JP2000190236A - Manufacture of abrasive body - Google Patents

Manufacture of abrasive body

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JP2000190236A
JP2000190236A JP10366295A JP36629598A JP2000190236A JP 2000190236 A JP2000190236 A JP 2000190236A JP 10366295 A JP10366295 A JP 10366295A JP 36629598 A JP36629598 A JP 36629598A JP 2000190236 A JP2000190236 A JP 2000190236A
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JP
Japan
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polishing
layer
binder
back layer
polished
Prior art date
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JP10366295A
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Japanese (ja)
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Minoru Kanazawa
實 金澤
Katsumi Ryomo
克己 両毛
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the strength of an abrasive layer and a back layer, generate no peeling of the abrasive layer and the back layer when a metallic shaft or a magnetic head is polished, and carry out the removal of the surface unevenness of the metallic shaft, and the surface polishing of the megnetic head without generating a flaw. SOLUTION: This abrasive body is composed by providing an abrasive layer 5 including abrasive grains 3 and a binder 4, on one side surface of a supporting body 2, and a back layer 6 including an inorganic powder 7 and a binder 8, on the surface of the opposite side, and after coating and drying the abrasive layer 5 and the back layer 6, it is heat treated at the temperature and the time to expedite the cross-linking of the binders, to harden and strengthen the abrasive layer and the back layer, so as to improve the durability.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として自動車の
エンジン等に使用されているクランクシャフト、カムシ
ャフトに代表されるような金属製シャフトの表面研磨、
又は、ビデオヘッド等の磁気ヘッドの表面研磨などに使
用される研磨テープ、研磨シート等の研磨体の製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to polishing a surface of a metal shaft such as a crankshaft or a camshaft mainly used for an automobile engine or the like.
Also, the present invention relates to a method for manufacturing a polishing body such as a polishing tape and a polishing sheet used for polishing the surface of a magnetic head such as a video head.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、金属製シャフトにおいては、そ
の製造の際の熱処理過程でクレーター状の表面凹凸が発
生し、その棒状軸部ではこの凹凸形状を除去して平坦面
とするために表面研磨を施す場合がある。また、ビデオ
ヘッド等の磁気ヘッドにおいてはその表面を入出力特性
を保持できるように平坦面に整形研磨することがある。
2. Description of the Related Art For example, in the case of a metal shaft, crater-shaped surface irregularities are generated during a heat treatment process during its production, and the rod-shaped shaft portion is polished to remove the irregularities and flatten the surface. May be applied. Further, in the case of a magnetic head such as a video head, the surface may be shaped and polished to a flat surface so as to maintain input / output characteristics.

【0003】上記のような金属製シャフトの研磨は、そ
の棒状軸部に研磨テープ(研磨体)を巻き付け、この研
磨テープのバック面からテープ押さえ(パッド)を介し
て例えば15〜25Kgf/cm2の圧力で押し付け、前記棒
状軸部を研磨テープを押し付けた状態で回転させて行わ
れるが、この場合にバック面からの押し付けが弱いと研
磨が不十分となると共に、上記棒状軸部の回転に伴って
研磨テープが引きずられて移動すると良好な研磨が行え
ないことになる。また、磁気ヘッドの研磨においても、
高い張力または押圧力で研磨を行う場合がある。
For polishing a metal shaft as described above, a polishing tape (polishing body) is wrapped around the rod-shaped shaft portion and, for example, 15 to 25 kgf / cm 2 is applied from the back surface of the polishing tape via a tape holder (pad). The pressing is performed by pressing the rod-shaped shaft portion while pressing the polishing tape, but in this case, if the pressing from the back surface is weak, the polishing becomes insufficient and the rotation of the rod-shaped shaft portion is performed. Accordingly, if the polishing tape is dragged and moved, good polishing cannot be performed. Also, in polishing the magnetic head,
Polishing may be performed with high tension or pressing force.

【0004】そして、前記研磨テープの研磨力が高いと
研磨処理効率が向上する反面、研磨された金属製シャフ
ト又は磁気ヘッドの表面性が低下する。また前記研磨テ
ープの研磨力が低いと金属製シャフト又は磁気ヘッドの
表面性は良化するが、研磨力が不足のため、必要な表面
性を得るための研磨処理時間が長くなる傾向にある。さ
らに、研磨テープは15〜25Kgf/cm2などの強い圧力
下で使用する場合には、この圧力下でも耐えるられるだ
けの膜強度が要求される。
When the polishing power of the polishing tape is high, the polishing efficiency is improved, but the surface properties of the polished metal shaft or magnetic head are reduced. If the polishing power of the polishing tape is low, the surface properties of the metal shaft or the magnetic head are improved, but the polishing power is insufficient, so that the polishing processing time for obtaining the required surface properties tends to be long. Further, when the polishing tape is used under a strong pressure such as 15 to 25 kgf / cm 2, a film strength that can withstand the pressure is required.

【0005】これら研磨体の先行技術としては、特開平
8−267363号、特開平6−238569号、特開
平6−39736号、特公平4−40156号などが挙
げられる。
[0005] As a prior art of these abrasives, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 8-267363, 6-238569, 6-39736, and JP-B-4-40156 are listed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しこうして、上記のよ
うな先行技術の研磨体においては、金属製シャフトの研
磨を行うについてはバック層を有していないことによ
り、研磨体全体としての耐久性、膜強度が不足して前述
のような態様の金属製シャフトの研磨には適していなか
ったり、磁気ヘッドの研磨を行うものを含めて研磨層の
強度が不足して剥離を発生する問題を有している。
As described above, in the above-mentioned polished body of the prior art, the polishing of the metal shaft does not have a back layer, so that the durability of the polished body as a whole is improved. However, there is a problem that the film strength is insufficient and thus it is not suitable for polishing the metal shaft of the above-described embodiment, or that the polishing layer including the one for polishing the magnetic head has insufficient strength and peels off. are doing.

【0007】つまり、前記のような研磨体を使用して研
磨を行っている際に、研磨層の強度が不足して膜剥がれ
が発生すると、研磨力が低下し、前述のクレーター状の
表面凹凸が十分除去できず、粗面状態として残ってしま
うか、磁気ヘッドの表面を所定の形状に整形研磨できな
いことになる。また、剥がれた研磨層が研磨部分に挟ま
ってトリガーとなり、シャフト又は磁気ヘッド表面にス
クラッチ状の傷を付け、必要とする表面性が得られない
という問題が生じる。また、バック層を設けるもので
は、その強度が不足するとバック層が剥離し、金属製シ
ャフトの回転に引きずられ、シャフト表面が必要な表面
性が得られないという問題も生ずる。
That is, when the polishing is performed using the above-described polishing body, if the strength of the polishing layer is insufficient and the film is peeled off, the polishing power is reduced, and the crater-like surface unevenness is reduced. Cannot be sufficiently removed and remains in a roughened state, or the surface of the magnetic head cannot be shaped and polished into a predetermined shape. In addition, the peeled polishing layer is sandwiched between the polished portions to act as a trigger, causing scratches on the shaft or the surface of the magnetic head, and the required surface properties cannot be obtained. In the case where the back layer is provided, if the strength is insufficient, the back layer is peeled off, and is dragged by the rotation of the metal shaft, which causes a problem that a required surface property of the shaft surface cannot be obtained.

【0008】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、研磨層及びバック層の強度を向上させ、金属製
シャフト又は磁気ヘッドを研磨の際、研磨層及びバック
層の膜剥がれを発生させず、金属製シャフトの表面凹凸
の除去又は磁気ヘッドの表面研磨が傷の発生を伴うこと
なく良好に行えるようにした研磨体を提供せんとするも
のである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and improves the strength of a polishing layer and a back layer. When a metal shaft or a magnetic head is polished, peeling of the polishing layer and the back layer occurs. An object of the present invention is to provide a polished body which can remove unevenness of the surface of a metal shaft or polish the surface of a magnetic head satisfactorily without causing scratches.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体の製造方法は、支持体の片方の面に研磨材粒
子とバインダーを含む研磨層を設け、前記支持体の反対
側の面に無機粉末とバインダーを含むバック層を設ける
について、前記研磨層の塗布液及びバック層の塗布液を
支持体上に塗布し、乾燥して該研磨層及び該バック層を
設けた後、得られた研磨体を前記バインダーの架橋を促
進する温度及び時間で熱処理し、前記研磨層及び前記バ
ック層を硬化させることを特徴とするものである。この
研磨体は金属製シャフトの研磨用に好適である。
According to the method of the present invention for solving the above-mentioned problems, a polishing layer containing abrasive particles and a binder is provided on one surface of a support, and a polishing layer on the opposite side of the support is provided. About providing a back layer containing an inorganic powder and a binder on the surface, a coating solution of the polishing layer and a coating solution of the back layer are coated on a support, and dried to provide the polishing layer and the back layer. The obtained polishing body is heat-treated at a temperature and a time for promoting the crosslinking of the binder, so that the polishing layer and the back layer are cured. This polishing body is suitable for polishing a metal shaft.

【0010】また、本発明の他の研磨体の製造方法は、
支持体の片方の面に研磨材粒子とバインダーを含む研磨
層を設けるについて、前記研磨層の塗布液を支持体上に
塗布し、乾燥して該研磨層を設けた後、得られた研磨体
を前記バインダーの架橋を促進する温度及び時間で熱処
理し、前記研磨層を硬化させることを特徴とするもので
ある。この研磨体は磁気ヘッドの研磨用に好適である。
[0010] Further, another method for producing a polishing body of the present invention is as follows.
With respect to providing a polishing layer containing abrasive particles and a binder on one surface of the support, a coating solution of the polishing layer is applied on the support, dried to provide the polishing layer, and the obtained polishing body is obtained. Is subjected to a heat treatment at a temperature and for a time to promote the crosslinking of the binder, thereby curing the polishing layer. This polishing body is suitable for polishing a magnetic head.

【0011】前記両研磨体の熱処理における加熱温度は
40〜100℃(好ましくは50〜80℃)であり、処
理時間は4〜72時間(好ましくは12〜48時間)で
あることが好適である。また、前記両研磨体を加湿下で
熱処理するようにしてもよい。
The heating temperature in the heat treatment of the two polishing bodies is preferably 40 to 100 ° C. (preferably 50 to 80 ° C.), and the processing time is preferably 4 to 72 hours (preferably 12 to 48 hours). . Further, the two polishing bodies may be heat-treated under humidification.

【0012】上記のような製造方法により、研磨層及び
バック層のバインダーの架橋を熱処理により促進して硬
化させることで、金属製シャフト又は磁気ヘッドの研磨
の際、膜剥がれが生じないよう充分な膜強度を持たせる
ものである。なお、前記研磨層の膜強度の評価としては
引っ掻き強度は、300g以上であり、かつ研磨機を用
いた金属製シャフトの研磨または磁気ヘッドの研磨にお
いて膜剥がれが生じないことが望ましい。
According to the above-described manufacturing method, the crosslinking of the binder in the polishing layer and the back layer is accelerated and cured by heat treatment, so that the film is not sufficiently peeled off when the metal shaft or the magnetic head is polished. This is to give film strength. As for the evaluation of the film strength of the polishing layer, it is desirable that the scratch strength is 300 g or more and that no film peeling occurs during polishing of a metal shaft or polishing of a magnetic head using a polishing machine.

【0013】また、研磨層及びバック層の膜強度の向上
は、例えば、研磨層における研磨材粒子とバインダーと
有機溶剤等からなる研磨層塗布液の分散を、ガラスビー
ズやスチールビーズ等の補助材料を混合した状態で30
分間〜2時間分散することで、バインダー樹脂中におけ
る研磨材粒子の分散性を良化し、研磨材粒子間の接着を
強化すると共に、研磨層及びバック層を設けた後の熱処
理により前記研磨層及びバック層中のバインダーを硬化
させることで、より好適に実現される。
In order to improve the film strength of the polishing layer and the backing layer, for example, the dispersion of a polishing layer coating solution comprising abrasive particles, a binder, an organic solvent and the like in the polishing layer is reduced by using an auxiliary material such as glass beads or steel beads. 30 with mixed
By dispersing for 2 minutes to 2 hours, the dispersibility of the abrasive particles in the binder resin is improved, the adhesion between the abrasive particles is strengthened, and the polishing layer and the heat treatment after the provision of the polishing layer and the back layer are used. It is more preferably realized by curing the binder in the back layer.

【0014】前記バック層を有する研磨体としては、前
記研磨層の厚みが35〜70μm、前記支持体の厚みが
100〜150μm、前記バック層の厚みが35〜70
μmであり、且つ、研磨層中における研磨材粒子とバイ
ンダーとの重量比は、100/13〜100/35とす
るのが好ましい。さらに、前記研磨層中の研磨材粒子は
平均粒子サイズが5〜50μmで、特に5〜35μmの
ものを用いるのが望ましい。
In the polishing body having the back layer, the polishing layer has a thickness of 35 to 70 μm, the support has a thickness of 100 to 150 μm, and the back layer has a thickness of 35 to 70 μm.
μm, and the weight ratio of the abrasive particles to the binder in the polishing layer is preferably 100/13 to 100/35. Furthermore, the abrasive particles in the polishing layer have an average particle size of 5 to 50 μm, and preferably 5 to 35 μm.

【0015】[0015]

【発明の効果】上記のような本発明によれば、支持体の
片方の面に研磨材粒子とバインダーを含む塗布液を塗布
し、乾燥して研磨層を設けた後、バインダーの架橋を促
進する温度及び時間で熱処理したことにより、この研磨
層を硬化させることができ、例えば研磨層の表面性測定
器による引っ掻き強度が300g以上で研磨機を用いた
金属製シャフト又は磁気ヘッドの研磨等における実技評
価で膜剥がれが生じない迄に膜強度を強くすることがで
き、研磨処理過程での研磨層の欠落は発生せず、研磨力
も向上するものであり、その結果シャフト表面のクレー
ター状の表面凹凸の研磨除去又は磁気ヘッドの表面形状
の整形研磨が良好に行えると同時に、剥離研磨層による
被研磨物表面のスクラッチ状の傷の発生を減少して、良
好な表面性を得ることができる。
According to the present invention as described above, a coating solution containing abrasive particles and a binder is applied to one surface of a support, dried to form a polishing layer, and then the crosslinking of the binder is promoted. This polishing layer can be hardened by heat treatment at the temperature and time to be applied. For example, in the polishing of a metal shaft or a magnetic head using a polishing machine, the scratch strength of a polishing layer measured by a surface property measuring device is 300 g or more. The film strength can be increased until film peeling does not occur in the practical evaluation, the polishing layer does not drop out during the polishing process, and the polishing power is improved, as a result, the crater-like surface of the shaft surface Able to remove irregularities or form and polish the surface shape of the magnetic head satisfactorily, and at the same time reduce the occurrence of scratch-like scratches on the surface of the object to be polished by the peeling polishing layer, and obtain good surface properties Door can be.

【0016】また、前記支持体の研磨層と反対側の面に
無機粉末とバインダーを含む塗布液を塗布し、乾燥して
バック層を設けた後、バインダーの架橋を促進する温度
及び時間で熱処理したものでは、バック層についても硬
化させ膜強度を向上させることにより、特に金属製シャ
フト研磨の際、バック層が剥離せず、表面粗さを確保で
き、研磨中の研磨体の引きずりによる移動防止が行える
と共にカールバランスも得ることができる。つまり、研
磨体をバック面から金属製シャフト等の棒状軸部に押し
付けて研磨を行うについて、棒状軸部の回転に伴って研
磨体が引きずられて移動しないためには、バック面にあ
る程度の表面粗さが必要で、このためにバック層には無
機粉末を含有しており、この無機粉末による適度の表面
粗さを確保し、更に膜強度を向上させ、研磨中にバック
層が剥離しないようにしている。
Further, a coating solution containing an inorganic powder and a binder is applied to the surface of the support opposite to the polishing layer, dried and provided with a back layer, and then heat-treated at a temperature and for a time to promote crosslinking of the binder. In this method, the back layer is hardened and the film strength is improved, so that the back layer does not peel off, especially when polishing a metal shaft, the surface roughness can be secured, and the polishing body is prevented from moving due to dragging during polishing. And a curl balance can be obtained. In other words, when the polishing body is pressed against the rod-shaped shaft portion such as a metal shaft from the back surface to perform polishing, in order to prevent the polishing body from being dragged and moved with the rotation of the rod-shaped shaft portion, a certain amount of surface is formed on the back surface. Roughness is necessary, and the back layer contains an inorganic powder for this purpose, ensuring an appropriate surface roughness by the inorganic powder, further improving the film strength, and preventing the back layer from peeling during polishing. I have to.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の製造方
法の実施の形態を示し、本発明をさらに詳細に説明す
る。図1は本例による研磨体としての研磨テープの断面
構造を示す概略図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of a method for producing a polishing body of the present invention will be described, and the present invention will be described in more detail. FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a polishing tape as a polishing body according to the present embodiment.

【0018】本例の研磨テープ1(研磨体)は、支持体
2の片面に研磨層5が形成され、この支持体2の他方の
面にはバック層6が積層された、金属製シャフト研磨用
のもものである。
The polishing tape 1 (polishing body) of the present embodiment has a polishing layer 5 formed on one surface of a support 2 and a back layer 6 laminated on the other surface of the support 2. It is for business.

【0019】研磨層5は、平均粒子サイズが5〜50μ
mで、特に5〜35μmの研磨材3がバインダー4に分
散され、研磨材100重量部に対してバインダーが13
〜35重量部配合されている。また、バック層6は、バ
ック面の表面粗さを得るための例えば平均粒径が8μm
と粒子サイズが大きい炭酸カルシウム粒子と、バック面
を着色して研磨面と区別するための例えば平均粒径が1
μmと粒子サイズの小さい酸化鉄粒子とによる無機粉末
7がバインダー8に分散されている。なお、上記バック
層6には、着色用の無機粉末(顔料)を含有させる代わ
りに、バック層表面に研磨層と識別するための印刷等を
施すようにしてもよい。
The polishing layer 5 has an average particle size of 5 to 50 μm.
m, especially 5 to 35 μm of the abrasive 3 is dispersed in the binder 4, and the binder is 13 parts per 100 parts by weight of the abrasive.
3535 parts by weight. The back layer 6 has an average particle size of 8 μm for obtaining the surface roughness of the back surface.
And a calcium carbonate particle having a large particle size and an average particle diameter of 1 for coloring the back surface to distinguish it from the polished surface.
An inorganic powder 7 composed of iron oxide particles having a small particle size of μm is dispersed in a binder 8. Instead of containing the coloring inorganic powder (pigment), the back layer 6 may be printed on the surface of the back layer 6 so as to be distinguished from the polishing layer.

【0020】前記支持体2は、厚みが100〜150μ
mの例えばポリエチレンテレフタレート(PET)によ
る高分子支持体で設けられ、研磨層5の厚みが35〜7
0μmであり、バック層6の厚みが35〜70μmであ
り、全体の厚みは170〜290μmと研磨テープ1と
しては大きく設けられている。また、上記支持体2の表
面にはエンボス加工による凹凸(図示せず)が施されて
いる。
The support 2 has a thickness of 100 to 150 μm.
m, for example, a polymer support made of polyethylene terephthalate (PET), and the thickness of the polishing layer 5 is 35 to 7
0 μm, the thickness of the back layer 6 is 35 to 70 μm, and the overall thickness is 170 to 290 μm, which is large as the polishing tape 1. Further, the surface of the support 2 is provided with irregularities (not shown) by embossing.

【0021】前記研磨テープ1は、支持体2の片方の面
に研磨材粒子3とバインダー4と溶剤等を含む研磨層用
塗布液を塗布すると共に、前記支持体2の反対側の面に
無機粉末7とバインダー8と溶剤等を含むバック層層用
塗布液を塗布し、乾燥して研磨層5及びバック層6を設
けた後、得られた研磨テープ1を前記バインダー4,8
の架橋を促進する温度(40〜100℃、好ましくは5
0〜80℃)及び時間(4〜72時間、好ましくは12
〜48時間)で熱処理し、前記研磨層5及びバック層6
を硬化させ膜強度を向上している。
The polishing tape 1 is coated on one surface of a support 2 with a coating liquid for a polishing layer containing abrasive particles 3, a binder 4, a solvent and the like, and an inorganic material is coated on the opposite surface of the support 2. A coating liquid for a back layer containing a powder 7, a binder 8, a solvent and the like is applied and dried to provide a polishing layer 5 and a back layer 6, and then the obtained polishing tape 1 is coated with the binder 4, 8
Temperature (40 to 100 ° C., preferably 5 to 100 ° C.)
0-80 ° C) and time (4-72 hours, preferably 12
To 48 hours), the polishing layer 5 and the back layer 6
To improve the film strength.

【0022】また、前記研磨層5における研磨材粒子3
とバインダー4と有機溶剤等からなる研磨層塗布液の分
散を、ガラスビーズやスチールビーズ等の補助材料を混
合した状態で30分間〜2時間分散し、バインダー樹脂
中における研磨材粒子の分散性を良化し、研磨材粒子間
の接着を強化している。
The abrasive particles 3 in the polishing layer 5
And a binder 4 and an organic solvent or the like are dispersed for 30 minutes to 2 hours in a state in which auxiliary materials such as glass beads and steel beads are mixed to disperse the abrasive particles in the binder resin. It improves the adhesion between abrasive particles.

【0023】そして、上記のようにして得た研磨テープ
1における研磨層5の引っ掻き強度は、触針チップがダ
イヤモンド製で針径が0.01mmφの表面性測定器を用
い、0〜300gの連続荷重をかけて研磨層5表面を上
記触針チップで引っ掻いた際に、支持体2に達する傷が
発生したときの前記荷重で示される引っ掻き強度が30
0g以上である。
The scratching strength of the polishing layer 5 in the polishing tape 1 obtained as described above was measured using a surface property measuring instrument having a stylus tip made of diamond and having a needle diameter of 0.01 mmφ. When the surface of the polishing layer 5 is scratched with a stylus tip under a load, the scratching strength indicated by the load when a scratch reaching the support 2 occurs is 30.
0 g or more.

【0024】前記研磨テープ1により、例えば図3に示
すようなエンジンのクランクシャフト10(金属製シャ
フト)の研磨を行う部位は、そのピン部10a及びジャ
ーナル部10bの周面であり、これらのピン部10a又
はジャーナル部10bの長さに相当する幅の研磨テープ
1を用意する。
The portion where the polishing tape 1 is used to polish the crankshaft 10 (metal shaft) of the engine as shown in FIG. 3, for example, is the peripheral surface of the pin portion 10a and the journal portion 10b. A polishing tape 1 having a width corresponding to the length of the portion 10a or the journal portion 10b is prepared.

【0025】研磨法は図2に示すように、研磨テープ1
がロール状に巻かれた送り出しロール15から、センサ
ー16を介して研磨テープ1が送り出され、回転駆動さ
れているクランクシャフト10に対してそのピン部10
a又はジャーナル部10bに研磨テープ1を巻回し、2
本の揺動アーム17,17に設けられたテープ押さえ1
8,18によって研磨テープ1を両側からピン部10a
又はジャーナル部10bに約15〜25Kgf/cm2の圧力
で押さえ付け、研磨後の研磨テープ1は歯車19、送り
ローラ20等によって走行され巻き取られる。
The polishing method is as shown in FIG.
The polishing tape 1 is fed through a sensor 16 from a feed roll 15 wound in a roll shape.
a, or the polishing tape 1 is wound around the journal portion 10b.
Tape holder 1 provided on swing arms 17, 17 of the book
The polishing tape 1 is pinned from both sides by 8 and 18
Alternatively, the polishing tape 1 is pressed against the journal portion 10b at a pressure of about 15 to 25 kgf / cm 2 , and the polished polishing tape 1 is run and wound by the gear 19, the feed roller 20, and the like.

【0026】本発明の他の実施の形態としての磁気ヘッ
ド研磨用の研磨体は、図示していないが、磁気テープで
使用されているものと同等の材質及び厚みを有する支持
体の片面に、研磨材粒子とバインダーを含む研磨層を設
けてなるものであり、この研磨体の形成は、前記と同様
に研磨材粒子とバインダーと溶剤等を含む研磨層用塗布
液を支持体上に塗布し、乾燥して研磨層を設けた後、得
られた研磨体をそのバインダーの架橋を促進する温度及
び時間で熱処理し、この研磨層を硬化させてなる。
A polishing body for polishing a magnetic head according to another embodiment of the present invention is not shown, but is provided on one surface of a support having the same material and thickness as those used for a magnetic tape. A polishing layer containing abrasive particles and a binder is provided, and the formation of this polished body is performed by applying a coating liquid for a polishing layer containing abrasive particles, a binder, a solvent, and the like on a support in the same manner as described above. After drying and providing the polishing layer, the obtained polished body is subjected to a heat treatment at a temperature and for a time to promote the crosslinking of the binder, thereby curing the polishing layer.

【0027】本発明の研磨体で使用し得る支持体として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオ
レフイン類、セルローストリアセテート、セルロースダ
イアセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等
のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポ
リアミド、ポリスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリ
ベンゾオキサゾール等のプラスチックのほかにアルミニ
ウム等の金属、紙、布等も使用できる。
The support which can be used in the abrasive of the present invention includes polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene, cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose diacetate, and polyvinyl chloride and the like. In addition to plastics such as vinyl resins, polycarbonate, polyimide, polyamide, polysulfone, polyphenylsulfone, and polybenzoxazole, metals such as aluminum, paper, and cloth can be used.

【0028】また、支持体の表面には研磨層塗布液又は
バック層塗布液の塗布に先立って、コロナ放電処理、プ
ラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着
処理、アルカリ処理を行ってもよい。支持体の厚みは、
金属シャフト研磨用では100〜200μmが望まし
く、磁気ヘッド研磨用では4〜100μmが望ましく、
長手もしくは幅方向のいずれかのヤング率が400Kg
/mm2以上であることが望ましい。
Before applying the coating liquid for the polishing layer or the coating liquid for the back layer, the surface of the support is subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, undercoat treatment, heat treatment, dust removal treatment, metal deposition treatment, and alkali treatment. You may. The thickness of the support is
100 to 200 μm is desirable for metal shaft polishing, and 4 to 100 μm is desirable for magnetic head polishing.
The Young's modulus in either the longitudinal or width direction is 400 kg
/ Mm 2 or more.

【0029】また、本発明の研磨層に使用可能な研磨材
としては、アルミナ、酸化クロム、α−アルミナ、炭化
珪素、ダイヤモンド、γ−アルミナ、熔融アルミナ、コ
ランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリー(主
成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネット等の主として
モース硬度の高い材料を単独又は組み合わせで使用する
ことができる。その平均粒子径は、金属シャフト研磨用
では5〜50μmで、特に5〜35μmが好ましく、磁
気ヘッド研磨用では0.3〜10μmが好ましく、これ
より粒子径が小さいと研磨力が低く、大きいと研磨部分
に傷が発生しやすい。また研磨材の平均粒子径は粗研
磨、中研磨、仕上げ研磨等研磨体の用途により選ばれ
る。
The abrasives usable in the polishing layer of the present invention include alumina, chromium oxide, α-alumina, silicon carbide, diamond, γ-alumina, fused alumina, corundum, artificial diamond, garnet and emery ( (Main components: corundum and magnetite), garnet, and other materials having mainly Mohs hardness can be used alone or in combination. The average particle size is 5 to 50 μm, particularly preferably 5 to 35 μm, for metal shaft polishing, and preferably 0.3 to 10 μm for magnetic head polishing. Scratch is likely to occur on the polished part. The average particle size of the abrasive is selected depending on the use of the abrasive body such as rough polishing, medium polishing and finish polishing.

【0030】一方、バック層に使用可能な無機粉末とし
ては、バック面の表面粗さを得るための粒子として、炭
酸カルシウム、硫酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸
バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、酸化亜鉛等が
単独又は組み合わせで使用することができ、また、バッ
ク面の着色のための粒子(顔料)としては、赤茶色の酸
化鉄、黄色のクロム酸鉛、チタンイェロー、緑色の酸化
クロム、青色の群青等が使用できる。
On the other hand, inorganic powders usable for the back layer include particles for obtaining the surface roughness of the back surface, such as calcium carbonate, calcium sulfate, calcium silicate, barium sulfate, magnesium carbonate, zinc carbonate, zinc oxide and the like. Can be used alone or in combination, and as particles (pigments) for coloring the back surface, red-brown iron oxide, yellow lead chromate, titanium yellow, green chromium oxide, blue ultramarine Etc. can be used.

【0031】前述のように研磨体の研磨面を金属製シャ
フト(被研磨体)にバック面からテープ押さえによって
ある程度大きな圧力で押し付けて研磨する場合に、バッ
ク面からの押し付けが弱いと研磨が不十分となり、この
際バック面が十分な粗さを持っていないと研磨体がクラ
ンクシャフトに引きずられて同時に回転して研磨できな
くなる。上記バック面の表面粗さRaに関しては、約3μ
m〜10μm程度の粗さが研磨体がクランクシャフトに
回転中引きずられないために必要である。
As described above, when the polished surface of the polished body is pressed against the metal shaft (subject to be polished) from the back surface with a tape pressing with a relatively large pressure, if the pressing from the back surface is weak, the polishing is impossible. At this time, if the back surface does not have a sufficient roughness, the abrasive body is dragged by the crankshaft and simultaneously rotates and cannot be polished. The surface roughness Ra of the back surface is about 3μ.
A roughness of about 10 m to 10 m is necessary so that the abrasive body is not dragged by the crankshaft during rotation.

【0032】そして上記研磨層及びバック層には上記研
磨材又は無機粉末以外に粒子サイズの小さい粉末を含有
してもよく、この粉末としてはカーボンブラックが使用
でき、例えば、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カ
ラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることが
できる。その比表面積は5〜500m2 /g、DBP吸
油量は10〜400ml/100g、pHは2〜10、
含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/
cm2 であるのが好ましい。このカーボンブラックの具
体的な例としては、キャボット社製:BLACKPEA
RLS 2000,1300,1000,900,80
0,700、三菱化成工業社製:650B,950B,
3250B,850,900,960,980,100
0,2300,2400,2600等があげられる。ま
た、カーボンブラックを分散剤等で表面処理したり、樹
脂でグラファイト化したものを用いることもできる。
The polishing layer and the back layer may contain a powder having a small particle size in addition to the above-mentioned abrasive or inorganic powder. As the powder, carbon black can be used. Thermal, black for color, acetylene black and the like can be used. Its specific surface area is 5 to 500 m 2 / g, DBP oil absorption is 10 to 400 ml / 100 g, pH is 2 to 10,
Moisture content is 0.1-10%, tap density is 0.1-1g /
cm 2 is preferred. A specific example of this carbon black is BLACKPEA manufactured by Cabot Corporation.
RLS 2000, 1300, 1000, 900, 80
0,700, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: 650B, 950B,
3250B, 850, 900, 960, 980, 100
0, 2300, 2400, 2600 and the like. In addition, carbon black that has been subjected to surface treatment with a dispersant or the like or graphitized with a resin can also be used.

【0033】本発明の研磨層及びバック層に使用される
バインダーとしては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型
樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用され
る。
As the binder used in the polishing layer and the back layer of the present invention, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, electron beam-curable resins, ultraviolet-curable resins, and visible light-curable resins. Resins and mixtures thereof are used.

【0034】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が150
℃以下、平均分子量が10000〜300000、重合
度が約50〜2000程度のものでより好ましくは20
0〜700程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体(セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等)、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合
物等が使用される。
The thermoplastic resin has a softening temperature of 150.
C. or lower, having an average molecular weight of 10,000 to 300,000 and a degree of polymerization of about 50 to 2,000, more preferably 20 to 2,000.
It is about 0 to 700. For example, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinylidene copolymer, vinyl acrylonitrile copolymer, acrylic acid Ester acrylonitrile copolymer, acrylate vinylidene chloride copolymer, acrylate styrene copolymer, methacrylate acrylonitrile copolymer,
Methacrylic acid ester vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicone resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyfucca vinyl, vinylidene chloride acrylonitrile copolymer, butadiene acrylonitrile copolymer, polyamide Resins, polyvinyl butyral, cellulose derivatives (cellulose acetate butyrate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nitrocellulose, ethyl cellulose, methyl cellulose, propyl cellulose, methyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose,
Acetylcellulose), styrene-butadiene copolymer, polyester resin, polycarbonate resin, chlorovinyl ether acrylate copolymer, amino resin, various synthetic rubber-based thermoplastic resins, and mixtures thereof.

【0035】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では200000以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂(電子線硬
化樹脂)、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。
The thermosetting resin or the reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating liquid, and becomes infinite by a reaction such as condensation or addition by heating and humidifying after coating and drying. Is preferred. Among these resins, those which do not soften or melt before the resin is thermally decomposed are preferable. Specifically, for example, a phenol resin, a phenoxy resin, an epoxy resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyurethane polycarbonate resin, a urea resin, a melamine resin, an alkyd resin, a silicone resin, an acrylic reaction resin (an electron beam curing resin), and an epoxy-polyamide Resin, nitrocellulose melamine resin, mixture of high molecular weight polyester resin and isocyanate prepolymer, mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, mixture of polyester polyol and polyisocyanate, urea formaldehyde resin, low molecular weight glycol / high molecular weight A diol / triphenylmethane triisocyanate mixture, a polyamine resin, a polyimine resin, and mixtures thereof.

【0036】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸(COOM)、スルフィン酸(SO2M)、スルフェ
ン酸(SOM)、スルホン酸(SO3M)、燐酸(PO4
3)、ホスホン酸(PO32)、硫酸(OSO3M)、
及びこれらのエステル基等の酸性基(MはH、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、炭化水素基)、アミノ酸類;
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又は燐酸
エステル類、スルフォベタイン、ホスホベタイン、アル
キルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イ
ミド基、アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、
チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基(F、Cl、
Br、I)、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イ
ソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アク
リル基、フォスフィン基を通常1種以上6種以内含み、
各々の官能基は樹脂1gあたり1×10-6eq〜1×1
-2eq含むことが好ましい。
These thermoplastic resins, thermosetting resins, and reactive resins have carboxylic acid (COOM), sulfinic acid (SO 2 M), sulfenic acid (SOM), sulfonic acid (SOM) as functional groups in addition to the main functional groups. SO 3 M), phosphoric acid (PO 4
M 3 ), phosphonic acid (PO 3 M 2 ), sulfuric acid (OSO 3 M),
And acidic groups such as ester groups thereof (M is H, an alkali metal, an alkaline earth metal, a hydrocarbon group), amino acids;
Aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, sulfobetaines, phosphobetaines, amphoteric groups such as alkyl betaines, amino groups, imino groups, imide groups, amide groups, etc., and also a hydroxyl group, an alkoxyl group,
Thiol group, alkylthio group, halogen group (F, Cl,
Br, I), usually containing at least one kind and up to six kinds of silyl groups, siloxane groups, epoxy groups, isocyanato groups, cyano groups, nitrile groups, oxo groups, acrylic groups, and phosphine groups,
Each functional group is 1 × 10 −6 eq to 1 × 1 per 1 g of resin.
Preferably, it contains 0 -2 eq.

【0037】これらのバインダーの単独又は組み合わさ
れたものが使われ、ほかに添加剤が加えられる。添加剤
としては分散剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防
黴剤、着色剤、溶剤等が加えられる。
These binders may be used alone or in combination, and other additives may be added. Additives include dispersants, lubricants, antistatic agents, antioxidants, fungicides, coloring agents, solvents and the like.

【0038】本発明の研磨層及びバック層に硬化剤とし
て用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソ
シアネート、4・4'−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジ
イソシアネート、ナフチレン−1・5−ジイソシアネー
ト、o−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート
類、当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成
物、イソシアネート類の縮合によって生成した2〜10
量体のポリイソシアネート、ポリイソシアネートとポリ
ウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネートであ
るもの等を使用することができる。これらポリイソシア
ネート類の平均分子量は100〜20000のものが好
適である。
The polyisocyanate used as a curing agent in the polishing layer and the back layer of the present invention includes tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o -Isocyanates such as toluidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, and isophorone diisocyanate, products of the isocyanates and polyalcohols, and 2 to 10 formed by condensation of the isocyanates.
It is possible to use a monomeric polyisocyanate, a product of a polyisocyanate and a polyurethane having a terminal functional group of isocyanate, or the like. The average molecular weight of these polyisocyanates is preferably 100 to 20,000.

【0039】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートL、コロネートHL、コ
ロネート2030、コロネート2031、ミリオネート
MR、ミリオネートMTL(日本ポリウレタン社製)、
タケネートD−102、タケネートD−110N、タケ
ネートD−200、タケネートD−202、タケネート
300S、タケネート500(武田薬品社製)、スミジ
ュールT−80、スミジュール44S、スミジュールP
F、スミジュールL、スミジュールN、デスモジュール
L、デスモジュールIL、デスモジュールN、デスモジ
ュールHL、デスモジュールT65、デスモジュール1
5、デスモジュールR、デスモジュールRF、デスモジ
ュールSL、デスモジュールZ4273(住友バイエル
社製)等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差
を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって
使用することができる。
Commercially available trade names of these polyisocyanates include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate MTL (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.),
Takenate D-102, Takenate D-110N, Takenate D-200, Takenate D-202, Takenate 300S, Takenate 500 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Sumidur T-80, Sumidur 44S, Sumidur P
F, Sumidule L, Sumidule N, Death module L, Death module IL, Death module N, Death module HL, Death module T65, Death module 1
5, Death module R, Death module RF, Death module SL, Death module Z4273 (manufactured by Sumitomo Bayer), etc., and these are used alone or in combination of two or more utilizing the difference in curing reactivity. be able to.

【0040】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が100
0〜10000のポリウレタン、水等)、アミノ基(モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等)を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートはバインダー樹脂
とポリイソシアネートの総量100重量部あたり2〜7
0重量部で使用することが好ましく、より好ましくは5
〜50重量部である。
For the purpose of accelerating the curing reaction, a hydroxyl group (butanediol, hexanediol, having a molecular weight of 100
A compound having an amino group (such as monomethylamine, dimethylamine, or trimethylamine), a metal oxide catalyst, or a catalyst such as iron acetylacetonate can also be used in combination. It is desirable that these compounds having a hydroxyl group or an amino group are polyfunctional. These polyisocyanates are used in an amount of 2 to 7 per 100 parts by weight of the total amount of the binder resin and the polyisocyanate.
0 parts by weight, more preferably 5 parts by weight.
5050 parts by weight.

【0041】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系;メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系;酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系;ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系(芳香族炭化水素);メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、N,N−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以
下の量で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等)を含んでもよい。これらの溶剤は研磨液の
合計固形分100重量部に対して50〜20000重量
部で用いられる。好ましい研磨層塗布液の固形分率は5
〜80重量%である。
As the organic solvent used in the dispersion, kneading and coating of the present invention, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone and tetrahydrofuran in any ratio; methanol, ethanol, propanol and butanol , Isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, alcohols such as methylcyclohexanol; methyl acetate,
Ester systems such as ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate and glycol monoethyl ether; ether systems such as diethyl ether, tetrahydrofuran, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether and dioxane; benzene, toluene, xylene, Tar-based (aromatic hydrocarbons) such as cresol, chlorobenzene and styrene; chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin and dichlorobenzene, N, N-dimethylformaldehyde , Hexane and the like can be used. These solvents are generally used in two or more kinds at an arbitrary ratio. In addition, trace amounts of impurities (polymerization of the solvent itself, water,
Raw material components). These solvents are used at 50 to 20,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the polishing liquid. The preferred solid content of the polishing layer coating solution is 5
~ 80% by weight.

【0042】また、水溶性のバインダーとしては、代表
的な例として、カルボキシメチルセルロースのナトリウ
ム塩(CMC)、ヒドロキシエチルセルロース(HE
C)、ポリビニールアルコール(PVA)、カルボキシ
ル基含有ポリウレタン等の水溶性のバインダーを用いる
ことができる。この水溶性のバインダーの溶剤として
は、水、及び、メチルアルコール、エチルアルコール等
の水溶性アルコール、これらの混合液等を使用し、必要
に応じて各種添加剤を配合する。
Representative examples of the water-soluble binder include sodium salt of carboxymethyl cellulose (CMC) and hydroxyethyl cellulose (HE).
Water-soluble binders such as C), polyvinyl alcohol (PVA), and carboxyl group-containing polyurethane can be used. As a solvent for the water-soluble binder, water, a water-soluble alcohol such as methyl alcohol and ethyl alcohol, a mixed solution thereof and the like are used, and various additives are blended as necessary.

【0043】前記研磨層成分及びバック層成分の分散、
混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序
(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、分散・混練中の添加
位置、分散温度(0〜80℃)などは適宜設定すること
ができる。そして研磨層塗料及びバック層塗料の調製に
は通常の混練機を用いることができる。上記分散の補助
材料として、球相当径で10cmφ〜0.05mmφの径の
ガラスビーズ、スチールビーズ、セラミックビーズ、有
機ポリマービーズ等を用いる。またこれら補助材料は球
形に限らない。
Dispersion of the polishing layer component and the back layer component,
The method of kneading is not particularly limited, and the order of addition of each component (resin, powder, lubricant, solvent, and the like), the addition position during dispersion / kneading, and the dispersion temperature (0 to 80 ° C.) are appropriately set. be able to. An ordinary kneader can be used to prepare the polishing layer paint and the back layer paint. As an auxiliary material for the dispersion, glass beads, steel beads, ceramic beads, organic polymer beads or the like having a sphere equivalent diameter of 10 cmφ to 0.05 mmφ are used. These auxiliary materials are not limited to spherical shapes.

【0044】研磨層用塗布液及びバック層用塗布液を塗
布する方法としては、塗布液の粘度を1〜20000セ
ンチストークス(25℃)に調整した上で、エアードク
ターコーター、ブレードコーター、エアナイフコータ
ー、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロール
コーター、トランスファーロールコーター、グラビアコ
ーター、キスコーター、キヤストコーター、スプレイコ
ーター、ロッドコーター、正回転ロールコーター、カー
テンコーター、押出コーター、バーコーター、リップコ
ーター等が利用でき、さらにその他の方法も使用可能で
あり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーティ
ング工学』(昭和46.3.20.発行)253頁〜2
77頁等に詳細に記載されている。これら塗布液の塗布
の順番は任意に選択でき、また所望の液の塗布の前に下
塗り層あるいは支持体との密着力向上のためにコロナ放
電処理等を行ってもよい。
As a method of applying the coating liquid for the polishing layer and the coating liquid for the back layer, the viscosity of the coating liquid is adjusted to 1 to 20,000 centistokes (25 ° C.), and then an air doctor coater, a blade coater, and an air knife coater are used. , Squeeze coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss coater, cast coater, spray coater, rod coater, forward rotation roll coater, curtain coater, extrusion coater, bar coater, lip coater, etc. Still other methods can also be used, and a specific description of these methods can be found in “Coating Engineering” published by Asakura Shoten (published by Showa 46.3.20), pp. 253-2.
It is described in detail on page 77 and the like. The order of application of these coating liquids can be arbitrarily selected, and a corona discharge treatment or the like may be performed before application of a desired liquid to improve adhesion to an undercoat layer or a support.

【0045】研磨層塗布液及びバック層塗布液を塗布し
た後、恒温槽で研磨体を40〜100℃で4〜72時
間、好ましくは50〜80℃で12〜48時間熱処理す
る。前記熱処理の際、水蒸気を用いて加湿することもで
きる。この熱処理はシート状でも、又テープ状に加工し
た後でも良い。
After applying the coating liquid for the polishing layer and the coating liquid for the back layer, the polished body is heat-treated in a constant temperature bath at 40 to 100 ° C. for 4 to 72 hours, preferably at 50 to 80 ° C. for 12 to 48 hours. At the time of the heat treatment, it can be humidified using steam. This heat treatment may be performed in a sheet form or after processing into a tape form.

【0046】次に、シートを所定幅にカットして研磨体
を形成し、必要に応じて、研磨体表面の清浄、バーニッ
シュを行うこともできる。
Next, the sheet is cut into a predetermined width to form an abrasive body, and the surface of the abrasive body can be cleaned and burnished if necessary.

【0047】[0047]

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その研磨特性として研磨機での膜強度、引っ掻き強度等
の特性を評価した。
EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below.
As the polishing characteristics, characteristics such as film strength and scratch strength with a polishing machine were evaluated.

【0048】<実施例1〜8>この実施例は、厚さ12
5μmのポリエチレンテレフタレート(PET)による
支持体を用意し、この支持体の裏面側に、バインダー
(塩化ビニール共重合体、ポリウレタン、ポリイソシア
ネート)、溶剤(メチルエチルケトンとシクロヘキサノ
ンとの混合溶剤)、無機粉末(炭酸カルシウム:粒子サ
イズ8μm、酸化鉄:粒子サイズ1μm)を分散した後
述の処方によるバック層用塗布液を、乾燥後の厚さが4
0μmとなるようにブレードコーターで塗布し、乾燥す
ることによりバック層を設けた。
<Embodiments 1 to 8> This embodiment has a thickness of 12
A support of 5 μm polyethylene terephthalate (PET) was prepared, and a binder (vinyl chloride copolymer, polyurethane, polyisocyanate), a solvent (a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone), an inorganic powder ( A coating liquid for a back layer according to the following formulation, in which calcium carbonate: particle size 8 μm and iron oxide: particle size 1 μm) are dispersed, has a thickness of 4 after drying.
A back layer was formed by applying the solution to a thickness of 0 μm using a blade coater and drying the solution.

【0049】さらに、上記バック層の反対側の支持体上
に、バインダー(塩化ビニール共重合体、ポリウレタ
ン、ポリイソシアネート)、溶剤(メチルエチルケトン
とシクロヘキサノンとの混合溶剤)、研磨材(酸化アル
ミニウム:粒子サイズ30μm)をスチールビーズを分
散液中に入れて、120分間分散し、分散後、上記スチ
ールビーズをフィルターを用いて分離除去し、後述の処
方による研磨層用塗布液を得た。この研磨層用塗布液
を、乾燥後の厚さが60μmとなるようにブレードコー
ターで塗布し、乾燥することにより研磨層を設けた。
Further, a binder (vinyl chloride copolymer, polyurethane, polyisocyanate), a solvent (a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone), an abrasive (aluminum oxide: particle size) 30 μm) was placed in a dispersion of steel beads and dispersed for 120 minutes. After the dispersion, the steel beads were separated and removed using a filter to obtain a coating liquid for a polishing layer according to the following formulation. This polishing layer coating liquid was applied by a blade coater so that the thickness after drying became 60 μm, and dried to form a polishing layer.

【0050】上記のようにして作製した研磨シートを1
8mm幅にスリットし、後述の表1に示すような各熱処理
条件で恒温槽に保持して熱処理を施し、評価用の研磨体
とした。なお、この熱処理は水蒸気を使用せずドライ状
態で実施した。
The polishing sheet prepared as described above was
It was slit into an 8 mm width, and was heat-treated while being held in a constant temperature bath under various heat treatment conditions as shown in Table 1 described below to obtain a polished body for evaluation. This heat treatment was performed in a dry state without using steam.

【0051】実施例1〜4は、処理時間を一定(24時
間)として温度を50〜100℃に変更したものであ
り、実施例5〜8は温度を一定(70℃)として処理時
間を6〜72時間に変更したものである。
In Examples 1 to 4, the temperature was changed to 50 to 100 ° C. with the processing time constant (24 hours). In Examples 5 to 8, the processing time was changed to 6 with the temperature constant (70 ° C.). It was changed to ~ 72 hours.

【0052】上記のように作製した実施例1〜8の研磨
テープにおける研磨機での膜強度、引っ掻き強度、工程
適正及び総合評価を表1に示す。
Table 1 shows the film strength, scratching strength, process suitability and overall evaluation of the polishing tapes of Examples 1 to 8 produced as described above, using a polishing machine.

【0053】<比較例1〜3>表1には比較例1〜3の
研磨テープによる上記と同様の評価結果を併記してい
る。これらの比較例の熱処理条件以外の基本構成は前記
実施例1と同様であり、比較例1は熱処理を施していな
い例、比較例2は熱処理における温度が低い例、比較例
3は熱処理時間が短い例である。
<Comparative Examples 1 to 3> Table 1 also shows the same evaluation results as above using the polishing tapes of Comparative Examples 1 to 3. The basic configuration other than the heat treatment conditions of these comparative examples is the same as that of the above-mentioned Example 1, Comparative Example 1 is an example without heat treatment, Comparative Example 2 is an example with a low heat treatment temperature, and Comparative Example 3 is a heat treatment time. Here is a short example.

【0054】 〔研磨層塗布液処方〕 研磨材(アルミナ) 600部 塩化ビニール共重合体(MR110:日本ゼオン社製, スルホン酸カリウム塩含有) 6部 ポリウレタン(UR8300:東洋紡社製,スルホン酸 ナトリウム基含有) 25部 ポリイソシアネート(コロネートL:日本ポリウレタン社製) 30部 溶剤 300部 〔バック層塗布液処方〕 炭酸カルシウム 440部 酸化鉄 4部 塩化ビニール共重合体(MR110:日本ゼオン社製, スルホン酸カリウム塩含有) 20部 ポリウレタン(UR8300:東洋紡社製,スルホン酸 ナトリウム基含有) 40部 ポリイソシアネート(コロネートL:日本ポリウレタン社製) 50部 溶剤 420部[Preparation of Coating Solution for Abrasive Layer] Abrasive (alumina) 600 parts Vinyl chloride copolymer (MR110: manufactured by Zeon Corporation, containing potassium sulfonate) 6 parts Polyurethane (UR8300: manufactured by Toyobo Co., Ltd., sodium sulfonate group) 25 parts Polyisocyanate (Coronate L: manufactured by Nippon Polyurethane) 30 parts Solvent 300 parts [Formulation of back layer coating solution] Calcium carbonate 440 parts Iron oxide 4 parts Vinyl chloride copolymer (MR110: manufactured by Zeon Corporation, sulfonic acid) Potassium salt) 20 parts Polyurethane (UR8300: manufactured by Toyobo Co., Ltd., containing sodium sulfonate group) 40 parts Polyisocyanate (Coronate L: manufactured by Nippon Polyurethane) 50 parts Solvent 420 parts

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】上記表1における評価方法を説明する。The evaluation method in Table 1 will be described.

【0057】(1)研磨機での膜強度の評価法 研磨体評価のため小型研磨機を作製し、各研磨体によっ
て評価用ワークピース(材質:炭素鋼鋳鋼品SC材,硬
度:HRC55,サイズ:40mmφ×幅20mm,油孔:
13mmφ)を、 ワークピースの回転:145rpm オシレーション:78rpm クランプ圧:18kgf/cm2 研磨時間:12秒間 切削油:ユシロンオイルNo2(ユシロ化学工業社製) の研磨条件で研磨し、研磨層の膜強度の評価は、 削れ箇所の大きさ2mm未満……規格内(○) 削れ箇所の大きさ2mm以上……規格外(×) とした。
(1) Evaluation method of film strength with polishing machine A small polishing machine was prepared for evaluating a polishing body, and a work piece for evaluation (material: carbon steel cast steel SC material, hardness: HRC55, size) : 40mmφ x 20mm width, oil hole:
13 mmφ), Workpiece rotation: 145 rpm Oscillation: 78 rpm Clamping pressure: 18 kgf / cm 2 Polishing time: 12 seconds Cutting oil: Yusilon oil No. 2 (manufactured by Yushiro Chemical Industry Co., Ltd.), polishing the film strength of the polishing layer In the evaluation of, the size of the shaved portion was less than 2 mm... Within the standard (○). The size of the shaved portion was 2 mm or more...

【0058】(2)引っ掻き強度測定法 装置として表面性測定器Type−HEIDON14
(新東科学株式会社製)を用い、測定条件を、 触針チップ(針):ダイヤモンド製、針径0.01mmφ 荷重:0〜300gまで連続荷重 引っ掻き速度:10cm/60秒 として、上記触針チップの先端を研磨体の研磨層表面に
接触させ、荷重を0〜300gまで連続的にかけて研磨
層を引っ掻く。研磨体表面の引っ掻き傷を光学顕微鏡で
観察し、支持体に達する傷が発生した箇所の荷重を引っ
掻き強度とし、研磨層の引っ掻き強度の評価は、 300g以上……規格内(○) 250〜300g……規格許容内(△) 250g以下……規格外(×) とした。
(2) Scratch strength measuring method Surface-type measuring instrument Type-HEIDON14
(Shinto Kagaku Co., Ltd.) and the measurement conditions were as follows: the stylus tip (needle): diamond, needle diameter: 0.01 mm, load: continuous load from 0 to 300 g, scratching speed: 10 cm / 60 sec. The tip of the chip is brought into contact with the polishing layer surface of the polishing body, and a load is continuously applied from 0 to 300 g to scratch the polishing layer. The scratches on the surface of the polished body are observed with an optical microscope, and the load at the place where the scratches reach the support is defined as the scratching strength. The evaluation of the scratching strength of the polishing layer is 300 g or more. …… within standard (△) 250 g or less …… Non-standard (×)

【0059】(3)工程適正の評価 熱処理によるテープダメージ、熱処理するための装置、
熱処理に要するコスト等を評価の基準とし、その評価
は、 実施の問題無く優良である……(○) 実施は可能である ……(△) 実施不可である ……(×) とした。
(3) Evaluation of process appropriateness Tape damage due to heat treatment, equipment for heat treatment,
The cost required for heat treatment and the like were used as criteria for the evaluation, and the evaluation was excellent without any problem in implementation .... (○) Implementation was possible ... (△) Impossibility was impossible ... (×).

【0060】上記表1の結果から、本発明の実施例1〜
8によるものでは、研磨体を温度が50〜100℃、処
理時間が6〜72時間で熱処理したことで望ましい結果
が得られている。なお、実施例8では処理時間が72時
間と長く、大量生産におけるコスト面で製造適正にやや
劣るが、研磨体そのものには問題はない。これに対し
て、比較例2の40℃以下の温度、及び比較例3の3時
間の処理時間による熱処理では、研磨層及びバック層の
硬化が不十分であり、比較例1の熱処理していないもの
では膜剥がれが発生し、膜が弱く、いずれも総合評価は
不良であった。
From the results in Table 1 above, it can be seen from Examples 1 to 5 of the present invention.
In the method according to No. 8, a desirable result was obtained by heat-treating the polishing body at a temperature of 50 to 100 ° C. for a processing time of 6 to 72 hours. In the eighth embodiment, the processing time is as long as 72 hours, which is slightly inferior in terms of production in terms of cost in mass production, but there is no problem with the abrasive body itself. On the other hand, in the heat treatment at a temperature of 40 ° C. or lower in Comparative Example 2 and the treatment time of 3 hours in Comparative Example 3, the polishing layer and the back layer were insufficiently cured, and the heat treatment in Comparative Example 1 was not performed. In each of the samples, film peeling occurred, and the film was weak.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一つの実施の形態による研磨体の構造
を示す概略断面図
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a structure of a polishing body according to one embodiment of the present invention.

【図2】研磨体によるクランクシャフトの研磨状態を示
す機構図
FIG. 2 is a mechanism diagram showing a polishing state of a crankshaft by a polishing body.

【図3】金属製クランクシャフトの研磨部分を示す正面
FIG. 3 is a front view showing a polished portion of a metal crankshaft.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 研磨テープ(研磨体) 2 支持体 3 研磨材 4 バインダー 5 研磨層 6 バック層 7 無機粉末 8 バインダー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polishing tape (polishing body) 2 Support 3 Polishing material 4 Binder 5 Polishing layer 6 Back layer 7 Inorganic powder 8 Binder

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体の片方の面に研磨材粒子とバイン
ダーを含む研磨層を設け、前記支持体の反対側の面に無
機粉末とバインダーを含むバック層を設ける研磨体の製
造方法において、 前記研磨層の塗布液及びバック層の塗布液を支持体上に
塗布し、乾燥して該研磨層及び該バック層を設けた後、
得られた研磨体を前記バインダーの架橋を促進する温度
及び時間で熱処理し、前記研磨層及び前記バック層を硬
化させることを特徴とする研磨体の製造方法。
1. A method for manufacturing a polishing body, comprising: providing a polishing layer containing abrasive particles and a binder on one surface of a support, and providing a back layer containing an inorganic powder and a binder on the opposite surface of the support. After applying the coating solution of the polishing layer and the coating solution of the back layer on a support, and drying to provide the polishing layer and the back layer,
A method for producing a polished body, comprising: subjecting the obtained polished body to a heat treatment at a temperature and a time for promoting crosslinking of the binder to cure the polishing layer and the back layer.
【請求項2】 前記研磨体が金属製シャフトの研磨用で
あることを特徴とする請求項1に記載の研磨体の製造方
法。
2. The method according to claim 1, wherein the polishing body is for polishing a metal shaft.
【請求項3】 支持体の片方の面に研磨材粒子とバイン
ダーを含む研磨層を設ける研磨体の製造方法において、 前記研磨層の塗布液を支持体上に塗布し、乾燥して該研
磨層を設けた後、得られた研磨体を前記バインダーの架
橋を促進する温度及び時間で熱処理し、前記研磨層を硬
化させることを特徴とする研磨体の製造方法。
3. A method for producing a polishing body, comprising providing a polishing layer containing abrasive particles and a binder on one surface of a support, wherein a coating liquid for the polishing layer is applied on the support, and dried to form the polishing layer. And then subjecting the obtained polished body to a heat treatment at a temperature and for a time to promote crosslinking of the binder to cure the polished layer.
【請求項4】 前記研磨体が磁気ヘッドの研磨用である
ことを特徴とする請求項3に記載の研磨体の製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein the polishing body is for polishing a magnetic head.
【請求項5】 前記研磨体の熱処理における加熱温度は
40〜100℃であり、処理時間は4〜72時間である
ことを特徴とする請求項1又は3に記載の研磨体の製造
方法。
5. The method for producing a polished body according to claim 1, wherein a heating temperature in the heat treatment of the polished body is 40 to 100 ° C., and a processing time is 4 to 72 hours.
【請求項6】 前記研磨体を加湿下で熱処理することを
特徴とする請求項1又は3に記載の研磨体の製造方法。
6. The method for producing a polishing body according to claim 1, wherein the polishing body is heat-treated under humidification.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101177420B1 (en) * 2012-01-06 2012-08-27 (주)동인 Brush for grinding

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