JP2000207892A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2000207892A
JP2000207892A JP2000056667A JP2000056667A JP2000207892A JP 2000207892 A JP2000207892 A JP 2000207892A JP 2000056667 A JP2000056667 A JP 2000056667A JP 2000056667 A JP2000056667 A JP 2000056667A JP 2000207892 A JP2000207892 A JP 2000207892A
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data
signal
sense amplifier
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word line
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Application number
JP2000056667A
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Hiroshi Sato
弘 佐藤
Keiichi Yoshida
敬一 吉田
Tetsuya Tsujikawa
哲也 辻川
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a serial read-out operation of data at a high speed and reducing the peak current by amplifying a signal with a sense amplifier operated by an activating signal temporally dispersed, also dividing a sense amplifier into two groups, and amplifying a read-out signal by the other side group while an output signal is outputted serially by one side group. SOLUTION: Even numbered data lines DL0, DL2 and odd numbered data lines DL1, DL3 are connected to a sense amplifier SA through transfer MOSFET (TRMOS) switch-controlled by selecting signals F0, F1. The sense amplifier SA outputs an output signal through a Y gate TG switch-controlled by selecting signals Y0-Y3. And, while a read-out signal amplified by the sense amplifier SA corresponding to the data lines DL0, DL2, is outputted and a sense amplifier SA corresponding to the data lines DL1, DL3 in which read-out output operation is already finished performs take-in of a read-out signal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、例えば一括消去型EEPROM(エレクトリカ
リ・イレーザブル&プログラマブル・リード・オンリー
・メモリ)の高速読み出し技術に利用して有効な技術に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and, more particularly, to a technology which is effective when used for a high-speed read technology of a batch erase EEPROM (electrically erasable & programmable read only memory). .

【0002】[0002]

【従来の技術】電気的一括消去型EEPROMは、チッ
プに形成されたメモリセルの全てを一括して、又はチッ
プに形成されたメモリセルのうち、あるひとまとまりの
メモリセル群を一括して電気的に消去する機能を持つ不
揮発性記憶装置である。このような一括消去型EEPR
OMに関しては、1980年のアイ・イー・イー・イ
ー、インターナショナル、ソリッド−ステート サーキ
ッツ コンファレンス(IEEE INTERNATIONAL SOLID-STA
TE CIRCUITS CONFERENCE) の頁152 〜153、1987年
のアイ・イー・イー・イー、インターナショナル、ソリ
ッド−ステート サーキッツ コンファレンス(IEEE IN
TERNATIONAL SOLID-STATE CIRCUITSCONFERENCE)の頁76
〜77、アイ・イー・イー・イー・ジャーナル オブ ソ
リッドステート サーキッツ,第23巻第5号(198
8年)第1157頁から第1163頁(IEEE,J. Solid-State Cic
uits, vol.23(1988) pp.1157-1163)に記載されている。
2. Description of the Related Art An electrically erasable EEPROM is a device that collectively collects all memory cells formed on a chip or collectively collects a group of memory cells among memory cells formed on a chip. This is a non-volatile storage device having a function of erasing information. Such a batch erase type EEPR
Regarding OM, in 1980, IEE, International, Solid-State Circuits Conference (IEEE INTERNATIONAL SOLID-STA)
TE CIRCUITS CONFERENCE) Pages 152-153, 1987, IEE, International, Solid-State Circuits Conference (IEEE IN
(TERNATIONAL SOLID-STATE CIRCUITSCONFERENCE) page 76
~ 77, IEE Journal of Solid State Circuits, Vol. 23, No. 5 (198
8 years) Pages 1157 to 1163 (IEEE, J. Solid-State Cic
uits, vol. 23 (1988) pp. 1157-1163).

【0003】図27には、1987年の国際電子デバイ
ス会議(International ElectronDevice Meeting) にお
いて発表された電気的一括消去型EEPROMのメモリ
セルの断面構造の概要図が示されている。同図のメモリ
セルは、通常のEPROMのメモリセルとよく似た構造
を有している。すなわち、メモリセルは、2層ゲート構
造の絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(以下、MOS
FET又は単にトランジスタと称する)により構成され
ている。同図において、8はP型シリコン基板、11は
上記シリコン基板8に形成されたP型拡散層、10は上
記シリコン基板8に形成された低濃度のN型拡散層、9
は上記P型拡散層11及び上記N型拡散層10のそれぞ
れに形成されたN型拡散層である。また、4は薄い酸化
膜7を介して上記P型シリコン基板8上に形成されたフ
ローティングゲート、6は酸化膜7を介して上記フロー
ティングゲート4上に形成されたコントロールゲート、
3はドレイン電極、5はソース電極である。すなわち、
同図のメモリセルはNチャンネル形の2層ゲート構造の
MOSFETにより構成され、このトランジスタに情報
が記憶される。ここにおいて、情報は実質的にしきい値
電圧の変化としてトランジスタに保持される。
FIG. 27 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a memory cell of an electrically erasable EEPROM which was announced at the International Electron Device Meeting in 1987. The memory cell shown in the figure has a structure very similar to that of a normal EPROM memory cell. That is, a memory cell is an insulated gate field effect transistor (hereinafter, referred to as a MOS) having a two-layer gate structure.
FET or transistor). In the figure, 8 is a P-type silicon substrate, 11 is a P-type diffusion layer formed on the silicon substrate 8, 10 is a low-concentration N-type diffusion layer formed on the silicon substrate 8, 9
Are N-type diffusion layers formed on the P-type diffusion layer 11 and the N-type diffusion layer 10, respectively. 4 is a floating gate formed on the P-type silicon substrate 8 via a thin oxide film 7; 6 is a control gate formed on the floating gate 4 via an oxide film 7;
3 is a drain electrode and 5 is a source electrode. That is,
The memory cell shown in the figure is constituted by an N-channel type MOSFET having a two-layer gate structure, and information is stored in this transistor. Here, the information is substantially held in the transistor as a change in the threshold voltage.

【0004】以下、特に述べないかぎり、メモリセルに
おいて、情報を記憶するトランジスタ(以下、記憶トラ
ンジスタと称する)がNチャンネル形の場合について述
べる。図27に示されているメモリセルへの情報の書き
込み動作は、EPROMのそれと同様である。すなわ
ち、書き込み動作は、ドレイン電極3に接続されたドレ
イン領域9の近傍で発生させたホットキャリアをフロー
ティングゲート4に注入することにより行われる。この
書き込み動作により記憶トランジスタは、そのコントロ
ールゲート6からみたしきい値電圧が、書き込み動作を
行わなかった記憶トランジスタに比べ高くなる。
Hereinafter, unless otherwise specified, a case where a transistor for storing information (hereinafter, referred to as a storage transistor) in a memory cell is of an N-channel type will be described. The operation of writing information into the memory cells shown in FIG. 27 is similar to that of the EPROM. That is, the write operation is performed by injecting hot carriers generated near the drain region 9 connected to the drain electrode 3 into the floating gate 4. Due to this write operation, the threshold voltage of the storage transistor as viewed from the control gate 6 becomes higher than that of the storage transistor which has not performed the write operation.

【0005】一方、消去動作においては、コントロール
ゲート6を接地し、ソース電極5に高電圧を印加するこ
とによりフローティングゲート4とソース電極5に接続
されたソース領域9との間に高電界が発生され、薄い酸
化膜7を通したトンネル現象を利用してフローティング
ゲート4に蓄積された電子がソース領域9を介してソー
ス電極5に引き抜かれる。これにより、記憶情報の消去
が行われる。すなわち、消去動作により記憶トランジス
タはそのコントロールゲート6からみたしきい値電圧が
低くなる。
On the other hand, in the erasing operation, a high electric field is generated between the floating gate 4 and the source region 9 connected to the source electrode 5 by grounding the control gate 6 and applying a high voltage to the source electrode 5. Then, the electrons accumulated in the floating gate 4 are drawn out to the source electrode 5 through the source region 9 by utilizing the tunnel phenomenon through the thin oxide film 7. As a result, the stored information is erased. That is, the threshold voltage of the storage transistor as viewed from its control gate 6 is lowered by the erase operation.

【0006】読み出し動作におていは、上記メモリセル
に対して弱い書き込み、すなわち、フローティングゲー
ト4に対して不所望なキャリアの注入が行われないよう
に、ドレイン電極3及びコントロールゲート6に印加さ
れる電圧が比較的低い値に制限される。例えば、1V程
度の低電圧がドレイン電極3に印加されるとともに、コ
ントロールゲート6に5V程度の低電圧が印加される。
これらの印加電圧によって記憶トランジスタを流れるチ
ャンネル電流の大小を検出することにより、メモリセル
に記憶されている情報の“0”,“1”を判定する。
In a read operation, a voltage is applied to the drain electrode 3 and the control gate 6 so that weak writing to the memory cell, that is, injection of undesired carriers into the floating gate 4 is not performed. Voltage is limited to relatively low values. For example, a low voltage of about 1 V is applied to the drain electrode 3 and a low voltage of about 5 V is applied to the control gate 6.
By detecting the magnitude of the channel current flowing through the storage transistor based on these applied voltages, “0” and “1” of the information stored in the memory cell are determined.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のような記憶トラ
ンジスタからの読み出し動作は、メモリサイクルが約1
μs程度と比較的遅い。本願発明者は、上記のような記
憶トランジスタを用いたものでは、データの出力を行っ
ている間に次のアドレス信号を入力することができるこ
とに着目し、高速に連続してシリアルにデータを読み出
すことを考えた。
A read operation from a storage transistor as described above requires about one memory cycle.
It is relatively slow, on the order of μs. The inventor of the present application pays attention to the fact that the next address signal can be input while data is output in a device using the storage transistor as described above, and data is serially read out continuously at high speed. I thought that.

【0008】この発明の目的は、高速なデータのシリア
ル読み出し動作とピーク電流の低減を実現した半導体記
憶装置を提供することにある。この発明の他の目的は、
隣接データ線間におけるカップリングの影響を軽減した
半導体記憶装置を提供することにある。この発明の前記
ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記
述および添付図面から明らかになるであろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which realizes a high-speed serial read operation of data and a reduction in peak current. Another object of the present invention is
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which the influence of coupling between adjacent data lines is reduced. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、記憶情報に従って高いしき
い値電圧か低いしきい値電圧かを持つようにされた記憶
トランジスタがマトリックス配置されてなるメモリアレ
イのデータ線を複数ブロックに分け、時間的に分散され
た活性化信号により増幅動作を行うセンスアンプによっ
て信号増幅を行う。また、隣接して配置される奇数番目
と偶数番目のデータ線に対応して第1群のセンスアンプ
と第2群のセンスアンプに分け、一方のセンスアンプ群
の出力信号をシリアルに出力させている間に、ワード線
の切り替えを行うとともに他方のセンスアンプ群を上記
切り替えられたワード線に対応したメモリセルからの読
み出し信号の増幅動作を行わせる。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, the data lines of a memory array in which storage transistors each having a high threshold voltage or a low threshold voltage according to storage information are arranged in a matrix are divided into a plurality of blocks, and time-dependent activation is performed. Signal amplification is performed by a sense amplifier that performs an amplification operation by a signal. Further, a first group of sense amplifiers and a second group of sense amplifiers are divided corresponding to the odd-numbered and even-numbered data lines arranged adjacent to each other, and the output signal of one of the sense amplifier groups is serially output. While the word line is switched, the other sense amplifier group is caused to perform an operation of amplifying a read signal from the memory cell corresponding to the switched word line.

【0010】上記した手段によれば、センスアンプが時
間的に分散して動作するのでピーク電流の低減を図るこ
とができ、奇数番目と偶数番目のデータ線の読み出し動
作を交互に行うようにすることによって隣接データ線間
のカップリングノイズを低減でき、高速に連続したシリ
アル読み出しを行うことができる。
According to the above-described means, since the sense amplifier operates in a time-dispersed manner, the peak current can be reduced, and the read operation of the odd-numbered data lines and the even-numbered data lines is performed alternately. As a result, coupling noise between adjacent data lines can be reduced, and continuous serial reading can be performed at high speed.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1には、この発明に係る一括消
去型EEPROMの一実施例のブロック図が示されてい
る。同図の各回路ブロックは、公知の半導体集積回路の
製造技術によって、特に制限されないが、単結晶シリコ
ンのような1個の半導体基板上において形成される。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a batch erase type EEPROM according to the present invention. Each circuit block in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon, although not particularly limited by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0012】この実施例では、特に制限されないが、メ
モリアレイは4つのメモリマットMATから構成され
る。それぞれのメモリマットMATには、ワード線WL
の選択信号を形成するサブデコーダSUB−DCRが設
けられる。高集積化のためにワード線のピッチが狭く形
成されるので、メモリマットMAT間に挟まれたサブデ
コーダSUB−DCRは、両側のメモリマットMATに
対してワード線の選択信号を形成する。それ故、例示的
に示されているように、メモリマットMATのワード線
は、それを挟んで設けられた2つのサブデコーダSUB
−DCRに対して1つ置きに交互に接続される。
In this embodiment, although not particularly limited, the memory array is composed of four memory mats MAT. Each memory mat MAT has a word line WL
Are provided. Since the pitch of the word lines is formed narrow for high integration, the sub-decoder SUB-DCR sandwiched between the memory mats MAT forms a word line selection signal for the memory mats MAT on both sides. Therefore, as exemplarily shown, the word line of the memory mat MAT has two sub-decoders SUB provided therebetween.
Alternately connected to every other DCR.

【0013】メインデコーダMAN−DCRは、後述す
るように複数のメモリセルを選択する選択MOSFET
の選択信号と、サブデコーダSUB−DCRの選択レベ
ルと非選択レベルを形成する回路から構成される。ゲー
トデコーダGDCRは、上記メインデコーダMAN−D
CRによって選択された1つのメモリブロックの中の1
つのメモリセルを選択する選択信号を形成する。
The main decoder MAN-DCR includes a selection MOSFET for selecting a plurality of memory cells as described later.
And a circuit for forming a selection level and a non-selection level of the sub-decoder SUB-DCR. The gate decoder GDCR is connected to the main decoder MAN-D.
1 in one memory block selected by CR
A selection signal for selecting one memory cell is formed.

【0014】メモリマットMATに形成される記憶トラ
ンジスタは、特に制限されないが、消去及び書き込み動
作も共にトンネル電流によってフローティングゲートに
電荷の注入と放出を行うようにするものである。この他
に、前記図27のように消去動作をトンネル電流によっ
て行うようにしてもよい。
Although the storage transistor formed in the memory mat MAT is not particularly limited, both the erasing operation and the writing operation inject and discharge charges to and from the floating gate by a tunnel current. Alternatively, the erase operation may be performed by a tunnel current as shown in FIG.

【0015】センスアンプSAは、特に制限されない
が、後述するように2組に分けられて、それぞれがセン
スアンプ制御回路SACによって増幅動作の制御が行わ
れる。特に制限されないが、最初の読み出しサイクルで
は2組ともにセンスアンプが活性化され、以後ワード線
の切り替えを伴う連続読み出しのときには、一方のセン
スアンプ群からの読み出し信号が終了して、他方のセン
スアンプ群からのシリアルな読み出し信号の出力を行っ
ている間に、ワード線の切り替えが行われるとともに上
記一方のセンスアンプ群が増幅動作を開始するようにさ
れる。
The sense amplifier SA is not particularly limited, but is divided into two groups as described later, and each of them is controlled in an amplification operation by the sense amplifier control circuit SAC. Although not particularly limited, in the first read cycle, both of the sense amplifiers are activated, and thereafter, in the case of continuous reading with word line switching, the read signal from one sense amplifier group is terminated and the other sense amplifier is terminated. While the serial readout signal is being output from the group, the word line is switched, and the one sense amplifier group starts the amplification operation.

【0016】上記センスアンプSAはラッチ機能を持っ
ており、データ線から増幅動作に必要な読み出し信号を
受け取ると、データ線とは切り離されて上記取り込んだ
信号の増幅を行って保持している。それ故、Yゲート回
路YGにより選択された信号がデータ出力バッファOB
を通して出力させることができ、このような信号出力動
作と並行して、上述のように次のアドレスに対応したワ
ード線の切り替えを行うことができる。
The sense amplifier SA has a latch function. When receiving a read signal required for an amplification operation from a data line, the sense amplifier SA is separated from the data line to amplify and hold the fetched signal. Therefore, the signal selected by Y gate circuit YG is applied to data output buffer OB.
The word line corresponding to the next address can be switched in parallel with the signal output operation as described above.

【0017】ステイタスレジスタSREGは、信号TS
によりスタータスデータを受け取り、必要に応じてデー
タ出力バッファOBを通して外部から動作状態をモニタ
ーすることができる。この実施例では、連続アクセス動
作や上記のように電気的に書き込みと消去動作が行われ
るものであり、それぞれの動作の途中において内部の状
態を外部から知る必要があるので、上記のようなステイ
タスレジスタSREGが設けられるものである。
The status register SREG outputs a signal TS
Thus, status data can be received, and the operation state can be monitored from the outside through the data output buffer OB as necessary. In this embodiment, the continuous access operation and the electrical writing and erasing operations are performed as described above, and it is necessary to know the internal state from the outside during each operation. A register SREG is provided.

【0018】電圧発生回路VGは、5Vのような電源電
圧VCCと回路の接地電位VSSを受け、制御信号TV
により書き込み、読み出し及び消去の各動作に必要な各
種電圧Vpw、Vpv、Vew、Ved、Vev及びVr を形成す
るDC−DCコンバータとしての役割を果たすものであ
る。
A voltage generating circuit VG receives a power supply voltage VCC such as 5 V and a circuit ground potential VSS, and receives a control signal TV.
And functions as a DC-DC converter for forming various voltages Vpw, Vpv, Vew, Ved, Vev and Vr necessary for each operation of writing, reading and erasing.

【0019】アドレスバッファADBは、外部端子から
供給されるアドレス信号Aiの取り込みを行んで、アド
レスラッチALHにアドレス信号を保持させる。信号T
Aは、上記アドレス信号をラッチさせる制御信号であ
り、TSCは内部シリアルクロックである。
The address buffer ADB takes in an address signal Ai supplied from an external terminal, and causes the address latch ALH to hold the address signal. Signal T
A is a control signal for latching the address signal, and TSC is an internal serial clock.

【0020】アドレス発生回路ADGは、外部から供給
されるクロックSCに同期して発生された内部シリアル
クロックTSCによりアドレス歩進動作を行い、奇数番
目のデータ線に対応したセンスアンプSAを活性化する
アドレス信号Ayoと、偶数番目のデータ線に対応したセ
ンスアンプSAを活性化するアドレス信号Aye及びワー
ド線切り替え信号ACを発生させる。すなわち、この実
施例の半導体記憶装置では、指定されたスタートアドレ
スを入力するだけで、その後の連続アクセスのためのア
ドレス信号は、外部端子から供給されるクロックSCに
対応して内部において発生される。上記信号AyoとAye
及びACと/ACは、センスアンプ制御回路SACに供
給される。ここで、信号ACに付された/は、バー信号
であることを示すものであり、かかる信号/ACはロウ
レベルがアクティブレベルであることを表している。こ
のことは、以下の他の信号においても同様である。
The address generation circuit ADG performs an address increment operation by an internal serial clock TSC generated in synchronization with a clock SC supplied from the outside, and activates a sense amplifier SA corresponding to an odd-numbered data line. An address signal Ayo, an address signal Aye for activating the sense amplifier SA corresponding to the even-numbered data line, and a word line switching signal AC are generated. That is, in the semiconductor memory device of this embodiment, only by inputting a designated start address, an address signal for subsequent continuous access is internally generated in response to a clock SC supplied from an external terminal. . The above signals Ayo and Aye
, And AC and / AC are supplied to a sense amplifier control circuit SAC. Here, / attached to the signal AC indicates that the signal is a bar signal, and the signal / AC indicates that the low level is the active level. This is the same for the other signals described below.

【0021】YゲートYGは、Y系のアドレス信号Ay
により、読み出し動作のときには1つのデータ線の選択
信号を形成して、それに対応されたセンスアンプの増幅
信号を選択してデータ出力バッファOBに伝える。書き
込み動作のときには、1つのデータ線の選択信号を形成
して、データ入力バッファIBから入力された書き込み
データに対応された信号をデータ線に伝える。
The Y gate YG is provided with a Y-system address signal Ay.
Thus, during a read operation, a select signal for one data line is formed, and an amplified signal of the corresponding sense amplifier is selected and transmitted to the data output buffer OB. In a write operation, a select signal for one data line is formed, and a signal corresponding to write data input from the data input buffer IB is transmitted to the data line.

【0022】コマンドデコーダCDCRは、データ入力
バッファIBから入力されたコレンドを解読して、コマ
ンドデータDiを次に説明する制御回路CONTに伝え
る。信号TCは、コマンドデコーダ制御信号であり、コ
マンドの取り込みや、デコーダの制御を行う。
The command decoder CDCR decodes the collide inputted from the data input buffer IB and transmits the command data Di to the control circuit CONT described below. The signal TC is a command decoder control signal, which takes in a command and controls the decoder.

【0023】制御回路CONTは、外部端子から供給さ
れるチップイネブーブル信号/CE、アウトプットイネ
ーブル信号/OE、ライトイネーブル信号/WE及びク
ロックSCとリッセット信号RSを受けて、内部回路の
動作に必要な各種タイミング信号を形成する。信号TM
Xは、メインデコーダ制御信号であり、プログラム−プ
ログラムベリファイ時に正/負論理を切り替える信号で
ある。信号TXGは、ゲートデコーダ制御信号である。
信号TVは電源回路制御信号である。信号TAは、アド
レスバッファ制御信号であり、アドレスのラッチ等の制
御を行う。信号TIは、データ入力バッファ制御信号で
あり、データやコマンドの取り込み等の制御を行う。
The control circuit CONT receives a chip enable signal / CE, an output enable signal / OE, a write enable signal / WE, a clock SC and a reset signal RS supplied from external terminals, and operates the internal circuit. Form various necessary timing signals. Signal TM
X is a main decoder control signal, which is a signal for switching between positive / negative logic during program-program verify. Signal TXG is a gate decoder control signal.
Signal TV is a power supply circuit control signal. The signal TA is an address buffer control signal, and controls an address latch and the like. The signal TI is a data input buffer control signal, and performs control such as taking in data and commands.

【0024】信号TOはデータ出力バッファ制御信号で
あり、データの出力等の制御を行う。信号TCは、コモ
ンドデコーダ制御信号であり、コマンドの取り込み、デ
コード等の制御を行う。信号TSは、ステイタスレジス
タ制御信号であり、ステイタスレジスタSREGのセッ
トあるいはリセット等の制御を行う。信号TSAは、セ
ンスアンプ制御信号であり、活性化タイミングの制御に
用いられる。信号TSCは内部シリアルクロックであ
る。信号ACはワード線の切り替え信号である。
The signal TO is a data output buffer control signal for controlling data output and the like. The signal TC is a common decoder control signal, and controls the capture and decoding of a command. The signal TS is a status register control signal, and performs control such as setting or resetting of the status register SREG. Signal TSA is a sense amplifier control signal, and is used for controlling activation timing. Signal TSC is an internal serial clock. The signal AC is a word line switching signal.

【0025】この他、アドレスラッチALHからメイン
デコーダMAN−DCRに供給される信号Ax0は、上記
選択されるべきメモリブロックを指示するX系のアドレ
ス信号であり、アドレスラッチALHからゲートデコー
ダGDCRに供給される信号Ax1は、1つのメモリブロ
ック中の1つのワード線を指示するX系のアドレス信号
である。YゲートYGに供給される信号Ayは、Y系の
アドレス信号である。
In addition, the signal Ax0 supplied from the address latch ALH to the main decoder MAN-DCR is an X-system address signal indicating the memory block to be selected, and supplied from the address latch ALH to the gate decoder GDCR. The signal Ax1 is an X-system address signal designating one word line in one memory block. The signal Ay supplied to the Y gate YG is a Y-system address signal.

【0026】Vpwは書き込み時のワード線電圧である。
Vpvは書き込みベリファイ時のワード線電圧である。V
evは消去ベリファ時のワード線電圧である。Vewは消去
時のワード線電圧である。Vedは消去時のデータ線電圧
である。Vr はデータ線プリチャージ電圧である。
Vpw is a word line voltage at the time of writing.
Vpv is a word line voltage at the time of write verification. V
ev is the word line voltage during erase verify. Vew is a word line voltage at the time of erasing. Ved is the data line voltage at the time of erasing. Vr is a data line precharge voltage.

【0027】信号Oiは、データ出力バッファOBから
出力される出力データであり、信号Doはステイタスデ
ータであり、信号Diはコマントデータである。また、
信号RDY/BUSYは、チップの状態を出力する信号
である。
The signal Oi is output data output from the data output buffer OB, the signal Do is status data, and the signal Di is command data. Also,
The signal RDY / BUSY is a signal for outputting the state of the chip.

【0028】図2には、上記メモリマットとその周辺部
の一実施例の概略回路図が示されている。メモリセル
は、前記図27と類似のコントロールゲートとフローテ
ィングゲートとを備えたスタックドゲート構造のMOS
FETとされる。この実施例では、後述するように書き
込み動作と消去動作とが共に薄い酸化膜を通したトンネ
ル電流を利用して行われる。
FIG. 2 is a schematic circuit diagram showing one embodiment of the memory mat and its peripheral portion. The memory cell is a stacked gate MOS having a control gate and a floating gate similar to those of FIG.
FET. In this embodiment, as will be described later, both the writing operation and the erasing operation are performed using a tunnel current passing through a thin oxide film.

【0029】上記記憶MOSFETは、複数個が1ブロ
ックとされてドレインとソースが共通化される。記憶M
OSFETの共通化されたドレインは、選択MOSFE
Tを通してデータ線DLに接続される。記憶MOSFE
Tの共通化されたソースは、選択MOSFETを通して
回路の接地電位が与えられる。記憶MOSFETのコン
トロールゲートは、ワード線WLに接続される。上記選
択MOSFETは、上記ワード線WLと平行に延長され
る選択線によって選択される。すなわち、上記選択MO
SFETは、メインデコーダMAN−DCRによって選
択されるメインワード線と見做される。
A plurality of the storage MOSFETs are formed as one block, and the drain and the source are shared. Memory M
The common drain of the OSFET is a selection MOSFET.
Connected to data line DL through T. Storage mosfe
The common source of T is supplied with the ground potential of the circuit through the selection MOSFET. The control gate of the storage MOSFET is connected to the word line WL. The selection MOSFET is selected by a selection line extending in parallel with the word line WL. That is, the selected MO
The SFET is regarded as a main word line selected by the main decoder MAN-DCR.

【0030】上記のようにメモリセルをブロックに分け
て、それぞれに選択MOSFETを介してデータ線DL
や回路の接地電位を与える構成により、非選択のメモリ
セルに対するストレスを軽減させることができる。すな
わち、ワード線が選択され、データ線が非選択状態にさ
れたメモリセルや、逆にワード線が非選択状態にされ、
データ線が非選択状態にされることによって、書き込み
又は消去動作においてデータを保持すべきメモリセルに
上記書き込み又は消去用の電圧が印加されることを防止
するものである。この構成では、上記ブロック内の小数
のメモリセルにおいてのみ上記のようなストレスがかか
るものとなる。
As described above, the memory cells are divided into blocks, each of which is connected to a data line DL via a selection MOSFET.
And a structure for applying a ground potential to a circuit can reduce stress on unselected memory cells. That is, a memory cell in which a word line is selected and a data line is deselected or, conversely, a word line is deselected,
By setting the data line to the non-selected state, the voltage for writing or erasing is prevented from being applied to a memory cell to hold data in a writing or erasing operation. In this configuration, the above-described stress is applied only to a small number of memory cells in the block.

【0031】この実施例では、隣接するデータ線DLが
奇数番目と偶数番目とに分けられる。そして、それぞれ
に対応してショートMOSFETが設けられる。このシ
ョートMOSFETは、奇数番目と偶数番目のデータ線
DLを交互に選択するようにし、非選択状態におかれる
データ線DLを回路の接地電位の固定レベルにして、隣
接データ線DLにおける相互のカップリングノイズを低
減するものである。このようなデータ線DLの構成に対
応して、データ線DLに現れた読み出し信号を増幅する
センスアンプSAに対して、YゲートYGも奇数と偶数
とに分けられて選択される。このYゲートYGは、後述
するようなトランスファMOSFETにより実現され
る。
In this embodiment, adjacent data lines DL are divided into odd and even data lines. Then, a short MOSFET is provided corresponding to each. This short MOSFET alternately selects the odd-numbered and even-numbered data lines DL, sets the unselected data lines DL to a fixed level of the circuit ground potential, and sets the mutual coupling between adjacent data lines DL. This is to reduce ring noise. Corresponding to such a configuration of the data line DL, the Y gate YG is also selected for the odd number and the even number for the sense amplifier SA for amplifying the read signal appearing on the data line DL. This Y gate YG is realized by a transfer MOSFET described later.

【0032】上記メインデコーダMAN−DCRによっ
て選択されるブロック内のメモリセルは、サブデコーダ
SUB−DCRによって1つが選択される。サブデコー
ダSUB−DCRは、上記ブロック内の1つのワード線
WLを選択する。このような1つのワード線の選択信号
は、ゲートデコーダGDCRによって形成される。すな
わち、サブデコーダSUB−DCRは、上記ゲートデコ
ーダGDCRによって形成されたワード線の選択信号
と、メインデコーダMAN−DCRによって形成された
動作モードに応じて形成された選択/非選択レベルとを
受けて、上記ブロック内のワード線の選択/非選択の駆
動信号を形成する。
One of the memory cells in the block selected by the main decoder MAN-DCR is selected by the sub-decoder SUB-DCR. The sub-decoder SUB-DCR selects one word line WL in the block. Such a selection signal for one word line is formed by the gate decoder GDCR. That is, the sub-decoder SUB-DCR receives the word line selection signal formed by the gate decoder GDCR and the selection / non-selection level formed according to the operation mode formed by the main decoder MAN-DCR. , And a drive signal for selecting / non-selecting a word line in the block.

【0033】(表1) (Table 1)

【0034】読み出し(read) 、書き込み(program) 及
び消去(erase) の各動作モードにおける記憶MOSFE
Tのゲート電圧(ワード線WL)Vg、ドレイン電圧V
d及びソース電圧Vsは、上記表1のような電圧が与え
られる。上記のようなゲート電圧Vgとドレイン電圧V
d及びそれぞれ電圧Vsとの相対的な電位関係により、
薄いゲート絶縁膜を介してトンネル電流を発生させ、フ
ローティングゲートに対する電荷の注入又は放出を行わ
せることによって、そのしきい値電圧を変化させて書き
込み動作と消去動作が行われる。表1において、非選択
において、/により分けられて2つの電圧又は状態は、
選択ブロック/非選択ブロックに対応している。
The storage MOSFET in each of read, write, and erase operation modes.
T gate voltage (word line WL) Vg, drain voltage V
As d and the source voltage Vs, voltages as shown in Table 1 above are given. As described above, the gate voltage Vg and the drain voltage V
d and the relative potential relationship with each voltage Vs,
By generating a tunnel current through a thin gate insulating film and injecting or discharging charges to / from the floating gate, the threshold voltage is changed to perform a write operation and an erase operation. In Table 1, in non-selection, two voltages or states separated by /
It corresponds to the selected block / non-selected block.

【0035】図3には、データ線とセンスアンプとの関
係を説明するための一実施例の回路図が示されている。
同図には、4本のデータ線DL0〜DL3とそれに対応
した4つのセンスアンプSAが代表として例示的に示さ
れている。データ線DL0〜DL3は、偶数番目のデー
タ線DL0,DL2と奇数番目のデータ線DL1,DL
3に分けられる。これらの偶数番目のデータ線DL0と
DL2には、プリチャージ電圧Vr0を受けるMOSFE
Tが設けられ、奇数番目のデータ線DL1とDL3に
は、プリチャージ電圧Vr1を受けるMOSFETが設け
られる。このように偶数番目と奇数番目のデータ線毎に
独立して読み出し動作のためのプリチュージが可能にさ
れる。
FIG. 3 is a circuit diagram of one embodiment for explaining the relationship between the data lines and the sense amplifiers.
In the figure, four data lines DL0 to DL3 and four corresponding sense amplifiers SA are exemplarily shown. The data lines DL0 to DL3 include even-numbered data lines DL0 and DL2 and odd-numbered data lines DL1 and DL2.
It is divided into three. These even-numbered data lines DL0 and DL2 have MOSFE receiving precharge voltage Vr0.
T is provided, and the odd-numbered data lines DL1 and DL3 are provided with MOSFETs for receiving the precharge voltage Vr1. As described above, the pretension for the read operation can be independently performed for each of the even-numbered and odd-numbered data lines.

【0036】上記偶数番目のデータ線DL0とDL2
は、選択信号F0によりスイッチ制御されるトランスフ
ァMOSFET(TRMOS)を介してセンスアンプS
Aと接続される。上記奇数番目のデータ線DL1とDL
3は、選択信号F1によりスイッチ制御されるトランス
ファMOSFET(TRMOS)を介してセンスアンプ
SAと接続される。上記センスアンプSAの出力信号
は、選択信号Y0〜Y3によってスイッチ制御されるY
ゲートYGを介して出力される。このように、メモリマ
ット又はメモリアイレのデータ線を奇数番目と偶数番目
に2分割し、選択信号F0とF1とによりそれぞれの時
間的に分散させてメモリセルの読み出し動作を行うよう
にすることができる。このように、同一メモリマットM
AT内のセンスアンプSAや、データ線DLを同時に活
性化しないようにした理由は、次の通りである。
The even-numbered data lines DL0 and DL2
Is a sense amplifier S via a transfer MOSFET (TRMOS) switch-controlled by a selection signal F0.
A is connected. The odd-numbered data lines DL1 and DL
Reference numeral 3 is connected to the sense amplifier SA via a transfer MOSFET (TRMOS) that is switch-controlled by the selection signal F1. The output signal of the sense amplifier SA is Y controlled by the selection signals Y0 to Y3.
The signal is output via the gate YG. As described above, the data lines of the memory mat or the memory array are divided into odd-numbered and even-numbered data lines, and the read operation of the memory cells can be performed by temporally dispersing the data lines by the selection signals F0 and F1. . Thus, the same memory mat M
The reason why the sense amplifier SA in the AT and the data line DL are not simultaneously activated is as follows.

【0037】センスアンプSAを偶数と奇数のように千
鳥状に活性化させることにより、メモリセルからの信号
を交互に取り込んで増幅させることができる。例えば、
同図に斜線を付したように、偶数番目のデータ線DL0
とDL2に対応したセンスアンプSAにより増幅された
読み出し信号を出力している間に、既に読み出し出力動
作が終了した奇数番目のデータ線DL1とDL3に対応
したセンスアンプSAにおいて、ワード線が切り替えら
れて次に出力すべきメモリセルからの読み出し信号の取
り込みを行うようにすることができる。
By activating the sense amplifiers SA in a zigzag manner as an even number and an odd number, signals from memory cells can be alternately taken in and amplified. For example,
As shown by hatching in the figure, even-numbered data lines DL0
While the read signal amplified by the sense amplifier SA corresponding to the data lines DL1 and DL2 is being output, the word lines are switched in the sense amplifiers SA corresponding to the odd-numbered data lines DL1 and DL3 for which the read output operation has already been completed. Then, a read signal from a memory cell to be output next can be fetched.

【0038】上記のようなセンスアンプを2つに分けて
時間的に分散させて増幅動作を行わせるようにした場合
には、センスアンプの増幅動作に伴うピーク電流が時間
的に分散されることによりほぼ半分に低減できる。
In the case where the above-described sense amplifier is divided into two parts and is temporally dispersed to perform the amplification operation, the peak current accompanying the amplification operation of the sense amplifier is temporally dispersed. Can be reduced by almost half.

【0039】メモリマット側では、隣接するデータ線に
おいてメモリセルから同時に読み出し信号が現れない。
すなわち、図2のようなショートMOSFETによって
非活性状態のデータ線を回路の接地電位のような固定レ
ベルにしてシールド効果を持たせることにより、カップ
リングノイズを実質的に無くすことができる。このよう
なカップリングノイズの低減により、データ線DL間の
寄生容量を無視することができるから、データ線DLの
ピッチを可能な範囲で極限まで狭く形成することがで
き、メモリアレイの高集積化が可能になる。
On the memory mat side, read signals do not appear simultaneously from the memory cells in adjacent data lines.
That is, the coupling noise can be substantially eliminated by setting the inactive data line to a fixed level such as the ground potential of the circuit by using the short MOSFET as shown in FIG. 2 to provide a shielding effect. Since the parasitic capacitance between the data lines DL can be neglected by such a reduction in coupling noise, the pitch of the data lines DL can be formed as narrow as possible and the memory array can be highly integrated. Becomes possible.

【0040】上記のように非活性化状態のデータ線は、
ショートMOSFETを設けて回路の接地電位のような
固定レベルにするものに代えて、フローティング状態に
して置くものであってもよい。この場合には、フローテ
ィング状態のデータ線DLが介在することになるため、
活性化される隣接データ線DL間の寄生容量が大幅に低
減できる。また、フローティング状態のデータ線DLと
回路の接地電位との間にも寄生容量が存在して、ノイズ
成分を回路の接地電位側に逃がす役割を果たすので活性
化される奇数又は偶数の隣接データ線DL間に発生する
ノイズを実質的に無視することができる。
As described above, the data line in the inactive state is
Instead of providing a short MOSFET and setting it to a fixed level such as the ground potential of the circuit, it may be placed in a floating state. In this case, since the floating data line DL is interposed,
The parasitic capacitance between the activated adjacent data lines DL can be significantly reduced. In addition, a parasitic capacitance exists between the data line DL in a floating state and the ground potential of the circuit, and serves to release a noise component to the ground potential side of the circuit. Noise generated between DLs can be substantially ignored.

【0041】図4には、データ線とセンスアンプとの関
係を説明するための他の一実施例の回路図が示されてい
る。同図には、隣接する2本ずつDL0,DL1とDL
2,DL3に分けられてプリチャージ電圧Vr0とVr1を
それぞれ受けるMOSFETが設けられる。このように
隣接する2本ずつのデータ線毎に独立して読み出し動作
のためのプリチュージが可能にされる。
FIG. 4 is a circuit diagram of another embodiment for explaining the relationship between data lines and sense amplifiers. In the figure, two adjacent lines DL0, DL1 and DL
MOSFETs receiving the precharge voltages Vr0 and Vr1 are provided separately for the precharge voltages Vr0 and Vr1. In this way, pre-ready for a read operation can be independently performed for every two adjacent data lines.

【0042】上記のように分けられた2本データ線DL
0とDL1は、選択信号F0によりスイッチ制御される
トランスファMOSFET(TRMOS)を介してセン
スアンプSAと接続され、残り2本のデータ線DL2と
DL3は、選択信号F1によりスイッチ制御されるトラ
ンスファMOSFET(TRMOS)を介してセンスア
ンプSAと接続される。上記センスアンプSAの出力信
号は、選択信号Y0〜Y3によってスイッチ制御される
YゲートYGを介して出力される。
The two data lines DL divided as described above
0 and DL1 are connected to a sense amplifier SA via a transfer MOSFET (TRMOS) that is switch-controlled by a selection signal F0, and the remaining two data lines DL2 and DL3 are transfer MOSFETs (switch-controlled by a selection signal F1). TRMOS) via the sense amplifier SA. The output signal of the sense amplifier SA is output via a Y gate YG that is switch-controlled by selection signals Y0 to Y3.

【0043】この構成では、基本的には図3の実施例と
同様であり、データ線の分割方法が図3のような奇数と
偶数の千鳥状に分けるのではなく、隣接した2本ずつに
分けられていることが相違する。この構成でも、前記図
3の実施例と同様にセンスアンプの活性化によるピーク
電流をほぼ半分に減らすことができるとともに、ワード
線の切り替えを伴う連続アクセスを高速に行うことがで
きる。そして、データ線間のカップリングも、互いに隣
接する2つのデータ線間のみで生じるので、左右に隣接
するものからのカップリングノイズを受ける場合にくら
べて実効的なノイズの影響も低減できる。
This configuration is basically the same as that of the embodiment of FIG. 3, and the method of dividing the data lines is not divided into odd and even staggered patterns as shown in FIG. The difference is that they are divided. With this configuration as well, the peak current due to the activation of the sense amplifier can be reduced to almost half, as in the embodiment of FIG. 3, and continuous access involving switching of word lines can be performed at high speed. Since the coupling between the data lines also occurs only between the two adjacent data lines, the effect of the effective noise can be reduced as compared with the case where the coupling noise is received from the left and right adjacent ones.

【0044】図5には、データ線とセンスアンプとの関
係を説明するための更に他の一実施例の回路図が示され
ている。同図には、データ線DL0〜DL3を4分割す
る場合の例が示されている。これらの4分割に対応して
プリチャージ電圧もVr0〜Vr3のように4通り設けら
れ、それぞれに対応してプャチャージMOSFETが設
けられる。このように4分割することにより各データ線
DL0〜DL3毎に独立して読み出し動作のためのプリ
チュージが可能にされる。
FIG. 5 is a circuit diagram of still another embodiment for explaining the relationship between data lines and sense amplifiers. The figure shows an example in which the data lines DL0 to DL3 are divided into four. Precharge voltages are also provided in four ways like Vr0 to Vr3 corresponding to these four divisions, and a pusher charge MOSFET is provided corresponding to each of them. By dividing the data into four in this manner, a pretige for the read operation can be independently provided for each of the data lines DL0 to DL3.

【0045】上記のように分けられた4本のデータ線D
L0〜DL3は、選択信号F0〜F3によりスイッチ制
御されるトランスファMOSFET(TRMOS)を介
してセンスアンプSAと接続される。上記センスアンプ
SAの出力信号は、選択信号Y0〜Y3によってスイッ
チ制御されるYゲートYGを介して出力される。
The four data lines D divided as described above
L0 to DL3 are connected to the sense amplifier SA via transfer MOSFETs (TRMOS) that are switch-controlled by the selection signals F0 to F3. The output signal of the sense amplifier SA is output via a Y gate YG that is switch-controlled by selection signals Y0 to Y3.

【0046】この実施例のように4分割したときには、
上記YゲートYGの選択信号Y0〜Y4と、上記選択信
号F0〜F3は同じアドレスデコード信号により形成す
ることができる。上記のようなデータ線DLの4分割に
伴い、同時に動作するセンスアンプSAの数も4分割す
ることができるから、センスアンプの活性化に伴うピー
ク電流をいっそう低減できる。そして、非活性のデータ
線に固定レベルを供給しないでフローティング状態にし
た場合でも、同時に活性化されるデータ線の間には、3
本のフローティング状態にされるデータ線が介在するこ
とになるので、カップリングノイズをショートMOSF
ETを追加することなく実質的に無くすことができる。
When divided into four parts as in this embodiment,
The selection signals Y0 to Y4 for the Y gate YG and the selection signals F0 to F3 can be formed by the same address decode signal. With the division of the data line DL into four as described above, the number of sense amplifiers SA operating simultaneously can also be divided into four, so that the peak current accompanying the activation of the sense amplifier can be further reduced. Even when a floating state is supplied without supplying a fixed level to an inactive data line, three data lines are simultaneously activated.
Since the floating data line intervenes, the coupling noise is reduced by the short MOSF.
It can be substantially eliminated without adding ET.

【0047】ちなみに、図6に示すようにデータ線DL
の分割を行わないときには、データ線DL0〜DL3の
プリチャージ動作や、メモリセルからの読み出し動作及
びセンスアンプSAがそれぞれ一斉に行われるときに
は、データ線DL0〜DL3間における寄生容量によっ
て、メモリセルからの読み出し信号の変化が相互に影響
を及ぼすことなる。ワーストケースでは、データ線DL
1に接続された記憶トランジスタがオフ状態で、データ
線DL1にはプリチャージレベルに維持されるべきとき
に、隣接するデータ線DL0とDL1が共にロウレベル
に変化すると、データ線DL1の電位がカッリングによ
って低下してしまう。このカップリングによって基準電
位に対するレベルマージンが低下し、最悪の場合にはロ
ウレベルの判定されてしまうような誤動作が生じる。
By the way, as shown in FIG.
When the division is not performed, when the precharge operation of the data lines DL0 to DL3, the read operation from the memory cell, and the sense amplifier SA are performed simultaneously, the parasitic capacitance between the data lines DL0 to DL3 causes Changes in the readout signals have mutual influence. In the worst case, the data line DL
When the storage transistor connected to 1 is off and the data line DL1 is to be maintained at the precharge level, when both of the adjacent data lines DL0 and DL1 change to low level, the potential of the data line DL1 is reduced by the coupling. Will drop. Due to this coupling, a level margin with respect to the reference potential is reduced, and in the worst case, a malfunction such that a low level is determined occurs.

【0048】また、上記のようなセンスアンプSAが一
斉に活性化されるときには、回路に流れるピーク電流が
大きくなる。このピーク電流は、半導体集積回路に形成
される電源線に流れ、そこでの分布抵抗やボンディング
ワイヤでのインダクタンス成分によって、電源電圧や回
路の接地電位にノイズを発生させる。上記のような記憶
トランジスタは、読み出し動作によって記憶情報が失わ
れてしまうことを防ぐためにドレイン電圧がIV程度に
低くされている。これにより、記憶トランジスタからデ
ータ線に読み出される信号振幅も比較的小さいので、上
記のような電源ノイズの影響によってセンスアンプの動
作マージンが低下してしまう。
When the above-described sense amplifiers SA are simultaneously activated, the peak current flowing through the circuit increases. This peak current flows through the power supply line formed in the semiconductor integrated circuit, and generates noise in the power supply voltage and the ground potential of the circuit due to the distributed resistance there and the inductance component in the bonding wire. The drain voltage of such a storage transistor is set to about IV in order to prevent loss of stored information due to a read operation. As a result, the amplitude of the signal read from the storage transistor to the data line is relatively small, so that the operating margin of the sense amplifier is reduced due to the influence of power supply noise as described above.

【0049】大記憶容量化のために素子の微細化が図ら
れ、記憶トランジスタに流れる電流が小さい反面、1つ
のデータ線に多数の記憶MOSFET等が接続されるこ
とによって大きな寄生容量を持つようにされる。このた
め、選択された記憶トランジスタからデータ線に読み出
される信号レベルの変化が遅く、高速読み出し動作を行
うときには、データ線の読み出し信号レベルが十分大き
くなる前にセンスアンプSAを活性化させる必要がある
ので、上記ノイズによるセンスアンプの動作マージンの
悪化は無視できない。これに対して、本願のようにメモ
リマット内のデータ線を分割し、それに対応してセンス
アンプも分割して、これらを時間的に分散させて活性化
することにより、センスアンプの動作マージンの確保と
高速読み出しを実現できる。また、分割されたデータ線
及びセンスアンプを交互に活性化させることにより、ワ
ード線の切り替えを伴う連続アクセスを高速に行うよう
にすることができる。
The element is miniaturized to increase the storage capacity, and the current flowing through the storage transistor is small, but the large parasitic capacitance is obtained by connecting a large number of storage MOSFETs to one data line. Is done. For this reason, the change in the signal level read from the selected storage transistor to the data line is slow, and when performing a high-speed read operation, it is necessary to activate the sense amplifier SA before the read signal level of the data line becomes sufficiently large. Therefore, the deterioration of the operation margin of the sense amplifier due to the noise cannot be ignored. On the other hand, as in the present application, the data lines in the memory mat are divided, and the sense amplifiers are correspondingly divided, and these are time-dispersed and activated, so that the operation margin of the sense amplifier is reduced. Secure and high-speed reading can be realized. Further, by alternately activating the divided data lines and sense amplifiers, it is possible to perform high-speed continuous access with switching word lines.

【0050】図7には、この発明に半導体記憶装置の内
部回路の読み出し動作を説明するための基本的な波形図
が示されている。チップイネーブル信号/CEがハイレ
ベルからロウレベルに変化したときに、アドレスバッフ
ァが活性化されてアドレス信号Aiの取り込みが行われ
る。同図では省略されていが、取り込まれたアドレス信
号Aiは、アドレスラッチ回路に保持される。
FIG. 7 is a basic waveform diagram for explaining the read operation of the internal circuit of the semiconductor memory device according to the present invention. When the chip enable signal / CE changes from the high level to the low level, the address buffer is activated to take in the address signal Ai. Although omitted in the figure, the fetched address signal Ai is held in the address latch circuit.

【0051】取り込まれアドレス信号により、ワード線
の選択動作とデータ線のプリチャージ動作が開始され
る。すなわち、選択されるワード線は0VからVccのよ
うな選択レベルにされる。プリチャージ電圧Vrは、デ
ータ線DLの約1Vのようなプリチャージレベルに対し
て、プリチャージMOSFETのしきい値電圧Vthn だ
け高い電圧にされる。すなわち、プリチャージMOSF
ETは、ソースフォロワ回路として動作し、データ線D
LをVr−Vthn のようなプリチャージレベルにする。
The word line selection operation and the data line precharge operation are started by the fetched address signal. That is, the selected word line is set to a selection level such as 0 V to Vcc. The precharge voltage Vr is set to a voltage higher than the precharge level of the data line DL, such as about 1 V, by the threshold voltage Vthn of the precharge MOSFET. That is, the precharge MOSF
ET operates as a source follower circuit, and the data line D
L is set to a precharge level such as Vr-Vthn.

【0052】データ線DLが上記のようなプリチャージ
レベルにされると、プリチャージ電圧Vrはロウレベル
にされ、上記プリチャージMOSFETがオフ状態にさ
れる。ワード線WLの選択レベルに対して記憶MOSF
ETのしきい値電圧が高いときにはデータ線DLの電位
はハイレベル(プリチャージレベル)を維持し、記憶情
報“0”の読み出しが行われる。ワード線WLの選択レ
ベルに対して記憶MOSFETのしきい値電圧が低いと
きにはデータ線DLの電位はロウレベルに引き抜かれて
記憶情報“1”の読み出しが行われる。
When the data line DL is set to the precharge level as described above, the precharge voltage Vr is set to the low level, and the precharge MOSFET is turned off. Storage MOSF for the selected level of word line WL
When the threshold voltage of ET is high, the potential of the data line DL is maintained at a high level (precharge level), and the storage information “0” is read. When the threshold voltage of the storage MOSFET is lower than the selected level of the word line WL, the potential of the data line DL is pulled to a low level, and the storage information "1" is read.

【0053】前記のようにデータ線DLの寄生容量が比
較的大きいのに対して、上記オン状態にされる記憶MO
SFETに流れる電流が小さいことから、センスアンプ
の動作に必要な信号振幅が得られるように設定されて時
間経過後に、トランスファMOSFET(TRMOS)
がオン状態にされる。このトランファMOSFETのオ
ン状態によりセンスアンプSAには読み出し信号が入力
されて、その増幅が行われて、データ線DLがハイレベ
ル(プリチャージレベル)であるときには電源電圧Vcc
のようなハイレベルに増幅され、データ線DLがロウレ
ベルであるときには回路の接地電位のようなロウレベル
に増幅される。
While the parasitic capacitance of the data line DL is relatively large as described above, the storage MO that is turned on
Since the current flowing through the SFET is small, a transfer MOSFET (TRMOS) is set after a lapse of time after the signal amplitude required for the operation of the sense amplifier is obtained.
Is turned on. When the transfer MOSFET is turned on, a read signal is input to the sense amplifier SA, the signal is amplified, and when the data line DL is at the high level (precharge level), the power supply voltage Vcc is applied.
And when the data line DL is at a low level, it is amplified to a low level such as the ground potential of the circuit.

【0054】特に制限されないが、上記センスアンプS
Aの増幅出力は、出力部のラッチ回路により保持され、
Y選択信号により1つのセンスアンプが選ばれて、デー
タ出力バッファを通してレベル反転されて、記憶情報
“1”はハイレベルとして出力され、記憶情報“0”は
ロウレベルとして出力される。
Although not particularly limited, the sense amplifier S
The amplified output of A is held by the latch circuit of the output unit,
One sense amplifier is selected by the Y selection signal, the level is inverted through the data output buffer, the storage information "1" is output as a high level, and the storage information "0" is output as a low level.

【0055】図8には、図3の実施例に対応した読み出
し動作の一例を説明するための波形図が示されている。
同図には、ワード線の切り替えを伴った連続読み出し動
作の例が示されている。
FIG. 8 is a waveform chart for explaining an example of the read operation corresponding to the embodiment of FIG.
FIG. 1 shows an example of a continuous read operation accompanied by word line switching.

【0056】最初のメモリサイクルによってワード線W
L0が選択されたときには、全てのデータ線DL0〜D
L3等が活性化され、それに伴い全てのセンスアンプが
活性化される。ここまでの動作波形の詳細は、図7に示
されているのと同様である。同図において点線で示され
ているのはプリチャージ電圧Vrと、トランスファMO
SFETの選択信号である。選択信号Y0が発生されて
データ線DL0に対応したデータDout の出力が行わ
れ、引き続いて選択信号Y2が発生されてデータ線DL
2に対応したデータDout の出力が行われる。
The word line W is set by the first memory cycle.
When L0 is selected, all data lines DL0-D0
L3 and the like are activated, and accordingly, all sense amplifiers are activated. The details of the operation waveforms so far are the same as those shown in FIG. The dotted line in the figure shows the precharge voltage Vr and the transfer MO
This is an SFET selection signal. The selection signal Y0 is generated to output the data Dout corresponding to the data line DL0, and subsequently the selection signal Y2 is generated to output the data line DL0.
The data Dout corresponding to No. 2 is output.

【0057】続いて、選択信号Y1に対応して奇数番目
のデータ線DL1に対応したデータDout の出力が行わ
れるのと並行して、ワード線の切り替えが行われる。す
なわち、ワード線WL0が非選択にされて、代わって次
のアドレスに対応したワード線WL1が選択される。こ
のワード線WL1の選択動作に対応して、上記読み出し
動作が終了した偶数番目のデータ線DL0とDL2にプ
リチャージ動作と、センスアンプの増幅動作が行われ
る。このようなワード線の切り替えに対応して、上記の
ように出力が行われている奇数番目に対応したデータ線
DL1とDL3のトランスファMOSFETはオフ状態
にされる。すなわち、上記奇数番目のデータ線DL1に
対応したデータDout の出力は、センスアンプSAによ
って保持されているデータが出力される。
Subsequently, the word line is switched in parallel with the output of the data Dout corresponding to the odd-numbered data line DL1 in response to the selection signal Y1. That is, the word line WL0 is deselected, and the word line WL1 corresponding to the next address is selected instead. In response to the selection operation of the word line WL1, the precharge operation and the amplification operation of the sense amplifier are performed on the even-numbered data lines DL0 and DL2 for which the read operation has been completed. In response to such switching of the word lines, the transfer MOSFETs of the data lines DL1 and DL3 corresponding to the odd-numbered ones for which the output is performed as described above are turned off. That is, as the output of the data Dout corresponding to the odd-numbered data line DL1, the data held by the sense amplifier SA is output.

【0058】上記データ線DL1に対応したデータDou
t の出力に引き続いて選択信号Y3によりデータ線DL
3に対応したデータDout の出力が行われる。この後
に、再び選択信号Y0が発生されて、ワード線WL1に
対応したデータ線DL0のデータDout が出力される。
この間にワード線WL2の選択動作によってデータ線D
L1とDL3に読み出されている信号がセンスアンプに
よって増幅される。以下、順次に選択信号Y2、Y1及
びY3に対応してデータ線DL2、DL1及びDL3に
対応したデータDout が出力される。再びワード線が切
り替えるなら、偶数番目のデータ線DL2に対応したデ
ータDout の出力が終了したタイミングで行われる。
The data Dou corresponding to the data line DL1
After the output of the data line t, the selection signal Y3 outputs the data line DL.
The data Dout corresponding to No. 3 is output. Thereafter, the selection signal Y0 is generated again, and the data Dout of the data line DL0 corresponding to the word line WL1 is output.
During this time, the data line D is selected by the operation of selecting the word line WL2.
The signals read to L1 and DL3 are amplified by the sense amplifier. Thereafter, data Dout corresponding to the data lines DL2, DL1 and DL3 are sequentially output in response to the selection signals Y2, Y1 and Y3. If the word line is switched again, the switching is performed at the timing when the output of the data Dout corresponding to the even-numbered data line DL2 is completed.

【0059】図9には、この発明に係る半導体記憶装置
における連続読み出し動作の一実施例のタイミング図が
示されている。特に制限されないが、チップイネーブル
信号/CEのロウレベルとライトイネーブル信号/WE
が共にロウレベルにすることによって入力データIiか
らコマンド(COMMAND)の取り込みが行われる。
このコマンドによって、スタートアドレスとエンドアド
レスを1セット入力するモードが指定されたなら、/C
Eをロウレベルにしたまま、あるいは/WEとともにロ
ウレベルにしてスタートアドレスSTA1とエンドアド
レスED1の取り込みが行われる。
FIG. 9 is a timing chart of one embodiment of the continuous read operation in the semiconductor memory device according to the present invention. Although not particularly limited, the low level of the chip enable signal / CE and the write enable signal / WE
Are set to low level, a command (COMMAND) is fetched from the input data Ii.
If this command specifies the mode to input one set of start address and end address, / C
The start address STA1 and the end address ED1 are fetched while E remains at a low level or at a low level together with / WE.

【0060】この後、信号/CEをロウレベルにし、/
WEをハイレベルにリセットして、クロックSCを供給
する。これにより、出力データOiは、上記クロックS
Cに同期してスタートアドレスSTA1に対応したデー
タD0からエンドアドレスEDA1にデータ7までの連
続したシリアルデータが得られる。
Thereafter, the signal / CE is changed to low level,
WE is reset to a high level to supply the clock SC. As a result, the output data Oi is output from the clock S
In synchronization with C, continuous serial data from data D0 corresponding to the start address STA1 to data 7 at the end address EDA1 is obtained.

【0061】図10には、この発明に係る半導体記憶装
置における連続読み出し動作の他の一実施例のタイミン
グ図が示されている。前記同様に、チップイネーブル信
号/CEのロウレベルとライトイネーブル信号/WEが
共にロウレベルにすることによって入力データIiから
コマンド(COMMAND)の取り込みが行われる。こ
のコマンドによって、スタートアドレスとエンドアドレ
スを2セット入力するモードが指定されたなら、/CE
をロウレベルにしたまま、あるいは/WEとともにロウ
レベルにして第1番目のスタートアドレスSTA1とエ
ンドアドレスED1と第2番目のスタートアドレスST
A2とエンドアドレスED2の取り込みが行われる。
FIG. 10 is a timing chart of another embodiment of the continuous read operation in the semiconductor memory device according to the present invention. In the same manner as described above, when both the low level of the chip enable signal / CE and the low level of the write enable signal / WE are set to the low level, the command (COMMAND) is fetched from the input data Ii. If this command specifies the mode to input two sets of start address and end address, / CE
Is kept at a low level, or at a low level together with / WE, the first start address STA1, the end address ED1, and the second start address ST
A2 and the end address ED2 are fetched.

【0062】この後、信号/CEをロウレベルにし、/
WEをハイレベルにリセットして、クロックSCを供給
する。これにより、出力データOiは、上記クロックS
Cに同期して第1番目のスタートアドレスSTA1に対
応したデータD0から順に第1番目のエンドアドレスE
D1までにシリアルに出力した後に、第2番目のスター
トアドレスSTA2から第2番目のエンドアドレスED
2までシリアルに出力する。同図には、第1番目のスタ
ートアドレスSTA1に対応したデータD0〜D4まで
の波形図が代表として例示的に示されている。
Thereafter, the signal / CE is set to low level,
WE is reset to a high level to supply the clock SC. As a result, the output data Oi is output from the clock S
C, the first end address E in order from data D0 corresponding to the first start address STA1.
After serial output by D1, the second start address STA2 to the second end address ED
Output up to 2 serially. In the figure, waveform diagrams of data D0 to D4 corresponding to the first start address STA1 are exemplarily shown.

【0063】図11には、この発明に係る半導体記憶装
置における連続読み出し動作の更に他の一実施例のタイ
ミング図が示されている。前記同様に、チップイネーブ
ル信号/CEのロウレベルとライトイネーブル信号/W
Eが共にロウレベルにすることによって入力データIi
からコマンド(COMMAND)の取り込みが行われ
る。このコマンドによって、次の3通りのシリアル読み
出しが行われる。/CEをロウレベルにしたまま、ある
いは/WEとともにロウレベルにしてスタートアドレス
STARTの取り込みが行われる。
FIG. 11 is a timing chart showing still another embodiment of the continuous read operation in the semiconductor memory device according to the present invention. Similarly to the above, the low level of the chip enable signal / CE and the write enable signal / W
By setting both E to low level, the input data Ii
, A command (COMMAND) is fetched. With this command, the following three types of serial reading are performed. The start address START is taken in while / CE is kept at a low level or at a low level together with / WE.

【0064】第1のモードは、1ワード線分を限度して
シリアル読み出しを行うものである。すなわち、信号/
CEをロウレベルにし、/WEをハイレベルにリセット
して、クロックSCを供給する。これにより、出力デー
タOiは、選択されたワード線のスタートアドレスST
ARTしたデータD0からY系の最終アドレスまでクロ
ックSCに同期して順に出力される。
In the first mode, serial reading is performed for one word line. That is, the signal /
CE is set to low level, / WE is reset to high level, and clock SC is supplied. As a result, the output data Oi becomes the start address ST of the selected word line.
The data from the ART D0 to the final address of the Y system are sequentially output in synchronization with the clock SC.

【0065】第2のモードは、1ブロック分のメモリセ
ルを限度してシリアル読み出しを行うものである。すな
わち、信号/CEをロウレベルにし、/WEをハイレベ
ルにリセットして、クロックSCを供給する。これによ
り、出力データOiは、スタートアドレスSTARTし
たデータD0からそのブロック内の最終ワード線におけ
るY系の最終アドレスまでのメモリセルの記憶情報をク
ロックSCに同期して順に出力させる。このため、スタ
ートアドレスSTARTが最終ワード線に対応したもの
であると、第1モードと実質的に同じになる。
In the second mode, serial reading is performed for one block of memory cells. That is, the signal / CE is set to low level, / WE is reset to high level, and the clock SC is supplied. As a result, the output data Oi causes the storage information of the memory cells from the data D0 at the start address START to the last address of the Y system in the last word line in the block to be sequentially output in synchronization with the clock SC. For this reason, if the start address START corresponds to the last word line, it becomes substantially the same as in the first mode.

【0066】第2のモードは、クロックSCが供給され
る続ける限りシリアル読み出しを行うものである。すな
わち、信号/CEをロウレベルにし、/WEをハイレベ
ルにリセットして、クロックSCを供給する。これによ
り、出力データOiは、スタートアドレスSTARTし
たデータD0からクロックSCの供給が停止されるまで
データの読み出しが行われる。同図では、以上の各モー
ドにおいて、スタートアドレスSTARTから順にD0
〜D9までの波形図が代表として例示的に示されてい
る。
In the second mode, serial reading is performed as long as the clock SC is continuously supplied. That is, the signal / CE is set to low level, / WE is reset to high level, and the clock SC is supplied. Thus, the output data Oi is read from the data D0 at the start address START until the supply of the clock SC is stopped. In the figure, in each of the above modes, D0 is sequentially set from the start address START.
Waveform diagrams of D9 to D9 are exemplarily shown as representatives.

【0067】図12には、上記図9の動作モードに対応
した内部回路の動作を説明するためのフローチャート図
が示されている。コマンドよりマルチセレトモードと判
定されると、Y系の偶数アドレスYeと奇数アドレスY
oをリッセトし、1セットセードかを判定し、1セット
モードと判定されたなら、Xアドレスをスタートアドレ
スXsに設定して、読み出し動作を開始する。
FIG. 12 is a flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. When it is determined from the command that the mode is the multi-select mode, the even address Ye and the odd address Y
o is reset, it is determined whether the mode is one set shade, and if it is determined that the mode is the one set mode, the X address is set to the start address Xs and the read operation is started.

【0068】この実施例では、前記のように奇数番目と
偶数番目とを交互に出力させるものであるので、偶数ア
ドレスへのデータ出力に移行すると、それと並行して奇
数アドレス側ではデータ線へのデータリードとセンスア
ンプの増幅とラッチ動作とが並行して行われ、奇数アド
レスへのデータ出力に移行すると、それと並行して偶数
アドレス側ではデータ線へのデータリードとセンスアン
プの増幅とラッチ動作とが並行して行われる。
In this embodiment, since the odd-numbered data and the even-numbered data are alternately output as described above, when the operation shifts to the data output to the even-numbered address, the odd-numbered address is connected to the data line in parallel. Data read, amplification of the sense amplifier and latch operation are performed in parallel, and when the operation shifts to data output to the odd address, data read to the data line and amplification and latch operation of the sense amplifier are performed in parallel with the even address. Are performed in parallel.

【0069】セレクタエンドの判定は、選択されたワー
ド線内の全ての偶数データ線又は奇数データ線の読み出
しが終了したか否かの判定を行うものである。すなわ
ち、この実施例では、1ワード線分のメモリセルを奇数
と偶数に分け、それぞれを1セクタとして扱うようにす
るものである。これに対応して、前記図3等のYゲート
YGの後段側には、第2段目のYゲートが設けられてお
り、この第2段目のYゲートの切り替えによって、メモ
リマット内の他の偶数番目又は奇数番目のデータ線から
の読み出しが順に行われるものである。
The determination of the selector end is to determine whether or not the reading of all the even data lines or the odd data lines in the selected word line is completed. That is, in this embodiment, the memory cells for one word line are divided into odd and even numbers, and each is treated as one sector. Correspondingly, a second-stage Y gate is provided at the subsequent stage of the Y gate YG in FIG. 3 and the like. By switching the second-stage Y gate, other Y gates in the memory mat are provided. Are sequentially read from the even-numbered or odd-numbered data lines.

【0070】図13と図14には、上記図10の動作モ
ードに対応した内部回路の動作を説明するためのフロー
チャート図が示されている。コマンドよりマルチセレト
モードと判定され、前記図12において2セットモード
と判定されたなら、図13に示すように、Xアドレスを
第1番目のスタートアドレスXs1に設定して、読み出し
動作を開始する。
FIGS. 13 and 14 are flow charts for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. If it is determined from the command that the mode is the multi-select mode, and if the mode is determined to be the two-set mode in FIG. 12, as shown in FIG. 13, the X address is set to the first start address Xs1, and the read operation is started.

【0071】Xアドレスが第1番目のエンドアドレスX
e1より大きくなると、第2番目のスタートアドレスXs2
のセットとそれに対応したデータ線の活性化とセンスア
ンプの増幅とラッチ動作が行われ、奇数番目の最終セク
タまで読み出しが終了すると、Xアドレスが第2番目の
スタートアドレスXs2にセットされていることを判定
し、図14に示すような第2番目のエンドアドレスXe2
までシリアルにデータの出力が行われる。
The X address is the first end address X
When it becomes larger than e1, the second start address Xs2
Is set, the corresponding data line is activated, the sense amplifier is amplified, and the latch operation is performed. When reading is completed up to the odd-numbered last sector, the X address is set to the second start address Xs2. And a second end address Xe2 as shown in FIG.
Up to this point, data is output serially.

【0072】図15、図16及び図17には、上記図1
1の動作モードに対応した内部回路の動作を説明するた
めのフローチャート図が示されている。図15には、そ
のうちの第1モードと第2モードの前半の一部のフロー
チャート図が示されている。マルチセレトモードでない
と判定され、図15においてセクタリード(第1モー
ド)と判定されたなら、Xアドレスをスタートアドレス
Xs1に設定して、読み出し動作を開始する。この読み出
し動作の終了は、セクタエンドかによって判定される。
すなわち、Yアドレスが最終アドレスであることを以て
エンドとされる。
FIG. 15, FIG. 16 and FIG.
A flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to one operation mode is shown. FIG. 15 is a flowchart showing a part of the first half of the first mode and the second mode. If it is determined that the mode is not the multi-select mode, and if the sector read (first mode) is determined in FIG. 15, the X address is set to the start address Xs1, and the read operation is started. The end of the read operation is determined depending on whether the sector is at the end.
That is, the end is determined when the Y address is the last address.

【0073】図15において、ブロックリード(第2モ
ード)と判定されたなら、Xアドレスをスタートアドレ
スXs1に設定して、読み出し動作を開始する。この読み
出し動作において、1セクタ内の奇数アドレスの読み出
しが終わると、図16に示されているような偶数アドレ
スの出力に移行するとともに、奇数アドレス側ではワー
ド線の切り替えとそれに対応して奇数データ線側の活性
化及びセンスアンプの増幅動作とデータラッチが並行し
て行われる。
In FIG. 15, if it is determined that the read operation is the block read (second mode), the X address is set to the start address Xs1, and the read operation is started. In this read operation, when the reading of the odd address in one sector is completed, the operation shifts to the output of the even address as shown in FIG. 16, and at the odd address side, switching of the word line and the corresponding odd data are performed. The activation of the line side, the amplification operation of the sense amplifier, and the data latch are performed in parallel.

【0074】図16では、偶数側の出力動作とそのセク
タ終了により、ブロックエンドアドレスXeまでアクセ
スされないと、図15に示された奇数側の出力に移行す
るとともに、偶数アドレス側のデータリードとセンスア
ンプの増幅動作とデータラッチ動作を行う。上記エンド
アドレスXeまでアクセスされてなら、ブロックリード
が終了させられる。
In FIG. 16, if the block end address Xe is not accessed due to the output operation on the even-numbered side and the end of the sector, the output shifts to the odd-numbered side shown in FIG. The amplifier performs an amplification operation and a data latch operation. If the end address Xe has been accessed, the block read is terminated.

【0075】図17において、ブロックリード(第2モ
ード)と判定されないなら自動的に第3モードとなりス
タートアドレスXs1を設定して、読み出し動作を開始す
る。この読み出し動作は、クロックSCの供給が停止さ
ることによってシリアルリードの終了が指示されるまで
行われる。
In FIG. 17, if it is not determined that the read operation is the block read operation (the second mode), the operation automatically switches to the third mode, sets the start address Xs1, and starts the read operation. This read operation is performed until the end of the serial read is instructed by stopping the supply of the clock SC.

【0076】図18には、この発明に係る半導体記憶装
置の他の一実施例の要部ブロック図が示されている。こ
の実施例では、センスアンプSAとして差動型のものが
用いられる。特に制限されないが、差動型のセンスアン
プSAは、ダイナミック型RAM(ランダム・アクセス
・メモリ)において用いられているような、一対のCM
OSインバータ回路の入力と出力とを交差接続してラッ
チ構成とし、Pチャンネル型MOSFETとNチャンネ
ル型MOSFETからなるパワースイッチMOSFET
を介して動作の活性化が行われる。
FIG. 18 is a block diagram showing a main part of another embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. In this embodiment, a differential amplifier is used as the sense amplifier SA. Although not particularly limited, the differential sense amplifier SA includes a pair of CMs as used in a dynamic RAM (random access memory).
A power switch MOSFET composed of a P-channel MOSFET and an N-channel MOSFET in a latch configuration by cross-connecting an input and an output of an OS inverter circuit.
The activation of the operation is performed via.

【0077】この実施例では、センスアンプSAに対し
て一対のメモリマットが上下に配置される。センスアン
プSAは、偶数(EVEN)データ線用のものと奇数
(ODD)データ線用のものに分けられる。同図におい
て、センスアンプSAが偶数用と奇数用が上下に配置さ
れるよう描かれているが、実際には一直線上に並べて配
置してもよい。
In this embodiment, a pair of memory mats is arranged above and below the sense amplifier SA. The sense amplifiers SA are divided into those for even-numbered (EVEN) data lines and those for odd-numbered (ODD) data lines. Although the sense amplifiers SA are drawn so as to be arranged vertically for even numbers and for odd numbers in the same figure, they may be arranged in a straight line in practice.

【0078】偶数用のセンスアンプの一対の入力には、
上側と下側のメモリマットの偶数番目のデータ線に接続
される。奇数用のセンスアンプの一対の入力には、上側
と下側のメモリマットの奇数番目のデータ線に接続され
る。メモリマットに対応して設けられるサブデコーダS
UB−DCR、メインデコーダMAN−DCR及びゲー
トデコーダGDCR(図示せず)は、前記図1と同様で
ある。
A pair of inputs of the even-numbered sense amplifier are
It is connected to the even-numbered data lines of the upper and lower memory mats. A pair of inputs of the odd-numbered sense amplifier are connected to odd-numbered data lines of the upper and lower memory mats. Sub-decoder S provided corresponding to memory mat
The UB-DCR, main decoder MAN-DCR, and gate decoder GDCR (not shown) are the same as those in FIG.

【0079】センスアンプ制御回路SACは、偶数用の
センスアンプ活性化信号/D0とD0と奇数用のセンス
アンプ活性化信号/D1とD1を発生させる。上記信号
/D0は偶数用のセンスアンプSAに電源電圧を供給す
るPチャンネル型MOSFETのゲートに供給され、上
記信号D0は偶数用のセンスアンプSAに回路の接地電
位を供給するNチャンネル型MOSFETのゲートに供
給される。同様に、上記信号/D1は奇数用のセンスア
ンプSAに電源電圧を供給するPチャンネル型MOSF
ETのゲートに供給され、上記信号D1は奇数用のセン
スアンプSAに回路の接地電位を供給するNチャンネル
型MOSFETのゲートに供給される。アドレスバッフ
ァや入出力バッファ及び制御回路や電圧発生回路等は、
前記図1の実施例と同様であるので同図では省略されて
いる。
The sense amplifier control circuit SAC generates sense amplifier activation signals / D0 and D0 for even numbers and sense amplifier activation signals / D1 and D1 for odd numbers. The signal / D0 is supplied to the gate of a P-channel MOSFET for supplying a power supply voltage to the even-numbered sense amplifier SA, and the signal D0 is supplied to the N-channel MOSFET for supplying a circuit ground potential to the even-numbered sense amplifier SA. Supplied to the gate. Similarly, the signal / D1 is a P-channel MOSF that supplies a power supply voltage to the odd-numbered sense amplifier SA.
The signal D1 is supplied to the gate of the ET, and the signal D1 is supplied to the gate of an N-channel MOSFET that supplies the ground potential of the circuit to the odd-numbered sense amplifier SA. The address buffer, input / output buffer, control circuit, voltage generation circuit, etc.
Since it is the same as the embodiment of FIG. 1, it is omitted in FIG.

【0080】図19には、データ線と上記差動型センス
アンプとの関係を説明するための一実施例の回路図が示
されている。同図には、センスアンプSAを挟んで配置
される2つのメモリマットの4本のデータ線DL0〜D
L3とそれに対応した4つのセンスアンプSAが代表と
して例示的に示されている。
FIG. 19 is a circuit diagram of one embodiment for explaining the relationship between the data lines and the differential sense amplifier. The figure shows four data lines DL0 to DL of two memory mats arranged with a sense amplifier SA interposed therebetween.
L3 and four sense amplifiers SA corresponding thereto are exemplarily shown as representatives.

【0081】センスアンプSAは、点線で囲まれて部分
に回路図が示されいてるように、入力と出力とが交差接
続された一対のCMOSインバータ回路から構成され
る。上記CMOSインバータ回路からなるラッチ回路に
は、前記のように電源供給用のスイッチMOSFET
(いわゆるデカMOS)によって活性化が行われるの
で、実質的にクロックドインバータ回路と同様な動作を
行う。そのため、同図では、上記2つのCMOSインバ
ータ回路はクロックドインバータ回路の形態で示されて
いる。
The sense amplifier SA is composed of a pair of CMOS inverter circuits whose inputs and outputs are cross-connected as shown in a circuit diagram in a portion surrounded by a dotted line. As described above, a power supply switch MOSFET is provided in the latch circuit including the CMOS inverter circuit.
Since the activation is performed by a so-called deca MOS, the operation is substantially the same as that of the clocked inverter circuit. Therefore, in the figure, the two CMOS inverter circuits are shown in the form of a clocked inverter circuit.

【0082】上記センスアンプの一対の入力には、入力
ノードを0VにセットするMOSFETQ1が設けられ
る。これにより、増幅動作を開始する前には入力信号が
0Vにセットされる。上記センスアンプSAの一対の入
力は、トランスファMOSFET(TRMOS)を介し
てデータ線DL0〜DL3に接続される。トランスファ
MOSFETは、偶数番目のデータ線DL0とDL2と
奇数番目のデータ線DL1とDL2に対応して2つ分け
られ、それぞれ選択信号F0とF1が供給される。これ
に対応して、偶数データ線DL0とDL2に設けられる
プリチャージMOSFETのゲートには、プリチャージ
電圧Vr0が供給され、奇数データ線DL1とDL3に設
けられるプリチャージMOSFETのゲートには、プリ
チャージ電圧Vr1が供給される。
A MOSFET Q1 for setting an input node to 0 V is provided at a pair of inputs of the sense amplifier. Thus, the input signal is set to 0 V before starting the amplification operation. A pair of inputs of the sense amplifier SA is connected to data lines DL0 to DL3 via a transfer MOSFET (TRMOS). The transfer MOSFET is divided into two corresponding to the even-numbered data lines DL0 and DL2 and the odd-numbered data lines DL1 and DL2, and supplied with selection signals F0 and F1, respectively. Correspondingly, a precharge voltage Vr0 is supplied to the gates of the precharge MOSFETs provided on the even data lines DL0 and DL2, and a precharge voltage is supplied to the gates of the precharge MOSFETs provided on the odd data lines DL1 and DL3. The voltage Vr1 is supplied.

【0083】上記センスアンプSAの一対の入力には、
それぞれにYゲートYGを構成するスイッチMOSFE
Tが設けられ、それぞれのゲートには選択信号Y0〜Y
3が供給される。この構成は、前記図3と同様である。
上記YゲートYGの出力は共通化されて、第2段目のY
ゲートを構成するスイッチMOSFETを介して、デー
タ入力バッファやデータ出力バッファに導かれる入出力
用データ線に接続される。
A pair of inputs of the sense amplifier SA are
Switch MOSFEs each constituting a Y gate YG
T is provided, and selection signals Y0 to Y
3 are supplied. This configuration is the same as in FIG.
The output of the Y gate YG is shared and the second stage Y
It is connected to an input / output data line led to a data input buffer and a data output buffer via a switch MOSFET forming a gate.

【0084】この実施例では、上記一対のメモリマット
は一方が活性化されるときには、他方が非活性化され
る。この非活性化されるメモリマットは、それが非活性
状態にされるにもかかわらず、上記トランスファMOS
FETがオン状態にされ、それに対応したデータ線がセ
ンスアンプの入力に接続される。そして、非活性メモリ
マット側では、プリチャージ電圧Vr が通常のプリチャ
ージ電圧を低くされて、かかるデータ線の電位が、活性
化されるメモリマットのデータ線のハイレベルとロウレ
ベルの中間電位にるように設定される。これにより、非
活性側のメモリマットのデータ線はセンスアンプの基準
電圧(Ref.DL)を形成するために用いられる。
In this embodiment, when one of the pair of memory mats is activated, the other is inactivated. The memory mat to be deactivated has the above-mentioned transfer MOS even though it is deactivated.
The FET is turned on, and the corresponding data line is connected to the input of the sense amplifier. Then, on the inactive memory mat side, the precharge voltage Vr is reduced to the normal precharge voltage, and the potential of the data line becomes an intermediate potential between the high level and the low level of the data line of the activated memory mat. It is set as follows. As a result, the data line of the inactive memory mat is used to form the reference voltage (Ref. DL) of the sense amplifier.

【0085】この実施例では、センスアンプSAがCM
OSラッチ回路により構成されることに対応して、書き
込み動作のときには各ラッチに対して書き込みデータで
保持させられる。すなわち、上記YゲートYGを順次に
開いて書き込みデータをセットした後に、偶数用と奇数
用のトランスファMOSFETを同時にオン状態にして
同時に書き込み動作を行うようにするものである。この
ような書き込み動作に応じてセンスアンプの動作電圧が
4Vのような電圧に切り替えられる。これに対して、読
み出し動作及び書き込みベリファイ時には前記図3の実
施例と同様に、最初のメモリサイクルを除いて偶数と奇
数のデータ線が交互に千鳥状に活性化される。
In this embodiment, the sense amplifier SA is CM
Corresponding to the configuration by the OS latch circuit, at the time of a write operation, each latch is held with write data. That is, after the Y gates YG are sequentially opened to set write data, the transfer MOSFETs for the even number and the odd number are simultaneously turned on to perform the write operation at the same time. In response to such a write operation, the operating voltage of the sense amplifier is switched to a voltage such as 4V. On the other hand, at the time of read operation and write verify, even and odd data lines are alternately activated in a staggered manner except for the first memory cycle, as in the embodiment of FIG.

【0086】図20には、データ線と上記差動型センス
アンプとの関係を説明するための他の一実施例の回路図
が示されている。この実施例では、図19の実施例に対
して、自動書き込み機能が追加されたものである。
FIG. 20 is a circuit diagram of another embodiment for explaining the relationship between the data lines and the differential sense amplifier. In this embodiment, an automatic writing function is added to the embodiment of FIG.

【0087】図21には、上記図20の実施例回路の動
作の一例を説明するための波形図が示されている。図2
1(A)には、その書き込み動作(Program)と書き込み
ベリファイ動作(Program Verify))の波形図が示されて
いる。この波形図を参照して、上記自動書き込み機能を
説明する。書き込み動作においては、書き込みデータT
Data がYゲートを介して入力される。このとき、セ
ンスアンプがデカMOSがオン状態にされて活性化され
ており、上記書き込みデータを保持している。信号PW
0によりMOSFETがオン状態にされる。上記書き込
みデータT Data がロウレベルなら、それを受ける自
動書き込み回路のMOSFETがオフ状態であるのでデ
ータ線DL1の電位はロウレベルのままにされるが、同
図に示すようにハイレベルであるとオン状態とされ、信
号PW0によってオン状態にされるMOSFETを通し
て電源電圧Vccによりチャージアップされる。
FIG. 21 is a waveform chart for explaining an example of the operation of the circuit of the embodiment shown in FIG. FIG.
FIG. 1A shows a waveform diagram of the write operation (Program) and the write verify operation (Program Verify). The above-described automatic writing function will be described with reference to this waveform diagram. In the write operation, the write data T
Data is input through the Y gate. At this time, the sense amplifier is activated with the deca MOS turned on and holds the write data. Signal PW
0 turns the MOSFET on. When the write data T Data is low level, the MOSFET of the automatic write circuit receiving the write data T Data is in the off state, so that the potential of the data line DL1 is kept at the low level. And charged up by the power supply voltage Vcc through the MOSFET turned on by the signal PW0.

【0088】次いで信号TS0がVcc以上に高くされ
る。これにより、トランスファMOSFETがオン状態
になってデータ線DL1の電位を書き込み動作に必要な
電圧4V程度に高くする。同図では示されてないが、ワ
ード線が−10Vのような電圧にされるのて、フローテ
ィングゲートとドレインとの間にドレイン側に向かう高
電圧が印加されて、フローティングゲートからドレイン
に向かってトンネル電流が流れるという書き込み動作が
行われる。
Next, the signal TS0 is raised to Vcc or higher. As a result, the transfer MOSFET is turned on, and the potential of the data line DL1 is increased to about 4 V required for the write operation. Although not shown in the figure, since the word line is set to a voltage such as -10 V, a high voltage toward the drain is applied between the floating gate and the drain, and the voltage is applied from the floating gate to the drain. A write operation in which a tunnel current flows is performed.

【0089】上記のような書き込み動作の終了により信
号PW0がロウレベルにされ、セットMOSFETがオ
ン状態にされてデータ線DL1の電位はロウレベルにセ
ットされて書き込みベリファイに移行する。すなわち、
信号RR0がプリチャージ電圧Vrにされてデータ線D
L1のプリチャージを行う。これ対して、非選択メモリ
マット側の信号PR1は、上記のように基準電圧に対応
した電位にされるので非選択メモリマット側のデータ線
DL1の電位は基準電圧Ref.DLにされる。
Upon completion of the write operation as described above, the signal PW0 is set to low level, the set MOSFET is turned on, the potential of the data line DL1 is set to low level, and the operation shifts to write verify. That is,
The signal RR0 is set to the precharge voltage Vr and the data line D
L1 is precharged. On the other hand, since the signal PR1 on the non-selected memory mat side is set to the potential corresponding to the reference voltage as described above, the potential of the data line DL1 on the non-selected memory mat side is set to the reference voltage Ref. DL.

【0090】上記デカ(DeKa) MOSFETがオフ状態
にされてセンスアンプはいったん非活性化状態にされ
る。上記書き込みが行われた記憶MOSFETのしきい
値電圧が低くされたなら、データ線DL1の電位はロウ
レベルに低下し(OK Data)、書き込みが不十分で
しきい値電圧が高いままならハイレベル(NG Dat
a)のままとされる。信号TS0とTS1によりトラン
スファMOSFETをオン状態にして、上記読み出しデ
ータを基準電圧Ref. DLとをセンスアンプの入力に供
給し、デカMOSFETをオン状態にして活性化させ
る。
The deca MOSFET is turned off, and the sense amplifier is temporarily deactivated. If the threshold voltage of the storage MOSFET in which the writing is performed is lowered, the potential of the data line DL1 is lowered to a low level (OK Data). If the writing is insufficient and the threshold voltage is still high, the potential of the data line DL1 is high. NG Dat
a) Left as is. The transfer MOSFET is turned on by the signals TS0 and TS1, the read data is supplied to the input of the sense amplifier with the reference voltage Ref.DL, and the deca MOSFET is turned on and activated.

【0091】このベリファイの結果が、上記のように不
十分なら再び書き込み動作が行われ、上記のようなロウ
レベルの信号が得られるまで予め決められた回数を限度
として繰り返して行われる。上記一定回数に達しても書
き込みが不十分と判定されたなら、そのメモリセルは不
良とされ、必要に応じて冗長回路に切り替えられる。
If the result of the verification is insufficient as described above, the write operation is performed again, and the write operation is repeatedly performed up to a predetermined number of times until the low-level signal is obtained. If it is determined that the writing is insufficient even after reaching the certain number of times, the memory cell is determined to be defective and switched to the redundant circuit as necessary.

【0092】図21(B)には、読み出し動作を説明す
るための波形図が示されている。前の読み出し動作の終
了によりデカMOSFETがオフ状態にされる。セット
MOSFETによりデータ線DLの電位がロウレベルに
される。そして、前記ブロックに分けられたメモリセル
のドレイン側セレクトMOSFETがオン状態にされ
る。そして、プリチャージ電圧PR0とPR1が、それ
ぞれのメモリマットの選択/非選択に応じて一対のデー
タ線をプリチャージ電圧と基準電圧に設定される。この
後に、上記ブロックに分けられたメモリセルのそれぞれ
側のセレクトMOSFETがオン状態にされて、選択メ
モリマット側のデータ線の電位は、選択された記憶MO
SFETがオフ状態ならプリチャージレベルのままにさ
れ、オン状態ならメモリ電流によってロウレベルに引き
抜かれる。
FIG. 21B is a waveform chart for explaining the read operation. By the end of the previous read operation, the deca-MOSFET is turned off. The potential of the data line DL is set to low level by the set MOSFET. Then, the drain-side select MOSFET of the memory cell divided into the blocks is turned on. Then, the precharge voltages PR0 and PR1 set the pair of data lines to the precharge voltage and the reference voltage according to the selection / non-selection of each memory mat. Thereafter, the select MOSFETs on each side of the memory cells divided into the above blocks are turned on, and the potential of the data line on the selected memory mat side is changed to the selected storage MO.
If the SFET is off, it is kept at the precharge level; if it is on, it is pulled low by the memory current.

【0093】信号TS0とTS1がハイレベルにされ
て、トランスファMOSFETがオン状態となり、上記
一対のデータ線をセンスアンプの入力に接続する。そし
て、セットMOSFETがオフ状態にされ、デカMOS
FETがオン状態にされてセンスアンプの活性化が行わ
れ、上記読み出し信号の増幅動作を行う。
The signals TS0 and TS1 are set to the high level, the transfer MOSFET is turned on, and the pair of data lines is connected to the input of the sense amplifier. Then, the set MOSFET is turned off, and the
The FET is turned on, the sense amplifier is activated, and the read signal is amplified.

【0094】上記図20の実施例において、センスアン
プの入力電圧を受けるMOSFETは、オール“1”の
検出回路として設けられる。すなわち、同様な他のセン
スアンプの入力に設けられるMOSFETとワイヤード
オア論理が採られ、読み出されたデータ線が全てロウレ
ベルのとき、これら全てのMOSFETがオフ状態にな
ってハイレベルの検出信号を得ることができる。いずれ
か1つのセンスアンプの入力がハイレベルなら、MOS
FETがオン状態になってロウレベルの検出信号を形成
するので、全MOSFETがオフ状態を以て全信号の
“1”を検出することができる。すなわち、同図におい
て、センスアンプの左側のデータ線ではメモリセルから
の読み出しが“1”のとき、消去状態であることを表し
ている。
In the embodiment of FIG. 20, the MOSFET receiving the input voltage of the sense amplifier is provided as an all "1" detection circuit. That is, a MOSFET provided at the input of another similar sense amplifier and a wired-OR logic are employed, and when all the read data lines are at a low level, all the MOSFETs are turned off and a high-level detection signal is output. Obtainable. If the input of any one of the sense amplifiers is high level, MOS
Since the FET is turned on to generate a low-level detection signal, "1" of all signals can be detected when all MOSFETs are off. That is, in the figure, the data line on the left side of the sense amplifier is in the erased state when reading from the memory cell is "1".

【0095】これに対してセンスアンプの出力を左側回
路と同様な回路によって出力させる構成のときには、右
側に設けられるデータ線では、書き込みと消去の論理レ
ベルが逆にされる。すなわち、差動型センスアンプの右
側のデータ線に設けられるメモリセルに対しては、ロウ
レベル出力を以て消去状態にされるが、外部端子からみ
るとオール“0”のときに消去状態と判定される。
On the other hand, in a configuration in which the output of the sense amplifier is output by a circuit similar to the left circuit, the logic levels of writing and erasing are reversed in the data line provided on the right. That is, the memory cell provided on the data line on the right side of the differential sense amplifier is brought into the erased state with a low level output, but when viewed from the external terminal, it is determined that the memory cell is in the erased state when all are "0". .

【0096】図22には、データ線と上記差動型センス
アンプとの関係を説明するための更に他の一実施例の回
路図が示されている。この実施例では、プリチャージM
OSFETが省略される。言い換えるならば、書き込み
用の信号PW0,PW1に読み出し用プリチャージ機能
を合わせ持つようにして、上記プリチャージMOSFE
Tを削減するものである。
FIG. 22 is a circuit diagram of still another embodiment for explaining the relationship between the data lines and the differential sense amplifier. In this embodiment, the precharge M
OSFET is omitted. In other words, the precharge MOSFE is made to have a read precharge function in combination with the write signals PW0 and PW1.
T is to be reduced.

【0097】図23には、その動作の一例を説明するた
めの波形図が示されている。同図(A)には、書き込み
動作とベリファイ動作が示され、(B)には読み出し動
作が示されている。同図のように、信号PWが書き込み
動作とベリファイ及び読み出し動作のときにも使用さ
れ、それぞれの動作モードに応じて電圧レベルが変化さ
せられる。すなわち、図21の信号PWとPRとが1つ
の信号PWにより実現されるものである。
FIG. 23 is a waveform chart for explaining an example of the operation. FIG. 3A shows a write operation and a verify operation, and FIG. 3B shows a read operation. As shown in the figure, the signal PW is used also in the write operation, the verify operation, and the read operation, and the voltage level is changed according to each operation mode. That is, the signals PW and PR in FIG. 21 are realized by one signal PW.

【0098】上記プリチャージMOSFETは、各デー
タ線に対応して設けられるものであり、約32Mビット
等のような大きな記憶容量を持つようにされた半導体記
憶装置では、例えばデータ線の数も4096本又は81
92本のように多数設けられるので、削除されるプリチ
ャージMOSFETの数もそれに対応した多くなる。
The precharge MOSFET is provided corresponding to each data line. In a semiconductor memory device having a large storage capacity such as about 32 Mbits, the number of data lines is 4096, for example. Book or 81
Since a large number such as 92 are provided, the number of precharge MOSFETs to be deleted also increases correspondingly.

【0099】図24には、この発明に係る半導体記憶装
置の読み出し系回路の他の一実施例の構成図が示されて
いる。この実施例では、センスアンプの後段にメインア
ンプ(Main Amp)が設けられる。このメインアンプの
後段にはデータラッチ(Data Latch)が設けられ、こ
のデータラッチを通して読み出しデータが、データ出力
バッファ(Dout Buffer)を通して出力される。
FIG. 24 is a block diagram showing another embodiment of the read system circuit of the semiconductor memory device according to the present invention. In this embodiment, a main amplifier (Main Amp) is provided after the sense amplifier. A data latch (Data Latch) is provided downstream of the main amplifier, and read data is output through the data latch through a data output buffer (Dout Buffer).

【0100】特に制限されないが、この実施例では、セ
ンスアンプSAは3つ分けられ、クロックSCの最初の
パルス1によって、メインアンプは第1番目のセンスア
ンプからのデータData1を増幅する。クロックSCがロ
ウレベル1Lのとき、データラッチでは上記メインアン
プによって増幅されたデータData1をラッチする。クロ
ックSCの2番目のパルス2によって、メインアンプは
第2番目のセンスアンプからのデータData2を増幅す
る。これと並行して、データ出力バッファはデータラッ
チに取り込まれたデータData1を出力させる。このクロ
ックSCがロウレベル2Lのとき、データラッチでは上
記メインアンプによって増幅されたデータData2をラッ
チする。
Although not particularly limited, in this embodiment, the sense amplifier SA is divided into three, and the main amplifier amplifies data Data1 from the first sense amplifier by the first pulse 1 of the clock SC. When the clock SC is at the low level 1L, the data latch latches the data Data1 amplified by the main amplifier. With the second pulse 2 of the clock SC, the main amplifier amplifies the data Data2 from the second sense amplifier. In parallel with this, the data output buffer outputs the data Data1 captured by the data latch. When the clock SC is at the low level 2L, the data latch latches the data Data2 amplified by the main amplifier.

【0101】そして、クロックSCの3番目のパルス3
によって、メインアンプは第3番目のセンスアンプから
のデータData3を増幅する。これと並行して、データ出
力バッファはデータラッチに取り込まれたデータData2
を出力させる。このクロックSCがロウレベル3Lのと
き、そして、図示しない次のクロックSCのハイレベル
によりデータ出力バッファは、データラッチに取り込ま
れたデータData3を出力させるようにするものである。
このようなパイプライン的なシリアル動作によって、高
速にデータを出力させることができる。この実施例にお
いて、データラッチを省略して、メインアンプの出力を
データ出力バッファに供給する構成としてもよい。
Then, the third pulse 3 of the clock SC
Accordingly, the main amplifier amplifies the data Data3 from the third sense amplifier. In parallel with this, the data output buffer stores the data Data2 captured by the data latch.
Output. When the clock SC is at the low level 3L, and when the next clock SC (not shown) is at the high level, the data output buffer outputs the data Data3 captured by the data latch.
Data can be output at high speed by such a pipelined serial operation. In this embodiment, the data latch may be omitted, and the output of the main amplifier may be supplied to the data output buffer.

【0102】図25には、データ線とセンスアンプとの
関係を説明するための更に他の一実施例の回路図が示さ
れている。この実施例では、センスアンプに対して2つ
のデータ線が割り当てられる。すなわち、前記のような
4個のセンスアンプに対して全体で8本のデータ線DL
0〜DL7が2本ずつ割り当てられる。そして、選択信
号F00,F01とF10,F11にカラム選択機能が
合わせ持つようにされる。上記信号F00〜F11の組
み合わせにより、ワード線を切り替えないでデータ線D
L0〜DL7の信号を連続して出力させることができ
る。同図では省略されているが、このようなトランスフ
ァMOSFETに対応してデータ線DL0〜DL7に設
けられるプリチャージMOSFETも4つに分けられ、
それぞれにプリチャージ電圧Vr0〜Vr3が供給される。
FIG. 25 is a circuit diagram of still another embodiment for describing the relationship between the data lines and the sense amplifiers. In this embodiment, two data lines are allocated to the sense amplifier. That is, for the four sense amplifiers described above, eight data lines DL in total are used.
0 to DL7 are assigned two by two. The column selection function is provided for the selection signals F00, F01 and F10, F11. By the combination of the signals F00 to F11, the data line D is switched without switching the word line.
The signals L0 to DL7 can be output continuously. Although omitted in the figure, the precharge MOSFETs provided on the data lines DL0 to DL7 corresponding to such transfer MOSFETs are also divided into four.
Precharge voltages Vr0 to Vr3 are supplied to each of them.

【0103】例えば、連続読み出し動作おいて、信号F
00とF10により4本分のデータ線の読み出しが行わ
れると、続いてF01とF11により4本分のデータ線
の読み出しが行われる。上記F00とF10及びF01
とFF11により8本分のデータ線の読み出しが行われ
た後にワード線の切り替えが行われる。この構成では、
センスアンプの数をデータ線の数に対して半分に減らす
ことができる。
For example, in the continuous read operation, the signal F
When four data lines are read by 00 and F10, four data lines are subsequently read by F01 and F11. F00, F10 and F01
After the data lines for eight lines have been read by the FF11 and the FF11, the word lines are switched. In this configuration,
The number of sense amplifiers can be reduced to half the number of data lines.

【0104】図26には、この発明に係る半導体記憶装
置を用いたマイクロコンピュータ等の情報処理システム
の一実施例のブロック図が示されている。同図のフラッ
シュメモリは、前記実施例のような半導体記憶装置から
構成される。
FIG. 26 is a block diagram showing one embodiment of an information processing system such as a microcomputer using the semiconductor memory device according to the present invention. The flash memory shown in the figure is constituted by the semiconductor memory device as in the above embodiment.

【0105】この実施例のシステムは、中央処理装置
(又はマイクロプロセッサ)CPU、、アドデコーダ、
タイミングコントローラ、データバッファ、データレジ
スタ、リレー及び前記のようなフラッシュメモリを含ん
でいる。フラッシュメモリは代表として1つが例示的に
示されているが、所望の記憶容量を得るために複数のフ
ラッシュメモリが並列形態に接続される。なお、マイク
ロコンピュータ等のシステムを構成するのに必要なメモ
リRAMや、ROM及び入出力装置は、この発明に直接
関係が無いので省略されている。
The system of this embodiment includes a central processing unit (or microprocessor) CPU, an add decoder,
It includes a timing controller, a data buffer, a data register, a relay and a flash memory as described above. Although one flash memory is exemplarily shown as a representative, a plurality of flash memories are connected in parallel to obtain a desired storage capacity. Note that a memory RAM, a ROM, and an input / output device required to configure a system such as a microcomputer are omitted because they are not directly related to the present invention.

【0106】上記フラッシュメモリのSCピンは、シリ
アルクロック入力端子である。この入力端子から入力さ
れたクロックSCに同期してデータがシリアルに出力さ
れる。このシリアルクロックSCは、タイミングコント
ローラにより発生されるようにされいてるが、CPUの
システムクロックを直接的に入力するものであってもよ
い。
The SC pin of the flash memory is a serial clock input terminal. Data is serially output in synchronization with the clock SC input from this input terminal. Although the serial clock SC is generated by the timing controller, the serial clock SC may directly input the system clock of the CPU.

【0107】フラッシュメモリからのシリアルリード
は、/CEと/OEをロウレベルのときにSCに同期さ
せて、内部アドレスインクリメントしながらI/Oピン
よりデータを出力させる。このとき、アドレスバスはフ
リーとされる。上記第1番目のフラッシュメモリをシリ
アル出力時に、図外の第2番目等のフラッシュメモリか
ら出力を得るときには、信号/OEを分離しておいてデ
ータがデータバスで競合しないようにすればよい。
In the serial read from the flash memory, data is output from the I / O pin while the internal address is incremented by synchronizing with the SC when / CE and / OE are at the low level. At this time, the address bus is set free. When an output is obtained from a second flash memory or the like (not shown) at the time of serial output from the first flash memory, the signal / OE may be separated so that data does not conflict with the data bus.

【0108】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。 (1) 記憶情報に従って高いしきい値電圧か低いしき
い値電圧かを持つようにされた記憶トランジスタがマト
リックス配置されてなるメモリアレイのデータ線を複数
ブロックに分け、時間的に分散されて増幅動作を行うセ
ンスアンプによって信号増幅を行うことにより、ピーク
電流を低減させることができ、それに伴い動作マージを
大きくすることができるという効果が得られる。
The functions and effects obtained from the above embodiment are as follows. (1) A data line of a memory array in which storage transistors having a high threshold voltage or a low threshold voltage according to storage information are arranged in a matrix is divided into a plurality of blocks, and the data lines are temporally dispersed and amplified. By performing signal amplification by the sense amplifier that performs the operation, it is possible to reduce the peak current and thereby increase the operation merge.

【0109】(2) 隣接して配置される奇数番目と偶
数番目のデータ線に対応して第1群のセンスアンプと第
2群のセンスアンプに分け、一方のセンスアンプ群の出
力信号をシリアルに出力させている間に、ワード線の切
り替えを行うとともに他方のセンスアンプ群を上記切り
替えられたワード線に対応したメモリセルからの読み出
し信号の増幅動作を行わせることにより、奇数番目と偶
数番目のデータ線の読み出し動作を交互に行うようにす
ることによって隣接データ線間のカップリングノイズを
低減でき、高速に連続したシリアル読み出しを行うこと
ができるという効果が得られる。
(2) A first group of sense amplifiers and a second group of sense amplifiers are divided corresponding to the odd-numbered and even-numbered data lines arranged adjacent to each other, and the output signal of one of the sense amplifier groups is serialized. While the word lines are switched, and the other sense amplifier group performs the operation of amplifying the read signal from the memory cell corresponding to the switched word line, whereby the odd-numbered and even-numbered By alternately performing the read operation of the data line, coupling noise between adjacent data lines can be reduced, and an effect that serial readout at high speed can be performed is obtained.

【0110】(3) 上記奇数番目と偶数番目のデータ
線からの読み出しと、ワード線の切り替えのためのアド
レスは、外部端子から供給されるクロックに同期して歩
進させられるアドレス発生回路により形成することによ
り、高速にしかも簡単に大量のデータを読み出すことが
できるという効果が得られる。
(3) Addresses for reading from the odd-numbered and even-numbered data lines and for switching word lines are formed by an address generation circuit that is incremented in synchronization with a clock supplied from an external terminal. By doing so, an effect that a large amount of data can be read at high speed and easily can be obtained.

【0111】(4) 複数からなるスタックドゲート構
造の記憶MOSFETの共通化されたドレインに第1の
選択MOSFETを介してデータ線に接続し、かかる記
憶MOSFETの共通化されたソースに第2の選択MO
SFETを介して接地電位に接続することにより、非選
択の記憶MOSFETに対する書き込み/消去時のスト
レスを大幅に低減させることができるという効果が得ら
れる。
(4) A data line is connected to a common drain of a storage MOSFET having a stacked gate structure composed of a plurality of transistors via a first selection MOSFET, and a second source is connected to a common source of the storage MOSFET. Select MO
By connecting to the ground potential via the SFET, an effect is obtained that the stress at the time of writing / erasing to the unselected storage MOSFET can be greatly reduced.

【0112】(5) 上記メモリアレイは一対のメモリ
マットからなり、各メモリマットのデータ線は差動のセ
ンスアンプに入力され、非選択のメモリマットのデータ
線電位を基準電圧として選択メモリマットのデータ線電
位のセンスを行うようにすることによって、高感度で高
速のセンスアンプを得ることができるという効果が得ら
れる。
(5) The memory array is composed of a pair of memory mats, and the data lines of each memory mat are input to a differential sense amplifier, and the data line potential of the unselected memory mat is used as a reference voltage for the selected memory mat. By performing the sensing of the data line potential, an effect that a high-sensitivity and high-speed sense amplifier can be obtained is obtained.

【0113】(6) 上記センスアンプには、その増幅
信号を受けるMOSFETを設けて、ワイヤードオア接
続させるという簡単な構成により、全データ線の消去状
態の検出信号を行うことができるという効果が得られ
る。
(6) The sense amplifier is provided with a MOSFET for receiving the amplified signal, and is connected in a wired-OR manner. With this simple configuration, it is possible to obtain an effect that a detection signal of an erased state of all data lines can be obtained. Can be

【0114】(7) 上記センスアンプをCMOSラッ
チ回路を用い、書き込みデータを入力して保持させ、こ
の保持されたデータに基づいて複数のデータ線に対応し
たメモリセルに対して一斉の書き込み動作を行うように
することによって、書き込み動作の高速化が図られると
いう効果が得られる。
(7) The sense amplifier uses a CMOS latch circuit to input and hold write data, and performs simultaneous write operations on memory cells corresponding to a plurality of data lines based on the held data. By doing so, the effect of increasing the speed of the write operation can be obtained.

【0115】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、差動
型のセンスアンプはスタティック型RAMに用いられて
いるように、差動MOSFETを増幅MOSFETとし
て用いるようなものであってもよい。記憶MOSFET
は、前記のようなフラチッシュ型EEPROMの他に、
EPROMやマスクROMを構成するものであってもよ
い。
The invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments. However, the invention of the present application is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, the differential sense amplifier may use a differential MOSFET as an amplifying MOSFET as used in a static RAM. Storage MOSFET
Is, in addition to the above-mentioned flash type EEPROM,
It may constitute an EPROM or a mask ROM.

【0116】この発明は、記憶情報に従って高いしきい
値電圧か低いしきい値電圧かを持つようにされた半導体
記憶装置に広く利用できる。この半導体記憶装置は、1
チップのマイクロコンピュータ等のようなディジタル集
積回路に内蔵されるものであってもよい。
The present invention can be widely applied to a semiconductor memory device having a high threshold voltage or a low threshold voltage according to stored information. This semiconductor memory device has 1
It may be built in a digital integrated circuit such as a chip microcomputer.

【0117】[0117]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、記憶情報に従って高いしき
い値電圧か低いしきい値電圧かを持つようにされた記憶
トランジスタがマトリックス配置されてなるメモリアレ
イのデータ線を複数ブロックに分け、時間的に分散され
た活性化信号により増幅動作を行うセンスアンプによっ
て信号増幅を行う。そして、隣接して配置される奇数番
目と偶数番目のデータ線に対応して第1群のセンスアン
プと第2群のセンスアンプに分け、一方のセンスアンプ
群の出力信号をシリアルに出力させている間に、ワード
線の切り替えを行うとともに他方のセンスアンプ群を上
記切り替えられたワード線に対応したメモリセルからの
読み出し信号の増幅動作を行わせることにより、ピーク
電流の低減と奇数番目と偶数番目のデータ線の読み出し
動作を交互にして隣接データ線間のカップリングノイズ
の低減と連続した高速シリアル読み出しを行うことがで
きる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the data lines of a memory array in which storage transistors each having a high threshold voltage or a low threshold voltage according to storage information are arranged in a matrix are divided into a plurality of blocks, and time-dependent activation is performed. Signal amplification is performed by a sense amplifier that performs an amplification operation by a signal. Then, a first group of sense amplifiers and a second group of sense amplifiers are divided corresponding to the odd-numbered and even-numbered data lines arranged adjacent to each other, and the output signal of one of the sense amplifier groups is serially output. During this period, the word line is switched and the other sense amplifier group is caused to perform the operation of amplifying the read signal from the memory cell corresponding to the switched word line, thereby reducing the peak current and the odd and even numbers. By alternately performing the read operation of the second data line, coupling noise between adjacent data lines can be reduced and continuous high-speed serial read can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る一括消去型EEPROMの一実
施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a batch erase type EEPROM according to the present invention.

【図2】上記メモリマットとその周辺部の一実施例を示
す概略回路図である。
FIG. 2 is a schematic circuit diagram showing an embodiment of the memory mat and peripheral portions thereof.

【図3】この発明に係る半導体記憶装置のデータ線とセ
ンスアンプとの関係を説明するための一実施例を示す回
路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment for describing a relationship between a data line and a sense amplifier of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】この発明に係る半導体記憶装置のデータ線とセ
ンスアンプとの関係を説明するための他の一実施例を示
す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another embodiment for describing a relationship between a data line and a sense amplifier of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図5】この発明に係る半導体記憶装置のデータ線とセ
ンスアンプとの関係を説明するための更に他の一実施例
を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing still another embodiment for describing a relationship between a data line and a sense amplifier of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図6】この発明に先立って検討されたデータ線とセン
スアンプの一例を示す回路図でたある。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a data line and a sense amplifier studied prior to the present invention.

【図7】この発明に半導体記憶装置の内部回路の読み出
し動作を説明するための基本的な波形図である。
FIG. 7 is a basic waveform diagram for describing a read operation of an internal circuit of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図8】上記図3の実施例に対応した読み出し動作の一
例を説明するための波形図である。
FIG. 8 is a waveform chart for explaining an example of a read operation corresponding to the embodiment of FIG. 3;

【図9】この発明に係る半導体記憶装置における連続読
み出し動作の一実施例を示すタイミング図である。
FIG. 9 is a timing chart showing one embodiment of a continuous read operation in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図10】この発明に係る半導体記憶装置における連続
読み出し動作の他の一実施例を示すタイミング図であ
る。
FIG. 10 is a timing chart showing another embodiment of the continuous read operation in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図11】この発明に係る半導体記憶装置における連続
読み出し動作の更に他の一実施例を示すタイミング図で
ある。
FIG. 11 is a timing chart showing still another embodiment of the continuous read operation in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図12】上記図9の動作モードに対応した内部回路の
動作を説明するためのフローチャート図である。
FIG. 12 is a flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. 9;

【図13】上記図10の動作モードに対応した内部回路
の動作を説明するための一部のフローチャート図であ
る。
FIG. 13 is a partial flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. 10;

【図14】上記図10の動作モードに対応した内部回路
の動作を説明するための残り一部のフローチャート図で
ある。
FIG. 14 is a flowchart of the remaining part for describing the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. 10;

【図15】上記図11の動作モードに対応した内部回路
の動作を説明するための一部のフローチャート図であ
る。
FIG. 15 is a partial flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. 11;

【図16】上記図11の動作モードに対応した内部回路
の動作を説明するための他の一部のフローチャート図で
ある。
FIG. 16 is another partial flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. 11;

【図17】上記図11の動作モードに対応した内部回路
の動作を説明するための残りの一部のフローチャート図
である。
FIG. 17 is a remaining part flowchart for explaining the operation of the internal circuit corresponding to the operation mode of FIG. 11;

【図18】この発明に係る半導体記憶装置の他の一実施
例を示す要部ブロック図である。
FIG. 18 is a main part block diagram showing another embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図19】この発明に係る半導体記憶装置におけるデー
タ線と差動型センスアンプとの関係を説明するための一
実施例を示す回路図である。
FIG. 19 is a circuit diagram showing one embodiment for explaining a relationship between a data line and a differential sense amplifier in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図20】この発明に係る半導体記憶装置におけるデー
タ線と上記差動型センスアンプとの関係を説明するため
の他の一実施例を示す回路図である。
FIG. 20 is a circuit diagram showing another embodiment for describing a relationship between a data line and the differential sense amplifier in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図21】上記図20の実施例回路の動作の一例を説明
するための波形図である。
FIG. 21 is a waveform chart for explaining an example of the operation of the embodiment circuit of FIG. 20;

【図22】この発明に係る半導体記憶装置におけるデー
タ線と上記差動型センスアンプとの関係を説明するため
の更に他の一実施例を示す回路図である。
FIG. 22 is a circuit diagram showing still another embodiment for describing the relationship between the data lines and the differential sense amplifier in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図23】上記図22の実施例回路の動作の一例を説明
するための波形図である。
FIG. 23 is a waveform chart for explaining an example of the operation of the embodiment circuit of FIG. 22;

【図24】この発明に係る半導体記憶装置の読み出し系
回路の他の一実施例を示す構成図である。
FIG. 24 is a configuration diagram showing another embodiment of the readout circuit of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図25】この発明に係る半導体記憶装置におけるデー
タ線とセンスアンプとの関係を説明するための更に他の
一実施例を示す回路図である。
FIG. 25 is a circuit diagram showing still another embodiment for describing a relationship between a data line and a sense amplifier in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図26】この発明に係る半導体記憶装置を用いたマイ
クロコンピュータ等の情報処理システムの一実施例を示
すブロック図である。
FIG. 26 is a block diagram showing one embodiment of an information processing system such as a microcomputer using the semiconductor storage device according to the present invention.

【図27】従来のメモリセルの一例を示す概略断面図で
ある。
FIG. 27 is a schematic sectional view showing an example of a conventional memory cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MAT…メモリマット、SUB−DCR…サブデコー
ダ、MAN−DCR…メインデコーダ、GDCR…ゲー
トデコーダ、CONT…制御回路、ADB…アドレスバ
ッファ、ALH…アドレスラッチ、ADG…アドレス発
生回路、VG…電圧発生回路、CDCR…コマンドデコ
ーダ、SREG…ステイタスレジスタ、ASC…センス
アンプ制御回路、SA…センスアンプ、YG…Yゲー
ト、IB…データ入力バッファ、OB…データ出力バッ
ファ、DL…データ線、WL…ワード線、CPU…中央
処理装置。
MAT: memory mat, SUB-DCR: sub decoder, MAN-DCR: main decoder, GDCR: gate decoder, CONT: control circuit, ADB: address buffer, ALH: address latch, ADG: address generation circuit, VG: voltage generation circuit , CDCR: command decoder, SREG: status register, ASC: sense amplifier control circuit, SA: sense amplifier, YG: Y gate, IB: data input buffer, OB: data output buffer, DL: data line, WL: word line, CPU: Central processing unit.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワード線と、 複数のデータ線と、 復数のメモリセルと、 クロック端子と、 アドレス発生器及びデータ端子とを有し、 夫々のメモリセルは第1及び第2の半導体領域と、フロ
ーティングゲート及びコントロールゲートとを有し、 前記コントロールゲートは前記複数のワード線のうちの
1つのワード線に結合され、 夫々のメモリセルの前記第1の半導体領域は前記複数の
データ線のうちの1つのデータ線に結合され、 前記クロック端子には外部クロック信号が供給され、 前記アドレス発生器は前記外部クロック信号と同期して
ワード線の切換え信号を出力し、 前記データ端子は選択されたワード線に結合されたメモ
リセル内に貯蔵されたデータを出力し、 前記クロック端子に前記外部クロック信号が供給されて
いる間に前記ワード線の切換え信号に応じて前記複数の
ワード線のうちでワード線が選択され、選択されたワー
ド線に結合されたメモリセルに貯蔵されたデータは前記
データ端子から出力されることを特徴とする半導体記憶
装置。
A plurality of word lines; a plurality of data lines; a plurality of memory cells; a clock terminal; an address generator and a data terminal; A semiconductor region, a floating gate and a control gate, wherein the control gate is coupled to one word line of the plurality of word lines, and the first semiconductor region of each memory cell is An external clock signal is supplied to the clock terminal, the address generator outputs a word line switching signal in synchronization with the external clock signal, and the data terminal is connected to the data terminal. Outputting data stored in a memory cell coupled to a selected word line, while the external clock signal is supplied to the clock terminal; A word line is selected from the plurality of word lines according to the word line switching signal, and data stored in a memory cell coupled to the selected word line is output from the data terminal. Semiconductor storage device.
【請求項2】 請求項1において、 所定のコマンドが前記データ端子から供給されるとき、
前記クロック端子に外部クロック信号が供給される間に
前記複数のメモリセルに貯蔵されたデータの夫々は前記
データ端子から出力されることを特徴とする半導体記憶
装置。
2. The method according to claim 1, wherein when a predetermined command is supplied from the data terminal,
A semiconductor memory device, wherein each of data stored in the plurality of memory cells is output from the data terminal while an external clock signal is supplied to the clock terminal.
【請求項3】 請求項2において、 開始アドレス信号をラッチするアドレスラッチを更に有
することを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising an address latch for latching a start address signal.
【請求項4】 請求項3において、 前記アドレス発生器は前記外部クロック信号と同期して
前記アドレスラッチ内に貯蔵された開始アドレスでアド
レスの歩進動作を行うことを特徴とする半導体記憶装
置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein said address generator performs an address increment operation with a start address stored in said address latch in synchronization with said external clock signal.
【請求項5】 複数のワード線と、 複数のメインデータ線と、 複数のサブデータ線と、 複数のソース線と、 複数のメモリセルと、 クロック端子と、 アドレス発生器及びデータ端子とを有し、 夫々のメモリセルは第1及び第2の半導体領域と、フロ
ーティングゲート及びコントロールゲートとを有し、 前記コントロールゲートは前記複数のワード線のうちの
1つのワード線に結合され、 同一カラム上のメモリセルの前記第1の半導体領域は前
記複数のサブデータ線のうちの1つのサブデータ線に結
合され、同一カラム上にサブデ一タ線は夫々1つのメイ
ンデータ線に結合され、 同一カラム上のメモリセルの第2の半導体領域は前記複
数のソース線のうちの1つのソース線に結合され、 前記クロック端子には外部クロック信号が供給され、 前記アドレス発生器は前記外部クロック信号と同期して
ワード線の切換え信号を出力し、 前記データ端子は選択されたワード線に結合されたメモ
リセル内に貯蔵されたデータを出力し、 前記クロック端子に前記外部クロック信号が供給されて
いる間に前記ワード線の切換え信号に応じて前記複数の
ワード線のうちでワード線が選択され、選択されたワー
ド線に結合されたメモリセルに貯蔵されたデータは前記
データ端子から出力されることを特徴とする半導体記憶
装置。
5. A semiconductor device comprising a plurality of word lines, a plurality of main data lines, a plurality of sub data lines, a plurality of source lines, a plurality of memory cells, a clock terminal, an address generator and a data terminal. Each of the memory cells has first and second semiconductor regions, a floating gate and a control gate, and the control gate is coupled to one of the plurality of word lines, and The first semiconductor region of the memory cell is coupled to one of the plurality of sub data lines, and the sub data lines are respectively coupled to one main data line on the same column; A second semiconductor region of the upper memory cell is coupled to one of the plurality of source lines; an external clock signal is supplied to the clock terminal; The address generator outputs a word line switching signal in synchronization with the external clock signal, the data terminal outputs data stored in a memory cell coupled to a selected word line, and the clock terminal A word line is selected from the plurality of word lines in response to the word line switching signal while the external clock signal is being supplied to the memory cell coupled to the selected word line; Data is output from the data terminal.
【請求項6】 請求項5において、 所定のコマンドが前記データ端子から供給されるとき、
前記クロック端子に前記外部クロック信号が供給される
間に前記複数のメモリセルに貯蔵されたデータの夫々は
前記データ端子から出力されることを特徴とする半導体
記憶装置。
6. The method according to claim 5, wherein when a predetermined command is supplied from the data terminal,
A semiconductor memory device, wherein each of data stored in the plurality of memory cells is output from the data terminal while the external clock signal is supplied to the clock terminal.
【請求項7】 請求項6において、 開始アドレス信号をラッチするアドレスラッチを更に有
することを特徴とする半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 6, further comprising an address latch for latching a start address signal.
【請求項8】 請求項7において、 前記アドレス発生器は前記外部クロック信号と同期して
前記アドレスラッチ内に貯蔵された開始アドレスでアド
レス歩進動作を行うことを特徴とする半導体記憶装置。
8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said address generator performs an address increment operation with a start address stored in said address latch in synchronization with said external clock signal.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8050094B2 (en) 2007-08-30 2011-11-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory cell array and non-volatile memory device

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