JP2000180760A - レーザ走査光学装置 - Google Patents

レーザ走査光学装置

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JP2000180760A
JP2000180760A JP10362798A JP36279898A JP2000180760A JP 2000180760 A JP2000180760 A JP 2000180760A JP 10362798 A JP10362798 A JP 10362798A JP 36279898 A JP36279898 A JP 36279898A JP 2000180760 A JP2000180760 A JP 2000180760A
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JP
Japan
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lens
cylindrical lens
image
laser
correction
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Application number
JP10362798A
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English (en)
Inventor
Naoki Tajima
直樹 田島
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザビームで走査露光を行って画像を形成
する場合に、走査露光面に最も近いレンズの内面反射の
影響で画質が劣化する。本発明はこのレンズの内面反射
による画質の劣化を防止する。 【解決手段】 レーザ走査光学系における走査露光面に
最も近いレンズの曲面の曲率中心を入射光軸から外すよ
うに前記レンズを配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はデジタル複写機や
プリンタ等に利用されているレーザ走査光学装置の改善
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】デジタル複写機やプリンタ等のデジタル
画像形成装置では通常、レーザビームで感光体上を走査
露光し、画像形成を行っている。図1はこのレーザ走査
光学系の1例である。半導体レーザ1から出射したレー
ザビーム2はコリメートレンズ3でコリメートされ、そ
の後スリット4とシリンドリカルレンズ5でビーム形を
整形し、回転多面鏡6で偏向され、等速でレーザビーム
を走査するためfθレンズ7を経て、回転多面鏡6の倒
れ角を補正する補正用シリンドリカルレンズ8で補正
し、場合によってはカバーガラス9を透過し、レーザビ
ームを目的とする走査面上に結像して走査を行ってい
る。
【0003】図2において、補正用シリンドリカルレン
ズ8は走査線上の両端近くでレーザビーム形が歪むのを
補正するため、上から見ると湾曲した形状となっている
が、この補正用シリンドリカルレンズ8の湾曲による内
面の反射によって、入射光側の曲面と出射光側の曲面と
で内面反射を繰り返した後に、透過ビームが結像面10
上の点11に入射するとともに、点12にも入射する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図3に従来のレーザ走
査光学系における補正用シリンドリカルレンズ8aの端
部におけるレーザビーム2の光路の詳細を示す。図3
(a)は上から見たレーザビーム2の光路を示し、図3
(b)は補正用シリンドリカルレンズ8aの断面で見た
レーザビーム2の光路を示している。
【0005】上から見た光路では前記のように、無反射
で透過したレーザビーム2aは結像面10上の点11に
結像するが、一次反射ビーム2bは点12に結像する。
そして、補正用シリンドリカルレンズ8aの断面から見
た図、即ち線D−Dに沿った断面図である図3(b)で
は、補正用シリンドリカルレンズ8aの曲面81aの曲
率半径の中心Qaがレーザビーム2の入射光軸と一致す
る位置に配置されているために、無反射で透過したレー
ザビーム2aと一次反射ビーム2bはともに結像面10
の点13に入射する。なお、点13は図3(a)におけ
る点11、12を補正用シリンドリカルレンズ8aの断
面から見た点である。
【0006】このように、従来のレーザ走査光学系にお
いては、補正用シリンドリカルレンズ8aを無反射で透
過したレーザビーム2aと一次射ビーム2bが結像面1
0の互いに近い点11、12に入射するために、迷光、
特に、一次反射ビームがノイズ光となって、画質を劣化
させる。補正用シリンドリカルレンズ8aに反射防止膜
を形成する等の反射防止処理によっては、前記のノイズ
光が完全には除去できない。
【0007】本発明の目的は、前記のような補正用シリ
ンドリカルレンズ8aの端部における迷光による画質の
劣化を防止して、解像度が高く、鮮明な画像を形成する
ことができるレーザ走査光学装置を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目的はレーザ素
子、ビーム整形手段及び走査ビームを形成する偏向手段
を有するレーザ走査光学装置において、レーザビームの
走査面に最も近いレンズの曲面の曲率中心を入射光軸か
らはずして前記レンズを配置したことを特徴とするレー
ザ走査光学装置、によって達成される。
【0009】
【発明の実施の形態】図4は本発明の実施の形態にかか
るレーザ走査光学装置における補正用シリンドリカルレ
ンズ8bの端部におけるレーザビーム2の光路を拡大し
て示す。本実施の形態にかかるレーザ走査光学装置は図
1に示す光学系を有し、該光学系において図4(b)に
示す補正用シリンドリカルレンズ8bを図1における補
正用シリンドリカルレンズ8に代えて用いたものであ
る。
【0010】図4(a)は補正用シリンドリカルレンズ
8bの端部におけるレーザビーム2の光路を上から見た
図であり、図4(b)は補正用シリンドリカルレンズ8
bの端部におけるレーザビーム2の光路を補正用シリン
ドリカルレンズ8bの断面から見た図、即ち線E−Eに
沿った断面図である。
【0011】本実施の形態において用いられる補正用シ
リンドリカルレンズ8bは図4(a)に示すように平面
図においては、従来の補正用シリンドリカルレンズ8a
と同様な位置に配置されるが、図4(b)に示すように
レンズ断面から見た場合には、レーザビーム2の入射光
軸からはずれた点Qbに補正用シリンドリカルレンズ8
bの曲面81bの曲率半径の中心が位置するように配置
される。なお、無反射で補正用シリンドリカルレンズ8
bを透過するビーム2bは曲面81bによって屈折を受
けるが、無視できる範囲なので、入射ビーム2に対して
直線で表した。
【0012】ここに、入射光軸は、補正用シリンドリカ
ルレンズ8bの後方の光学系、即ちコリメートレンズ
3、シリンドリカルレンズ5、回転多面鏡6及びfθレ
ンズ7で構成される光学系により形成される光軸であ
る。
【0013】以上説明したレーザ走査光学装置の補正用
シリンドリカルレンズ8bでは入射ビーム2がその内面
反射によって露光に与える影響を防止するため図4に示
すように補正用シリンドリカルレンズ8bの出射光側の
曲面81bの曲率中心を入射光軸より少し外れた位置Q
bに設定する。
【0014】補正用シリンドリカルレンズ8bの出射光
側の曲面81bの曲率中心は入射光軸をはずれた点Qb
にあり、入射光であるレーザビーム2が補正用シリンド
リカルレンズ8bに入射すると、補正用シリンドリカル
レンズ8bに入射したレーザビーム2の一部は前記と同
様に補正用シリンドリカルレンズ8bの入射光側の内面
と出射光側の内面とで内面反射を繰り返すが、一次反射
ビーム2bは図4(b)に示すように、無反射で透過し
たビーム2aと異なる方向に出射し、結像面10の結像
位置15に結像する。その結果、無反射で透過したビー
ム2aの結像位置14と一次反射ビーム2bの結像位置
15は離れた位置になり、一次反射ビーム2bはノイズ
光となることはない。特に、結像位置14と15が主走
査方向と直角の方向に離れることによってノイズは効果
的に防止される。このように結像位置14と15が主走
査方向に直角の方向に分離されることによって、一次反
射ビーム2bは結像面10に到達する前に遮光すること
も可能であり、前記した迷光とはならず、実質的にレー
ザビームの主走査に影響しない結果となる。
【0015】また、図1に示すカバーガラス9と補正用
シリンドリカルレンズ8の間でも前記と同様な反射によ
る影響を生ずることがある。そこで、補正用シリンドリ
カルレンズ8を出射するレーザビームの方向に応じてカ
バーガラス9の反射の影響がない最適な入射角となるよ
うカバーガラス9を傾斜して設けることが有効である。
【0016】請求項に記載した本発明の構成要素と前記
の実施の形態の構成部間の対応関係は次のとおりであ
る。
【0017】但し、本発明は前記の実施の形態に限られ
るものではなく、請求項に記載した範囲で変更、変形が
可能である。
【0018】レーザ素子・・・半導体レーザ1 ビーム整形手段・・・コリメートレンズ3、スリット
4、シリンドリカルレンズ5 偏向手段・・・回転多面鏡6、fθレンズ7 走査面に最も近いレンズ・・・補正用シリンドリカルレ
ンズ8 回転多面鏡・・・回転多面鏡6 fθレンズ・・・fθレンズ7
【0019】
【発明の効果】走査面に最も近いレンズの曲面の曲率中
心を入射光軸より外れた位置に設定することによって、
前記レンズの内面反射による迷光やゴースト等の影響を
防止することができ、常に鮮明で解像度の高い画像を形
成することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ走査光学装置の一例を示す図である。
【図2】補正用シリンドリカルレンズの近傍におけるレ
ーザビームの光路を示す図である。
【図3】従来のレーザ走査光学装置の補正用シリンドリ
カルレンズの端部におけるレーザビームの光路を説明す
る図である。
【図4】本発明の実施の形態にかかるレーザ走査光学装
置の補正用シリンドリカルレンズの端部におけるレーザ
ビームの光路を説明する図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ 2 レーザビーム 3 コリメートレンズ 6 回転多面鏡 7 fθレンズ 8、8a、8b 補正用シリンドリカルレンズ 10 結像面 Qa 従来のレーザ走査光学装置における補正用シリン
ドリカルレンズの曲率中心の位置 Qb 実施の形態にかかるレーザ走査光学装置における
補正用シリンドリカルレンズの曲率中心の位置

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ素子、ビーム整形手段及び走査ビ
    ームを形成する偏向手段を有するレーザ走査光学装置に
    おいて、 レーザビームの走査面に最も近いレンズの曲面の曲率中
    心を入射光軸上からはずして前記レンズを配置したこと
    を特徴とするレーザ走査光学装置。
  2. 【請求項2】 前記レンズが補正用シリンドリカルレン
    ズであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ走査
    光学装置。
  3. 【請求項3】 前記偏向手段が回転多面鏡及びfθレン
    ズを有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記
    載のレーザ走査光学装置。
JP10362798A 1998-12-21 1998-12-21 レーザ走査光学装置 Pending JP2000180760A (ja)

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