JP2000222778A - Optical disk and its production - Google Patents

Optical disk and its production

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JP2000222778A
JP2000222778A JP11020291A JP2029199A JP2000222778A JP 2000222778 A JP2000222778 A JP 2000222778A JP 11020291 A JP11020291 A JP 11020291A JP 2029199 A JP2029199 A JP 2029199A JP 2000222778 A JP2000222778 A JP 2000222778A
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JP
Japan
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thickness
film
adhesive
substrate
optical disk
Prior art date
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Application number
JP11020291A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Iwasaki
眞明 岩崎
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Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
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Publication date
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disk in which an adhesive can be surely cured by increasing the transmitted amt. of UV rays and durability of the film thickness can be improved. SOLUTION: Reflection films 2, 2 are formed on two transparent substrates 1, 1 having signals. The substrates 1, 1 with the signals are laminated with an adhesive 4 with the reflection films 2, 2 facing each other. The reflection film 2 consists of an aluminum alloy and is formed to have the thickness >425 Åand <500 Å.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクおよび
その製造方法に関する。詳しくは、反射膜の膜厚を42
5オングストロームより厚く500オングストロームよ
り薄い範囲にすることによって、紫外線の透過量を多く
して接着剤の硬化を確実にすることができるとともに、
膜厚の耐久性を良好なものとなるようにしようとした光
ディスクおよびその製造方法に関するものである。
The present invention relates to an optical disk and a method for manufacturing the same. Specifically, the thickness of the reflective film is set to 42
By setting the thickness to be greater than 5 angstroms and less than 500 angstroms, it is possible to increase the amount of transmitted ultraviolet light and to ensure the curing of the adhesive.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk and a method for manufacturing the same, which are designed to improve the durability of the film thickness.

【0002】[0002]

【従来の技術】オーディオ用その他の各種情報を記録す
る光学記録媒体として、その記録もしくは再生を光照射
によって行う光ディスク等の光学記録媒体があるが、例
えばコンパクトディスクにおけるようなROM型におい
てその情報記録層にデータ情報、トラッキングサーボ信
号等の記録がなされる位相ピット、プリグルーブ等の微
細凹凸の形成がなされている。この微細凹凸を有する情
報記録層は、射出成形法等により形成することができ
る。
2. Description of the Related Art As an optical recording medium for recording various kinds of information for audio and the like, there is an optical recording medium such as an optical disk whose recording or reproduction is performed by light irradiation. Fine irregularities such as phase pits and pregrooves for recording data information and tracking servo signals are formed on the layer. The information recording layer having the fine irregularities can be formed by an injection molding method or the like.

【0003】光学記録媒体においては、第1の基板およ
び第2の基板に、第1および第2の反射層が形成され、
これらの間に接着剤膜が介在されて、両基板が、第1お
よび第2の反射膜を互いに内側になるように合致させた
構成とするものが提案されている。
In an optical recording medium, first and second reflective layers are formed on a first substrate and a second substrate,
There has been proposed a configuration in which an adhesive film is interposed between them so that both substrates are matched with the first and second reflection films so as to be inside each other.

【0004】この光学記録媒体においては、例えばポリ
カーボネート等の光透過性樹脂の射出成形のよって、第
1の基板の成形と同時に第1の基板の一主面に、データ
用記録ピット、またはプリグルーブ等の第1の微細凹凸
を形成し、これの上に第1の反射膜を形成する。
In this optical recording medium, data recording pits or pregrooves are formed on one main surface of the first substrate simultaneously with the molding of the first substrate by injection molding of a light-transmitting resin such as polycarbonate. Are formed, and a first reflection film is formed thereon.

【0005】一方、この第1の基板と同様の方法によ
り、射出成形により、一主面のデータ記録ピット、また
はプリグルーブ等の第2の微細凹凸が形成された第2の
基板を形成し、この第2の微細凹凸上に反射膜を被着し
て、第2の反射膜を形成する。
On the other hand, by the same method as that of the first substrate, a second substrate having data recording pits on one main surface or second fine irregularities such as pregrooves is formed by injection molding. A reflective film is formed on the second fine irregularities to form a second reflective film.

【0006】そして、回転チャックの水平基台上に第2
の基板を、その中心孔に、回転チャックの中心軸を貫通
させ、第2の反射膜が上になるように載置・保持し、そ
の第2の反射膜上に光硬化性接着剤を塗布する。つぎ
に、第1の基板を、その中心孔に、回転チャックの中心
軸を貫通させて載置し、第1の反射膜と第2の反射膜と
が内側になるように合致させる。
Then, a second base is placed on the horizontal base of the rotary chuck.
The substrate is placed and held so that the center axis of the rotary chuck penetrates the center hole of the substrate, and the second reflective film is placed on the substrate, and a photocurable adhesive is applied on the second reflective film. I do. Next, the first substrate is placed through the center hole of the first substrate with the center axis of the rotary chuck penetrating therethrough, and the first reflection film and the second reflection film are aligned so as to be inside.

【0007】つぎに、回転チャックを高速で回転させる
ことにより、第1および第2の基板の間に介在させた光
硬化性接着剤を均一に延伸させる。
Next, by rotating the rotary chuck at a high speed, the photocurable adhesive interposed between the first and second substrates is uniformly stretched.

【0008】そして、第1の基板側から、光照射、例え
ば紫外線照射を行い、光硬化性接着剤を硬化させ、第1
の基板および第2の基板を接着させ、第1の基板および
第2の基板を貼り合わせ構造の光ディスクを形成する。
Then, light irradiation, for example, ultraviolet irradiation is performed from the first substrate side to cure the photocurable adhesive,
The first substrate and the second substrate are bonded together to form an optical disk having a structure in which the first substrate and the second substrate are bonded to each other.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の両面信号入り貼り合わせ光ディスクを貼り合わ
せるとき、以下のような問題点が指摘されている。
However, the following problems have been pointed out when pasting the above-mentioned conventional double-sided signal-attached bonded optical disk.

【0010】すなわち、まずアルミニウム(Al)材を
使って反射膜を必要以上に厚くすると、紫外線硬化樹脂
を使った接着剤を硬化させる光の透過量が少なくなり、
接着剤は硬化しなくなる。
That is, if the reflection film is made thicker than necessary using an aluminum (Al) material, the amount of light transmitted through the adhesive that uses an ultraviolet curable resin is reduced,
The adhesive will not cure.

【0011】また、紫外線の発光量を多くするか照射時
間を長くすれば、接着剤は硬化するが、ディスク基板に
多くの光が照射されディスクを発熱させ、反りの原因に
なったり、基板を脆くしたりするので好ましくない。
If the amount of ultraviolet light emitted is increased or the irradiation time is lengthened, the adhesive is cured, but the disk substrate is irradiated with a large amount of light, causing the disk to generate heat and causing warpage or damage to the substrate. It is not preferred because it becomes brittle.

【0012】また、接着剤の硬化する光感度を上げても
硬化をするが、感度を上げたことで、接着する前や、余
った接着剤を再使用するときに、接着剤が硬化したりす
るので安定性に欠け好ましくない。
Further, the adhesive cures even if the photosensitivity of the adhesive is increased. However, since the sensitivity is increased, the adhesive is hardened before bonding or when the surplus adhesive is reused. Therefore, it is not preferable because of lack of stability.

【0013】また、反射膜厚を薄くしすぎると、反射膜
のライフが短くなることが実験で確かめられている。
It has been experimentally confirmed that if the thickness of the reflective film is too small, the life of the reflective film is shortened.

【0014】また、金(Au)、銀(Ag)などを使っ
て膜厚を薄くして光の透過量を多くし、かつディスクに
必要な反射率を得る方法もあるが、膜材がアルミニウム
(Al)に比べ高価になるので、製造コスト面から好ま
しくない。
There is also a method of increasing the light transmission amount by reducing the film thickness using gold (Au), silver (Ag), or the like, and obtaining a reflectance required for a disk. Since it is more expensive than (Al), it is not preferable in terms of manufacturing cost.

【0015】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、紫外線の透過量を多くして接着剤の硬化
を確実にすることができるとともに、膜厚の耐久性を良
好なものとすることができる光ディスクおよびその製造
方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to increase the amount of transmitted ultraviolet light to ensure the curing of an adhesive and to improve the durability of a film thickness. It is an object of the present invention to provide an optical disk and a method of manufacturing the same.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の光ディスクは、
それぞれ反射膜を有する2枚の信号入り基板を貼り合わ
せた光ディスクにおいて、反射膜のうち少なくとも一方
が、アルミニウム合金からなりかつその膜厚が425オ
ングストロームより厚く500オングストロームより薄
い範囲にあるものである。
The optical disk of the present invention comprises:
In an optical disk in which two signal-containing substrates each having a reflective film are bonded together, at least one of the reflective films is made of an aluminum alloy and has a thickness of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms.

【0017】また、本発明の光ディスクの製造方法は、
信号入り基板に反射膜を形成する工程と、2枚の上記信
号入り基板を、反射膜を向かい合わせて、接着剤により
貼り合わせる工程とを有する光ディスクの製造方法にお
いて、反射膜のうち少なくとも一方が、アルミニウム合
金からなりかつその膜厚が425オングストロームより
厚く500オングストロームより薄い範囲にあるもので
ある。
Further, the method for manufacturing an optical disk of the present invention comprises:
In a method for manufacturing an optical disc, comprising: a step of forming a reflective film on a signal-containing substrate; and a step of bonding the two signal-containing substrates to each other with the reflective films facing each other with an adhesive. , An aluminum alloy having a thickness of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms.

【0018】本発明の光ディスクおよびその製造方法に
よれば、反射膜のうち少なくとも一方が、アルミニウム
合金からなりかつその膜厚が425オングストロームよ
り厚く500オングストロームより薄い範囲にあるの
で、反射膜における紫外線の透過量を多くすることがで
きる。
According to the optical disk of the present invention and the method of manufacturing the same, at least one of the reflective films is made of an aluminum alloy and has a thickness in a range of more than 425 Å and less than 500 Å, so that the ultraviolet light in the reflective film can be reduced. The amount of transmission can be increased.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、光ディスクおよびその製造
方法に係る発明の実施の形態について図1〜図5、およ
び表1〜3を参照しながら説明する。図1は、本発明に
係る光ディスク、すなわち両面信号入り貼り合わせ光デ
ィスクの断面を示すものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the invention relating to an optical disk and a method for manufacturing the same will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 shows a cross section of an optical disk according to the present invention, that is, a bonded optical disk containing a double-sided signal.

【0020】図において、2枚の透明な信号入り基板
1,1には、それぞれ反射膜2,2が形成されている。
また、この信号入り基板1,1はそれぞれの反射膜2,
2を向かい合わせるようにして接着剤4により貼り合わ
されている。ここで、反射膜2は、アルミニウム合金か
らなり、またこの反射膜2の膜厚は425オングストロ
ームより厚く500オングストロームより薄い範囲にな
るように形成されている。
In FIG. 1, two transparent signal-containing substrates 1, 1 are provided with reflection films 2, 2, respectively.
The signal-containing substrates 1 and 1 are respectively reflective films 2 and
2 are bonded to each other with the adhesive 4 so as to face each other. Here, the reflection film 2 is made of an aluminum alloy, and is formed so that the film thickness of the reflection film 2 is in a range of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms.

【0021】図2は、図1例の拡大図であり、反射膜2
は微細な凹凸が形成されることにより、信号が記録され
ている。反射膜2の厚さは凹凸の形状にかかわりなく、
常に425オングストロームより厚く500オングスト
ロームより薄い範囲になるように形成されている。
FIG. 2 is an enlarged view of the example of FIG.
The signal is recorded by forming fine irregularities. Regardless of the shape of the unevenness, the thickness of the reflective film 2
It is formed so that it is always thicker than 425 angstroms and thinner than 500 angstroms.

【0022】つぎに、光ディスクの製造方法について説
明する。最初に、例えばポリカーボネート等の光透過性
樹脂の射出成形によって、第1の基板の成形と同時に第
1の基板の一主面に、データ記録ピット、またはプリグ
ルーブ等の第1の微細凹凸を形成し、第1の信号入り基
板1を成形する。
Next, a method for manufacturing an optical disk will be described. First, first fine irregularities such as data recording pits or pregrooves are formed on one main surface of the first substrate simultaneously with the molding of the first substrate by injection molding of a light-transmitting resin such as polycarbonate. Then, the first signal-containing substrate 1 is formed.

【0023】つぎに、この第1の基板と同様の方法によ
り、射出成形により、一主面のデータ記録ピット、また
はプリグルーブ等の第2の微細凹凸が形成された第2の
基板を形成し、第2の信号入り基板1を成形する。
Next, a second substrate having data recording pits on one principal surface or second fine irregularities such as pregrooves is formed by injection molding in the same manner as the first substrate. Then, the second signal-containing substrate 1 is formed.

【0024】つぎに、上述の2つの信号入り基板1,1
に反射膜2,2を形成する。すなわち、第1および第2
の信号入り基板1,1の微細凹凸上に反射膜2,2を形
成するものである。ここで、反射膜2の材料としては、
アルミニウム(Al)合金(JIS4000〜600
0)を用いる。このアルミニウム合金(JIS4000
〜6000)は、耐食性に優れているものである。な
お、反射膜2の材料としては、このアルミニウム合金に
限定されるわけではなく、他の材料すなわち耐食性に優
れた他の金属や合金でもよいことはもちろんである。ま
た、ここでは反射膜2,2の膜厚は450オングストロ
ームとした。
Next, the above-described two signal-containing substrates 1, 1
The reflection films 2 and 2 are formed. That is, the first and second
The reflective films 2 and 2 are formed on the fine irregularities of the signal-containing substrates 1 and 1. Here, as a material of the reflection film 2,
Aluminum (Al) alloy (JIS4000-600
0) is used. This aluminum alloy (JIS4000)
-6000) are excellent in corrosion resistance. The material of the reflection film 2 is not limited to this aluminum alloy, but may be another material, that is, another metal or alloy having excellent corrosion resistance. Here, the thicknesses of the reflection films 2 and 2 were set to 450 Å.

【0025】なお、反射膜を形成し、反射膜の膜厚を調
整する方法としては、以下の2つの方法がある。すなわ
ち、1つの方法はスパッタンリングによるものであり、
スパッタリングで行う場合は、図4に示すように、スパ
ッタ時のアルミニウム(Al)ターゲット7への印加電
圧と主としてスパッタ時間を制御することで膜厚を調整
することができる。すなわち、スパッタ時間にほぼ比例
して膜厚を厚くすることができる。
The following two methods are available for forming a reflective film and adjusting the thickness of the reflective film. That is, one method is by sputtering.
In the case of performing the sputtering, as shown in FIG. 4, the film thickness can be adjusted by controlling the voltage applied to the aluminum (Al) target 7 during the sputtering and mainly the sputtering time. That is, the film thickness can be increased almost in proportion to the sputtering time.

【0026】また、他の方法は、蒸着法によるものであ
り、蒸着法で行う場合は、図5に示すように、アルミニ
ウム12の量を加減することで膜厚の調整をすることが
できる。
Another method is based on the vapor deposition method. When the method is performed by the vapor deposition method, the film thickness can be adjusted by adjusting the amount of aluminum 12 as shown in FIG.

【0027】つぎに、上述した2枚の信号入り基板1,
1を、反射膜2,2を向かい合わせて、接着剤4により
貼り合わせる。すなわち、スピンコーターの円盤状の真
空チャックによる回転チャックの水平基台上に、第2の
基板を、その中心孔に、回転チャックの中心軸を貫通さ
せて、第2の反射膜が上になるように載置し、回転チャ
ックにより保持し、その第2の反射膜上に例えば液状光
硬化性接着剤を例えば滴下によって載せる。
Next, the two signal-containing substrates 1 and 2 described above are used.
1 is bonded with an adhesive 4 with the reflection films 2 and 2 facing each other. That is, the second substrate is passed through the center axis of the rotary chuck through the horizontal base of the rotary chuck formed by the disk-shaped vacuum chuck of the spin coater, and the second reflection film is turned upward. , And held by a rotary chuck, and a liquid photocurable adhesive is placed on the second reflective film by, for example, dropping.

【0028】ここで、光硬化性接着剤としてはウレタン
・アクリレート系の接着剤を用いた。なお、光硬化性接
着剤としてはウレタン・アクリレート系の接着剤に限定
されるわけではなく、このほかの光硬化性接着剤も用い
ることができることはもちろんである。
Here, a urethane / acrylate adhesive was used as the photocurable adhesive. It should be noted that the photocurable adhesive is not limited to a urethane-acrylate adhesive, and it is a matter of course that other photocurable adhesives can also be used.

【0029】つぎに、第1の基板を、その中心孔を、回
転チャックの中心軸に貫通させ、第1の反射膜と第2の
反射膜とが内側になるように合致させる。
Next, the center hole of the first substrate is made to pass through the center axis of the rotary chuck, and the first reflection film and the second reflection film are aligned so as to be inside.

【0030】つぎに、回転チャックを例えば毎分100
0〜4000回の高速で回転させることにより、第1お
よび第2の基板の間に介在された光硬化性接着剤を均一
な厚みに延伸させる。ここで、接着剤の厚さは、15〜
25μmの範囲にあることが好ましい。
Next, the rotating chuck is set to, for example, 100 rpm.
By rotating at a high speed of 0 to 4000 times, the photocurable adhesive interposed between the first and second substrates is stretched to a uniform thickness. Here, the thickness of the adhesive is 15 to
It is preferably in the range of 25 μm.

【0031】その後、第1および第2の基板を光硬化性
接着剤を介在させた状態で、光硬化処理を例えば紫外線
を照射することにより行う。この紫外線照射は、メタル
ハライドまたは高圧水銀ランプ等の紫外線光源により行
うことができる。
Thereafter, a photo-curing process is performed by irradiating the first and second substrates with, for example, ultraviolet rays while the photo-curable adhesive is interposed therebetween. This ultraviolet irradiation can be performed by an ultraviolet light source such as a metal halide or a high-pressure mercury lamp.

【0032】本発明においては、この光硬化処理を第1
の基板側からの光照射とともに第2の基板側からの光照
射によって行う。すなわち、両基板からの光照射を同時
に行う。
In the present invention, this photo-curing treatment is performed in the first step.
This is performed by light irradiation from the second substrate side together with light irradiation from the second substrate side. That is, light irradiation from both substrates is performed simultaneously.

【0033】ここで、本例すなわち反射膜が450オン
グストロームの場合では、1.5KWの出力の2つのラ
ンプをそれぞれ基板の両面側から7.0秒間照射した。
または、3.0KWの出力の2つのランプをそれぞれ基
板の両面側から3.5秒間照射した。
In this example, that is, in the case where the reflection film has a thickness of 450 Å, two lamps each having an output of 1.5 KW were irradiated from both sides of the substrate for 7.0 seconds.
Alternatively, two lamps each having an output of 3.0 KW were irradiated from both sides of the substrate for 3.5 seconds.

【0034】この結果、従来の紫外線照射に比較して、
紫外線照射出力の改善および紫外線照射時間の改善を認
めることができた。すなわち、紫外線照射出力の改善に
ついては、従来すなわち、反射膜の膜厚が550オング
ストロームである場合、3.0KWの出力のランプ2つ
により光硬化処理ができたのに対して、本例すなわち反
射膜の膜厚が450オングストロームである場合、1.
5KWの出力のランプ2つにより光硬化処理ができた。
ただし、この両者の場合、照射時間は7.0秒と固定し
ている。
As a result, compared with the conventional ultraviolet irradiation,
Improvements in the UV irradiation output and UV irradiation time could be observed. That is, regarding the improvement of the ultraviolet irradiation output, the conventional example, that is, when the thickness of the reflective film was 550 Å, the photocuring process could be performed by two lamps having an output of 3.0 KW. When the thickness of the film is 450 Å,
The photo-curing process was completed by two lamps having an output of 5 KW.
However, in both cases, the irradiation time is fixed at 7.0 seconds.

【0035】また、紫外線照射時間の改善については、
従来すなわち、反射膜の膜厚が550オングストローム
である場合、照射時間が7.0秒であったのに対して、
本例すなわち反射膜の膜厚が450オングストロームで
ある場合、照射時間が3.5秒と改善された。ただし、
この両者の場合、3.0KW出力のランプ2つをそれぞ
れ使用している。
Regarding the improvement of the ultraviolet irradiation time,
Conventionally, when the thickness of the reflective film is 550 Å, the irradiation time is 7.0 seconds, whereas
In this example, that is, when the thickness of the reflective film was 450 Å, the irradiation time was improved to 3.5 seconds. However,
In both cases, two 3.0 KW output lamps are used.

【0036】なお、上述の例においては、この光硬化処
理を第1の基板側からの光照射、第2の基板側からの同
時の光照射によって行ったが、この方法により限定され
るものではない。すなわち、例えば、まず、第1の基板
側から紫外線照射を行い、つぎに、第2の基板側から少
なくとも2回の紫外線照射を行うことができる。
In the above-described example, the photo-curing process is performed by irradiating light from the first substrate side and irradiating light simultaneously from the second substrate side. However, the method is not limited to this method. Absent. That is, for example, first, ultraviolet irradiation can be performed from the first substrate side, and then, at least two times of ultraviolet irradiation can be performed from the second substrate side.

【0037】つぎに、上述のように貼り合わせることに
よりの作製した光ディスクについて、種々の評価を行っ
た。以下にこのことについて説明する。すなわち、評価
項目の内容は、アルミニウム膜厚と紫外線透過率の関
係、アルミニウム膜厚と接着剤硬化状態の関係、並び
に、アルミニウム膜厚と塗膜の耐久性の関係についてで
ある。
Next, various evaluations were made on the optical disks manufactured by bonding as described above. This will be described below. That is, the contents of the evaluation items are the relationship between the aluminum film thickness and the ultraviolet transmittance, the relationship between the aluminum film thickness and the cured state of the adhesive, and the relationship between the aluminum film thickness and the durability of the coating film.

【0038】接着剤硬化状態はつぎの方法により評価し
た。ここでは、接着剤硬化状態は、光ディスクの引き剥
がし力の大小により判断した。すなわち、光ディスクの
端部について、その下側を固定し、かつその上側にゲー
ジを取り付けてそのゲージを上に引っ張った。そして光
ディスクが開くときの荷重を求めた。なお、ゲージとし
ては、デジタルホースゲージDPX−50TR(イマタ
社製)を用いた。
The cured state of the adhesive was evaluated by the following method. Here, the cured state of the adhesive was determined based on the magnitude of the peeling force of the optical disk. That is, the lower side of the end of the optical disk was fixed, a gauge was attached to the upper side, and the gauge was pulled upward. Then, the load when the optical disk was opened was determined. As a gauge, a digital hose gauge DPX-50TR (manufactured by Imata) was used.

【0039】ここで、荷重が350g以上である時は、
硬化状態がよいと評価し結果表には○で表示した。ま
た、荷重が350g未満である時は、硬化状態が悪いと
評価し結果表には×で表示した。
Here, when the load is 350 g or more,
The cured state was evaluated as being good, and the result was indicated by a circle in the table. When the load was less than 350 g, the cured state was evaluated as poor, and the result was indicated by x in the table.

【0040】反射膜の耐久性は以下の方法により判断し
た。ここでは、信号特性のジッター(Jitter)変
化率で判断する。すなわち、光ディスクを高温高湿下に
約10日放置し、その前後のジッター値を測定した。こ
こで、例えば反射膜の膜厚が450オングストローム以
上の場合、放置前はジッター値が6.5%であるのに対
して、高温高湿下に約10日放置した後はジッター値が
7.0%となり、ジッター値の変化率は108%とな
る。
The durability of the reflection film was determined by the following method. Here, the determination is made based on a jitter (Jitter) change rate of the signal characteristics. That is, the optical disk was left under high temperature and high humidity for about 10 days, and the jitter values before and after that were measured. Here, for example, when the thickness of the reflective film is 450 Å or more, the jitter value is 6.5% before being left, whereas the jitter value is 7.0 after being left under high temperature and high humidity for about 10 days. 0%, and the rate of change of the jitter value is 108%.

【0041】一方、反射膜の膜厚が425オングストロ
ーム以下の場合、放置前はジッター値が6.5%である
のに対して、高温高湿下に約10日放置した後はジッタ
ー値が8.0%となり、ジッター値の変化率は123%
となる。ここで、変化率が120%以下である時は、耐
久性がよいと評価し結果表には○で表示した。また、変
化率が120%より大きい時は、耐久性が悪いと評価し
結果表には×で表示した。
On the other hand, when the thickness of the reflective film is 425 angstroms or less, the jitter value is 6.5% before being left, whereas the jitter value is 8 after being left under high temperature and high humidity for about 10 days. 0.0%, and the jitter value change rate is 123%.
Becomes Here, when the rate of change was 120% or less, it was evaluated that the durability was good, and the result was indicated by a circle in the table. When the rate of change was greater than 120%, the durability was evaluated as poor, and the result was indicated by x in the table.

【0042】上述した評価項目、すなわち、アルミニウ
ム膜厚と紫外線透過率の関係、アルミニウム膜厚と接着
剤硬化状態の関係、並びに、アルミニウム膜厚と塗膜の
耐久性の関係についての評価結果は表1〜3に示すとお
りである。
The above evaluation items, ie, the relationship between the aluminum film thickness and the ultraviolet transmittance, the relationship between the aluminum film thickness and the cured state of the adhesive, and the relationship between the aluminum film thickness and the durability of the coating film are shown in the table. It is as shown in 1-3.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】アルミニウム膜厚と紫外線透過率の関係を
示す表1からわかるように、膜厚が475オングストロ
ームでは透過率が0.8%と高いのに対して、膜厚が5
00オングストロームになると透過率が0.7%と低下
する。
As can be seen from Table 1 showing the relationship between the aluminum film thickness and the ultraviolet transmittance, when the film thickness is 475 Å, the transmittance is as high as 0.8%, while the film thickness is 5%.
When the thickness reaches 00 Å, the transmittance decreases to 0.7%.

【0045】[0045]

【表2】 [Table 2]

【0046】また、アルミニウム膜厚と接着剤硬化状態
の関係を示す表2からわかるように、反射膜の膜厚が5
00オングストローム以上にすると硬化させる光量が不
十分になり、厚みのこえた初期段階ではディスク基板の
部分的に厚い部分の真下の接着剤は硬化が不足し、更に
厚くなれば全面の接着剤の硬化不足が起こり、それによ
り反射膜の酸化が始まり、ディスクの信頼性を損ねる。
反射膜の膜厚が475オングストローム以下の時は接着
剤の硬化状態は良好であった。また、この結果から、反
射膜の膜厚が500オングストローム未満の時は接着剤
の硬化状態は良好であると推定できる。
As can be seen from Table 2 showing the relationship between the thickness of the aluminum film and the cured state of the adhesive, the thickness of the reflective film was 5 times.
When the thickness is more than 00 Å, the amount of light to be cured becomes insufficient. In the initial stage where the thickness is exceeded, the adhesive immediately below the partially thick portion of the disk substrate is insufficiently cured, and when the thickness is further increased, the entire surface of the adhesive is cured. A deficiency occurs, which starts to oxidize the reflective film and impairs the reliability of the disk.
When the thickness of the reflective film was 475 angstroms or less, the cured state of the adhesive was good. From this result, it can be estimated that when the thickness of the reflective film is less than 500 angstroms, the cured state of the adhesive is good.

【0047】[0047]

【表3】 [Table 3]

【0048】また、アルミニウム膜厚と膜の耐久性の関
係を示す表3からわかるように、反射膜の膜厚を425
オングストローム以下にすると、反射膜の酸化度合いが
急速に大きくなることが実験で確かめられており、ディ
スクの信頼性を損なう事になる。一方、反射膜の膜厚が
450オングストローム以上になると、膜の耐久性は良
好になる。また、この結果から、反射膜の膜厚が425
オングストロームより厚い時は膜の耐久性は良好である
と推定できる。
As can be seen from Table 3 showing the relationship between the aluminum film thickness and the durability of the film, the film thickness of the reflection film was 425.
Experiments have shown that when the thickness is less than Angstroms, the degree of oxidation of the reflective film rapidly increases, which impairs the reliability of the disk. On the other hand, when the thickness of the reflective film is 450 Å or more, the durability of the film is improved. Also, from this result, the thickness of the reflective film was 425.
When the thickness is larger than Å, it can be estimated that the durability of the film is good.

【0049】従って、この2点の欠陥を避けるには反射
膜の膜厚を上記のように限定することで達成出来る。す
なわち、反射膜の膜厚は、425オングストロームより
厚く500オングストロームより薄い範囲にあることが
好ましい。また、反射膜の膜厚は、450オングストロ
ーム以上480オングストローム以下の範囲にあること
が、さらに好ましい。
Therefore, these two defects can be avoided by limiting the thickness of the reflective film as described above. That is, it is preferable that the thickness of the reflective film be in a range of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms. More preferably, the thickness of the reflective film is in the range of 450 Å to 480 Å.

【0050】なお、このような限定反射膜厚を達成する
には、上述したスパッタリングで行う場合、スパッタ時
のアルミニウムターゲットへの印加電圧を500〜55
0Vの範囲とし、またスパッタ時間を1〜1.5秒の範
囲に制御する必要がある。また、蒸着法で行う場合は、
アルミニウムの量を加減することで膜厚の加減ができ
る。
In order to achieve such a limited reflection film thickness, in the case of performing the above-described sputtering, the voltage applied to the aluminum target at the time of sputtering is set to 500 to 55.
It is necessary to control the voltage in the range of 0 V and the sputtering time in the range of 1 to 1.5 seconds. In addition, when performing by the vapor deposition method,
The film thickness can be adjusted by adjusting the amount of aluminum.

【0051】以上のことから、本発明の実施の形態によ
れば、反射膜の膜厚を425オングストロームを越えて
500オングストローム未満の範囲とすることにより、
紫外線の透過量を多くして接着剤の硬化を確実にするこ
とができる。また、膜厚の耐久性を良好なものとするこ
とができる。すなわち、反射膜の適正なライフを得るこ
とができる。また、安価な反射膜材を使用できるので、
コストの低減を図ることができる。また、照射時間は他
工程のサイクルタイム以内に収まるので、生産性を損ね
ることがない。
As described above, according to the embodiment of the present invention, by setting the thickness of the reflective film to a range exceeding 425 Å and less than 500 Å,
By increasing the amount of transmitted ultraviolet light, the curing of the adhesive can be ensured. Further, the durability of the film thickness can be improved. That is, a proper life of the reflection film can be obtained. Also, since inexpensive reflective film materials can be used,
Cost can be reduced. Further, the irradiation time falls within the cycle time of another process, so that productivity is not impaired.

【0052】なお、上述の例では、光ディスクの両面の
反射膜の膜厚をそれぞれ425オングストロームを越え
て500オングストローム未満の場合を説明したが、こ
れに限定されるわけではない。すなわち、図3に示すよ
うに、片面のみ反射膜の膜厚を425オングストローム
を越えて500オングストローム未満とすることもでき
る。他の面は、従来一般的に採用されている550オン
グストローム越える厚さとすることができる。
In the above example, the case where the thicknesses of the reflection films on both surfaces of the optical disk are more than 425 angstroms and less than 500 angstroms, respectively, is not limited to this. That is, as shown in FIG. 3, the film thickness of the reflection film on one side can be more than 425 angstroms and less than 500 angstroms. The other surface may have a thickness in excess of 550 Å, which is commonly used in the prior art.

【0053】ここで、2つの反射膜のうち一方の反射膜
の膜厚を425オングストロームを越えて500オング
ストローム未満にする場合であっても、接着の硬化時間
は装置が必要とするサイクルタイム時間に収めることが
できる。
Here, even when the thickness of one of the two reflective films is set to be more than 425 Å and less than 500 Å, the curing time of the adhesive is set to the cycle time required by the apparatus. Can fit.

【0054】2つの反射膜の膜厚を425オングストロ
ームを越えて500オングストローム未満にするか、2
つの反射膜のうち一方の反射膜の膜厚を425オングス
トロームを越えて500オングストローム未満にするか
は、装置全体の構成、サイクルタイムなどから決めれば
よい。
The thickness of the two reflective films should be more than 425 Å and less than 500 Å, or 2
Whether the thickness of one of the two reflective films is more than 425 angstroms and less than 500 angstroms may be determined based on the configuration of the entire apparatus, cycle time, and the like.

【0055】また、上述した例においては、ディスク
状、いわゆる円板状の光ディスクに適用する場合につい
て説明したが、本発明は、このような光ディスクや、形
状に限られるものではなく、光磁気ディスク、相変化デ
ィスク、その他カード状、シート状等の微細凹凸を情報
記録層に有する各種光学記録媒体に適用することができ
る。また、本発明は上述の実施の形態に限らず本発明の
要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得るこ
とはもちろんである。
Further, in the above-described example, the case where the present invention is applied to a disk-shaped optical disk, that is, a disk-shaped optical disk, has been described. However, the present invention is not limited to such an optical disk and a shape. The present invention can be applied to various optical recording media having fine irregularities such as a card, a sheet, etc. in an information recording layer. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can adopt various other configurations without departing from the gist of the present invention.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明は、以下に記載されるような効果
を奏する。反射膜の膜厚が425オングストロームより
厚く500オングストロームより薄い範囲にあるので、
紫外線の透過量を多くして接着剤の硬化を確実にするこ
とができるとともに、膜厚の耐久性を良好なものとする
ことができる。
The present invention has the following effects. Since the thickness of the reflective film is in a range of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms,
By increasing the amount of transmitted ultraviolet light, the curing of the adhesive can be ensured, and the durability of the film thickness can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】両面信号入り貼り合わせ光ディスクの断面図で
ある。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a bonded optical disk containing a double-sided signal.

【図2】図1例の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of the example of FIG. 1;

【図3】反射膜厚が異なる場合の、両面信号入り貼り合
わせ光ディスクの断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a bonded optical disc with a double-sided signal when the reflection film thickness is different.

【図4】スパッタリングの概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram of sputtering.

【図5】蒸着の概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram of vapor deposition.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1‥‥信号入り基板、2,3‥‥反射膜、4‥‥接着
剤、5‥‥スパッタ時間タイマー、6‥‥ターゲットへ
の印加電圧、7‥‥アルミニウムターゲット、8‥‥真
空チャンバー、9‥‥アルゴンガス、10‥‥ディス
ク、11‥‥ヒータ加熱時間タイマー、12‥‥アルミ
ニウム、13‥‥真空チャンバー、14‥‥ヒータ、1
5‥‥ヒータ加熱電源
1 substrate with signal, 2, 3 reflective film, 4 adhesive, 5 sputter time timer, 6 applied voltage to target, 7 aluminum target, 8 vacuum chamber, 9 {Argon gas, 10} disk, 11} heater heating time timer, 12 aluminum, 13 vacuum chamber, 14 heater, 1
5 heater power supply

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ反射膜を有する2枚の信号入り
基板を貼り合わせた光ディスクにおいて、 上記反射膜のうち少なくとも一方は、アルミニウム合金
からなりかつその膜厚が425オングストロームより厚
く500オングストロームより薄い範囲にあることを特
徴とする光ディスク。
1. An optical disk in which two signal-containing substrates each having a reflective film are bonded to each other, wherein at least one of the reflective films is made of an aluminum alloy and has a thickness of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms. An optical disk characterized in that:
【請求項2】 信号入り基板に反射膜を形成する工程
と、 2枚の上記信号入り基板を、反射膜を向かい合わせて、
接着剤により貼り合わせる工程とを有する光ディスクの
製造方法において、 上記反射膜のうち少なくとも一方は、アルミニウム合金
からなりかつその膜厚が425オングストロームより厚
く500オングストロームより薄い範囲にあることを特
徴とする光ディスクの製造方法。
A step of forming a reflection film on the signal-containing substrate; and a step of: bringing the two signal-containing substrates into contact with the reflection film,
Wherein at least one of the reflective films is made of an aluminum alloy and has a thickness in a range of more than 425 angstroms and less than 500 angstroms. Manufacturing method.
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