JP2000177135A - Substrate for ink-jet recording head, ink-jet recording head and production thereof - Google Patents

Substrate for ink-jet recording head, ink-jet recording head and production thereof

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JP2000177135A
JP2000177135A JP28517199A JP28517199A JP2000177135A JP 2000177135 A JP2000177135 A JP 2000177135A JP 28517199 A JP28517199 A JP 28517199A JP 28517199 A JP28517199 A JP 28517199A JP 2000177135 A JP2000177135 A JP 2000177135A
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JP
Japan
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heating resistor
jet recording
electrode wiring
heating
ink jet
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JP28517199A
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Japanese (ja)
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Teruo Ozaki
照夫 尾崎
Muga Mochizuki
無我 望月
Yoshiyuki Imanaka
良行 今仲
Masahiko Ogawa
正彦 小川
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the life and the reliability while achieving a thinner film by providing a heat generating resistor comprising a first heat generating resistor provided on the lower layer of an electrode wiring pattern connected with the heat generating resistor, and a second heat generating resistor provided between a protection film and the electrode wiring pattern. SOLUTION: After providing a heat accumulating layer 12 on an Si substrate 11 by forming an SiO2 film by a thermal oxidation method, a CVD method or the like, a heat generating resistor (TaN layer) 13 as the first layer, and an Al layer 14 as an electrode wiring are formed on the heat accumulating layer 12 by reactive sputtering. A wiring pattern is formed by a photolithography method, and etching is executed for forming a pattern on the cross-sectional structure. The part 20 with the Al partially taken out is provided as a heat generating part. Then, a second heat generating resistor (TaN layer) 15 is formed again. The patterning operation is executed in the same shape as in the first layer heat generating resistor by the photolithography method. An SiN is formed as a protection film 16, and a Ta film 17 is formed thereon.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はインクジェット記録
ヘッド用基板、インクジェット記録ヘッドおよびその製
造方法に関するものである。
The present invention relates to a substrate for an ink jet recording head, an ink jet recording head, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】米国特許第4,723,129号明細書
あるいは米国特許第4,740,796号明細書等に開
示されているインクジェット記録方式は、高速高密度で
高精度、高画質の記録が可能でかつ、カラー化、コンパ
クト化に適しているため近年、特に注目を集めている。
上記インクジェット記録方式において、熱エネルギーを
利用してインクを発泡させて記録媒体に吐出する記録ヘ
ッドにおいては、インクを発泡させるための発熱抵抗体
と電気的接続を行う配線とが同一基板上に作り込まれて
インクジェット記録ヘッド用基板とされ、さらに、その
上にインクを吐出させるためのノズルが形成される構成
が一般的である。そして、このインクジェット記録ヘッ
ド基板は、構造的に小さく、簡便にする観点、もう一方
では投入電気エネルギーの省力化の観点から様々な工夫
がなされている。とりわけ発熱部を構成する配線と接続
させた発熱抵抗体の形状、配置には多くの工夫が見られ
る。そしてもっとも一般的な構成としては、下層に発熱
抵抗体材料、上層をAl電極材料層とする2層構造と
し、発熱部のみ上層のAlを除去する。この事によって
発熱部は抵抗が高くなり電流を流すことによって、イン
クを発泡させるための熱エネルギーが発生する。また、
この発熱部上には、発熱抵抗体および配線を保護するた
めの保護膜が設けられている。そして、この保護膜の構
成が、インクジェットヘッドの性能、例えば消費電力、
及び寿命を決定づける重要なファクターとなっている。
2. Description of the Related Art The ink jet recording system disclosed in U.S. Pat. No. 4,723,129 or U.S. Pat. No. 4,740,796 is a high-speed, high-density, high-precision, high-quality recording. In recent years, it has attracted particular attention because it is suitable for colorization and compactness.
In the above-described ink jet recording system, in a recording head that foams ink by using thermal energy and discharges it to a recording medium, a heating resistor for foaming ink and wiring for making electrical connection are formed on the same substrate. In general, a substrate for an ink jet recording head is inserted into the substrate, and a nozzle for discharging ink is formed thereon. The inkjet recording head substrate is variously devised from the viewpoint of structurally small size and simplicity, and on the other hand, from the viewpoint of saving the input electric energy. In particular, many ideas are found in the shape and arrangement of the heating resistor connected to the wiring constituting the heating section. The most common configuration is a two-layer structure in which the lower layer has a heating resistor material and the upper layer has an Al electrode material layer, and only the heating section removes the upper layer of Al. As a result, the resistance of the heat-generating portion increases, and a current flows, thereby generating thermal energy for foaming the ink. Also,
A protective film for protecting the heat generating resistor and the wiring is provided on the heat generating portion. Then, the configuration of this protective film determines the performance of the inkjet head, for example, power consumption,
And it is an important factor that determines the service life.

【0003】しかしながら、従来の保護膜の構成では、
消費電力を下げることと、膜の信頼性を上げ寿命を伸ば
すことは相反する要求になってしまう。例えば、インク
を発泡させるための消費電力は発熱抵抗体と、インクに
接する面の間の膜の厚さが薄いほど、熱伝導率が大きい
ほど、インク側以外への熱の逃げが減るため少なくてす
む。すなわち、保護膜が薄いほどエネルギー効率がよく
なる。
However, in the structure of the conventional protective film,
Reducing power consumption and increasing film reliability and service life are conflicting requirements. For example, the power consumption for foaming the ink is less because the thickness of the film between the heating resistor and the surface in contact with the ink is thinner, the thermal conductivity is larger, and the escape of heat to a portion other than the ink side is reduced. Help me. That is, the thinner the protective film, the higher the energy efficiency.

【0004】ところが一方、保護膜が薄ければ、保護膜
にピンホールが開いたり、配線の段差部を十分にカバー
することができず、段差部の被覆不足が生じてしまう。
この結果、そこからインクが侵入し、配線の腐食、発熱
抵抗体の腐食を引き起こし、その結果、信頼性の低下、
寿命の低下が発生する。
On the other hand, if the protective film is thin, a pinhole is formed in the protective film, the step portion of the wiring cannot be sufficiently covered, and the step portion is insufficiently covered.
As a result, ink penetrates from there, causing corrosion of wiring and corrosion of the heating resistor, resulting in a decrease in reliability,
The life is shortened.

【0005】ここで、保護膜の膜質は成膜時の温度を高
くすることによって向上させることが出来ることが知ら
れているが、保護膜形成時の温度が例えば400°以上
になると保護膜中にAl配線によるヒロック等の成長が
顕著に見受けられるようになるため、段差部の膜質が良
くなってもヒロックによってAl配線が腐食してしまう
ことになる。したがって、このヒロックによる配線の腐
食を防止するためには少なくとも配線上の保護膜の厚さ
を十分に取る必要があった。
Here, it is known that the film quality of the protective film can be improved by increasing the temperature at the time of film formation. Since the growth of hillocks and the like due to the Al wiring is remarkably observed, the Al wiring is corroded by the hillock even if the film quality of the step portion is improved. Therefore, in order to prevent the wiring from being corroded by the hillocks, it is necessary to at least sufficiently secure the protective film on the wiring.

【0006】また、Al配線と発熱抵抗体の順序を逆に
出来れば、Al配線のヒロックによる問題を回避出来る
ものではあるが、このような構成とした場合、Al配線
の段差部分と発熱抵抗体をコンタクトさせるため、段差
部分における発熱抵抗体の膜質が悪くなり、抵抗値が大
きくバラついて、実用上の問題が生じる。
Further, if the order of the Al wiring and the heating resistor can be reversed, the problem caused by the hillock of the Al wiring can be avoided. , The film quality of the heating resistor in the stepped portion deteriorates, and the resistance value greatly varies, causing a practical problem.

【0007】このような問題に対処したものとして保護
膜の発泡に関する部分のみ、薄くすることで、消費電力
を下げ、かつ、膜の信頼性を上げ寿命を伸ばすことを可
能とした構成が特開平8−112902号公報に開示さ
れている。
To solve such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 9-197572 discloses a configuration in which only the portion related to foaming of the protective film is made thinner, thereby reducing power consumption and increasing the reliability of the film and extending the life. It is disclosed in JP-A-8-112902.

【0008】すなわち、インクに熱を与えるための複数
の発熱抵抗体と該発熱抵抗体に電気的に接続された複数
の配線と該配線より露出した前記発熱抵抗体で形成され
る複数の発熱部とを有する基板を用意する工程と、該基
板の前記発熱抵抗体及び配線上に第1の絶縁保護膜を被
覆する工程と、該第1の絶縁保護膜の前記発熱部上の部
分をウエットエッチングにより除去する工程と、該エッ
チングが施された第1の絶縁保護膜上に第2の絶縁保護
膜を被覆する工程とよりなり、前記第1の絶縁保護膜の
前記発熱部長手方向のエッチング部分は、発熱部端部よ
り前記配線を被覆する第1及び第2の絶縁保護膜の厚さ
の和の1/2以上内側に設けられる構成が開示されてい
る。
That is, a plurality of heating resistors for applying heat to the ink, a plurality of wires electrically connected to the heating resistors, and a plurality of heating portions formed by the heating resistors exposed from the wires. Preparing a substrate having: a step of coating a first insulating protective film on the heating resistor and the wiring of the substrate; and wet-etching a portion of the first insulating protective film on the heating section. And a step of coating a second insulating protective film on the etched first insulating protective film, wherein an etched portion of the first insulating protective film in a longitudinal direction of the heat generating portion is formed. Discloses a configuration in which the first and second insulating protective films for covering the wiring are provided at least 1/2 or more of the sum of the thicknesses of the end portions of the heat generating portion.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ここで、発熱抵抗体は
全面に渡って発熱するが抵抗体の周辺部は熱の逃げが大
きくなることから、周辺部の温度が下がり発泡に寄与し
なくなり、ほぼ発熱抵抗体の周辺から内側に向かって4
μm程度の内側の領域(この領域を有効発泡領域と称
す)のみしか発泡しない事が発泡観察から得られている
が、上述の公報に記載された構成では保護膜の厚い部分
が発熱抵抗体の本来の有効発泡領域にもかかることにな
り、これにより実際の有効発泡領域がより小さくなって
しまうことがあった。この有効発泡領域の減少は、ノズ
ルの配列ピッチがあまり高くないときはそれほど問題と
はならないが、ノズルを高密度に配列するにつれ、電極
の厚みはほとんど変らずに発熱抵抗体の面積が小さくな
っていくため無視できないものとなっていく。
Here, the heat-generating resistor generates heat over the entire surface, but the peripheral portion of the resistor has a large escape of heat, so that the temperature of the peripheral portion decreases and does not contribute to foaming. Almost 4 inward from the periphery of the heating resistor
It has been obtained from the foaming observation that only the inner region of about μm (this region is referred to as the effective foaming region) is obtained from the foaming observation. However, in the configuration described in the above publication, the thick portion of the protective film is formed by the heating resistor. This also affects the original effective foaming area, which may result in a smaller actual effective foaming area. This reduction in the effective foaming area is not so problematic when the arrangement pitch of the nozzles is not so high, but as the nozzles are arranged at a high density, the area of the heating resistor becomes smaller with almost no change in the electrode thickness. It becomes something that cannot be ignored.

【0010】そこで、本発明は、上記した従来のものに
おける課題を解決し、薄膜化に対する寿命と信頼性を向
上させることのできるインクジェット記録ヘッド用基板
を提供することを目的としている。また、本発明は、発
熱抵抗体周辺部の実効的な温度低下に対する対策と、上
記した薄膜化に対する寿命と信頼性の向上との両方を兼
ね備えたインクジェット記録ヘッド用基板を提供するこ
とを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a substrate for an ink jet recording head capable of improving the life and reliability of a thin film. Another object of the present invention is to provide a substrate for an ink jet recording head which has both a measure against an effective temperature drop around the heating resistor and an improvement in the life and reliability for the above-mentioned thinning. I have.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、つぎのように構成したことを特徴とするも
のである。すなわち、本発明のインクジェット記録ヘッ
ド用基板は、基板上に複数の発熱抵抗体と、該発熱抵抗
体と電気的に接続する電極配線パターンとが形成され、
該発熱抵抗体と該電極配線パターンの上にそれらをイン
クから保護するための保護膜が形成されているインクジ
ェット記録ヘッド用基板において、前記発熱抵抗体が、
該発熱抵抗体と接続する前記電極配線パターンの下層に
設けられた第1の発熱抵抗体と、前記保護膜と前記電極
配線パターンとの間に設けられた第2の発熱抵抗体とか
らなることを特徴とする。
Means for Solving the Problems The present invention is characterized by the following constitution in order to achieve the above object. That is, the inkjet recording head substrate of the present invention is formed with a plurality of heating resistors and an electrode wiring pattern electrically connected to the heating resistors on the substrate,
In a substrate for an ink jet recording head, a protective film for protecting the heating resistor and the electrode wiring pattern for protecting them from ink is formed, wherein the heating resistor is
A first heating resistor provided below the electrode wiring pattern connected to the heating resistor, and a second heating resistor provided between the protective film and the electrode wiring pattern. It is characterized by.

【0012】また、本発明のインクジェット記録ヘッド
は、基板上に複数の発熱抵抗体と、該発熱抵抗体と電気
的に接続する電極配線パターンとが形成され、該発熱抵
抗体と該電極配線パターンの上にそれらをインクから保
護するための保護膜が形成されているインクジェット記
録ヘッド用基板と、インクを吐出する吐出口と、該吐出
口に連通する液路と、を有するインクジェット記録ヘッ
ドにおいて、前記発熱抵抗体が、該発熱抵抗体と接続す
る前記電極配線パターンの下層に設けられた第1の発熱
抵抗体と、前記保護膜と前記電極配線パターンとの間に
設けられた第2の発熱抵抗体とからなることを特徴とす
る。
Further, in the ink jet recording head of the present invention, a plurality of heating resistors and an electrode wiring pattern electrically connected to the heating resistors are formed on a substrate, and the heating resistor and the electrode wiring patterns are formed. In the inkjet recording head having an ink jet recording head substrate on which a protective film for protecting them from ink is formed, an ejection port for ejecting ink, and a liquid path communicating with the ejection port, A first heating resistor provided below the electrode wiring pattern connected to the heating resistor, and a second heating resistor provided between the protective film and the electrode wiring pattern. And a resistor.

【0013】また、本発明のインクジェット記録ヘッド
の製造方法は、基板上に複数の発熱抵抗体と、該発熱抵
抗体と電気的に接続する電極配線パターンとが形成さ
れ、該発熱抵抗体と該電極配線パターンの上にそれらを
インクから保護するための保護膜が形成されているイン
クジェット記録ヘッド用基板と、インクを吐出する吐出
口と、該吐出口に連通する液路と、を有するインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法において、前記基板上に第1
の発熱抵抗体を形成する工程と、該第1の発熱抵抗体上
であって発熱抵抗体の発熱部分を除いて該第1の発熱抵
抗体と接続する前記電極配線パターンを形成する工程
と、前記電極配線パターンを第2の発熱抵抗体で被覆す
る工程と、該第2の発熱抵抗体上に前記保護膜を成膜す
る工程と、を有することを特徴とする。
Further, according to the method of manufacturing an ink jet recording head of the present invention, a plurality of heating resistors and an electrode wiring pattern electrically connected to the heating resistors are formed on a substrate. Ink jet recording having a substrate for an ink jet recording head in which a protective film for protecting them from ink is formed on an electrode wiring pattern, an ejection port for ejecting ink, and a liquid path communicating with the ejection port In a method of manufacturing a head, a first
Forming the heat generating resistor, and forming the electrode wiring pattern on the first heat generating resistor and connected to the first heat generating resistor except for a heat generating portion of the heat generating resistor; A step of covering the electrode wiring pattern with a second heating resistor; and a step of forming the protective film on the second heating resistor.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】上記構成によれば、発熱抵抗体に
接続する電極をはさんで上下に発熱抵抗体を配置するよ
うに構成することによって、その上層にある保護膜を薄
くすることができ、省電力化を図ることが可能となる。
また、有効発泡領域に関しても小さくする必要がないた
め、高密度に対応した信頼性の高いインクジェット記録
ヘッドの提供が可能となる。
According to the above-described structure, by forming a heating resistor vertically above and below an electrode connected to the heating resistor, it is possible to reduce the thickness of the protective film on the heating resistor. Power saving can be achieved.
Further, since it is not necessary to reduce the effective foaming area, it is possible to provide a highly reliable ink jet recording head corresponding to high density.

【0015】上記構成によれば、上記したように発熱抵
抗体がそれと接続する電極の上下両面に配置する構成と
することによって、上面の膜は保護膜形成時の電極配線
パターンを形成するAl層のヒロックを抑え込むことが
でき、これにより保護膜の薄化を達成することが可能と
なり、また、電極配線が下面の発熱抵抗体と面で接続
し、安定な抵抗値を確保することができる。また、発熱
部上の保護膜の膜厚が700nmを越えたあたりから、
消費電力の低下の効果があまり見られなくなる。従っ
て、保護膜の膜厚は200〜700nmの範囲で設定さ
れることが好ましい。保護膜の形成に関しては、スパッ
タ法や、CVD法、プラズマCVD法、LP(low‐
pressure)CVD法等によって形成することが
出来、特に成膜温度が700〜800℃と他の製法に比
べ高いLPCVD法で保護膜を形成した場合には、膜質
を非常に優れたものとすることが可能となるため好まし
い。
According to the above configuration, the heating resistor is disposed on the upper and lower surfaces of the electrode connected to the heating resistor as described above, so that the film on the upper surface is an Al layer for forming an electrode wiring pattern when forming the protective film. Hillocks can be suppressed, whereby the thickness of the protective film can be reduced, and the electrode wiring can be connected to the heating resistor on the lower surface in a plane, and a stable resistance value can be secured. Also, when the thickness of the protective film on the heat generating portion exceeds 700 nm,
The effect of lowering the power consumption is not much seen. Therefore, the thickness of the protective film is preferably set in the range of 200 to 700 nm. Regarding the formation of the protective film, sputtering, CVD, plasma CVD, LP (low-
pressure), and particularly when the protective film is formed by an LPCVD method having a film forming temperature of 700 to 800 ° C. which is higher than other manufacturing methods, the film quality is extremely excellent. This is preferable because it becomes possible.

【0016】また、上記構成によれば、上記した上下の
発熱抵抗体のうち、電極配線パターンの下面に配置され
た発熱抵抗体を、発熱抵抗体の発熱部分において分離
し、該電極配線パターンの周辺部のみに配置するように
構成することによって、さらに発熱抵抗体の高抵抗化を
図ることができる。
Further, according to the above configuration, of the upper and lower heating resistors, the heating resistor disposed on the lower surface of the electrode wiring pattern is separated at a heating portion of the heating resistor, and the heating resistor is separated from the heating resistor. By arranging the heating resistor only in the peripheral portion, the resistance of the heating resistor can be further increased.

【0017】また、上記構成によれば、電極配線パター
ンの下面に配置された発熱抵抗体が、発熱抵抗体の発熱
部分における発熱中心部に対応する部分が除去され、そ
の発熱周辺部のみが配置される構成を採ることによっ
て、実効的な温度が低くなる発熱抵抗体周辺部に、多く
の電流を流すことができ、これにより周辺部の温度を上
げて、発泡領域を更に広げることができ、高密度ピッチ
の配列を有利に実現することが可能となる。
Further, according to the above configuration, the heating resistor disposed on the lower surface of the electrode wiring pattern has a portion corresponding to the heating center of the heating portion of the heating resistor removed, and only the heating peripheral portion is disposed. By adopting the configuration described above, a large amount of current can flow in the peripheral portion of the heating resistor where the effective temperature becomes low, thereby increasing the temperature in the peripheral portion and further expanding the foaming region. An arrangement with a high-density pitch can be advantageously realized.

【0018】[0018]

【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する。 [実施例1]図1は本発明の特徴を最も良く表す図面で
あり、図2によって示された発熱抵抗体の平面図をx
−xの一点鎖線によって切断した断面図である。同図
において、11はSi基板、12は蓄熱層としてのSi
膜、13は第一層目の発熱抵抗体層、14は配線パ
ターンとしてのAl層、15は第二層目の発熱抵抗体
層、16は保護膜としてのSiN膜、17はキャビテー
ション破壊から保護膜を守る耐キャビテーション膜とし
てのTaである。
Embodiments of the present invention will be described below. [Embodiment 1] FIG. 1 is a best representative drawings features of the present invention, x 1 is a plan view of a heating resistor, it indicated by Figure 2
It is a sectional view taken along the one-dot chain line in -x 2. In the figure, 11 is a Si substrate, and 12 is Si as a heat storage layer.
O 2 film, the first layer of the heating resistor layer 13, Al layer as a wiring pattern 14, 15 is a heating resistor layer of the second layer, SiN film as a protective film 16, 17 cavitation destruction Ta as a cavitation-resistant film that protects the protective film from being damaged.

【0019】以下、順を追って説明する。本実施例によ
る発熱部の基板の作成はSi基板11を用いる。このS
i基板上に熱酸化法、CVD法、スパッタ法などによっ
てSiO膜を形成する。これが発熱抵抗体下部の蓄熱
層12となる。以下に、工程の手順を図3に示しながら
説明する。先に示した蓄熱層12上に反応性スパッタリ
ングにより、第一層目の発熱抵抗体としてTaN層13
を約50nm、電極配線としてのAl層14をスパッタ
リングにより500nmの厚さで図3−(b)のように
形成する。次にフォトリソ法を用いて配線パターンを形
成し、Alウエットエッチング法とTaNリアクティブ
イオンエッチング法でエッチングを行い、図3−(c)
の断面構造にパターンを形成する。ここでAlを部分的
に抜いた部分、図1、図2、図3−(c)の20が発熱
部となる。次に、再び発熱抵抗体TaNを50nmの厚
さで第2層目の膜として反応スパッタリングによって形
成し、次にフォトリソ法を用いて、第一層目の発熱抵抗
体と同一形状にパターニングを行う。これによって、A
l層が上下両面から完全にはさまれて、熱によるヒロッ
ク等の成長がなくなる。次に、保護膜としてSiNを成
膜温度450℃のCVD法によって500nm形成し、
さらにスパッタリングによってTaを200nm形成
し、最後にフォトリソ法によってTa膜、保護膜SiN
のパターニングを行い、外部電源との接続用のAlパッ
ドを露出させた。このようにして製造したインクジェッ
トヘッド用基板からインクジェットヘッドに組み立てて
性能を確認したが、通常、保護膜1μmに対し、電力は
20%減、そして寿命も1×10パルス/ノズル以上
と保護膜1μmのものと比べて差がなかった。
Hereinafter, description will be made step by step. The substrate of the heat generating portion according to the present embodiment uses the Si substrate 11. This S
An SiO 2 film is formed on the i-substrate by a thermal oxidation method, a CVD method, a sputtering method, or the like. This becomes the heat storage layer 12 below the heating resistor. Hereinafter, the procedure of the process will be described with reference to FIG. The TaN layer 13 is formed on the heat storage layer 12 by reactive sputtering as the first heating resistor.
Is formed to a thickness of about 50 nm and an Al layer 14 as an electrode wiring to a thickness of 500 nm as shown in FIG. Next, a wiring pattern is formed by using a photolithography method, and etching is performed by an Al wet etching method and a TaN reactive ion etching method.
A pattern is formed on the cross-sectional structure of FIG. Here, a portion where Al is partially removed, 20 in FIGS. 1, 2, and 3-(c) is a heat generating portion. Next, the heating resistor TaN is again formed as a second layer film with a thickness of 50 nm by reactive sputtering, and then patterned by photolithography into the same shape as the first layer heating resistor. . This gives A
The l layer is completely sandwiched between the upper and lower surfaces, and growth of hillocks and the like due to heat is eliminated. Next, 500 nm of SiN is formed as a protective film by a CVD method at a film forming temperature of 450 ° C.
Further, Ta is formed to a thickness of 200 nm by sputtering, and finally a Ta film and a protective film SiN are formed by photolithography.
Was patterned to expose an Al pad for connection to an external power supply. The performance was confirmed by assembling the inkjet head substrate manufactured as described above into an inkjet head. Usually, the power is reduced by 20% and the life is 1 × 10 8 pulses / nozzle or more per 1 μm of the protective film. There was no difference as compared with that of 1 μm.

【0020】[実施例2]実施例1においては電極を挟
んで上下に発熱抵抗体層を設けた構成を採ったが、この
ような構成だけであると、発熱抵抗体が2層に重ね合わ
されるために抵抗値が低くなる。そのため、実施例2に
おいては、発熱抵抗体を高抵抗化する方法として、下層
の発熱抵抗体を切断する構成とした。すなわち、図4、
図5の21に示すように下層のパターンをAl電極付近
のみとする。実際にはAl電極からはみ出る発熱抵抗体
幅を4μmとした。この結果上層と下層の発熱抵抗体の
コンタクトが十分とれたため抵抗値のバラツキはおこら
ず発熱抵抗体を高抵抗化することができた。
[Embodiment 2] In the first embodiment, a configuration is adopted in which the heating resistor layers are provided above and below the electrode, but with such a configuration alone, the heating resistors are superposed in two layers. Therefore, the resistance value decreases. Therefore, in the second embodiment, as a method of increasing the resistance of the heating resistor, the lower heating resistor is cut off. That is, FIG.
As shown at 21 in FIG. 5, the pattern of the lower layer is only in the vicinity of the Al electrode. Actually, the width of the heating resistor protruding from the Al electrode was set to 4 μm. As a result, the upper and lower heating resistors were sufficiently in contact with each other, so that the resistance value did not vary and the heating resistor could be increased in resistance.

【0021】[実施例3]実施例2においては下層の発
熱抵抗体をAl電極付近のみとしたが、実施例3とし
て、下層の発熱抵抗体を図7の22のように中心部のみ
除去して周辺部のみ残す構成とした。具体的には上層の
発熱抵抗体パターンより4μm内側の部分の下層発熱抵
抗体をフォトリソ工程とTaNドライエッチングにより
除去した。この結果電極付近では、上層と下層の発熱抵
抗体のコンタクトが十分に取れて抵抗値のバラツキがな
くなった。また、発熱抵抗体の周辺部に、より多くの熱
が発生するため周辺部の温度が上り泡のサイズをさらに
増加させることが可能となった。
[Embodiment 3] In the second embodiment, the lower heating resistor is provided only in the vicinity of the Al electrode. However, as the third embodiment, the lower heating resistor is removed only at the center as shown in FIG. Only the peripheral part is left. Specifically, the lower heating resistor at a portion 4 μm inside the upper heating resistor pattern was removed by a photolithography process and TaN dry etching. As a result, in the vicinity of the electrode, the upper and lower heating resistors were sufficiently in contact with each other, and the resistance value did not vary. Further, since more heat is generated in the peripheral portion of the heating resistor, the temperature of the peripheral portion rises, and the size of the bubble can be further increased.

【0022】(その他の実施例)以下に本発明のインク
ジェット記録ヘッド用基板を適用可能なインクジェット
記録ヘッド及びインクジェット記録装置について説明す
る。図8はこのようなインクジェット記録ヘッドの概略
構成図であり、エッチング、蒸着スパッタリング等の半
導体プロセス工程を経て、基板1102上に成膜形成さ
れた電気熱変換体1103、配線1104、液路壁11
05、天板1106から構成されているインクジェット
ヘッドが示されている。記録用液体1112は図示して
いない液体貯蔵室から液体供給管1107を通してヘッ
ド1101の共通液室1108内に供給される。図中1
109は液体供給管用コネクタである。共通液室110
8内に供給された液体1112はいわゆる毛管現象によ
り液路1110内に供給され、液路先端の吐出口面(オ
リフィス面)でメニスカスを形成することにより安定に
保持される。ここで電気熱変換体1103に通電するこ
とにより、電気熱変換体面上の液体が急峻に加熱され、
液路中に気泡が生起され、その気泡の膨張、収縮により
液路と連通する吐出口1111から液体を吐出し液滴が
形成される。図9は本発明が適用されるインクジェット
記録装置の外観図で、駆動モータ5013の正逆回転に
連動して駆動力伝達ギア5011,5009を介して回
転するリードスクリュー5004の螺旋溝5005に対
して係合するキャリッジHCはピン(不図示)を有し、
矢印方向に往復移動される。5002は紙押え板であ
り、キャリッジ移動方向にわたって紙をプラテン500
0に対して押圧する。5007,5008はフォトカプ
ラでキャリッジのレバー5006のこの域での存在を確
認してモータ5013の回転方向切替等を行うためのホ
ームポジション検知手段である。5016は記録ヘッド
の前面をキャップするキャップ部材5022を支持する
部材で、5015はこのキャップ内を吸引する吸引手段
でキャップ内開口5023を介して記録ヘッドの吸引回
復を行う。5017はクリーニングブレードで、501
9はこのブレードを前後方向に移動可能にする部材であ
り、本体支持板5018にこれらは支持されている。ブ
レードは、この形態でなく周知のクリーニングブレード
が本例に適用できることは言うまでもない。また、50
12は、吸引回復の吸引を開始するためのレバーで、キ
ャリッジと係合するカム5020の移動に伴って移動
し、駆動モータからの駆動力がクラッチ切替等の公知の
伝達手段で移動制御される。これらのキャッピング、ク
リーニング、吸引回復は、キャリッジがホームポジショ
ン側領域にきたときにリードスクリュー5004の作用
によってそれらの対応位置で所望の処理が行えるように
構成されているが、周知のタイミングで所望の作動を行
うようにすれば、本例にはいずれも適用できる。上述に
おける各構成は単独でも複合的に見ても優れた発明であ
り、本発明にとって好ましい構成例を示している。な
お、本装置はインク吐出圧発生素子を駆動するための駆
動信号供給手段を有している。
(Other Embodiments) An ink jet recording head and an ink jet recording apparatus to which the substrate for an ink jet recording head of the present invention can be applied will be described below. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of such an ink jet recording head. An electrothermal converter 1103, a wiring 1104, and a liquid path wall 11 are formed on a substrate 1102 through semiconductor processing steps such as etching and vapor deposition sputtering.
05, an inkjet head composed of a top plate 1106 is shown. The recording liquid 1112 is supplied from a liquid storage chamber (not shown) into a common liquid chamber 1108 of the head 1101 through a liquid supply pipe 1107. 1 in the figure
Reference numeral 109 denotes a liquid supply pipe connector. Common liquid chamber 110
The liquid 1112 supplied to the inside 8 is supplied into the liquid passage 1110 by a so-called capillary phenomenon, and is stably held by forming a meniscus at the discharge port surface (orifice surface) at the front end of the liquid passage. Here, by supplying electricity to the electrothermal converter 1103, the liquid on the electrothermal converter surface is heated rapidly,
Bubbles are generated in the liquid path, and the liquid is discharged from the discharge port 1111 communicating with the liquid path due to expansion and contraction of the bubbles to form droplets. FIG. 9 is an external view of an ink jet recording apparatus to which the present invention is applied. In FIG. 9, a spiral groove 5005 of a lead screw 5004 that rotates via driving force transmission gears 5011 and 5009 in conjunction with forward and reverse rotations of a driving motor 5013 is illustrated. The engaging carriage HC has a pin (not shown),
It is reciprocated in the direction of the arrow. Reference numeral 5002 denotes a paper holding plate which applies paper to the platen 500 in the carriage movement direction.
Press against 0. Reference numerals 5007 and 5008 denote home position detecting means for confirming the presence of a carriage lever 5006 in this region by photocouplers and switching the rotation direction of a motor 5013. Reference numeral 5016 denotes a member that supports a cap member 5022 that caps the front surface of the print head. Reference numeral 5015 denotes suction means that suctions the inside of the cap, and performs suction recovery of the print head through the opening 5023 in the cap. Reference numeral 5017 denotes a cleaning blade.
Reference numeral 9 denotes a member that enables the blade to move in the front-rear direction, and these members are supported by the main body support plate 5018. It goes without saying that the blade is not limited to this form and a known cleaning blade can be applied to this example. Also, 50
Reference numeral 12 denotes a lever for starting suction for suction recovery, which moves with the movement of the cam 5020 engaging with the carriage, and the driving force from the drive motor is controlled by a known transmission means such as clutch switching or the like. . The capping, cleaning, and suction recovery are configured so that desired operations can be performed at the corresponding positions by the action of the lead screw 5004 when the carriage comes to the home position side area. Any operation can be applied to this example as long as the operation is performed. Each of the configurations described above is an excellent invention when viewed alone or in combination, and shows preferred configuration examples for the present invention. The present device has a drive signal supply unit for driving the ink ejection pressure generating element.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
発熱抵抗体に接続する電極をはさんで上下に発熱抵抗体
を配置するように構成することによって、その上層にあ
る保護膜を薄くすることができ、省電力化を図ることが
可能となる。また、本発明によれば、電極配線パターン
の下面に配置された発熱抵抗体を、該発熱抵抗体の発熱
部分において分離し、該電極配線パターン部分の周辺部
のみに配置するように構成することによって、発熱抵抗
体に接続する電極をはさんで上下に発熱抵抗体を配置す
るようにした構成における性能を維持したまま、発熱抵
抗体の高抵抗化を図ることが可能となる。さらに、本発
明によれば、電極配線パターンの下面に配置された発熱
抵抗体が、発熱抵抗体の発熱部分における発熱中心部に
対応する部分が除去され、その発熱周辺部のみが配置さ
れるように構成することによって、発熱抵抗体幅に対
し、発泡サイズを大きくすることができ、高密度ピッチ
の配列を有利に実現することが可能となる。
As described above, according to the present invention,
By arranging the heating resistor vertically above and below the electrode connected to the heating resistor, the protective film on the heating resistor can be made thinner, and power can be saved. Further, according to the present invention, the heat generating resistor disposed on the lower surface of the electrode wiring pattern is separated at a heat generating portion of the heat generating resistor, and is arranged only at a peripheral portion of the electrode wiring pattern portion. Accordingly, it is possible to increase the resistance of the heating resistor while maintaining the performance of the configuration in which the heating resistor is arranged vertically above and below the electrode connected to the heating resistor. Further, according to the present invention, the heating resistor disposed on the lower surface of the electrode wiring pattern is such that a portion corresponding to a heating center portion in a heating portion of the heating resistor is removed, and only the heating peripheral portion is disposed. With this configuration, the foam size can be increased relative to the width of the heating resistor, and an arrangement with a high-density pitch can be advantageously realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1に係る基板平面図2をx
の一点鎖線で切断した断面図である。
FIG. 1 is a plan view of a substrate according to a first embodiment of the present invention, taken as x 1
It is a cross-sectional view taken along one-dot chain line of x 2.

【図2】本発明の実施例1に係る基板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例1に係る基板の製造工程フロー
図である。
FIG. 3 is a flowchart of a manufacturing process of the substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例2に係る基板平面図5をx´
−x´の一点鎖線で切断した断面図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a substrate plan view 5 according to a second embodiment of the present invention as x ′ 1.
-X' is a cross-sectional view taken along one-dot chain line in 2.

【図5】本発明の実施例2に係る基板の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例3に係る基板平面図7をx″
−x″の一点鎖線で切断した断面図である。
FIG. 6 is a plan view of a substrate according to a third embodiment of the present invention, taken as x ″ 1.
It is sectional drawing cut | disconnected by the dashed-dotted line of -x " 2 .

【図7】本発明の実施例3に係る基板の平面図である。FIG. 7 is a plan view of a substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明のインクジェットヘッド用基板を適用可
能なインクジェットヘッドの模式的説明図である。
FIG. 8 is a schematic illustration of an inkjet head to which the inkjet head substrate of the present invention can be applied.

【図9】本発明のインクジェットヘッド用基板を適用可
能なインクジェットヘッドを用いたインクジェット装置
を示す模式的斜視図である。
FIG. 9 is a schematic perspective view showing an inkjet apparatus using an inkjet head to which the substrate for an inkjet head of the present invention can be applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11:Si基板 12:SiO2蓄熱層 13:下層発熱抵抗体 14:Al電極 15:上層発熱抵抗体 16:保護膜SiN 17:耐キャビテーション膜Ta 20:発熱部 21:下層発熱抵抗体端部 22:下層発熱抵抗体端部 11: Si substrate 12: SiO2 heat storage layer 13: lower layer heating resistor 14: Al electrode 15: upper layer heating resistor 16: protective film SiN 17: anti-cavitation film Ta 20: heating section 21: lower layer heating resistor end 22: Lower heating resistor end

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今仲 良行 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 小川 正彦 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yoshiyuki Imanaka 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Masahiko Ogawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside the corporation

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に複数の発熱抵抗体と、該発熱抵抗
体と電気的に接続する電極配線パターンとが形成され、
該発熱抵抗体と該電極配線パターンの上にそれらをイン
クから保護するための保護膜が形成されているインクジ
ェット記録ヘッド用基板において、 前記発熱抵抗体が、該発熱抵抗体と接続する前記電極配
線パターンの下層に設けられた第1の発熱抵抗体と、前
記保護膜と前記電極配線パターンとの間に設けられた第
2の発熱抵抗体とからなることを特徴とするインクジェ
ット記録ヘッド用基板。
A plurality of heating resistors and an electrode wiring pattern electrically connected to the heating resistors are formed on a substrate;
An ink jet recording head substrate, wherein a protective film for protecting them from ink is formed on the heating resistor and the electrode wiring pattern, wherein the heating resistor is connected to the heating resistor. A substrate for an ink jet recording head, comprising: a first heating resistor provided below a pattern; and a second heating resistor provided between the protective film and the electrode wiring pattern.
【請求項2】前記電極配線はAlからなることを特徴と
する請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド用基
板。
2. The substrate according to claim 1, wherein said electrode wiring is made of Al.
【請求項3】前記保護膜の厚みが200〜700nmで
あることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット
記録ヘッド用基板。
3. The substrate for an ink jet recording head according to claim 1, wherein said protective film has a thickness of 200 to 700 nm.
【請求項4】前記第1の発熱抵抗体は、発熱抵抗体の発
熱部分において分離され、該電極配線パターンの周辺部
のみに配置されていることを特徴とする請求項1に記載
のインクジェット記録ヘッド用基板。
4. The ink jet recording apparatus according to claim 1, wherein the first heating resistor is separated at a heating portion of the heating resistor and is disposed only at a peripheral portion of the electrode wiring pattern. Substrate for head.
【請求項5】前記第1の発熱抵抗体は、発熱抵抗体の発
熱部分における発熱中心部に対応する部分が除去され、
その発熱周辺部のみが配置されていることを特徴とする
請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
5. A heat generating portion of said first heat generating resistor, a portion corresponding to a heat generating central portion of a heat generating portion is removed,
2. The substrate for an ink jet recording head according to claim 1, wherein only the heat-generating peripheral portion is arranged.
【請求項6】基板上に複数の発熱抵抗体と、該発熱抵抗
体と電気的に接続する電極配線パターンとが形成され、
該発熱抵抗体と該電極配線パターンの上にそれらをイン
クから保護するための保護膜が形成されているインクジ
ェット記録ヘッド用基板と、インクを吐出する吐出口
と、該吐出口に連通する液路と、を有するインクジェッ
ト記録ヘッドにおいて、 前記発熱抵抗体が、該発熱抵抗体と接続する前記電極配
線パターンの下層に設けられた第1の発熱抵抗体と、前
記保護膜と前記電極配線パターンとの間に設けられた第
2の発熱抵抗体とからなることを特徴とするインクジェ
ット記録ヘッド。
6. A plurality of heating resistors and an electrode wiring pattern electrically connected to the heating resistors are formed on a substrate,
A substrate for an ink jet recording head, on which a protective film for protecting the heating resistor and the electrode wiring pattern for protecting them from ink is formed, a discharge port for discharging ink, and a liquid path communicating with the discharge port Wherein the heating resistor comprises a first heating resistor provided below the electrode wiring pattern connected to the heating resistor, the protection film and the electrode wiring pattern. An ink jet recording head comprising: a second heat generating resistor provided therebetween.
【請求項7】前記電極配線はAlからなることを特徴と
する請求項6に記載のインクジェット記録ヘッド。
7. The ink jet recording head according to claim 6, wherein said electrode wiring is made of Al.
【請求項8】前記保護膜の厚みが200〜700nmで
あることを特徴とする請求項6に記載のインクジェット
記録ヘッド。
8. The ink jet recording head according to claim 6, wherein said protective film has a thickness of 200 to 700 nm.
【請求項9】前記第1の発熱抵抗体は、発熱抵抗体の発
熱部分において分離され、該電極配線パターンの周辺部
のみに配置されていることを特徴とする請求項6に記載
のインクジェット記録ヘッド。
9. The ink jet recording apparatus according to claim 6, wherein the first heating resistor is separated at a heating portion of the heating resistor and is arranged only in a peripheral portion of the electrode wiring pattern. head.
【請求項10】前記第1の発熱抵抗体は、発熱抵抗体の
発熱部分における発熱中心部に対応する部分が除去さ
れ、その発熱周辺部のみが配置されていることを特徴と
する請求項6に記載のインクジェット記録ヘッド。
10. The first heating resistor according to claim 6, wherein a portion corresponding to a heat-generating central portion of a heat-generating portion of the heat-generating resistor is removed, and only a heat-generating peripheral portion is disposed. 3. The ink jet recording head according to item 1.
【請求項11】基板上に複数の発熱抵抗体と、該発熱抵
抗体と電気的に接続する電極配線パターンとが形成さ
れ、該発熱抵抗体と該電極配線パターンの上にそれらを
インクから保護するための保護膜が形成されているイン
クジェット記録ヘッド用基板と、インクを吐出する吐出
口と、該吐出口に連通する液路と、を有するインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法において、 前記基板上に第1の発熱抵抗体を形成する工程と、 該第1の発熱抵抗体上であって発熱抵抗体の発熱部分を
除いて該第1の発熱抵抗体と接続する前記電極配線パタ
ーンを形成する工程と、 前記電極配線パターンを第2の発熱抵抗体で被覆する工
程と、 該第2の発熱抵抗体上に前記保護膜を成膜する工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの
製造方法。
11. A plurality of heating resistors and an electrode wiring pattern electrically connected to the heating resistors are formed on a substrate, and these are protected from ink on the heating resistors and the electrode wiring patterns. A method for manufacturing an ink jet recording head, comprising: a substrate for an ink jet recording head on which a protective film is formed; an ejection port for ejecting ink; and a liquid path communicating with the ejection port. Forming a first heating resistor, and forming the electrode wiring pattern on the first heating resistor except for a heating portion of the heating resistor and connected to the first heating resistor. Covering the electrode wiring pattern with a second heating resistor; forming the protective film on the second heating resistor;
A method for manufacturing an ink jet recording head, comprising:
【請求項12】前記保護膜の成膜工程における成膜温度
は400℃以上であることを特徴とする請求項11に記
載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
12. The method according to claim 11, wherein a film forming temperature in the step of forming the protective film is 400 ° C. or higher.
【請求項13】前記保護膜の成膜はLPCVDにより行
われることを特徴とする請求項11に記載のインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。
13. The method according to claim 11, wherein the protection film is formed by LPCVD.
【請求項14】前記電極配線はAlからなることを特徴
とする請求項11に記載のインクジェット記録ヘッドの
製造方法。
14. The method according to claim 11, wherein said electrode wiring is made of Al.
【請求項15】前記保護膜の厚みが200〜700nm
であることを特徴とする請求項11に記載のインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。
15. The protective film has a thickness of 200 to 700 nm.
The method of manufacturing an ink jet recording head according to claim 11, wherein:
【請求項16】前記第1の発熱抵抗体は、発熱抵抗体の
発熱部分において分離され、該電極配線パターンの周辺
部のみに配置されていることを特徴とする請求項11に
記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
16. The ink jet recording apparatus according to claim 11, wherein the first heating resistor is separated at a heating portion of the heating resistor and is arranged only in a peripheral portion of the electrode wiring pattern. Head manufacturing method.
【請求項17】前記第1の発熱抵抗体は、発熱抵抗体の
発熱部分における発熱中心部に対応する部分が除去さ
れ、その発熱周辺部のみが配置されていることを特徴と
する請求項11に記載のインクジェット記録ヘッドの製
造方法。
17. The first heat generating resistor according to claim 11, wherein a portion corresponding to a heat generating central portion in a heat generating portion of the heat generating resistor is removed, and only a heat generating peripheral portion is disposed. 3. The method for manufacturing an ink jet recording head according to item 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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