JP2000183082A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacture thereof

Info

Publication number
JP2000183082A
JP2000183082A JP10360225A JP36022598A JP2000183082A JP 2000183082 A JP2000183082 A JP 2000183082A JP 10360225 A JP10360225 A JP 10360225A JP 36022598 A JP36022598 A JP 36022598A JP 2000183082 A JP2000183082 A JP 2000183082A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
flip
sealing
resin
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10360225A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Yoshikawa
泰弘 吉川
Hiroshi Koyama
宏 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP10360225A priority Critical patent/JP2000183082A/en
Publication of JP2000183082A publication Critical patent/JP2000183082A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212Sequential connecting processes
    • H01L2224/92122Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
    • H01L2224/92125Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15151Shape the die mounting substrate comprising an aperture, e.g. for underfilling, outgassing, window type wire connections

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To aim at reducing cost by improving mass productivity performance and improving the reliability of a semiconductor device which mounts chip structures on its surface and back planes. SOLUTION: This semiconductor device is provided with fourteen wafer process packages 5, equipped with each semiconductor chip 1 and bump electrodes electrically connecting each semiconductor chip 1 and each pad responsive to each semiconductor chip 1, and a module substrate 3, and a sealing part 4 which seals the resin of a flip-chip connection part 5a responds to the fourteen wafer processing packages respectively. In this case, the module substrate 3 supports seven wafer processing packages on a surface plane 3c and other seven wafer processing packages on a back plane 3d, and it has also fourteen through-holes 3e whose opening ends 3f are exposed on the surface plane 3c or the back plane 3d, and other openings ends 3g are arranged on flip-chip connecting parts 5a. When resin is sealed, the sealing part 4 implements underfill sealing by supplying the resin for sealing via the through-holes 3e from the opening end 3f exposed on the side opposite to each flip-chip connection part 5a of each wafer process package 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、メモリモジュールの量産性および信頼性の
向上に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing technique, and more particularly to a technique which is effective when applied to improve mass productivity and reliability of a memory module.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
2. Description of the Related Art The technology described below studies the present invention,
Upon completion, they were examined by the inventor, and the outline is as follows.

【0003】複数の半導体チップ(チップ構造体)を搭
載したモジュール製品の一例として、SIMM(Single
In-line Memory Module) やDIMM(Dual In-line M
emory Module) と呼ばれるメモリモジュールがある。
As an example of a module product on which a plurality of semiconductor chips (chip structures) are mounted, a SIMM (Single)
In-line Memory Module) or DIMM (Dual In-line M
There is a memory module called emory Module).

【0004】ここで、メモリモジュールは、半導体チッ
プがメモリチップであり、パーソナルコンピュータ(以
降、パソコンと略す)やワークステーションなどにおい
て、使用メモリを増設する際に、パソコンやワークステ
ーションが備えるマザーボードなどに搭載してメモリ容
量を増やすものである。
[0004] Here, the memory module is a semiconductor chip that is a memory chip. When a memory to be used is added to a personal computer (hereinafter abbreviated as a personal computer), a workstation, or the like, the memory module is mounted on a motherboard of the personal computer or the workstation. It is installed to increase the memory capacity.

【0005】なお、メモリモジュールには、メモリチッ
プをバンプ電極を用いたフリップチップ接続によってモ
ジュール基板に直接実装する構造のものがあり、この場
合、例えば、8個〜20個程度のメモリチップ(チップ
構造体)がモジュール基板に実装され、その際、各々の
メモリチップのフリップチップ接続部は比較的流動性の
高い封止用樹脂によって樹脂封止される。
Some memory modules have a structure in which a memory chip is directly mounted on a module substrate by flip-chip connection using bump electrodes. In this case, for example, about 8 to 20 memory chips (chips) are used. The structure is mounted on the module substrate, and at that time, the flip chip connection portions of the respective memory chips are sealed with a resin having a relatively high fluidity.

【0006】このようなメモリチップ(半導体チップ)
とモジュール基板(チップ支持基板)との間のフリップ
チップ接続部の樹脂封止をアンダーフィル封止と呼ぶ。
[0006] Such a memory chip (semiconductor chip)
The resin sealing of the flip chip connection between the module and the module substrate (chip supporting substrate) is called underfill sealing.

【0007】なお、フリップチップ接続によってメモリ
チップが実装されるメモリモジュールには、メモリ容量
を大幅に増加させるように、モジュール基板の両面に対
向させてメモリチップを実装するものがある。
[0007] Some memory modules on which memory chips are mounted by flip-chip connection have memory chips mounted on both sides of a module substrate so as to greatly increase the memory capacity.

【0008】このチップ両面実装形のメモリモジュール
では、樹脂封止を行う際に、メモリチップの一方の側面
上方から流動性の高い封止用樹脂を滴下し、この一方の
側面からチップ裏面に封止用樹脂を周り込ませて、これ
により、チップ裏面のフリップチップ接続部全体に封止
用樹脂を拡散させている。
In this chip double-sided mounting type memory module, when performing resin sealing, a highly fluid sealing resin is dropped from above one side surface of the memory chip, and one side surface is sealed on the chip back surface. The sealing resin is spread around the entire flip chip connection portion on the back surface of the chip by causing the stopping resin to flow around.

【0009】なお、SIMMなどのメモリモジュールに
ついては、例えば、株式会社工業調査会、1993年9
月1日発行、「電子材料9月号」、33〜39頁に記載
されており、また、フリップチップ接続部に対してのア
ンダーフィル封止の方法については、例えば、特開平1
0−112481号公報に記載されている。
[0009] For memory modules such as SIMMs, see, for example, Industrial Research Council, Ltd., September 1993.
On September 33, "Electronic Materials September Issue", pp. 33-39, and a method for underfill sealing of a flip chip connection portion is described in, for example,
No. 0-112481.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術のメモリモジュールのアンダーフィル封止では、メモ
リチップの一方の側面からチップ裏面に封止用樹脂を周
り込ませているため、チップ裏面のフリップチップ接続
部全体に封止用樹脂が行き渡るのには、非常に時間が係
る。
However, in the underfill sealing of the memory module according to the above-described technique, the sealing resin is spread from one side surface of the memory chip to the back surface of the chip. It takes a very long time for the sealing resin to spread over the entire chip connecting portion.

【0011】したがって、アンダーフィル封止の作業性
が悪いことが問題とされる。
Therefore, there is a problem that the workability of underfill sealing is poor.

【0012】さらに、アンダーフィル封止に時間が係る
ため、量産性が低下することが問題とされる。
Furthermore, since it takes time to seal the underfill, there is a problem that mass productivity is reduced.

【0013】また、メモリチップの一方の側面からチッ
プ裏面に封止用樹脂を周り込ませているため、フリップ
チップ接続部において封止用樹脂が均等に供給されにく
く、フリップチップ接続部の接続信頼性に問題を生じる
ことがある。
In addition, since the sealing resin is wrapped around from one side of the memory chip to the back of the chip, it is difficult for the sealing resin to be uniformly supplied at the flip chip connecting portion, and the connection reliability of the flip chip connecting portion is reduced. May cause problems with sex.

【0014】そこで、フリップチップ接続部全体に封止
用樹脂を均等に、かつ短時間で供給する方法が、特開平
10−112481号公報に記載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-112481 discloses a method for supplying the sealing resin uniformly and in a short time to the entire flip chip connection portion.

【0015】これは、モジュール基板に貫通孔を形成
し、フリップチップ接続部に封止用樹脂を供給する際
に、フリップチップ接続部にその反対側から貫通孔を介
して半導体チップのほぼ中央付近に封止用樹脂を供給
し、そこからフリップチップ接続部全体に封止用樹脂を
拡散させていくものである。
This is because, when a through hole is formed in the module substrate and a sealing resin is supplied to the flip chip connection portion, the flip chip connection portion is provided near the center of the semiconductor chip through the through hole from the opposite side. The sealing resin is supplied to the substrate, and the sealing resin is diffused from there to the entire flip chip connection portion.

【0016】しかし、この樹脂供給方法において、モジ
ュール基板の両面に対向させてメモリチップを実装させ
るチップ両面実装形のメモリモジュールでは、メモリチ
ップの反対側には同じようにメモリチップが実装されて
いるため、特開平10−112481号公報に記載され
た樹脂供給方法が行えないことが問題となる。
However, in this resin supply method, in a chip double-sided mounting type memory module in which a memory chip is mounted so as to face both sides of a module substrate, the memory chip is similarly mounted on the opposite side of the memory chip. Therefore, there is a problem that the resin supply method described in JP-A-10-112481 cannot be performed.

【0017】本発明の目的は、チップ構造体を表裏両面
に実装する半導体装置において量産性を向上してコスト
を低減するとともに、信頼性の向上を図る半導体装置お
よびその製造方法を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which a chip structure is mounted on both front and back surfaces to improve mass productivity and reduce cost and to improve reliability and a method of manufacturing the same. is there.

【0018】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0020】すなわち、本発明の半導体装置は、それぞ
れに半導体チップを備えた複数のチップ構造体と、第1
およびその反対側の第2の面に複数の前記チップ構造体
をフリップチップ接続によって支持し、一方の開口端が
前記第1または第2の何れかの面に露出し他方の開口端
が前記チップ構造体のフリップチップ接続部に配置され
た複数の貫通孔を備えるモジュール基板と、複数の前記
チップ構造体のそれぞれの前記フリップチップ接続部を
樹脂封止する封止部とを有し、前記樹脂封止の際に各々
の前記チップ構造体の前記フリップチップ接続部に対し
てその反対側の前記開口端から前記貫通孔を介して封止
用樹脂の供給が行われるものである。
That is, the semiconductor device of the present invention comprises a plurality of chip structures each having a semiconductor chip,
And a plurality of the chip structures are supported on the second surface on the opposite side by flip-chip connection, and one open end is exposed on either the first or second surface and the other open end is the chip A module substrate having a plurality of through-holes arranged in a flip-chip connection portion of a structure, and a sealing portion for resin-sealing each of the flip-chip connection portions of the plurality of chip structures, wherein the resin At the time of sealing, the sealing resin is supplied from the opening end on the opposite side to the flip chip connection portion of each of the chip structures via the through hole.

【0021】これにより、貫通孔を介して封止用樹脂を
直接フリップチップ接続部に供給できるため、封止用樹
脂をフリップチップ接続部全体に行き渡らせるのに費や
す時間を短縮できる。
Thus, since the sealing resin can be directly supplied to the flip-chip connecting portion through the through hole, the time required to spread the sealing resin over the entire flip-chip connecting portion can be reduced.

【0022】その結果、チップ両面実装形の半導体装置
(モジュール製品)におけるアンダーフィル封止の作業
性を向上でき、これにより、チップ両面実装形の半導体
装置における量産性も向上できる。
As a result, the workability of underfill sealing in the semiconductor device (module product) of the chip double-sided mounting type can be improved, thereby improving the mass productivity of the semiconductor device of the chip double-sided mounting type.

【0023】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
それぞれに半導体チップを備えた複数のチップ構造体を
準備する工程と、複数の貫通孔が設けられ、複数の前記
チップ構造体をフリップチップ接続によって支持可能な
第1およびその反対側の第2の面を備えたモジュール基
板を準備する工程と、前記貫通孔の一方の開口端が露出
し、他方の開口端が前記チップ構造体のフリップチップ
接続部に配置するように前記モジュール基板の前記第1
および第2の面に複数の前記チップ構造体をフリップチ
ップ接続によって実装する工程と、前記第1または第2
の何れか一方の面の複数の前記チップ構造体の前記フリ
ップチップ接続部にその反対側の前記開口端から前記貫
通孔を介して封止用樹脂を供給して、前記一方の面の前
記チップ構造体の前記フリップチップ接続部を樹脂封止
する工程と、前記一方の面の前記チップ構造体の前記フ
リップチップ接続部を樹脂封止した後、前記第1または
第2の何れか他方の面の複数の前記チップ構造体の前記
フリップチップ接続部にその反対側の前記開口端から前
記貫通孔を介して封止用樹脂を供給して、前記他方の面
の前記チップ構造体の前記フリップチップ接続部を樹脂
封止する工程とを有するものである。
Further, the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
A step of preparing a plurality of chip structures each having a semiconductor chip, and a first and a second opposite side provided with a plurality of through holes and capable of supporting the plurality of chip structures by flip-chip connection; Preparing a module substrate having a surface; and opening the first end of the module substrate such that one opening end of the through hole is exposed and the other opening end is disposed at a flip chip connection portion of the chip structure.
Mounting the plurality of chip structures on the second surface by flip-chip connection;
Supplying a sealing resin to the flip chip connection portions of the plurality of chip structures on one of the surfaces from the opening end on the opposite side through the through-hole, and forming the chip on the one surface. A step of resin-sealing the flip-chip connecting portion of the structure, and a step of resin-sealing the flip-chip connecting portion of the chip structure on the one surface, and then the other one of the first and second surfaces A sealing resin is supplied to the flip chip connecting portions of the plurality of chip structures from the opening ends on the opposite side through the through holes, and the flip chip of the chip structure on the other surface is provided. Sealing the connection portion with a resin.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0025】図1は本発明の半導体装置の実施の形態の
一例であるメモリモジュールの構造を示す図であり、
(a)は平面図、(b)は(a)のA−A断面を示す断
面図、(c)は(b)の断面図に示すB部の部分拡大断
面図、図2は図1に示すメモリモジュールに用いられる
ウェハプロセスパッケージ(チップ構造体)の構造の一
例を示す図であり、(a)は部分拡大断面図、(b)は
部分拡大平面図、図3は図2に示すウェハプロセスパッ
ケージに用いられる半導体ウェハの構造の一例を示す拡
大部分平面図、図4は図1に示すメモリモジュールに用
いられるモジュール基板の構造の一例を示す平面図、図
5は本発明の半導体装置の製造方法におけるウェハプロ
セスパッケージ(チップ構造体)のモジュール基板への
実装手順の一例を示すステップ図、図6は本発明の半導
体装置の製造方法におけるアンダーフィル封止時の樹脂
供給状態の一例を示す拡大部分断面図である。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a memory module which is an example of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
(A) is a plan view, (b) is a cross-sectional view showing the AA cross section of (a), (c) is a partially enlarged cross-sectional view of a B portion shown in the cross-sectional view of (b), and FIG. 3A and 3B are diagrams illustrating an example of the structure of a wafer process package (chip structure) used in the memory module illustrated in FIG. 3A, wherein FIG. 3A is a partially enlarged sectional view, FIG. 3B is a partially enlarged plan view, and FIG. FIG. 4 is an enlarged partial plan view showing an example of a structure of a semiconductor wafer used in a process package. FIG. 4 is a plan view showing an example of a structure of a module substrate used in the memory module shown in FIG. 1. FIG. FIG. 6 is a step diagram showing an example of a procedure for mounting a wafer process package (chip structure) on a module substrate in a manufacturing method. FIG. 6 shows an example of a resin supply state during underfill sealing in a semiconductor device manufacturing method of the present invention. It is to enlarged partial cross-sectional view.

【0026】図1に示す本実施の形態の半導体装置は、
それぞれに半導体集積回路が形成された複数の半導体チ
ップ1を有するモジュール製品であり、前記半導体装置
の一例として、半導体チップ1がメモリチップであるメ
モリモジュール8の場合について説明する。
The semiconductor device of the present embodiment shown in FIG.
This is a module product having a plurality of semiconductor chips 1 each having a semiconductor integrated circuit formed thereon. As an example of the semiconductor device, a case where the semiconductor chip 1 is a memory module 8 which is a memory chip will be described.

【0027】なお、メモリモジュール8は、パソコンや
ワークステーションなどにおいて、使用メモリを増設す
る目的で、複数個のチップ構造体(前記メモリチップそ
のもの、もしくは前記メモリチップを有した構造体)を
実装してメモリ容量を増やすものである。
The memory module 8 has a plurality of chip structures (the memory chip itself or a structure having the memory chip) mounted on a personal computer or a workstation for the purpose of increasing the memory to be used. To increase the memory capacity.

【0028】本実施の形態のメモリモジュール8は、そ
のモジュール基板3の表裏両面に複数の前記チップ構造
体がそれぞれフリップチップ接続によって実装されてい
るものである。
The memory module 8 of the present embodiment has a plurality of chip structures mounted on both front and back surfaces of the module substrate 3 by flip-chip connection.

【0029】さらに、本実施の形態において、メモリモ
ジュール8に用いるチップ構造体は、半導体チップ1の
パッド1a(表面電極)に電気的に接続する配線部1b
(図2(a),(b)参照)とこれに電気的に接続するバ
ンプ電極1c(接続端子)とを、図3に示すようなダイ
シング前の半導体ウェハ2の各チップ領域2aで形成し
た後、個々の前記チップ構造体に切断分離して取得した
ものである。
Further, in this embodiment, the chip structure used for the memory module 8 includes a wiring portion 1b electrically connected to the pad 1a (surface electrode) of the semiconductor chip 1.
(See FIGS. 2 (a) and 2 (b)) and bump electrodes 1c (connection terminals) electrically connected thereto were formed in each chip area 2a of the semiconductor wafer 2 before dicing as shown in FIG. After that, it is obtained by cutting and separating the individual chip structures.

【0030】本実施の形態では、半導体チップ1(メモ
リチップ)を備えた前記チップ構造体をウェハプロセス
パッケージ(以降、WPPと略す)5と呼ぶことにし、
以降前記チップ構造体がWPP5の場合について説明す
る。
In this embodiment, the chip structure provided with the semiconductor chip 1 (memory chip) is called a wafer process package (hereinafter abbreviated as WPP) 5.
Hereinafter, the case where the chip structure is WPP5 will be described.

【0031】ただし、前記チップ構造体は、前記ウェハ
プロセスパッケージに限らず、ダイシング後に半導体チ
ップ1にバンプ電極1cを形成したベアチップ実装用の
半導体チップ製品などであってもよい。
However, the chip structure is not limited to the wafer process package, but may be a bare chip mounting semiconductor chip product in which bump electrodes 1c are formed on the semiconductor chip 1 after dicing.

【0032】ここで、メモリモジュール8の構成につい
て説明すると、それぞれに半導体チップ1を備え、かつ
半導体チップ1とこれのパッド1a(表面電極)に電気
的に接続するバンプ電極1c(接続端子)とを備えた複
数(本実施の形態では14個)のチップ構造体であるW
PP5と、表面3c(第1の面)およびその反対側の裏
面3d(第2の面)に7個ずつWPP5を支持し、かつ
一方の開口端3fが表面3cまたは裏面3dに露出する
とともに、他方の開口端3gがWPP5のフリップチッ
プ接続部5aに配置された14個の貫通孔3eを備える
モジュール基板3と、14個のWPP5のそれぞれのフ
リップチップ接続部5aを樹脂封止する封止部4とから
なり、樹脂封止の際に各々のWPP5のフリップチップ
接続部5aに対してその反対側の露出した開口端3fか
ら貫通孔3eを介して封止用樹脂6(図6参照)の供給
が行われるものである。
Here, the configuration of the memory module 8 will be described. Each of the memory modules 8 includes a semiconductor chip 1 and a bump electrode 1c (connection terminal) electrically connected to the semiconductor chip 1 and a pad 1a (surface electrode) thereof. , Which is a plurality (14 in the present embodiment) of chip structures provided with
W5 is supported on the PP5, the front surface 3c (first surface) and the back surface 3d (second surface) on the opposite side by seven, and one open end 3f is exposed on the front surface 3c or the back surface 3d. Module substrate 3 having 14 through-holes 3e whose other open end 3g is arranged at flip-chip connection portion 5a of WPP 5, and a sealing portion for resin-sealing each of 14 flip-chip connection portions 5a of WPP 5 4 and the sealing resin 6 (see FIG. 6) from the exposed open end 3f on the opposite side to the flip chip connecting portion 5a of each WPP 5 through the through hole 3e during resin sealing. The supply is to take place.

【0033】さらに、本実施の形態におけるメモリモジ
ュール8は、モジュール基板3の表面3cに実装された
WPP5の一部とその裏面3dに実装されたWPP5の
一部とが、モジュール基板3の表面3cおよび裏面3d
において重なって配置されている。
Further, in the memory module 8 according to the present embodiment, the part of the WPP 5 mounted on the front surface 3c of the module substrate 3 and the part of the WPP 5 mounted on the back surface 3d thereof are connected to the front surface 3c of the module substrate 3. And the back 3d
At the same time.

【0034】つまり、図1(b)に示すように、モジュ
ール基板3の表面3cおよび裏面3dのWPP5がそれ
ぞれ取り付けピッチP(例えば、10〜20mm程度)
で、かつ表面3cと裏面3dとで前記ピッチPの1/2
程度のΔPだけずらして実装されており、これにより、
それぞれのWPP5の長手方向に直角な方向の両側の側
部5bがモジュール基板3の表面3cおよび裏面3dに
おいて重なって配置されている。
That is, as shown in FIG. 1B, the WPPs 5 on the front surface 3c and the back surface 3d of the module substrate 3 are each mounted at a pitch P (for example, about 10 to 20 mm).
And 1/2 of the pitch P between the front surface 3c and the back surface 3d.
It is implemented by shifting by about ΔP.
The side portions 5b on both sides in the direction perpendicular to the longitudinal direction of each WPP 5 are arranged so as to overlap on the front surface 3c and the back surface 3d of the module substrate 3.

【0035】さらに、本実施の形態のメモリモジュール
8では、貫通孔3eが、WPP5のほぼ中央に対応して
配置するように形成されている。したがって、貫通孔3
eも、前記ΔPのピッチでモジュール基板3に設けられ
ている。
Further, in the memory module 8 of the present embodiment, the through holes 3e are formed so as to be arranged substantially corresponding to the center of the WPP 5. Therefore, the through hole 3
e is also provided on the module substrate 3 at the pitch of ΔP.

【0036】その結果、図1(a),(b)に示すよう
に、モジュール基板3をその表面3c側から眺めた際に
は、WPP5と貫通孔3eの露出した開口端3fとが交
互に前記ΔPのピッチで配置された状態となる(裏面3
d側から眺めた場合についても同様)。
As a result, as shown in FIGS. 1A and 1B, when the module substrate 3 is viewed from the front surface 3c side, the WPP 5 and the exposed open end 3f of the through hole 3e alternate. It is in a state of being arranged at the pitch of ΔP (back surface 3
The same applies when viewed from the d side).

【0037】なお、貫通孔3eは、その一方の開口端3
fが露出していれば、必ずしもWPP5のほぼ中央に対
応して配置するように形成されていなくてもよく、WP
P5の中央より逸れた箇所に配置されていてもよい。
The through hole 3e has one open end 3
If f is exposed, it may not necessarily be formed so as to correspond to substantially the center of WPP5.
It may be arranged at a position deviated from the center of P5.

【0038】また、WPP5における接続端子は、例え
ば、はんだバンプや金バンプなどのバンプ電極1cであ
り、これは、半導体ウェハ状態において、蒸着などによ
って形成したものである。
The connection terminals in the WPP 5 are, for example, bump electrodes 1c such as solder bumps and gold bumps, which are formed by vapor deposition in a semiconductor wafer state.

【0039】さらに、図2(a)に示す配線部1bは、
例えば、銅配線などであり、さらに、パッド1aはアル
ミニウムなどからなる半導体チップ1の表面電極であ
る。
Further, the wiring portion 1b shown in FIG.
For example, it is a copper wiring or the like, and the pad 1a is a surface electrode of the semiconductor chip 1 made of aluminum or the like.

【0040】また、モジュール基板3には、図1(c)
に示すように、搭載する14個のWPP5の配列に応じ
て複数の電極3bと、この電極3bを介してWPP5の
バンプ電極1cと電気的に接続して設けられた外部端子
3a(図1参照)とが形成されている。この外部端子3
aは、例えば、パーソナルコンピュータなどにモジュー
ル基板3を取り付ける際に、パーソナルコンピュータの
本体のポート部などに差し込んで、パーソナルコンピュ
ータと電気的に接続するものである。
Further, the module substrate 3 has the structure shown in FIG.
As shown in FIG. 1, a plurality of electrodes 3b according to the arrangement of the 14 WPPs 5 to be mounted, and external terminals 3a provided electrically connected to the bump electrodes 1c of the WPPs 5 via the electrodes 3b (see FIG. 1). ) Is formed. This external terminal 3
For example, when the module substrate 3 is attached to a personal computer or the like, the module a is inserted into a port of a main body of the personal computer and electrically connected to the personal computer.

【0041】なお、モジュール基板3には、その表裏両
面において所定の間隔(ピッチP)でWPP5が1列に
並んで取り付けられており、1つ1つのWPP5に対応
するように14個の貫通孔3eが形成されている(図4
参照)。
The module substrate 3 is provided with WPPs 5 arranged in a row at a predetermined interval (pitch P) on both front and rear surfaces thereof, and 14 through-holes correspond to each WPP 5. 3e is formed (FIG. 4).
reference).

【0042】ここで、貫通孔3eは、モジュール基板3
のベース基板に単に孔のみが形成されたものであっても
よく、あるいは、配線層によって覆われた(配線用に形
成された)孔を用いてもよい。
Here, the through hole 3 e is
The base substrate may have only holes formed therein, or holes covered with wiring layers (formed for wiring) may be used.

【0043】なお、モジュール基板3の大きさは、例え
ば、130mm×25mm程度のものであるが、モジュ
ール基板3の大きさについては、前記サイズに限定され
るものではなく、搭載するチップ構造体(WPP5)の
大きさや数に応じて種々変更可能である。
The size of the module substrate 3 is, for example, about 130 mm × 25 mm. However, the size of the module substrate 3 is not limited to the above-mentioned size, and is not limited to the above-mentioned size. Various changes can be made according to the size and number of WPPs 5).

【0044】また、封止部4は、例えば、比較的流動性
の高いエポキシ系の熱硬化性の封止用樹脂6(図6参
照)などを用いてそれぞれのWPP5のフリップチップ
接続部5aを封止して形成したものであり、樹脂封止の
際には、それぞれのWPP5のフリップチップ接続部5
aに対してその反対側の露出した開口端3fから貫通孔
3eを介して封止用樹脂6を塗布し、それぞれのWPP
5のフリップチップ接続部5a全体に封止用樹脂6を拡
散させて形成したものである。
The sealing portion 4 is formed by, for example, using a relatively fluid epoxy-based thermosetting sealing resin 6 (see FIG. 6) or the like to form the flip chip connecting portion 5a of each WPP 5. In the case of resin sealing, the flip-chip connecting portions 5 of the respective WPPs 5 are formed.
a, a sealing resin 6 is applied from the exposed opening end 3f on the opposite side to the sealing resin 6 through the through hole 3e.
5 is formed by diffusing a sealing resin 6 over the entire flip chip connecting portion 5a.

【0045】なお、このフリップチップ接続部5aの樹
脂封止をアンダーフィル封止ともいう。
The resin sealing of the flip chip connecting portion 5a is also called underfill sealing.

【0046】また、モジュール基板3の表面3cまたは
裏面3dにおいて7個のWPP5を実装する際には、リ
フロー(一括リフロー)などにより、それぞれ片方の面
ごとに7個のWPP5を一括してモジュール基板3に実
装する。
When seven WPPs 5 are mounted on the front surface 3c or the rear surface 3d of the module substrate 3, seven WPPs 5 are collectively mounted on one side of each of the module substrates by reflow (batch reflow) or the like. 3

【0047】次に、本実施の形態のメモリモジュール8
(半導体装置)の製造方法を図5に示すWPP5の実装
のステップ図に基づいて説明する。
Next, the memory module 8 of the present embodiment
A method for manufacturing a (semiconductor device) will be described with reference to a step diagram of mounting the WPP 5 shown in FIG.

【0048】まず、半導体チップ1とこれのパッド1a
に電気的に接続するバンプ電極1cとを備えた複数(本
実施の形態では、14個)のチップ構造体であるWPP
5を準備する。
First, the semiconductor chip 1 and its pad 1a
(14 in the present embodiment) chip structure including a bump electrode 1c electrically connected to the WPP.
Prepare 5

【0049】なお、本実施の形態のチップ構造体は、W
PP5であるため、このWPP5を準備する際に、半導
体チップ1のパッド1aに電気的に接続する配線部1b
とこれに電気的に接続するバンプ電極1cとを、図3に
示すように、半導体ウェハ2の各チップ領域2aで形成
した後、個々のWPP5に切断分離してWPP5を準備
する。
The chip structure according to the present embodiment is
Since this is PP5, when preparing this WPP5, the wiring portion 1b electrically connected to the pad 1a of the semiconductor chip 1
As shown in FIG. 3, after forming bump electrodes 1c electrically connected to the respective chip regions 2a of the semiconductor wafer 2, the WPPs 5 are prepared by being cut and separated into individual WPPs 5.

【0050】すなわち、ダイシング前の半導体ウェハ2
において、半導体集積回路形成後、成膜技術により、銅
などからなる配線部1bをパッド1aに電気的に接続さ
せて形成する。
That is, the semiconductor wafer 2 before dicing
After forming the semiconductor integrated circuit, a wiring portion 1b made of copper or the like is electrically connected to the pad 1a by a film forming technique.

【0051】さらに、蒸着などにより、この配線部1b
と電気的に接続させてはんだなどからなるバンプ電極1
cを形成する。
Further, the wiring portion 1b is formed by vapor deposition or the like.
Electrode 1 made of solder etc. electrically connected to
Form c.

【0052】これにより、図3に示すように、半導体ウ
ェハ2の状態において各チップ領域2aに、配線部1b
とバンプ電極1cとを形成することができる。
As a result, as shown in FIG. 3, in the state of the semiconductor wafer 2, the wiring portion 1b is formed in each chip region 2a.
And the bump electrode 1c can be formed.

【0053】なお、本実施の形態の半導体チップ1は、
メモリチップである。
Note that the semiconductor chip 1 of the present embodiment is
It is a memory chip.

【0054】その後、半導体ウェハ2のダイシングを行
い、図5に示すステップS1に示すように、個々のWP
P5(チップ構造体)に分離して14個のWPP5を取
得する。
Thereafter, dicing of the semiconductor wafer 2 is performed, and as shown in step S1 shown in FIG.
P14 (chip structure) is separated to obtain 14 WPP5.

【0055】一方、複数の外部端子3aおよび14個の
貫通孔3eが設けられ、かつ14個のWPP5を表面3
c(第1の面)と裏面3d(第2の面)とに7個ずつフ
リップチップ接続によって支持可能な図4に示すモジュ
ール基板3を準備する。
On the other hand, a plurality of external terminals 3a and 14 through holes 3e are provided, and 14 WPPs 5
A module substrate 3 shown in FIG. 4 is prepared, which can be supported by flip chip connection on the c (first surface) and the back surface 3d (second surface) seven by seven.

【0056】ここでは、WPP5をモジュール基板3に
実装した際にWPP5のほぼ中央に対応して配置するよ
うに貫通孔3eが設けられたモジュール基板3を用い
る。
Here, a module substrate 3 provided with a through hole 3e so as to be arranged substantially corresponding to the center of the WPP 5 when the WPP 5 is mounted on the module substrate 3 is used.

【0057】すなわち、ΔPのピッチ(間隔)で14個
の貫通孔3eが設けられたモジュール基板3を準備す
る。
That is, a module substrate 3 provided with 14 through-holes 3e at a pitch (interval) of ΔP is prepared.

【0058】続いて、図5に示すステップS2のよう
に、モジュール基板3を供給し、その後、モジュール基
板3の表面3cと裏面3dとにWPP5を実装する(ス
テップS3)。
Subsequently, as in step S2 shown in FIG. 5, the module substrate 3 is supplied, and then the WPP 5 is mounted on the front surface 3c and the rear surface 3d of the module substrate 3 (step S3).

【0059】その際、貫通孔3eの一方の開口端3fが
露出し、かつ他方の開口端3gがWPP5のフリップチ
ップ接続部5aに配置するように、モジュール基板3の
表面3cおよび裏面3dに片方の面ごとにかつ7個ずつ
WPP5をフリップチップ接続によって実装する。
At this time, one of the opening ends 3f of the through-hole 3e is exposed, and the other opening end 3g is disposed on the front surface 3c and the back surface 3d of the module substrate 3 so that the opening end 3g is disposed at the flip chip connection portion 5a of the WPP 5. The WPPs 5 are mounted by flip-chip connection on each of the surfaces 7 and 7 each.

【0060】ここでは、モジュール基板3の表面(第1
の面)3c側からフリップチップ接続によるWPP5の
実装を行う。
Here, the surface of the module substrate 3 (first
WPP5 is mounted by flip-chip connection from the 3c side.

【0061】まず、モジュール基板3の表面3c側を上
方に向け、貫通孔3e1個おきにこの貫通孔3e上に7
個のWPP5をそれぞれバンプ電極1cを下方に向けて
配置する。
First, the surface 3c side of the module substrate 3 is directed upward, and every third through-hole 3e is placed on the through-hole 3e.
The WPPs 5 are arranged with the bump electrodes 1c facing downward.

【0062】その際、WPP5のほぼ中央に貫通孔3e
が対応して配置するように、例えば、フラックスなどを
用いてそれぞれのWPP5をモジュール基板3上に仮り
固定する。
At this time, the through-hole 3e is located substantially at the center of the WPP 5.
For example, each WPP 5 is temporarily fixed on the module substrate 3 using a flux or the like so as to be arranged correspondingly.

【0063】その後、リフロー炉などに通して7個のW
PP5を一括リフローする。
Thereafter, it is passed through a reflow furnace or the like to
Batch reflow of PP5.

【0064】この時、それぞれのWPP5は、はんだの
バンプ電極1cのアライメントによりモジュール基板3
との間で位置決めされる。
At this time, each WPP 5 is mounted on the module substrate 3 by the alignment of the solder bump electrodes 1c.
Is positioned between

【0065】その後、冷却することにより、モジュール
基板3の表面3c側の7個のWPP5の実装を終える。
Thereafter, by cooling, the mounting of the seven WPPs 5 on the front surface 3c side of the module substrate 3 is completed.

【0066】すなわち、この状態で、モジュール基板3
の表面3c側にはWPP5が、貫通孔3eの1個おきに
この貫通孔3e上に配置されたことになる。その際、貫
通孔3eはΔPのピッチで設けられ、かつ、7個のWP
P5が、貫通孔3eの1個おきにこの貫通孔3e上に配
置されているため、ΔPのほぼ2倍がPとなり、その結
果、モジュール基板3の表面3cに取り付けピッチPに
よって7個のWPP5が実装されたことになる。
That is, in this state, the module substrate 3
In other words, the WPP 5 is arranged on the through hole 3e every other through hole 3e on the surface 3c side. At this time, the through holes 3e are provided at a pitch of ΔP, and seven WPs are formed.
Since P5 is disposed on every other through-hole 3e, P is almost twice as large as ΔP. As a result, seven WPPs 5 are attached to the surface 3c of the module substrate 3 by the mounting pitch P. Has been implemented.

【0067】その際、WPP5のほぼ中央に貫通孔3e
が配置されている。
At this time, the through-hole 3e is located substantially at the center of the WPP 5.
Is arranged.

【0068】続いて、モジュール基板3の表裏面を反転
させ、その裏面3d側を上方に向ける。
Subsequently, the front and back surfaces of the module substrate 3 are reversed, and the back surface 3d side is directed upward.

【0069】その後、モジュール基板3の裏面3d側に
おいて、表面3c側でWPP5を実装した貫通孔3eの
隣の貫通孔3eに対して、表面3c側の場合と同様で貫
通孔3e1個おきにこの貫通孔3e上に7個のWPP5
をそれぞれバンプ電極1cを下方に向けて配置する。
After that, on the back surface 3d side of the module substrate 3, with respect to the through hole 3e adjacent to the through hole 3e on which the WPP 5 is mounted on the front surface 3c side, every other through hole 3e as in the case of the front surface 3c side. Seven WPP5 on the through hole 3e
Are arranged with the bump electrodes 1c facing downward.

【0070】その際、表面3c側の場合と同様に、WP
P5のほぼ中央に貫通孔3eが対応して配置するよう
に、例えば、フラックスなどを用いてそれぞれのWPP
5をモジュール基板3上に仮り固定する。
At this time, as in the case of the surface 3c side, the WP
For example, each WPP is formed using a flux or the like so that the through-holes 3e are arranged correspondingly at substantially the center of P5.
5 is temporarily fixed on the module substrate 3.

【0071】その後、リフロー炉などに通して7個のW
PP5を一括リフローする。
Thereafter, it is passed through a reflow furnace or the like to
Batch reflow of PP5.

【0072】この時、それぞれのWPP5は、はんだの
バンプ電極1cのアライメントによりモジュール基板3
との間で位置決めされる。
At this time, each WPP 5 is placed on the module substrate 3 by the alignment of the solder bump electrodes 1c.
Is positioned between

【0073】続いて、冷却することにより、モジュール
基板3の裏面3d側の7個のWPP5の実装を終える。
Subsequently, the mounting of the seven WPPs 5 on the back surface 3d side of the module substrate 3 is completed by cooling.

【0074】その結果、モジュール基板3の表面3cお
よび裏面3dにおいて、WPP5がそれぞれ取り付けピ
ッチP(例えば、10〜20mm程度)で、かつ表面3
cと裏面3dとで前記ピッチPの1/2程度のΔPだけ
ずらした状態で実装されたことになり、これにより、そ
れぞれのWPP5の長手方向に直角な方向の両側の側部
5bがモジュール基板3の表面3cおよび裏面3dにお
いて重なって配置されている。
As a result, on the front surface 3 c and the back surface 3 d of the module substrate 3, the WPPs 5 are attached at the mounting pitch P (for example, about
c and the back surface 3d are mounted in such a manner that they are shifted from each other by ΔP which is about の of the pitch P, so that the side parts 5b on both sides in the direction perpendicular to the longitudinal direction of each WPP 5 are mounted on the module substrate. 3 are arranged so as to overlap on the front surface 3c and the back surface 3d.

【0075】さらに、それぞれの貫通孔3eが、WPP
5のほぼ中央に対応して配置され、その際、一方の開口
端3fが露出し、かつ他方の開口端3gがそれぞれのW
PP5のフリップチップ接続部5aのほぼ中央に配置さ
れている。
Further, each through-hole 3e is formed by WPP
5 is arranged corresponding to substantially the center, at which time one open end 3f is exposed and the other open end 3g is
It is arranged substantially at the center of the flip chip connection part 5a of PP5.

【0076】その後、それぞれのWPP5のフリップチ
ップ接続部5aの樹脂封止、すなわちアンダーフィル封
止を行う。
Thereafter, the flip chip connecting portion 5a of each WPP 5 is sealed with a resin, that is, underfilled.

【0077】まず、モジュール基板3の表面3c側に搭
載された7個のWPP5のフリップチップ接続部5aに
その反対側すなわち露出した開口端3fから貫通孔3e
を介して封止用樹脂6を供給し、これにより、図5に示
すステップS4のように、表面3c側のWPP5のフリ
ップチップ接続部5aをアンダーフィル封止する。
First, the flip chip connecting portions 5a of the seven WPPs 5 mounted on the front surface 3c of the module substrate 3 are connected to the opposite side, that is, from the exposed opening ends 3f to the through holes 3e.
The sealing resin 6 is supplied through this, and as a result, as shown in step S4 in FIG. 5, the flip-chip connecting portion 5a of the WPP 5 on the front surface 3c side is underfill-sealed.

【0078】その際、本実施の形態では、図6に示すよ
うに、モジュール基板3の裏面3d側を上方に向け、上
向きに露出した開口端3fから封止用樹脂6を吐出させ
るノズル7を上方から貫通孔3eに差し込み、その後、
圧力を掛けた封止用樹脂6をノズル7を介してWPP5
(チップ構造体)のフリップチップ接続部5aに供給し
てアンダーフィル封止を行う。
At this time, in the present embodiment, as shown in FIG. 6, the back surface 3d side of the module substrate 3 is directed upward, and the nozzle 7 for discharging the sealing resin 6 from the opening end 3f exposed upward is provided. Insert the through hole 3e from above, and then
The sealing resin 6 to which pressure is applied is supplied to the WPP 5 through the nozzle 7.
It is supplied to the flip chip connecting portion 5a of the (chip structure) to perform underfill sealing.

【0079】つまり、表面3c側のフリップチップ接続
部5aを樹脂封止する場合、裏面3d側に露出した開口
端3fにその上方から封止用樹脂6供給用のノズル7を
差し込み、このノズル7を介して封止用樹脂6に所定の
圧力を掛けてフリップチップ接続部5aに封止用樹脂6
を供給する。
That is, when the flip chip connecting portion 5a on the front surface 3c side is sealed with resin, the nozzle 7 for supplying the sealing resin 6 is inserted into the opening end 3f exposed on the back surface 3d side from above. A predetermined pressure is applied to the sealing resin 6 through the sealing resin 6 to the flip chip connecting portion 5a.
Supply.

【0080】なお、貫通孔3eは、それぞれのWPP5
のフリップチップ接続部5aに対してほぼ中央に配置さ
れているため、樹脂封止時にノズル7を介して封止用樹
脂6を加圧してフリップチップ接続部5aに供給した際
には、フリップチップ接続部5aのほぼ中央からその外
周全域に向けて封止用樹脂6を拡散させることができ
る。
The through hole 3e is provided in each WPP5
Is arranged substantially at the center with respect to the flip chip connecting portion 5a, when the sealing resin 6 is pressurized through the nozzle 7 and supplied to the flip chip connecting portion 5a during resin sealing, The sealing resin 6 can be diffused from substantially the center of the connection portion 5a to the entire outer periphery thereof.

【0081】同様の手順で、モジュール基板3の表面3
c側の7個全てのWPP5に対して樹脂供給を行った
後、熱硬化などにより封止用樹脂6を硬化させて、表面
3c側のフリップチップ接続部5aのアンダーフィル封
止を終える。
In the same procedure, the surface 3 of the module substrate 3
After the resin is supplied to all the seven WPPs 5 on the c side, the sealing resin 6 is cured by heat curing or the like, and the underfill sealing of the flip chip connection portion 5a on the front surface 3c side is completed.

【0082】その後、図5に示すステップS5のよう
に、モジュール基板3の表面3cと裏面3dとを反転さ
せて、表面3c側を上方に向け、これにより、裏面3d
側に実装された7個のWPP5のフリップチップ接続部
5aの樹脂封止すなわちアンダーフィル封止を行う(ス
テップS6)。
Thereafter, as in step S5 shown in FIG. 5, the front surface 3c and the back surface 3d of the module substrate 3 are reversed, and the front surface 3c side is turned upward.
Resin sealing, that is, underfill sealing of the flip-chip connecting portions 5a of the seven WPPs 5 mounted on the side is performed (step S6).

【0083】なお、裏面3dのアンダーフィル封止につ
いても、表面3c側の場合と同様に、それぞれのフリッ
プチップ接続部5aに対してその反対側(表面3c側)
に露出した開口端3fにその上方から封止用樹脂6供給
用のノズル7を差し込み、このノズル7を介して封止用
樹脂6に所定の圧力を掛けてフリップチップ接続部5a
に封止用樹脂6を供給する。
The underfill sealing of the back surface 3d is also performed on the opposite side (front surface 3c side) with respect to each flip chip connecting portion 5a, as in the case of the front surface 3c side.
A nozzle 7 for supplying the sealing resin 6 is inserted into the opening end 3f exposed from above, from above, and a predetermined pressure is applied to the sealing resin 6 via the nozzle 7 so as to apply the flip chip connecting portion 5a.
Is supplied with a sealing resin 6.

【0084】また、表面3c側の場合と同様、貫通孔3
eは、それぞれのWPP5のフリップチップ接続部5a
に対してほぼ中央に配置されているため、樹脂封止時に
ノズル7を介して封止用樹脂6を加圧してフリップチッ
プ接続部5aに供給した際には、フリップチップ接続部
5aのほぼ中央からその外周全域に向けて封止用樹脂6
を拡散させることができる。
Further, as in the case of the surface 3c side, the through hole 3
e is the flip chip connection part 5a of each WPP5.
When the sealing resin 6 is pressurized via the nozzle 7 and supplied to the flip-chip connecting portion 5a at the time of resin sealing, almost the center of the flip-chip connecting portion 5a is provided. From the sealing resin 6 toward the entire outer periphery
Can be diffused.

【0085】同様の手順で、モジュール基板3の裏面3
d側の7個全てのWPP5に対して樹脂供給を行った
後、熱硬化などにより封止用樹脂6を硬化させて、裏面
3d側のフリップチップ接続部5aのアンダーフィル封
止を終える。
In the same procedure, the back surface 3 of the module substrate 3
After the resin is supplied to all the seven WPPs 5 on the d side, the sealing resin 6 is cured by thermosetting or the like, and the underfill sealing of the flip chip connection portion 5a on the back surface 3d is completed.

【0086】その後、所定の検査などを行って、図1に
示すような表裏両面にチップ構造体であるWPP5を搭
載したメモリモジュール8(半導体装置)の組み立てを
終了する。
Thereafter, predetermined inspections and the like are performed to complete the assembling of the memory module 8 (semiconductor device) having the chip structure WPP5 mounted on the front and back surfaces as shown in FIG.

【0087】本実施の形態のメモリモジュール(半導体
装置)およびその製造方法によれば、以下のような作用
効果が得られる。
According to the memory module (semiconductor device) and the method of manufacturing the same according to the present embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0088】すなわち、モジュール基板3にWPP5
(チップ構造体)を実装した際に、モジュール基板3に
設けられた14個の貫通孔3eが、その一方の開口端3
fが表面3c(第1の面)または裏面3d(第2の面)
の何れかに露出し、他方の開口端3gがWPP5のフリ
ップチップ接続部5aに配置されるため、フリップチッ
プ接続部5aを樹脂封止する(アンダーフィル封止す
る)際に、その反対側の露出した開口端3fから貫通孔
3eを介して封止用樹脂6を直接フリップチップ接続部
5aに供給できる。
That is, the module substrate 3 has WPP5
When the (chip structure) is mounted, the fourteen through holes 3 e provided in the module substrate 3 have one of the open ends 3.
f is the front surface 3c (first surface) or the back surface 3d (second surface)
And the other open end 3g is arranged at the flip chip connecting portion 5a of the WPP 5, so that when the flip chip connecting portion 5a is sealed with a resin (underfill sealing), the opposite side is formed. The sealing resin 6 can be directly supplied to the flip chip connecting portion 5a from the exposed opening end 3f through the through hole 3e.

【0089】したがって、WPP5をモジュール基板3
の表裏両面に実装したメモリモジュール8(半導体装
置)においてもモジュール基板3に設けられた貫通孔3
eを用いてWPP5のフリップチップ接続部5aを樹脂
封止(アンダーフィル封止)することが可能になる。
Therefore, the WPP 5 is connected to the module substrate 3
In the memory module 8 (semiconductor device) mounted on the front and back surfaces of the
By using e, the flip chip connection portion 5a of the WPP 5 can be resin-sealed (underfill-sealed).

【0090】さらに、WPP5の側面から封止用樹脂6
を供給する方法と比較して、貫通孔3eを介して、封止
用樹脂6を直接フリップチップ接続部5aに供給できる
ため、封止用樹脂6をフリップチップ接続部5a全体に
行き渡らせるのに費やす時間を短縮できる。
Further, the sealing resin 6 is applied from the side of the WPP 5.
As compared with the method of supplying the sealing resin 6, the sealing resin 6 can be directly supplied to the flip chip connecting portion 5 a through the through hole 3 e, so that the sealing resin 6 can be spread over the entire flip chip connecting portion 5 a. You can spend less time.

【0091】これにより、WPP5を表裏両面に実装す
るメモリモジュール8(半導体装置)などのモジュール
製品におけるアンダーフィル封止の作業性の向上を図る
ことができる。
As a result, the workability of underfill sealing in a module product such as the memory module 8 (semiconductor device) in which the WPP 5 is mounted on both front and back surfaces can be improved.

【0092】その結果、WPP5両面実装形のメモリモ
ジュール8における量産性も向上できる。
As a result, the mass productivity of the WPP 5 double-sided mounted memory module 8 can be improved.

【0093】さらに、メモリモジュール8における量産
性向上を図ることができるため、メモリモジュール8に
おける製造コストを低減できる。
Further, since the mass productivity of the memory module 8 can be improved, the manufacturing cost of the memory module 8 can be reduced.

【0094】また、モジュール基板3の貫通孔3eが、
WPP5のほぼ中央に対応して配置するように形成され
ていることにより、フリップチップ接続部5aのほぼ中
央から封止用樹脂6を拡散させることができる。
The through hole 3e of the module substrate 3 is
By being formed so as to correspond to substantially the center of the WPP 5, the sealing resin 6 can be diffused from substantially the center of the flip chip connecting portion 5a.

【0095】これにより、封止用樹脂6をフリップチッ
プ接続部5a全体に行き渡らせるのに費やす時間をさら
に短縮でき、その結果、WPP5両面実装形のメモリモ
ジュール8におけるアンダーフィル封止の作業性をさら
に向上できる。
As a result, the time required to spread the sealing resin 6 over the entire flip chip connection portion 5a can be further reduced. As a result, the workability of underfill sealing in the WPP5 double-sided mounting type memory module 8 can be reduced. It can be further improved.

【0096】また、貫通孔3eが、WPP5のほぼ中央
に対応して配置するように形成されていることにより、
フリップチップ接続部5aのほぼ中央から封止用樹脂6
を拡散させることができ、その結果、フリップチップ接
続部5aにおける封止用樹脂6の拡散のばらつきを低減
できる。
Also, since the through hole 3e is formed so as to correspond to substantially the center of the WPP 5,
The sealing resin 6 is located substantially at the center of the flip chip connecting portion 5a.
Can be diffused, and as a result, the dispersion of the diffusion of the sealing resin 6 in the flip chip connection portion 5a can be reduced.

【0097】したがって、フリップチップ接続部5a全
体にほぼ均等に封止用樹脂6を拡散させることができ、
これにより、高品質なアンダーフィル封止を行うことが
できる。
Therefore, the sealing resin 6 can be diffused almost uniformly over the entire flip chip connecting portion 5a.
Thereby, high-quality underfill sealing can be performed.

【0098】その結果、WPP5両面実装形のメモリモ
ジュール8におけるフリップチップ接続部5aの接続信
頼性を向上できる。
As a result, it is possible to improve the connection reliability of the flip chip connection portion 5a in the WPP 5 double-sided mounting type memory module 8.

【0099】また、樹脂封止時に、モジュール基板3の
貫通孔3eの露出した開口端3fから封止用樹脂6を吐
出させるノズル7を差し込み、その後、このノズル7を
介して封止用樹脂6に圧力を掛けてフリップチップ接続
部5aに供給することにより、フリップチップ接続部5
aにおける封止用樹脂6の拡散時間を大幅に短縮でき
る。
At the time of resin sealing, a nozzle 7 for discharging the sealing resin 6 is inserted from the exposed opening end 3f of the through hole 3e of the module substrate 3, and then the sealing resin 6 is inserted through the nozzle 7. Is supplied to the flip-chip connecting portion 5a by applying pressure to the flip-chip connecting portion 5a.
The diffusion time of the sealing resin 6 in a can be significantly reduced.

【0100】これにより、WPP5両面実装形のメモリ
モジュール8におけるアンダーフィル封止の作業性をさ
らに向上でき、その結果、量産性もさらに向上できる。
As a result, the workability of underfill sealing in the WPP5 double-sided mounting type memory module 8 can be further improved, and as a result, the mass productivity can be further improved.

【0101】また、本実施の形態のように、半導体チッ
プ1がメモリチップであり、これにより、半導体装置が
メモリモジュール8である場合には、メモリモジュール
8のニーズは多いため、量産性向上によるメモリモジュ
ール8のコスト低減効果をさらに大きくすることができ
る。
Further, when the semiconductor chip 1 is a memory chip and the semiconductor device is a memory module 8 as in the present embodiment, the need for the memory module 8 is large, so that the mass productivity is improved. The effect of reducing the cost of the memory module 8 can be further increased.

【0102】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the embodiments of the invention, and does not depart from the gist of the invention. It is needless to say that various changes can be made.

【0103】例えば、前記実施の形態では、チップ構造
体であるWPP5が、モジュール基板3の表裏両面にお
いて所定の間隔(ピッチP)で1列に並んで設けられて
いる場合を説明したが、メモリモジュール8は、そのメ
モリ容量を増やすために、モジュール基板3上に2列に
搭載してもよい。
For example, in the above-described embodiment, the case where the WPPs 5 as the chip structures are provided in a line at a predetermined interval (pitch P) on both the front and back surfaces of the module substrate 3 has been described. The modules 8 may be mounted in two rows on the module substrate 3 in order to increase the memory capacity.

【0104】ここで、図7(a),(b),(c)に示す他
の実施の形態のメモリモジュール8は、図1に示す前記
実施の形態のメモリモジュール8と同じ大きさのモジュ
ール基板3および同じ大きさのWPP5を用いたもので
あり、WPP5のモジュール基板3への実装向きを90
°変え、かつ2列配置で片面10個ずつ合計20個のW
PP5を表裏両面に実装したメモリモジュール8(半導
体装置)である。
Here, the memory module 8 according to the other embodiment shown in FIGS. 7A, 7B and 7C has the same size as the memory module 8 according to the embodiment shown in FIG. The substrate 3 and the same size WPP5 are used, and the mounting orientation of the WPP5 on the module substrate 3 is 90 °.
° Change, and two rows of 10 W on each side for a total of 20 W
This is a memory module 8 (semiconductor device) in which PP5 is mounted on both sides.

【0105】その際、図7に示すメモリモジュール8で
は、同列における隣あったWPP5の取り付けピッチを
ピッチP(図1に示すメモリモジュール8の場合の取り
付けピッチ)より大きなピッチLとし、WPP5がモジ
ュール基板3の表面3c側と裏面3d側とで、図7
(b)に示すように、ΔLだけずらして実装されてい
る。
At this time, in the memory module 8 shown in FIG. 7, the mounting pitch of adjacent WPPs 5 in the same row is set to a pitch L larger than the pitch P (the mounting pitch in the case of the memory module 8 shown in FIG. 1). The front surface 3c side and the back surface 3d side of the substrate 3 are shown in FIG.
As shown in (b), they are mounted shifted by ΔL.

【0106】なお、図7に示すメモリモジュール8にお
いても、図1に示したメモリモジュール8のアンダーフ
ィル封止の方法と同じ方法を用いて樹脂封止すなわちア
ンダーフィル封止を行うことができ、したがって、前記
実施の形態で説明した作用効果と同様の作用効果を得る
ことができ、これに加えて、実装されるWPP5の数を
6個増加できるため、メモリモジュール8におけるメモ
リ容量を大幅に増加させることができる。
In the memory module 8 shown in FIG. 7, resin sealing, that is, underfill sealing can be performed using the same method as the method of underfill sealing of the memory module 8 shown in FIG. Therefore, the same function and effect as those described in the above embodiment can be obtained. In addition, since the number of WPPs 5 to be mounted can be increased by six, the memory capacity of memory module 8 can be greatly increased. Can be done.

【0107】また、前記実施の形態および前記他の実施
の形態においては、チップ構造体(WPP5)1個あた
りに貫通孔3eが1つ形成されている場合を説明した
が、貫通孔3eは、前記チップ構造体1個あたりに複数
設けられていてもよい。
In the above-described embodiment and the other embodiments, the case where one through-hole 3e is formed per one chip structure (WPP5) has been described. A plurality of chip structures may be provided.

【0108】これにより、アンダーフィル封止にかかる
時間を短縮することができるとともに、フリップチップ
接続部5a全体にほぼ均一に封止用樹脂6を供給するこ
とが可能になる。
As a result, the time required for underfill sealing can be reduced, and the sealing resin 6 can be supplied almost uniformly to the entire flip chip connecting portion 5a.

【0109】また、前記実施の形態では、モジュール基
板3の第1の面を表面3cとし、第2の面を裏面3dと
したが、両者の関係はその反対であってもよい。
In the above embodiment, the first surface of the module substrate 3 is the front surface 3c and the second surface is the rear surface 3d, but the relationship between the two may be reversed.

【0110】すなわち、第1の面を裏面3dとして、第
2の面を表面3cとしてもよい。
That is, the first surface may be the back surface 3d and the second surface may be the front surface 3c.

【0111】また、モジュール基板3に実装するチップ
構造体(WPP5)の数は、14個や20個以外の複数
個であってもよく、モジュール基板3の表裏両面にそれ
ぞれ複数の前記チップ構造体を実装する半導体装置であ
れば、その実装数は、特に限定されるものではない。
The number of chip structures (WPP5) mounted on the module substrate 3 may be a plurality other than 14 or 20, and a plurality of the chip structures (WPP5) may be provided on both the front and back surfaces of the module substrate 3. Is not particularly limited as long as the semiconductor device is mounted with.

【0112】さらに、モジュール基板3に設けられる貫
通孔3eの数も、前記チップ構造体の実装数と同じであ
ることに限定されるものではなく、前記チップ構造体の
実装数以上設けられていてもよい。
Further, the number of through-holes 3e provided in the module substrate 3 is not limited to the same number as the number of mounted chip structures, but is equal to or more than the number of mounted chip structures. Is also good.

【0113】また、前記実施の形態および前記他の実施
の形態では、半導体チップ1がメモリチップの場合につ
いて説明したが、前記半導体チップ1は、その内部にマ
イコン領域やメモリ領域が形成されたシステムチップで
あってもよく、また、両者の組み合わせであってもよ
い。
In the above embodiment and the other embodiments, the case where the semiconductor chip 1 is a memory chip has been described. However, the semiconductor chip 1 has a system in which a microcomputer area and a memory area are formed. It may be a chip or a combination of both.

【0114】さらに、前記実施の形態および前記他の実
施の形態では、半導体装置がメモリモジュール8の場合
について説明したが、前記半導体装置は、メモリモジュ
ール8に限定することなく、半導体チップ1を備えたチ
ップ構造体をモジュール基板3の表裏両面にフリップチ
ップ接続によって実装し、かつそれぞれのフリップチッ
プ接続部5aをアンダーフィル封止するものであれば、
マイコンチップやメモリチップなどの複数種類の半導体
チップ1を有したMCM(Multi-Chip-Module)などであ
ってもよい。
Further, in the above embodiments and the other embodiments, the case where the semiconductor device is the memory module 8 has been described. However, the semiconductor device is not limited to the memory module 8 but includes the semiconductor chip 1. If the chip structure is mounted on the front and back surfaces of the module substrate 3 by flip-chip connection, and the respective flip-chip connection portions 5a are underfill-sealed,
An MCM (Multi-Chip-Module) having a plurality of types of semiconductor chips 1 such as a microcomputer chip and a memory chip may be used.

【0115】[0115]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0116】(1).モジュール基板に複数の貫通孔が
設けられたことにより、チップ両面実装の半導体装置の
フリップチップ接続部を樹脂封止(アンダーフィル封
止)する際に、露出した開口端から貫通孔を介して封止
用樹脂を直接フリップチップ接続部に供給できる。その
結果、封止用樹脂をフリップチップ接続部全体に行き渡
らせるのに費やす時間を短縮できる。これにより、チッ
プ両面実装形の半導体装置(モジュール製品)における
アンダーフィル封止の作業性を向上できる。
(1). By providing a plurality of through holes in the module substrate, when flip-chip connection parts of a semiconductor device mounted on both sides of the chip are sealed with resin (underfill sealing), the exposed opening ends are sealed through the through holes. The stopping resin can be directly supplied to the flip chip connection portion. As a result, it is possible to reduce the time spent for distributing the sealing resin to the entire flip chip connection portion. Thereby, the workability of underfill sealing in a semiconductor device (module product) of a chip double-sided mounting type can be improved.

【0117】(2).前記(1)により、チップ両面実
装形の半導体装置における量産性も向上できる。
(2). According to the above (1), the mass productivity of the semiconductor device mounted on both sides of the chip can be improved.

【0118】(3).半導体装置における量産性向上を
図ることができるため、半導体装置における製造コスト
を低減できる。
(3). Since the mass productivity of the semiconductor device can be improved, the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced.

【0119】(4).モジュール基板の貫通孔がチップ
構造体のほぼ中央に対応して配置するように形成されて
いることにより、フリップチップ接続部のほぼ中央から
封止用樹脂を拡散させることができ、その結果、フリッ
プチップ接続部における封止用樹脂の拡散のばらつきを
低減できる。したがって、高品質なアンダーフィル封止
を行うことができる。その結果、チップ両面実装形の半
導体装置におけるフリップチップ接続部の接続信頼性を
向上できる。
(4). Since the through-hole of the module substrate is formed so as to correspond to substantially the center of the chip structure, the sealing resin can be diffused from substantially the center of the flip-chip connection portion. Variations in the diffusion of the sealing resin in the chip connection portion can be reduced. Therefore, high-quality underfill sealing can be performed. As a result, it is possible to improve the connection reliability of the flip-chip connecting portion in the semiconductor device mounted on both sides of the chip.

【0120】(5).樹脂封止時に、貫通孔の露出した
開口端から封止用樹脂を吐出させるノズルを差し込み、
その後、このノズルを介して封止用樹脂に圧力を掛けて
フリップチップ接続部に供給することにより、封止用樹
脂の拡散時間を大幅に短縮できる。これにより、チップ
両面実装形の半導体装置におけるアンダーフィル封止の
作業性をさらに向上できる。
(5). At the time of resin sealing, insert a nozzle that discharges sealing resin from the exposed opening end of the through hole,
Thereafter, by applying pressure to the sealing resin through the nozzle and supplying the resin to the flip chip connection portion, the diffusion time of the sealing resin can be significantly reduced. Thereby, the workability of underfill sealing in the semiconductor device of the chip double-sided mounting type can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a),(b),(c)は本発明の半導体装置の実
施の形態の一例であるメモリモジュールの構造を示す図
であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A断面
を示す断面図、(c)は(b)の断面図に示すB部の部
分拡大断面図である。
FIGS. 1A, 1B, and 1C are diagrams showing a structure of a memory module which is an example of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 1A is a plan view, and FIG. (A) is a sectional view showing an AA section, and (c) is a partially enlarged sectional view of a B portion shown in the (b) sectional view.

【図2】(a),(b)は図1に示すメモリモジュールに
用いられるウェハプロセスパッケージ(チップ構造体)
の構造の一例を示す図であり、(a)は部分拡大断面
図、(b)は部分拡大平面図である。
FIGS. 2A and 2B are wafer process packages (chip structures) used in the memory module shown in FIG. 1;
FIGS. 2A and 2B are diagrams illustrating an example of the structure of FIG. 1A, wherein FIG. 1A is a partially enlarged cross-sectional view, and FIG.

【図3】図2に示すウェハプロセスパッケージに用いら
れる半導体ウェハの構造の一例を示す拡大部分平面図で
ある。
FIG. 3 is an enlarged partial plan view showing an example of the structure of a semiconductor wafer used in the wafer process package shown in FIG.

【図4】図1に示すメモリモジュールに用いられるモジ
ュール基板の構造の一例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing an example of a structure of a module substrate used in the memory module shown in FIG.

【図5】本発明の半導体装置の製造方法におけるウェハ
プロセスパッケージ(チップ構造体)のモジュール基板
への実装手順の一例を示すステップ図である。
FIG. 5 is a step diagram showing an example of a procedure for mounting a wafer process package (chip structure) on a module substrate in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention.

【図6】本発明の半導体装置の製造方法におけるアンダ
ーフィル封止時の樹脂供給状態の一例を示す拡大部分断
面図である。
FIG. 6 is an enlarged partial cross-sectional view illustrating an example of a resin supply state during underfill sealing in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention.

【図7】(a),(b),(c) は本発明の他の実施の形態
の半導体装置であるメモリモジュールの構造を示す図で
あり、(a)は平面図、(b)は(a)のC−C断面を
示す断面図、(c)は(b)の断面図に示すD部の部分
拡大断面図である。
FIGS. 7A, 7B and 7C are diagrams showing the structure of a memory module which is a semiconductor device according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 7A is a plan view and FIG. (A) is a sectional view showing a CC section, and (c) is a partially enlarged sectional view of a D part shown in the sectional view of (b).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 1a パッド(表面電極) 1b 配線部 1c バンプ電極(接続端子) 2 半導体ウェハ 2a チップ領域 3 モジュール基板 3a 外部端子 3b 電極 3c 表面(第1の面) 3d 裏面(第2の面) 3e 貫通孔 3f,3g 開口端 4 封止部 5 WPP(チップ構造体) 5a フリップチップ接続部 5b 側部 6 封止用樹脂 7 ノズル 8 メモリモジュール(半導体装置) Reference Signs List 1 semiconductor chip 1a pad (front electrode) 1b wiring portion 1c bump electrode (connection terminal) 2 semiconductor wafer 2a chip area 3 module substrate 3a external terminal 3b electrode 3c front surface (first surface) 3d rear surface (second surface) 3e Through holes 3f, 3g Open end 4 Sealing part 5 WPP (chip structure) 5a Flip chip connecting part 5b Side part 6 Resin for sealing 7 Nozzle 8 Memory module (semiconductor device)

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれに半導体チップを備えた複数の
チップ構造体と、 第1およびその反対側の第2の面に複数の前記チップ構
造体をフリップチップ接続によって支持し、一方の開口
端が前記第1または第2の何れかの面に露出し他方の開
口端が前記チップ構造体のフリップチップ接続部に配置
された複数の貫通孔を備えるモジュール基板と、 複数の前記チップ構造体のそれぞれの前記フリップチッ
プ接続部を樹脂封止する封止部とを有し、 前記樹脂封止の際に各々の前記チップ構造体の前記フリ
ップチップ接続部に対してその反対側の前記開口端から
前記貫通孔を介して封止用樹脂の供給が行われることを
特徴とする半導体装置。
1. A plurality of chip structures each having a semiconductor chip, and the plurality of chip structures are supported on a first surface and a second surface opposite thereto by flip-chip connection. A module substrate having a plurality of through-holes that are exposed on either the first or second surface and whose other open end is disposed at a flip-chip connection portion of the chip structure; and a plurality of the chip structures, respectively. A sealing portion for resin-sealing the flip-chip connection portion of the chip structure, the flip-chip connection portion of each of the chip structures being sealed from the opening end opposite to the flip chip connection portion at the time of the resin sealing. A semiconductor device, wherein a sealing resin is supplied through a through hole.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置であって、前
記モジュール基板の前記第1の面に実装された前記チッ
プ構造体の一部と、前記第2の面に実装された前記チッ
プ構造体の一部とが、前記モジュール基板の前記第1お
よび第2の面において重なって配置されていることを特
徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a part of the chip structure mounted on the first surface of the module substrate and the chip structure mounted on the second surface. A semiconductor device, wherein a part of a body is disposed so as to overlap on the first and second surfaces of the module substrate.
【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置であ
って、前記チップ構造体は、前記半導体チップの表面電
極に電気的に接続する配線部とこれに電気的に接続する
接続端子とが半導体ウェハの各チップ領域で形成された
後、個々の前記チップ構造体に切断分離された構造体で
あることを特徴とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the chip structure includes a wiring portion electrically connected to a surface electrode of the semiconductor chip and a connection terminal electrically connected to the wiring portion. A semiconductor device comprising a structure formed in each chip region of a semiconductor wafer and then cut and separated into individual chip structures.
【請求項4】 請求項3記載の半導体装置であって、各
々の前記チップ構造体における前記半導体チップがメモ
リチップであり、前記接続端子がバンプ電極であること
を特徴とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the semiconductor chip in each of the chip structures is a memory chip, and the connection terminal is a bump electrode.
【請求項5】 請求項1,2,3または4記載の半導体
装置であって、前記貫通孔が前記チップ構造体のほぼ中
央に対応して配置するように形成されていることを特徴
とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein said through hole is formed so as to be located substantially at the center of said chip structure. Semiconductor device.
【請求項6】 それぞれに半導体チップを備えた複数の
チップ構造体を準備する工程と、 複数の貫通孔が設けられ、複数の前記チップ構造体をフ
リップチップ接続によって支持可能な第1およびその反
対側の第2の面を備えたモジュール基板を準備する工程
と、 前記貫通孔の一方の開口端が露出し、他方の開口端が前
記チップ構造体のフリップチップ接続部に配置するよう
に前記モジュール基板の前記第1および第2の面に複数
の前記チップ構造体をフリップチップ接続によって実装
する工程と、 前記第1または第2の何れか一方の面の複数の前記チッ
プ構造体の前記フリップチップ接続部にその反対側の前
記開口端から前記貫通孔を介して封止用樹脂を供給し
て、前記一方の面の前記チップ構造体の前記フリップチ
ップ接続部を樹脂封止する工程と、 前記一方の面の前記チップ構造体の前記フリップチップ
接続部を樹脂封止した後、前記第1または第2の何れか
他方の面の複数の前記チップ構造体の前記フリップチッ
プ接続部にその反対側の前記開口端から前記貫通孔を介
して封止用樹脂を供給して、前記他方の面の前記チップ
構造体の前記フリップチップ接続部を樹脂封止する工程
とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
6. A step of preparing a plurality of chip structures each provided with a semiconductor chip, and a first and an opposite, provided with a plurality of through holes, capable of supporting the plurality of chip structures by flip-chip connection. Preparing a module substrate having a second surface on the side of the module; and forming the module so that one opening end of the through-hole is exposed and the other opening end is arranged at a flip chip connection portion of the chip structure. Mounting the plurality of chip structures on the first and second surfaces of the substrate by flip-chip connection; and the plurality of flip chips of the plurality of chip structures on one of the first and second surfaces A sealing resin is supplied to the connection portion from the opening end on the opposite side through the through hole, and the flip chip connection portion of the chip structure on the one surface is resin-sealed. And after sealing the flip chip connection portion of the chip structure on the one surface with resin, the flip chip connection of the plurality of chip structures on the first or second other surface Supplying a sealing resin from the opening end on the opposite side to the portion through the through-hole, and resin-sealing the flip chip connection portion of the chip structure on the other surface. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
【請求項7】 請求項6記載の半導体装置の製造方法で
あって、前記樹脂封止を行う際に、前記第1または第2
の何れか一方の面の前記チップ構造体の前記フリップチ
ップ接続部を樹脂封止した後、前記モジュール基板の前
記第1の面と前記第2の面とを反転させ、その後、前記
第1または第2の何れか他方の面の複数の前記チップ構
造体の前記フリップチップ接続部を樹脂封止することを
特徴とする半導体装置の製造方法。
7. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein said first or second step is performed when said resin sealing is performed.
After resin-sealing the flip chip connection portion of the chip structure on one of the surfaces, the first surface and the second surface of the module substrate are inverted, and then the first or A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: resin-sealing the flip-chip connecting portions of the plurality of chip structures on any one of the second surface.
【請求項8】 請求項6または7記載の半導体装置の製
造方法であって、前記チップ構造体を前記モジュール基
板に実装した際に前記チップ構造体のほぼ中央に対応し
て配置するように前記貫通孔が設けられた前記モジュー
ル基板を用い、樹脂封止時に、前記貫通孔を介して前記
チップ構造体の前記フリップチップ接続部のほぼ中央か
ら封止用樹脂を拡散させることを特徴とする半導体装置
の製造方法。
8. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein said chip structure is disposed substantially corresponding to a center of said chip structure when said chip structure is mounted on said module substrate. A semiconductor, characterized in that a sealing resin is diffused from substantially the center of the flip-chip connecting portion of the chip structure through the through-hole at the time of resin sealing using the module substrate provided with a through-hole. Device manufacturing method.
【請求項9】 請求項6,7または8記載の半導体装置
の製造方法であって、樹脂封止時に、前記貫通孔の露出
した開口端から封止用樹脂を吐出させるノズルを差し込
み、その後、圧力を掛けた封止用樹脂を前記ノズルを介
して前記チップ構造体の前記フリップチップ接続部に供
給することを特徴とする半導体装置の製造方法。
9. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein at the time of resin sealing, a nozzle for discharging a sealing resin from an exposed opening end of the through hole is inserted. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: supplying a sealing resin under pressure to the flip-chip connecting portion of the chip structure via the nozzle.
JP10360225A 1998-12-18 1998-12-18 Semiconductor device and manufacture thereof Pending JP2000183082A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10360225A JP2000183082A (en) 1998-12-18 1998-12-18 Semiconductor device and manufacture thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10360225A JP2000183082A (en) 1998-12-18 1998-12-18 Semiconductor device and manufacture thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000183082A true JP2000183082A (en) 2000-06-30

Family

ID=18468459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10360225A Pending JP2000183082A (en) 1998-12-18 1998-12-18 Semiconductor device and manufacture thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000183082A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6756251B2 (en) * 2001-08-21 2004-06-29 Micron Technology, Inc. Method of manufacturing microelectronic devices, including methods of underfilling microelectronic components through an underfill aperture
JP2005150680A (en) * 2003-11-13 2005-06-09 Samsung Electronics Co Ltd Structure of integrated circuit module
US8125065B2 (en) 2002-01-09 2012-02-28 Micron Technology, Inc. Elimination of RDL using tape base flip chip on flex for die stacking
US8269326B2 (en) 2002-03-04 2012-09-18 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assemblies

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6756251B2 (en) * 2001-08-21 2004-06-29 Micron Technology, Inc. Method of manufacturing microelectronic devices, including methods of underfilling microelectronic components through an underfill aperture
US8125065B2 (en) 2002-01-09 2012-02-28 Micron Technology, Inc. Elimination of RDL using tape base flip chip on flex for die stacking
US8441113B2 (en) 2002-01-09 2013-05-14 Micron Technology, Inc. Elimination of RDL using tape base flip chip on flex for die stacking
US8269326B2 (en) 2002-03-04 2012-09-18 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assemblies
JP2005150680A (en) * 2003-11-13 2005-06-09 Samsung Electronics Co Ltd Structure of integrated circuit module
JP4658529B2 (en) * 2003-11-13 2011-03-23 三星電子株式会社 Structure of integrated circuit module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5420505B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
KR101050402B1 (en) Semiconductor Multipackage Modules Including Processor and Memory Package Assemblies
US6930396B2 (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
US10424526B2 (en) Chip package structure and manufacturing method thereof
US7679178B2 (en) Semiconductor package on which a semiconductor device can be stacked and fabrication method thereof
US20070190690A1 (en) Integrated circuit package system with exposed interconnects
US20040195700A1 (en) Multi-chip package combining wire-bonding and flip-chip configuration
US9030021B2 (en) Printed circuit board having hexagonally aligned bump pads for substrate of semiconductor package, and semiconductor package including the same
US20150179623A1 (en) Method for manufacturing semiconductor device
US20070257348A1 (en) Multiple chip package module and method of fabricating the same
JP2002118201A (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
KR20020060558A (en) Semiconductor device
KR20030083437A (en) Multi chip package and manufacturing method thereof
JPH11312780A (en) Semiconductor device and its manufacture
JPH07170098A (en) Mounting structure of electronic parts and mounting method
KR101014577B1 (en) Semiconductor apparatus, and method of manufacturing semiconductor apparatus
JP2000183082A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JP2000164792A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JP2907195B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP2007142128A (en) Semiconductor device and its production process
US8945987B2 (en) Manufacture of face-down microelectronic packages
TWI395319B (en) Semiconductor assembly to avoid break of solder joints of pop stack
US20050146050A1 (en) Flip chip package structure and chip structure thereof
TW449892B (en) Package for enclosing thicker semiconductor device
JPS5848932A (en) Preparation of semiconductor device