JP2000182222A - Magnetoresistive magnetic head - Google Patents

Magnetoresistive magnetic head

Info

Publication number
JP2000182222A
JP2000182222A JP10359336A JP35933698A JP2000182222A JP 2000182222 A JP2000182222 A JP 2000182222A JP 10359336 A JP10359336 A JP 10359336A JP 35933698 A JP35933698 A JP 35933698A JP 2000182222 A JP2000182222 A JP 2000182222A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
magnetoresistive
thermal buffer
layer
buffer film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10359336A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Nakamura
昌弘 中村
Kozo Sasakuri
耕三 笹栗
Takahiro Higuchi
隆弘 樋口
Hideyasu Nagai
秀康 永井
Masaya Hashimoto
昌也 橋本
Masayuki Takagishi
雅幸 高岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Read Rite SMI Corp
Original Assignee
Read Rite SMI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Read Rite SMI Corp filed Critical Read Rite SMI Corp
Priority to JP10359336A priority Critical patent/JP2000182222A/en
Publication of JP2000182222A publication Critical patent/JP2000182222A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the thermal stability and ESD durability of an MR head. SOLUTION: In this magnetoresistive magnetic head provided with a thin-film magneto-resistance element 9, a couple of electrode layers which are electrically connected to the right and left ends of the element 9, and shield layers 7 and 12 which are stacked on the top and reverse sides of the thin-film magneto- resistance element 9 and electrode layer 10 across gap layers 9 and 11, a thermal buffer film 20 consisting of a material having larger heat conductivity than the constituent materials of the gap layers 8 and 11 is formed adjacently inside the thin-film magneto-resistance element 9 in the direction of stripe height SH.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置などの磁気記録装置に内蔵されて、磁気記録媒体に記
録された情報を読み出すための磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-resistance effect type magnetic head incorporated in a magnetic recording device such as a hard disk device for reading information recorded on a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在のハードディスク装置に内蔵される
再生用の磁気ヘッドとしては、感磁部として薄膜磁気抵
抗効果素子を備える磁気抵抗効果型磁気ヘッドが主流と
なっている。磁気抵抗効果とは、導電性の磁性体に磁場
を印加すると電気抵抗が変化する効果であり、この効果
をもつ素子を利用して磁場変化を検出し、磁気媒体に記
録された情報を読み取る。この磁気抵抗効果素子(MR
素子)としては、センス電流の方向に一軸異方性を持つ
強磁性薄膜を備えて、磁化困難軸方向に磁気記録媒体か
らの外部磁界が印加すると磁化回転により強磁性薄膜の
電気抵抗が変化する異方性磁気抵抗効果素子(AMR素
子)や、大きな磁気抵抗効果を示すスピンバルブ素子な
どがある。これら磁気抵抗効果素子は、センス電流を印
加して抵抗変化を検出するものであり、即ち、磁束の時
間微分でなく磁界を検出するので出力が磁気記録媒体の
移動速度の影響を受けず、100MHz以下の現実的な
帯域幅で本質的に周波数限界がなく、信号対雑音比を劣
化させる固有の雑音機構がなく、かつ、小型化が容易
で、磁気記録媒体に極めて高い面記録密度で記録された
情報を容易に識別して取り出すことができるという利点
がある。
2. Description of the Related Art As a reproducing magnetic head built in a current hard disk drive, a magnetoresistive magnetic head having a thin film magnetoresistive element as a magnetic sensing portion is mainly used. The magnetoresistive effect is an effect in which when a magnetic field is applied to a conductive magnetic material, the electric resistance changes. Using a device having this effect, a change in the magnetic field is detected, and information recorded on a magnetic medium is read. This magnetoresistive effect element (MR
The device has a ferromagnetic thin film having uniaxial anisotropy in the sense current direction, and when an external magnetic field is applied from the magnetic recording medium in the direction of hard magnetization, the electric resistance of the ferromagnetic thin film changes due to magnetization rotation. There are an anisotropic magnetoresistance effect element (AMR element) and a spin valve element exhibiting a large magnetoresistance effect. These magnetoresistive elements detect a resistance change by applying a sense current, that is, detect a magnetic field instead of a time derivative of a magnetic flux, so that the output is not affected by the moving speed of the magnetic recording medium and is 100 MHz. The following practical bandwidths have essentially no frequency limit, no inherent noise mechanism that degrades the signal-to-noise ratio, are easy to miniaturize, and are recorded at extremely high areal recording densities on magnetic recording media. There is an advantage that the information can be easily identified and taken out.

【0003】かかるMRヘッドの原理は、1970年に
発表されたロバート・ハントの論文により明らかにされ
ている。ハントの最初のMRヘッドは、MR素子が露出
された露出型MRヘッドであった。しかし、露出型MR
ヘッドでは、出力パルスが広がって短波長スペクトルが
急速にロールオフしてしまうという問題を内包する。
The principle of such an MR head has been clarified by Robert Hunt's paper published in 1970. Hunt's first MR head was an exposed MR head with the MR element exposed. However, exposed MR
The head has a problem that the output pulse is spread and the short wavelength spectrum is rapidly rolled off.

【0004】かかる問題を回避し、高密度で記録媒体に
記録された情報を的確に読み出すために、MR素子を上
下の高透磁率のシールド層で挟んだシールド型MRヘッ
ドが開発された。かかるシールド型MRヘッドによれ
ば、MR素子が、媒体の磁極のまさに真上を通過するま
で、当該磁極を感知することを遅らせることができる。
かかるシールド型MRヘッドの出現により、実用的な特
性が得られ、現在の小型大容量ハードディスクにおける
再生ヘッドの主流となっている。
In order to avoid such a problem and accurately read information recorded on a recording medium at a high density, a shield type MR head in which an MR element is sandwiched between upper and lower shield layers having high magnetic permeability has been developed. According to such a shield type MR head, the sensing of the magnetic pole can be delayed until the MR element passes just above the magnetic pole of the medium.
With the advent of such a shield type MR head, practical characteristics have been obtained, and it has become the mainstream of the reproducing head in the present small and large-capacity hard disk.

【0005】シールド型MRヘッドにおいては、シール
ド層とMR素子の間には、非磁性の絶縁体からなるギャ
ップ層が設けられる。即ち、MR素子は、ギャップ層内
に埋め込まれた状態となる。ギャップ層の構成材料とし
ては、成膜加工性、コスト、電気的磁気的性質などの種
々の要因が考慮され、アルミナが一般的に用いられてい
る。
In the shield type MR head, a gap layer made of a non-magnetic insulator is provided between the shield layer and the MR element. That is, the MR element is buried in the gap layer. As a constituent material of the gap layer, alumina is generally used in consideration of various factors such as film forming workability, cost, and electric and magnetic properties.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記MRヘッドを内蔵
するハードディスク装置においては、ディスク駆動用モ
ータの発熱などの動作環境によりMR素子が昇温される
とともに、MR素子に印加されるセンス電流によってM
R素子自体が発熱する。本願発明者らの実験によれば、
MR素子は、素子温度が低いほど熱安定性に優れ、出力
が安定化することが知見されている。MR素子の熱安定
性の向上は、さらなる記録密度の向上のためには必要不
可欠な解決課題である。
In a hard disk drive incorporating the above MR head, the temperature of the MR element is raised by the operating environment such as the heat generated by the disk drive motor, and the sense current applied to the MR element causes the MR element to increase in temperature.
The R element itself generates heat. According to the experiments of the present inventors,
It has been found that the lower the device temperature, the better the thermal stability and the more stable the output of the MR device. Improving the thermal stability of the MR element is an indispensable solution for further improving the recording density.

【0007】また、MRヘッドの重要な他の解決課題
に、ESD耐久性がある。MR素子は、外部磁界に対す
る感度を向上させるために膜厚がナノミクロンオーダー
と非常に薄く構成されているため、ディスク表面に帯電
した電荷が、コンタクトスタートストップの際にMR素
子に飛び込むことにより、MR素子にパルス電流が生じ
る。また、装置の製造、検査時に、端子サイドから電荷
が飛び込み、電極を通じてMR素子にパルス電流が印加
されることもある。このパルス電流による素子破壊によ
り歩留まり低下の懸念があり、耐久性向上が要求されて
いる。
Another important problem of the MR head is ESD durability. Since the MR element has a very thin film thickness on the order of nanometers in order to improve the sensitivity to an external magnetic field, the charge charged on the disk surface jumps into the MR element at the time of contact start / stop. A pulse current is generated in the MR element. Further, at the time of manufacture and inspection of the device, charge may jump from the terminal side, and a pulse current may be applied to the MR element through the electrode. There is a concern that the yield may be reduced due to device destruction due to the pulse current, and improvement in durability is required.

【0008】そこで、本発明は、MR素子の過度の昇温
を防止して、出力安定性を向上するとともに、ESD耐
久性を向上することができる磁気抵抗効果型磁気ヘッド
を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a magnetoresistive magnetic head capable of preventing an excessive rise in temperature of an MR element, improving output stability, and improving ESD durability. And

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願発明者らは、MR素
子(薄膜磁気抵抗効果素子)と、該素子の左右端に電気
的に接続される対の電極層と、これらMR素子及び電極
層の上下にギャップ層を介して積層されたシールド層と
を備える磁気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、まず熱安
定性の向上を図るために種々の考慮をなした。熱安定性
の向上は、表面積の増大による放熱面積の確保によっ
て、MR素子からの放熱性を良好なものとすることがで
き、センス電流による自己発熱による熱を、ギャップ層
を介して上下のシールド層へと効率よく伝達することに
より達成されると考えられる。
Means for Solving the Problems The present inventors have developed an MR element (thin film magnetoresistive element), a pair of electrode layers electrically connected to the left and right ends of the element, and an MR element and an electrode layer. First, various considerations were made to improve the thermal stability of a magnetoresistive head having a shield layer stacked above and below a gap layer via a gap layer. The improvement of thermal stability can improve the heat radiation from the MR element by securing the heat radiation area by increasing the surface area, and shield the heat generated by self-heating by the sense current from the upper and lower layers through the gap layer. It is believed that this is achieved by efficient transmission to the layers.

【0010】したがって、本願発明者らは、放熱面積の
増大を図るために、まず、MR素子のストライプハイト
方向内側に隣接して、ギャップ層の構成材料よりも熱伝
導率の大きい材料からなる熱緩衝膜を形成した。この熱
緩衝膜の存在により、MR素子の熱が円滑に熱緩衝膜に
分散され、これにより放熱表面積を大きく確保すること
ができるので、熱安定性が向上し、ひいてはMR素子の
出力の安定化が図られる。
Therefore, in order to increase the heat dissipation area, the inventors of the present invention firstly use a heat source made of a material having a higher thermal conductivity than the material of the gap layer adjacent to the inside of the MR element in the stripe height direction. A buffer film was formed. Due to the presence of the thermal buffer film, the heat of the MR element is smoothly dispersed in the thermal buffer film, and thereby a large heat radiation surface area can be secured, so that the thermal stability is improved and, consequently, the output of the MR element is stabilized. Is achieved.

【0011】この熱緩衝膜を構成する材料としては、比
熱容量が大きいものを用いることが好ましい。さらに、
熱緩衝膜の体積(寸法)を大きくすることにより、熱緩
衝膜の熱容量を大きく確保して、熱緩衝膜に蓄積される
熱量に余裕をもたせ、MR素子の熱を十分に受け入れる
ことができるようにすることが好ましい。さらに、MR
素子からの熱の流入を良好なものとするために、熱緩衝
膜の熱伝導率が、MR素子の熱伝導率よりも大きいこと
が望ましい。
It is preferable to use a material having a large specific heat capacity as a material constituting the thermal buffer film. further,
By increasing the volume (dimensions) of the thermal buffer film, a large heat capacity of the thermal buffer film is ensured, so that the amount of heat stored in the thermal buffer film has a margin and the heat of the MR element can be sufficiently received. Is preferable. Furthermore, MR
In order to improve the flow of heat from the element, it is desirable that the thermal conductivity of the thermal buffer film be higher than the thermal conductivity of the MR element.

【0012】上記熱緩衝膜の構成材料は、伝熱係数が、
5W/m・K〜500W/m・Kのものが好まし
い。
The constituent material of the thermal buffer film has a heat transfer coefficient:
Those 5W / m 2 · K~500W / m 2 · K are preferred.

【0013】また、比熱容量は、0.1J/kg・K〜
1.0J/g・Kのものが好ましい。
The specific heat capacity is from 0.1 J / kg · K to
Those having 1.0 J / g · K are preferred.

【0014】また、MR素子の再生感度の低下を抑える
ためには、熱緩衝膜の構成材料の電気抵抗率は大きいほ
ど良い。好ましくは、MR素子よりも熱緩衝膜の電気抵
抗率が大きくする。何故ならば、MR素子の出力は、
(MR効果による抵抗変化×電流密度)で表されるた
め、センス電流の多くが熱緩衝膜を流れてしまうと、M
R素子における電流密度が大幅に低減してしまい、感度
が悪化するからである。この場合における熱緩衝膜の最
も好ましい性質としては、電気的絶縁体であり、かつ、
熱伝導性に優れるものである。しかし、一般に、これら
の性質は相反する傾向にある。したがって、要求される
性能に応じて適宜材料の選定を行うが、電気抵抗率が比
較的小さな材料で熱緩衝膜を形成しつつ、再生感度の大
幅な低下を抑えるためには、MR素子と熱緩衝膜との境
界部において、熱的なカップリングが良好で電気的なカ
ップリングが不良であるように構成することができる。
このような境界部の構成は、例えば、MR素子の熱緩衝
膜との間に非常に薄い絶縁層を挟んだり、高抵抗体を挟
んだり、若しくは、MR素子の成膜後に該MR素子のス
トライプハイト方向内端を酸化プロセスにより酸化させ
絶縁化するなどによって、MR素子と熱緩衝膜との境界
部に熱緩衝膜よりも電気抵抗率が大きい絶縁境界層を形
成することにより得られる。
Further, in order to suppress a decrease in the reproduction sensitivity of the MR element, the larger the electrical resistivity of the constituent material of the thermal buffer film, the better. Preferably, the electrical resistivity of the thermal buffer film is higher than that of the MR element. Because the output of the MR element is
(Resistance change due to MR effect × current density). Therefore, if most of the sense current flows through the thermal buffer film, M
This is because the current density in the R element is greatly reduced, and the sensitivity is deteriorated. The most preferable property of the thermal buffer film in this case is an electrical insulator, and
It has excellent thermal conductivity. However, in general, these properties tend to conflict. Therefore, the material is appropriately selected according to the required performance. However, in order to form a thermal buffer film with a material having a relatively small electric resistivity and to suppress a significant decrease in the read sensitivity, it is necessary to use a thermal element with the MR element. At the boundary with the buffer film, the thermal coupling can be good and the electrical coupling can be bad.
Such a boundary portion may be formed, for example, by sandwiching a very thin insulating layer between the MR buffer and the thermal buffer film, by sandwiching a high-resistance body, or by forming a stripe of the MR element after the MR element is formed. This can be obtained by forming an insulating boundary layer having a higher electrical resistivity than the thermal buffer film at the boundary between the MR element and the thermal buffer film, for example, by oxidizing the inner end in the height direction by an oxidation process to make it insulating.

【0015】上記したように、MRヘッドの熱安定性の
向上のためには、熱緩衝膜の構成材料は限定されるもの
ではなく、アルミナに代表されるギャップ層の構成材料
よりも熱伝導率が大きいものであればよく、要求される
性能、再生特性等に応じて適宜、公知の金属、合金その
他の材料から選定できる。例えば、熱緩衝膜を、温度上
昇に伴って電気抵抗が低下するサーミスターから構成す
ることもできる。このようにサーミスターから構成すれ
ば、素子の温度が比較的低温のときには、センス電流が
MR素子に選択的に流れるようにして再生感度を確保
し、一方、素子が比較的高温となったときにはセンス電
流の一部をサーミスターから構成される熱緩衝膜に分流
させて、MR素子の発熱量を抑えることが可能となる。
また、熱緩衝膜を、内部を流れる電流が増加するとその
両端にかかる電圧が減少する性質を有する負性抵抗体に
より形成することもできる。
As described above, in order to improve the thermal stability of the MR head, the constituent material of the thermal buffer film is not limited, and the thermal conductivity is higher than that of the gap layer represented by alumina. May be selected from known metals, alloys, and other materials as appropriate according to the required performance, reproduction characteristics, and the like. For example, the thermal buffer film may be composed of a thermistor whose electric resistance decreases as the temperature rises. With the thermistor as described above, when the temperature of the element is relatively low, the sense current is selectively passed through the MR element to ensure reproduction sensitivity, while when the element is relatively high temperature, By diverting a part of the sense current to the thermal buffer film composed of the thermistor, the amount of heat generated by the MR element can be suppressed.
Further, the thermal buffer film can be formed of a negative resistor having a property that the voltage applied to both ends thereof decreases as the current flowing inside increases.

【0016】また、上記した熱緩衝膜の存在により、静
電気放電により発生する高周波のパルス電流を熱緩衝膜
にも分流させることで、MR素子のESD耐久性を向上
することも可能である。このように、本発明によれば、
センス電流による自己発熱の放熱と、静電気放電による
パルス状の電気ストレスに対する耐久性を一挙に達成す
ることも可能となる。
Further, the existence of the above-mentioned thermal buffer film makes it possible to improve the ESD durability of the MR element by diverting a high-frequency pulse current generated by electrostatic discharge to the thermal buffer film. Thus, according to the present invention,
It is also possible to achieve at once the heat radiation of self-heating by the sense current and the durability against pulse-like electric stress due to electrostatic discharge.

【0017】ESD耐久性の向上を重視する場合には、
熱緩衝膜を導電体膜により構成することが有利である。
即ち、MR素子と、該素子の左右端に電気的に接続され
る対の電極層とを備える磁気抵抗効果型磁気ヘッドにお
いて、MR素子のストライプハイト方向内側に隣接し
て、該素子の左右幅方向ほぼ全長にわたる導電体膜を形
成することにより、静電気放電に起因して発生するパル
ス電流を導電体膜に分流させ、MRヘッドに大きなパル
ス電流が印加することを防止し、ESD耐久性向上が図
られる。
When importance is attached to the improvement of the ESD durability,
It is advantageous that the thermal buffer film is made of a conductor film.
That is, in a magnetoresistive magnetic head including an MR element and a pair of electrode layers electrically connected to the left and right ends of the element, the left and right widths of the element are adjacent to the inside of the MR element in the stripe height direction. By forming a conductor film over almost the entire length in the direction, the pulse current generated due to the electrostatic discharge is shunted to the conductor film, preventing application of a large pulse current to the MR head, and improving the ESD durability. It is planned.

【0018】勿論、MR素子に導電体膜を隣接配置し
て、たとえセンス電流が導電体膜に分流した場合でも、
MR素子の膜構成その他の構造によって十分な再生感度
が得られるならば、導電体膜とMR素子との間に絶縁層
を設ける必要はない。MR素子と導電体膜との電気的カ
ップリングが良好となるようにMR素子と導電体膜とを
結合させる場合、導電体膜を、薄膜磁気抵抗効果素子の
左右方向ほぼ全長にわたって該素子に接合するととも
に、そのストライプハイト方向の高さが、左右方向中央
において高く、左右方向端部において低くなるよう形成
することにより、左右中央部においてセンス電流の導電
体膜への分流量が増加され、MR膜を流れる電流密度
を、左右端部側において大きく、中央部において小さく
することが可能となる。従来のMRヘッドではMR素子
の電流密度が左右方向全長にわたって一定であるため、
熱の逃げにくい素子中央部の温度が上がりやすく、素子
破壊が起こりやすいが、上記構成によれば、中央部の電
流密度を低減させて、中央部の発熱量を抑えることがで
き、素子破壊の発生が低減される。
Of course, even if the conductor film is arranged adjacent to the MR element and the sense current is diverted to the conductor film,
It is not necessary to provide an insulating layer between the conductor film and the MR element, provided that sufficient reproduction sensitivity can be obtained by the film configuration or other structure of the MR element. When the MR element and the conductor film are coupled so that the electrical coupling between the MR element and the conductor film is good, the conductor film is joined to the thin film magnetoresistive element over substantially the entire length in the left-right direction. At the same time, by forming the stripe height in the direction of the stripe height to be high at the center in the left-right direction and to be low at the end in the left-right direction, the flow rate of the sense current to the conductor film at the center in the left and right directions is increased, and The current density flowing through the film can be increased at the left and right end portions and reduced at the center portion. In the conventional MR head, since the current density of the MR element is constant over the entire length in the left-right direction,
Although the temperature at the central portion of the element, which is difficult for heat to escape, is likely to rise and the element is likely to be destroyed, according to the above configuration, the current density at the central portion can be reduced, and the calorific value at the central portion can be suppressed. Occurrence is reduced.

【0019】また、MR素子に導電体膜を隣接配置する
場合において、直流電流であるセンス電流が導電体膜に
分流することによる再生感度の悪化が問題視される場合
には、センス電流が導電体膜に分流することを防止しつ
つ高周波のパルス電流は導電体膜を流れるようにするた
めに、導電体膜の左右方向中途部に、ストライプハイト
方向に延びるスリットを形成することが有用である。か
かるスリットを形成すれば、センス電流はスリット部分
を流れることができないが、高周波パルス電流は静電気
放電の原理によってスリット部分を流れることができ
る。したがって、再生感度の大幅な低下を防止しつつE
SD耐久性を確保することができる。上記スリットは、
左右一対設けることができる。或いは、素子幅(トラッ
ク幅)方向の電流密度を考慮して複数、好ましくは左右
対称に入れるのが良い。また、左右端部側にそれぞれス
リットを設けておくのがよい。なお、導電体膜のスリッ
ト部分には、ギャップ層を成膜することによりギャップ
層を構成する絶縁材料が入り込み、その結果、導電体膜
の左右方向中途部に、ストライプハイト方向に延びる絶
縁層が形成されることとなる。
In the case where a conductor film is arranged adjacent to the MR element, if the reproduction sensitivity is degraded due to the distribution of the sense current, which is a direct current, to the conductor film, the sense current is not applied to the MR film. In order to prevent a high-frequency pulse current from flowing through the conductor film while preventing the shunt from flowing into the body film, it is useful to form a slit extending in the stripe height direction at an intermediate portion in the left-right direction of the conductor film. . If such a slit is formed, a sense current cannot flow through the slit portion, but a high-frequency pulse current can flow through the slit portion by the principle of electrostatic discharge. Therefore, while preventing a significant decrease in the reproduction sensitivity, E
SD durability can be ensured. The slit is
Left and right pairs can be provided. Alternatively, considering the current density in the element width (track width) direction, a plurality of, preferably bilaterally symmetrical ones may be inserted. Further, it is preferable to provide slits on the left and right end sides, respectively. Note that the insulating material forming the gap layer enters the slit portion of the conductor film by forming the gap layer, and as a result, an insulating layer extending in the stripe height direction is formed in the middle of the conductor film in the left-right direction. Will be formed.

【0020】また、導電体層を隣接配置する場合、各電
極層を、薄膜磁気抵抗効果素子の左右端部並びに導電体
膜の左右端部に接続することにより、電極層から印加さ
れる静電気放電に起因するパルス電流を、直接的に導電
体層に印加させることができる。
When the conductor layers are arranged adjacent to each other, the respective electrode layers are connected to the left and right ends of the thin-film magnetoresistive element and the left and right ends of the conductor film, respectively. Can be applied directly to the conductor layer.

【0021】なお、MR素子として、反強磁性体層、固
定磁性層、非磁性導電体層及び自由磁性層から構成され
るスピンバルブ膜を採用する場合、反強磁性体層のスト
ライプハイトを、自由側磁性体層のストライプハイトよ
りも大きく形成することによっても、かかるスピンバル
ブ素子自体に、ESD耐久性、熱安定性並びに再生感度
の低減防止という性質を持たせることが可能である。好
ましくは、反強磁性体層、固定側磁性体層、非磁性導電
体層及び自由側磁性体層が、当該順序で上下に積層形成
されてなるボトムタイプスピンバルブ素子を備えたスピ
ンバルブ磁気ヘッドにおいて、前記スピンバルブ素子の
上端側から下端側に至るにしたがって徐々に該素子のス
トライプハイトが大きくなるように、前記スピンバルブ
素子のストライプハイト方向内端面がテーパー状に形成
されているものとする。なお、テーパー状でなくとも、
素子の各構成層が階段状に形成されているものとするこ
ともできる。
When a spin valve film composed of an antiferromagnetic layer, a pinned magnetic layer, a nonmagnetic conductor layer and a free magnetic layer is employed as the MR element, the stripe height of the antiferromagnetic layer is By forming the free side magnetic layer larger than the stripe height, the spin valve element itself can have properties of ESD durability, thermal stability, and prevention of reduction in reproduction sensitivity. Preferably, a spin-valve magnetic head including a bottom-type spin-valve element in which an antiferromagnetic layer, a fixed-side magnetic layer, a non-magnetic conductive layer, and a free-side magnetic layer are stacked one above the other in this order In the above, the inner end face in the stripe height direction of the spin valve element is formed in a tapered shape so that the stripe height of the spin valve element gradually increases from the upper end side to the lower end side. . In addition, even if it is not tapered,
Each constituent layer of the element may be formed in a step shape.

【0022】かかる構成のスピンバルブ素子によれば、
センス電流は比較的電気抵抗の小さい非磁性導電体層を
選択的に流れるとともに、自由磁性層のストライプハイ
トは小さくして大きなアスペクト比を確保することがで
き、形状異方性により自由磁性層の磁化方向が安定する
ため、再生感度の劣化を防止しつつも、反強磁性体層を
ヒートバッファーとして機能させて素子温度を低減させ
ることができ、さらに、静電気放電に起因する高周波パ
ルス電流も反強磁性体層に分流されて、ESD耐圧を向
上し得る。
According to the spin valve element having such a configuration,
The sense current selectively flows through the non-magnetic conductive layer having a relatively small electric resistance, and the stripe height of the free magnetic layer can be reduced to secure a large aspect ratio. Since the magnetization direction is stabilized, the antiferromagnetic layer can function as a heat buffer to reduce the element temperature while preventing the deterioration of the read sensitivity, and the high frequency pulse current due to the electrostatic discharge is also reduced. The current is shunted to the ferromagnetic layer to improve the ESD withstand voltage.

【0023】なお、以上説明した各手段は、それぞれ単
独で、若しくは組み合わせてMRヘッドに適用すること
により、それらに応じた作用が得られる。その実施態様
は、要求される性能に応じて種々変更することができ
る。
By applying each of the above-described means to the MR head independently or in combination, an action corresponding to the means can be obtained. The embodiment can be variously changed according to required performance.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を、図面に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0025】図1は、磁気ヘッド装置1の主要部、即
ち、記録・再生素子部の中央縦断面図であって、該装置
1は、記録・再生素子部としてMR−インダクティブ複
合型薄膜磁気ヘッド2を備えている。該複合ヘッド2
は、磁気抵抗効果型磁気ヘッド3と、インダクティブヘ
ッド4とを上下に積層して一体化したものであり、イン
ダクティブヘッド4が磁気記録媒体への記録を行い、磁
気抵抗効果ヘッド3が媒体からの情報の再生を行う。
FIG. 1 is a central longitudinal sectional view of a main portion of a magnetic head device 1, that is, a recording / reproducing element portion. The device 1 has an MR-inductive composite thin film magnetic head as a recording / reproducing element portion. 2 is provided. The composite head 2
Is formed by vertically integrating a magneto-resistance effect type magnetic head 3 and an inductive head 4 so that the inductive head 4 performs recording on a magnetic recording medium, and the magneto-resistance effect head 3 Reproduce information.

【0026】上記磁気抵抗効果ヘッド3は、非磁性のア
ンダーコート5で表面が覆われた基板(スライダ)6上
に、高透磁率の軟磁性体からなる下部磁気シールド層
7、非磁性材料からなる下部半ギャップ層8、外部磁界
強度に応じて電気抵抗値が変化する薄膜磁気抵抗効果素
子9(MR素子)、該膜9の両端に接続される導電性の
電極層10、非磁性材料からなる上部半ギャップ層1
1、高透磁率の軟磁性体からなる上部磁気シールド層1
2を順次積層することにより構成されている。
The magnetoresistive head 3 comprises a lower magnetic shield layer 7 made of a soft magnetic material having a high magnetic permeability and a nonmagnetic material formed on a substrate (slider) 6 whose surface is covered with a nonmagnetic undercoat 5. A lower half-gap layer 8, a thin-film magnetoresistive element 9 (MR element) whose electric resistance changes according to an external magnetic field strength, a conductive electrode layer 10 connected to both ends of the film 9, and a nonmagnetic material. Upper half gap layer 1
1. Upper magnetic shield layer 1 made of a soft magnetic material having a high magnetic permeability
2 are sequentially laminated.

【0027】各層の構成材料としては、例えば、磁気シ
ールド層7,12にはパーマロイ(NiFe合金)、F
eAl合金若しくはCo系非晶質合金を、磁気ギャップ
8,11には酸化ケイ素(SiO)、アルミナ(Al
)、窒化アルミニウム(AlN)若しくは酸化窒
素アルミニウム(AlNO)を用いることができ、これ
ら各層は、スパッタリング法等の適宜の真空薄膜形成技
術を用いて形成し得る。また、MR素子9としては、従
来公知のAMR素子や、スピンバルブ素子やグラニュラ
ー素子などのGMR素子を用いることができる。
As a constituent material of each layer, for example, permalloy (NiFe alloy), F
eAl alloy or Co-based amorphous alloy, and silicon oxide (SiO 2 ), alumina (Al
2 O 3 ), aluminum nitride (AlN), or aluminum nitrate oxide (AlNO) can be used, and these layers can be formed by using an appropriate vacuum thin film forming technique such as a sputtering method. Further, as the MR element 9, a conventionally known AMR element or a GMR element such as a spin valve element or a granular element can be used.

【0028】上記インダクティブヘッド4は、軟磁性体
からなる下部磁極層12、非磁性材料からなる磁気ギャ
ップ層13、コイルベースとなる絶縁層14,導電性材
料からなる誘導コイル層15、コイル層15を覆う非磁
性材料からなる絶縁層16、軟磁性材料からなる上部磁
極層17を順次積層形成することにより構成されてい
る。なお、該ヘッド4の下部磁極層12は、磁気抵抗効
果ヘッド3の上部磁気シールド層と共通の軟磁性層によ
り構成されている。なお、複合ヘッド2は、非磁性材料
からなる保護層18で覆われており、MR素子9の両
端、並びに、コイル15の両端にそれぞれ電気的に接続
される端子(図示せず)が保護層18の表面に露呈され
ている。
The inductive head 4 includes a lower magnetic pole layer 12 made of a soft magnetic material, a magnetic gap layer 13 made of a nonmagnetic material, an insulating layer 14 serving as a coil base, an induction coil layer 15 made of a conductive material, and a coil layer 15. An insulating layer 16 made of a non-magnetic material and an upper magnetic pole layer 17 made of a soft magnetic material are sequentially laminated. The lower magnetic pole layer 12 of the head 4 is formed of a soft magnetic layer common to the upper magnetic shield layer of the magnetoresistive head 3. Note that the composite head 2 is covered with a protective layer 18 made of a nonmagnetic material, and terminals (not shown) electrically connected to both ends of the MR element 9 and both ends of the coil 15 are provided on the protective layer 18. 18 is exposed on the surface.

【0029】なお、図1において下面側が磁気記録媒体
対向面(ABS面)とされており、スライダ6がサスペ
ンションに取付けられて、コンタクトスタートストップ
によるハードディスクに対する磁気的な情報の書き込
み、再生を行えるようにハードディスク装置に実装され
る。
In FIG. 1, the lower surface is the surface facing the magnetic recording medium (ABS surface), and the slider 6 is mounted on the suspension so that magnetic information can be written to and reproduced from the hard disk by contact start / stop. Is mounted on the hard disk device.

【0030】本発明の実施の形態に係る再生用の磁気抵
抗効果型磁気ヘッド3では、図1及び図2に示すよう
に、MR素子9のストライプハイト(SH)方向内側
に、熱緩衝膜20を隣接して積層形成している。この熱
緩衝膜20は、MR素子9とほぼ同じ膜厚であって、上
下の半ギャップ層8,11内に埋め込まれた状態に形成
されている。また、平面形状は、例えば図2に示すよう
な長方形状であって、MR素子9の左右方向ほぼ全長に
わたる左右幅を有するものとすることができる。
In the magnetoresistive head 3 for reproduction according to the embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, a thermal buffer film 20 is provided on the inside of the MR element 9 in the stripe height (SH) direction. Are formed adjacent to each other. This thermal buffer film 20 has substantially the same thickness as that of the MR element 9 and is formed so as to be embedded in the upper and lower half gap layers 8 and 11. Further, the planar shape may be, for example, a rectangular shape as shown in FIG.

【0031】熱緩衝膜20は、ギャップ層8,11の構
成材料よりも熱伝導率の大きい材料から構成する。例え
ば、ギャップ層の構成材料としてアルミナを用いた場
合、ビスマスやニクロムにより熱緩衝膜20を構成する
ことができる。これらの材料であれば、スパッタリング
プロセスで成膜することが可能である。
The thermal buffer film 20 is made of a material having a higher thermal conductivity than the material of the gap layers 8 and 11. For example, when alumina is used as a constituent material of the gap layer, the thermal buffer film 20 can be made of bismuth or nichrome. With these materials, it is possible to form a film by a sputtering process.

【0032】材料選定の際に考慮される事項としては、
MR素子の冷却効率を高めるためには比熱容量が大きい
ものほど好ましい。具体的には、炭素(DLC)、タン
グステン、鉄、金、Ptなどを用いることができる。加
えて、熱緩衝膜20の体積(寸法)を大きくすることに
より、熱緩衝膜20の熱容量を大きく確保することがで
きる。
Items to be considered when selecting materials include:
In order to increase the cooling efficiency of the MR element, it is preferable that the specific heat capacity is large. Specifically, carbon (DLC), tungsten, iron, gold, Pt, or the like can be used. In addition, by increasing the volume (dimension) of the thermal buffer film 20, a large heat capacity of the thermal buffer film 20 can be secured.

【0033】また、熱緩衝膜20は導電体により構成し
てもよいが、MR素子9に印加されるセンス電流が熱緩
衝膜20に分流することによりMR素子9における電流
密度が低下して再生感度が大幅に低減することを防止す
るために、熱緩衝膜20のの電気抵抗率がMR素子9の
電気抵抗率よりも大きくなるように材料を選定する。こ
のような材料としても、ビスマスやニクロムは有望視で
きる。さらに、炭素(石墨やDLCなど)を用いること
もできる。
The thermal buffer film 20 may be made of a conductive material. However, when the sense current applied to the MR element 9 is diverted to the thermal buffer film 20, the current density in the MR element 9 is reduced and the reproduction is performed. In order to prevent the sensitivity from being significantly reduced, a material is selected such that the electrical resistivity of the thermal buffer film 20 is higher than the electrical resistivity of the MR element 9. Bismuth and nichrome are promising as such materials. Further, carbon (eg, graphite or DLC) can be used.

【0034】また、熱緩衝膜20はサーミスターや負性
抵抗体によって構成することもできる。
Further, the thermal buffer film 20 can be constituted by a thermistor or a negative resistor.

【0035】上記熱緩衝膜20とMR素子9との境界部
には、薄い絶縁境界層21が形成されており、MR素子
9からの熱緩衝膜20への伝熱性は良好であるが、MR
素子9を流れるセンス電流は熱緩衝膜20へ流れにくい
ように構成されている。このような絶縁境界層21は、
例えば、高抵抗体をMR素子9の内端面に積層形成した
り、酸化プロセスにより表層部を絶縁化することにより
形成できる。
At the boundary between the thermal buffer film 20 and the MR element 9, a thin insulating boundary layer 21 is formed, and the heat transfer from the MR element 9 to the thermal buffer film 20 is good.
The sense current flowing through the element 9 is configured to hardly flow to the thermal buffer film 20. Such an insulating boundary layer 21
For example, it can be formed by laminating a high-resistance body on the inner end face of the MR element 9 or by insulating the surface layer portion by an oxidation process.

【0036】図3は、本発明の第2の実施形態を示して
いる。本実施形態では、熱緩衝膜20は導電体から構成
され、絶縁境界層は形成されておらず、熱緩衝膜20は
MR素子9の左右方向ほぼ全長にわたって該素子9に接
合されている。さらに、この熱緩衝膜20は、そのスト
ライプハイト方向の高さが、左右方向中央において高
く、左右方向端部において低く形成されている。したが
って、MR素子9のセンス電流による電流密度は、左右
方向端部において大きく、左右方向中央部において小さ
くなる。これにより、熱の逃げにくい素子中央部におけ
る発熱量が低減され、素子中央部が過度の昇温により破
壊されることが防止される。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the thermal buffer film 20 is made of a conductor, has no insulating boundary layer, and is joined to the MR element 9 over substantially the entire length of the MR element 9 in the left-right direction. Further, the thermal buffer film 20 is formed such that the height in the stripe height direction is high at the center in the left-right direction and low at the ends in the left-right direction. Therefore, the current density due to the sense current of the MR element 9 is large at the left and right ends and small at the left and right center. As a result, the amount of heat generated in the central portion of the element where heat is difficult to escape is reduced, and the central portion of the element is prevented from being destroyed due to excessive temperature rise.

【0037】図4は、本発明の第3の実施形態を示して
いる。本実施形態では、熱緩衝膜20は導電体から構成
され、この熱緩衝膜20の左右端部にも電極層10が接
続されている。しかしながら、左右方向中途部の2カ所
に、ストライプハイト方向に延びるスリット22が形成
されているため、電極層10を介して印加されるセンス
電流は熱緩衝膜20を通過できない。したがって、MR
素子9の電流密度を高く維持することができ、再生感度
を良好なものとすることができる。さらに、静電気放電
による高周波のパルス電流が印加されるとき、かかる高
周波電流はスリット22を通過し得るので、熱緩衝膜2
0にパルス電流を流すことができ、その分MR素子9を
流れるパルス電流を低減することができる。これによ
り、MR素子9のESD耐久性を向上することができ
る。なお、本実施形態において、MR素子9と熱緩衝膜
20との境界部に、電気的絶縁層を設けてもよい。
FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, the thermal buffer film 20 is made of a conductor, and the electrode layers 10 are also connected to left and right ends of the thermal buffer film 20. However, since the slits 22 extending in the stripe height direction are formed at two places in the middle part in the left-right direction, the sense current applied via the electrode layer 10 cannot pass through the thermal buffer film 20. Therefore, MR
The current density of the element 9 can be kept high, and the reproduction sensitivity can be made good. Further, when a high-frequency pulse current due to electrostatic discharge is applied, the high-frequency current can pass through the slit 22, so that the heat buffer film 2
The pulse current can flow to 0, and the pulse current flowing through the MR element 9 can be reduced accordingly. Thereby, the ESD durability of the MR element 9 can be improved. In the present embodiment, an electrical insulating layer may be provided at the boundary between the MR element 9 and the thermal buffer film 20.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明によれば、MR素子の熱を熱緩衝
体に誘導することによりMR素子が過度に昇温すること
を防止することができ、熱安定性を向上することができ
るとともに、ESD耐久性の向上にも有効な構造とする
ことができる。
According to the present invention, it is possible to prevent the MR element from being excessively heated by inducing the heat of the MR element to the thermal buffer, thereby improving the thermal stability. In addition, a structure effective for improving the ESD durability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る磁気抵抗効果型磁気
ヘッドを備えた磁気ヘッド装置の中央縦断面図である。
FIG. 1 is a central longitudinal sectional view of a magnetic head device including a magnetoresistive head according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る磁気抵抗効果型
磁気ヘッドの熱緩衝膜の構成を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a thermal buffer film of the magnetoresistive head according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施形態に係る磁気抵抗効果型
磁気ヘッドの熱緩衝膜の構成を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a thermal buffer film of a magneto-resistance effect type magnetic head according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施形態に係る磁気抵抗効果型
磁気ヘッドの熱緩衝膜の構成を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration of a thermal buffer film of a magnetoresistive head according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 磁気抵抗効果型磁気ヘッド 7 下部シールド層 8 下部半ギャップ層 9 薄膜磁気抵抗効果素子 10 電極層 11 上部半ギャップ層 12 上部シールド層 20 熱緩衝膜(導電体膜) 21 絶縁境界層 22 スリット REFERENCE SIGNS LIST 3 magnetoresistive head 7 lower shield layer 8 lower half gap layer 9 thin film magnetoresistive element 10 electrode layer 11 upper half gap layer 12 upper shield layer 20 thermal buffer film (conductor film) 21 insulating boundary layer 22 slit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 樋口 隆弘 大阪府三島郡島本町江川2丁目15番17号 リードライト・エスエムアイ株式会社内 (72)発明者 永井 秀康 大阪府三島郡島本町江川2丁目15番17号 リードライト・エスエムアイ株式会社内 (72)発明者 橋本 昌也 大阪府大阪市中央区北浜4丁目5番33号 住友金属工業株式会社システムエンジニア リング事業部内 (72)発明者 高岸 雅幸 大阪府三島郡島本町江川2丁目15番17号 リードライト・エスエムアイ株式会社内 Fターム(参考) 5D034 BA03 BA09 BA17 BA19 BA21 BB01 CA02 DA07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takahiro Higuchi 2-15-17 Egawa, Shimamoto-cho, Mishima-gun, Osaka Prefecture Inside ReadWrite SMI Corporation (72) Inventor Hideyasu Nagai 2 Egawa, Shimamoto-cho, Mishima-gun, Osaka No. 15-17, Readlight SMI Co., Ltd. (72) Inventor Masaya Hashimoto 4-53, Kitahama, Chuo-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Sumitomo Metal Industries, Ltd. System Engineering Division (72) Inventor Masayuki Takagishi 2-15-17 Egawa, Shimamoto-cho, Mishima-gun, Osaka F-term in ReadWrite SMI Co., Ltd. 5D034 BA03 BA09 BA17 BA19 BA21 BB01 CA02 DA07

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜磁気抵抗効果素子と、該素子の左右
端に電気的に接続される対の電極層と、これら薄膜磁気
抵抗効果素子及び電極層の上下にギャップ層を介して積
層されたシールド層とを備える磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ドにおいて、 薄膜磁気抵抗効果素子のストライプハイト方向内側に隣
接して、ギャップ層の構成材料よりも熱伝導率の大きい
材料からなる熱緩衝膜を形成したことを特徴とする磁気
抵抗効果型磁気ヘッド。
1. A thin film magnetoresistive element, a pair of electrode layers electrically connected to left and right ends of the element, and lamination layers above and below the thin film magnetoresistive element and the electrode layer via a gap layer. In a magnetoresistive head having a shield layer, a thermal buffer film made of a material having a higher thermal conductivity than the material of the gap layer is formed adjacent to the inside of the thin film magnetoresistive element in the stripe height direction. A magnetoresistance effect type magnetic head characterized by the following.
【請求項2】 熱緩衝膜の電気抵抗率が、薄膜磁気抵抗
効果素子の電気抵抗率よりも大きいことを特徴とする請
求項1に記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
2. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the electrical resistivity of the thermal buffer film is higher than the electrical resistivity of the thin-film magnetoresistive element.
【請求項3】 熱緩衝膜の熱伝導率が、薄膜磁気抵抗効
果素子の熱伝導率よりも大きいことを特徴とする請求項
1又は2に記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
3. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the thermal conductivity of the thermal buffer film is higher than the thermal conductivity of the thin film magnetoresistive element.
【請求項4】 熱緩衝膜は、サーミスターから構成され
ていることを特徴とする請求項1,2又は3に記載の磁
気抵抗効果型磁気ヘッド。
4. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the thermal buffer film is made of a thermistor.
【請求項5】 薄膜磁気抵抗効果素子と熱緩衝膜との境
界部に、熱緩衝膜よりも電気抵抗率が大きい絶縁境界層
が形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のい
ずれか1項に記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
5. An insulating boundary layer having a higher electrical resistivity than the thermal buffer film is formed at a boundary between the thin film magnetoresistive element and the thermal buffer film. 2. A magnetoresistive head according to claim 1.
【請求項6】 熱緩衝膜は導電体膜により構成されてい
ることを特徴とする請求項1又は3に記載の磁気抵抗効
果型磁気ヘッド。
6. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the thermal buffer film is made of a conductor film.
【請求項7】 薄膜磁気抵抗効果素子と、該素子の左右
端に電気的に接続される対の電極層とを備える磁気抵抗
効果型磁気ヘッドにおいて、 薄膜磁気抵抗効果素子のストライプハイト方向内側に隣
接して、該素子の左右幅方向ほぼ全長にわたる導電体膜
を形成したことを特徴とする磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ド。
7. A magnetoresistive head including a thin film magnetoresistive element and a pair of electrode layers electrically connected to left and right ends of the element, wherein the thin film magnetoresistive element is disposed inside a stripe height direction of the thin film magnetoresistive element. A magnetoresistive magnetic head, wherein a conductive film is formed adjacently over substantially the entire length of the element in the left-right width direction.
【請求項8】 導電体膜は、薄膜磁気抵抗効果素子の左
右方向ほぼ全長にわたって該素子に接合されているとと
もに、そのストライプハイト方向の高さが、左右方向中
央において高く、左右方向端部において低く形成されて
いることを特徴とする請求項6又は7に記載の磁気抵抗
効果型磁気ヘッド。
8. The conductive film is joined to the thin-film magnetoresistive element over substantially the entire length in the left-right direction of the element, and the height in the stripe height direction is high at the center in the left-right direction, and at the end in the left-right direction. 8. The magnetoresistive head according to claim 6, wherein the magnetoresistive head is formed low.
【請求項9】 導電体膜の左右方向中途部に、ストライ
プハイト方向に延びるスリットが形成されていることを
特徴とする請求項6,7又は8に記載の磁気抵抗効果型
磁気ヘッド。
9. The magnetoresistive effect type magnetic head according to claim 6, wherein a slit extending in the stripe height direction is formed in a middle portion of the conductor film in the left-right direction.
【請求項10】 スリットは、左右一対設けられている
ことを特徴とする請求項9に記載の磁気抵抗効果型磁気
ヘッド。
10. The magnetoresistive head according to claim 9, wherein a pair of slits are provided on the left and right.
【請求項11】 各電極層が、薄膜磁気抵抗効果素子の
左右端部並びに導電体膜の左右端部に接続されているこ
とを特徴とする請求項6乃至10のいずれか1項に記載
の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
11. The method according to claim 6, wherein each electrode layer is connected to the left and right ends of the thin-film magnetoresistive element and the left and right ends of the conductor film. Magnetoresistive magnetic head.
JP10359336A 1998-12-17 1998-12-17 Magnetoresistive magnetic head Withdrawn JP2000182222A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10359336A JP2000182222A (en) 1998-12-17 1998-12-17 Magnetoresistive magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10359336A JP2000182222A (en) 1998-12-17 1998-12-17 Magnetoresistive magnetic head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000182222A true JP2000182222A (en) 2000-06-30

Family

ID=18463997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10359336A Withdrawn JP2000182222A (en) 1998-12-17 1998-12-17 Magnetoresistive magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000182222A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6914750B2 (en) * 2001-10-05 2005-07-05 Headway Technologies, Inc. Thermal protrusion reduction in magnet heads by utilizing heat sink layers
US7088560B2 (en) 2002-04-10 2006-08-08 Tdk Corporation Thin film magnetic head including a heat dissipation layer, method of manufacturing the same and magnetic disk drive
US8335057B2 (en) 2008-08-22 2012-12-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. CPP magnetoresistive head

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6914750B2 (en) * 2001-10-05 2005-07-05 Headway Technologies, Inc. Thermal protrusion reduction in magnet heads by utilizing heat sink layers
US7088560B2 (en) 2002-04-10 2006-08-08 Tdk Corporation Thin film magnetic head including a heat dissipation layer, method of manufacturing the same and magnetic disk drive
US7126794B2 (en) 2002-04-10 2006-10-24 Tdk Corporation Thin film magnetic head including heat dissipation, method of manufacturing the same, and magnetic disk drive
US8335057B2 (en) 2008-08-22 2012-12-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. CPP magnetoresistive head

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100331413B1 (en) Magnetoresistive effect type reproducing head and magnetic disk apparatus equipped with the reproducing head
EP0843303A2 (en) Spin-valve GMR sensor with inbound exchange stabilization
US6456466B1 (en) Magnetic head with shield layer having discontinuous multi-layer or mixed layer and magnetic recording apparatus utilizing the magnetic head
KR19980041787A (en) Magnetic tunnel junction device with longitudinal bias
JP2002304711A (en) Shielded magnetic tunnel junction magneto-resistive read head and assembly
US6735059B2 (en) Magnetoresistive effective type element, thin film magnetic head, magnetic head device and magnetic disk driving device which use said magnetoresistive effective type element which includes at least three shielding films
JP2008112496A (en) Magnetresistive reproducing magnetic head, and magnetic recording device using the reproducing magnetic head
KR100278873B1 (en) Magnetoresistive effect element and manufacturing method
US6765769B2 (en) Magnetoresistive-effect thin film, magnetoresistive-effect element, and magnetoresistive-effect magnetic head
JP2004005763A (en) Thin-film magnetic head, its manufacturing method, and magnetic disk drive
JP2007116003A (en) Magnetoresistance effect element and magnetic head, and magnetic recording and reproducing device using the same
JP2001256620A (en) Magnetoresistive sensor and magnetic recording and reproducing device equipped with the same
US6120920A (en) Magneto-resistive effect magnetic head
JP2000182222A (en) Magnetoresistive magnetic head
US7206173B2 (en) Magnetoresistive-effect element having a prominent magnetoresistive effect, and method of manufacturing same
JP2009032337A (en) Thin film magnetic head and magnetic medium drive device
JP4018464B2 (en) Magnetic field sensor and magnetic disk device
JP2000187812A (en) Thin-film magnetic head
JP2000200404A (en) Magneto-resistance effect type thin film magnetic head
JP2861714B2 (en) Magnetoresistive head and magnetic disk drive
JP2008130112A (en) Magnetoresistance effect type reproduction magnetic head and magnetic recording device using the same
JP3756593B2 (en) Magnetoresistive magnetic head
JP2755186B2 (en) Magnetoresistive head
JPH09282613A (en) Magnetoresistance effect magnetic head
JP2001236606A (en) Magnetic head

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060307