JP2000214145A - 試料気化室 - Google Patents
試料気化室Info
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- JP2000214145A JP2000214145A JP11017568A JP1756899A JP2000214145A JP 2000214145 A JP2000214145 A JP 2000214145A JP 11017568 A JP11017568 A JP 11017568A JP 1756899 A JP1756899 A JP 1756899A JP 2000214145 A JP2000214145 A JP 2000214145A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ＰＴＶ法による試料注入を行うガスクロマトグ
ラフ分析、ガスクロマトグラフ質量分析において、再現
性のよい分析を行うことが可能な試料気化室を提供す
る。 【解決手段】試料気化室内に取り付けるガラスインサー
ト１内に、充填物として分析目的成分に対して強い吸着
作用を有する物質５と弱い吸着作用を有する物質３の少
なくとも２種類以上の物質を、インサート内部にそれぞ
れ層状に形成する。これにより、液体サンプルをＰＴＶ
法によって注入し、再現性良く分析することを可能とす
る。
ラフ分析、ガスクロマトグラフ質量分析において、再現
性のよい分析を行うことが可能な試料気化室を提供す
る。 【解決手段】試料気化室内に取り付けるガラスインサー
ト１内に、充填物として分析目的成分に対して強い吸着
作用を有する物質５と弱い吸着作用を有する物質３の少
なくとも２種類以上の物質を、インサート内部にそれぞ
れ層状に形成する。これにより、液体サンプルをＰＴＶ
法によって注入し、再現性良く分析することを可能とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスクロマトグラ
フ装置、ガスクロマトグラフ質量分析装置に関し、さら
に詳しくは試料気化室内に液体のまま注入したサンプル
を気化室内で気化させることにより分析を行うガスクロ
マトグラフ装置、ガスクロマトグラフ質量分析装置の試
料気化室に関する。
フ装置、ガスクロマトグラフ質量分析装置に関し、さら
に詳しくは試料気化室内に液体のまま注入したサンプル
を気化室内で気化させることにより分析を行うガスクロ
マトグラフ装置、ガスクロマトグラフ質量分析装置の試
料気化室に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来からガスクロマトグラフ装
置に用いられている試料気化室の概略図である。図２に
おいて、１１は気化室本体であり、キャリアガス導入口
１１ａ、スプリット流路１１ｂ、カラム接続口１１ｃが
設けられているとともに、その上部には、セプタム１２
が取り付けられている。気化室本体の周囲にはヒーター
１３が巻かれてあり、このヒーター１３は温度制御部１
４により制御されている。
置に用いられている試料気化室の概略図である。図２に
おいて、１１は気化室本体であり、キャリアガス導入口
１１ａ、スプリット流路１１ｂ、カラム接続口１１ｃが
設けられているとともに、その上部には、セプタム１２
が取り付けられている。気化室本体の周囲にはヒーター
１３が巻かれてあり、このヒーター１３は温度制御部１
４により制御されている。
【０００３】気化室本体１１の底部にあるカラム接続口
１１ｃには、キャピラリーカラム１５が接続され、この
キャピラリーカラム１５の他端は検出器１６に接続され
ている。
１１ｃには、キャピラリーカラム１５が接続され、この
キャピラリーカラム１５の他端は検出器１６に接続され
ている。
【０００４】気化室本体１１の内部には筒状のガラスイ
ンサート１が設置されており、この内部で試料が気化さ
れるようにしてある。
ンサート１が設置されており、この内部で試料が気化さ
れるようにしてある。
【０００５】ガスクロマトグラフ装置やガスクロマトグ
ラフ質量分析装置において、キャピラリーカラムに大量
のサンプルを導入することができる注入法としてＰＴＶ
（Programmed Temperature Vaporized）法がある。ＰＴ
Ｖは、サンプルを液体のままで試料気化室に注入する方
法であり、しかもスプリット／スプリットレス注入のよ
うにサンプルを一瞬のうちに気化するようなことがな
く、そのためカラムへのサンプルの注入量をスプリット
／スプリットレス注入より遙かに多くすることができる
注入法である。
ラフ質量分析装置において、キャピラリーカラムに大量
のサンプルを導入することができる注入法としてＰＴＶ
（Programmed Temperature Vaporized）法がある。ＰＴ
Ｖは、サンプルを液体のままで試料気化室に注入する方
法であり、しかもスプリット／スプリットレス注入のよ
うにサンプルを一瞬のうちに気化するようなことがな
く、そのためカラムへのサンプルの注入量をスプリット
／スプリットレス注入より遙かに多くすることができる
注入法である。
【０００６】溶媒に試料を溶解した試料溶液をガスクロ
マトグラフの試料気化室に大量に注入し、溶媒から分離
された試料成分の全量をカラムに導入するためには、注
入された試料をいったん試料気化室のガラスインサート
内に保持する必要がある。そのために従来は、気化室内
に液体が溜まるカップを設けたり、気化室本体内にある
ガラスインサートの筒内に一種類の充填物が詰められて
いる。
マトグラフの試料気化室に大量に注入し、溶媒から分離
された試料成分の全量をカラムに導入するためには、注
入された試料をいったん試料気化室のガラスインサート
内に保持する必要がある。そのために従来は、気化室内
に液体が溜まるカップを設けたり、気化室本体内にある
ガラスインサートの筒内に一種類の充填物が詰められて
いる。
【０００７】このような試料導入装置でＰＴＶ注入法を
行うためには、試料気化室の温度を注入された試料の溶
媒の沸点付近に保って溶媒を気化させてスプリット流路
１１ｂから又はカラムを経て排出させた後、スプリット
流路１１ｂを閉じた状態にして注入された試料の分析目
的成分を気化させ、高沸点夾雑物は気化させない試料導
入温度まで試料気化室の温度を上昇させて、全目的成分
をカラムに導入する。その後、スプリット比を所定の値
に保ってキャリアガスを流し、分析を行う。
行うためには、試料気化室の温度を注入された試料の溶
媒の沸点付近に保って溶媒を気化させてスプリット流路
１１ｂから又はカラムを経て排出させた後、スプリット
流路１１ｂを閉じた状態にして注入された試料の分析目
的成分を気化させ、高沸点夾雑物は気化させない試料導
入温度まで試料気化室の温度を上昇させて、全目的成分
をカラムに導入する。その後、スプリット比を所定の値
に保ってキャリアガスを流し、分析を行う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】気化室内に液体が溜ま
るカップ等を設ける場合は、形状が特殊になり加工が困
難になる、洗浄の際に取り扱いに注意が必要になる、高
価になる、等の問題があった。一種類のみの充填物を詰
めた場合、目的成分が充填物に対して強い吸着を有する
と、液体サンプルが充填物と結合し、脱着しにくい状態
となったまま加熱されることにより、熱分解されてしま
うことがあった。そのため、脱着、気化させるために充
填物の量を少なくせざるを得ないが、その場合インサー
ト内での充填物の層の厚みが薄くなりすぎて目的成分が
充填物の層を通過する際の吸着現象にばらつきが出て、
分析の再現性が悪くなる、という問題がある。
るカップ等を設ける場合は、形状が特殊になり加工が困
難になる、洗浄の際に取り扱いに注意が必要になる、高
価になる、等の問題があった。一種類のみの充填物を詰
めた場合、目的成分が充填物に対して強い吸着を有する
と、液体サンプルが充填物と結合し、脱着しにくい状態
となったまま加熱されることにより、熱分解されてしま
うことがあった。そのため、脱着、気化させるために充
填物の量を少なくせざるを得ないが、その場合インサー
ト内での充填物の層の厚みが薄くなりすぎて目的成分が
充填物の層を通過する際の吸着現象にばらつきが出て、
分析の再現性が悪くなる、という問題がある。
【０００９】本発明は以上のような問題を解決し、ＰＴ
Ｖ法を行うのに適したガラスインサートを用いた試料気
化室を提供することを目的とする。
Ｖ法を行うのに適したガラスインサートを用いた試料気
化室を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の試料気化室は上
記問題を解決するために、試料気化室内に取り付けるガ
ラスインサート内部に分析目的成分に対して強い吸着作
用を有する物質と弱い吸着作用を有する物質の少なくと
も２種類以上の物質を層状に形成したものである。
記問題を解決するために、試料気化室内に取り付けるガ
ラスインサート内部に分析目的成分に対して強い吸着作
用を有する物質と弱い吸着作用を有する物質の少なくと
も２種類以上の物質を層状に形成したものである。
【００１１】本発明のガラスインサートは、目的成分に
対して強い吸着を有する充填物を少量と、目的成分に対
して弱い吸着を有する充填物を多量に用い、インサート
内部にそれぞれを層状に形成して用いる。これにより、
目的成分が充填物の層を通過する際の吸着現象にばらつ
きがでるという現象は防ぐことができ、目的成分は確実
に保持される。
対して強い吸着を有する充填物を少量と、目的成分に対
して弱い吸着を有する充填物を多量に用い、インサート
内部にそれぞれを層状に形成して用いる。これにより、
目的成分が充填物の層を通過する際の吸着現象にばらつ
きがでるという現象は防ぐことができ、目的成分は確実
に保持される。
【００１２】
【発明の実施形態】以下、図面に示す実施例に従って説
明する。図１は本発明の一実施例を示す試料気化室に用
いられるガラスインサートの断面図である。このガラス
インサートは図２に示したガラスインサート１におい
て、目的成分に対して強い吸着を有する充填物５と目的
成分に対して弱い吸着を有する充填物３とが層状に形成
されてなる。なお、その他の試料気化室の構成について
は、図２の従来例と同様であるので、同符号を用いるこ
とによりその説明を省略する。
明する。図１は本発明の一実施例を示す試料気化室に用
いられるガラスインサートの断面図である。このガラス
インサートは図２に示したガラスインサート１におい
て、目的成分に対して強い吸着を有する充填物５と目的
成分に対して弱い吸着を有する充填物３とが層状に形成
されてなる。なお、その他の試料気化室の構成について
は、図２の従来例と同様であるので、同符号を用いるこ
とによりその説明を省略する。
【００１３】以下に、ＰＴＶ法による試料注入動作の説
明をする。試料気化室１０には、試料注入口にセプタム
１２を備えており、まずセプタムにニードルを突き刺し
てニードルの先端がガラスインサート１内にくるように
する。そして、ニードルからサンプル液体を流出するこ
とにより、ガラスインサート１内の充填物３、５にサン
プル液体が保持される。
明をする。試料気化室１０には、試料注入口にセプタム
１２を備えており、まずセプタムにニードルを突き刺し
てニードルの先端がガラスインサート１内にくるように
する。そして、ニードルからサンプル液体を流出するこ
とにより、ガラスインサート１内の充填物３、５にサン
プル液体が保持される。
【００１４】続いて、キャリアガス導入口１１ａからキ
ャリアガスをしばらく流しながら試料気化室温度を溶媒
の沸点付近に保つことによって溶媒成分を蒸発させ、そ
のほとんどをスプリット流路１１ｂから排出する。
ャリアガスをしばらく流しながら試料気化室温度を溶媒
の沸点付近に保つことによって溶媒成分を蒸発させ、そ
のほとんどをスプリット流路１１ｂから排出する。
【００１５】その後、予め温度制御部１４に設定されて
いる所定のプログラムにより、ヒーター１３の加熱を行
うことにより、充填物３、５に保持されていた目的成分
は気化され、キャピラリーカラム１５に導入されて成分
分離され、検出器１６にて検出される。
いる所定のプログラムにより、ヒーター１３の加熱を行
うことにより、充填物３、５に保持されていた目的成分
は気化され、キャピラリーカラム１５に導入されて成分
分離され、検出器１６にて検出される。
【００１６】次に、本発明のガラスインサート１の構成
を具体的に説明する。ガラスインサート１内に、目的成
分に対して強い吸着を有する充填物５として、Carbotra
pTMC（Bulk）（スペルコ社製）を２０〜４０メッシュの
範囲に分級したものを５ｍｇ、目的成分に対して弱い吸
着を有する充填物３として、Chromosorb W（HP）（和光
純薬社製）を８０〜１００メッシュの範囲に分級したも
のを２５ｍｇ用い、それぞれをシリカウール２、４、６
で挟み、層状に形成した。
を具体的に説明する。ガラスインサート１内に、目的成
分に対して強い吸着を有する充填物５として、Carbotra
pTMC（Bulk）（スペルコ社製）を２０〜４０メッシュの
範囲に分級したものを５ｍｇ、目的成分に対して弱い吸
着を有する充填物３として、Chromosorb W（HP）（和光
純薬社製）を８０〜１００メッシュの範囲に分級したも
のを２５ｍｇ用い、それぞれをシリカウール２、４、６
で挟み、層状に形成した。
【００１７】上記のガラスインサートを有する試料気化
室を取り付けたガスクロマトグラフ装置を用いた分析結
果を表１に示す。ガスクロマトグラフ装置にカラム（Ｊ
＆Ｗ社製ＤＢ−１、内径0.32ｍｍ、長さ３０ｍ、ｄｆ１
μｍ）を接続し、分析試料としてフタル酸エステル類で
あるジメチルフタレート（DMP）、ジエチルフタレート
（DEP）、ジプロピルフタレート（DPP）、イソジブチル
フタレート（i-DBP）、ノルマルジブチルフタレート（n
-DBP）、ベンジルブチルフタレート（BBP）、ジオクチ
ルフタレート（DOP）を濃度が各１００ppmになるように
テトラヒドロフラン中に溶解した試料溶液を作成した。
キャリアガスとしてヘリウムガスを用い、圧力６７kPa
で流した。カラム温度は、５５℃で５分間保持した後３
００℃まで１２℃/minで昇温し、その後３００℃で１１
分間保持した。スプリット比は最初の５分間は１／１５
０とし、その後は１／３とした。ＰＴＶ温度は、６４℃
で１分間保持した後３０℃／minで９５度まで昇温し、
９５℃で１分間保持した後２５０℃／minで３００℃ま
で昇温し、３００℃で３１分間保持した。検出器には水
素炎イオン化検出器を用い、メイクアップガスはヘリウ
ム６０kPa、水素５０kPa、空気５０kPaとした。
室を取り付けたガスクロマトグラフ装置を用いた分析結
果を表１に示す。ガスクロマトグラフ装置にカラム（Ｊ
＆Ｗ社製ＤＢ−１、内径0.32ｍｍ、長さ３０ｍ、ｄｆ１
μｍ）を接続し、分析試料としてフタル酸エステル類で
あるジメチルフタレート（DMP）、ジエチルフタレート
（DEP）、ジプロピルフタレート（DPP）、イソジブチル
フタレート（i-DBP）、ノルマルジブチルフタレート（n
-DBP）、ベンジルブチルフタレート（BBP）、ジオクチ
ルフタレート（DOP）を濃度が各１００ppmになるように
テトラヒドロフラン中に溶解した試料溶液を作成した。
キャリアガスとしてヘリウムガスを用い、圧力６７kPa
で流した。カラム温度は、５５℃で５分間保持した後３
００℃まで１２℃/minで昇温し、その後３００℃で１１
分間保持した。スプリット比は最初の５分間は１／１５
０とし、その後は１／３とした。ＰＴＶ温度は、６４℃
で１分間保持した後３０℃／minで９５度まで昇温し、
９５℃で１分間保持した後２５０℃／minで３００℃ま
で昇温し、３００℃で３１分間保持した。検出器には水
素炎イオン化検出器を用い、メイクアップガスはヘリウ
ム６０kPa、水素５０kPa、空気５０kPaとした。
【００１８】試料溶液１０μＬを試料気化室に注入し、
同じ条件で５回分析を行った時のそれぞれの試料のピー
ク面積の相対標準偏差値（ＲＳＤ）（％）を表１に示
す。比較のために、目的成分に対して強い吸着を有する
CarbotrapTMC（Bulk）層のみを同じ条件で形成したガラ
スインサートを有する試料気化室を用い、同じ条件で分
析を行った結果も表１に示す。本発明による試料気化室
を用いた場合に、すべての試料に対してピーク面積のＲ
ＳＤは明らかに小さく、良好な分析の再現性が得られ
た。
同じ条件で５回分析を行った時のそれぞれの試料のピー
ク面積の相対標準偏差値（ＲＳＤ）（％）を表１に示
す。比較のために、目的成分に対して強い吸着を有する
CarbotrapTMC（Bulk）層のみを同じ条件で形成したガラ
スインサートを有する試料気化室を用い、同じ条件で分
析を行った結果も表１に示す。本発明による試料気化室
を用いた場合に、すべての試料に対してピーク面積のＲ
ＳＤは明らかに小さく、良好な分析の再現性が得られ
た。
【００１９】本実施例では、目的成分に対して強い吸着
を有する充填物５としてCarbotrapT MC（Bulk）を用いた
が、この他にCarbotrapTMF（スペルコ社製）を用いるこ
とが可能であり、目的成分に対して弱い吸着を有する充
填物３としてChromosorb W（HP）を用いたが、この他に
ShimaliteW（島津製作所社製）を用いることが可能であ
る。さらにこれらを２種類以上組み合わせて用いること
も可能である。
を有する充填物５としてCarbotrapT MC（Bulk）を用いた
が、この他にCarbotrapTMF（スペルコ社製）を用いるこ
とが可能であり、目的成分に対して弱い吸着を有する充
填物３としてChromosorb W（HP）を用いたが、この他に
ShimaliteW（島津製作所社製）を用いることが可能であ
る。さらにこれらを２種類以上組み合わせて用いること
も可能である。
【００２０】
【発明の効果】以上のように本発明のガラスインサート
を取り付けた試料気化室を使用することにより、液体サ
ンプルをＰＴＶ法によって注入し再現性良く分析するこ
とが可能である。
を取り付けた試料気化室を使用することにより、液体サ
ンプルをＰＴＶ法によって注入し再現性良く分析するこ
とが可能である。
【図１】本発明による試料気化室の構成断面を示す図で
ある。
ある。
【図２】従来からの試料気化室の概略断面を示す図であ
る。
る。
１・・・ガラスインサート ２、４、６・・・シリカウール ３・・・Chromosorb W（HP）80〜100（弱い吸着作用を有す
る物質） ５・・・CarbotrapTMC（Bulk）（強い吸着作用を有する物
質） １０・・・試料気化室 １１・・・気化室本体 １１ａ・・・キャリアガス導入口 １１ｂ・・・スプリット流路 １１ｃ・・・カラム接続口 １１ｄ・・・セプタムパージ流路 １２・・・セプタム １３・・・ヒーター １４・・・温度制御部 １５・・・キャピラリーカラム １６・・・検出器
る物質） ５・・・CarbotrapTMC（Bulk）（強い吸着作用を有する物
質） １０・・・試料気化室 １１・・・気化室本体 １１ａ・・・キャリアガス導入口 １１ｂ・・・スプリット流路 １１ｃ・・・カラム接続口 １１ｄ・・・セプタムパージ流路 １２・・・セプタム １３・・・ヒーター １４・・・温度制御部 １５・・・キャピラリーカラム １６・・・検出器
Claims (1)
- 【請求項１】ガスクロマトグラフ装置の試料気化室にお
いて、試料気化室内に取り付けるガラスインサート内
に、充填物として分析目的成分に対して強い吸着作用を
有する物質と弱い吸着作用を有する物質の少なくとも２
種類以上の物質を層状に形成したことを特徴とする試料
気化室。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01756899A JP3414297B2 (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | 試料気化室 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01756899A JP3414297B2 (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | 試料気化室 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000214145A true JP2000214145A (ja) | 2000-08-04 |
| JP3414297B2 JP3414297B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=11947532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01756899A Expired - Fee Related JP3414297B2 (ja) | 1999-01-26 | 1999-01-26 | 試料気化室 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3414297B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022062469A (ja) * | 2020-10-08 | 2022-04-20 | 東洋建設株式会社 | 堤補強構造及びその施工方法 |
-
1999
- 1999-01-26 JP JP01756899A patent/JP3414297B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022062469A (ja) * | 2020-10-08 | 2022-04-20 | 東洋建設株式会社 | 堤補強構造及びその施工方法 |
| JP7197546B2 (ja) | 2020-10-08 | 2022-12-27 | 東洋建設株式会社 | 堤補強構造及びその施工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3414297B2 (ja) | 2003-06-09 |
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