that it is easy to handle even in industrial use. is there.

【0032】本発明の錯化合物の製造法は特に限定され
ないが以下に例示的に示す。密閉でできる容器に一般式
(5)
The method for producing the complex compound of the present invention is not particularly limited, but is exemplified below. General formula (5) for hermetically sealed containers

【0033】[0033]

【化11】 Embedded image

【0034】(式中、R1はトリフルオロメチル基を表
し、nは1〜3の整数を表す。)で表わされる安息香酸
と一般式(6)
(Wherein R 1 represents a trifluoromethyl group, and n represents an integer of 1 to 3), and benzoic acid represented by the general formula (6):

【0035】[0035]

【化12】 Embedded image

【0036】(式中、Xはハロゲン(フッ素、塩素、臭
素またはヨウ素をいう)、トリフルオロメタンスルホネ
ート基、炭素数1〜4のアルキルスルホネート基、置換
または非置換アリールスルホネート基を表し、R2、m
は一般式(1)に同じ)で表される芳香族化合物、溶
媒、パラジウム化合物、ホスフィン配位子となるホスフ
ィン、塩基性物質を仕込む。溶媒としては、融点が低い
場合には一般式(6)で表される芳香族化合物が使える
他、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
などの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン(THF)、エチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン類、アセトニトリルなどのニトリル類、ピリジンなど
の第三アミン類、N,N−ジメチルホルムアミド(DM
F)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)など
の酸アミド類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ス
ルホランなどの含硫黄化合物、水などを使うことができ
る。
(Wherein, X represents a halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine), a trifluoromethanesulfonate group, an alkylsulfonate group having 1 to 4 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylsulfonate group;
Are the same as in the general formula (1)), a solvent, a palladium compound, phosphine which is a phosphine ligand, and a basic substance. As the solvent, when the melting point is low, an aromatic compound represented by the general formula (6) can be used, and for example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran (THF) and ethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; nitriles such as acetonitrile; tertiary amines such as pyridine; N, N-dimethylformamide (DM
F), acid amides such as N, N-dimethylacetamide (DMAc), sulfur-containing compounds such as dimethylsulfoxide (DMSO) and sulfolane, water and the like can be used.

【0037】塩基性物質としては、アンモニア、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
トリアリルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N
−ジエチルアニリン、ピリジン、N−メチルモルホリン
などの第三アミン類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムな
どの酢酸塩、あるいは、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基な
どを挙げることができる。
As the basic substance, ammonia, triethylamine, tripropylamine, tributylamine,
Triallylamine, N, N-dimethylaniline, N, N
Tertiary amines such as diethylaniline, pyridine and N-methylmorpholine; acetates such as sodium acetate and potassium acetate; and inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. Can be.

【0038】パラジウム化合物としては、酢酸パラジウ
ム、塩化パラジウム、臭化パラジウムなどが好適であ
る。
As the palladium compound, palladium acetate, palladium chloride, palladium bromide and the like are preferred.

【0039】原料各物質の使用比率は特に限定されない
が、パラジウムを有効に利用するために、一般式(6)
で表される芳香族化合物と一般式(5)で表される安息
香酸はそれぞれ1当量以上用い、ホスフィンは2当量以
上使用するのが好ましい。他の溶媒等は適宜の量を使用
すればよい。
The proportion of each of the starting materials used is not particularly limited, but in order to make effective use of palladium, the general formula (6)
It is preferable to use at least one equivalent of the aromatic compound represented by the formula and benzoic acid represented by the formula (5), and to use at least two equivalents of the phosphine. Other solvents and the like may be used in appropriate amounts.

【0040】容器は加圧してもしなくてもよく、攪拌し
てもしなくてもよい。仕込んだ原料などは通常は50〜
150℃程度に加熱して反応の進行を速める。所定の時
間が経過した後、容器を冷却して内容物を取り出す。内
容物に適宜抽出溶媒を加え固形分を分離して、揮発成分
を留去すれば目的とする一般式(1)で表される錯化合
物が得られる。必要に応じて再結晶により精製すること
ができる。
The container may or may not be pressurized and may or may not be agitated. Normally 50 ~
Heating to about 150 ° C. accelerates the progress of the reaction. After a predetermined time has elapsed, the container is cooled and the contents are taken out. An extraction solvent is appropriately added to the contents to separate a solid content, and a volatile component is distilled off to obtain a desired complex compound represented by the general formula (1). If necessary, it can be purified by recrystallization.

【0041】また、前記の製造法において一般式(5)
で表される安息香酸を使用しないでほぼ同様の反応条件
で、ほぼ同様の処理を行うことによって、一般式(7)
In the above production method, the compound represented by the general formula (5)
By performing substantially the same treatment under substantially the same reaction conditions without using the benzoic acid represented by the general formula (7),

【0042】[0042]

【化13】 Embedded image

【0043】(式中のR2、X、mは一般式(6)にお
ける記号と、また、Lは一般式(4)における記号と同
じ)で表されるパラジウム錯化合物を調製し、得られた
錯化合物と一般式(5)で表わされる安息香酸と前記の
溶媒、塩基を容器に仕込み、必要に応じて加熱し、前記
同様の精製方法を施すことで一般式(1)で表される錯
化合物が得られる。
(Wherein R 2 , X and m are the same symbols as in the general formula (6), and L is the same as the symbol in the general formula (4)). The complex compound, the benzoic acid represented by the general formula (5), the solvent and the base described above are charged into a container, heated if necessary, and subjected to the same purification method as described above to be represented by the general formula (1). A complex compound is obtained.

【0044】本発明にかかるパラジウム錯化合物として
は、例えば、下式で表される[3,5−ビス(トリフル
オロメチル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリフル
オロメチル)フェニルビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(II)、[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゾアト]3’−トリフルオロメチルフェニルビ
ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)が挙げら
れる。
The palladium complex compound according to the present invention includes, for example, [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ′, 5′-bis (trifluoromethyl) phenylbis (trifluoromethyl) Phenylphosphine)
Palladium (II) and [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3′-trifluoromethylphenylbis (triphenylphosphine) palladium (II).

【0045】パラジウムの量は、使用するハロゲン化芳
香族化合物に対してその割合が0.0001〜1モル
%、好ましくは0.005〜0.05モル%になるよう
に選ぶことができる。
The amount of palladium can be selected so that the proportion thereof relative to the halogenated aromatic compound used is 0.0001 to 1 mol%, preferably 0.005 to 0.05 mol%.

【0046】次に、本発明の製造方法を詳細に説明す
る。本発明に使用するアクリル酸誘導体は、例えば一般
式(8)で表される化合物である。
Next, the production method of the present invention will be described in detail. The acrylic acid derivative used in the present invention is, for example, a compound represented by the general formula (8).

【0047】[0047]

【化14】 Embedded image

【0048】式中、RはCNまたはCOR4であり、こ
こでR4はOH、O−C6-10のアリール、O−C1-20
アルキル、NH2、NH−C6-10のアリール、NHC
1-20のアルキル、N−C6-10のアリール、N−(C1-20
のアルキル)−C6-10のアリールまたはN−(C1-20
アルキル)2であり、R’はH、C1-10のアルキル、C
6-2 0のアリールまたはRである。
Wherein R is CN or COR 4 , wherein R 4 is OH, aryl of OC 6-10 , alkyl of OC 1-20 , NH 2 , NH-C 6-10 Aryl, NHC
Alkyl of 1-20 , aryl of NC 6-10 , N- (C 1-20
R ′ is H, C 1-10 alkyl, C 1-10 alkyl, C 6-10 aryl or N- (C 1-20 alkyl) 2
6-2 0 aryl or R.

【0049】一般式(8)においてRは、R4がOH、
O−C1-20のアルキル、特に好ましくはOH、O−C
1-10のアルキルであるCOR4であるのが好ましい。具
体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸
n−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、アクリル酸t
−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸
イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル
酸ペンチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シク
ロヘキシルなどが挙げられる。
In the general formula (8), R is such that R 4 is OH,
O-C 1-20 alkyl, particularly preferably OH, OC
It is preferably COR 4 which is an alkyl of 1-10 . Specifically, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, t-acrylate
-Butyl, pentyl acrylate, octyl acrylate,
Cyclohexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, pentyl methacrylate, octyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, etc. Is mentioned.

【0050】本発明に使用するハロゲン化芳香族化合物
は、一般式(9)で表される化合物である。
The halogenated aromatic compound used in the present invention is a compound represented by the general formula (9).

【0051】[0051]

【化15】 Embedded image

【0052】式中、Yは塩素、臭素またはヨウ素であ
り、R5はC6-10の−アリール、C1-2 0のアルキル、C
N、S−R6、CO−OR6、−F、CF3、−OCF3
OR6またはNR6 2であり、ただしR6は水素、C6-10
アリールまたはC1-20のアルキルであり、pは1または
2であり、qは1〜5であり、p+qは2〜6である。
[0052] wherein, Y is chlorine, bromine or iodine, R 5 is a C 6-10 - aryl, alkyl C 1-2 0, C
N, S-R 6, CO -OR 6, -F, CF 3, -OCF 3,
An OR 6 or NR 6 2, provided that R 6 is hydrogen, alkyl aryl or C 1-20 of C 6-10, p is 1 or 2, q is 1 to 5, p + q is 2 ~ 6.

【0053】一般式(9)において、R5は好ましくは
CF3、OR6またはNR6 2であり、ただしR6はフェニ
ルまたはC1-10のアルキルであり、R5はさらに好まし
くはCF3である。pは好ましくは1である。
[0053] In the general formula (9), R 5 is preferably CF 3, OR 6 or NR 6 2, provided that R 6 is an alkyl phenyl or C 1-10, R 5 is more preferably CF 3 It is. p is preferably 1.

【0054】一般式(9)で表されるハロゲン化芳香族
化合物としては、R5の少なくとも1個がCF3であるの
が好ましく、少なくとも2個がCF3であるのがより好
ましい。そのような芳香族化合物としては、一般式
(3)で表される該当する置換フェニル基とY(臭素)
からなる化合物が例示できる。特に好ましいものとし
て、トリフルオロメチル基を1個のみ有するものとして
は、2−トリフルオロメチルブロモベンゼン、3−トリ
フルオロメチルブロモベンゼン、4−トリフルオロメチ
ルブロモベンゼン、また、トリフルオロメチル基を2個
のみ有するものとしては、2,3−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロモベンゼン、2,4−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロモベンゼン、2,5−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロモベンゼン、2,6−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロモベンゼン、3,4−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロモベンゼン、3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)ブロモベンゼンが挙げられる。
[0054] As the halogenated aromatic compound represented by the general formula (9) is preferably at least one R 5 is CF 3, and more preferably at least two are CF 3. Such aromatic compounds include a substituted phenyl group represented by the general formula (3) and Y (bromine)
Can be exemplified. Particularly preferred are those having only one trifluoromethyl group, such as 2-trifluoromethylbromobenzene, 3-trifluoromethylbromobenzene, 4-trifluoromethylbromobenzene, or 2-trifluoromethylbromobenzene. The compounds having only 2,3-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 2,4-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 2,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 2,6-bis (trifluoromethyl) bromobenzene Bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 3,4-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, and 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene are exemplified.

【0055】ハロゲン化芳香族化合物のアクリル酸誘導
体に対するモル比は任意に選ぶことができる。該モル比
が1:0.7〜1:3の範囲内で実施するのが好まし
く、この比が1:0.8〜1:1.5であるのが特に好
ましい。Yで表される2個のハロゲン原子が反応におい
て活性な場合は2倍量のアクリル酸誘導体が用いられ
る。
The molar ratio of the halogenated aromatic compound to the acrylic acid derivative can be arbitrarily selected. The molar ratio is preferably in the range from 1: 0.7 to 1: 3, particularly preferably from 1: 0.8 to 1: 1.5. When two halogen atoms represented by Y are active in the reaction, twice the amount of the acrylic acid derivative is used.

【0056】本発明方法のための適当な無機塩基は、例
えば弱酸のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の塩であ
り、好ましくはアルカリ金属及びアルカリ土類金属の酢
酸塩、重炭酸塩、及び/または炭酸塩である。酢酸ナト
リウム、炭酸ナトリウムの使用が特に好ましい。ハロゲ
ン化芳香族化合物の塩基に対する比は、好ましくは0.
3〜2、特に好ましくは0.4〜1.3になるように選
ばれ、ハロゲン化芳香族化合物のモル当り当量の塩基が
用いられる。
Suitable inorganic bases for the process according to the invention are, for example, alkali metal and alkaline earth metal salts of weak acids, preferably alkali metal and alkaline earth metal acetates, bicarbonates, and / or It is a carbonate. The use of sodium acetate and sodium carbonate is particularly preferred. The ratio of halogenated aromatic compound to base is preferably 0.5.
3 to 2, particularly preferably 0.4 to 1.3, the equivalent of base being used per mole of halogenated aromatic compound.

【0057】本発明による方法は、例えば50〜180
℃の範囲の温度で実施することができる。好ましい温度
は80〜150℃の範囲であり、特に好ましくは使用す
る溶媒の沸点領域にある温度である。本発明方法は通常
大気圧下に実施される。しかし減圧または加圧下で実施
することもできる。加圧の適用は、反応混合物の個々の
成分が大気圧では沸騰すると思われる反応温度で実施る
ことが望ましい場合に特に適当である。本発明の方法は
一般に、窒素等の保護ガス及び撹拌下に実施される。
The method according to the invention is, for example, 50-180.
It can be carried out at a temperature in the range of ° C. Preferred temperatures are in the range from 80 to 150 ° C., particularly preferred are temperatures in the boiling range of the solvent used. The process of the invention is usually carried out at atmospheric pressure. However, it can also be carried out under reduced or elevated pressure. The application of pressure is particularly suitable when it is desired to carry out at the reaction temperature at which the individual components of the reaction mixture will boil at atmospheric pressure. The process of the invention is generally carried out under a protective gas such as nitrogen and stirring.

【0058】適当な溶媒は、例えばトルエン等の炭化水
素、テトラヒドロフラン等のエーテル、例えばN−メチ
ル−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトニトリルまたはジメチルスルホキシド等の極
性の非プロトン性溶媒である。
Suitable solvents are, for example, hydrocarbons such as toluene, ethers such as tetrahydrofuran, and polar aprotic solvents such as N-methyl-pyrrolidone, dimethylformamide, N, N-dimethylacetonitrile or dimethylsulfoxide.

【0059】本発明方法を使用して、例えば一般式(1
0)の桂皮酸誘導体を製造することが可能である。ただ
し上式中、使用した記号は式(8)及び(9)の場合に
示した意味を有する。
Using the method of the present invention, for example, the general formula (1)
It is possible to produce the cinnamic acid derivative of 0). However, in the above formula, the symbols used have the same meanings as in formulas (8) and (9).

【0060】[0060]

【化16】 Embedded image

【0061】本発明方法により桂皮酸誘導体とともに生
成した無機塩は例えば簡単な濾過(吸引または吸引しな
い)で分離することができる。また、静置して塩を沈殿
させ反応混合物の残りを傾瀉することも可能である。
The inorganic salt formed with the cinnamic acid derivative according to the process of the present invention can be separated, for example, by simple filtration (with or without suction). It is also possible to allow the salt to settle out and decant the rest of the reaction mixture.

【0062】本発明の実施態様を以下に説明する。反応
器にハロゲン化芳香族化合物、アクリル酸誘導体、無機
塩基、本発明にかかるパラジウム錯化合物、及び任意に
溶媒を仕込み、攪拌する。仕込みの順序は任意でよい。
反応器を所定の温度、50〜200℃、好ましくは80
〜150℃加熱し、もはや反応の進行が認められなくな
った後室温まで冷却する。
Embodiments of the present invention will be described below. A halogenated aromatic compound, an acrylic acid derivative, an inorganic base, a palladium complex compound according to the present invention, and optionally a solvent are charged into a reactor and stirred. The order of preparation may be arbitrary.
The reactor is heated to a predetermined temperature, 50-200 ° C., preferably 80
Heat to 150150 ° C. and cool to room temperature after no further progress of the reaction is observed.

【0063】反応液を水中に注ぎ、水性相を分離して有
機溶媒(例えばエーテル)で抽出し、水または飽和食塩
水で洗浄し次いで乾燥し、溶媒を留去し、残渣として固
体または液体の生成物を得る。必要に応じてこれを再結
晶または精留して高純度の桂皮酸誘導体を得る。
The reaction mixture is poured into water, the aqueous phase is separated and extracted with an organic solvent (eg ether), washed with water or saturated saline solution and dried, and the solvent is distilled off. Obtain the product. If necessary, this is recrystallized or rectified to obtain a high-purity cinnamic acid derivative.

【0064】[0064]

【実施例】以下に実施例をもって本発明を説明するがこ
れらの実施態様に限られない。
The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0065】[調製例1][3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニルビス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム(II)の合成 ステンレス製オートクレーブに3,5−ビス(トリフル
オロメチル)ブロモベンゼン65.3g、テトラヒドロ
フラン100ml、酢酸パラジウム50.0g、トリフ
ェニルホスフィン175.5g、3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)安息香酸57.6g、25%アンモニア
水60.8gを仕込んだ。窒素置換を2回行い、窒素圧
を3kg/cm2として攪拌を始めると内温が約50℃
に上昇した。その後油浴温度を120℃に設定し加熱を
開始した。約2時間後、内温が95.6℃に達した時点
で油浴を外し冷却した。反応液に水200mlおよびト
ルエン600mlを加え、数分間攪拌した。得られた処
理液を吸引濾過し、濾液の有機層(上層)を分液した
後、飽和食塩水で2回洗浄し、無水マグネシウムで乾燥
後、揮発成分を留去濃縮した。濃縮初期に析出した固体
を濾別し、さらに濾液を濃縮した後,n−ヘキサンを加
え冷却し析出した固体を濾別し粗生成物187.5gを
得た。粗生成物をトルエンから再結晶し淡黄色結晶14
3.0gを得た。
[Preparation Example 1] [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] Synthesis of 3 ', 5'-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II) In a stainless steel autoclave 65.3 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 100 ml of tetrahydrofuran, 50.0 g of palladium acetate, 175.5 g of triphenylphosphine, 57.6 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) benzoic acid, 25% 60.8 g of aqueous ammonia was charged. Nitrogen replacement is performed twice, the stirring is started at a nitrogen pressure of 3 kg / cm 2 , and the internal temperature becomes about 50 ° C.
Rose. Thereafter, the oil bath temperature was set to 120 ° C. and heating was started. About 2 hours later, when the internal temperature reached 95.6 ° C, the oil bath was removed and the system was cooled. 200 ml of water and 600 ml of toluene were added to the reaction solution, and the mixture was stirred for several minutes. The obtained treatment liquid was subjected to suction filtration, the organic layer (upper layer) of the filtrate was separated, washed twice with a saturated saline solution, dried over anhydrous magnesium, and concentrated by evaporation of volatile components. The solid precipitated at the initial stage of concentration was separated by filtration, and the filtrate was further concentrated. Then, n-hexane was added and the mixture was cooled, and the precipitated solid was filtered to obtain 187.5 g of a crude product. The crude product was recrystallized from toluene to give pale yellow crystals.
3.0 g were obtained.

【0066】[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゾアト]3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II) 融点:168-170℃(decomp.) IR(KBr:cm-1):3060,2926,1637,1437,1321,1277,1173,
1127,748,697,5181 H-NMR(基準物質:TMS 溶媒:CDCl3):δppm 6.97(s,1
H),7.09(s,2H),7.20-7.32(m,18H),7.40-7.50(m,12H),7.
53(s,2H),7.62(s,1H)31 P-NMR(基準物質:85%H3PO4 溶媒:CDCl3):δppm 2
5.73(s)。
[3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ', 5'-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II) Melting point: 168-170 ° C (decomp.) IR (KBr: cm -1 ): 3060,2926,1637,1437,1321,1277,1173,
1127,748,697,518 1 H-NMR (reference substance: TMS solvent: CDCl 3 ): δ ppm 6.97 (s, 1
H), 7.09 (s, 2H), 7.20-7.32 (m, 18H), 7.40-7.50 (m, 12H), 7.
53 (s, 2H), 7.62 (s, 1H) 31 P-NMR (reference substance: 85% H 3 PO 4 solvent: CDCl 3 ): δppm 2
5.73 (s).

【0067】[調製例2]ステンレス製オートクレーブ
に3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン
32.5g、テトラヒドロフラン75ml、酢酸パラジ
ウム25.0g、トリフェニルホスフィン87.3g、
25%アンモニア水38.0g(アンモニアとして9.
5g)を仕込んだ。窒素置換を2回行い、窒素圧を3k
g/cm2として攪拌を始めると内温が上昇した。その
後油浴温度を105℃に設定し加熱を開始した。約1.
8時間後、内温が97℃に達した時点で油浴を外し冷却
した。反応液にトルエン200mlを加え、数分間攪拌
し、得られた処理液を吸引濾過し、濾物を少量のn−ヘ
キサンで洗浄した後、乾燥し淡緑色結晶72.10gを
得た。
[Preparation Example 2] In a stainless steel autoclave, 32.5 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 75 ml of tetrahydrofuran, 25.0 g of palladium acetate, 87.3 g of triphenylphosphine,
38.0 g of 25% aqueous ammonia (9.
5g) was charged. Perform nitrogen replacement twice and increase nitrogen pressure to 3k
When stirring was started at g / cm 2, the internal temperature rose. Thereafter, the oil bath temperature was set at 105 ° C., and heating was started. About 1.
Eight hours later, when the internal temperature reached 97 ° C., the oil bath was removed and the system was cooled. 200 ml of toluene was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for several minutes. The obtained treatment solution was subjected to suction filtration, and the residue was washed with a small amount of n-hexane and dried to obtain 72.10 g of pale green crystals.

【0068】ステンレス製オートクレーブに上で得られ
たブロモ[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル]ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)7
0.0g、3,5−ビス(トリフルオロメチル)安息香
酸39.1g、テトラヒドロフラン150mlを加え
た。そこへ25%アンモニア水20.5gを仕込んだ
後、窒素置換を2回行い、窒素圧を3kg/cm2とし
て攪拌を始め、油浴温度を100℃に設定し加熱を開始
した。約2時間後、油浴を外し冷却した。反応液にトル
エン500ml、25%アンモニア水150ml、およ
び水200mlを加え、数分間攪拌した。上層の有機層
を分液し、水洗2回、飽和食塩水で1回洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、揮発成分を留去、濃縮し、淡
黄色結晶75.3gを得た。結晶のIRおよび1H−N
MRは実施例1で得られた結晶([3,5−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリ
フルオロメチル)フェニルビス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(II))と同一であった。
Bromo [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] bis (triphenylphosphine) palladium (II) 7 obtained above in a stainless steel autoclave.
0.0 g, 39.1 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) benzoic acid and 150 ml of tetrahydrofuran were added. After charging 20.5 g of 25% aqueous ammonia, nitrogen replacement was performed twice, stirring was started at a nitrogen pressure of 3 kg / cm 2 , the oil bath temperature was set to 100 ° C., and heating was started. After about 2 hours, the oil bath was removed and cooled. To the reaction solution were added 500 ml of toluene, 150 ml of 25% aqueous ammonia, and 200 ml of water, and the mixture was stirred for several minutes. The upper organic layer was separated, washed twice with water and once with a saturated saline solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, evaporated to remove volatile components, and concentrated to obtain 75.3 g of pale yellow crystals. IR and 1 H-N of the crystal
The MR is the same as the crystal ([3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ′, 5′-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II)) obtained in Example 1. Met.

【0069】[調製例3][3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゾアト]3’−トリフルオロメチルフェ
ニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)
の合成 ステンレス製オートクレーブに、3−トリフルオロメチ
ルブロモベンゼン25.0g、テトラヒドロフラン75
ml、酢酸パラジウム25g、トリフェニルホスフィン
87.3g、25%アンモニア水38g、3,5−ビス
(トリフルオロメチル)安息香酸57.5gを仕込み、
実施例1と同様な操作を行って[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンゾアト]3’−トリフルオロメチル
フェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(II)が 32.3g得られた。
[Preparation Example 3] [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3'-trifluoromethylphenylbis (triphenylphosphine) palladium (II)
In a stainless steel autoclave, 25.0 g of 3-trifluoromethylbromobenzene and 75 of tetrahydrofuran were added.
ml, 25 g of palladium acetate, 87.3 g of triphenylphosphine, 38 g of 25% aqueous ammonia, and 57.5 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) benzoic acid,
The same operation as in Example 1 was performed to obtain 32.3 g of [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3′-trifluoromethylphenylbis (triphenylphosphine) palladium (II).

【0070】[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゾアト]3’−トリフルオロメチルフェニルビス(ト
リフェニルホスフィン)パラジウム(II)1 H-NMR(基準物質:TMS 溶媒:CDCl3):δppm 6.47(dd,
J=7.3,7.8Hz,1H),6.77(d,J=7.3Hz,1H),6.80(brs,1H),6.
95(d,J=7.8Hz,1H),7.24-7.30(m,18H),7.40-7.46(m,12
H)。
[3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3'-trifluoromethylphenylbis (triphenylphosphine) palladium (II) 1 H-NMR (reference substance: TMS solvent: CDCl 3 ): δ ppm 6.47 (dd,
J = 7.3,7.8Hz, 1H), 6.77 (d, J = 7.3Hz, 1H), 6.80 (brs, 1H), 6.
95 (d, J = 7.8Hz, 1H), 7.24-7.30 (m, 18H), 7.40-7.46 (m, 12
H).

【0071】[実施例1]3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)桂皮酸n−ブチルエステルの合成 真空乾燥した無水酢酸ナトリウム9.02gを200m
lフラスコに取り、窒素気流下、さらに3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン29.3g、ア
クリル酸n−ブチル15.4gおよび実施例1で得られ
たパラジウム錯体([3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II))210mg、N,N−ジメチルアセトアミド7
0mlを加えた。攪拌しつつ、油浴を用いて加熱した。
110℃で約1時間反応させた後室温まで冷却した。反
応液を氷水に注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を分液
した後、水で3回洗浄し、飽和食塩水で2回洗浄し次い
で無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒をエバポレー
タで減圧下留去し、残渣として褐色固体を得た。これを
n−ヘキサンで再結晶して結晶22.3gを得た。 3,5−ビス(トリフルオロメチル)桂皮酸n−ブチ
ル: 融点:47-48℃1 H-NMR:(基準物質:TMS 溶媒:CDCl3) δppm 0.975(t,J=7.3Hz,3H),1.38-1.50(m,2H),1.66-
1.75(m,2H),4.25(t,J=6.6Hz,2H)6.57(d,J=16Hz,1H),7.7
0(d,J=16Hz,1H),7.86(s,1H),7.93(s,2H)。
Example 1 Synthesis of 3,5-bis (trifluoromethyl) cinnamic acid n-butyl ester
In a nitrogen flask, 29.3 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 15.4 g of n-butyl acrylate and the palladium complex obtained in Example 1 ([3,5- Bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ′, 5′-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II)) 210 mg, N, N-dimethylacetamide 7
0 ml was added. While stirring, it was heated using an oil bath.
After reacting at 110 ° C. for about 1 hour, it was cooled to room temperature. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ether. After separating the organic layer, the mixture was washed three times with water, twice with saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure using an evaporator to obtain a brown solid as a residue. This was recrystallized from n-hexane to obtain 22.3 g of a crystal. N-butyl 3,5-bis (trifluoromethyl) cinnamate: Melting point: 47-48 ° C. 1 H-NMR: (Reference substance: TMS solvent: CDCl 3 ) δ ppm 0.975 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 1.38-1.50 (m, 2H), 1.66-
1.75 (m, 2H), 4.25 (t, J = 6.6Hz, 2H) 6.57 (d, J = 16Hz, 1H), 7.7
0 (d, J = 16 Hz, 1H), 7.86 (s, 1H), 7.93 (s, 2H).

【0072】[実施例2]3−トリフルオロメチル桂皮
酸n−ブチルエステルの合成 無水酢酸ナトリウム9.02gを200mlフラスコに
取り、窒素気流下、さらに3−トリフルオロメチルブロ
モベンゼン22.5g、アクリル酸n−ブチル15.4
gおよび実施例1で得られたパラジウム錯体([3,5
−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾアト]3’,5’
−ビス(トリフルオロメチル)フェニルビス(トリフェ
ニルホスフィン)パラジウム(II))55.1mg、およ
びN,N−ジメチルアセトアミド70mlを加えた。攪
拌しつつ、油浴を用いて加熱した。110℃で約40時
間反応させた後室温まで冷却した。反応液を氷水に注
ぎ、エーテルで抽出した。有機層を分液した後、水で3
回洗浄し、飽和食塩水で2回順次洗浄し次いで無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒をエバポレータで減圧下
留去した後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーで精製し、標題化合物21.5gを油状物として得
た。
Example 2 Synthesis of n-butyl 3-trifluoromethylcinnamate 9.02 g of anhydrous sodium acetate was placed in a 200 ml flask, and 22.5 g of 3-trifluoromethylbromobenzene and acrylic acid were added under a nitrogen stream. N-butyl acid 15.4
g and the palladium complex obtained in Example 1 ([3,5
-Bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ', 5'
55.1 mg of -bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II)) and 70 ml of N, N-dimethylacetamide were added. While stirring, it was heated using an oil bath. After reacting at 110 ° C. for about 40 hours, it was cooled to room temperature. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ether. After separating the organic layer, the organic layer is washed with water.
The extract was washed twice, successively twice with a saturated saline solution, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure by an evaporator, the obtained residue was purified by silica gel chromatography to obtain 21.5 g of the title compound as an oil.

【0073】[実施例3]3−トリフルオロメチル桂皮
酸の合成 ステンレス製オートクレーブに3−トリフルオロメチル
ブロモベンゼン56.3g、アクリル酸19.8g、ト
リエチルアミン50.6gおよび実施例1で得られたパ
ラジウム錯体([3,5−ビス(トリフルオロメチル)
ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)
フェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(I
I))137.7mg、およびテトラヒドロフラン100
mlを仕込んだ。窒素置換を2回行い、窒素圧を2.5
kg/cmとして攪拌を始め、油浴を用いて内温を1
10℃に調整しながら反応を行った。約8時間後、油浴
を外し冷却した。反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸を加えて
pH1に調整後、エーテルで抽出した。有機層を分液し
た後、水で3回洗浄し、飽和食塩水で2回洗浄し次いで
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒をエバポレータ
で減圧下留去した後、得られた残渣をn−ヘキサン/酢
酸エチルで再結晶し、標題化合物41.7gを無色結晶
として得た。 融点:135〜137℃
Example 3 Synthesis of 3-trifluoromethylcinnamic acid In a stainless steel autoclave, 56.3 g of 3-trifluoromethylbromobenzene, 19.8 g of acrylic acid, 50.6 g of triethylamine and obtained in Example 1 were obtained. Palladium complex ([3,5-bis (trifluoromethyl)
Benzoato] 3 ', 5'-bis (trifluoromethyl)
Phenylbis (triphenylphosphine) palladium (I
I)) 137.7 mg and tetrahydrofuran 100
ml. Nitrogen substitution was performed twice, and the nitrogen pressure was increased to 2.5.
Stirring was started at kg / cm 2 and the internal temperature was adjusted to 1 using an oil bath.
The reaction was performed while adjusting to 10 ° C. After about 8 hours, the oil bath was removed and cooled. The reaction solution was poured into ice water, adjusted to pH 1 by adding concentrated hydrochloric acid, and extracted with ether. After separating the organic layer, the mixture was washed three times with water, twice with saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure using an evaporator, the obtained residue was recrystallized from n-hexane / ethyl acetate to obtain 41.7 g of the title compound as colorless crystals. Melting point: 135-137 ° C

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明の製造方法は、新規のパラジウム
錯化合物を用いることで、芳香族化合物とアクリル酸誘
導体から高い収率で桂皮酸誘導体を製造することができ
る。
According to the production method of the present invention, a cinnamic acid derivative can be produced at a high yield from an aromatic compound and an acrylic acid derivative by using a novel palladium complex compound.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07F 15/00 C07F 15/00 C ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) C07F 15/00 C07F 15/00 C

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】パラジウム触媒の存在下、ハロゲン化芳香
族化合物(ハロゲンは塩素、臭素またはヨウ素)とアク
リル酸誘導体から桂皮酸誘導体を製造する方法であっ
て、パラジウム触媒として一般式(1) 【化1】 (式中、Ar1は一般式(2) 【化2】 (式中、R1はトリフルオロメチル基を表し、nは1〜
3の整数を表す。)で表されるアリール基を表し、Ar
2は一般式(3) 【化3】 (式中、R2はそれぞれ独立に、トリフルオロメチル
基、トリフルオロメチルオキシ基、ハロゲン(フッ素、
塩素、臭素またはヨウ素をいう)、ニトロ基、アセチル
基、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜
4のアルコキシ基、炭素数2〜5のアルコキシカルボニ
ル基を表し、mは0〜4の整数を表す。)で表されるア
リール基を表し、Lはそれぞれ独立にホスフィン配位子
を表す。)で表されるパラジウム錯化合物であることを
特徴とする方法。
1. A method for producing a cinnamic acid derivative from a halogenated aromatic compound (halogen is chlorine, bromine or iodine) and an acrylic acid derivative in the presence of a palladium catalyst, wherein the palladium catalyst has the general formula (1) Formula 1 (Wherein, Ar 1 is a group represented by the general formula (2): (Wherein, R 1 represents a trifluoromethyl group, and n is 1 to
Represents an integer of 3. Represents an aryl group represented by Ar)
2 is a general formula (3) (Wherein R 2 is independently a trifluoromethyl group, a trifluoromethyloxy group, a halogen (fluorine,
Chlorine, bromine or iodine), a nitro group, an acetyl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
4 represents an alkoxy group or an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 0 to 4. ), And L independently represents a phosphine ligand. A) a palladium complex compound represented by the formula:
【請求項2】使用する前記パラジウム触媒が、ハロゲン
化芳香族化合物に対して0.0001〜1モル%のパラ
ジウムの量であることを特徴とする請求項1に記載の方
法。
2. The process according to claim 1, wherein the palladium catalyst used is in an amount of 0.0001 to 1 mol% of palladium, based on the halogenated aromatic compound.
【請求項3】アクリル酸誘導体が、一般式(8) 【化4】 (式中、RはCNまたはCOR4であり、ここでR4はO
H、O−C6-10のアリール、O−C1-20のアルキル、N
2、NH−C6-10のアリール、NH−C1-20のアルキ
ル、N−C6-10のアリール、N−(C1-20のアルキル)
−C6-10のアリールまたはN−(C1-20のアルキル)2
であり、R’はH、C1-10のアルキル、C6 -20のアリー
ルまたはRである)で表されるアクリル酸誘導体である
ことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
3. An acrylic acid derivative represented by the general formula (8): Wherein R is CN or COR 4 , where R 4 is O
H, aryl of OC 6-10 , alkyl of OC 1-20 , N
H 2, aryl NH-C 6-10, alkyl of NH-C 1-20, aryl of N-C 6-10, N- (alkyl C 1-20)
-C 6-10 aryl or N- (C 1-20 alkyl) 2
In and, R 'is H, A method according to claim 1 or 2, characterized in that an acrylic acid derivative represented by C 1-10 alkyl, aryl, or R a C 6 -20).
【請求項4】ハロゲン化芳香族化合物が、一般式(9) 【化5】 (式中、Yは塩素、臭素またはヨウ素であり、R5はC
6-10の−アリール、C1-2 0のアルキル、CN、S−
6、CO−OR6、−F、CF3、−OCF3、OR6
たはNR6 2であり、ただしR6は水素、C6-10のアリー
ルまたはC1-20のアルキルであり、pは1または2であ
り、qは1〜5であり、p+qは2〜6である。)で表
されるハロゲン化芳香族化合物であり、ハロゲン化芳香
族化合物のアクリル酸誘導体に対するモル比が1:0.
7〜1:3の範囲であることを特徴とする請求項1乃至
3の何れかに記載の方法。
4. A halogenated aromatic compound represented by the general formula (9): Wherein Y is chlorine, bromine or iodine, and R 5 is C
6-10 - aryl, alkyl C 1-2 0, CN, S-
R 6, CO-OR 6, -F, CF 3, an -OCF 3, OR 6 or NR 6 2, provided that R 6 is hydrogen, alkyl aryl or C 1-20 of C 6-10, p Is 1 or 2, q is 1 to 5, and p + q is 2 to 6. ), Wherein the molar ratio of the halogenated aromatic compound to the acrylic acid derivative is 1: 0.
4. The method according to claim 1, wherein the range is from 7 to 1: 3.
【請求項5】一般式(9)で表されるハロゲン化芳香族
化合物において、R5の少なくとも1個がCF3であるこ
とを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein in the halogenated aromatic compound represented by the general formula (9), at least one of R 5 is CF 3 .
【請求項6】一般式(9)で表されるハロゲン化芳香族
化合物において、R5がCF3、Yが臭素、nは1または
2であることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記
載の方法。
6. The halogenated aromatic compound represented by the general formula (9), wherein R 5 is CF 3 , Y is bromine, and n is 1 or 2. The method described in Crab.
【請求項7】方法が50〜180℃の範囲の温度で行わ
れることを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の
方法。
7. The method according to claim 1, wherein the method is carried out at a temperature in the range from 50 to 180 ° C.
【請求項8】方法が保護ガスの下で撹拌しながら行われ
ることを特徴とする請求項1乃至7の何れかに記載の方
法。
8. The method according to claim 1, wherein the method is carried out with stirring under a protective gas.
【請求項9】一般式(2)で表されるアリール基がビス
(トリフルオロメチル)フェニル基である請求項1乃至
8の何れかに記載の方法。
9. The method according to claim 1, wherein the aryl group represented by the general formula (2) is a bis (trifluoromethyl) phenyl group.
【請求項10】一般式(2)で表されるアリール基が
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基である
請求項1乃至9の何れかに記載の方法。
10. The method according to claim 1, wherein the aryl group represented by the general formula (2) is a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group.
【請求項11】一般式(3)で表されるアリール基のR
2の少なくとも1個がトリフルオロメチル基である請求
項1乃至10の何れかに記載の方法。
11. An aryl group represented by the general formula (3):
The method according to any one of claims 1 to 10 2 of at least one is a trifluoromethyl group.
【請求項12】一般式(3)で表されるアリール基がフ
ェニル基、トリフルオロメチルフェニル基またはビス
(トリフルオロメチル)フェニル基である請求項1乃至
11の何れかに記載の方法。
12. The method according to claim 1, wherein the aryl group represented by the general formula (3) is a phenyl group, a trifluoromethylphenyl group or a bis (trifluoromethyl) phenyl group.
【請求項13】一般式(3)で表されるアリール基が、
3−トリフルオロメチルフェニル基または3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニル基である請求項1乃至
12の何れかに記載の方法。
13. An aryl group represented by the general formula (3):
The method according to any one of claims 1 to 12, which is a 3-trifluoromethylphenyl group or a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group.
【請求項14】一般式(3)で表されるアリール基がフ
ェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基または
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基であっ
て、一般式(2)で表されるアリール基が3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニル基である請求項1乃至
13の何れかに記載の方法。
14. The aryl group represented by the general formula (3) is a phenyl group, a 3-trifluoromethylphenyl group or a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group. 14. The method according to claim 1, wherein the represented aryl group is a 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group.
【請求項15】Lで表されるホスフィン配位子が一般式
(4)、 P(R33 (4) (式中、R3はそれぞれ独立に置換基を有することもあ
るフェニル基、炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で
表されるホスフィン配位子である請求項1乃至14の何
れかに記載の方法。
15. A phosphine ligand represented by L is a compound represented by the general formula (4): P (R 3 ) 3 (4) wherein R 3 is independently a phenyl group which may have a substituent; The method according to any one of claims 1 to 14, wherein the phosphine ligand is represented by the following formula:
【請求項16】R3がそれぞれ独立にフェニル基、o−
トリル基、m−トリル基、p−トリル基、メチル基、エ
チル基またはn−ブチル基から選ばれた基である請求項
1乃至15の何れかに記載の方法。
16. R 3 is independently a phenyl group, o-
The method according to any one of claims 1 to 15, wherein the group is a group selected from a tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a methyl group, an ethyl group, and an n-butyl group.
【請求項17】両方のLがトリフェニルホスフィンであ
る請求項1乃至16の何れかに記載の方法。
17. The method according to claim 1, wherein both L are triphenylphosphine.
【請求項18】パラジウム触媒が[3,5−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリ
フルオロメチル)フェニルビス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(II)である請求項1乃至17の何れかに
記載の方法。
18. The palladium catalyst is [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ′, 5′-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II). 18. The method according to any of 17.
【請求項19】パラジウム触媒が[3,5−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゾアト]3’−トリフルオロメチ
ルフェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(II)である請求項1乃至18の何れかに記載の方法。
19. The method according to claim 1, wherein the palladium catalyst is [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3′-trifluoromethylphenylbis (triphenylphosphine) palladium (II). the method of.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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