JP2000227398A - ガス分析におけるベースガス補正方法とこれを用いたガス分析装置 - Google Patents

ガス分析におけるベースガス補正方法とこれを用いたガス分析装置

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JP2000227398A
JP2000227398A JP11028950A JP2895099A JP2000227398A JP 2000227398 A JP2000227398 A JP 2000227398A JP 11028950 A JP11028950 A JP 11028950A JP 2895099 A JP2895099 A JP 2895099A JP 2000227398 A JP2000227398 A JP 2000227398A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベースガス補正を簡易に行うことができるガ
ス分析におけるベースガス補正方法とこれを用いたガス
分析装置を提供すること。 【解決手段】 サンプルガスSに含まれる測定対象ガス
の濃度をガス分析計3によって分析する場合、このガス
分析計3の出力を、前記サンプルガスSに含まれるベー
スガスの濃度と測定対象ガスのスパン感度との関係を用
いて定点補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガス分析におけ
るベースガス補正方法とこれを用いたガス分析装置に関
する。
【0002】
【発明の背景】従来より、ガソリン車やディーゼル車に
代わるものとして電気自動車がその実用化に向けて研究
が行われており、この電気自動車のエネルギー供給方式
の一つとして燃料電池を用いることが検討されている。
図4は、一般的な燃料電池システムの構成を概略的に示
すもので、この図において、41はメタノール供給源
で、これからのメタノール(CH3 OH)が改質器42
に供給され、ここで、適宜の触媒の下に改質されて、水
素ガス(H2 )が発生する。このとき水素ガス以外にC
O(一酸化炭素)やCO2 (二酸化炭素)あるいはHC
(炭化水素)などの不純物が発生するため、これらの不
純物を不純物除去部43において除去処理した後、水素
ガスのみが燃料電池44に供給される。
【0003】この場合、発生する水素ガスの濃度は数%
〜数10%というように%オーダーであるが、不純物と
してのCO、HCの濃度はppmオーダーであり、ま
た、CO2 の濃度は体積%オーダーというように、きわ
めて微量であるが、燃料電池44を良好に稼働させる上
においては、前記不純物の濃度を正確に把握し、水素ガ
スに含まれる含まれる不純物を可及的に少なくすること
が必要である。
【0004】そこで、上記燃料電池システムにおいて
は、図4に示すように、改質器42直後のガス流路45
にサンプルガス流路46を接続し、このサンプルガス流
路46に非分散型赤外線ガス分析計(NDIR)や、磁
気式酸素計、水素イオン化検出法分析計(FID)など
各種のガス分析計47を設けて、その出力から改質器4
2において発生した水素ガスに含まれるCO、CO2
HCなどの不純物の濃度を監視したり、不純物除去部4
3直後のガス流路48にサンプルガス流路49を接続
し、このサンプルガス流路49に前記ガス分析計47と
同様のガス分析計50を設け、ガス分析計47,50の
出力の差をとることにより、不純物除去部43において
前記不純物がどの程度除去されたかを把握できるように
し、これらに基づいて改質器42や不純物除去部43を
制御し、燃料電池44に品質の高い水素ガスが供給され
るようにしている。
【0005】しかしながら、上記COやCO2 などのガ
ス濃度を測定においては、測定対象ではない水素ガスが
測定対象ガスであるCOやCO2 に比べてはるかに大量
であり、この水素ガスが所謂ベースガスとなって、これ
がCOやCO2 の濃度測定におけるスパン感度に少なか
らぬ影響を与えている。
【0006】図3は、サンプルガス中の水素ガス濃度の
スパン感度に与える影響を示すもので、この図におい
て、符号A,B,C,Dは、それぞれ、CO計、CO2
計、THC計(全炭化水素濃度を測定するガス分析
計)、O2 計(酸素濃度を測定するガス分析計)におけ
るスパン感度の変化を示す曲線である。この図から、例
えばCO計においては、サンプルガス中の水素ガス濃度
が大きくなるに伴ってスパン感度が単調的に低下してい
ることが分かる。そして、CO2 計やO2 計において
は、前記水素ガス濃度が大きくなるに伴ってスパン感度
が単調的に増加している。さらに、THC計において
は、水素ガス濃度が大きくなるとスパン感度は一旦低下
し、ある濃度以上になるとスパン感度は増加している。
【0007】
【従来の技術およびその問題点】従来においては、前記
ベースガスとしての水素ガスの影響を連続補正の手法に
より行うようにしていたが、直線に近似できないような
複雑な補正曲線を1または複数用いる必要があり、非常
に補正が煩雑であるにもかかわらず精度が必ずしも十分
ではなく、また、各ガス分析計の応答速度の相違から補
正に時間がかかったり、誤差が大きくなってしまうとい
ったことがあった。
【0008】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、ベースガス補正を簡易に行うこ
とができるガス分析におけるベースガス補正方法とこれ
を用いたガス分析装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のガス分析におけるベースガス補正方法
は、サンプルガスに含まれる測定対象ガスの濃度をガス
分析計によって分析する場合、このガス分析計の出力
を、前記サンプルガスに含まれるベースガスの濃度と測
定対象ガスのスパン感度との関係を用いて定点補正する
ようにしている(請求項1)。
【0010】そして、この発明では、サンプルガスに含
まれる測定対象ガスの濃度を分析するガス分析計とこの
ガス分析計からの出力を処理する演算処理部とを備えた
ガス分析装置において、前記演算処理部において、前記
サンプルガスに含まれるベースガスの濃度と測定対象ガ
スのスパン感度との関係を用いて前記ガス分析計からの
出力を定点補正するようにしている(請求項2)。
【0011】なお、サンプルガスに含まれるベースガス
の濃度を検出するためのガス分析計を設けてもよく(請
求項2および4)、また、前記ベースガスの濃度の時間
的変化が予め分かっている場合には、前記ガス分析計を
設ける必要はない。
【0012】この発明においては、サンプルガスに含ま
れるベースガスの濃度と測定対象ガスのスパン感度との
関係を用いて、測定対象ガスを測定するためのガス分析
計からの出力を定点補正するようにしているので、前記
出力を簡便かつ迅速に補正することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】図1は、この発明のガス分析装置
の構成を概略的に示すもので、この図1において、1は
水素ガスを主として含むサンプルガスSが流れるサンプ
ルガス流路で、その上流側は、例えば水素ガスを発生さ
せるための改質器(図示していない)の後段のガス流路
(図示していない)に接続されている。そして、このサ
ンプルガス流路1の下流側は、複数の互いに並列な流路
2に分岐されており、各分岐流路2にはサンプルガスS
中に含まれるCO、CO2 、THCなどの測定対象ガス
の濃度をそれぞれ分析するためのガス分析計3および水
素ガスの濃度を分析するためのH2 計4が設けられてい
る。
【0014】5は複数のガス分析計3およびH2 計4の
出力信号が入力され、これに基づいてサンプルガスS中
に含まれる測定対象ガスおよび水素ガスのそれぞれ濃度
を求めるための演算処理部としてのパソコンである。
【0015】そして、この発明のガス分析装置において
は、パソコン5においてガス分析計3のそれぞれの出力
からCO、CO2 、THCなどの測定対象ガスの濃度を
求める場合、ベースガスとしての水素ガスの影響を除去
するため、サンプルガスSに含まれる水素ガスの濃度と
測定対象ガスのスパン感度との関係を用いて定点補正す
るようにしている。以下、この定点補正の一例を、図2
および図3を参照しながら説明する。
【0016】既に説明したように、CO、CO2 、TH
Cなどを測定するガス分析計3においては、サンプルガ
スSに水素ガスが含まれていると、そのスパン感度に影
響を受けるが、サンプルガスS中の水素ガスの濃度とス
パン感度との間には、図3に示すような関係があること
が分かっている。つまり、スパン感度は、前記水素ガス
の変化と密接に関連して変化しているが、これを連続的
に補正することは、既に説明しているように、好ましく
ない。この発明では、この連続補正に代わるものとし
て、定点補正している。
【0017】例えば、CO計においては、そのスパン感
度は、図3の符号Aで示すように変化するが、サンプル
ガスS中の水素ガスの濃度範囲を、例えば10体積%き
ざみでグループ区分し、そのグループにおける中間の値
を用いて補正を行うのである。図中の●印a1 〜a
5 は、それぞれ、水素ガス濃度が0〜10体積%、10
〜20体積%、20〜30体積%、30〜40体積%、
40〜50体積%において用いられる値である。同様
に、CO2 計、THC計、O2 計においても図中の○印
で示すように、各グループにおける中間の値を用いるよ
うにする。
【0018】図2は、前記値を用いた感度補正表の一例
を示すもので、この補正表は、パソコン5のRAM内に
記憶されており、この補正表において、Group1,
2,3,4,5は前記水素ガス濃度の10体積%きざみ
の範囲に対応している。例えばCO2 計においては、水
素ガス濃度が0〜10体積%の範囲であれば、補正係数
として1.01を用い、以下、10体積%きざみで設定
された濃度範囲が変わるごとに、それぞれの範囲におい
て設定された補正係数を用いるのである。そして、この
補正係数は、H2 計4の出力に基づいてパソコン5にお
いて演算された水素ガス濃度に基づいて自動的に選択さ
れるようになっている。
【0019】そして、各ガス分析計3の出力は、パソコ
ン5において、例えば下記の(1)式によって補正され
る。 補正後の出力=スパン補正係数×ガス分析計出力 ……(1)
【0020】上述したように、この発明においては、サ
ンプルガスSに含まれるベースガスの濃度と測定対象ガ
スのスパン感度との関係を用いて、測定対象ガスを測定
するためのガス分析計3からの出力を定点補正するよう
にしているので、ガス分析計3の出力を簡便かつ迅速に
補正することができ、測定対象ガスの濃度を精度よく測
定することができる。
【0021】上述の実施の形態においては、ベースガス
としての水素ガスの濃度を専用のH 2 計4を用いて測定
し、補正係数が自動的に設定されるようにしているが、
水素ガスの時間的な濃度変化が予め把握できるような場
合には、H2 計4を省略することができるが、前記図2
に示すパソコン5の画面において、マニュアル操作によ
り補正係数を設定する必要がある。すなわち、図2にお
ける符号6で示すグループ選択キーを用いて、グループ
選択を行うのである。
【0022】そして、上述の実施の形態においては、燃
料電池システムにおける例を挙げ、ベースガスとして水
素ガスを例示しているが、この発明はこれに限られるも
のではなく、ベースガスの影響を受けやすいガス分析に
広く適用することができる。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、この発明において
は、サンプルガスに含まれるベースガスの濃度と測定対
象ガスのスパン感度との関係を用いて、測定対象ガスを
測定するためのガス分析計からの出力を定点補正するよ
うにしているので、ガス分析計におけるスパン感度がベ
ースガスの影響によって変化するような場合において、
所望の測定対象ガスを精度よくしかも簡便に測定するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明のガス分析装置の一例を概略的に示す
図である。
【図2】前記ガス分析装置において用いる補正表を表示
したパソコンの画面の一例を示す図である。
【図3】サンプルガス中の水素ガス濃度とガス分析計の
スパン感度との関係を概略的に示す図である。
【図4】発明の背景を説明するための図である。
【符号の説明】
3…測定対象ガス分析用ガス分析計、4…ベースガス分
析用ガス分析計、5…演算処理部、S…サンプルガス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G053 AA05 BA06 BB01 BB02 CB07 CB11 CB21 CC02 CC03 2G059 AA01 AA05 BB01 CC04 CC07 CC20 DD01 DD12 DD20 EE01 EE12 FF08 FF10 HH01 KK01 MM01 MM13 MM15 MM16 MM17 NN01 PP01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 サンプルガスに含まれる測定対象ガスの
    濃度をガス分析計によって分析する場合、このガス分析
    計の出力を、前記サンプルガスに含まれるベースガスの
    濃度と測定対象ガスのスパン感度との関係を用いて定点
    補正することを特徴とするガス分析におけるベースガス
    補正方法。
  2. 【請求項2】 ベースガス濃度を専用のガス分析計で測
    定するようにした請求項1に記載のガス分析におけるベ
    ースガス補正方法。
  3. 【請求項3】 サンプルガスに含まれる測定対象ガスの
    濃度を分析するガス分析計とこのガス分析計からの出力
    を処理する演算処理部とを備えたガス分析装置におい
    て、前記演算処理部において、前記サンプルガスに含ま
    れるベースガスの濃度と測定対象ガスのスパン感度との
    関係を用いて前記ガス分析計からの出力を定点補正する
    ことを特徴とするガス分析装置。
  4. 【請求項4】 サンプルガスに含まれるベースガスの濃
    度を検出するためのガス分析計を設け、このガス分析計
    の出力を演算処理部に入力するようにした請求項3に記
    載のガス分析装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018091827A (ja) * 2016-11-29 2018-06-14 株式会社堀場製作所 ガス分析装置及びガス分析方法

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