JP2000215839A - ウエハｓｅｍにおける光学式検査装置との位置ずれ補正方法 - Google Patents
ウエハｓｅｍにおける光学式検査装置との位置ずれ補正方法Info
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- JP2000215839A JP2000215839A JP1579999A JP1579999A JP2000215839A JP 2000215839 A JP2000215839 A JP 2000215839A JP 1579999 A JP1579999 A JP 1579999A JP 1579999 A JP1579999 A JP 1579999A JP 2000215839 A JP2000215839 A JP 2000215839A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は光学式欠陥検査装置の位置ずれ補正
方法に関し、欠陥検査装置の機種毎の誤差を補正して、
ウエハＳＥＭで正確な欠陥観察を行なうことができる光
学式欠陥検査装置とウエハＳＥＭ間との位置ずれ補正方
法を提供することを目的としている。 【解決手段】 複数の各光学式検査装置とウエハＳＥＭ
との座標の個体差を事前にテーブル化しておき、ウエハ
ＳＥＭでの検査時には、その光学式検査装置に対応した
テーブルを選択して位置ずれを補正するように構成す
る。
方法に関し、欠陥検査装置の機種毎の誤差を補正して、
ウエハＳＥＭで正確な欠陥観察を行なうことができる光
学式欠陥検査装置とウエハＳＥＭ間との位置ずれ補正方
法を提供することを目的としている。 【解決手段】 複数の各光学式検査装置とウエハＳＥＭ
との座標の個体差を事前にテーブル化しておき、ウエハ
ＳＥＭでの検査時には、その光学式検査装置に対応した
テーブルを選択して位置ずれを補正するように構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハＳＥＭにお
ける光学式検査装置との位置ずれ補正方法に関する。
ける光学式検査装置との位置ずれ補正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ある光学式検査装置でウエハ上の欠陥を
発見し、その座標を記録しておいて、次にウエハＳＥＭ
（走査電子顕微鏡）で先の記憶した座標データを基に、
その欠陥を観察して、欠陥の原因等の所見を得るという
操作がある。
発見し、その座標を記録しておいて、次にウエハＳＥＭ
（走査電子顕微鏡）で先の記憶した座標データを基に、
その欠陥を観察して、欠陥の原因等の所見を得るという
操作がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】１台のＳＥＭと複数の
光学式欠陥検査装置（以下、欠陥検査装置又は光学式検
査装置という）との座標データリンク（座標データ等を
共通に使用すること）を行なう場合、欠陥検査装置の機
差（主にステージ精度）の影響を受けて、ＳＥＭ側では
以下のような不具合を生じる。
光学式欠陥検査装置（以下、欠陥検査装置又は光学式検
査装置という）との座標データリンク（座標データ等を
共通に使用すること）を行なう場合、欠陥検査装置の機
差（主にステージ精度）の影響を受けて、ＳＥＭ側では
以下のような不具合を生じる。
【０００４】（ａ）グローバルアライメント位置（ウエ
ハの中心位置）が欠陥検査装置毎にずれるため、一定の
観察倍率の視野に目標のパターンが入らない。 （ｂ）ステージゲイン（ステージの位置誤差）が欠陥検
査装置毎に異なり、この結果座標精度の不良となり、高
い倍率での観察、特に０．５μｍ以下の小さい欠陥の観
察が困難である。
ハの中心位置）が欠陥検査装置毎にずれるため、一定の
観察倍率の視野に目標のパターンが入らない。 （ｂ）ステージゲイン（ステージの位置誤差）が欠陥検
査装置毎に異なり、この結果座標精度の不良となり、高
い倍率での観察、特に０．５μｍ以下の小さい欠陥の観
察が困難である。
【０００５】これら（ａ）、（ｂ）で示す問題点は、デ
ータリンクする欠陥検査装置の数が多くなるほど、より
顕著に現れる。ＳＥＭのオペレータは、同一の装置（Ｓ
ＥＭ）を操作しているにも拘らず、座標データを供給す
る欠陥検査装置が変わる度に、アライメント位置を探し
たり、欠陥座標にステージを移動させた後も、観察倍率
を下げて欠陥を探すことが要求されている。
ータリンクする欠陥検査装置の数が多くなるほど、より
顕著に現れる。ＳＥＭのオペレータは、同一の装置（Ｓ
ＥＭ）を操作しているにも拘らず、座標データを供給す
る欠陥検査装置が変わる度に、アライメント位置を探し
たり、欠陥座標にステージを移動させた後も、観察倍率
を下げて欠陥を探すことが要求されている。
【０００６】また、欠陥検査装置のサンプルとなるウエ
ハやマスク等で問題とする欠陥やごみ（パーティクル）
等は、年を追う毎に小さくなり、現在確認されている欠
陥等のサイズは０．１μｍ程度であるが、従来の方法で
はこれらのちいさな欠陥は観察が非常に難しく、選任の
オペレータが必要になるという問題があった。
ハやマスク等で問題とする欠陥やごみ（パーティクル）
等は、年を追う毎に小さくなり、現在確認されている欠
陥等のサイズは０．１μｍ程度であるが、従来の方法で
はこれらのちいさな欠陥は観察が非常に難しく、選任の
オペレータが必要になるという問題があった。
【０００７】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであって、欠陥検査装置の機種毎の誤差を補正し
て、ウエハＳＥＭで正確な欠陥観察を行なうことができ
る光学式検査装置とウエハＳＥＭとの位置ずれ補正方法
を提供することを目的としている。
ものであって、欠陥検査装置の機種毎の誤差を補正し
て、ウエハＳＥＭで正確な欠陥観察を行なうことができ
る光学式検査装置とウエハＳＥＭとの位置ずれ補正方法
を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】（１）前記した課題を解
決する本発明は、複数の各光学式検査装置とウエハＳＥ
Ｍとの座標の個体差を事前にテーブル化しておき、ウエ
ハＳＥＭでの検査時には、その光学式検査装置に対応し
たテーブルを選択して位置ずれを補正することを特徴と
している。
決する本発明は、複数の各光学式検査装置とウエハＳＥ
Ｍとの座標の個体差を事前にテーブル化しておき、ウエ
ハＳＥＭでの検査時には、その光学式検査装置に対応し
たテーブルを選択して位置ずれを補正することを特徴と
している。
【０００９】この発明の構成によれば、ＳＥＭと各欠陥
検査装置との個体差が事前にテーブル化されているの
で、各欠陥検査装置毎の個体差に応じてウエハＳＥＭの
位置補正を行なうことで、ウエハＳＥＭで正確な欠陥観
察を行なうことができるウエハＳＥＭにおける光学式検
査装置との位置ずれ補正方法を提供することができる。
検査装置との個体差が事前にテーブル化されているの
で、各欠陥検査装置毎の個体差に応じてウエハＳＥＭの
位置補正を行なうことで、ウエハＳＥＭで正確な欠陥観
察を行なうことができるウエハＳＥＭにおける光学式検
査装置との位置ずれ補正方法を提供することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態例を詳細に説明する。図１は本発明を実施する
システム構成例を示す図である。図において、１０はウ
エハＳＥＭの動作を制御するＳＥＭホストコンピュータ
である。２０は欠陥装置毎に設けられた欠陥検査装置用
ファイルである。該欠陥検査装置用ファイル２０は、図
に示すように、欠陥検査装置１用ファイル、欠陥検査装
置２用ファイル…という具合に複数設けられている。
施の形態例を詳細に説明する。図１は本発明を実施する
システム構成例を示す図である。図において、１０はウ
エハＳＥＭの動作を制御するＳＥＭホストコンピュータ
である。２０は欠陥装置毎に設けられた欠陥検査装置用
ファイルである。該欠陥検査装置用ファイル２０は、図
に示すように、欠陥検査装置１用ファイル、欠陥検査装
置２用ファイル…という具合に複数設けられている。
【００１１】欠陥検査装置用ファイル２０は、ウエハＳ
ＥＭと各欠陥検査装置との間で位置の測定を行ない、各
欠陥検査装置３０毎にウエハＳＥＭとの位置ずれとして
予め作成され、ファイル化（テーブル化）されている。
ＥＭと各欠陥検査装置との間で位置の測定を行ない、各
欠陥検査装置３０毎にウエハＳＥＭとの位置ずれとして
予め作成され、ファイル化（テーブル化）されている。
【００１２】ある欠陥検査装置に、ウエハを所定の操作
（ウエハの芯出し、方向合わせ）に従って装填する。ウ
エハ上の適当な（例えば位置決め用のマークの、或いは
所定のパターンの所定の位置）２点の座標を記録する。
この同じウエハで、所定のウエハＳＥＭに同じく所定の
操作（ウエハの芯出し、方向合わせ）に従って装填し、
上記の２点の座標を記録する。
（ウエハの芯出し、方向合わせ）に従って装填する。ウ
エハ上の適当な（例えば位置決め用のマークの、或いは
所定のパターンの所定の位置）２点の座標を記録する。
この同じウエハで、所定のウエハＳＥＭに同じく所定の
操作（ウエハの芯出し、方向合わせ）に従って装填し、
上記の２点の座標を記録する。
【００１３】これら両者の座標の相違は、ウエハを所定
の操作（ウエハの芯出し、方向合わせ）を行なった時
の、両装置間の中心の位置ずれ、及び回転差を表わ
す。更に、上記２点間の距離の両装置の値の差異から、
両装置間のスケールの違いが分かる。また、更に２点
を４点とし、２点を結ぶ線がそれぞれほぼＸ、Ｙ軸に平
行になるようにすれば、両装置間の直交度の差異が分
かる。これら４つの試験項目は、をグローバルアライ
メント補正値、を回転補正値、をステージゲイン補
正値、を直交度補正値と呼ぶ。
の操作（ウエハの芯出し、方向合わせ）を行なった時
の、両装置間の中心の位置ずれ、及び回転差を表わ
す。更に、上記２点間の距離の両装置の値の差異から、
両装置間のスケールの違いが分かる。また、更に２点
を４点とし、２点を結ぶ線がそれぞれほぼＸ、Ｙ軸に平
行になるようにすれば、両装置間の直交度の差異が分
かる。これら４つの試験項目は、をグローバルアライ
メント補正値、を回転補正値、をステージゲイン補
正値、を直交度補正値と呼ぶ。
【００１４】このような欠陥検査装置用ファイル２０
は、フロッピーディスクやＩＣカードといった記憶媒体
として与えられてもよく、またＳＥＭホストコンピュー
タ１０内に設けられたメモリに予めテーブルとして記憶
しておくようにしてもよい。ＳＥＭホストコンピュータ
１０からはＳＥＭ本体の鏡筒、ステージ、操作画面や、
欠陥検査装置と信号が接続されている。このように構成
された装置の動作を説明すれば、以下の通りである。
は、フロッピーディスクやＩＣカードといった記憶媒体
として与えられてもよく、またＳＥＭホストコンピュー
タ１０内に設けられたメモリに予めテーブルとして記憶
しておくようにしてもよい。ＳＥＭホストコンピュータ
１０からはＳＥＭ本体の鏡筒、ステージ、操作画面や、
欠陥検査装置と信号が接続されている。このように構成
された装置の動作を説明すれば、以下の通りである。
【００１５】（１）座標データリンクを行なう欠陥検査
装置の前記したような誤差成分による機差を事前に測定
して、欠陥検査装置毎にファイル化しておく（図１参
照）。具体的には、複数の各欠陥検査装置とウエハＳＥ
Ｍとの座標の個体差を事前にテーブル化しておく。
装置の前記したような誤差成分による機差を事前に測定
して、欠陥検査装置毎にファイル化しておく（図１参
照）。具体的には、複数の各欠陥検査装置とウエハＳＥ
Ｍとの座標の個体差を事前にテーブル化しておく。
【００１６】（２）次に、データリンクを行なう際に欠
陥検査装置を図２に示すように指定する。図２は、操作
画面例を示す図である。欠陥検査装置が１番からＮ番
（Ｎは整数）まで表示されている。オペレータは、この
欠陥検査装置の中から所望の欠陥検査装置番号をクリッ
クする。
陥検査装置を図２に示すように指定する。図２は、操作
画面例を示す図である。欠陥検査装置が１番からＮ番
（Ｎは整数）まで表示されている。オペレータは、この
欠陥検査装置の中から所望の欠陥検査装置番号をクリッ
クする。
【００１７】（３）この結果、クリックされた欠陥検査
装置の補正ファイルの内容が図３に示すように選択され
る。図に示す用に、ステージゲインと、直交度と、
回転補正と、グローバルアライメント補正値と、そ
の他の補正項目とが得られる。その他の補正項目として
は、例えば傾きの補正等が考えられる。
装置の補正ファイルの内容が図３に示すように選択され
る。図に示す用に、ステージゲインと、直交度と、
回転補正と、グローバルアライメント補正値と、そ
の他の補正項目とが得られる。その他の補正項目として
は、例えば傾きの補正等が考えられる。
【００１８】これらデータをＳＥＭホストコンピュータ
１０がロードし、ＳＥＭ本体のステージパラメータに補
正を加える。具体的には、ある欠陥検査装置で発見した
ウエハの欠陥を所定のウエハＳＥＭで調べる時に、ＳＥ
Ｍホストコンピュータ１０は、その欠陥検査装置に対応
する補正値をテーブル（欠陥検査装置用ファイル２０）
から読み出して自動的にそのウエハＳＥＭの座標を補正
する。
１０がロードし、ＳＥＭ本体のステージパラメータに補
正を加える。具体的には、ある欠陥検査装置で発見した
ウエハの欠陥を所定のウエハＳＥＭで調べる時に、ＳＥ
Ｍホストコンピュータ１０は、その欠陥検査装置に対応
する補正値をテーブル（欠陥検査装置用ファイル２０）
から読み出して自動的にそのウエハＳＥＭの座標を補正
する。
【００１９】これにより、ウエハＳＥＭのオペレータ
は、欠陥検査装置の座標精度範囲内で、グローバルアラ
イメントや欠陥観察を容易に行なうことができる。ま
た、欠陥検査装置と同じステージ状態に設定できるた
め、結果的に座標精度の向上を図ることができる。
は、欠陥検査装置の座標精度範囲内で、グローバルアラ
イメントや欠陥観察を容易に行なうことができる。ま
た、欠陥検査装置と同じステージ状態に設定できるた
め、結果的に座標精度の向上を図ることができる。
【００２０】図４は本発明の他の実施例の説明図であ
る。ＳＥＭホストコンピュータ１０と、欠陥検査装置３
０との間にはスイッチＳＷが設けられており、該スイッ
チＳＷで欠陥検査装置３０の任意の１台とＳＥＭホスト
コンピュータ１０とが接続される。そして、接続された
欠陥検査装置３０からは自己のＩＤ番号がＳＥＭホスト
コンピュータ１０に通知される。このＩＤ番号を認識し
たＳＥＭホストコンピュータ１０は、対応する補正テー
ブル（欠陥検査装置用ファイル２０）から接続された欠
陥検査装置に対応した補正パラメータを呼び出して、位
置補正を行なう。ＳＥＭと各欠陥検査装置との個体差が
事前にテーブル化されているので、各欠陥検査装置毎の
個体差に応じてウエハＳＥＭの位置補正を行なうことが
でき、ウエハＳＥＭで正確な欠陥観察を行なうことがで
きる光学式欠陥検査装置の位置ずれ補正方法を提供する
ことができる。
る。ＳＥＭホストコンピュータ１０と、欠陥検査装置３
０との間にはスイッチＳＷが設けられており、該スイッ
チＳＷで欠陥検査装置３０の任意の１台とＳＥＭホスト
コンピュータ１０とが接続される。そして、接続された
欠陥検査装置３０からは自己のＩＤ番号がＳＥＭホスト
コンピュータ１０に通知される。このＩＤ番号を認識し
たＳＥＭホストコンピュータ１０は、対応する補正テー
ブル（欠陥検査装置用ファイル２０）から接続された欠
陥検査装置に対応した補正パラメータを呼び出して、位
置補正を行なう。ＳＥＭと各欠陥検査装置との個体差が
事前にテーブル化されているので、各欠陥検査装置毎の
個体差に応じてウエハＳＥＭの位置補正を行なうことが
でき、ウエハＳＥＭで正確な欠陥観察を行なうことがで
きる光学式欠陥検査装置の位置ずれ補正方法を提供する
ことができる。
【００２１】本発明によれば、以下の効果が期待でき
る。 欠陥検査装置の機差の影響を受けずに座標データリン
クができるため、グローバルアライメント位置が欠陥検
査装置毎にずれていたものが、一定の観察倍率の視野に
目標のパターンを捕獲することができる。
る。 欠陥検査装置の機差の影響を受けずに座標データリン
クができるため、グローバルアライメント位置が欠陥検
査装置毎にずれていたものが、一定の観察倍率の視野に
目標のパターンを捕獲することができる。
【００２２】ステージゲインが欠陥検査装置毎に異な
っていても、ステージ情報が欠陥検査装置毎にファイル
化されており、この情報をＳＥＭホストコンピュータが
ロードし、補正を加えることができる。
っていても、ステージ情報が欠陥検査装置毎にファイル
化されており、この情報をＳＥＭホストコンピュータが
ロードし、補正を加えることができる。
【００２３】この結果、座標精度の向上につながり、
高い倍率での観察、特に１．５μｍ以下の小さい欠陥の
観察も容易に行なうことができる。 操作性が大幅に向上するため、選任のオペレータは不
要になり、一般のオペレータでも個人差のない状態で装
置を運用することができ、更には装置の無人運転化にも
有用となる。
高い倍率での観察、特に１．５μｍ以下の小さい欠陥の
観察も容易に行なうことができる。 操作性が大幅に向上するため、選任のオペレータは不
要になり、一般のオペレータでも個人差のない状態で装
置を運用することができ、更には装置の無人運転化にも
有用となる。
【００２４】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、複数の各光学式検査装置とウエハＳＥＭとの座
標の個体差を事前にテーブル化しておき、ウエハＳＥＭ
での検査時には、その光学式検査装置に対応したテーブ
ルを選択して位置ずれを補正することにより、欠陥検査
装置の機種毎の誤差を補正して、ウエハＳＥＭで正確な
欠陥観察を行なうことができる光学式欠陥検査装置の位
置ずれ補正方法を提供することができる。
よれば、複数の各光学式検査装置とウエハＳＥＭとの座
標の個体差を事前にテーブル化しておき、ウエハＳＥＭ
での検査時には、その光学式検査装置に対応したテーブ
ルを選択して位置ずれを補正することにより、欠陥検査
装置の機種毎の誤差を補正して、ウエハＳＥＭで正確な
欠陥観察を行なうことができる光学式欠陥検査装置の位
置ずれ補正方法を提供することができる。
【図１】本発明を実施するシステム構成例を示す図であ
る。
る。
【図２】操作画面例を示す図である。
【図３】欠陥検査装置ごとの補正ファイルの内容を示す
図である。
図である。
【図４】本発明の他の実施例の説明図である。
１０ ＳＥＭホストコンピュータ ２０ 欠陥検査装置用ファイル
Claims (1)
- 【請求項１】 複数の各光学式検査装置とウエハＳＥＭ
との座標の個体差を事前にテーブル化しておき、 ウエハＳＥＭでの検査時には、その光学式検査装置に対
応したテーブルを選択して位置ずれを補正することを特
徴とするウエハＳＥＭにおける光学式検査装置との位置
ずれ補正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1579999A JP2000215839A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | ウエハｓｅｍにおける光学式検査装置との位置ずれ補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1579999A JP2000215839A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | ウエハｓｅｍにおける光学式検査装置との位置ずれ補正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000215839A true JP2000215839A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=11898900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1579999A Pending JP2000215839A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | ウエハｓｅｍにおける光学式検査装置との位置ずれ補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000215839A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7593564B2 (en) | 2004-11-17 | 2009-09-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method and apparatus for reviewing defect of subject to be inspected |
| US7752001B2 (en) * | 2006-05-26 | 2010-07-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of correcting coordinates, and defect review apparatus |
| JP2012221594A (ja) * | 2011-04-04 | 2012-11-12 | Shimadzu Corp | アレイ検査装置およびアレイ検査方法 |
-
1999
- 1999-01-25 JP JP1579999A patent/JP2000215839A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7593564B2 (en) | 2004-11-17 | 2009-09-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method and apparatus for reviewing defect of subject to be inspected |
| US7752001B2 (en) * | 2006-05-26 | 2010-07-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of correcting coordinates, and defect review apparatus |
| US8036845B2 (en) | 2006-05-26 | 2011-10-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of correcting coordinates, and defect review apparatus |
| JP2012221594A (ja) * | 2011-04-04 | 2012-11-12 | Shimadzu Corp | アレイ検査装置およびアレイ検査方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051122 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060411 |