JP2000162802A - Electrophotographic device - Google Patents

Electrophotographic device

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JP2000162802A
JP2000162802A JP33794298A JP33794298A JP2000162802A JP 2000162802 A JP2000162802 A JP 2000162802A JP 33794298 A JP33794298 A JP 33794298A JP 33794298 A JP33794298 A JP 33794298A JP 2000162802 A JP2000162802 A JP 2000162802A
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JP
Japan
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light receiving
receiving member
electrophotographic apparatus
surface layer
roller
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JP33794298A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigenori Ueda
重教 植田
Junichiro Hashizume
淳一郎 橋爪
Tatsuji Okamura
竜次 岡村
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an electrophotographic device capable of preventing cleaning defects and developer fusion or the uneven scraping of the surface layer and image flowing under any environment conditions. SOLUTION: This electrophotographic device has a means of rubbing the surface of a photoreceptive member 401 in an electrophotographic process to scrape and clean a developer of 5-8 μm average particle diameter with an elastic rubber blade 421 having 10-50% impact resilience. The surface layer of the photoreceptive member 401 used in the device is an amorphous fluorocarbon film, which ensures 0.1-100 Å abrasion loss after copying 10,000 sheets of A4 size transfer paper and has 10-500 kgf/mm2 dynamic hardness and 5-50 at.% fluorine atom content.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真装置に関
し、さらに詳しくは、改良されたクリーニング手段およ
び光受容部材を備えた電子写真装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic apparatus, and more particularly, to an electrophotographic apparatus having an improved cleaning means and a light receiving member.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子写真法としては、米国特許第
2297692号明細書、特公昭42−23910号公
報及び特公昭43−24748号公報に記載されている
ように、多数の方法が知られている。一般には光受容部
材を利用し、種々の手段により光受容部材上に電気的潜
像を形成し、次いでこの潜像を現像剤を用いて現像し、
必要に応じて選ばれた紙等の転写材に現像剤画像を電気
に転写した後に、加熱、加圧、加熱加圧あるいは、溶剤
蒸気等により定着し複写物を得るものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, many electrophotographic methods have been known as described in U.S. Pat. No. 2,297,692, Japanese Patent Publication No. 42-23910 and Japanese Patent Publication No. 43-24748. ing. Generally, using a light receiving member, an electric latent image is formed on the light receiving member by various means, and then the latent image is developed using a developer,
After transferring the developer image to a transfer material such as paper selected as necessary, the developer is fixed by heating, pressurizing, heating and pressurizing, solvent vapor or the like to obtain a copy.

【0003】上記工程において、転写材ヘ現像剤画像を
転写した後でも光受容部材表面には残留現像剤が残るた
め、これを除去する手段としてクリーニングブレードを
当接し、この未転写現像剤を系外に排出してぃた。
In the above process, a residual developer remains on the surface of the light receiving member even after the transfer of the developer image to the transfer material. Therefore, a cleaning blade is brought into contact with the residual developer to remove the residual developer. Drained outside.

【0004】電子写真感光体に用いる光受容部材の素材
としては、セレン、硫化カドミニウム、酸化亜鉛、アモ
ルファスシリコン(以下a−Siと記す)等の無機材
料、あるいは有機材料等、各種の材料が提案されてい
る。これらのうちでもa−Siに代表される珪素原子を
主成分として含む非単結晶質堆積膜、例えば水素及び/
又はハロゲン(例えばフッ素、塩素等)を含む(例えば
水素またはダングリングボンドを補償する)a−Si等
のアモルファス堆積膜は高性能、高耐久、無公害な感光
体として提案され、その幾つかは実用化されている。特
開昭54−86341号公報、USP4.265.99
1号には、光導電層を主としてa−Siで形成した電子
写真感光体の技術が開示されている。また特開昭60−
12554号公報には珪素原子を含有する非晶質シリコ
ンからなる光導電層の表面に炭素及びハロゲン原子を含
む表面層が開示されており、さらに特開平2−1119
62号公報には、a−Si:H又は、a−CH:感光層上
に表面保護潤滑層を設けた感光体が開示されているが、
いずれも撥水性や耐摩耗性を向上させる技術であり、電
子写真プロセスと表面層の削れ性との関係に関する記載
はない。
Various materials such as inorganic materials such as selenium, cadmium sulfide, zinc oxide, amorphous silicon (hereinafter referred to as a-Si), and organic materials have been proposed as materials for the light receiving member used in the electrophotographic photosensitive member. Have been. Among these, non-single-crystal deposited films containing silicon atoms typified by a-Si as main components, for example, hydrogen and / or
Amorphous films such as a-Si containing halogen (eg, fluorine, chlorine, etc.) (eg, compensating for hydrogen or dangling bonds) have been proposed as high performance, highly durable, pollution-free photoreceptors, some of which have been proposed. Has been put to practical use. JP-A-54-86341, USP 4.265.99
No. 1 discloses a technique of an electrophotographic photosensitive member in which a photoconductive layer is mainly formed of a-Si. Japanese Patent Laid-Open No. 60-
No. 12554 discloses a surface layer containing carbon and halogen atoms on the surface of a photoconductive layer made of amorphous silicon containing silicon atoms.
No. 62 discloses a photoreceptor in which a surface protective lubricating layer is provided on a-Si: H or a-CH: photosensitive layer.
Both are techniques for improving water repellency and abrasion resistance, and there is no description about the relationship between the electrophotographic process and the shaving property of the surface layer.

【0005】a−Siに代表されるa−Si系感光体
は、半導体レーザー(700nm〜800nm)等の長
波長光に高い感度を示し、しかも繰り返し使用による劣
化もほとんど認められない等の優れた点を有するので、
例えば高速複写機やLBP(レーザービームプリンタ
ー)等の電子写真用感光体として広く使用されている。
An a-Si photosensitive member represented by a-Si exhibits excellent sensitivity to long-wavelength light such as a semiconductor laser (700 nm to 800 nm), and exhibits little deterioration due to repeated use. Because it has a point,
For example, it is widely used as a photoconductor for electrophotography such as a high-speed copying machine and an LBP (laser beam printer).

【0006】シリコン系非単結晶堆積膜の形成法として
は、スパッタリング法、熱により原料ガスを分解する方
法(熱CVD法)、光により原料ガスを分解する方法
(光CVD法)、プラズマにより原料ガスを分解する方
法(プラズマCVD法)等、多数の方法が知られてい
る。中でもプラズマCVD法、すなわち原料ガスを直流
又は高周波(RF,VHF)又は、マイクロ波を利用し
て発生させたグロー放電等によって分解し、ガラス、石
英、耐熱性合成樹脂フィルム、ステンレス、アルミニュ
ウム等の所望の基体上に堆積膜を形成する方法は、電子
写真用アモルファスシリコン堆積膜の形成方法等にとど
まらず、他の用途の堆積膜の形成方法を含め、現在実用
化が非常に進んでおり、そのための装置も各種提案され
ている。
As a method of forming a silicon-based non-single-crystal deposited film, there are a sputtering method, a method of decomposing a source gas by heat (thermal CVD method), a method of decomposing a source gas by light (photo CVD method), and a method of decomposing a source gas by plasma. Many methods are known, such as a method of decomposing gas (plasma CVD method). Above all, the plasma CVD method, that is, the raw material gas is decomposed by direct current or high frequency (RF, VHF) or glow discharge generated by using microwaves, and is made of glass, quartz, heat-resistant synthetic resin film, stainless steel, aluminum, etc. The method of forming a deposited film on a desired substrate is not limited to the method of forming an amorphous silicon deposited film for electrophotography and the like, and the method of forming a deposited film for other uses is currently in very practical use. Various devices have been proposed for this purpose.

【0007】光受容部材としては、高速に対応した電子
写真特性の向上が要求されると共に、より精細な画質を
要求される昨今においては、感光体特性の改善はもとよ
り、現像剤の小粒径化が進められ、コールターカウンタ
ーによる重量平均粒径が5〜8μmであるものが多く使
われている。
As the light receiving member is required to have improved electrophotographic characteristics corresponding to high speed and to require finer image quality, recently, not only the characteristics of the photosensitive member but also the small particle size of the developer have been improved. The use of those having a weight average particle size of 5 to 8 μm as measured by a Coulter counter is often used.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】a−Si系光受容部材
を含め、従来の各種光受容部材の帯電及び除電手段とし
ては、ほとんどの場合ワイヤー電極(金メッキを施した
50〜100μmφのタングステン線等の金属線)とシ
ールド板を主構成部材とするコロナ帯電器(コロトロ
ン、スコロトロン)が利用されている。すなわちこのコ
ロナ帯電器のワイヤー電極に高電圧(4〜8kv程度)
を印加することにより発生するコロナ電流を光受容部材
に作用させこの光受容部材の帯電及び除電を行うもので
あり、このコロナ帯電器は均一な帯電及び除電に優れて
いる。
As a means for charging and discharging various conventional light receiving members including an a-Si based light receiving member, a wire electrode (such as a gold-plated tungsten wire of 50 to 100 μmφ, etc.) is used in most cases. Corona chargers (corotrons, scorotrons) mainly including a metal wire and a shield plate are used. That is, a high voltage (about 4 to 8 kv) is applied to the wire electrode of this corona charger.
Is applied to the photoreceptor member to cause charging and discharging of the photoreceptor member, and the corona charger is excellent in uniform charging and discharging.

【0009】しかしコロナ放電に伴い、かなり大量のオ
ゾン(O3)が発生する。このオゾンは、空気中の窒素
を酸化して窒素酸化物(NOx)を生成する。さらに、
この窒素酸化物は空気中の水分と反応して硝酸等を生じ
る。
However, a considerable amount of ozone (O 3 ) is generated by corona discharge. This ozone oxidizes nitrogen in the air to produce nitrogen oxides (NOx). further,
This nitrogen oxide reacts with moisture in the air to produce nitric acid and the like.

【0010】窒素酸化物及び硝酸等のコロナ放電生成物
は光受容部材表面や、周辺の機器に付着し、堆積する。
コロナ放電生成物は吸湿性が強いため、光受容部材表面
に堆積すると、コロナ放電生成物の吸湿による低抵抗化
で、実質的に光受容部材の電荷保持能力が全面的、ある
いは部分面的に低下して、画像流れ(光受容部材表面の
電荷が面方向にリ−クして静電荷潜像パターンが崩れ
る、あるいは形成されない状態)と称される画像欠陥を
生じる場合がある。
[0010] Corona discharge products such as nitrogen oxides and nitric acid adhere to and accumulate on the surface of the light receiving member and peripheral equipment.
Since the corona discharge product has a strong hygroscopic property, when it is deposited on the surface of the light receiving member, the resistance of the corona discharge product due to moisture absorption is reduced, and the charge holding ability of the light receiving member is substantially or partially improved. As a result, an image defect called image deletion (a state in which the charge on the surface of the photoreceptor leaks in the surface direction and the electrostatic latent image pattern is broken or not formed) may occur.

【0011】又、コロナ帯電器のシールド板内面に付着
したコロナ放電生成物は電子写真装置の稼働中のみなら
ず、夜間等の装置の休止中に揮発遊離し、この帯電器の
放電開口部に対応した光受容部材表面に付着し吸湿する
ことによって、この光受容部材表面を低抵抗化させる。
Further, the corona discharge products adhering to the inner surface of the shield plate of the corona charger are volatilized and released not only during the operation of the electrophotographic apparatus but also during the stoppage of the apparatus at night or the like. By adhering to the surface of the corresponding light receiving member and absorbing moisture, the surface of the light receiving member is reduced in resistance.

【0012】その結果、電子写真装置の再稼動時の最初
に出力される一枚目あるいはそれに続く数枚の出力画像
には、帯電器開口部に対応する領域に、画像流れが発生
し易い。又a−Si系光受容部材は他の光受容部材より
も表面硬度が極めて高いため通常のクリーニング工程で
は、光受容部材表面に付着したコロナ放電生成物が除去
されずに光受容部材表面に残留し易い傾向にある。
As a result, in the first or several subsequent output images output first when the electrophotographic apparatus is restarted, image deletion is likely to occur in the area corresponding to the opening of the charger. Further, since the surface hardness of the a-Si light receiving member is much higher than that of other light receiving members, the corona discharge product adhered to the surface of the light receiving member is not removed in the ordinary cleaning step and remains on the surface of the light receiving member. It tends to be easy.

【0013】そこで従来は、光受容部材を直接加温する
ためのヒーターを設けたり、温風送風装置により温風を
光受容部材に送風して光受容部材表面を加温(30〜5
0℃)して乾燥状態を維持することにより、光受容部材
表面に付着しているコロナ放電生成物が吸湿して光受容
部材表面を実質的に低抵抗化することを防止し、画像流
れ現象を防止する処置が取られている。特に、a−Si
系光受容部材の場合は、この加温乾燥手段は不可欠なも
のとして電子写真装置に組み込まれている。
Therefore, conventionally, a heater for directly heating the light receiving member is provided, or warm air is blown to the light receiving member by a hot air blowing device to heat the light receiving member surface (30 to 5).
0 ° C.) to maintain a dry state, thereby preventing the corona discharge products adhering to the surface of the light receiving member from absorbing moisture and substantially reducing the resistance of the surface of the light receiving member, and causing an image deletion phenomenon. Measures have been taken to prevent In particular, a-Si
In the case of a system light receiving member, the heating and drying means is incorporated in an electrophotographic apparatus as indispensable.

【0014】従来より、このような電子写真装置は、可
動マグネット等を内臓した回転円筒状現像剤担持体を備
えており、この担持体上に現像剤すなわちトナーあるい
はトナーとキャリアーとの混合物の薄層を形成した後、
これらを静電潜像を形成した光受容部材上に静電的に転
移させる方式が広く用いられている。特開昭54−43
037、特開昭58−144865、特開昭60−74
51等にはこれらの方式が開示されており、現像剤とし
ては磁性粒子を含むもの、すなわちトナーとキャリアー
の混合物、あるいはトナー中にマグネタイトを含有しキ
ャリアーを含まぬもの等が開示されている。
Conventionally, such an electrophotographic apparatus is provided with a rotating cylindrical developer carrier having a movable magnet and the like built therein, and a developer, that is, a toner or a mixture of a toner and a carrier is thinned on the carrier. After forming the layer,
A system in which these are electrostatically transferred onto a light receiving member on which an electrostatic latent image is formed is widely used. JP-A-54-43
037, JP-A-58-144865, JP-A-60-74
51 and the like disclose these methods, and as a developer, a developer containing magnetic particles, that is, a mixture of a toner and a carrier, or a developer containing magnetite in a toner and containing no carrier is disclosed.

【0015】このような現像方式の欠点は、電子写真装
置の休止中に回転円筒状現像剤担持体の光受容部材対向
部が光受容部材の熱によって膨張し、現像剤現像部にお
ける回転円筒状現像剤担持体と光受容部材との距離が短
くなる。
A drawback of such a developing method is that the portion of the rotating cylindrical developer carrier facing the light receiving member expands due to the heat of the light receiving member while the electrophotographic apparatus is at rest, and the rotating cylindrical developer carrier in the developer developing portion is not heated. The distance between the developer carrier and the light receiving member is reduced.

【0016】このため、電界が強くなり現像剤が通常よ
りも転移し易くなる。又、この部位の反対面部位は、そ
の影響で距離が長くなるため電界が小さくなり現像剤が
転移し難くなる。この結果、回転円筒状現像剤担持体の
回転周期で部分的な画像濃度ムラ等の問題が発生する場
合があるため、光受容部材を加温しなくても画像流れが
発生しない電子写真装置が求められていた。
As a result, the electric field becomes stronger and the developer is more easily transferred than usual. In addition, the area on the opposite side of this area becomes longer due to the influence of the influence, so that the electric field becomes smaller and the transfer of the developer becomes difficult. As a result, a problem such as partial image density unevenness may occur in the rotation cycle of the rotating cylindrical developer carrier, so that there is an electrophotographic apparatus in which image flow does not occur without heating the light receiving member. Was sought.

【0017】また光受容部材表面を摺擦する手段を設け
積極的にオゾン生成物を除去する方法として、導電性ゴ
ムローラーに電圧を印加し光受容部材表面に当接させた
ローラー帯電、または転写等を用いて、オゾン量を低減
すると共に摺擦を行う方法、あるいはクリーニング工程
において弾性ゴムローラーまたはマグネットローラーを
クリーナーに設け残留現像剤(以下、残留トナーと記
す)を回収すると共に光受容部材表面を摺擦する方法等
が用いられる。
As a method of positively removing ozone products by providing means for rubbing the surface of the light receiving member, a roller is charged or transferred by applying a voltage to the conductive rubber roller and contacting the surface of the light receiving member. A method of reducing the amount of ozone and performing rubbing, or by providing an elastic rubber roller or a magnet roller in a cleaner in a cleaning step to collect a residual developer (hereinafter, referred to as a residual toner) and a surface of the light receiving member. Is used.

【0018】しかし、帯電、露光、現像、転写、分離、
クリーニングの各工程を順次繰り返す電子写真装置にお
いては、繰り返し摺擦されることによってこの光受容部
材表面の表面性が変化し、摩擦抵抗が徐々に上昇する場
合がある。光受容部材表面の摩擦抵抗が上昇すると、ク
リーニングブレードの劣化を促進し、残留トナーのクリ
ーニング性が低下してクリーニング不良が発生する。
However, charging, exposure, development, transfer, separation,
In an electrophotographic apparatus in which each step of cleaning is sequentially repeated, the surface properties of the light receiving member surface may be changed by repeated rubbing, and the frictional resistance may gradually increase. When the frictional resistance on the surface of the light receiving member is increased, the deterioration of the cleaning blade is promoted, and the cleaning property of the residual toner is reduced, resulting in poor cleaning.

【0019】又、光受容部材表面の摩擦抵抗が上昇する
と、ローラー帯電、ローラー転写、クリーニングローラ
ー等に用いた弾性ゴムローラーの劣化が促進される場合
があり、帯電不良、転写不良や、クリ−ニング不良が発
生する場合がある。
When the frictional resistance of the surface of the light receiving member increases, the deterioration of the elastic rubber roller used for roller charging, roller transfer, cleaning roller, and the like may be accelerated, resulting in poor charging, poor transfer and clearing. Failure may occur.

【0020】さらに、光受容部材表面を摺擦する弾性ゴ
ムローラー劣化すると、摺擦力に差が生じ光受容部材表
面に削れムラ生ずる場合ある。このような削れムラが発
生した場合、電子写真特性として感度ムラとなり画像に
濃度ムラが発生する。
Further, when the elastic rubber roller that rubs the surface of the light receiving member deteriorates, a difference occurs in the rubbing force, which may cause uneven shaving on the surface of the light receiving member. When such shaving unevenness occurs, sensitivity unevenness occurs as an electrophotographic characteristic, and density unevenness occurs in an image.

【0021】特に、この現象ま現像剤の粒径が小さいほ
ど顕著である。しかし、近年では画像特性の高画質化が
要求されているのが現状であり、このような状況下にお
いて現像剤の小粒径化が進んでいる。
In particular, this phenomenon becomes more remarkable as the particle size of the developer becomes smaller. However, in recent years, high image quality of image characteristics has been demanded, and under such circumstances, the particle size of the developer has been reduced.

【0022】又、光受容部材表面の摩擦抵抗が高いと光
受容部材とクリーニングブレード間で摩擦熱で温度が上
昇し、熱定着に用いられる残留現像剤は、この摩擦熱に
よって光受容部材の表面に強固に付着する融着現象が発
生する場合がある。特にこの融着現象は、現像材の小粒
径化に比例して顕著であり初期の段階では画像には影響
しない程度の微小な物であるが、繰り返しの使用で微小
な融着が核となり徐々に成長し画像に黒スジ状の画像欠
陥となる。
If the frictional resistance of the surface of the light receiving member is high, the temperature rises due to frictional heat between the light receiving member and the cleaning blade, and the residual developer used for heat fixing causes the surface of the light receiving member to be heated by the frictional heat. May be caused to adhere firmly to the surface. In particular, this fusion phenomenon is remarkable in proportion to the reduction in the particle size of the developer, and is a minute substance that does not affect the image in the initial stage, but the fine fusion becomes a nucleus by repeated use. The image gradually grows and becomes an image defect in the form of a black stripe on the image.

【0023】このようなムラ削れや、融着等の対策とし
てマグネットローラーあるいは、ウレタンゴムやシリコ
ンゴム等のクリーニングローラーを設け、クリーニング
ブレードに達するトナーを均一に分散し、ブレード面の
トナーの滞留ムラを緩和する手段を設る場合があるが上
記マグネットローラーは弾性ゴムローラーに比ベ摺擦力
が若干劣るため、光受容部材の表面性や電子写真プロセ
スあるいは、使用環境等の条件によっては部分的に画像
流れ及び融着が除去できずに摺擦の効果が十分に発揮さ
れない場合がある。
A magnet roller or a cleaning roller made of urethane rubber or silicone rubber is provided as a countermeasure against such uneven shaving and fusion, so that the toner reaching the cleaning blade is uniformly dispersed, and the toner retention unevenness on the blade surface. In some cases, the magnet roller is slightly inferior to the elastic rubber roller in rubbing force. Therefore, depending on conditions such as the surface properties of the light receiving member, the electrophotographic process, or the use environment, the magnet roller may be partially provided. In some cases, the effect of rubbing may not be sufficiently exerted because image flow and fusion cannot be removed.

【0024】近年複写機やプリンターのパーソナルユー
ス化に伴い小型化、低コスト、メンテナンスフリーが重
要な課題であり、省エネルギー、エコロジーといった観
点からも、光受容部材を直接あるいは間接的に加温する
手段を設けない設計が望ましい。
In recent years, miniaturization, low cost, and maintenance-free are important issues with the personal use of copiers and printers. Means for directly or indirectly heating the light receiving member from the viewpoint of energy saving and ecology. It is desirable that the design is not provided.

【0025】このような状況下において、加温手段を設
けずに画像流れが発生しなぃ光受容部材、及びいかなる
電子写真プロセス条件においてもムラ削れが発生せず、
濃度ムラや融着のない高画質を安定して長期問供給する
ことが可能な電子写真装置が求められてる。
Under these circumstances, no image deletion occurs without the provision of a heating means. The light receiving member does not suffer from uneven shaving under any electrophotographic process conditions.
There is a demand for an electrophotographic apparatus capable of stably supplying high quality images without density unevenness and fusion for a long period of time.

【0026】本発明は、上記問題点を解決するためなさ
れたものであり、その目的とするところは、帯電、露
光、現像、転写、分離、クリ−ニングの各工程を順次繰
り返し摺擦ローラーによる光受容部材表面の摺擦を行う
電子写真装置において繰り返しの使用においても摩擦抵
抗の上昇がなく、摩擦ローラーの劣化を抑え、クリーニ
ング不良を防止し、融着が発生しない光受容部材を提供
すると共に、コロナ放電生成物が付着し難しく、さらに
コロナ放電生成物が付着した場合においても、容易に付
着物を除去することが可能な電子写真装置を提供するこ
とで、いかなる環境下でも光受容部材の加温手段を設け
ずに画像流れのなぃ高品質の画像を長期にわたり提供す
ることが可能な電子写真装置を提供するものである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to sequentially repeat the respective steps of charging, exposure, development, transfer, separation, and cleaning by a rubbing roller. In addition to providing a light receiving member that does not increase frictional resistance even after repeated use, suppresses deterioration of a friction roller, prevents poor cleaning, and prevents fusing, in an electrophotographic apparatus that rubs the surface of a light receiving member. By providing an electrophotographic apparatus capable of easily removing the corona discharge product even when the corona discharge product is difficult to adhere to, and even when the corona discharge product is attached, the photoreceptor member can be easily removed under any environment. An object of the present invention is to provide an electrophotographic apparatus capable of providing a high-quality image without image deletion for a long period of time without providing a heating unit.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電子写真
プロセスと光受容部材の表面層の磨耗量との関係に着目
し、電子写真プロセスにおける光受容部材表面の撥水性
及び磨耗性を向上させることを試みた。その結果、本発
明の電子写真プロセス及び本発明の非単結晶質弗素化炭
素膜を光受容部材の表面層に用いた光受容部材の組み合
わせにより、表面層に弗素原子を含有させることで表面
層の撥水性が向上し、コロナ放電生成物の付着を防止
し、さらに表面層のダイナミック硬度を10〜500k
gf/mm 2とし、電子写真工程のいずれかに光受容部
材表面を摺擦する摺擦手段を設け、さらに光受容部材表
面層の、一定条件下における1万枚転写時の摩耗量を
0.1Å以上100Å以下にすることにより最表面の弗
素のみが脱離することなく随時、弗素原子を含んだ表面
にすることが可能であると共に、表面層に弗素を含有さ
せることにより表面の摩擦抵抗を低減し滑り性を向上さ
せ、摺擦手段に弾性ゴムローラーを使用した場合におい
ても、この弾性ゴムローラーの劣化を防止し、さらに、
表面層のムラ削れや、クリーニング不良及び、融着が発
生しなぃ。また、いかなる環境条件においても従来技術
のような光受容部材の加温手段を設けることなく画像流
れが発生しないことを見い出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have proposed an electrophotographic method.
Focus on the relationship between the process and the amount of wear on the surface layer of the light receiving member
And the water repellency of the light receiving member surface in the electrophotographic process
And to improve abrasion. As a result,
Ming electrophotography process and non-monocrystalline fluorinated carbon of the present invention
Combination of light receiving members using a base film as a surface layer of light receiving members
By adding fluorine atoms to the surface layer,
Improves the water repellency of the layer and prevents adhesion of corona discharge products
And the surface layer has a dynamic hardness of 10 to 500 k.
gf / mm TwoAnd a photoreceptor in one of the electrophotographic processes
A rubbing means for rubbing the surface of the material;
The amount of wear of the surface layer when transferring 10,000 sheets under certain conditions
By setting the thickness between 0.1 ° and 100 °, the fluorine on the outermost surface
Surface containing fluorine atoms at any time without leaving only element
And the surface layer contains fluorine.
Surface to reduce frictional resistance and improve slipperiness
When using an elastic rubber roller for the rubbing means
Even prevent the deterioration of this elastic rubber roller,
Uneven shaving of the surface layer, poor cleaning, and fusion
I do not live. In addition, under any environmental conditions,
Image flow without providing a heating means for the light receiving member such as
Found that this does not occur.

【0028】すなわち、本発明は次のようである。That is, the present invention is as follows.

【0029】1.光受容部材を回転させ、帯電、露光、
現像、転写、クリーニング工程を順次繰り返す電子写真
装置において、前工程のいづれかに光受容部材表面を摺
擦する摺擦手段を設け、該光受容部材が、平均粒径5〜
8μmの現像剤を該光受容部材に現像、転写材へ転写
し、現像材が転写された後の光受容部材表面を反発弾性
10%以上50%以下の弾性ゴムブレードでスクレープ
クリーニングする電子写真装置でA4版の複写工程を転
写紙1万枚に行った後の摩耗量が0.1Å以上100Å
以下である非単結晶質弗素化炭素膜で表面層が構成され
ていることを特徴とする電子写真装置。
1. Rotating the light receiving member, charging, exposing,
In an electrophotographic apparatus in which development, transfer, and cleaning steps are sequentially repeated, a rubbing means for rubbing the surface of the light receiving member is provided in any of the preceding steps, and the light receiving member has an average particle diameter of 5 to 5.
An electrophotographic apparatus in which an 8 μm developer is developed on the light receiving member, transferred to a transfer material, and the surface of the light receiving member after the transfer of the developer is scraped and cleaned with an elastic rubber blade having a rebound resilience of 10% to 50%. After the A4 size copying process was performed on 10,000 sheets of transfer paper, the amount of wear was 0.1 mm or more and 100 mm.
An electrophotographic apparatus characterized in that the surface layer is composed of the following non-single crystalline fluorinated carbon film.

【0030】2.前記摺擦手段がクリーニング工程に設
けられたゴムローラー又はマグネットローラーからなる
クリーニングローラーであることを特徴とする上記1に
記載の電子写真装置。
2. 2. The electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein the rubbing means is a cleaning roller including a rubber roller or a magnet roller provided in a cleaning step.

【0031】3.前記摺擦手段としてクリーニング工程
に設けられたゴムローラーが発泡状であることを特徴と
する上記1または2に記載の電子写真装置。
3. 3. The electrophotographic apparatus according to the above item 1 or 2, wherein the rubber roller provided in the cleaning step as the rubbing means is foamed.

【0032】4.前記摺擦手段が帯電工程に設けられた
ローラー帯電又は/及びローラー転写であることを特徴
とする上記ないし3に記載の電子写真装置。
4. 4. The electrophotographic apparatus according to any one of the above items 3 to 3, wherein the rubbing means is roller charging and / or roller transfer provided in a charging step.

【0033】5.前記光受容部材が導電性基体上にシリ
コシ原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電
層及び非単結晶材料で構成された表面層からなることを
特徴とする上記1ないし4に記載の電子写真装置。
5. The light-receiving member comprises a photoconductive layer composed of a non-single-crystal material having a silicon atom as a base and a surface layer composed of a non-single-crystal material on a conductive substrate. An electrophotographic apparatus according to the above.

【0034】6.前記表面層のダイナミック硬度が10
〜500kgf/mm2であることを特徴とする上記1
ないし5に記載の電子写真装置。
6. The dynamic hardness of the surface layer is 10
The 1, characterized in that the ~500kgf / mm 2
6. The electrophotographic apparatus according to any one of items 1 to 5.

【0035】7.前記非単結晶質弗素化炭素膜の弗素量
((F/(C+F))が5〜50原子%であることを特徴
とする上記1ないし6に記載の電子写真装置。
7. 7. The electrophotographic apparatus according to any one of the above 1 to 6, wherein the non-single crystalline fluorinated carbon film has a fluorine content ((F / (C + F)) of 5 to 50 atomic%.

【0036】8.前記表面層が、少なくとも炭化水素系
及び又は弗素系のガスを1〜450MHzの高周波を用
いたプラズマCVD法によって分解することによつて堆
積成膜することを特徴とする上記1ないし7に記載の電
子写真装置。
8. 8. The method according to any one of the items 1 to 7, wherein the surface layer is formed by decomposing at least a hydrocarbon-based gas and / or a fluorine-based gas by a plasma CVD method using a high frequency of 1 to 450 MHz. Electrophotographic equipment.

【0037】9.前記光受容部材が、電荷注入阻止層、
光導電層、表面層の3層で構成されていることを特徴と
する上記1ないし8に記載の電子写真装置。
9. The light receiving member is a charge injection blocking layer,
9. The electrophotographic apparatus according to any one of the above items 1 to 8, wherein the electrophotographic apparatus comprises three layers, a photoconductive layer and a surface layer.

【0038】10.前記光受容部材が、電荷輸送層、電
荷発生層、表面層の3層で構成されていることを特徴と
する上記1ないし9に記載の電子写真装置。
10. The electrophotographic apparatus according to any one of the above items 1 to 9, wherein the light receiving member is composed of three layers: a charge transport layer, a charge generation layer, and a surface layer.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】本発明の電子写真装置に用いられ
るクリーニングブレードの材質としては、ウレタンゴ
ム、シリコンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、
ニトリルゴム、天然ゴム等がある。特に硬度、及び加工
のし易さの点から一般に広く電子写真装置に用いられ
る、ウレタンゴム、シリコンゴムが好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The cleaning blade used in the electrophotographic apparatus of the present invention may be made of urethane rubber, silicon rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, or the like.
There are nitrile rubber and natural rubber. In particular, urethane rubber and silicone rubber, which are generally widely used in electrophotographic apparatuses, are preferable from the viewpoint of hardness and ease of processing.

【0040】電子写真装置に用いられるクリーニングブ
レードの反発弾性が10%より低いと、ブレードの特性
としてゴム的状態からガラス状態に近づくため、材質が
脆くなりブレードの寿命を短くする方向であり、クリー
ニングブレードの反発弾性が50%を超えると、ブレー
ドにビビリが発生しクリーニング性が低下したり、ブレ
ードが捲れ光受容部材表面にダメージを与える等の問題
が発生する場合があるので、クリーニングブレードの反
発弾性は10%以上50%以下が好適である。
When the rebound resilience of a cleaning blade used in an electrophotographic apparatus is lower than 10%, the characteristic of the blade changes from a rubbery state to a glassy state, so that the material becomes brittle and the life of the blade is shortened. If the rebound resilience of the blade is more than 50%, the blade may be chattered and the cleaning property may be reduced, or the blade may be turned up and cause damage to the surface of the light receiving member. The elasticity is preferably from 10% to 50%.

【0041】一方クリーニング性を向上するために、特
開昭54−143149に記載されているような溝付き
ブレードや、特開昭57−124777に記載されてい
るような突起付きブレード等が提案されているが、小粒
径の現像剤を使用し、光受容部材の加温手段を設けない
電子写真装置と非晶質弗素化炭素膜を表面層に設けた光
受容部材表面の磨耗量との関係に関する記載は全くなさ
れていない。
On the other hand, in order to improve the cleaning property, a blade with a groove as described in JP-A-54-143149 and a blade with a projection as described in JP-A-57-124777 have been proposed. However, an electrophotographic apparatus using a developer having a small particle diameter and not providing a heating means for the light receiving member and an abrasion amount of the surface of the light receiving member provided with the amorphous fluorinated carbon film on the surface layer are compared. No mention is made of the relationship.

【0042】摺擦手段をクリーナーに設ける場合はマグ
ネットローラーあるいは弾性ゴムローラー等が用いられ
る。弾性ゴムローラーの材質としては、シリコンゴム、
ウレタンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、ニト
リルゴム、天然ゴム等が一般的に用いられ、ローラーの
形態としては空隙の大きな発泡状のスポンジローラーで
あってもよい。
When the rubbing means is provided on the cleaner, a magnet roller or an elastic rubber roller is used. Silicon rubber,
Urethane rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, nitrile rubber, natural rubber, and the like are generally used, and the roller may be a foamed sponge roller having a large gap.

【0043】摺擦手段が主帯電器及び転写帯電器を兼ね
る帯電ローラーの形態である場合、ローラーの材質とし
てはシリコンゴム、ウレタンゴム、ブタジエンゴム、イ
ソプレンゴム、ニトリルゴム、天然ゴム等が一般的に用
いられる。
When the rubbing means is in the form of a charging roller which also serves as a main charger and a transfer charger, the material of the roller is generally silicon rubber, urethane rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, nitrile rubber, natural rubber, or the like. Used for

【0044】本発明においては、光受容部材に用いるa
−C:F表面層のダイナミック硬度は10〜500kg
f/mm2であり、ダイナミック硬度が10kgf/m
2より小さい値いになると機械的硬度が損なわれ、ダ
イナミック硬度の値が500kgf/mm2より大きく
なると表面層の磨耗量が減少するため、表面層が削れに
くくなりコロナ放電生成物を削り取る効果が低減し画像
流れが発生する場合がある。また、表面層の膜中に含ま
れる弗素量はF/(C十F)で5〜50原子%、好適に
は10%〜30%である。弗素量が5%未満であると撥
水性及び摩耗性が維持できなぃ場合がある。また50%
を越えると膜の密着性や緻密化が損なわれ、機械的強度
が損なわれる場合がある。
In the present invention, a
-C: The dynamic hardness of the F surface layer is 10 to 500 kg.
f / mm 2 and dynamic hardness is 10 kgf / m
When the value is smaller than m 2 , the mechanical hardness is impaired, and when the value of dynamic hardness is larger than 500 kgf / mm 2, the amount of wear of the surface layer is reduced, so that the surface layer is hardly abraded and the corona discharge product is removed. May be reduced and image deletion may occur. Further, the amount of fluorine contained in the surface layer film is 5/50 atomic% in F / (C10F), preferably 10% to 30%. If the fluorine content is less than 5%, water repellency and abrasion may not be maintained. Also 50%
If it exceeds, the adhesion and densification of the film may be impaired, and the mechanical strength may be impaired.

【0045】上記、弗素原子含有量及びダイナミック硬
度の範囲において、この表面層はA4版の複写工程を転
写紙1万枚に行った後の摩耗量が(以下たんに1万枚摩
耗量とする)が0.1Å以上100Å以下の範囲を選択
することにより摩擦によるブレードのビビリが少なく、
ブレード面の部分的なストレスや摺擦ローラーの劣化が
抑えられるため、現像剤の部分的な滞留が緩和される。
その結果、ムラ削れせず均一に表面層が磨耗するため、
クリーニング性に優れ又、削れの効果により融着を防止
することが可能であることを見い出した。又、弾性ゴム
ローラーよりも摺擦力の弱いマグネツトローラーを摺擦
手段に用いた場合においても光受容部材の表面層の摩擦
を均一にすることが可能であり、光受容部材表面書こ付
着したコロナ放電生成物を効率よくムラ無く削り取られ
るため、光受容部材を加温する手段を設ることなくいか
なる環境条件下においても画像流れが発生しないことを
見出したものである。
In the above range of the fluorine atom content and the dynamic hardness, the surface layer has an abrasion loss after the A4 plate copying process is performed on 10,000 sheets of transfer paper (hereinafter referred to as an abrasion loss of only 10,000 sheets). ) Is within the range of 0.1 ° to 100 ° to reduce blade chatter due to friction.
Since partial stress on the blade surface and deterioration of the rubbing roller are suppressed, partial stagnation of the developer is reduced.
As a result, the surface layer is uniformly worn without uneven shaving,
It has been found that it is excellent in cleaning properties and that it is possible to prevent fusion by the effect of scraping. Further, even when a magnet roller having a smaller sliding force than the elastic rubber roller is used as the sliding means, the friction of the surface layer of the light receiving member can be made uniform, and the surface of the light receiving member is adhered. It has been found that since the corona discharge product can be efficiently scraped off evenly, no image deletion occurs under any environmental conditions without providing a means for heating the light receiving member.

【0046】本発明に用いる光受容部材の表面層の1万
枚摩耗量が、100Åを超える値になると機械的強度が
損なわれる場合があり、0.1Å未満の値になると表面
層が磨耗しにくくなり、コロナ放電生成物を削り取る効
果が低減し画像流れが発生する場合がある。
When the wear amount of the surface layer of the light receiving member used in the present invention exceeds 10,000 °, the mechanical strength may be impaired. When the wear amount is less than 0.1 °, the surface layer may be worn. In some cases, the effect of scraping off corona discharge products is reduced, and image deletion may occur.

【0047】本発明の光受容部材に用いる表面層の膜厚
は表面層の磨耗量と電子写真装置の寿命との関係から最
適な膜厚が決定できるが、一般的には0.01μm〜1
0μm、好適には0.1μm〜1μmの範囲が望まし
い。表面層の膜厚が0.01μm未満であると機械的強
度が損なわれ、10μを超えると残留電位が高くなる場
合がある。
The optimum thickness of the surface layer used in the light receiving member of the present invention can be determined from the relationship between the amount of wear of the surface layer and the life of the electrophotographic apparatus.
0 μm, preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. If the thickness of the surface layer is less than 0.01 μm, the mechanical strength is impaired, and if it exceeds 10 μm, the residual potential may be increased.

【0048】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0049】図1の(A)及び(B)は本発明による光
受容部材の模式的な断面図の一例であり、(A)は光導
電層が機能分離されていない単一層からなる単層型光受
容部材(B)は光導電層が電荷発生層と電荷輸送層とに
分離された機能分離型光受容部材である。
FIGS. 1A and 1B are examples of schematic cross-sectional views of a light receiving member according to the present invention. FIG. 1A shows a single layer in which a photoconductive layer is a single layer having no functional separation. The type light receiving member (B) is a function-separated type light receiving member in which a photoconductive layer is separated into a charge generation layer and a charge transport layer.

【0050】図1(A)に示すa−Si系光受容部材は
アルミニウム等の導電性基体101と、導電性基体10
1の表面に順次積層された電荷注入阻止層102と光導
電層103及び表面層104からなる。ここで、電荷注
入阻止層102は導電性基体101から光導電層103
ヘの電荷の注入を阻止するものであり、必要に応じて設
けられる。光導電層103は少なくともシリコン原子を
含む非晶質材料で構成され、光導電性を示すものであ
る。表面層104は少なくとも炭素原子と弗素原子を含
む非晶質材料で構成され、電子写真装置における顕像を
保持する能力をもつものである。
The a-Si light receiving member shown in FIG. 1A is made of a conductive substrate 101 such as aluminum and a conductive substrate 10.
The charge injection blocking layer 102, the photoconductive layer 103, and the surface layer 104 are sequentially laminated on the surface of the substrate 1. Here, the charge injection blocking layer 102 is formed from the conductive substrate 101 to the photoconductive layer 103.
This is to prevent the injection of electric charge into the device, and is provided as needed. The photoconductive layer 103 is made of an amorphous material containing at least silicon atoms, and has photoconductivity. The surface layer 104 is made of an amorphous material containing at least carbon atoms and fluorine atoms, and has a capability of maintaining a visible image in an electrophotographic apparatus.

【0051】以下では、電荷注入阻止層102の有無に
より効果が異なる場合を除いては、電荷注入阻止層10
2はあるものとして説明する。
In the following, the charge injection blocking layer 10 is used except when the effect differs depending on the presence or absence of the charge injection blocking layer 102.
2 will be described as being present.

【0052】図1(B)に示すa−Si系光受容部材
は、光導電層103が少なくともシリコン原子と炭素原
子を含む非晶質材料で構成された電荷輸送層106と、
少なくともシリコン原子を含む非品質材料で構成された
電荷発生層105が順次積層された構成の機能分離型と
した光受容部材である。この光受容部材に光照射すると
主として電荷発生層105で生成されたキャリアーが電
荷輸送層106を通過して導電性基体101に至る。表
面層104の成膜ガスとしては、CF4,C26,CH
3,CH22,CH3F等の弗素系ガス、H2及びC
4,C26,C38,C410等の炭化水素系のガスが有
効に使用されるものとしてあげられる。又、これらの弗
素供給用の原料ガスを必要に応じてHe、Ar、Ne等
の不活性ガスにより希釈して使用してもよい。
The a-Si light receiving member shown in FIG. 1B has a charge transport layer 106 in which the photoconductive layer 103 is made of an amorphous material containing at least silicon atoms and carbon atoms.
This is a function-separated type light receiving member having a configuration in which a charge generation layer 105 made of a non-quality material containing at least silicon atoms is sequentially stacked. When the light receiving member is irradiated with light, carriers mainly generated in the charge generation layer 105 pass through the charge transport layer 106 and reach the conductive substrate 101. As a film forming gas for the surface layer 104, CF 4 , C 2 F 6 , CH
Fluorine gas such as F 3 , CH 2 F 2 , CH 3 F, H 2 and C
Hydrocarbon gases such as H 4 , C 2 H 6 , C 3 H 8 and C 4 H 10 can be used effectively. Further, these source gases for supplying fluorine may be diluted with an inert gas such as He, Ar, Ne or the like, if necessary.

【0053】図2は、プラズマCVD法〔PCVD法〕
によるこよる光受容部材の一般的堆積装置の一例を模式
的に示した図である。
FIG. 2 shows a plasma CVD method [PCVD method].
FIG. 1 is a view schematically showing an example of a general deposition device for a light receiving member according to the present invention.

【0054】この装置は大別すると、堆積装置210
0、原料ガスの供給装置2200、反応容器2110内
を減圧するための排気装置(図示せず)から構成されて
いる。堆積装置2100中の反応容器2110内にはア
ースに接続された円筒状被成膜基体2112、円筒状被
成膜基体の加熱用ヒーター2113、原料ガス導入管2
114が設置され、さらに高周波マッチングボックス2
115を介して高周波電源2120が接続されている。
原料ガス供給装置2200は、SiH4,CH4,NO,
26,CF4等の原料ガスボンベ2221〜2226
とバルブ2231〜2236、2241〜2246、2
251〜2256及びマスフローコントローラー221
1〜2216から構成され、各構成ガスのボンベはバル
ブ2260を介して反応容器2110内のガス導入管2
114に接続されている。
This apparatus is roughly classified into a deposition apparatus 210
0, a source gas supply device 2200, and an exhaust device (not shown) for reducing the pressure inside the reaction vessel 2110. A cylindrical deposition substrate 2112 connected to the ground, a heater 2113 for heating the cylindrical deposition substrate, a source gas introduction pipe 2 are provided in a reaction vessel 2110 in the deposition apparatus 2100.
114, and a high-frequency matching box 2
A high frequency power supply 2120 is connected via 115.
The raw material gas supply device 2200 includes SiH 4 , CH 4 , NO,
Raw material gas cylinders 2221 to 2226 such as B 2 H 6 and CF 4
And valves 2231 to 2236, 2241 to 2246, and 2
251-2256 and mass flow controller 221
Each of the constituent gas cylinders is connected to a gas introduction pipe 2 in the reaction vessel 2110 via a valve 2260.
114 is connected.

【0055】円筒状被成膜基体2112は導電性受け台
2123の上に設置されることによってアースに接続さ
れる。
The cylindrical film-forming substrate 2112 is connected to the ground by being placed on the conductive support 2123.

【0056】以下、図2の装置を用いた、光受容部材の
形成方法の手順の一例について説明する。
An example of a procedure of a method for forming a light receiving member using the apparatus shown in FIG. 2 will be described below.

【0057】反応容器2110内に円筒状被成膜基体2
112を設置し、不図示の排気装置(例えば真空ンプ)
により反応容器2110内を排気する。続いて円筒状被
成膜基体加熱用ヒーター2113および不図示の制御装
置により円筒状被成膜基体2112の温度を20℃〜5
00℃の←所望の温度に制御する。次いで、光受容部材
形成用の原料ガスを反応容器2110内に流入させるに
はガスボンベのバルブ2231〜2236、反応容器の
リークバルブ2117が閉じられていこと、および流入
バルブ2241〜2246、流出バルブ2251〜22
56、補助バルブ2260が開かれていることを確認
し、メインバルブ2118を開いて反応容器2110及
びガス供給配管2116内を排気する。
In the reaction vessel 2110, the cylindrical film-forming substrate 2
112 is installed, and an exhaust device (not shown) (not shown)
Evacuates the reaction vessel 2110. Subsequently, the temperature of the cylindrical film-forming substrate 2112 is controlled to 20 ° C. to 5 ° C. by the heater 2113 for heating the cylindrical film-forming substrate and a control device (not shown).
Control at 00 ° C. ← desired temperature. Next, in order to allow the source gas for forming the light receiving member to flow into the reaction vessel 2110, the valves 2231 to 2236 of the gas cylinder and the leak valve 2117 of the reaction vessel are closed, and the inflow valves 2241 to 2246 and the outflow valve 2251 to 22
56, After confirming that the auxiliary valve 2260 is open, open the main valve 2118 and exhaust the inside of the reaction vessel 2110 and the gas supply pipe 2116.

【0058】その後、真空計2119の読みが0.7P
aになった時点で補助バルブ2260、流出バルブ22
51〜2256を閉じる。その後ガスボンベ2221〜
2226より各ガスをバルブ2231〜2236を開い
て導入し圧力調整器2261〜2266により各ガス圧
を1.96×105Paに調整する。次に流入バルブ2
241〜2246を徐々に開けて各ガスをマスフローコ
ントローラー2211〜2216内に導入する。以上の
手順によって成膜準備を完了した後、円筒状被成膜基体
2112上に、まず光導電層の形成を行う。
Thereafter, the reading of the vacuum gauge 2119 becomes 0.7 P
a, the auxiliary valve 2260 and the outflow valve 22
Close 51-2256. Then the gas cylinder 2221
From 2226, each gas is introduced by opening valves 2231 to 2236, and each gas pressure is adjusted to 1.96 × 10 5 Pa by pressure regulators 2261 to 2266. Next, inflow valve 2
241-2246 is gradually opened to introduce each gas into the mass flow controllers 2211-2216. After the preparation for film formation is completed by the above procedure, first, a photoconductive layer is formed on the cylindrical film-formed substrate 2112.

【0059】すなわち、円筒状被成膜基体2112が所
望の温度になったところで、各流出バルブ2251〜2
256のうちの必要なものと補助バルブ2260とを徐
々に開き、各ガスボンベ2221〜2226から所望の
原料ガスをガス導入管2114を介して反応容器211
0内に導入する。次に、各マスフローコントローラー2
211〜2216によって、各原料ガスが所望の流量に
なるように調整する。その際、反応容器2110内が1
33Pa以下の所望の圧力になるように、真空計211
9を見ながらメィンバルブ2118の開口を調整する。
内圧が安定したところで、高周波電源2120を所望の
電力例えば周波数1MHz〜450MHzの高周波電力
に設定してこれを高周波マッチングボックス2115を
通じてカソード電極2111に供給し高周波グロー放電
を生起させる。この放電エネルギーによって反応容器2
110内に導入された各原料ガスが分解され、円筒状被
成膜基体2112上に所望のシリコン原子を主成分とす
る光導電層が堆積される。所望の膜厚の形成が行われた
後、高周波電力の供給を止め、各流出バルブ2251〜
2256を閉じて反応容器2110ヘの各原料ガスの流
入を止め、光導電層の形成を終える。
That is, when the temperature of the cylindrical film-forming substrate 2112 reaches a desired temperature, each of the outflow valves 2251-2
The necessary one of the 256 and the auxiliary valve 2260 are gradually opened, and a desired raw material gas is supplied from each of the gas cylinders 2221 to 2226 through the gas introduction pipe 2114 to the reaction vessel 211.
Introduce into 0. Next, each mass flow controller 2
According to 211 to 2216, each raw material gas is adjusted so as to have a desired flow rate. At this time, the inside of the reaction vessel 2110 is 1
The vacuum gauge 211 is set to a desired pressure of 33 Pa or less.
9 while adjusting the opening of the main valve 2118.
When the internal pressure is stabilized, the high frequency power supply 2120 is set to a desired power, for example, a high frequency power of a frequency of 1 MHz to 450 MHz, and supplied to the cathode electrode 2111 through the high frequency matching box 2115 to generate a high frequency glow discharge. This discharge energy causes the reaction vessel 2
Each source gas introduced into 110 is decomposed, and a photoconductive layer mainly composed of desired silicon atoms is deposited on cylindrical deposition substrate 2112. After the desired film thickness is formed, the supply of the high-frequency power is stopped, and each of the outflow valves 2251 to
By closing 2256, the flow of each source gas into the reaction vessel 2110 is stopped, and the formation of the photoconductive layer is completed.

【0060】光導電層の組成や膜厚は公知のものを適用
することができる。上記光導電層に表面層を形成する場
合も基本的には上記の操作を繰り返せばよい。
Known compositions and film thicknesses of the photoconductive layer can be applied. In the case of forming a surface layer on the photoconductive layer, the above operation may be basically repeated.

【0061】図3は、高周波電源を用いたプラズマCV
D法による光受容部材の堆積装置の別の一例を模式的に
示した図である。この装置は大別すると、堆積装置31
00、原料ガスの供給装置3200、反応容器3110
内を減圧するための排気装置(図示せず)から構成され
てぃる。堆積装置3100中の反応容器3110内には
アースに接続された円筒状被成膜基体3112、円筒状
被成膜基体の加熱用ヒーター3113、原料ガス導入管
3114が設置され、さらに高周波マッチングボックス
3115を介して高周波電源3120が接続されてい
る。
FIG. 3 shows a plasma CV using a high frequency power supply.
It is the figure which showed typically another example of the deposition apparatus of the light receiving member by the D method. This device is roughly classified into a deposition device 31
00, source gas supply device 3200, reaction vessel 3110
It is composed of an exhaust device (not shown) for reducing the pressure inside. A cylindrical deposition substrate 3112 connected to the ground, a heater 3113 for heating the cylindrical deposition substrate, and a source gas introduction pipe 3114 are installed in a reaction vessel 3110 in the deposition apparatus 3100. The high frequency power supply 3120 is connected via the.

【0062】原料ガス供給装置3200は、SiH4
2,CH4,NO,B26,CF4等の原料ガスボンベ
3221〜3226とバルブ3231〜3236、32
41〜3246、3251〜3256及びマスフローコ
ントローラー3211〜3216から構成され、各構成
ガスのポンベはバルブ3260を介して反応容器311
0内のガス導入管3114に接続されている。
The raw material gas supply device 3200 includes SiH 4 ,
H 2, CH 4, NO, B 2 H 6, a raw material gas cylinder such as CF 4 3221 to 3226 and the valve 3231~3236,32
41-3246, 3251-256, and mass flow controllers 3211-216. The constituent gas pumps are connected via a valve 3260 to the reaction vessel 311.
0 is connected to the gas introduction pipe 3114.

【0063】円筒状被成膜基体3112は導電性受け台
3123の上に設置されることによってアースに接続さ
れる。カソード電極3111は導電性材料からなり、絶
縁材料3121によって絶縁されている。
The cylindrical substrate 3112 is connected to the ground by being placed on the conductive support 3123. The cathode electrode 3111 is made of a conductive material, and is insulated by the insulating material 3121.

【0064】導電性受け台3123に用いる導電性材料
としては、銅、アルミニウム、金、銀、白銀、鉛、ニッ
ケル、コバルト、鉄、クロム、モリブデン、チタン、ス
テンレス及び、これらの材料の材料の2種類以上の複合
材料等が使用できる。
The conductive material used for the conductive pedestal 3123 includes copper, aluminum, gold, silver, silver, lead, nickel, cobalt, iron, chromium, molybdenum, titanium, stainless steel, and materials of these materials. More than two types of composite materials can be used.

【0065】カソード電極3111を絶縁するため絶縁
材料としては、セラミックス、テフロン(登録商標)、
マイカ、ガラス、石英、シリコーンゴム、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等が使用できる。
As insulating materials for insulating the cathode electrode 3111, ceramics, Teflon (registered trademark),
Mica, glass, quartz, silicone rubber, polyethylene, polypropylene and the like can be used.

【0066】使用されるマッチングボックスは3115
は高周波電源3120と負荷の整合を取ることができる
ものであればいかなる構成のものでも好適に使用でき
る。整合を取る方法としては、自動調整が好適であるが
手動で調整されるものであっても本発明の効果には全く
影響はない。
The matching box used is 3115
Any structure can be suitably used as long as it can match the load with the high frequency power supply 3120. As a method for obtaining the matching, automatic adjustment is preferable, but even if it is adjusted manually, the effect of the present invention is not affected at all.

【0067】高周波電力が印加されるカソード電極31
11の材質としては銅、アルミニウム、金、銀、白金、
鉛、ニッケル、コバルト、鉄、クロム、モリブデン、チ
タン、ステンレス及びメこれらの材料の2種類以上の複
合材料等が使用できる。形状は円筒形状が好ましいが必
要に応じて楕円形状、多角形状を用いてもよい。
Cathode electrode 31 to which high-frequency power is applied
Materials of 11 include copper, aluminum, gold, silver, platinum,
Lead, nickel, cobalt, iron, chromium, molybdenum, titanium, stainless steel, and composite materials of two or more of these materials can be used. The shape is preferably a cylindrical shape, but an elliptical shape or a polygonal shape may be used if necessary.

【0068】カソード電極3111は必要に応じて冷却
手段を設けてもよい。具体的な冷却媒体としては水、空
気、液体窒素ペルチェ素子等が必要に応じて用いられ
る。
The cathode electrode 3111 may be provided with a cooling means if necessary. As a specific cooling medium, water, air, liquid nitrogen Peltier element or the like is used as needed.

【0069】本発明に用いる円筒状被成膜基体3112
は、使用目的に応じた材質や形状を有するものであれば
よい。例えば、形状に関しては、電子写真用感光体を製
造する場合には、円筒状が望ましいが、必要に応じて平
板状や、その他の形状であってもよい。材質は、銅、ア
ルミニウム、金、銀、白銀、鉛、ニッケル、コバルト、
鉄、クロム、モリブデン、チタン、ステンレス及びこれ
らの材料の2種類以上の複合材料、さらにはポリエステ
ル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースアセ
テート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、ガラス、石英、セラミック
ス、紙などの絶縁材料に導電性を被覆したものなどが使
用できる。
The cylindrical substrate 3112 used in the present invention.
May have any material or shape according to the purpose of use. For example, the shape is preferably cylindrical when an electrophotographic photoreceptor is manufactured, but may be flat or another shape if necessary. The material is copper, aluminum, gold, silver, silver, lead, nickel, cobalt,
Iron, chromium, molybdenum, titanium, stainless steel and composite materials of two or more of these materials, as well as polyester, polyethylene, polycarbonate, cellulose acetate, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, glass, quartz, ceramics, An insulating material such as paper coated with conductivity can be used.

【0070】以下、図3の装置を用いた、光受容部材の
形成方法の手順の一例について説明する。
An example of a procedure of a method for forming a light receiving member using the apparatus shown in FIG. 3 will be described below.

【0071】反応容器3110内に円筒状被成膜基体3
112を設置し、不図示の排気装置(例えば真空ンプ)
により反応容器3110を排気する。続いて円筒状被成
膜基体加熱用ヒーター3113および不図示の制御装置
により円筒状被成膜基体3112の温度を20℃〜50
0℃の所定の温度に制御する。
In the reaction vessel 3110, the cylindrical film-forming substrate 3
112 is installed, and an exhaust device (not shown) (not shown)
To exhaust the reaction vessel 3110. Subsequently, the temperature of the cylindrical film-forming substrate 3112 is raised to 20 ° C. to 50 ° C. by the heater 3113 for heating the cylindrical film-forming substrate and a control device (not shown).
Control to a predetermined temperature of 0 ° C.

【0072】光受容部材形成用の原料ガスを反応容器3
110内に流入させるにはガスボンベのバルブ3231
〜3236、反応容器のリークバルブ2117が閉じら
れていること、および流入バルブ3241〜3246、
流出バルブ3251〜3256、補助バルブ3260が
開かれていることを確認し、メインバルブ3118を開
いて反応容器3110及びガス供給配管3116内を排
気する。
The raw material gas for forming the light receiving member is supplied to the reaction vessel 3
To allow the gas to flow into 110, the valve 3231 of the gas cylinder is used.
3236, that the leak valve 2117 of the reaction vessel is closed, and that the inflow valves 3241 to 246
After confirming that the outflow valves 3251 to 256 and the auxiliary valve 3260 are opened, the main valve 3118 is opened to exhaust the inside of the reaction vessel 3110 and the gas supply pipe 3116.

【0073】次に真空計3119の読みが0.7Paに
なった時点で補助バルブ3260、流出バルブ3251
〜2256を閉じる。その後ガスボンベ3221〜32
26より各ガスをバルブ3231〜3236を開いて導
入し圧力調整器3261〜3266により各ガス圧を2
kg/cm2に調整する。次に流入バルブ3241〜3
246を徐々に開けて各ガスをマスフローコントローラ
ー3211〜3216内に導入する。以上の手順によっ
て成膜準備を完了した後、円筒状被成膜基体3112上
に光導電層の形成を行う。
Next, when the reading of the vacuum gauge 3119 becomes 0.7 Pa, the auxiliary valve 3260 and the outflow valve 3251
Close ~ 2256. Then gas cylinders 3221-32
26, each gas is introduced by opening valves 3231 to 236, and each gas pressure is adjusted to 2 by pressure regulators 3261 to 3266.
Adjust to kg / cm 2 . Next, the inflow valves 3241 to 3241
246 is gradually opened to introduce each gas into the mass flow controllers 3211 to 3216. After the preparation for film formation is completed by the above procedure, a photoconductive layer is formed on the cylindrical film-formed substrate 3112.

【0074】円筒状被成膜基体3112が所定の温度に
なったところで、各流出バルブ3251〜3256のう
ちの必要なものと補助バルブ3260とを徐々に開き、
各ガスボンベ3221〜3226から所定の原料ガスを
ガス導入管3114を介して反応容器3110内に導入
する。次に、各マスフローコントローラー3211〜3
216によって、各原料ガスが所定の流量になるように
調整する。その際、反応容器3110内が133Pa以
下の所定の圧力になるように、真空計3119を見なが
らメインバルブ3118の開口を調整する。内圧が安定
したところで、高周波電源3120を所望の電力、例え
ば周波数1MHz〜450MHzの高周波電力に設定し
てそれを高周波マッチングボックス3115を通じてカ
ソード電極3111に供給し高周波グロー放電を生起さ
せる。この放電エネルギーにって反応容器3110内に
導入された各原料ガスが分解され、円筒状被成膜基体3
112上に所定のシリコン原子を主成分とする堆積膜が
形成される。所望の膜厚の形成が行われた後、高周波電
力の供給を止め、各流出バルブ3251〜3256を閉
じて反応容器3110ヘの各原料ガスの流入を止め、堆
積膜の形成を終える。
When the temperature of the cylindrical substrate 3112 reaches a predetermined temperature, a necessary one of the outflow valves 3251 to 256 and the auxiliary valve 3260 are gradually opened.
A predetermined source gas is introduced from each of the gas cylinders 3221 to 226 into the reaction vessel 3110 via the gas introduction pipe 3114. Next, each of the mass flow controllers 3211 to 3211
In step 216, each source gas is adjusted to have a predetermined flow rate. At this time, the opening of the main valve 3118 is adjusted while watching the vacuum gauge 3119 so that the inside of the reaction vessel 3110 has a predetermined pressure of 133 Pa or less. When the internal pressure is stabilized, the high frequency power supply 3120 is set to a desired power, for example, a high frequency power of a frequency of 1 MHz to 450 MHz, and supplied to the cathode electrode 3111 through the high frequency matching box 3115 to generate a high frequency glow discharge. The respective source gases introduced into the reaction vessel 3110 are decomposed by the discharge energy, and the cylindrical substrate 3
A deposited film mainly containing predetermined silicon atoms is formed on 112. After the formation of the desired film thickness, the supply of the high-frequency power is stopped, the outflow valves 3251 to 256 are closed to stop the flow of the source gases into the reaction vessel 3110, and the formation of the deposited film is completed.

【0075】本発明の表面層を形成する場含も基本的に
は上記の操作を繰り返せばよい。具体的には各流出バル
ブ3251〜3256のうちの必要なものと補助バルブ
3260とを徐々に開き、各ガスボンベ3221〜32
26から表面層に必要な原料ガスをガス導入管2114
を介して反応容器3110内に導入する。次に、各マス
フローコントローラー3211〜3216によって、各
原料ガスが所定の流量になるように調整する。その際、
反応容器3110内が133Pa以下の所定の圧力にな
るように、真空計3119を見ながらメインバルブ31
18の開口を調整する。内圧が安定したところで、高周
波電源3120を所望の電力例えば周波数1MHz〜4
50MHzの高周波電力に設定して高周波マッチングボ
ックス3115を通じてカソード電極3111に供給し
高周波グロー放電を生起させる。この放電エネルギーに
よって反応容器3110内に導入された各原料ガスが分
解され、表面層が形成される。所望の膜厚の形成が行わ
れた後、高周波電力の供給を止め、各流出バルブ325
1〜3256を閉じて反応容器3110ヘの各原料ガス
の流入を止め、表面層の形成を終える。
Basically, the above operation may be repeated including the case where the surface layer of the present invention is formed. Specifically, a necessary one of the outflow valves 3251 to 256 and the auxiliary valve 3260 are gradually opened, and the respective gas cylinders 3221 to 322 are opened.
From 26, the raw material gas necessary for the surface layer is supplied to the gas introduction pipe 2114.
Through the reaction vessel 3110. Next, each of the mass flow controllers 3211 to 216 adjusts each of the raw material gases to a predetermined flow rate. that time,
The main valve 31 is monitored while watching the vacuum gauge 3119 so that the inside of the reaction vessel 3110 has a predetermined pressure of 133 Pa or less.
Adjust 18 openings. When the internal pressure is stabilized, the high frequency power supply 3120 is switched to a desired power, for example, a frequency of 1 MHz to 4 MHz.
High-frequency power of 50 MHz is set and supplied to the cathode electrode 3111 through the high-frequency matching box 3115 to generate high-frequency glow discharge. Each source gas introduced into the reaction vessel 3110 is decomposed by the discharge energy, and a surface layer is formed. After the desired film thickness is formed, the supply of high-frequency power is stopped, and each outflow valve 325 is turned off.
By closing 1-356, the flow of each source gas into the reaction vessel 3110 is stopped, and the formation of the surface layer is completed.

【0076】なお膜形成を行っている間は円筒状被成膜
基体3112を駆動装置(不図示)によって所定の速度
で回転させてもよい。
During the film formation, the cylindrical substrate 3112 may be rotated at a predetermined speed by a driving device (not shown).

【0077】図4は電子写真装置。画像形成プロセスの
一例を説明するため電子写真装置の一例を示す概略図で
あって、導電性基体423上に形成した光受容部材40
1は、必要に応じて矢印X方向に回転する。光受容部材
401の周辺には、主帯電器402、静電潜像形成部位
403、現像器404、転写材供給系405、転写帯電
器406、分離帯電器407、クリーナー425、搬送
系408、除電光源409等が必要に応じて配設されて
いる。
FIG. 4 shows an electrophotographic apparatus. FIG. 2 is a schematic view illustrating an example of an electrophotographic apparatus for explaining an example of an image forming process, and includes a light receiving member 40 formed on a conductive substrate 423;
1 rotates in the arrow X direction as required. In the vicinity of the light receiving member 401, a main charger 402, an electrostatic latent image forming portion 403, a developing device 404, a transfer material supply system 405, a transfer charger 406, a separation charger 407, a cleaner 425, a transport system 408, and a charge removing device A light source 409 and the like are provided as needed.

【0078】次に具体的に画像形成プロセスの一例を説
明する。光受容部材401は+6〜8kvの高電圧を印
加した主帯電器402により一様に帯電される。これに
静電潜像部位に、ランプ410から発した光が原稿台ガ
ラス411上に置かれた原稿412に反射し、ミラー4
13、414、415を経由し、レンズユニット417
のレンズ418によって結像され、ミラー416を経由
して導かれ、情報を担った光として投影され、光受容部
材401上に静電潜像が形成される。この潜像に現像器
404からネガ極性の現像剤が供給されて現像剤像が形
成される。この露光は原稿412からの反射によらず、
LEDアレーやレーザービーム、もしくは液品シャッタ
ー等を用ぃて情報を担,た光を走査露光するようにして
もよい。
Next, an example of the image forming process will be specifically described. The light receiving member 401 is uniformly charged by the main charger 402 to which a high voltage of +6 to 8 kv is applied. The light emitted from the lamp 410 is reflected on the document 412 placed on the platen glass 411 at the portion of the electrostatic latent image,
13, 414, 415, and the lens unit 417
An image is formed by a lens 418, guided through a mirror 416, projected as light carrying information, and an electrostatic latent image is formed on the light receiving member 401. A developer having a negative polarity is supplied to the latent image from the developing device 404 to form a developer image. This exposure does not depend on the reflection from the original 412,
Light carrying information may be scanned and exposed using an LED array, a laser beam, a liquid shutter, or the like.

【0079】一方、紙等の転写材Pは転写材供給系40
5を通って、レジストローラー422によって先端供給
タイミングを調整され、光受容部材401方向に供給さ
れる。転写材Pは+7〜8kvの高電圧を印加した転写
帯電器406と光受容部材401の間隙において背面か
ら現像剤とは逆極性の正電界を与えられ、これによって
光受容部材表面のネガ極性の現像剤像は転写材Pに転写
される。次いで、12〜14kVp−p、300〜60
0Hzの高圧AC電圧を印加した分離帯電器407によ
り、光受容部材401から分離される。続いて転写材P
は転写搬送系408を通って定着装置424に至り、現
像剤像が定着されて装置外に搬出される。
On the other hand, the transfer material P such as paper is transferred to the transfer material supply system 40.
5, the leading end supply timing is adjusted by the registration roller 422, and the leading end is supplied toward the light receiving member 401. The transfer material P is applied with a positive electric field having a polarity opposite to that of the developer from the back surface in the gap between the transfer charger 406 to which the high voltage of +7 to 8 kv is applied and the light receiving member 401, whereby the negative polarity of the surface of the light receiving member is applied. The developer image is transferred to the transfer material P. Then, 12-14 kVp-p, 300-60
The light is separated from the light receiving member 401 by a separation charger 407 to which a high AC voltage of 0 Hz is applied. Then, transfer material P
Reaches the fixing device 424 through the transfer / conveyance system 408, where the developer image is fixed and carried out of the device.

【0080】光受容部材401上に残留する現像剤はク
リーナー425のマグネットローラー又はシリコンゴン
ムやウレタンゴム等の弾性材料からなるクリーニングロ
ーラー426、及びシリコンゴンムやウレタンゴム等の
弾性材料からなるクリーニングブレード421によって
回収され、残留する静電潜像は除電光源409によって
消去される。
The developer remaining on the light receiving member 401 is recovered by a magnet roller of the cleaner 425 or a cleaning roller 426 made of an elastic material such as silicone rubber or urethane rubber, and a cleaning blade 421 made of an elastic material such as silicone rubber or urethane rubber. The remaining electrostatic latent image is erased by the charge eliminating light source 409.

【0081】なお、420はブランク露光LEDで光受
容部材401の転写材Pの幅を越える部分及び余白部分
等の非画像部領域に不要な現像剤が付着しないように必
要に応じて光受容部材401を露光するために設けられ
る。
Reference numeral 420 denotes a blank exposing LED, which is a light receiving member as necessary so that unnecessary developer does not adhere to a non-image area such as a portion exceeding the width of the transfer material P and a blank portion of the light receiving member 401. It is provided for exposing 401.

【0082】以下、本発明を実施例を用いて具体的に説
明するが、本発明はこれらによりなんら限定されるもの
ではない。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0083】[0083]

【実施例】実施例1 図2に記載のプラズマCVD装置を用いて表1の条件に
より円筒状導電性基体上に下部阻止層、光導電層を積層
した後、表2(F)の条件で表面層を0.5μm堆積し
光受容部材を製造した。
Example 1 A lower blocking layer and a photoconductive layer were laminated on a cylindrical conductive substrate using the plasma CVD apparatus shown in FIG. 2 under the conditions shown in Table 1 and then under the conditions shown in Table 2 (F). A light receiving member was manufactured by depositing a 0.5 μm surface layer.

【0084】[0084]

【表1】 表 1 光受容部材の製造条件 下部阻止層・・・・・・SiH4 300scc H2 500scc NO 8scc B26 2000ppm パワー 100w(13.56MHz) 内圧 53.2Pa 膜厚 1μm 光導電層・・・・・・・SiH4 500scc H2 500scc パワー 400w(13.56MHz) 内圧 66.5Pa 膜厚 20μmTable 1 Manufacturing conditions of light receiving member Lower blocking layer: SiH 4 300 scc H 2 500 scc NO 8 scc B 2 H 6 2000 ppm Power 100 w (13.56 MHz) Internal pressure 53.2 Pa Film thickness 1 μm Photoconductive layer ······· SiH 4 500scc H 2 500scc power 400 w (13.56 MHz) pressure 66.5Pa thickness 20μm

【0085】[0085]

【表2】 さらに表面層の弗素含有量を測定するためのサンプルと
して7059ガラス基板上にも表2(F)の条件で表面
層を0.5μm堆積しa−C:F表面層サンプルを作成
した。
[Table 2] Further, as a sample for measuring the fluorine content of the surface layer, a 0.5 μm surface layer was deposited on a 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 2 (F) to prepare an aC: F surface layer sample.

【0086】この表面層サンプルについて、ESCA分
析による弗素量F/(C十F)の測定を行った結果弗素
量は50原子%であった。さらに、島津製作所社製ダイ
ナミック超微小硬度計(DUH−201)によりダイナ
ミック硬さを測定した。但し、ダイナミック硬さ測定に
用いた圧子は、稜間角115゜の三角すい圧子(先端曲
率半径0.1μm以下)で、0.1gf荷重になるまで圧
子を押し込んだ時のダイナミック硬さを求め、10kg
f/mm2の値を得た。
The surface layer sample was measured for the fluorine content F / (C × F) by ESCA analysis. As a result, the fluorine content was 50 atomic%. Further, the dynamic hardness was measured with a dynamic ultra-fine hardness tester (DUH-201) manufactured by Shimadzu Corporation. However, the indenter used for the dynamic hardness measurement was a triangular cone indenter with a 115 ° edge-to-edge angle (radius of curvature of the tip is 0.1 μm or less), and the dynamic hardness when the indenter was pushed until the load reached 0.1 gf was obtained. , 10kg
A value of f / mm 2 was obtained.

【0087】次いで、光受容部材をキャノン製複写機N
P-6085の改造機に搭載し光受容部材の移動速度を
400mm/secでA4版の連続通紙耐久を行い表面層
の磨耗ムラの評価を行った。なお、図4に示すクリーニ
ングローラー426はマグネットローラーを使用し、弾
性ゴムブレード421は反発弾性10%のウレタンゴム
ブレードを使用した。使用する現像剤に関しては、現像
剤の粒径が小さい程、磨耗し易いことから粒径が6.5
μmのものを使用し、さらに磨耗を促進させるために現
像剤に用いる外添剤を10%多く外添した。
Next, the light receiving member was changed to a Canon copier N
The photoreceptor was mounted on a remodeled machine of P-6085, and the moving speed of the light receiving member was 400 mm / sec. The cleaning roller 426 shown in FIG. 4 uses a magnet roller, and the elastic rubber blade 421 uses a urethane rubber blade having a rebound resilience of 10%. As for the developer to be used, the smaller the particle size of the developer, the more easily the developer is worn.
In order to further promote abrasion, an external additive used for the developer was added by 10% more.

【0088】上記磨耗ムラの評価方法を図4を用いて説
明すれば次のようである。現像器404位置における光
受容部材401の暗部電位が400vになるように主帯
電器402帯電電流を調整し、原稿台411にべタ黒の
縦ライン及びべタ白ラインを設けた原稿412を置き、
光受容部材表面の母線方向で現像剤が常に介在する部分
と現像剤が介在しない部分を設けることによりこの現像
剤で摺擦される部分と摺擦されない部分を設ける。べタ
白部の光受容部材表面層の膜厚が初期の膜厚の50%ま
で磨耗した段階でべタ黒部部の表面層膜厚との差を測定
して磨耗ムラとする。
The method for evaluating the uneven wear will be described with reference to FIG. The charging current of the main charger 402 is adjusted so that the dark portion potential of the light receiving member 401 at the position of the developing device 404 becomes 400 V, and the original 412 provided with the solid black vertical line and the solid white line is placed on the original platen 411. ,
By providing a portion where the developer always intervenes and a portion where the developer does not intervene in the generatrix direction on the surface of the light receiving member, a portion that is rubbed with the developer and a portion that is not rubbed are provided. When the thickness of the surface layer of the light receiving member in the solid white portion has been worn down to 50% of the initial thickness, the difference from the surface layer thickness in the solid black portion is measured to determine the unevenness in wear.

【0089】以上の評価方法で耐久後の表面層の磨耗量
を反射分光式干渉計により測定した結果、べタ白部とべ
た黒部に相当する表面層の膜厚差は、2%であった。
The amount of abrasion of the surface layer after durability was measured by a reflection spectroscopic interferometer according to the above evaluation method. As a result, the difference in film thickness between the solid white portion and the solid black portion was 2%. .

【0090】比較例1 図4に示すクリーナー425にクリーニングローラー4
26を設けずにブレード421のみとした以外は実施例
1と同様、光受容部剤の作成、摩耗ムラの評価を行い、
膜厚差10%の値を得た。
Comparative Example 1 The cleaning roller 425 shown in FIG.
In the same manner as in Example 1 except that only the blade 421 was not provided, the preparation of the photoreceptor agent and the evaluation of uneven wear were performed.
A value with a film thickness difference of 10% was obtained.

【0091】以上の実施例1及び比較例1の結果から、
電子写真工程に摺擦手段を設ける構成にした場合、電子
写真工程に摺擦手段を設けない構成と比較すると、磨耗
ムラの発生を抑え均一に磨耗させることが可能であるこ
とが判明した。
From the results of Example 1 and Comparative Example 1 described above,
It has been found that in the case where the rubbing means is provided in the electrophotographic process, it is possible to suppress the occurrence of abrasion unevenness and to achieve uniform wear, as compared with the configuration in which the rubbing means is not provided in the electrophotographic process.

【0092】実施例2 図2に記載のプラズマCVD装置を用いて表1の条件に
より円筒状導電性基体上に下部阻止層、光導電層を積層
した後、表3の条件で表面層を0.5μm堆積しA〜C
の光受容部材を製造した。
Example 2 A lower blocking layer and a photoconductive layer were laminated on a cylindrical conductive substrate under the conditions shown in Table 1 using the plasma CVD apparatus shown in FIG. .5 μm deposited and AC
Was manufactured.

【0093】[0093]

【表3】 さらに表面層の弗素含有量を測定するためのサンプルと
して7059ガラス基板上にも表3の条件で表面層を
0.5μm堆積しA〜Cのa-C:F表面層サンプルを作
成した。
[Table 3] Further, as a sample for measuring the fluorine content of the surface layer, a surface layer of 0.5 μm was deposited on a 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 3 to prepare aC: F surface layer samples A to C.

【0094】光受容部材A〜Cに積層した表面層の弗素
量及びダイナミック硬度の測定を実施例1と同様にして
行い、表4に示した値を得た。
The fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers laminated on the light receiving members A to C were measured in the same manner as in Example 1, and the values shown in Table 4 were obtained.

【0095】[0095]

【表4】 次いで、光受容部材A〜Cをキャノン製複写機NP-6
085の改造機に搭載し光受容部材401の移動速度を
200mm/secでA4版の連続通紙耐久を10万枚行
いクリーニング性の評価を行った。なお、クリーニング
ローラー426はマグネットローラーを使用し、さらに
弾性ゴムプレード421は反発弾性10%のウレタンゴ
ムブレードを使用した。又、使用する現像剤た関して
は、現像剤の粒径が小さい程、融着が発生し易いことか
ら粒径が6.5μmのものを使用した。さらに光受容部
材の表面温度を60℃にコントロールすることにより融
着が発生し易い条件とした。
[Table 4] Next, the light receiving members A to C are connected to a Canon copier NP-6.
No. 085 was mounted on the remodeled machine, and the moving speed of the light receiving member 401 was 200 mm / sec. The cleaning roller 426 used a magnet roller, and the elastic rubber blade 421 used a urethane rubber blade having a rebound resilience of 10%. The developer used had a particle size of 6.5 μm because the smaller the particle size of the developer, the easier the fusion was to occur. Further, by controlling the surface temperature of the light receiving member to 60 ° C., conditions were set such that fusion was easily generated.

【0096】耐久後の表面層の磨耗量を表4に示す。こ
の表面層の磨耗量は耐久前後の表面層膜厚を反射分光式
干渉計により測定し、この値から表面層の膜厚変化量を
1万枚当りの磨耗量に換算したものである。
Table 4 shows the amount of wear of the surface layer after durability. The wear amount of the surface layer is obtained by measuring the thickness of the surface layer before and after the endurance using a reflection spectroscopic interferometer, and converting the change in the thickness of the surface layer into a wear amount per 10,000 sheets from this value.

【0097】さらにA〜Cの光受容部材を加温手段を設
けずに、35℃相対湿度90%の環境下で10万枚の耐
久を行い、画像流れの評価を行った。但しクリーニング
ローラー426はマグネットローラーを使用し、弾性ゴ
ムブレード421は反発弾性10%のウレタンゴムブレ
ードを使用し、ブレードの押し圧を通常の50%の圧力
でスクレープクリーニングを行うようにセッティングし
た。
Further, 100,000 sheets of the photoreceptors A to C were durable in an environment of 35 ° C. and a relative humidity of 90% without providing a heating means, and the image deletion was evaluated. However, a magnet roller was used as the cleaning roller 426, a urethane rubber blade having a rebound resilience of 10% was used as the elastic rubber blade 421, and the blade was set so as to perform scrape cleaning at a pressing pressure of 50% of normal pressure.

【0098】画像流れの評価結果を表5に示す。Table 5 shows the evaluation results of the image deletion.

【0099】[0099]

【表5】 次にムラ削れ評価方法、融着評価方法およびクリーニン
グ不良評価方法について、それぞれ図4を用いて説明す
る。 (ムラ削れ評価方法)現像器404位置における暗部電
位が400vになるように主帯電器402の帯電電流量
を調整し、原稿台411にべタ黒の縦ラインを設けた原
稿412を置き、光受容部材表面の母線方向において常
に現像剤で摺擦される部分と摺擦されない部分を設け耐
久を行った後、現像器404位置における暗部電位が4
00vになるように主帯電器402の帯電電流量を調整
し、原稿台411にべタ白原稿412を置き、明部電位
が50vになるようにハロゲンランプ410の点灯電圧
を調整した後、反射濃度が0.3の原稿412を置く。
この時の電位ムラを測定し、正常部分の電位に対するム
ラ削れした部分の電位が何%変化しているかで評価す
る。 ○.........感度ムラがなく良好な画像。 △.........2.5%以下の電位ムラがあるが画像は実用
上問題のないレベル。 ×.........2.5%を越える電位ムラが発生し画像にス
ジ状の濃度ムラが発生。 (融着評価方法)現像器404位置における暗部電位が
400vになるように主帯電器402の帯電電流量を調
整し、原稿台411にべタ白の原稿412を置き、明部
電位が50vになるようにハロゲンランプ410の点灯
電圧を調整し、A3版のべタ白画像を作成する。この画
像によって現像剤の融着により発生する黒ポチを観察
し、さらに顕微鏡により光受容部材表面を観察する。 ○.........融着がなく良好な画像。 △.........画像には黒ポチは発生しないが顕微鏡観察
で10μm以下の微小な融着が認められる(実用上問題
なし)。 ×.........画像上に黒ポチとして発生。 (クリーニング不良評価方法)現像器404位置におけ
る暗部電位が400vになるように主帯電器402の帯
電電流量を調整し、原稿台411に反射濃度が0.3の
原稿412を置き、明部電位が200vになるようにハ
ロゲンランプ410の点灯電圧を調整し、A3版のハー
フトーン画像を作成する。この画像によってスジ状に発
生するクリーニング不良を評価する。 ○.........クリーニング不良がない良好な画像。 △.........幅1mm長さ1cm以内のクリーニング不
良が2個所以下あるが実用上問題のないレベル。 ×.........幅1mm長さ1cm以内のクリーニング不
良が3個所以上発生。又は、幅1mm長さ1cmを越え
るクリーニング不良が発生。
[Table 5] Next, a method for evaluating unevenness scraping, a method for evaluating fusion, and a method for evaluating defective cleaning will be described with reference to FIG. (Method of Evaluating Uneven Shaving) The amount of charging current of the main charger 402 is adjusted so that the potential of the dark portion at the position of the developing device 404 becomes 400 V, and the document 412 provided with a solid black vertical line is placed on the document table 411. After providing a portion that is always rubbed with the developer and a portion that is not rubbed in the generatrix direction on the surface of the receiving member to perform durability, the dark portion potential at the position of the developing device 404 becomes 4
After adjusting the charging current amount of the main charger 402 to be 00 V, the solid white document 412 is placed on the document table 411, and the lighting voltage of the halogen lamp 410 is adjusted so that the bright portion potential becomes 50 V. An original 412 having a density of 0.3 is placed.
The potential unevenness at this time is measured, and the percentage of the potential of the portion where unevenness is reduced with respect to the potential of the normal portion is evaluated. ......: Good image without sensitivity unevenness. Δ: There is potential unevenness of 2.5% or less, but the image is at a level that does not cause any practical problem. X: Potential unevenness exceeding 2.5% occurred, and streak-like density unevenness occurred in the image. (Fusing evaluation method) The charging current amount of the main charger 402 is adjusted so that the dark portion potential at the position of the developing device 404 becomes 400 V, the solid white document 412 is placed on the platen 411, and the bright portion potential becomes 50 V. The lighting voltage of the halogen lamp 410 is adjusted so that an A3-sized solid white image is created. The image is used to observe black spots generated by the fusion of the developer, and the surface of the light receiving member is observed using a microscope. ......: Good image without fusing. Δ: No black spots appear on the image, but microscopic fusion of 10 μm or less is observed by microscopic observation (no problem in practical use). × ......... Black spots appear on the image. (Cleaning defect evaluation method) The amount of charging current of the main charger 402 is adjusted so that the potential of the dark portion at the position of the developing device 404 becomes 400 V, the document 412 having a reflection density of 0.3 is placed on the platen 411, and the potential of the bright portion is The lighting voltage of the halogen lamp 410 is adjusted so that the value becomes 200 V, and an A3-size halftone image is created. This image is used to evaluate a cleaning defect that occurs in the form of a stripe. ......: Good image with no poor cleaning. Δ: No cleaning failure within 1 mm in width and 1 cm in length, but no problem in practical use. ×: Three or more cleaning defects within 1 mm in width and 1 cm in length occurred. Or, a cleaning failure exceeding 1 mm in width and 1 cm in length occurs.

【0100】以上の評価方法で得られた結果を表6に示
す。
Table 6 shows the results obtained by the above evaluation methods.

【0101】表6に示すようにA、B、Cいずれの光受
容部材においても10万枚の耐久後でもムラ削れによっ
て発生する黒スジ状の画像欠陥は全くなく、クリーニン
グ不良や融着等の画像欠陥も全く発生しなかった。さら
に、画像流れに関しても光受容部材の加温手段を設けず
とも、良好な画像特性が得られた。
As shown in Table 6, none of the light receiving members A, B, and C had any image defects in the form of black stripes caused by uneven scraping even after 100,000 sheets had been used. No image defects occurred. Further, with respect to image deletion, good image characteristics were obtained without providing a heating means for the light receiving member.

【0102】[0102]

【表6】 又耐久後のウレタンゴムブレードのエッジ部を金属顕微
鏡により観察した結果、傷等の破損は認められず、初期
の状態が維持されていた。
[Table 6] Further, as a result of observing the edge portion of the urethane rubber blade after the endurance with a metallographic microscope, no damage such as a scratch was observed, and the initial state was maintained.

【0103】比較例2 実施例1と同様に、図2に記載のプラズマCVD装置を
用いて表1の条件で円筒状導電性基体上に下部阻止層、
光導電層を積層した後、表7の条件で表面層を0.5μ
m堆積しA'〜C'の光受容部材を製造した。さらに、7
059ガラス基板上にも表7の条件でA'〜C'のa-C:
F表面層サンプルを作成し、実施例1と同様の方法によ
りA'〜C'の表面層の弗素量及びダイナミック硬度を測
定した。
Comparative Example 2 In the same manner as in Example 1, a lower blocking layer was formed on a cylindrical conductive substrate by using the plasma CVD apparatus shown in FIG.
After laminating the photoconductive layer, the surface layer was 0.5 μm thick under the conditions shown in Table 7.
Thus, light receiving members A ′ to C ′ were manufactured. In addition, 7
AC of A 'to C' on a 059 glass substrate under the conditions of Table 7:
F surface layer samples were prepared, and the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers A ′ to C ′ were measured in the same manner as in Example 1.

【0104】その結果、光受容部材A'〜C'の表面層の
弗素量及びダイナミック硬度は、表8に示した値であっ
た。
As a result, the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of the light receiving members A ′ to C ′ were the values shown in Table 8.

【0105】[0105]

【表7】 [Table 7]

【0106】[0106]

【表8】 次いで、この光受容部材A'〜C'をキャノン製複写機N
P-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件
で耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー42
6はマグネットローラーを使用し、さらに光受容部材4
01の移動速度を200mm/secとしブレード421
は反発弾性8%のウレタンゴムブレードを使用した。こ
の耐久後の表面層の磨耗量を表8に示す。
[Table 8] Next, the light receiving members A ′ to C ′ are copied to a Canon copier N
It was mounted on a modified model of P-6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 42
6 uses a magnet roller and further includes a light receiving member 4
01 is set to 200 mm / sec and the blade 421 is moved.
Used a urethane rubber blade having a rebound resilience of 8%. Table 8 shows the amount of wear of the surface layer after the durability.

【0107】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価結果を表9に、画像流れの
評価を表10に示す。
Further, Table 9 shows the evaluation results of uneven shaving, fusion, and cleaning failure described in Example 2, and Table 10 shows the evaluation of image deletion.

【0108】[0108]

【表9】 [Table 9]

【0109】[0109]

【表10】 これらの表に示すように、10万枚耐久によって融着、
クリーニング不良が発生した。さらに、画像流れに関し
ても光受容部材の加温手段を設けない条件での耐久で
は、画像流れが発生する場合があった。
[Table 10] As shown in these tables, fusing by 100,000 sheets durability,
Cleaning failure occurred. Further, with respect to image deletion, there is a case where image deletion occurs in durability under the condition that the heating means of the light receiving member is not provided.

【0110】又耐久後のウレタンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損が認め
られた。
Further, as a result of observing the edge of the urethane rubber blade after the endurance with a metallographic microscope, damage such as a scratch was recognized.

【0111】実施例3 実施例1と同様に、図2に記載のプラズマCVD装置を
用いて表1の条件で円筒状導電性基体上に下部阻止層、
光導電層を積層した後、表2の条件で表面層を0.5μ
m堆積しD〜Fの光受容部材を製造した。さらに、70
59ガラス基板上にも表2の条件でD〜Fのa-C:F
表面層サンプルを作成し、実施例1と同様の方法により
D〜Fの表面層の弗鹿量及びダイナミック硬度を測定し
た。
Example 3 In the same manner as in Example 1, a lower blocking layer was formed on a cylindrical conductive substrate using the plasma CVD apparatus shown in FIG.
After laminating the photoconductive layer, the surface layer was 0.5 μm under the conditions shown in Table 2.
Thus, light receiving members D to F were manufactured. In addition, 70
A-C: F of DF under the conditions of Table 2 on a 59 glass substrate
Surface layer samples were prepared, and the amounts of slime and dynamic hardness of the surface layers D to F were measured in the same manner as in Example 1.

【0112】その結果、光受容部材D〜Fの表面層の弗
素量及びダイナミック硬度は、表11に示した値であっ
た。
As a result, the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of the light receiving members DF were the values shown in Table 11.

【0113】[0113]

【表11】 次いで、この光受容部材D〜Fをキャノン製複写機NP
-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件で
耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー426
は発砲状のウレタンローラーを使用し、さらに光受容部
材401の移動速度を300mm/secとし、ブレード
421は反発弾性25%のウレタンゴムブレードを使用
した。この耐久後の表面層の磨耗量を表11に示す。
[Table 11] Next, the light receiving members DF are connected to a Canon copying machine NP.
It was mounted on a modified model of -6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 426
Used a foaming urethane roller, the moving speed of the light receiving member 401 was 300 mm / sec, and the blade 421 was a urethane rubber blade having a rebound resilience of 25%. Table 11 shows the amount of wear of the surface layer after the durability.

【0114】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価で得られた結果は表6に示
した。
Table 6 shows the results obtained in the evaluation of uneven scraping, fusion, and defective cleaning described in Example 2.

【0115】さらにD〜Fの光受容部材を加温手段を設
けずに、35℃相対湿度90%の環境下で10万枚の耐
久を行い、画像流れの評価を行った。但し、クリーニン
グローラー426は発砲状のウレタンローラーを使用し
さらに、ブレードの押し圧を通常の50%の圧力でスク
レープクリーニングを行うようにセッティングした。画
像流れの評価結果は表5に示した。
Further, 100,000 sheets of the light receiving members D to F were subjected to endurance in an environment of 35 ° C. and a relative humidity of 90% without providing a heating means, and the image deletion was evaluated. However, a urethane roller in the form of a foam was used as the cleaning roller 426, and the blade was set so that the scrape cleaning was performed at a pressing pressure of 50% of the normal pressure. Table 5 shows the evaluation results of the image deletion.

【0116】これらの表に示すように、光受容部材D〜
Fいずれの光受容部材においても10万枚の耐久後でも
ムラ削れによって発生するスジ状の画像欠陥は全くな
く、クリーニング不良や融着等の画像欠陥も全く発生し
なかった。さらに、画像流れに関しても光受容部材の加
温手段を設けずとも、良好な画像特性が得られた。
As shown in these tables, the light receiving members D to
F, no streak-like image defect caused by uneven shaving was found even after 100,000 sheets of the photoreceptor had run out, and no image defect such as poor cleaning or fusion occurred. Further, with respect to image deletion, good image characteristics were obtained without providing a heating means for the light receiving member.

【0117】又耐久後のウレタンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損は認め
られず、初期の状態が維持されていた。
When the edge of the urethane rubber blade after the endurance was observed with a metallographic microscope, no damage such as scratches was observed, and the initial state was maintained.

【0118】比較例3 実施例1と同様に、図2に記載のプラズマCVD装置を
用いて表1の条件で円筒状導電性基体上に下部阻止層、
光導電層を積層した後、表12の条件で表面層を0.5
μm堆積しD'〜F'の光受容部材を製造した。
Comparative Example 3 In the same manner as in Example 1, a lower blocking layer was formed on a cylindrical conductive substrate by using the plasma CVD apparatus shown in FIG.
After laminating the photoconductive layer, the surface layer was 0.5
The light receiving members of D ′ to F ′ were manufactured by depositing μm.

【0119】[0119]

【表12】 さらに、7059ガラス基板上にも表12の条件でD'
〜F'のa-C:F表面層サンプルを作成し、実施例1と
同様の方法によりD'〜F'の表面層の弗素量及びダイナ
ミック硬度を測定した。その結果、光受容部材D'〜F'
の表面層の弗素量及びダイナミック硬度は、表13に示
した値であった。
[Table 12] Furthermore, D ′ was also applied on a 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 12.
Samples of the aC: F surface layer of F ′ to F ′ were prepared, and the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of D ′ to F ′ were measured in the same manner as in Example 1. As a result, the light receiving members D 'to F'
The fluorine content and the dynamic hardness of the surface layer were as shown in Table 13.

【0120】[0120]

【表13】 次いで、この光受容部材D'〜F'をキャノン製複写機N
P-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件
で耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー42
6はシリコンゴムローラーを使用し、さらに光受容部材
401の移動速度を300mm/secとしブレード42
1は反発弾性5%のウレタンゴムブレードを使用した。
この耐久後の表面層の磨耗量を表13に示す。
[Table 13] Next, the light receiving members D 'to F' are transferred to a Canon copier N
It was mounted on a modified model of P-6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 42
No. 6 uses a silicon rubber roller, and the moving speed of the light receiving member 401 is set to 300 mm / sec.
No. 1 used a urethane rubber blade having a rebound resilience of 5%.
Table 13 shows the wear amount of the surface layer after the durability.

【0121】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価結果は表9に、画像流れの
評価を表10に示した。
Further, Table 9 shows the results of evaluation of uneven scraping, fusion, and poor cleaning described in Example 2, and Table 10 shows the evaluation of image deletion.

【0122】これらの表に示すように、融着及び画像流
れに関しては実用上問題のないレベルであったが、10
万枚耐久によって摺擦傷及びムラ削れによるスジ状の画
像欠陥が発生する場合があった。
As shown in these tables, there was no practical problem with respect to fusing and image deletion.
In some cases, streak-like image defects due to abrasion and uneven scraping may occur due to the durability of all sheets.

【0123】又耐久後のウレタンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損が認め
られた。
When the edge of the urethane rubber blade after the endurance was observed with a metallographic microscope, damage such as a scratch was observed.

【0124】実施例4 実施例1と同様の方法で、図3に記載のプラズマCVD
装置を用いて表14の条件で円筒状導電性基体上に下部
阻止層、電荷輸送層および電荷発生層を積層した後、表
15の条件で表面層を0.5μm堆積しG〜Iの光受容
部材を製造した。
Example 4 In the same manner as in Example 1, the plasma CVD shown in FIG.
After the lower blocking layer, the charge transport layer and the charge generation layer were laminated on the cylindrical conductive substrate under the conditions shown in Table 14 using the apparatus, a surface layer was deposited at a thickness of 0.5 μm under the conditions shown in Table 15 and the light of G to I was applied. A receiving member was manufactured.

【0125】[0125]

【表14】 表 14 光受容部材の製造条件 下部阻止層・・・・・・SiH4 300scc H2 500scc B26 2000ppm パワー 100w(105MHz) 内圧 26.6Pa 膜厚 1μm 電荷輸送層・・・・・・SiH4 500scc H2 500scc CH4 50scc パワー 300w(105MHz) 内圧 26.6Pa 膜厚 15μm 電荷発生層・・・・・・SiH4 500scc H2 500scc パワー 300w(105MHz) 内圧 26.6Pa 膜厚 5μmTable 14 Table 14 Manufacturing conditions of light receiving member Lower blocking layer: SiH 4 300 scc H 2 500 scc B 2 H 6 2000 ppm Power 100 w (105 MHz) Internal pressure 26.6 Pa Film thickness 1 μm Charge transport layer ··· SiH 4 500scc H 2 500scc CH 4 50scc power 300w (105 MHz) pressure 26.6Pa thickness 15μm charge generation layer ······ SiH 4 500scc H 2 500scc power 300w (105 MHz) pressure 26.6Pa thickness 5 μm

【0126】[0126]

【表15】 さらに、7059ガラス基板上にも表15の条件でG〜
Iのa-C:F表面層サンプルを作成し、実施例1と同様
の方法によりG〜Iの表面層の弗素量及びダイナミック
硬度を測定した。
[Table 15] Further, G to G on a 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 15.
A sample of the aC: F surface layer of I was prepared, and the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of G to I were measured in the same manner as in Example 1.

【0127】その結果、光受容部材G〜Iの表面層の弗
素量及びダイナミック硬度は、表16に示した値であっ
た。
As a result, the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of the light receiving members GI were as shown in Table 16.

【0128】[0128]

【表16】 次いで、この光受容部材G〜Iをキャノン製複写機NP
-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件で
耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー426
はマグネットローラーを使用した。主帯電器402及び
分離帯電器407はシリコンゴムのローラー帯電、ロー
ラー転写の構成とした。又、光受容部材401の移動速
度を100mm/secとしブレード421は反発弾性3
5%のシリコンゴムブレードを使用した。この耐久後の
表面層の磨耗量を表16に示す。
[Table 16] Next, the light receiving members G to I are connected to a Canon copier NP.
It was mounted on a modified model of -6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 426
Used a magnet roller. The main charger 402 and the separation charger 407 have a configuration of roller charging and roller transfer of silicon rubber. Further, the moving speed of the light receiving member 401 is set to 100 mm / sec, and the blade 421 has a rebound resilience of 3 mm.
A 5% silicone rubber blade was used. Table 16 shows the amount of wear of the surface layer after the durability.

【0129】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価結果を17に、画像流れの
評価を表18に示す。
Further, the results of evaluation of uneven shaving, fusion, and cleaning failure described in Example 2 are shown in Table 17, and the evaluation of image deletion is shown in Table 18.

【0130】[0130]

【表17】 [Table 17]

【0131】[0131]

【表18】 これらの表に示すように、光受容部材G〜Iいずれの光
受容部材においても10万枚の耐久後でもムラ削れによ
って発生するスジ状の画像欠陥は全くなく、クリーニン
グ不良や融着等の画像欠陥も全く発生しなかった。さら
に、画像流れに関しても光受容部材の加温手段を設けず
とも、良好な画像特性が得られた。
[Table 18] As shown in these tables, none of the light-receiving members G to I had any streak-like image defects caused by uneven shaving even after the durability of 100,000 sheets. No defects occurred. Further, with respect to image deletion, good image characteristics were obtained without providing a heating means for the light receiving member.

【0132】又耐久後のシリコンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損は認め
られず、初期の状態が維持されていた。
Further, as a result of observing the edge portion of the silicon rubber blade after the endurance with a metallographic microscope, no damage such as a flaw was observed, and the initial state was maintained.

【0133】比較例4 実施例4と同様に、図3に記載のプラズマCVD装置を
用いて表14の条件で円筒状導電性基体上に下部阻止
層、電荷輸送層および電荷発生層を積層した後、表19
の条件で表面層を0.5μm堆積しG'〜I'の光受容部
材を製造した。
Comparative Example 4 In the same manner as in Example 4, a lower blocking layer, a charge transport layer, and a charge generation layer were laminated on a cylindrical conductive substrate under the conditions shown in Table 14 using the plasma CVD apparatus shown in FIG. Later, Table 19
Under the conditions described above, a surface layer was deposited to a thickness of 0.5 μm to produce light receiving members G ′ to I ′.

【0134】[0134]

【表19】 さらに、7059ガラス基板上にも表19の条件でG'
〜I'のa-C:F表面層サンプルを作成し、実施例1と
同様の方法によりG'〜I'の表面層の弗素量及びダイナ
ミック硬度を測定した。
[Table 19] Further, G ′ was also placed on a 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 19.
Samples of the aC: F surface layer of the samples I to I ′ were prepared, and the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers G ′ to I ′ were measured in the same manner as in Example 1.

【0135】その結果、光受容部材D'〜F'の表面層の
弗素量及びダイナミック硬度は、表20に示した値であ
った。
As a result, the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of the light receiving members D ′ to F ′ were as shown in Table 20.

【0136】[0136]

【表20】 次いで、この光受容部材G'〜I'をキャノン製複写機N
P-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件
で耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー42
6はマグネットローラーを使用し、さらに主帯電器40
2及び分離帯電器407はシリコンゴムのローラー帯
電、ローラー転写の構成とした。又、光受容部材401
の移動速度を100mm/secとしブレード421は反
発弾性8%のシリコンゴムブレードを使用した。この耐
久後の表面層の磨耗量を表20に示す。
[Table 20] Next, the light receiving members G ′ to I ′ are transferred to a Canon copier N
It was mounted on a modified model of P-6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 42
6 uses a magnet roller and further has a main charger 40
The second charging device 407 and the separation charging device 407 were configured to perform roller charging of silicon rubber and roller transfer. Also, the light receiving member 401
And the blade 421 was a silicon rubber blade having a rebound resilience of 8%. Table 20 shows the amount of wear of the surface layer after the durability.

【0137】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価結果を表21に、画像流れ
の評価を表22に示す。
Further, Table 21 shows the evaluation results of uneven shaving, fusion, and cleaning failure described in Example 2, and Table 22 shows the evaluation of image deletion.

【0138】[0138]

【表21】 [Table 21]

【0139】[0139]

【表22】 これらの表に示すように、磨耗量が100Å/1万枚よ
りも大きい値を示すa-C:F膜では、10万枚耐久後
の融着、さらに画像流れは実用上問題のないレベルであ
ったが、機械的強度が低くムラ削れや、白スジ状の摺擦
傷が画像欠陥として発生する場合があった。
[Table 22] As shown in these tables, in the aC: F film in which the abrasion amount is a value larger than 100 ° / 10,000 sheets, the fusion after 100,000 sheets of durability and the image deletion are at a level at which there is no practical problem. However, there was a case where the mechanical strength was low and uneven scraping or white streaks were found as image defects.

【0140】又耐久後のシリコンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損が認め
られた。
Further, as a result of observing the edge of the silicon rubber blade after the endurance with a metallographic microscope, damage such as a scratch was recognized.

【0141】実施例5 実施例4と同様に、図3に記載のプラズマCVD撃置を
用いて表14の条件で円筒状導電性基体上に下部阻止
層、電荷輸送層および電荷発生層を積層した後、表23
の条件で表面層を0.5μm堆積しJ〜Lの光受容部材
を製造した。
Example 5 Similarly to Example 4, a lower blocking layer, a charge transport layer and a charge generation layer were laminated on a cylindrical conductive substrate under the conditions shown in Table 14 by using the plasma CVD apparatus shown in FIG. Table 23
Under the conditions described above, a surface layer was deposited to a thickness of 0.5 μm to produce light-receiving members J to L.

【0142】[0142]

【表23】 さらに、7059ガラス基板上にも表23の条件でJ〜
Lのa-C:F表面層サンプルを作成し、実施例1と同
様の方法によりJ〜Lの表面層の弗素量及びダイナミッ
ク硬度を測定した。
[Table 23] Further, J to J on the 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 23.
Samples of L aC: F surface layer were prepared, and the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers J to L were measured in the same manner as in Example 1.

【0143】その結果、光受容部材J〜Lの表面層の弗
素量及びダイナミック硬度は、表24に示した値であっ
た。
As a result, the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of the light receiving members J to L were as shown in Table 24.

【0144】[0144]

【表24】 次いで、この光受容部材J〜Lをキャノン製複写機NP
-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件で
耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー426
はウレタンゴムローラーを使用し、さらに主帯電器40
2及び分離帯電器407はウレタンゴムのローラー帯
電、ローラー転写の構成とした。又、光受容部材401
の移動速度を400mm/secとしブレード421は反
発弾性50%のシリコンゴムブレードを使用した。この
耐久後の表面層の磨耗量を表24に示す。
[Table 24] Next, the light receiving members J to L are transferred to a Canon copying machine NP.
It was mounted on a modified model of -6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 426
Uses a urethane rubber roller, and the main charger 40
2 and the separation charger 407 were configured to perform roller charging of urethane rubber and roller transfer. Also, the light receiving member 401
The moving speed was 400 mm / sec, and a silicon rubber blade having a rebound resilience of 50% was used as the blade 421. Table 24 shows the amount of wear of the surface layer after the durability.

【0145】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価結果は表17に、画像流れ
の評価を表18に示した。
Further, Table 17 shows the evaluation results of uneven shaving, fusing, and cleaning failure described in Example 2, and Table 18 shows the evaluation of image deletion.

【0146】これらの表に示すように、光受容部材J〜
Lいずれの光受容部材においても10万枚の耐久後でも
ムラ削れによって発生するスジ状の画像欠陥は全くな
く、クリーニング不良や融着等の画像欠陥も全く発生し
なかった。さらに、画像流れに関しても光受容部材の加
温手段を設けずとも、良好な画像特性が得られた。
As shown in these tables, the light receiving members J to J
In each of the light receiving members L, even after 100,000 sheets had been used, no streak-like image defects occurred due to uneven shaving, and no image defects such as poor cleaning and fusion occurred. Further, with respect to image deletion, good image characteristics were obtained without providing a heating means for the light receiving member.

【0147】又耐久後のシリコンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損は認め
られず、初期の状態が維持されていた。
When the edge of the silicon rubber blade after the endurance was observed with a metallographic microscope, no damage such as a flaw was observed, and the initial state was maintained.

【0148】比較例5 実施例4と同様に、図3に記載のプラズマCVD装置を
用いて表14の条件で円筒状導電性基体上に下部阻止
層、電荷輸送層および電荷発生層を積層した後、表25
の条件で表面層を0.5μm堆積しJ'〜L'の光受容部
材を製造した。
Comparative Example 5 In the same manner as in Example 4, a lower blocking layer, a charge transport layer and a charge generation layer were laminated on a cylindrical conductive substrate under the conditions shown in Table 14 using the plasma CVD apparatus shown in FIG. Later, Table 25
Under the conditions described above, a surface layer was deposited to a thickness of 0.5 μm to produce light receiving members J ′ to L ′.

【0149】[0149]

【表25】 さらに、7059ガラス基板上にも表25の条件でJ'
〜L'のa-C:F表面層サンプルを作成し、実施例2と
同様の方法によりJ'〜L'の表面層の弗素量及びダイナ
ミック硬度を測定した。
[Table 25] Further, J ′ was also applied on a 7059 glass substrate under the conditions shown in Table 25.
Samples of the aC: F surface layer of L ′ to L ′ were prepared, and the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of J ′ to L ′ were measured in the same manner as in Example 2.

【0150】その結果、光受容部材J'〜L'の表面層の
弗素量及びダイナミック硬度は、表26に示した値であ
った。
As a result, the fluorine content and the dynamic hardness of the surface layers of the light receiving members J ′ to L ′ were as shown in Table 26.

【0151】[0151]

【表26】 次いで、この光受容部材J'〜L'をキャノン製複写機N
P-6085の改造機に搭載し、実施例2と同様の条件
で耐久評価を行った。但し、クリーニングローラー42
6はシリコンゴムローラーを使用し、さらに主帯電器4
02及び分離帯電器407はウレタンゴムのローラー帯
電、ローラー転写の構成とした。又、光受容部材401
の移動速度を400mm/secとしブレード421は反
発弾性55%のシリコンゴムブレードを使用した。この
耐久後の表面層の磨耗量を表26に示す。
[Table 26] Next, these light receiving members J 'to L' are
It was mounted on a modified model of P-6085, and the durability was evaluated under the same conditions as in Example 2. However, the cleaning roller 42
6 uses a silicon rubber roller and further has a main charger 4
02 and the separation charger 407 were configured to perform roller charging and roller transfer of urethane rubber. Also, the light receiving member 401
And the blade 421 used was a silicone rubber blade having a rebound resilience of 55%. Table 26 shows the amount of wear of the surface layer after the durability.

【0152】さらに実施例2に記載したムラ削れ、融
着、クリーニング不良の評価で得られた結果は表21
に、画像流れの評価を表22に示した。
The results obtained in the evaluation of uneven scraping, fusing, and cleaning failure described in Example 2 are shown in Table 21.
Table 22 shows the evaluation of image deletion.

【0153】これらの表に示すように、磨耗量が0.1
Å/1万枚よりも小さい値を示すa-C:F膜では、1
0万枚耐久によってクリーニング不良、画像流れが発生
する場合があることが判明した。
As shown in these tables, the amount of wear was 0.1.
In the aC: F film showing a value smaller than Å / 10,000 sheets, 1
It has been found that, due to the durability of 100,000 sheets, defective cleaning and image deletion may occur.

【0154】又耐久後のシリコンゴムブレードのエッジ
部を金属顕微鏡により観察した結果、傷等の破損が認め
られた。
Further, as a result of observing the edge of the silicon rubber blade after the endurance with a metallographic microscope, damage such as a scratch was recognized.

【0155】[0155]

【発明の効果】以上詳述したように本発明は、平均粒径
5〜8μmの現像剤を反発弾性10%以上50%以下の
弾性ゴムブレードでスクレープクリーニングする構成を
有する電子写真工程のいずれかに、光受容郡材表面の摺
擦手段を設けた電子写真装置において、A4版の複写工
程を転写紙1万枚に行った後の磨耗量が0.1Å以上1
00Å以下であり、且つ、弗素含有量が5%以上50%
以下であり、さらにダイナミック硬度が10〜500k
gf/mm2の範囲である非単結晶質弗素化炭素膜で表面
層を構成する光受容部材を用いることにより、この表面
層を均一に磨耗することが可能であり、ムラ削れにより
発生する画像濃度ムラ、及び現像剤の融着を防止するこ
とが可能になった。
As described in detail above, the present invention provides any one of the electrophotographic processes having a constitution in which a developer having an average particle size of 5 to 8 μm is scraped and cleaned with an elastic rubber blade having a rebound resilience of 10% to 50%. In an electrophotographic apparatus provided with a means for rubbing the surface of a light-receiving material, the amount of abrasion after performing the copying process of A4 size paper on 10,000 sheets of transfer paper is 0.1 mm or more.
00% or less and the fluorine content is 5% to 50%
Or less, and the dynamic hardness is 10 to 500 k
By using a light-receiving member constituting a surface layer with a non-single-crystalline fluorinated carbon film having a range of gf / mm 2, the surface layer can be uniformly worn, and an image generated by uneven shaving can be obtained. It is possible to prevent density unevenness and fusion of the developer.

【0156】加えて、表面層を均一に転写紙1万枚当た
り0.1Å以上100Å以下の範囲で磨耗させることに
より、いかなる環境下でも光受容部材表面を直接加温す
る手段を設けずに、画像流れのような画像欠陥を効果的
に防止することが可能である。
In addition, by uniformly abrading the surface layer in the range of 0.1 ° to 100 ° per 10,000 transfer sheets, there is no need to provide a means for directly heating the surface of the light receiving member under any environment. It is possible to effectively prevent image defects such as image deletion.

【0157】さらに、使用できる現像剤の種類及び電子
写真装置のコンパクト化、コストダウン等の電子写真装
置設計のラチチュードを大幅に広げることが可能となっ
た。
Furthermore, the type of developer that can be used, and the latitude in designing an electrophotographic apparatus, such as downsizing of the electrophotographic apparatus and cost reduction, can be greatly expanded.

【0158】なお、本発明はその主旨の範囲内で適宜、
変形組合せを行うことができ、上記した各実施例に限定
されないことは言うまでもない。
The present invention may be appropriately performed within the scope of the gist.
It goes without saying that a modified combination can be made, and the present invention is not limited to the above embodiments.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による光受容部材の一例を示す模式的断
面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a light receiving member according to the present invention.

【図2】本発明に適用可能なPCVD法により光受容部
材を製造するために用いられる堆積装置の一例を示す模
式的構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a deposition apparatus used for manufacturing a light receiving member by a PCVD method applicable to the present invention.

【図3】本発明に適用可能なPCVD法により光受容部
材を製造するために用いられる堆積装置の他の例を示す
模式的構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing another example of a deposition apparatus used for manufacturing a light receiving member by a PCVD method applicable to the present invention.

【図4】電子写真装置の一例を説明する模式的断面図で
ある。
FIG. 4 is a schematic sectional view illustrating an example of an electrophotographic apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 導電性基体 102 電荷注入阻止層 103 光導電層 104 表面層 105 電荷発生層 106 電荷輸送層 401 光受容部材 402 主帯電器 403 静電潜像形成部位 404 現像器 405 転写紙供給系 406 転写帯電器 407 分離帯電器 408 搬送系 409 除電光源 410 ハロゲンランプ 411 原稿台 412 原稿 413 ミラー 414 ミラー 415 ミラー 416 ミラー 417 レンズユニット 418 レンズ 419 給紙ガイド 420 ブランク露光LED 421 クリーニングブレード 422 レジストローラー 423 導電性基体 424 定着器 425 クリーナー 426 クリーニングローラー 2100,3100 堆積装置 2110,3110 反応容器 2111,3111 カソード電極 2112,3112 導電性基体 2113,3113 基体加熱用ヒーター 2114,3114 ガス導入管 2115,3115 高周波マッチングボックス 2116,3116 ガス配管 2117,3117 リークバルブ 2118,3118 メインバルブ 2119,3119 真空計 2120,3119 高周波電源 2121,3121 絶縁材料 3122 絶縁シールド板 2123,3123 受け台 2200,3200 ガス供給装置 2211〜2216,3211〜3216 マスフロ
ーコントローラー 2221〜2226,3221〜3226 ボンベ 2231〜2236,3231〜3236 バルブ 2241〜2246,3241〜3246 流入バル
ブ 2251〜2256,3251〜3256 流出バル
ブ 2260,3260 補助バル
ブ 2261〜2266,3261〜3266 圧力調整
REFERENCE SIGNS LIST 101 conductive substrate 102 charge injection blocking layer 103 photoconductive layer 104 surface layer 105 charge generation layer 106 charge transport layer 401 light receiving member 402 main charger 403 electrostatic latent image forming site 404 developer 405 transfer paper supply system 406 transfer charging Device 407 Separator charger 408 Transport system 409 Static elimination light source 410 Halogen lamp 411 Document table 412 Document 413 Mirror 414 Mirror 415 Mirror 416 Mirror 417 Lens unit 418 Lens 419 Feed guide 420 Blank exposure LED 421 Cleaning blade 422 Resist roller base 423 424 Fixing device 425 Cleaner 426 Cleaning roller 2100, 3100 Deposition device 2110, 3110 Reaction vessel 2111, 3111 Cathode electrode 2112, 3112 Conductivity Substrate 2113, 3113 Substrate heating heater 2114, 3114 Gas inlet tube 2115, 3115 High frequency matching box 2116, 3116 Gas pipe 2117, 3117 Leak valve 2118, 3118 Main valve 2119, 3119 Vacuum gauge 2120, 3119 High frequency power supply 2121, 3121 Insulating material 3122 Insulation shield plate 2123, 3123 Receiving stand 2200, 3200 Gas supply device 2211 to 2216, 3211 to 3216 Mass flow controller 2221 to 2226, 3221 to 2226 Cylinder 2231 to 2236, 3231 to 2236 Valve 2224 to 2246, 3241 to 3246 Inflow valve 2251 Outflow valve 2260,3260 Auxiliary valve 2261-226 , 3261 to 3266 pressure regulator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 9/08 G03G 9/08 21/10 21/00 312 318 (72)発明者 岡村 竜次 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2H005 AA00 EA05 2H034 AA02 BC03 BF02 2H068 DA04 DA05 DA23 DA43 DA44 DA51 EA24 FA01 FA03 FC01 FC08 FC15 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) G03G 9/08 G03G 9/08 21/10 21/00 312 318 (72) Inventor Ryuji Okamura Ota-ku, Tokyo Shimomaruko 3-chome 30-2 Canon Inc. F-term (reference) 2H005 AA00 EA05 2H034 AA02 BC03 BF02 2H068 DA04 DA05 DA23 DA43 DA44 DA51 EA24 FA01 FA03 FC01 FC08 FC15

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光受容部材を回転させ、帯電、露光、現
像、転写、クリーニング工程を順次繰り返す電子写真装
置において、前記工程のいずれかに光受容部材表面を摺
擦する摺擦手段を設け該光受容部材が平均粒径5〜8μ
mの現像剤を該光受容部材に現像、転写材ヘ転写し、現
像剤が転写された後の光受容部材表面を反発弾性10%
以上50%以下の弾性ゴムブレードでスクレープクリー
ニングする電子写真装置でA4版の複写工程を転写紙1
万枚に行った後の磨耗量が0.1Å以上100Å以下で
ある非単結晶質弗素化炭素膜で表面層が構成されている
ことを特徴とする電子写真装置。
1. An electrophotographic apparatus in which a light receiving member is rotated and charging, exposure, development, transfer, and cleaning steps are sequentially repeated, and a rubbing means for rubbing the surface of the light receiving member is provided in any of the steps. The light receiving member has an average particle size of 5 to 8 μm.
m of the developer on the light receiving member and transferred to a transfer material, and the surface of the light receiving member after the developer is transferred has a rebound resilience of 10%.
An electrophotographic apparatus that scrapes and cleans with an elastic rubber blade of 50% or less and the A4 size copying process is performed on transfer paper 1
An electrophotographic apparatus characterized in that the surface layer is composed of a non-single crystalline fluorinated carbon film having an abrasion amount of at least 0.1 mm and not more than 100 mm after being subjected to every 10,000 sheets.
【請求項2】 前記摺擦手段がクリーニング工程に設け
られたゴムローラー又はマグネットローラーからなるク
リーニングローラーであることを特徴とする請求項1に
記載の電子写真装置。
2. An electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein said rubbing means is a cleaning roller comprising a rubber roller or a magnet roller provided in a cleaning step.
【請求項3】 前記摺擦手段としてクリーニング工程に
設けられたゴムローラーが発泡状であることを特徴とす
る請求項1または2に記載の電子写真装置。
3. The electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein the rubber roller provided in the cleaning step as the rubbing means is foamed.
【請求項4】 前記摺擦手段が帯電工程に設けられたロ
ーラー帯電又は/及びローラー転写であることを特徴と
する請求項1ないし3に記載の電子写真装置。
4. An electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein said rubbing means is roller charging and / or roller transfer provided in a charging step.
【請求項5】 前記光受容部材が導電性基体上にシリコ
ン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層
及び非単結晶材料で構成された表面層からなることを特
徴とする請求項1ないし4に記載の電子写真装置。
5. The light receiving member comprises a photoconductive layer composed of a non-single-crystal material mainly composed of silicon atoms and a surface layer composed of a non-single-crystal material on a conductive substrate. An electrophotographic apparatus according to claim 1.
【請求項6】 前記表面層のダイナミック硬度が10〜
500kgf/mm 2であることを特徴とする請求項1
ないし5に記載の電子写真装置。
6. The dynamic hardness of the surface layer is 10 to 10.
500kgf / mm Two2. The method according to claim 1, wherein
6. The electrophotographic apparatus according to any one of items 1 to 5.
【請求項7】 前記非単結晶質弗素化炭素膜の弗素量
((F/(C+F))が5〜50原子%であることを特徴
とする請求項1ないし6に記載の電子写真装置。
7. The electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein the amount of fluorine ((F / (C + F)) of the non-single crystalline fluorinated carbon film is 5 to 50 atomic%.
【請求項8】 前記表面層が、少なくとも炭化水素系及
び又は弗素系のガスを1〜450MHzの高周波を用い
たプラズマCDV法によって分解することによって堆積
成膜することを特徴とする請求項1ないし7に記載の電
子写真装置。
8. The method according to claim 1, wherein the surface layer is formed by decomposing at least a hydrocarbon gas and / or a fluorine gas by a plasma CDV method using a high frequency of 1 to 450 MHz. 8. The electrophotographic apparatus according to 7.
【請求項9】 前記光受容部が、電荷注入阻止層、光導
電層、表面層の3層で構成されていることを特徴とする
請求項1ないし8に記載の電子写真装置。
9. The electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein said photoreceptor comprises three layers: a charge injection blocking layer, a photoconductive layer, and a surface layer.
【請求項10】 前記光受容部が、電荷輸送層、電荷発
生層、表面層の3層で構成されていることを特徴とする
請求項1ないし9に記載の電子写真装置。
10. The electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein the photoreceptor comprises three layers: a charge transport layer, a charge generation layer, and a surface layer.
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