JP2000216485A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2000216485A
JP2000216485A JP11015945A JP1594599A JP2000216485A JP 2000216485 A JP2000216485 A JP 2000216485A JP 11015945 A JP11015945 A JP 11015945A JP 1594599 A JP1594599 A JP 1594599A JP 2000216485 A JP2000216485 A JP 2000216485A
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JP
Japan
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output
oscillator
laser diode
circuit
terminal
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Pending
Application number
JP11015945A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Nakamoto
博之 中本
Naruhito Matsumoto
成仁 松本
Masaaki Nakatani
政明 中谷
Yoshiaki Matsumiya
芳明 松宮
Shigeo Kimura
茂夫 木村
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Inductance-Capacitance Distribution Constants And Capacitance-Resistance Oscillators (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a semiconductor device which is proper for laser diode driving by a harmonic superposition method. SOLUTION: After an output signal from an oscillator is amplified by an output amplifier, it is applied to a laser diode. A transistor element and a passive element for constituting an oscillator and an output amplifier are integrated on the same silicon semiconductor substrate. The semiconductor chip 50 is fixed on an island 51 and is connected to each lead by a bonding wire 64. An extension part 58 which is continuous to the island 51 is provided and is extended between lead terminals 60, 61. A ground potential GND is given to the extension part 58.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高周波重畳法によ
りレーザー素子を駆動する発振回路を集積化した半導体
装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor device in which an oscillation circuit for driving a laser element by a high frequency superposition method is integrated.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光ディスク技術が著しい発展を遂
げている。光ディスクは、レーザー光を用いることで記
録媒体から非接触で読み出すことが可能である。その代
表格としてのCDは、小型であることや高速アクセス性
により、現在広く市場に受け入れられている。このよう
な状況の中、DVD(デジタル・ビデオ・ディスク)が
登場した。DVD技術は、レーザー光を用いる点やディ
スクの寸法が同じである点等、CD技術と共通する部分
が多い。
2. Description of the Related Art In recent years, optical disk technology has been remarkably developed. An optical disc can be read out of a recording medium in a non-contact manner by using a laser beam. The CD as a representative is now widely accepted in the market because of its small size and high-speed accessibility. Under such circumstances, DVD (digital video disc) has appeared. DVD technology has many parts in common with CD technology, such as the use of laser light and the same disk size.

【0003】その一方で、DVDはその記憶容量(4.
7GB)がCDオーディオの記憶容量(740MB)の
約6倍にも達する利点を有し、この利点を利用して、例
えば1本の映画に相当する圧縮画像データを1枚のディ
スクに収納する用途が注目されている。更に、大容量で
あることのメリットを生かして、パーソナルコンピュー
タでの外部記憶装置としての用途も開発されている。
On the other hand, DVDs have a storage capacity (4.
7 GB) has an advantage that the storage capacity of CD audio is approximately six times (740 MB), and by utilizing this advantage, for example, an application for storing compressed image data corresponding to one movie on one disc Is attracting attention. Further, taking advantage of the large capacity, the use as an external storage device in a personal computer has been developed.

【0004】DVDがこの様な大容量を実現した要因の
一つとして、ディスクのトラックピッチをCDよりも狭
くしたことが挙げられる。トラックピッチを狭くするこ
とは一つ一つのピット自体の大きさが小さくなることを
意味し、同時にピットに照射するレーザ光のスポットを
更に小さく絞り込むことを意味する。
[0004] One of the factors for achieving such a large capacity of DVD is that the track pitch of a disk is made narrower than that of a CD. Reducing the track pitch means reducing the size of each pit itself, and at the same time, narrowing down the spot of the laser beam to be applied to the pits.

【0005】そこで、DVDプレーヤでは、レーザー光
の波長をCDに比べ短くすることで、ディスク面上での
レーザー光の焦点が小さくなるように構成する。尚、D
VD用のレーザー光の波長は635/650nmであ
り、CD用は780nmである。
Therefore, a DVD player is configured so that the laser beam has a shorter wavelength than that of a CD, so that the focal point of the laser beam on the disk surface becomes smaller. Note that D
The wavelength of the laser light for VD is 635/650 nm and that for CD is 780 nm.

【0006】図5は従来のレーザー素子を駆動するAP
C(オートパワーコントロール)回路であり、レーザー
ダイオードLDから出力されるレーザー光はDVD上に
照射されるだけでなく、フォトダイオードPDに受光さ
れる。フォトダイオードPDで光が電気信号に変換され
るが、このときレーザー光の光量に応じた電気信号が得
られる。この電気信号に応じてAPC回路は発光するレ
ーザー光の光量が一定になるように制御される。
FIG. 5 shows a conventional AP for driving a laser element.
This is a C (auto power control) circuit, and the laser light output from the laser diode LD is not only irradiated onto the DVD but also received by the photodiode PD. Light is converted into an electric signal by the photodiode PD, and at this time, an electric signal corresponding to the amount of laser light is obtained. The APC circuit is controlled in accordance with the electric signal so that the light amount of the emitted laser light becomes constant.

【0007】ところで、レーザーダイオードの発光モー
ドとしては、図6(a)の様に単一波長で発光するシン
グルモードと、図6(b)に様に複数波長で発光するマ
ルチモードとの2種類があり、様々な要因からマルチモ
ードのレーザダイオードが用いられている。780nm
の波長を用いるCD用途では、対応するレーザーダイオ
ードが開発されて安定供給されているが、波長が635
/650nmのDVD用途では、マルチモードで発光す
るレーザーダイオードは未だ信頼性が低くかったり、高
価であるなどの欠点があった。
There are two types of laser diode light emission modes: a single mode that emits light at a single wavelength as shown in FIG. 6A, and a multimode that emits light at a plurality of wavelengths as shown in FIG. 6B. Therefore, a multi-mode laser diode is used for various reasons. 780 nm
For CD applications using a wavelength of 650 nm, a corresponding laser diode has been developed and supplied stably.
For / 650 nm DVD applications, a laser diode that emits light in multi-mode still has disadvantages such as low reliability and high cost.

【0008】そこで、従来は高周波重畳法によりシング
ルモードのレーザーダイオードを駆動させて、マルチモ
ードのレーザー光を得ていた。高周波重畳法では、図6
(a)の如く短波長のレーザー光を発光し得る(シング
ルモード)レーザーダイオードが動作立ち上がり時にマ
ルチモードで発光することを利用する。特にレーザーダ
イオードが自励発振型であると、立ち上がり時にマルチ
モードになりやすい。高調波重畳法を達成する回路とし
ては、図5のようにレーザーダイオードLDに高周波信
号を印加する発振器OSCを備える。外部からレーザー
ダイオードに高周波信号を印加することで立ち上がり状
態を継続させ、複数の波長を含むレーザー光を発光させ
ている。よって、高調波重畳法により、シングルモード
のレーザーダイオードを使って、あたかもマルチモード
のレーザーダイオードを使用しているように見ることが
できるのである。シングルモードで650nmのレーザ
ー光を発光するレーザーダイオードは汎用品として広く
市場に出ているため、現在高調波重畳法が有効な手段の
一つとなっている。
Therefore, conventionally, a multi-mode laser beam has been obtained by driving a single-mode laser diode by a high-frequency superposition method. In the high frequency superposition method, FIG.
(A) A laser diode capable of emitting short-wavelength laser light (single mode) emits light in a multi-mode at the start of operation. In particular, if the laser diode is a self-pulsation type, it tends to be in a multi-mode at the time of rising. As a circuit for achieving the harmonic superposition method, an oscillator OSC for applying a high-frequency signal to the laser diode LD is provided as shown in FIG. A rising state is continued by applying a high-frequency signal to the laser diode from the outside, and laser light including a plurality of wavelengths is emitted. Thus, by using the harmonic superposition method, it is possible to use a single-mode laser diode and look as if using a multi-mode laser diode. A laser diode that emits 650 nm laser light in a single mode is widely available on the market as a general-purpose product, and the harmonic superposition method is one of the effective means at present.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、発振器の出力信号をレーザーダイオードに直接印加
していたので、ダイオードの負荷インピーダンスに依存
して発振周波数や発信出力が変化しやすい。すなわち、
発振器の高調波成分を除去するために、ユーザ側でフィ
ルタ回路を備えた場合等、該フィルタ回路の影響で発振
周波数や発振出力が変化しやすい欠点があった。
However, conventionally, since the output signal of the oscillator is directly applied to the laser diode, the oscillation frequency and the transmission output tend to change depending on the load impedance of the diode. That is,
For example, when a filter circuit is provided on the user side to remove a harmonic component of the oscillator, there is a disadvantage that the oscillation frequency and the oscillation output are easily changed by the influence of the filter circuit.

【0010】また、従来はGaAsディスクリート製品
で発振回路を構成しており、製品の低コスト化を目的と
して、このような回路をMMIC(モノリシック・マイ
クロ波集積回路)化したい要望が強くなってきた。
Conventionally, an oscillation circuit is conventionally composed of a GaAs discrete product, and there has been an increasing demand for making such a circuit an MMIC (monolithic / microwave integrated circuit) in order to reduce the cost of the product. .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題に鑑
みて成され、高周波重畳法によりレーザー素子を駆動す
るための発振回路を内蔵した半導体装置であって、発振
器と、該発振器の出力発振信号をレーザー素子に出力す
る出力増幅器と、前記増幅器の出力端子とを、同一半導
体チップ上に集積化し、前記半導体チップをリードフレ
ームのアイランドに搭載し、前記外付け端子、第1の電
源端子、及び出力端子を、各々が対応するリード端子に
電気的に接続すると共に、前記外付け端子と前記出力端
子との間に接地電位が印加される電極を延在させ、前記
半導体チップを含めて、前記リードフレームの主要部を
封止したことを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is a semiconductor device having a built-in oscillation circuit for driving a laser element by a high-frequency superposition method, comprising an oscillator and an output of the oscillator. An output amplifier for outputting an oscillation signal to a laser element and an output terminal of the amplifier are integrated on the same semiconductor chip, the semiconductor chip is mounted on an island of a lead frame, and the external terminal and the first power supply terminal are provided. And the output terminals are electrically connected to corresponding lead terminals, respectively, and an electrode to which a ground potential is applied is extended between the external terminal and the output terminal, including the semiconductor chip. The main part of the lead frame is sealed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0013】図1は本発明の実施の形態を示す図であ
り、1は共振素子LCの共振周波数に応じた発振周波数
で発振し、発振信号を出力する発振器、2は発振器1の
出力発信号を増幅する出力増幅器である。発振器1及び
出力増幅器2は同一の半導体基板上に集積化されて構成
される。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention. Reference numeral 1 denotes an oscillator that oscillates at an oscillation frequency corresponding to the resonance frequency of a resonance element LC and outputs an oscillation signal. Output amplifier. The oscillator 1 and the output amplifier 2 are configured to be integrated on the same semiconductor substrate.

【0014】図1において、発振器1は、共振素子LC
の共振周波数に応じて、数百MHzで発振する。発振器
1から発振信号は出力増幅回路2で増幅される。出力増
幅回路2の出力増幅信号は、カップリングコンデンサー
Cで直流除去される。直流除去された後の出力信号は、
APC回路からのバイアスと重畳された後、レーザーダ
イオードLDに印加される。レーザーダイオードLDと
発振増幅信号との関係は図7のようになり、前記バイア
スは、自励発振型でシングルモードであるレーザーダイ
オードLDの発振開始電流に一致する。バイアスが重畳
された発振信号によりレーザーダイオードLDが発振す
るが、正の振幅の場合レーザーダイオードLDがオン
し、負の振幅の場合レーザーダイオードLDはオフす
る。従って、レーザーダイオードLDから単位時間毎に
レーザー光が発光する。
In FIG. 1, an oscillator 1 includes a resonance element LC
Oscillates at several hundred MHz according to the resonance frequency of An oscillation signal from the oscillator 1 is amplified by the output amplifier circuit 2. The output amplified signal of the output amplifier circuit 2 is subjected to DC removal by the coupling capacitor C. The output signal after DC removal is
After being superimposed on the bias from the APC circuit, it is applied to the laser diode LD. The relationship between the laser diode LD and the oscillation amplification signal is as shown in FIG. 7, and the bias coincides with the oscillation start current of the self-oscillation type single mode laser diode LD. The laser diode LD oscillates by the oscillation signal on which the bias is superimposed. When the amplitude is positive, the laser diode LD is turned on, and when the amplitude is negative, the laser diode LD is turned off. Therefore, laser light is emitted from the laser diode LD every unit time.

【0015】このようにレーザーダイオードLDが単位
時間毎に立ち上がることにより、シングルモード型のレ
ーザーダイオードLDからマルチモードでつまり複数の
波長を含んだレーザー光が発光する。そして、レーザー
ダイオードLDは数百MHzの高周波数でオンするの
で、レーザーダイオードLDが連続して発光しているよ
うに見える。従って、レーザーダイオードLDがマルチ
モードで発振しているように見える。
As described above, the laser diode LD rises every unit time, so that the single mode type laser diode LD emits laser light in a multi-mode, that is, including a plurality of wavelengths. Since the laser diode LD is turned on at a high frequency of several hundred MHz, it looks as if the laser diode LD emits light continuously. Therefore, it appears that the laser diode LD oscillates in multi-mode.

【0016】図2は図1の発振器1及び出力増幅回路2
の具体回路例を示す図である。発振器1は、コルピッツ
型の発振器であって、ベースに外付け端子LCが接続さ
れるトランジスタTr1と、トランジスタTr1のベー
ス及びグランド接地端子(第2の電源端子GND)間に
直列接続された2つのコンデンサーC1及びC2とを備
え、コンデンサーC1及びC2の接続点がトランジスタ
Tr1のエミッタと抵抗R1を介してトランジスタTr
1のベースとに接続される。コルピッツ発振器について
は従来からよく知られた回路なので、その動作説明を省
略する。
FIG. 2 shows the oscillator 1 and the output amplifier circuit 2 of FIG.
3 is a diagram showing a specific circuit example of FIG. The oscillator 1 is a Colpitts type oscillator, and includes a transistor Tr1 having an external terminal LC connected to a base, and two transistors Tr1 connected in series between the base of the transistor Tr1 and a grounded ground terminal (second power supply terminal GND). It comprises capacitors C1 and C2, and the connection point between the capacitors C1 and C2 is connected to the transistor Tr1
1 base. Since the Colpitts oscillator is a well-known circuit, the description of its operation is omitted.

【0017】また、出力増幅器2は、ベースに発振信号
が印加されるトランジスタTr2と、トランジスタTr
2のベースバイアスを設定する抵抗R2及びR3であ
る。尚、抵抗R2は帰還抵抗も兼ねている。発振器1か
らの発振信号はトランジスタTr2のベースに印加さ
れ、電流増幅率β2によって増幅される。増幅信号はト
ランジスタTr2のコレクタに発生し、トランジスタT
r2のコレクタ電流は出力端子OUTを介してレーザー
ダイオードLD(図示されず)に供給される。これらの
発信器1と出力増幅回路2には、第1の電源端子VCC
から+5Vの如き電源電位が印加される。
The output amplifier 2 includes a transistor Tr2 to which an oscillation signal is applied to a base, and a transistor Tr2.
The resistors R2 and R3 set the base bias of R2. Note that the resistor R2 also serves as a feedback resistor. The oscillation signal from the oscillator 1 is applied to the base of the transistor Tr2 and is amplified by the current amplification factor β2. The amplified signal is generated at the collector of the transistor Tr2,
The collector current of r2 is supplied to the laser diode LD (not shown) via the output terminal OUT. These oscillator 1 and output amplifier circuit 2 have a first power supply terminal VCC.
And a power supply potential such as + 5V.

【0018】トランジスタTr2のコレクタ電流は抵抗
R2を介して帰還される。トランジスタTr2において
ベース電流とコレクタ電流とは互いに逆相関係にある
為、負帰還ループが施される。負帰還ループによって出
力増幅器2の入力インピーダンスは高くなる。一般に、
BIP形トランジスタの入力インピーダンスは低いが、
負帰還をかけることによって出力増幅器2の入力インピ
ーダンスを高めている。
The collector current of the transistor Tr2 is fed back via the resistor R2. Since the base current and the collector current of the transistor Tr2 are in opposite phase relation to each other, a negative feedback loop is performed. The input impedance of the output amplifier 2 increases due to the negative feedback loop. In general,
Although the input impedance of the BIP transistor is low,
The input impedance of the output amplifier 2 is increased by applying negative feedback.

【0019】発振器1の出力インピーダンスは数百Ωと
高く、レーザーダイオードLDの負荷は数Ωと低い。一
般に数百MHzの高周波帯で使われるような出力増幅器
2の入出力インピーダンスは低く設定されるが、本発明
の出力増幅器2の入出力インピーダンスをそれぞれ数百
Ω、数十Ωに設定することによって、発振器1とレーザ
ーダイオードLDとのインピーダンスのマッチングを取
ることができる。
The output impedance of the oscillator 1 is as high as several hundred Ω, and the load of the laser diode LD is as low as several Ω. In general, the input / output impedance of the output amplifier 2 used in a high frequency band of several hundred MHz is set low. However, by setting the input / output impedance of the output amplifier 2 of the present invention to several hundreds Ω and several tens Ω, respectively. The impedance of the oscillator 1 and the laser diode LD can be matched.

【0020】図3は、以上の回路構成を具現化した集積
回路装置を示す断面図であり、同一基板上にトランジス
タ素子TR、容量素子C、および抵抗素子Rが作り込ま
れている。同図において、11はP型のシリコン半導体
基板。13はN+型の埋め込み層、14はP+型の分離
領域、18はトランジスタ素子TRのN+型コレクタ低
抵抗領域、19は容量素子CのN+型の下部電極領域。
20は素子分離用のLOCOS酸化膜である。基板11
上に気相成長法によって形成したN型エピタキシャル層
をP+分離領域14とLOCOS酸化膜20とによって
素子分離し、素子分離した領域にトランジスタ素子TR
と容量素子Cとを形成している。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an integrated circuit device embodying the above circuit configuration, in which a transistor element TR, a capacitance element C, and a resistance element R are formed on the same substrate. In the figure, reference numeral 11 denotes a P-type silicon semiconductor substrate. 13 is an N + type buried layer, 14 is a P + type isolation region, 18 is an N + type collector low resistance region of the transistor element TR, and 19 is an N + type lower electrode area of the capacitor element C.
Reference numeral 20 denotes a LOCOS oxide film for element isolation. Substrate 11
An N-type epitaxial layer formed thereon by a vapor deposition method is separated by a P + isolation region 14 and a LOCOS oxide film 20, and the transistor element TR is formed in the isolated region.
And the capacitor C are formed.

【0021】抵抗素子Rは、ポリシリコン層の形成、不
純物(燐)ドープ、及びホトエッチングという手法によ
って、LOCOS酸化膜20の上にポリシリコン抵抗体
25を形成することで形成している。ポリシリコン抵抗
体25は、一定線幅で、所望の抵抗値が得られる長さに
形成される。また、ポリシリコン抵抗体25の上部は絶
縁層28によって被覆され、電極44、45が形成され
る。このポリシリコン抵抗体25は、回路図では図2の
抵抗R1〜R6を構成する。
The resistance element R is formed by forming a polysilicon resistor 25 on the LOCOS oxide film 20 by a technique of forming a polysilicon layer, doping impurities (phosphorus), and photoetching. The polysilicon resistor 25 is formed with a constant line width and a length at which a desired resistance value is obtained. The upper portion of the polysilicon resistor 25 is covered with an insulating layer 28, and electrodes 44 and 45 are formed. This polysilicon resistor 25 constitutes the resistors R1 to R6 of FIG. 2 in the circuit diagram.

【0022】トランジスタ素子Cは、素子分離された領
域に、P型のベース領域23を形成し、エミッタ及びベ
ースのコンタクト孔を形成した後、エミッタコンタクト
孔部分に燐ドープされたポリシリコン層を堆積して拡散
源膜31を形成し、ベースコンタクト孔には選択的にボ
ロンをイオン注入し、そしてエミッタ拡散を行うことに
よって形成している。エミッタ拡散がポリシリコン層か
らの固相拡散であるので、ベース領域23表面に極めて
浅い接合を形成することができ、これによって高周波用
途のトランジスタ素子TRを構成することができる。な
お、電極32はポリシリコン層、電極38、39、4
0、41はアルミニウム層である。このトランジスタ素
子TRは、回路図では図2のトランジスタTR1、TR
2を構成する。
In the transistor element C, a P-type base region 23 is formed in the element-isolated region, emitter and base contact holes are formed, and a phosphorus-doped polysilicon layer is deposited on the emitter contact hole. The diffusion source film 31 is formed by selectively ion-implanting boron into the base contact hole and performing emitter diffusion. Since the emitter diffusion is solid-phase diffusion from the polysilicon layer, an extremely shallow junction can be formed on the surface of the base region 23, whereby a transistor element TR for high frequency use can be configured. The electrode 32 is a polysilicon layer and the electrodes 38, 39, 4
0 and 41 are aluminum layers. This transistor element TR is equivalent to the transistors TR1 and TR in FIG.
Constituting No. 2.

【0023】容量素子Cは、素子分離された領域に、下
部電極領域19を設け、その表面の一部を開口してシリ
コン窒化膜等の誘電体薄膜27を形成し、その上に上部
電極として電極34、43を形成したものである。下部
電極領域19は電極33、42によって取り出される。
なお、電極33、34はポリシリコン層、電極42、4
3はアルミニウム層である。この容量素子は、回路図で
は図2の容量C1〜C4を構成する。
In the capacitive element C, a lower electrode region 19 is provided in a region where the element is isolated, a part of the surface is opened, a dielectric thin film 27 such as a silicon nitride film is formed, and an upper electrode is formed thereon. This is one in which electrodes 34 and 43 are formed. The lower electrode region 19 is taken out by the electrodes 33 and 42.
The electrodes 33 and 34 are a polysilicon layer, the electrodes 42 and 4
3 is an aluminum layer. This capacitance element constitutes the capacitances C1 to C4 in FIG. 2 in the circuit diagram.

【0024】これらの電極38〜45は、半導体チップ
の表面を延在して各回路素子を電気的に結線し、回路網
を構築する。また、ポリシリコン層32、33、34は
拡散源膜31と同時的に形成する事が可能である。更
に、誘電体薄膜27のシリコン窒化膜でポリシリコン抵
抗体25の上部を被覆すると、ポリシリコン抵抗体25
の抵抗値変動を防止できる。
These electrodes 38 to 45 extend on the surface of the semiconductor chip and electrically connect each circuit element to form a circuit network. Further, the polysilicon layers 32, 33 and 34 can be formed simultaneously with the diffusion source film 31. Further, when the upper portion of the polysilicon resistor 25 is covered with the silicon nitride film of the dielectric thin film 27, the polysilicon resistor 25
Resistance value fluctuation can be prevented.

【0025】図4は、このような回路・素子を形成した
半導体チップ50を、リードフレームに搭載した状態を
示す図である。半導体チップ50はリードフレームのア
イランド51上に、半導体基板11と電気的に導通する
ようにして固着されており、半導体チップ50の表面に
は、図2の回路図の外付け端子LC、出力端子OUT、
第1の電源端子VCC、及び第2の電源端子GNDに各
々対応する電極パッド52、53、54、55が設けら
れている。アイランド51からは十文字形状に2本のリ
ード端子56、57と2本の延在部58、59が連続し
ており、さらには4本の独立したリード端子60、6
1、62、63が配置されている。
FIG. 4 is a view showing a state in which the semiconductor chip 50 on which such a circuit / element is formed is mounted on a lead frame. The semiconductor chip 50 is fixed on the island 51 of the lead frame so as to be electrically connected to the semiconductor substrate 11. On the surface of the semiconductor chip 50, the external terminal LC and the output terminal of the circuit diagram of FIG. OUT,
Electrode pads 52, 53, 54, and 55 respectively corresponding to the first power supply terminal VCC and the second power supply terminal GND are provided. From the island 51, two lead terminals 56, 57 and two extending portions 58, 59 are continuous in a cross shape, and furthermore, four independent lead terminals 60, 6
1, 62 and 63 are arranged.

【0026】リード端子60、61、62は、ボンディ
ングワイヤ64によって電極パッド52、53、54に
接続され、外付け端子LC、出力端子OUT、第1の電
源端子VCC、及び第2の電源端子GNDに対応する外
部接続リード端子となる。リード端子63は非接続NC
とする。更に、延在部58に対して電極パッド55から
ボンディングワイヤ64が打たれている。これにより、
延在部58にシールド機能を持たせ、外部接続端子LC
用のリード端子60と出力端子OUT用のリード端子6
1との間の容量結合を分断している。リード端子56に
も、リード端子61とリード端子62との間の容量結合
を分離する機能がある。
The lead terminals 60, 61, and 62 are connected to the electrode pads 52, 53, and 54 by bonding wires 64, and are connected to an external terminal LC, an output terminal OUT, a first power supply terminal VCC, and a second power supply terminal GND. And the external connection lead terminal corresponding to. Lead terminal 63 is not connected NC
And Further, a bonding wire 64 is struck from the electrode pad 55 to the extending portion 58. This allows
The extension portion 58 is provided with a shielding function, and the external connection terminal LC is provided.
Lead terminal 60 for output and lead terminal 6 for output terminal OUT
1 is separated from the capacitive coupling. The lead terminal 56 also has a function of separating the capacitive coupling between the lead terminal 61 and the lead terminal 62.

【0027】そして、半導体チップを含めて、リード端
子57、58、60〜63の先端部分を外部に導出する
ようにして、主要部を熱硬化性樹脂65でトランスファ
ーモールドする。
Then, the main part is transfer-molded with the thermosetting resin 65 so that the leading ends of the lead terminals 57, 58, 60 to 63 including the semiconductor chip are led out.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明によれ
ば、発振器1と出力増幅回路2とを備えたことにより、
接続される負荷によらず安定した発信回路を提供できる
利点を有する。
As described above, according to the present invention, the provision of the oscillator 1 and the output amplifier circuit 2 enables
This has the advantage that a stable transmission circuit can be provided regardless of the connected load.

【0029】また、発振器1と出力増幅回路2及び各受
動素子をシリコン基板上に集積化したことにより、大幅
なコストダウンが可能である。
Further, since the oscillator 1, the output amplifier circuit 2, and each passive element are integrated on a silicon substrate, it is possible to greatly reduce the cost.

【0030】更に、共振回路の接続端子LCと出力端子
OUTとの間に延在部58を設けたことによって、両者
の容量結合を分離することができる。
Further, by providing the extending portion 58 between the connection terminal LC of the resonance circuit and the output terminal OUT, the capacitive coupling between the two can be separated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を説明する為の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram for explaining the present invention.

【図2】本発明を説明する為の回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram for explaining the present invention.

【図3】本発明を説明する為の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the present invention.

【図4】本発明を説明する為の平面図である。FIG. 4 is a plan view for explaining the present invention.

【図5】従来例を説明する為の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram for explaining a conventional example.

【図6】レーザの発光モードを説明するための図であ
る。
FIG. 6 is a diagram for explaining a laser emission mode.

【図7】高調波重畳法を説明する為の回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram for explaining a harmonic superposition method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 発振器 2 出力増幅回路 50 半導体チップ 51 アイランド 58 延在部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Oscillator 2 Output amplifier circuit 50 Semiconductor chip 51 Island 58 Extension part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中谷 政明 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 松宮 芳明 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 木村 茂夫 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 Fターム(参考) 5F073 AB14 BA06 FA28 FA29 GA12 5F082 AA40 BA04 BC03 BC13 BC18 EA04 FA13 FA18 5J081 AA03 BB02 CC06 CC10 CC43 DD03 EE02 EE03 FF17 FF23 JJ12 MM01 MM07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masaaki Nakatani 2-5-5 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Yoshiaki Matsumiya 2-chome, Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka No. 5 Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Shigeo Kimura 2-5-5 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka F-term in Sanyo Electric Co., Ltd. 5F073 AB14 BA06 FA28 FA29 GA12 5F082 AA40 BA04 BC03 BC13 BC18 EA04 FA13 FA18 5J081 AA03 BB02 CC06 CC10 CC43 DD03 EE02 EE03 FF17 FF23 JJ12 MM01 MM07

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高周波重畳法によりレーザー素子を駆動
するための発振回路を内蔵した半導体装置であって、 発振器と、該発振器の出力発振信号をレーザー素子に出
力する出力増幅器と、前記増幅器の出力端子とを、同一
半導体チップ上に集積化し、 前記半導体チップをリードフレームのアイランドに搭載
し、 前記外付け端子、第1の電源端子、及び出力端子を、各
々が対応するリード端子に電気的に接続すると共に、 前記外付け端子と前記出力端子との間に接地電位が印加
される電極を延在させ、 前記半導体チップを含めて、前記リードフレームの主要
部を封止したことを特徴とする、半導体装置。
1. A semiconductor device having a built-in oscillation circuit for driving a laser element by a high frequency superposition method, comprising: an oscillator; an output amplifier for outputting an output oscillation signal of the oscillator to the laser element; and an output of the amplifier. Terminals are integrated on the same semiconductor chip, the semiconductor chip is mounted on an island of a lead frame, and the external terminal, the first power supply terminal, and the output terminal are electrically connected to corresponding lead terminals. Connecting, extending an electrode to which a ground potential is applied between the external terminal and the output terminal, and sealing a main part of the lead frame including the semiconductor chip. , Semiconductor devices.
【請求項2】 前記接地電位が印加される電極が、前記
アイランドから延長されたものであることを特徴とする
請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the electrode to which the ground potential is applied extends from the island.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005184502A (en) * 2003-12-19 2005-07-07 Murata Mfg Co Ltd High-frequency oscillator

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JP4678127B2 (en) * 2003-12-19 2011-04-27 株式会社村田製作所 High frequency oscillator

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