JP2000162405A - Optical product and cathode-ray tube using it - Google Patents

Optical product and cathode-ray tube using it

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JP2000162405A
JP2000162405A JP11122055A JP12205599A JP2000162405A JP 2000162405 A JP2000162405 A JP 2000162405A JP 11122055 A JP11122055 A JP 11122055A JP 12205599 A JP12205599 A JP 12205599A JP 2000162405 A JP2000162405 A JP 2000162405A
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JP
Japan
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film
light
layer
optical article
transparent dielectric
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JP11122055A
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Japanese (ja)
Inventor
Terufusa Kunisada
照房 國定
Etsuo Ogino
悦男 荻野
Chihiro Sakai
千尋 酒井
Koji Nakanishi
功二 中西
Yasunori Yanaka
保則 谷中
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent reflection on a face panel of a cathode-ray by applying a coat of an antireflection film formed by laminating a metal film and a transparent dielectric film for the purpose of reducing reflection of outside light on the surface of the cathode-ray tube and enlarging a display contrast. SOLUTION: An outer surface of a face panel for this cathode-ray tube is coated with an antireflection film 3 comprising a praseodymium titanate film of 44.9 nm thickness as a first layer, an alloy film of nickel and iron of 4.9 nm thickness as a second layer, a praseodymium titanate film of 53.4 nm thickness as a third layer, an alloy film of nickel and iron of 3.9 nm thickness as a forth layer, a praseodymium titanate film of 20.6 nm thickness as a fifth layer, and a magnesium fluoride film of 84.7 nm thickness as a sixth layer, laminated in this order. Thereby, a double image cannot be generated, electrification and reflection of outside light in the surface of the cathode-ray tube can be prevented, and a video image contrast can be increased.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、導電性と光吸収性
を兼ね備えた反射防止膜が被覆されたガラス物品に関
し、とりわけ陰極線管に用いられるガラス製フェースパ
ネルやガラス製フェースパネルに貼りつけて用いられる
ガラス板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass article coated with an antireflection film having both conductivity and light absorption, and more particularly to a glass face panel used for a cathode ray tube or a glass face panel attached to a glass face panel. It relates to a glass plate used.

【0002】[0002]

【従来の技術】テレビジョン等のように陰極線管を用い
た表示装置では、表示面での外光の反射率を低くして表
示品質をよくすることが行われている。また、この陰極
線管を用いた表示装置では、電子銃の使用により高電圧
が用いられるため表示面は帯電し、これにより空気中の
ゴミや埃を引きつける。この表示面の帯電を防止するた
めに、陰極線管の表面を導電性にすることが行われてい
る。また、高電圧で加速した電子線によって電磁波が発
生すると、これが人体へ悪影響を及ぼす恐れがある。そ
こで、電磁波遮蔽の目的で表示部前面を導電性の膜で被
覆することが行われている。このため、導電性反射防止
膜を被覆したガラス板を陰極線管のフェースパネルの外
表面に樹脂で貼りつけたり、フェースパネル自身の外表
面に直接導電性の反射防止膜を被覆することが行われて
いる。
2. Description of the Related Art In a display device using a cathode ray tube, such as a television, a display quality is improved by reducing the reflectance of external light on a display surface. Further, in a display device using this cathode ray tube, a high voltage is used by using an electron gun, so that the display surface is charged, thereby attracting dirt and dust in the air. In order to prevent the display surface from being charged, the surface of the cathode ray tube is made conductive. In addition, when an electromagnetic wave is generated by an electron beam accelerated by a high voltage, this may adversely affect a human body. Therefore, the front surface of the display unit is covered with a conductive film for the purpose of shielding electromagnetic waves. For this reason, a glass plate coated with a conductive anti-reflection film is bonded to the outer surface of the face panel of the cathode ray tube with a resin, or the outer surface of the face panel itself is directly coated with a conductive anti-reflection film. I have.

【0003】上記の陰極線管の表示品質を向上させる目
的で用いられるガラス物品として、特開平6−2634
83号公報には、ガラス板/ITO/チタン酸プラセオ
ジウム/フッ化マグネシウム/チタン酸プラセオジウム
/フッ化マグネシウムで表される積層体が開示されてい
る。
As a glass article used for the purpose of improving the display quality of the above-mentioned cathode ray tube, JP-A-6-2634 is known.
No. 83 discloses a laminate represented by glass plate / ITO / praseodymium titanate / magnesium fluoride / praseodymium titanate / magnesium fluoride.

【0004】また、金属層と透明酸化物層を積層して導
電性の反射防止膜としたものとして、特開昭64−70
701号公報に開示されているガラス板/金属/酸化チ
タン/酸化珪素で表される積層体や、特開平1−180
333号公報に開示されているガラス板/フッ化マグネ
シウム/金属/酸化チタン/フッ化マグネシウムで表さ
れる積層体や、特許公報第2565538号に開示され
ているガラス/チタン酸プラセオジウム/金属/チタン
酸プラセオジウム/フッ化マグネシウムで表せる積層体
がある。そして、金属層としては、ステンレス、チタ
ン、クロム、ジルコニウム、モリブデン、ニッケル、ク
ロム合金等が記載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 64-70 discloses a conductive antireflection film formed by laminating a metal layer and a transparent oxide layer.
No. 701 discloses a laminated body represented by a glass plate / metal / titanium oxide / silicon oxide;
No. 333 discloses a glass plate / magnesium fluoride / metal / titanium oxide / magnesium fluoride laminate, and a glass / praseodymium titanate / metal / titanium disclosed in Japanese Patent No. 25665538. There is a laminate that can be represented by praseodymium acid / magnesium fluoride. As the metal layer, stainless steel, titanium, chromium, zirconium, molybdenum, nickel, chromium alloy and the like are described.

【0005】また、特開平1−200952号公報に
は、ガラス板/ステンレス合金/チタン酸プラセオジウ
ム/ステンレス合金/フッ化マグネシウムのような金属
層を2層有する4層構成の積層体が開示されている。さ
らに、金属以外の光吸収膜と透明誘電体膜を積層して導
電性の反射防止膜としたものが特開平9−156964
号公報に開示されており、ガラス板/窒化チタン/窒化
シリコン/二酸化珪素で表される積層体が記載されてい
る。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-200952 discloses a four-layer laminate having two metal layers such as glass plate / stainless alloy / praseodymium titanate / stainless alloy / magnesium fluoride. I have. Further, a light absorbing film other than metal and a transparent dielectric film are laminated to form a conductive antireflection film.
Discloses a laminate represented by a glass plate / titanium nitride / silicon nitride / silicon dioxide.

【0006】前述の金属または金属窒化物を光吸収膜と
し、光吸収膜と透明誘電体膜を積層する反射防止膜を陰
極線管の前面に直接あるいは間接に設けた場合、透過率
を低くでき表示のコントラストを大きくするのに有効で
あることが知られている。
When the above-mentioned metal or metal nitride is used as a light absorbing film, and an antireflection film for laminating the light absorbing film and the transparent dielectric film is provided directly or indirectly on the front surface of the cathode ray tube, the transmittance can be reduced. Is known to be effective in increasing the contrast of the image.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
6−263483号公報に記載の反射防止膜は、すべて
の層が透明酸化物で構成されているために光吸収性がな
い。したがって、導電性と高い透過率を有するものの、
その反射防止膜を陰極線管の前面に設けた場合、表示コ
ントラストを大きくして画面を見やすくするという機能
はなかった。
However, the antireflection film described in JP-A-6-263483 has no light absorbing property because all layers are made of a transparent oxide. Therefore, although having high conductivity and conductivity,
When the antireflection film was provided on the front surface of the cathode ray tube, there was no function of increasing the display contrast and making the screen easier to see.

【0008】一方、上記の従来技術の金属膜と透明酸化
物膜を積層した導電性反射防止膜は、金属膜の厚みを調
整することにより、透過率を調整することが可能であ
る。したがって、表示コントラストを大きくするのに好
都合である30%以上50%以下の透過率に調整するこ
とができる。しかし、これらの反射防止膜では、空気側
から見た反射防止膜表面の反射率を低減するように各膜
の厚みを調整すると、透明基体と反射防止膜の界面での
反射率が増加するという問題が認識されるようになっ
た。
On the other hand, in the conductive antireflection film in which the metal film and the transparent oxide film of the above-mentioned conventional technology are laminated, the transmittance can be adjusted by adjusting the thickness of the metal film. Therefore, the transmittance can be adjusted to 30% or more and 50% or less, which is convenient for increasing the display contrast. However, in these antireflection films, when the thickness of each film is adjusted so as to reduce the reflectance of the surface of the antireflection film viewed from the air side, the reflectance at the interface between the transparent substrate and the antireflection film increases. The problem came to be recognized.

【0009】ガラスと反射防止膜の界面での反射率が高
いと、反射防止膜を直接被覆したガラスパネルを用いて
陰極線管とした場合、あるいは無反射防止膜を被覆した
ガラス基体を陰極線管のフェースパネルに貼りつけた場
合のいずれにおいても、陰極線管表示の映像が2重に写
る課題があった。前述の2重像が発生する課題は、とり
わけ陰極線管のフェースパネルの内部透過率が高い場合
に顕著になる。また、上記の従来技術の特開平9−15
6964号公報で開示さている金属窒化物の膜と透明誘
電体膜を積層した反射防止膜においても、上記の課題が
ある。
If the reflectance at the interface between the glass and the antireflection film is high, the cathode ray tube is formed by using a glass panel directly coated with the antireflection film, or the glass substrate coated with the antireflection film is used as a cathode ray tube. In any of the cases in which the image is attached to the face panel, there is a problem that the image displayed on the cathode ray tube is doubled. The problem of the occurrence of the double image is particularly remarkable when the internal transmittance of the face panel of the cathode ray tube is high. Further, the above-mentioned prior art disclosed in JP-A-9-15
The above-described problem also occurs in the antireflection film in which the metal nitride film and the transparent dielectric film disclosed in Japanese Patent No. 6964 are laminated.

【0010】また、陰極線管はフェースパネルが平坦
化、また大型化する傾向にある。この場合、フェースパ
ネルに用いられるガラスは強度を維持するために、フェ
ースパネル周辺部のガラス厚みは、中央部のそれより大
幅に肉厚に設計される。上記の2重像の問題を解消する
ために、ガラスの内部透過率を低くすることが考えられ
るが、その手段を採用すると陰極線管の周辺部の映像が
中央部のそれより暗くなってしまう。機械的強度を確保
するために周辺部を肉厚にし、かつ周辺部と中央部の映
像の明るさを等しくするためには、フェースパネルに用
いるガラス自体の内部透過率を高くする必要がある。こ
の内部透過率が高いフェースパネルの外表面に、従来技
術の金属膜または金属窒化物の光吸収膜を含む反射防止
膜を被覆すると、ガラスと反射防止膜との界面での反射
率が高くなり、表示が2重像になる課題があった。
Further, the face panel of the cathode ray tube tends to be flat and large. In this case, in order to maintain the strength of the glass used for the face panel, the thickness of the glass at the periphery of the face panel is designed to be much larger than that at the center. In order to solve the above problem of the double image, it is conceivable to lower the internal transmittance of the glass. However, if such means is adopted, the image at the periphery of the cathode ray tube becomes darker than that at the center. In order to increase the thickness of the peripheral portion in order to secure mechanical strength and to make the brightness of the image in the peripheral portion equal to that in the central portion, it is necessary to increase the internal transmittance of the glass itself used for the face panel. When the outer surface of the face panel having a high internal transmittance is coated with an antireflection film including a conventional metal film or a metal nitride light absorbing film, the reflectance at the interface between the glass and the antireflection film increases. There is a problem that the display becomes a double image.

【0011】本発明の目的は、光吸収膜を含む反射防止
膜を陰極線管のフェースパネルの外表面上に被覆したと
きや光吸収膜を含む反射防止膜を被覆したガラス板を陰
極線管のフェースパネル上に貼りつけたときなどに生じ
る表示の2重像の問題を解決することである。また、本
発明の他の目的は、表示面に外光の映り込みを防止し、
表示コントラストの大きい表示を得ることを目的とす
る。
An object of the present invention is to provide an anti-reflection film containing a light absorbing film on the outer surface of a face panel of a cathode ray tube, or a glass plate coated with an anti-reflection film containing a light absorbing film on the face of the cathode ray tube. An object of the present invention is to solve the problem of a double image of a display which occurs when the display is attached to a panel. Another object of the present invention is to prevent reflection of external light on the display surface,
An object is to obtain a display having a large display contrast.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1は、屈折率が
1.4〜1.7の透光性基体上に、透光性基体側から順
に第1層として光吸収膜、第2層として屈折率が1.6
〜2.4である透明誘電体膜、第3層として光吸収膜、
第4層として屈折率が1.6〜2.4である透明誘電体
膜および第5層として屈折率が1.35〜1.5の透明
誘電体膜が積層されてなる反射防止膜が被覆された反射
防止膜付きの光学物品である。
According to a first aspect of the present invention, a light-absorbing film and a second layer are formed on a light-transmitting substrate having a refractive index of 1.4 to 1.7 as a first layer in order from the light-transmitting substrate. The refractive index is 1.6
To 2.4, a light-absorbing film as a third layer,
A fourth layer is coated with a transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 and a fifth layer is coated with an antireflection film formed by laminating a transparent dielectric film having a refractive index of 1.35 to 1.5. Optical article provided with an antireflection film.

【0013】ここにいう屈折率は、波長550nmにお
ける屈折率である。光吸収膜を構成するものとして、金
属、合金、金属窒化物を用いることができる。光吸収膜
が、1.6〜2.4の屈折率の透明誘電体膜に挟まれて
2つの層に積層されることは、透光性基体から入射する
光が透光性基体と反射防止膜の界面で反射するときの反
射率を低くする上で重要である。2つの光吸収膜は同一
の物質であってもよく、互いに異なっていてもよい。
The refractive index mentioned here is a refractive index at a wavelength of 550 nm. Metals, alloys, and metal nitrides can be used for forming the light absorbing film. Since the light absorbing film is laminated in two layers between the transparent dielectric films having a refractive index of 1.6 to 2.4, the light incident from the light transmitting substrate and the light transmitting substrate are prevented from being reflected. This is important for lowering the reflectance at the interface of the film. The two light absorbing films may be the same material or different from each other.

【0014】請求項2は、請求項1において、第2層お
よび第4層の透明誘電体膜の厚みが30〜80nm、第
5層の透明誘電体膜の厚みが60〜100nmであるこ
とを特徴とする。
According to a second aspect, in the first aspect, the thickness of the transparent dielectric films of the second and fourth layers is 30 to 80 nm, and the thickness of the transparent dielectric film of the fifth layer is 60 to 100 nm. Features.

【0015】透光性基体から入射する光が透光性基体と
反射防止膜の界面で反射するときの反射率を低くし2重
像の発生をより確実に防止する上で、第2層および第4
層の透明誘電体膜の厚みは30nm以上、さらには40
nm以上とするのが好ましく、80nm以下さらには6
0nm以下とするのが好ましい。
In order to reduce the reflectance when light incident from the light-transmitting substrate is reflected at the interface between the light-transmitting substrate and the antireflection film to more reliably prevent the occurrence of a double image, the second layer and the 4th
The thickness of the transparent dielectric film of the layer is 30 nm or more, and
nm or more, preferably 80 nm or less, and more preferably 6 nm or less.
It is preferably set to 0 nm or less.

【0016】また、透光性基体から入射する光が透光性
基体と反射防止膜の界面で反射するときの反射率を低く
し2重像の発生を確実に防止する上で、第5層の透明誘
電体膜の厚みを60nm以上、さらには65nm以上と
するのが好ましく、100nm以下さらには80nm以
下とするのが好ましい。
In order to reduce the reflectance when the light incident from the light-transmitting substrate is reflected at the interface between the light-transmitting substrate and the antireflection film and to reliably prevent the occurrence of a double image, the fifth layer The thickness of the transparent dielectric film is preferably 60 nm or more, more preferably 65 nm or more, and preferably 100 nm or less, and more preferably 80 nm or less.

【0017】請求項3は、請求項1または2において、
光吸収膜がチタン、クロム、ジルコニウム、モリブデ
ン、鉄、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ニッケル、ニ
ッケル鉄合金およびステンレス合金からなる金属群から
選ばれた少なくとも1種または2種以上の混合物の膜で
あることを特徴とする。
[0017] Claim 3 is based on claim 1 or 2,
The light absorbing film is a film of at least one kind or a mixture of two or more kinds selected from a metal group consisting of titanium, chromium, zirconium, molybdenum, iron, niobium, tantalum, hafnium, nickel, nickel iron alloy and stainless alloy. It is characterized by.

【0018】これらの金属、合金あるいはその混合物の
膜は、着色が抑制された透過色を呈し、陰極線管のカラ
ー表示の色を損なうことがない。
The films of these metals, alloys or mixtures thereof exhibit transmission colors with suppressed coloring and do not impair the color display of the cathode ray tube.

【0019】請求項4は、請求項3において、光吸収膜
を金属窒化物の膜で構成したときに、第1層および第3
層の金属窒化物それぞれの厚みが5nm〜18nmであ
ることのを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, when the light absorbing film is made of a metal nitride film, the first layer and the third
The thickness of each metal nitride of the layer is 5 nm to 18 nm.

【0020】厚みが5nm未満であると光吸収性が小さ
く、表示のコントラストが低下するとともに帯電防止性
能が劣化するので好ましくない。この観点から6nm以
上とするのがさらに好ましい。一方、厚みが18nmを
越えると、光吸収性が大きくなり表示像が暗くなるので
好ましくない。この観点から12nm以下とするのがさ
らに好ましい。光吸収膜の厚みは、光学物品の可視光線
透過率が30〜50%の範囲になるように選ぶのが好ま
しい。
When the thickness is less than 5 nm, the light absorption is small, the contrast of display is reduced, and the antistatic performance is undesirably deteriorated. From this viewpoint, the thickness is more preferably 6 nm or more. On the other hand, when the thickness exceeds 18 nm, the light absorption becomes large and the display image becomes dark, which is not preferable. From this viewpoint, the thickness is more preferably 12 nm or less. The thickness of the light absorbing film is preferably selected so that the visible light transmittance of the optical article is in the range of 30 to 50%.

【0021】請求項5は、請求項3または4において、
屈折率が1.6〜2.4の透明誘電体膜を酸化クロム膜
で構成したことを特徴とする。
A fifth aspect of the present invention relates to the third or fourth aspect,
The transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 is formed of a chromium oxide film.

【0022】請求項6は、請求項1または2において、
光吸収膜が窒化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウ
ム、窒化ハフニウム、窒化タンタルからなる金属窒化物
の群から選ばれた少なくとも1種または2種以上の混合
物の膜であることを特徴とする。
A sixth aspect of the present invention is based on the first or second aspect.
The light absorption film is a film of at least one kind or a mixture of two or more kinds selected from the group consisting of metal nitrides composed of titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, and tantalum nitride.

【0023】これらの金属窒化物の膜は着色が抑制され
た透過色を呈し、陰極線管のカラー表示の色を損なうこ
とがない。
These metal nitride films exhibit a transmission color in which coloring is suppressed, and do not impair the color of the color display of the cathode ray tube.

【0024】請求項7は、請求項6において、光吸収膜
を金属または合金の膜で構成したときに、第1層および
第3層の厚みが3〜6nmであることを特徴とする。厚
みが3nm未満であると光吸収性が小さく、表示のコン
トラストが低下するとともに帯電防止性能が劣化する。
一方6nmを越えると、光吸収量が大きくなり表示像が
暗くなる。光吸収膜の厚みは、光学物品の可視光線透過
率が30〜50%の範囲になるように選ぶのが好まし
い。
A seventh aspect of the present invention is characterized in that, in the sixth aspect, when the light absorbing film is formed of a metal or alloy film, the thickness of the first and third layers is 3 to 6 nm. When the thickness is less than 3 nm, the light absorption is small, the display contrast is reduced, and the antistatic performance is deteriorated.
On the other hand, if it exceeds 6 nm, the amount of light absorption increases and the display image becomes dark. The thickness of the light absorbing film is preferably selected so that the visible light transmittance of the optical article is in the range of 30 to 50%.

【0025】請求項8は、屈折率が1.4〜1.7の透
光性基体上に、透光性基体側から順に第1層として屈折
率が1.6〜2.4である透明誘電体膜、第2層として
光吸収膜、第3層として屈折率が1.6〜2.4である
透明誘電体膜、第4層として光吸収膜および第5層とし
て屈折率が1.35〜1.5の透明誘電体膜が積層して
なる反射防止膜が被覆された反射防止膜付き光学物品で
ある。
According to an eighth aspect of the present invention, a transparent layer having a refractive index of 1.6 to 2.4 is formed as a first layer on the transparent substrate having a refractive index of 1.4 to 1.7 in order from the transparent substrate side. A dielectric film, a light absorbing film as a second layer, a transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 as a third layer, a light absorbing film as a fourth layer, and a refractive index of 1. as a fifth layer. An optical article with an antireflection film coated with an antireflection film formed by laminating 35 to 1.5 transparent dielectric films.

【0026】ここにいう屈折率は、波長550nmにお
ける屈折率である。光吸収膜を構成するものとして、金
属、合金、金属窒化物を用いることができる。光吸収膜
が、1.6〜2.4の屈折率の透明誘電体膜に挟まれて
2つの層に積層されることは、透光性基体から入射する
光が透光性基体と反射防止膜の界面で反射するときの反
射率を低くする上で重要である。2つの光吸収膜は同一
の物質であってもよく、互いに異なっていてもよい。
The refractive index mentioned here is a refractive index at a wavelength of 550 nm. Metals, alloys, and metal nitrides can be used for forming the light absorbing film. Since the light absorbing film is laminated in two layers between the transparent dielectric films having a refractive index of 1.6 to 2.4, the light incident from the light transmitting substrate and the light transmitting substrate are prevented from being reflected. This is important for lowering the reflectance at the interface of the film. The two light absorbing films may be the same material or different from each other.

【0027】請求項9は、請求項8において、第4層の
吸収膜と第5層の透明誘電体膜の間に、屈折率が1.6
〜2.4の透明誘電体膜が第6層として介在されている
ことを特徴とする。
According to a ninth aspect, in the eighth aspect, the refractive index between the fourth-layer absorbing film and the fifth-layer transparent dielectric film is 1.6.
The transparent dielectric films of (1) to (2) are interposed as the sixth layer.

【0028】請求項10は、請求項8または9におい
て、第1層および第3層の透明誘電体膜の厚みが30〜
80nm、第5層の透明誘電体膜の厚みが60〜100
nmであることを特徴とする。
According to a tenth aspect, in the eighth or ninth aspect, the thickness of the transparent dielectric film of the first and third layers is from 30 to 30.
80 nm, the thickness of the fifth transparent dielectric film is 60 to 100
nm.

【0029】透光性基体から入射する光が透光性基体と
反射防止膜の界面で反射するときの反射率を低くし、2
重像の発生をより確実に防止する上で、第1層および第
3層の透明誘電体膜の厚みは30nm以上、さらには4
0nm以上とするのが好ましい。また80nm以下が好
ましく、さらには60nm以下とするのが好ましい。
The reflectance of light incident from the light-transmitting substrate at the interface between the light-transmitting substrate and the antireflection film is reduced, and
In order to more reliably prevent the occurrence of a superimposed image, the thicknesses of the first and third transparent dielectric films are 30 nm or more, and more preferably 4 nm or more.
It is preferably set to 0 nm or more. It is preferably at most 80 nm, more preferably at most 60 nm.

【0030】また、透光性基体から入射する光が透光性
基体と反射防止膜の界面で反射するときの反射率を低く
し、2重像の発生を確実に防止する上で、第5層の透明
誘電体膜の厚みは60nm以上、さらには65nm以上
とするのが好ましい。また100nm以下が好ましく、
さらには95nm以下とするのが好ましい。
Further, in order to reduce the reflectance when light incident from the light-transmitting substrate is reflected at the interface between the light-transmitting substrate and the antireflection film and to reliably prevent the occurrence of a double image, the fifth method is adopted. The thickness of the transparent dielectric film of the layer is preferably at least 60 nm, more preferably at least 65 nm. Further, it is preferably 100 nm or less,
Further, the thickness is preferably 95 nm or less.

【0031】請求項11は、請求項9または10におい
て、第6層の透明誘電体膜の厚みが100nmを越えな
いことを特徴とする。
An eleventh aspect is characterized in that, in the ninth or tenth aspect, the thickness of the transparent dielectric film of the sixth layer does not exceed 100 nm.

【0032】第6層の透明誘電体膜の厚みが100nm
を越えると反射率が大きくなるので好ましくない。反射
率を低くする観点から厚みは70nm以下が好ましく、
30nm以下とするのがさらに好ましい。
The thickness of the sixth transparent dielectric film is 100 nm.
If it exceeds, the reflectivity increases, which is not preferable. From the viewpoint of reducing the reflectance, the thickness is preferably 70 nm or less,
More preferably, the thickness is 30 nm or less.

【0033】請求項12は、請求項8〜11のいずれか
において、光吸収膜がチタン、クロム、ジルコニウム、
モリブデン、鉄、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ニッ
ケル、ニッケル鉄合金およびステンレス合金からなる金
属群から選ばれた少なくとも1種または2種以上の混合
物の膜であることを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, in any one of the eighth to eleventh aspects, the light absorption film is made of titanium, chromium, zirconium,
The film is characterized by being a film of at least one or a mixture of two or more metals selected from the group consisting of molybdenum, iron, niobium, tantalum, hafnium, nickel, nickel-iron alloys, and stainless steel alloys.

【0034】これらの金属、合金あるいはその混合物の
膜は、着色が抑制された透過色を呈し、陰極線管のカラ
ー表示の色を損なうことがない。
The films of these metals, alloys or mixtures thereof exhibit transmission colors with suppressed coloring and do not impair the color display of the cathode ray tube.

【0035】請求項13は、請求項12において、光吸
収膜の厚みが3〜6nmであることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect, in the twelfth aspect, the thickness of the light absorbing film is 3 to 6 nm.

【0036】請求項14は、請求項12または13にお
いて、屈折率が1.6〜2.4の透明誘電体膜の少なく
とも1層を酸化クロム膜で構成したことを特徴とする。
According to a fourteenth aspect, in the twelfth or thirteenth aspect, at least one of the transparent dielectric films having a refractive index of 1.6 to 2.4 is formed of a chromium oxide film.

【0037】光吸収膜を金属または合金の膜で構成した
ときに、第2層および第4層の光吸収膜の厚みは3〜6
nmとするのが好ましい。厚みが3nm未満であると、
光吸収性が小さく表示のコントラストが低下するととも
に、帯電防止性能が劣化する。一方、6nmを越えると
光吸収量が大きくなり、表示像が暗くなるので好ましく
ない。光吸収膜の厚みは、光学物品の可視光線透過率が
30〜50%の範囲になるように選ぶのが好ましい。
When the light absorbing film is formed of a metal or alloy film, the thickness of the second and fourth light absorbing films is 3 to 6
It is preferably set to nm. When the thickness is less than 3 nm,
Light absorption is small, display contrast is reduced, and antistatic performance is deteriorated. On the other hand, if it exceeds 6 nm, the amount of light absorption increases and the displayed image becomes dark, which is not preferable. The thickness of the light absorbing film is preferably selected so that the visible light transmittance of the optical article is in the range of 30 to 50%.

【0038】請求項15は、請求項8〜11のいずれか
において、光吸収膜が窒化チタン、窒化クロム、窒化ジ
ルコニウム、窒化ハフニウム、窒化タンタルからなる金
属窒化物の群から選ばれた少なくとも1種または2種以
上の混合物の膜であることを特徴とする。
According to a fifteenth aspect, in any one of the eighth to eleventh aspects, the light-absorbing film is at least one selected from the group consisting of titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, and tantalum nitride. Alternatively, the film is a film of a mixture of two or more kinds.

【0039】これらの金属窒化物の膜は着色が抑制され
た透過色を呈し、陰極線管のカラー表示の色を損なうこ
とがない。
These metal nitride films exhibit a transmission color in which coloring is suppressed, and do not impair the color of the color display of the cathode ray tube.

【0040】請求項16は、請求項15において、光吸
収膜の厚みが5〜18nmであることを特徴とする。
In a sixteenth aspect, in the fifteenth aspect, the thickness of the light absorbing film is 5 to 18 nm.

【0041】光吸収膜を金属窒化物の膜で構成したとき
に、第2層および第4層の金属窒化物の膜の厚みが5n
m〜18nmとするのが好ましい。厚みが5nm未満で
あると光吸収性が小さく、表示のコントラストが低下す
るとともに帯電防止性能が劣化するから好ましくない。
この観点から6nm以上とするのがさらに好ましい。一
方、厚みが18nmを越えると、光吸収量が大きくなり
表示像が暗くなるので好ましくない。この観点から12
nm以下とするのがさらに好ましい。光吸収膜の厚み
は、光学物品の可視光線透過率が30〜50%の範囲に
なるように選ぶのが好ましい。
When the light absorbing film is formed of a metal nitride film, the thickness of the second and fourth metal nitride films is 5n.
m to 18 nm. When the thickness is less than 5 nm, the light absorption is small, the contrast of display is reduced, and the antistatic performance is undesirably deteriorated.
From this viewpoint, the thickness is more preferably 6 nm or more. On the other hand, when the thickness exceeds 18 nm, the amount of light absorption increases and the display image becomes dark, which is not preferable. From this perspective, 12
It is more preferable that the thickness be not more than nm. The thickness of the light absorbing film is preferably selected so that the visible light transmittance of the optical article is in the range of 30 to 50%.

【0042】請求項17は、請求項1〜16において、
透光性基体がガラス基体であることを特徴とする。
The seventeenth aspect is the invention according to the first to sixteenth aspects.
The translucent substrate is a glass substrate.

【0043】ガラス基体は、陰極線管用のフェースパネ
ルの外表面に接着剤で貼りつけて用いられる。フェース
パネルの表面は通常緩やかな曲面をしているので、この
曲面に沿ってガラス基体が均一の厚みの接着層で接着さ
れるように曲げ加工されたものが好ましい。無色または
着色ガラス板を用いることができる。ガラスの組成とし
ては特に限定されるものではなく、ソーダ石灰珪酸組
成、ホウ珪酸組成、アルミノ珪酸組成、アルミノホウ珪
酸組成などが用いられる。ガラス基体は、風冷強化され
ていてもよい。通常ソーダライムシリカ組成のフロート
ガラスが安価であるのでよく用いられる。
The glass substrate is used by bonding it to the outer surface of a face panel for a cathode ray tube with an adhesive. Since the surface of the face panel usually has a gentle curved surface, it is preferable that the surface bend along the curved surface so that the glass substrate is bonded with an adhesive layer having a uniform thickness. Colorless or colored glass plates can be used. The composition of the glass is not particularly limited, and a soda-lime silicate composition, a borosilicate composition, an aluminosilicate composition, an aluminoborosilicate composition, or the like is used. The glass substrate may be air-cooled. Usually, float glass having a soda lime silica composition is often used because it is inexpensive.

【0044】請求項18は、請求項17において、透光
性基体が陰極線管用のガラス製フェースパネルであるこ
とを特徴とする。
According to an eighteenth aspect, in the seventeenth aspect, the translucent substrate is a glass face panel for a cathode ray tube.

【0045】請求項19は、請求項17または18にお
いて、ガラスがその中に含有される着色成分により光吸
収性を有していることを特徴とする。
A nineteenth aspect is characterized in that, in the seventeenth aspect or the eighteenth aspect, the glass has a light absorbing property by a coloring component contained therein.

【0046】ガラス中に含有される光吸収性イオン(着
色イオン)成分としては、ニッケル、鉄、コバルト、セ
レン、セリウム、チタン等が例示できる。これらの1種
または2種以上をガラス中に含有させることにより、グ
レー系、グリーン系、ブロンズ系等の透過色を有する光
吸収性のガラスとすることができる。ガラスが光吸収性
を有することは、後述するように、ガラス基体から反射
防止膜に到達した光が、その界面で反射する光の量を減
ずるので好ましい。また、ガラスには添加剤としてバリ
ウム、ストロンチウム、アンチモン、亜鉛、ジルコニウ
ム等を含んでいてもよい。
Examples of the light-absorbing ion (colored ion) component contained in the glass include nickel, iron, cobalt, selenium, cerium, titanium and the like. By including one or more of these in the glass, a light-absorbing glass having a transmission color such as a gray system, a green system, or a bronze system can be obtained. It is preferable that the glass has a light-absorbing property, as described later, since light reaching the antireflection film from the glass substrate reduces the amount of light reflected at the interface. Further, the glass may contain barium, strontium, antimony, zinc, zirconium and the like as additives.

【0047】請求項20の陰極線管は、請求項17〜1
9のいずれかに記載のガラス物品を用いたことを特徴と
する。
A cathode ray tube according to claim 20 is the cathode ray tube according to claims 17 to 1
9. The glass article according to any one of 9 above, wherein:

【0048】本明細書を通じて、屈折率が1.6〜2.
4の透明誘電体膜として、チタン酸プラセオジウム、酸
化プラセオジスム、酸化インジウム、錫をドープした酸
化インジウム、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ビスマ
ス、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウ
ム、窒化珪素、酸化錫および酸化クロムの膜が例示でき
る。また、屈折率が1.35〜1.5の透明誘電体膜と
して、フッ化マグネシウムおよび二酸化珪素の膜が例示
できる。これらの透明誘電体膜は、真空蒸着法、イオン
プレーティング法およびスパッタリング法等の公知の方
法で被覆することができる。さらに、透光性基体はプラ
スチック板やそのフィルムであってもよい。
Throughout the specification, the refractive index is 1.6 to 2.
As the transparent dielectric film of No. 4, praseodymium titanate, praseodymium oxide, indium oxide, indium oxide doped with tin, niobium oxide, titanium oxide, bismuth oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, silicon nitride, tin oxide and oxide A chromium film can be exemplified. Examples of the transparent dielectric film having a refractive index of 1.35 to 1.5 include films of magnesium fluoride and silicon dioxide. These transparent dielectric films can be coated by a known method such as a vacuum evaporation method, an ion plating method, and a sputtering method. Further, the translucent substrate may be a plastic plate or a film thereof.

【0049】本発明において、吸収膜として金属膜を用
いると、金属膜は340〜780nmの可視光線波長域
の長波長側の光吸収係数が短波長側のそれに比較して大
きいので、長波長側の透過率が低い光学物品となる。上
記の透明誘電体膜のうち酸化クロム膜は、上記の可視光
線波長域において吸収が若干あり、しかも短波長側の光
吸収は長波長側のそれよりも大きい。したがって、吸収
膜として金属膜を透明誘電体膜として酸化クロム膜を用
いると、透過率を可視域でフラットにしたり長波長側で
若干高くしたりすることができる。すなわち、2種の膜
の波長分散の特性の違いを利用して、分光透過率曲線を
ある程度制御することができるので、吸収膜として金属
膜、透明誘電体膜として酸化クロム膜を選択するのが好
ましい。
In the present invention, when a metal film is used as the absorption film, the metal film has a larger light absorption coefficient on the long wavelength side in the visible light wavelength region of 340 to 780 nm than that on the short wavelength side. Optical article having low transmittance. Among the transparent dielectric films, the chromium oxide film has some absorption in the visible light wavelength range, and the light absorption on the short wavelength side is larger than that on the long wavelength side. Therefore, when a metal film is used as the absorbing film and a chromium oxide film is used as the transparent dielectric film, the transmittance can be made flat in the visible region or slightly increased on the long wavelength side. That is, since the spectral transmittance curve can be controlled to some extent by utilizing the difference in the wavelength dispersion characteristics of the two types of films, it is preferable to select a metal film as the absorbing film and a chromium oxide film as the transparent dielectric film. preferable.

【0050】[0050]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の光学物品の一実
施例の断面図である。図1(a)では、光学物品10a
は、ガラス基体2aの表面に反射防止膜3が被覆されて
いる。この光学物品は、陰極線管のフェースパネルに接
着剤により反射防止膜が内側になるようにして貼りつけ
られて用いられる。本発明の他の実施例の光学物品10
(b)は、図1(b)の断面図で示すように、陰極線管
用のガラス製フェースパネル2bの外表面に直接反射防
止膜3が被覆されている。
FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the optical article of the present invention. In FIG. 1A, the optical article 10a
In FIG. 1, an antireflection film 3 is coated on the surface of a glass substrate 2a. This optical article is used by being adhered to the face panel of a cathode ray tube with an adhesive so that the antireflection film is on the inside. Optical article 10 according to another embodiment of the present invention
1B, as shown in the cross-sectional view of FIG. 1B, the outer surface of a glass face panel 2b for a cathode ray tube is directly coated with an antireflection film 3.

【0051】図2は、本発明の陰極線管11の一実施例
の外観図で、図1(b)で示される内側に蛍光体1が塗
布されたガラス物品10(b)が、電子銃ユニット13
が設置固定されたファンネル14にガラスフリット12
により封着されている。
FIG. 2 is an external view of one embodiment of the cathode ray tube 11 of the present invention. The glass article 10 (b) coated with the phosphor 1 on the inside shown in FIG. 13
The glass frit 12 is attached to the funnel 14 where the
Sealed by.

【0052】図3は本発明の一実施例の反射防止膜を説
明するための断面図である。屈折率が1.4〜1.7の
透光性基体2の表面に、屈折率が1.6〜2.4の透明
誘電体膜31、金属膜32、屈折率が1.6〜2.4の
透明誘電体膜31、金属膜32、屈折率が1.6〜2.
4の透明誘電体膜31および屈折率が1.35〜1.5
の透明誘電体膜33が順次積層されている。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining an antireflection film according to one embodiment of the present invention. On the surface of the transparent substrate 2 having a refractive index of 1.4 to 1.7, a transparent dielectric film 31 having a refractive index of 1.6 to 2.4, a metal film 32, and a refractive index of 1.6 to 2. 4, the transparent dielectric film 31, the metal film 32, and the refractive index of 1.6 to 2.
4 and a refractive index of 1.35 to 1.5
Of transparent dielectric films 33 are sequentially laminated.

【0053】図4は、表示の2重像を光学的に説明する
ための説明図である。図5は、本発明のガラス基体にお
いて、以下に述べる内部透過率Tintと反射防止膜非被
覆側面の反射率r1とガラス基体の透過率T1を説明する
ための説明図である。図6は、本発明の光学物品のガラ
ス基体から反射防止膜に入射した光の反射防止膜とガラ
ス界面での反射率r2および反射防止膜非被覆面から入
射した光の反射率R1を説明するための説明図である。
図7は、実施例1に用いたガラス板の分光特性を示す図
である。図8は、実施例1で得られた光学物品の分光特
性を示す図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram for optically explaining a double image displayed. FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the internal transmittance T int , the reflectance r 1 of the side face not coated with the antireflection film, and the transmittance T 1 of the glass substrate of the glass substrate of the present invention. FIG. 6 shows the reflectance r 2 of the light incident on the anti-reflection film from the glass substrate of the optical article of the present invention at the interface between the anti-reflection film and the glass and the reflectance R 1 of the light incident from the non-reflection coating uncoated surface. It is an explanatory view for explaining.
FIG. 7 is a diagram illustrating spectral characteristics of the glass plate used in Example 1. FIG. 8 is a diagram illustrating spectral characteristics of the optical article obtained in Example 1.

【0054】図4において、蛍光体1で発光した光がガ
ラス基体2aを通り、ガラス基体2aと反射防止膜3の
界面に到達する。このとき、一部の光は反射防止膜3を
透過して透過光4が映像として見えるが、一部の光はガ
ラス基体2aと反射防止膜3の界面で反射され、反射光
5となる。反射光5は、さらにガラス基体2aと蛍光体
1との界面で反射され、反射光6となる。反射光6は、
ガラス基体2a、反射防止膜3を通過して、観察者に到
達し、透過光7を像として目視で確認できる。観察者
は、上記の透過光4と透過光7の2つの光を同時に目視
で確認できるために、像が2つに見えるという2重像の
問題が生じる。
In FIG. 4, light emitted from the phosphor 1 passes through the glass substrate 2a and reaches the interface between the glass substrate 2a and the antireflection film 3. At this time, a part of the light passes through the antireflection film 3 and the transmitted light 4 appears as an image. The reflected light 5 is further reflected at the interface between the glass substrate 2a and the phosphor 1, and becomes reflected light 6. The reflected light 6
The light passes through the glass substrate 2a and the antireflection film 3 and reaches the observer, and the transmitted light 7 can be visually confirmed as an image. Since the observer can visually confirm the two lights of the transmitted light 4 and the transmitted light 7 at the same time, there is a problem of a double image in which two images are seen.

【0055】2重像は、ガラスの内部透過率が高いほど
顕著になる傾向がある。反対に内部透過率が低いガラス
では、反射光5と反射光6はガラス内部を通過する間に
吸収され、結果的に透過光7の光量が減少し、観測者は
透過光7を観察できなくなると2重像は生じなくなる。
The double image tends to be more remarkable as the internal transmittance of the glass is higher. Conversely, in glass having a low internal transmittance, the reflected light 5 and the reflected light 6 are absorbed while passing through the inside of the glass, and as a result, the amount of the transmitted light 7 decreases, and the observer cannot observe the transmitted light 7. No double image is generated.

【0056】本明細書では次のように定義する。 1)ガラス基体の表面反射率:r1 2)ガラス基体の透過率:T1 3)ガラス基体の内部透過率Tint 4)光学物品の反射防止膜非被覆面側からの入射での反
射率:R1 5)光学物品のガラス基体と反射防止膜の界面での反射
率:r2 6)光学物品の反射防止膜被覆面側の表面反射率:r3 7)光学物品の透過率:T2
In this specification, the definition is made as follows. 1) Surface reflectance of the glass substrate: r 1 2) Transmittance of the glass substrate: T 1 3) Internal transmittance T int of the glass substrate 4) Reflectivity at incidence from the side of the optical article where the antireflection film is not coated : R 1 5) reflectance on the interface between the glass substrate and the antireflection film of the optical article: r 2 6) anti-reflection film coating side surface reflectance of the optical article: r 3 7) transmittance of the optical article: T Two

【0057】図6に示す本発明の光学物品において、ガ
ラス基体と反射防止膜の界面での反射率r2の測定方法
について説明する。まず、反射防止膜を成膜する前に、
平行平板形状に成形したガラス基体の透過率T1を測定
する。次に、ガラス基体の一方の面12をサンドブラス
トで表面を「すりガラス」様に加工して、加工面を黒油
性ペンで塗り(本処理を無反射処理という)、反対側の
面11の側から光を入射して反射率を測定する。この反
射率を図5に示すように表面反射率r1と定義する。分
光光度計で測定したガラス基体の透過率T1、表面反射
率r1を式(1)に代入し、ガラス基体の内部透過率T
intを算出する。ガラス基体の内部透過率Tint、ガラス
基体の透過率T1およびガラス基体の表面反射率r1を図
5に示す。
A method for measuring the reflectance r 2 at the interface between the glass substrate and the antireflection film in the optical article of the present invention shown in FIG. 6 will be described. First, before forming the anti-reflection film,
The transmittance T 1 of the glass substrate formed into a parallel plate shape is measured. Next, one surface 12 of the glass substrate is processed by sandblasting into a surface such as “ground glass”, and the processed surface is painted with a black oil pen (this processing is referred to as non-reflection processing). Light is incident and the reflectance is measured. This reflectance is defined as surface reflectance r 1 as shown in FIG. The transmittance T 1 of the glass substrate and the surface reflectance r 1 measured by the spectrophotometer are substituted into the equation (1), and the internal transmittance T of the glass substrate is obtained.
Calculate int . FIG. 5 shows the internal transmittance T int of the glass substrate, the transmittance T 1 of the glass substrate, and the surface reflectance r 1 of the glass substrate.

【0058】[0058]

【数1】 Tint=2T1/(((1−r14+4T1 2・r1 20.5+(1−r12) ・・・・(式1)[Number 1] T int = 2T 1 / (( (1-r 1) 4 + 4T 1 2 · r 1 2) 0.5 + (1-r 1) 2) ···· ( Equation 1)

【0059】次に、上記のガラス基体と同じ光学特性の
ガラス基体に反射防止膜を被覆したガラス物品のサンプ
ルについて、ガラス基体の反射防止膜非被覆面側からの
入射光に対する反射率スペクトルR1(図6参照)を測
定する。ガラス物品の反射防止膜非被覆面側での反射率
1、ガラス基体の表面反射率r1、ガラス基体の内部透
過率Tintから(式2)を利用して、光学物品のガラス
基体と反射防止膜の界面での反射率r2を算出する。
Next, with respect to a sample of a glass article in which an antireflection film is coated on a glass substrate having the same optical characteristics as the above glass substrate, the reflectance spectrum R 1 for incident light from the non-reflection film non-coated side of the glass substrate. (See FIG. 6). From the reflectance R 1 on the non-reflection surface side of the antireflection film of the glass article, the surface reflectance r 1 of the glass substrate, and the internal transmittance T int of the glass substrate, using the (Equation 2), The reflectance r 2 at the interface of the antireflection film is calculated.

【0060】[0060]

【数2】 r2=(R1−r1)/((R1−r1)・r1+(1−r12)・Tint 2) ・・・・(式2)R 2 = (R 1 −r 1 ) / ((R 1 −r 1 ) · r 1 + (1−r 1 ) 2 ) · T int 2 ) (Equation 2)

【0061】上述のようにして求めた光学物品のガラス
基体と反射防止膜の反射率r2を求める。図6に光学物
品のガラス基体と反射防止膜との界面での反射率r2
よびガラス物品の非反射防止膜被覆面側の反射率R1
示す。
The reflectance r 2 of the glass substrate and the antireflection film of the optical article determined as described above is determined. Shows the reflectance R 1 of the non-antireflection film-coated surface of the reflectance r 2 and the glass article at the interface between the glass substrate and the antireflection film of the optical article in FIG.

【0062】以下に本発明を実施例および比較例に基づ
いて説明するが、膜の被覆は下記の方法によった。 ・チタン酸プラセオジウム(PrTiO3)層:PrTiO3ペレッ
トを蒸着材料とする蒸着 ・ニッケル鉄合金(NiFe)層:ニッケル鉄合金片を蒸着
材料とする蒸着 ・フッ化マグネシウム(MgF2)層:MgF2ペレットを蒸着
材料とする蒸着 ・ステンレス(NiFeCr)層:ステンレス片を蒸着材料と
する蒸着 ・窒化珪素(SiNx)層:Siをターゲットとする反応性ス
パッタリング ・窒化チタン(TiNx)層 :Tiをターゲットとする反応
性スパッタリング ・二酸化珪素(SiO2)層:Siをターゲットとするスパッ
タリング ・二酸化アルミニウム(Al2O3)層:Alをターゲットと
するスパッタリング
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples. The coating of the film was performed by the following method.・ Praseodymium titanate (PrTiO 3 ) layer: evaporation using PrTiO 3 pellet as evaporation material ・ Nickel iron alloy (NiFe) layer: evaporation using nickel iron alloy piece as evaporation material ・ Magnesium fluoride (MgF 2 ) layer: MgF 2 Stainless steel (NiFeCr) layer: Deposition using stainless steel flakes as the evaporation material. Silicon nitride (SiNx) layer: Reactive sputtering using Si as target. Titanium nitride (TiNx) layer: Using Ti as target. Reactive sputtering ・ Silicon dioxide (SiO 2 ) layer: Sputtering with Si target ・ Aluminum dioxide (Al 2 O 3 ) layer: Sputtering with Al target

【0063】実施例1 100mm×100mm×厚み14mmの着色ガラス板
の表面反射率r1と透過率T1を340nm〜780nm
の波長範囲で測定した。この透過率と表面反射率を(式
1)に代入して、ガラス基体の内部透過率Tintを算出
した。内部透過率と表面反射率の波長スペクトルを図7
に示す。
Example 1 The surface reflectance r 1 and the transmittance T 1 of a colored glass plate having a size of 100 mm × 100 mm × 14 mm were set to 340 nm to 780 nm.
Was measured in the wavelength range. The transmittance and the surface reflectance were substituted into (Equation 1) to calculate the internal transmittance T int of the glass substrate. Fig. 7 shows the wavelength spectra of internal transmittance and surface reflectance.
Shown in

【0064】次に、前述のようにして内部透過率と表面
反射率を求めたガラス基体を真空蒸着装置にいれ、蒸着
装置内に設置された基板加熱ヒーターにより300℃に
加熱した状態で、表1に示す多層膜構成の反射防止膜を
被覆し、本発明の光学物品のサンプル1を作製した。蒸
着材料の蒸発は、電子ビーム蒸着法で行い、蒸着るつぼ
からガラス基体までの距離を100cmとし、ガラス基
体を回転させながら行った。蒸着開始前の到達真空度は
いずれの膜についても、油拡散ポンプで0.003Pa
まで排気を行った。ニッケル鉄合金(NiFe)膜、チ
タン酸プラセオジウム(PrTiO3)膜(屈折率2.
14)、フッ化マグネシウム(MgF2)膜(屈折率
1.38)は、酸素ガスを導入せずに蒸着を行った。
Next, the glass substrate whose internal transmittance and surface reflectance were determined as described above was placed in a vacuum evaporation apparatus, and heated to 300 ° C. by a substrate heater installed in the evaporation apparatus. Sample 1 of the optical article of the present invention was produced by coating the antireflection film having the multilayer structure shown in FIG. The evaporation material was evaporated by an electron beam evaporation method, the distance from the evaporation crucible to the glass substrate was 100 cm, and the evaporation was performed while rotating the glass substrate. The ultimate vacuum degree before the start of vapor deposition was 0.003 Pa with an oil diffusion pump for each film.
The air was exhausted until. Nickel iron alloy (NiFe) film, praseodymium titanate (PrTiO 3 ) film (refractive index 2.
14) A magnesium fluoride (MgF 2 ) film (refractive index: 1.38) was deposited without introducing oxygen gas.

【0065】得られた光学物品を蒸着装置から取り出し
て、NiFe膜の組成を化学分析した結果、Ni:Fe
=81:19の組成比(重量%)であった。
The obtained optical article was taken out of the vapor deposition apparatus, and the composition of the NiFe film was chemically analyzed.
= 81: 19 (weight%).

【0066】得られたサンプルの透過率、反射防止膜非
被覆面側の反射率を340から780nmの波長範囲で
測定した。これらの値を(式2)に代入して、ガラス基
体と反射防止膜の界面での反射率r2を求めた。さら
に、反射防止膜非被覆側の表面をサンドブラストと黒油
性ペンで無反射処理し、その後反射防止膜被覆面側の表
面反射率r3を測定した。上述のようにして求めた光学物
品の透過率T2、ガラス基体と反射防止膜の界面での反
射率r2、反射防止膜被覆面側の表面反射率r3の波長ス
ペクトルを図8に示す。
The transmittance of the obtained sample and the reflectance on the non-reflection surface side of the antireflection film were measured in the wavelength range of 340 to 780 nm. By substituting these values into (Equation 2), the reflectance r 2 at the interface between the glass substrate and the antireflection film was determined. Further, the surface on the non-reflection film-uncoated side was subjected to non-reflection treatment with sandblasting and a black oil-based pen, and then the surface reflectance r 3 on the anti-reflection film-coated surface was measured. FIG. 8 shows the wavelength spectrum of the transmittance T 2 of the optical article, the reflectance r 2 at the interface between the glass substrate and the anti-reflection film, and the surface reflectance r 3 on the anti-reflection film-coated surface side, obtained as described above. .

【0067】図8に示した各スペクトルからJIS R
3106(1998)を利用して、可視光透過率T
v、反射防止膜被覆面側の可視光反射率r3v、ガラス基
体と反射防止膜の界面での可視光反射率r2vを算出し
た。その結果を表2に示す。
From each spectrum shown in FIG.
3106 (1998) to determine the visible light transmittance T
v, the visible light reflectance r 3 v on the side of the anti-reflection coating surface, and the visible light reflectance r 2 v at the interface between the glass substrate and the anti-reflection coating were calculated. Table 2 shows the results.

【0068】上記の反射防止膜と同じ成膜条件で、用い
たガラス基体とほぼ同じガラス組成の陰極線管用のフェ
ースパネルの外表面上に反射防止膜を被覆した。フェー
スパネルを含む可視光透過率は35.7%であった。こ
のフェースパネルを用いて作製した陰極線管の映像を暗
室で観察した。陰極線管の表示のコントラストは良好で
あった。
Under the same film-forming conditions as the above-mentioned anti-reflection film, an anti-reflection film was coated on the outer surface of a face panel for a cathode ray tube having substantially the same glass composition as the glass substrate used. The visible light transmittance including the face panel was 35.7%. An image of a cathode ray tube manufactured using this face panel was observed in a dark room. The display contrast of the cathode ray tube was good.

【0069】フェースパネルと反射防止膜の界面での可
視光反射率は0.19%と低く、映像は2重になって見
えなかった。また、反射防止膜被覆面側の表面反射率は
0.26%と低く、室内の蛍光灯下で陰極線管を観察し
た場合にも、蛍光灯がフェースパネル表面に映り込むこ
とはなく、視認性に優れるものであった。
The visible light reflectance at the interface between the face panel and the antireflection film was as low as 0.19%, and the image was doubled and could not be seen. In addition, the surface reflectance of the anti-reflection film-coated surface side is as low as 0.26%. Even when the cathode ray tube is observed under a fluorescent lamp in a room, the fluorescent lamp is not reflected on the face panel surface, and visibility is high. It was excellent.

【0070】帯電防止の機能を反射防止膜に付与するた
めには、反射防止膜のシート抵抗が2kΩ/□以下であ
ることが好ましいとされている。また、陰極線管より発
生する人体に有害な電磁波を遮断するためには、反射防
止膜のシート抵抗が500Ω/□以下であることが好ま
しいとされている。そこでサンプル1の反射防止膜のシ
ート抵抗を測定した。測定結果を表2に示す。シート抵
抗は112Ω/□であり、帯電防止機能および電磁波遮
蔽機能を有していることが分かった。
In order to impart an antistatic function to the antireflection film, the antireflection film preferably has a sheet resistance of 2 kΩ / □ or less. Further, in order to block electromagnetic waves harmful to the human body generated from the cathode ray tube, it is considered that the sheet resistance of the antireflection film is preferably 500Ω / □ or less. Therefore, the sheet resistance of the antireflection film of Sample 1 was measured. Table 2 shows the measurement results. The sheet resistance was 112 Ω / □, indicating that it had an antistatic function and an electromagnetic wave shielding function.

【0071】実施例2 実施例1に用いたのと同じガラス基体を用い、表1に記
載の積層構成の反射防止膜を真空蒸着法によって被覆し
た。光吸収膜に用いたニッケル鉄クロム合金膜の組成を
化学的に分析した結果、Ni:Fe:Cr=77.0:
7.8:15.2(重量%比)であった。
Example 2 Using the same glass substrate as used in Example 1, an antireflection film having a laminated structure shown in Table 1 was coated by a vacuum deposition method. As a result of chemically analyzing the composition of the nickel-iron-chromium alloy film used for the light absorption film, Ni: Fe: Cr = 77.0:
7.8: 15.2 (weight% ratio).

【0072】得られた光学物品のサンプルの透過率、反
射防止膜非被覆面側の反射率を測定し、ガラス基体と反
射防止膜の界面での可視光反射率を実施例1と同じよう
にして求めた。さらに、反射防止膜非被覆面側を無反射
処理した後、反射防止膜被覆面側の表面反射率を測定し
た。
The transmittance of the sample of the obtained optical article and the reflectance on the non-reflection surface side of the anti-reflection film were measured, and the visible light reflectance at the interface between the glass substrate and the anti-reflection film was measured in the same manner as in Example 1. I asked. Further, after the anti-reflection film non-coated surface side was subjected to anti-reflection treatment, the surface reflectance on the anti-reflection film coated surface side was measured.

【0073】これらの測定結果について、JIS R
3106を利用して、可視光透過率Tv、被覆面側の可
視光反射率r3v、ガラス基体と反射防止膜との界面での
可視光反射率r2vを算出した。この結果を表2に記載す
る。
Regarding these measurement results, JIS R
Using 3106, the visible light transmittance Tv, the visible light reflectance r 3 v on the coated surface side, and the visible light reflectance r 2 v at the interface between the glass substrate and the antireflection film were calculated. Table 2 shows the results.

【0074】可視光透過率は35.6%であった。この
値は表示のコントラストを増すに好都合の透過率であ
り、反射防止膜被覆面側表面反射率は0.32%と低
く、反射映像の映り込みは殆どなかった。さらに、ガラ
ス基体と反射防止膜の界面での反射率は0.14%と低
く、2重像は殆ど見えない反射率であった。
The visible light transmittance was 35.6%. This value is a transmittance that is convenient for increasing the contrast of the display. The surface reflectance of the anti-reflection film-coated surface side is as low as 0.32%, and there is almost no reflection of reflected images. Further, the reflectance at the interface between the glass substrate and the anti-reflection film was as low as 0.14%, and the double image was hardly visible.

【0075】反射防止膜のシート抵抗は268Ω/□で
あり、帯電防止機能と電磁波遮蔽機能を実用的に有して
いることが分かった。
The sheet resistance of the antireflection film was 268 Ω / □, and it was found that the antireflection film had a practically antistatic function and an electromagnetic wave shielding function.

【0076】[0076]

【表1】 ================================ 例 反射防止膜の積層構成と各層の厚み(nm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例1 カ゛ラス / PrTiO3 / NiFe / PrTiO3 / NiFe / PrTiO3 / MgF2 44.9 4.9 53.4 3.9 20.6 84.7 実施例2 カ゛ラス / PrTiO3 / NiFeCr / PrTiO3 / NiFeCr / MgF2 54.1 5.6 57.6 3.3 90.3 実施例3 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO2 52.1 11.1 54.9 8.5 1.2 79.2 実施例4 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiO2 51.6 11.1 55.2 8.5 79.6 実施例5 カ゛ラス / Al2O3 / TiNx / Al2O3 / TiNx / SiO2 39.5 8.0 69.8 8.4 86.4 実施例6 カ゛ラス / TiO2 / TiNx / TiO2 / TiNx / SiO2 39.5 17.5 39.0 8.3 81.4 実施例7 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO2 31.0 10.5 50.1 10.8 20.3 60.3 実施例8 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiO2 80.0 9.9 67.8 6.9 100.0 実施例9 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO2 60.0 10.0 60.0 10.0 100.0 100.0 実施例10 カ゛ラス / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO2 6.3 61.1 13.1 28.6 66.9 実施例11 カ゛ラス / PrTiO3 / NiFe / PrTiO3 / NiFe / PrTiO3 / MgF2 31.9 6.4 61.4 3.8 28.8 100.0 実施例12 カ゛ラス / PrTiO3 / NiFe / CrOx / NiFe / PrTiO3 / MgF2 50.5 8.4 47.7 5.5 16.9 68.9 実施例13 カ゛ラス / NiFe / CrOx / NiFe / PrTiO3 / MgF2 4.1 60.1 9.6 38.9 60.5 ================================[Table 1] =============================== Example Laminating Structure of Antireflection Film and Thickness of Each Layer (nm) -------------------------------- example 1 Ca Bu Las / PrTiO 3 / NiFe / PrTiO 3 / NiFe / PrTiO 3 / MgF 2 44.9 4.9 53.4 3.9 20.6 84.7 Example 2 Glass / PrTiO 3 / NiFeCr / PrTiO 3 / NiFeCr / MgF 2 54.1 5.6 57.6 3.3 90.3 Example 3 Glass / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO 2 52.1 11.1 54.9 8.5 1.2 79.2 example 4 Ca Bu Las / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiO 2 51.6 11.1 55.2 8.5 79.6 example 5 Ca Bu Las / Al 2 O 3 / TiNx / Al 2 O 3 / TiNx / SiO 2 39.5 8.0 69.8 8.4 86.4 embodiment example 6 Ca Bu Las / TiO 2 / TiNx / TiO 2 / TiNx / SiO 2 39.5 17.5 39.0 8.3 81.4 example 7 Ca Bu Las / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO 2 31.0 10.5 50.1 10.8 20.3 60.3 example 8 Ca Bu Las / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiO 2 80 .0 9.9 67.8 6.9 100.0 Example 9 Ca Bu Las / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO 2 60.0 10.0 60.0 10.0 100.0 100.0 Example 10 Ca Bu Las / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO 2 6.3 61.1 13.1 28.6 66.9 Embodiment example 11 Ca Bu Las / PrTiO 3 / NiFe / PrTiO 3 / NiFe / PrTiO 3 / MgF 2 31.9 6.4 61.4 3.8 28.8 100.0 example 12 Ca Bu Las / PrTiO 3 / NiFe / CrOx / NiFe / PrTiO 3 / MgF 2 50.5 8.4 47.7 5.5 16.9 68.9 Example 13 Glass / NiFe / CrOx / NiFe / PrTiO 3 / MgF 2 4.1 60.1 9.6 38.9 60.5 =============================== ===

【0077】実施例3 実施例1で用いた着色ガラス基体と同じ光学特性のガラ
ス上に、マグネトロンスパッタリング法により、表1に
記載の積層構成の反射防止膜を被覆した。得られたガラ
ス物品の透過率、反射防止膜非被覆面側の反射率を測定
し、ガラス基体と反射防止膜の界面での可視光反射率を
求めた。さらに、反射防止膜非被覆面側を無反射処理し
た後、反射防止膜被覆面側の表面反射率を測定した。測
定結果をJIS R 3106により、可視光透過率T
v、反射防止膜被覆面側の可視光反射率r3vおよびガラ
ス基体と反射防止膜の界面での可視光反射率r2vを算出
した。この結果を表2に示す。
Example 3 An antireflection film having a laminated structure shown in Table 1 was coated on a glass having the same optical characteristics as the colored glass substrate used in Example 1 by magnetron sputtering. The transmittance of the obtained glass article and the reflectance on the non-reflection film-uncoated surface side were measured, and the visible light reflectance at the interface between the glass substrate and the antireflection film was determined. Further, after the anti-reflection film non-coated surface side was subjected to anti-reflection treatment, the surface reflectance on the anti-reflection film coated surface side was measured. According to JIS R 3106, the measurement result was converted into a visible light transmittance T.
v, the visible light reflectance r 3 v on the side of the anti-reflection coating surface and the visible light reflectance r 2 v at the interface between the glass substrate and the anti-reflection coating were calculated. Table 2 shows the results.

【0078】可視光透過率は36.6%であた。この値
は表示のコントラストを増すために好都合な透過率であ
り、反射防止膜被覆面側の表面反射率は 0.48%と
低く、反射映像の映り込みは殆どない。さらに、ガラス
基体と反射防止膜の界面での反射率は0.23%と低
く、2重像は殆ど見えない反射率であった。さらに、反
射防止膜のシート抵抗は182Ω/□であり、帯電防止
機能と電磁波遮蔽機能を実用的に有するものであった。
The visible light transmittance was 36.6%. This value is a favorable transmittance for increasing the contrast of the display. The surface reflectance on the side of the anti-reflection film-coated surface is as low as 0.48%, and there is almost no reflection image. Further, the reflectivity at the interface between the glass substrate and the antireflection film was as low as 0.23%, and the double image was hardly visible. Further, the sheet resistance of the antireflection film was 182 Ω / □, which had a practically antistatic function and an electromagnetic wave shielding function.

【0079】実施例4〜実施例10 実施例3と同様にして、表1に示す積層構成の反射防止
膜をガラス基体に被覆し、光学物品のサンプルを得た。
これらの光学性能およびシート抵抗を表2に示す。可視
光透過率はいずれのサンプルも35%〜40%であり、
表示のコントラストを増すために好都合の透過率であ
り、反射防止膜被覆面側の表面反射率は1%以下と低
く、反射映像の映り込みは殆どないものであった。さら
に、ガラス基体と反射防止膜の界面での可視光反射率も
1%以下と低く、2重像は殆ど見えない反射率を有して
いた。また、いずれのサンプルについても反射防止膜の
シート抵抗は208Ω/□以下であり、帯電防止機能お
よび電磁波遮蔽機能として十分に低い値であった。
Examples 4 to 10 In the same manner as in Example 3, an antireflection film having a laminated structure shown in Table 1 was coated on a glass substrate to obtain a sample of an optical article.
Table 2 shows their optical performance and sheet resistance. The visible light transmittance of each sample is 35% to 40%,
The transmittance was favorable for increasing the contrast of the display, the surface reflectance on the side of the anti-reflection film coated side was as low as 1% or less, and the reflected image was hardly reflected. Further, the visible light reflectance at the interface between the glass substrate and the antireflection film was as low as 1% or less, and the double image had a reflectance that was almost invisible. In each sample, the sheet resistance of the antireflection film was 208 Ω / □ or less, which was a sufficiently low value for the antistatic function and the electromagnetic wave shielding function.

【0080】[0080]

【表2】 ================================ 可視光 可視光 界面の可視 シート抵抗 例 透過率Tv 反射率r3v 光反射率r2v (%) (%) (%) (Ω/□) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例1 35.7 0.26 0.19 112 実施例2 35.6 0.32 0.14 268 実施例3 36.6 0.48 0.23 182 実施例4 36.6 0.47 0.23 196 実施例5 36.7 0.64 0.52 201 実施例6 36.5 0.76 0.29 135 実施例7 34.6 0.35 0.70 164 実施例8 40.0 0.93 0.54 208 実施例9 35.0 0.62 0.68 175 実施例10 38.0 0.39 0.67 185 実施例11 31.4 0.21 2.61 98 実施例12 39.2 0.38 1.77 330 実施例13 38.9 0.69 1.25 420 ================================ 注)Tv、r3v、r2vは、上記の5)、6)、7)で定義した測定値を、 JIS R 3106により視感度特性による積分処理をしたものである。[Table 2] =============================== Visible Light Visible Light Visible Sheet Resistance at Interface Example Transmittance Tv Reflection Rate r 3 v Light reflectance r 2 v (%) (%) (%) (Ω / □) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− −−−−− Example 1 35.7 0.26 0.19 112 Example 2 35.6 0.32 0.14 268 Example 3 36.6 0.48 0.23 182 Example 4 36.6 0.47 0.23 196 Example 5 36.7 0.64 0.52 201 Example 6 36.5 0.76 0.29 135 Example 7 34.6 0.35 0.70 164 Example 840 0.0 0.93 0.54 208 Example 9 35.0 0.62 0.68 175 Example 10 38.0 0.39 0.67 185 Example 11 31.4 0.21 2.61 98 Example 12 39.2 0.38 1.77 330 Example 13 38.9 0.69 1.25 420 ================ =============== Note) Tv, r 3 v, r 2 v is above 5), 6), the measured values defined in 7), seen by JIS R 3106 This is the result of integration processing based on sensitivity characteristics.

【0081】実施例11 実施例1と同様にして、表1に示す積層構成の反射防止
膜を成膜した。これらの光学性能を表2に示す。透過率
は35%〜40%であり、表示コントラストを増すため
に好都合な透過率であり、反射防止膜被覆面側の表面反
射率は1%以下と低く、反射映像の映り込みは殆どな
い。さらに、ガラス基体と反射防止膜の界面での反射率
も3%以下と低く、2重像は殆ど見えない反射率であっ
た。このサンプルの反射防止膜のシート抵抗は98Ω/
□であり、帯電防止機能および電磁波遮蔽機能として十
分に低い値であった。
Example 11 In the same manner as in Example 1, an antireflection film having a laminated structure shown in Table 1 was formed. Table 2 shows their optical performance. The transmittance is 35% to 40%, which is a convenient transmittance for increasing the display contrast. The surface reflectance on the side of the antireflection film-coated surface is as low as 1% or less, and there is almost no reflection image. Further, the reflectance at the interface between the glass substrate and the antireflection film was as low as 3% or less, and the reflectance of the double image was hardly seen. The sheet resistance of the antireflection film of this sample is 98Ω /
□, which was a sufficiently low value as an antistatic function and an electromagnetic wave shielding function.

【0082】実施例12 実施例11とは、第3層の酸化プラセオジウムを酸化ク
ロムとした以外は同じ積層構成とした。得られたサンプ
ルの特性値は、表2に示すように本発明の目的を満足す
るものであった。また、このサンプルの分光透過特性
は、図9の透過率T2に示すように、図8に示す透過曲
線の右上がりの傾向がなくなり、可視域で大略平坦な透
過率特性を有するものであった。すなわち、ニッケル鉄
合金膜の短波長側より長波長側での大きな光吸収をキャ
ンセルする効果を、酸化クロムが有していることに基づ
いているためと考えられる。
Example 12 The same laminated structure as in Example 11 was adopted except that praseodymium oxide of the third layer was changed to chromium oxide. The characteristic values of the obtained sample satisfied the object of the present invention as shown in Table 2. Moreover, spectral transmittance characteristics of the sample, as shown in the transmittance T 2 of the FIG. 9, there is no tendency of upward-sloping transmission curves shown in FIG. 8, be one having a flat transmittance characteristic generally in the visible range Was. That is, it is considered that chromium oxide has an effect of canceling large light absorption on the longer wavelength side than on the shorter wavelength side of the nickel-iron alloy film based on the fact that chromium oxide has the effect.

【0083】実施例13 表1に示す積層構成により、光学物品のサンプルを得
た。このサンプルの反射防止膜のシート抵抗は420Ω
/□であり、帯電防止機能および電磁波遮蔽機能として
実施例12と同じように十分に低い値であった。また低
反射特性を有していることが分かる。さらに、このサン
プルは実施例12と同じように可視域での透過特性がフ
ラットであった。
Example 13 An optical article sample was obtained according to the lamination structure shown in Table 1. The sheet resistance of the antireflection film of this sample is 420Ω.
/ □, which is a sufficiently low value as in Example 12 for the antistatic function and the electromagnetic wave shielding function. Further, it can be seen that it has low reflection characteristics. Further, this sample had a flat transmission characteristic in the visible region as in Example 12.

【0084】比較例1〜比較例6 表3に示す積層構成の反射防止膜を実施例1に用いたの
と同じガラス基体に被覆した。反射防止膜の被覆は、比
較例1〜3は実施例3と同じようにマグネトロンスパッ
タ法で行い、比較例4〜6は実施例1と同じ真空蒸着法
で行った。
Comparative Examples 1 to 6 An antireflection film having a laminated structure shown in Table 3 was coated on the same glass substrate as used in Example 1. The coating of the antireflection film was performed by magnetron sputtering in Comparative Examples 1 to 3 as in Example 3, and the same vacuum deposition method as in Example 1 in Comparative Examples 4 to 6.

【0085】得られた比較サンプルの光学性能およびシ
ート抵抗を表4に示す。可視光透過率は25%〜65%
の範囲にあり、陰極線管のフェースパネルに使用した場
合の表示のコントラストは良好であった。しかし、反射
防止膜被覆面側の表面反射率あるいはガラス基体と反射
防止膜の界面での反射率の少なくとも一方は1%以上で
あり、蛍光灯の写り込みがあるか表示の2重像があるサ
ンプルであり、外光の映り込みと2重像の発生の両方が
ないものはなく、実用上問題がある特性であると認めら
れた。
Table 4 shows the optical performance and sheet resistance of the obtained comparative sample. Visible light transmittance is 25% to 65%
And the contrast of the display when used for the face panel of a cathode ray tube was good. However, at least one of the surface reflectance on the side of the antireflection film-coated surface or the reflectance at the interface between the glass substrate and the antireflection film is 1% or more, and there is a reflection of a fluorescent lamp or a double image of display. None of the samples had both the reflection of external light and the generation of a double image, and it was recognized that the characteristics had practical problems.

【0086】[0086]

【表3】 ================================ 例 反射防止膜の積層構成と各層の厚み(nm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例1 カ゛ラス / TiNx / SiNx / SiO2 21.5 41.3 40.2 比較例2 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / SiO2 72.7 11.3 3.8 82.4 比較例3 カ゛ラス / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO2 24.9 2.1 19.8 2.1 124.2 116.1 比較例4 カ゛ラス / NiFe / PrTiO3 / NiFe / MgF2 1.3 39.6 3.4 110.7 比較例5 カ゛ラス / SiO2 / NiFe / SiO2 / NiFe / SiO2 / MgF2 40.2 2.9 92.4 3.0 29.5 95.8 比較例6 カ゛ラス / TiO2 / NiFe / TiO2 / NiFe / TiO2 / PrTiO3 39.5 7.6 52.1 5.6 86.3 67.6 ================================[Table 3] =============================== Example Lamination Configuration of Antireflection Film and Thickness of Each Layer (nm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− Comparative Example 1 Glass / TiNx / SiNx / SiO 2 21.5 41.3 40.2 Comparative Example 2 Glass / SiNx / TiNx / SiNx / SiO 2 72.7 11.3 3.8 82.4 Comparative example 3 Ca Bu Las / SiNx / TiNx / SiNx / TiNx / SiNx / SiO 2 24.9 2.1 19.8 2.1 124.2 116.1 Comparative example 4 Ca Bu Las / NiFe / PrTiO 3 / NiFe / MgF 2 1.3 39.6 3.4 110.7 Comparative example 5 Ca Bu Las / SiO 2 / NiFe / SiO 2 / NiFe / SiO 2 / MgF 2 40.2 2.9 92.4 3.0 29.5 95.8 Comparative example 6 months Bu Las / TiO 2 / NiFe / TiO 2 / NiFe / TiO 2 / PrTiO 3 39.5 7.6 52.1 5.6 86.3 67.6 =================================

【0087】[0087]

【表4】 ================================ 可視光 可視光 界面の可視 シート抵抗 例 透過率Tv 反射率r3v 光反射率r2v (%) (%) (%) (Ω/□) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例1 37.2 0.45 25.4 150 比較例2 54.3 4.06 1.43 320 比較例3 64.2 1.56 1.43 2100 比較例4 48.3 4.98 2.10 101 比較例5 35.8 1.37 0.34 164 比較例6 26.3 6.30 1.38 74 ================================ 注)Tv、r3v、r2vは、上記の5)、6)、7)で定義した測定値を、 JIS R 3106により視感度特性による積分処理をしたものである。================================ Visible Light Visible Light Visible Sheet Resistance at Interface Example Transmittance Tv Reflection Rate r 3 v Light reflectance r 2 v (%) (%) (%) (Ω / □) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− −−−−−− Comparative Example 1 37.2 0.45 25.4 150 Comparative Example 2 54.3 4.06 1.43 320 Comparative Example 3 64.2 1.56 1.43 2100 Comparative Example 4 48. 3 4.98 2.10 101 Comparative Example 5 35.8 1.37 0.34 164 Comparative Example 6 26.3 6.30 1.38 74 ================== ================ Note) Tv, r 3 v, r 2 v is above 5), 6), the measured values defined in 7), by JIS R 3106 Integral processing by visibility characteristics One in which the.

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明の光学物品は、ガラス基体上に被
覆する反射防止膜を、ガラス基体側から順に第1の光吸
収膜、所定の屈折率を有する高屈折率透明誘電体膜、第
2の光吸収膜、所定の屈折率を有する低屈折率透明誘電
体膜を基本積層構成としたので、可視域で光吸収性かつ
低反射率特性を有するとともに、ガラス基体と第1の光
吸収膜の間および第2の光吸収膜と低屈折率透明誘電体
膜の間の一方または両方に、所定の屈折率の高屈折率透
明誘電体膜を設ける構成としたので、透光性基体から入
射した光が透光性基体と反射防止膜の界面での反射率が
小さい。これにより、本発明の光学物品を、陰極線管の
表示面に設けると、2重像を生じることなく、高コント
ラストの表示画像を得ることができる。
According to the optical article of the present invention, an antireflection film covering a glass substrate is formed by sequentially forming a first light absorbing film, a high refractive index transparent dielectric film having a predetermined refractive index, 2 has a light absorbing film and a low refractive index transparent dielectric film having a predetermined refractive index as a basic laminated structure. Since a high-refractive-index transparent dielectric film having a predetermined refractive index is provided between one of the films and between the second light-absorbing film and the low-refractive-index transparent dielectric film or both, The reflectance of the incident light at the interface between the translucent substrate and the antireflection film is small. Thus, when the optical article of the present invention is provided on the display surface of a cathode ray tube, a high-contrast display image can be obtained without generating a double image.

【0089】また、光吸収膜をチタン、クロム、ジルコ
ニウム、モリブデン、鉄、ニオブ、タンタル、ハフニウ
ム、ニッケル、ニッケル鉄合金およびステンレス合金か
らなる金属群から選ばれた少なくとも1種または2種以
上の混合物の膜とすることにより、陰極線管の表示像を
高コントラストに好都合な光吸収性を付与できるととも
に、その導電性により帯電防止性と電磁波遮蔽性が付与
できる。
The light absorbing film may be made of at least one or a mixture of two or more metals selected from the group consisting of titanium, chromium, zirconium, molybdenum, iron, niobium, tantalum, hafnium, nickel, nickel-iron alloy and stainless steel alloy. By using this film, the display image of the cathode ray tube can be provided with favorable light absorbing property with high contrast, and the antistatic property and the electromagnetic wave shielding property can be provided by its conductivity.

【0090】また、光吸収膜を窒化チタン、窒化クロ
ム、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化タンタル
からなる金属窒化物の群から選ばれた少なくとも1種ま
たは2種以上の混合物の膜とすることにより、陰極線管
の表示像を高コントラストにするのに好都合な光吸収性
を付与できる。また、その導電性により帯電防止性と電
磁波遮蔽性が付与できる。
Further, by forming the light absorbing film as a film of at least one kind or a mixture of two or more kinds selected from the group consisting of metal nitrides of titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride and tantalum nitride, Light absorption that is favorable for increasing the contrast of the display image of the cathode ray tube can be provided. In addition, antistatic properties and electromagnetic wave shielding properties can be imparted by its conductivity.

【0091】また、本発明の透光性基体を、着色成分を
含有した着色ガラスで構成することにより、2重像の発
生を一層防止することができる。
Further, by forming the translucent substrate of the present invention from a colored glass containing a coloring component, the occurrence of a double image can be further prevented.

【0092】本発明の光学物品を表示部に用いた陰極線
管は、外光の反射像が映らず、かつ2重像が生じない高
コントラストの像を表示することができる。
A cathode ray tube using the optical article of the present invention as a display unit can display a high-contrast image in which a reflected image of external light is not reflected and a double image is not generated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光学物品の実施例の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of an embodiment of the optical article of the present invention.

【図2】本発明の陰極線管の実施例の外観図である。FIG. 2 is an external view of an embodiment of a cathode ray tube of the present invention.

【図3】本発明の光学物品の実施例の反射防止膜の積層
構成を説明するための断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a laminated structure of an antireflection film according to an example of the optical article of the present invention.

【図4】2重像の発生原理を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining the principle of generating a double image.

【図5】ガラス基体のT1、Tintおよびr1を説明する
ための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining T 1 , T int and r 1 of a glass substrate.

【図6】本発明の光学物品のR1、2およびr3を説明
するための図である。
FIG. 6 is a view for explaining R 1, r 2 and r 3 of the optical article of the present invention.

【図7】実施例1で用いたガラス基体の内部透過率T
intおよび表面反射率r1の分光特性図である。
FIG. 7 shows the internal transmittance T of the glass substrate used in Example 1.
FIG. 4 is a spectral characteristic diagram of int and surface reflectance r 1 .

【図8】実施例1で得た光学物品の透過率T2、反射防
止膜被覆面側の表面反射率r3、ガラス基体と反射防止
膜界面での反射率r2の分光特性図である。
FIG. 8 is a spectral characteristic diagram of the transmittance T 2 of the optical article obtained in Example 1, the surface reflectance r 3 on the side of the anti-reflection coating surface, and the reflectance r 2 at the interface between the glass substrate and the anti-reflection coating. .

【図9】実施例12で得た光学物品の透過率T2、反射
防止膜被覆面側の表面反射率r3、ガラス基体と反射防
止膜界面での反射率r2の分光特性図である。
FIG. 9 is a spectral characteristic diagram of the transmittance T 2 of the optical article obtained in Example 12, the surface reflectance r 3 on the side of the anti-reflection coating surface, and the reflectance r 2 at the interface between the glass substrate and the anti-reflection coating. .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:蛍光体 2:透光性基体 2a:ガラス基体 2b:ガラス製フェースパネル 3:反射防止膜 10a:ガラス基体を用いた本発明の光学物品 10b:ガラス製フェースパネルを用いた本発明の光学
物品 11:本発明の陰極線管 12:ガラスフリット封着層 13:電子銃ユニット 14:ファンネル 31:屈折率が1.6〜2.4の透明誘電体膜 32:光吸収膜 33:屈折率が1.35〜1.5の透明誘電体膜
1: Phosphor 2: Translucent substrate 2a: Glass substrate 2b: Glass face panel 3: Antireflection film 10a: Optical article of the present invention using glass substrate 10b: Optical of the present invention using glass face panel Article 11: cathode ray tube of the present invention 12: glass frit sealing layer 13: electron gun unit 14: funnel 31: transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 32: light absorbing film 33: refractive index 1.35 to 1.5 transparent dielectric film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 千尋 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 中西 功二 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 谷中 保則 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 Fターム(参考) 2H048 CA05 CA14 CA19 CA23 CA29 2K009 AA09 AA12 BB02 CC02 CC03 CC14 EE01 5C032 AA02 DD02 DE01 DE03 DF05 DG01 DG02 EE01 EE02 EF01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Chihiro Sakai 3-5-1-11 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Nippon Sheet Glass Co., Ltd. (72) Koji Nakanishi 3 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5-11-11 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. (72) Yasunori Yanaka 3-5-1-11 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka F-term in Nippon Sheet Glass Co., Ltd. 2H048 CA05 CA14 CA19 CA23 CA29 2K009 AA09 AA12 BB02 CC02 CC03 CC14 EE01 5C032 AA02 DD02 DE01 DE03 DF05 DG01 DG02 EE01 EE02 EF01

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 屈折率が1.4〜1.7の透光性基体上
に、透光性基体側から順に第1層として光吸収膜、第2
層として屈折率が1.6〜2.4である透明誘電体膜、
第3層として光吸収膜、第4層として屈折率が1.6〜
2.4である透明誘電体膜および第5層として屈折率が
1.35〜1.5の透明誘電体膜が積層されてなる反射
防止膜が被覆された反射防止膜付き光学物品。
1. A light-absorbing film as a first layer and a second film on a light-transmitting substrate having a refractive index of 1.4 to 1.7 as a first layer from the light-transmitting substrate side.
A transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 as a layer;
The third layer has a light absorption film, and the fourth layer has a refractive index of 1.6 to 1.6.
An optical article with an anti-reflection film coated with an anti-reflection film formed by laminating a transparent dielectric film of 2.4 and a transparent dielectric film having a refractive index of 1.35 to 1.5 as a fifth layer.
【請求項2】 前記第2層および第4層の透明誘電体膜
の厚みが30〜80nm、前記第5層の透明誘電体膜の
厚みが60〜100nmである請求項1に記載の反射防
止膜付き光学物品。
2. The antireflection method according to claim 1, wherein the thickness of the second and fourth transparent dielectric films is 30 to 80 nm, and the thickness of the fifth transparent dielectric film is 60 to 100 nm. Optical article with a film.
【請求項3】 前記光吸収膜がチタン、クロム、ジルコ
ニウム、モリブデン、鉄、ニオブ、タンタル、ハフニウ
ム、ニッケル、ニッケル鉄合金およびステンレス合金か
らなる金属群から選ばれた少なくとも1種または2種以
上の混合物の膜である請求項1または2に記載の反射防
止膜付き光学物品。
3. The light-absorbing film according to claim 1, wherein the light-absorbing film is at least one or two or more metals selected from the group consisting of titanium, chromium, zirconium, molybdenum, iron, niobium, tantalum, hafnium, nickel, nickel-iron alloy and stainless steel alloy. The optical article with an antireflection film according to claim 1 or 2, which is a film of a mixture.
【請求項4】 請求項3に記載の反射防止膜付き光学物
品において、前記光吸収膜の厚みが5〜18nmである
反射防止膜付き光学物品。
4. The optical article with an antireflection film according to claim 3, wherein the thickness of the light absorbing film is 5 to 18 nm.
【請求項5】 前記屈折率が1.6〜2.4の透明誘電
体膜の少なくとも1層を酸化クロム膜で構成したことを
特徴とする請求項3または4に記載の反射防止膜付き光
学物品。
5. The optical system according to claim 3, wherein at least one of the transparent dielectric films having a refractive index of 1.6 to 2.4 is formed of a chromium oxide film. Goods.
【請求項6】 前記光吸収膜が窒化チタン、窒化クロ
ム、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化タンタル
からなる金属窒化物の群から選ばれた少なくとも1種ま
たは2種以上の混合物の膜である請求項1または2に記
載の反射防止膜付き光学物品。
6. The light-absorbing film is a film of at least one kind or a mixture of two or more kinds selected from the group consisting of metal nitrides consisting of titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, and tantalum nitride. 3. The optical article with an antireflection film according to 1 or 2.
【請求項7】 請求項6に記載の反射防止膜付き光学物
品において、前記光吸収膜の厚みが3〜6nmである反
射防止膜付き光学物品。
7. The optical article with an antireflection film according to claim 6, wherein the thickness of the light absorbing film is 3 to 6 nm.
【請求項8】 屈折率が1.4〜1.7の透光性基体上
に、透光性基体側から順に第1層として屈折率が1.6
〜2.4である透明誘電体膜、第2層として光吸収膜、
第3層として屈折率が1.6〜2.4である透明誘電体
膜、第4層として光吸収膜および第5層として屈折率が
1.35〜1.5の透明誘電体膜が積層してなる反射防
止膜が被覆された反射防止膜付き光学物品。
8. A first layer having a refractive index of 1.6 on a light-transmitting substrate having a refractive index of 1.4 to 1.7 as a first layer from the light-transmitting substrate side.
To 2.4, a light-absorbing film as a second layer,
A transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 as a third layer, a light absorbing film as a fourth layer, and a transparent dielectric film having a refractive index of 1.35 to 1.5 as a fifth layer are laminated. An optical article with an anti-reflection film coated with the anti-reflection film.
【請求項9】 前記第4層の吸収膜と第5層の透明誘電
体膜の間に、屈折率が1.6〜2.4の透明誘電体膜が
第6層として介在された請求項8に記載の反射防止膜付
き光学物品。
9. A transparent dielectric film having a refractive index of 1.6 to 2.4 is interposed as a sixth layer between the fourth layer absorbing film and the fifth layer transparent dielectric film. 9. The optical article with an antireflection film according to 8.
【請求項10】 前記第1層および第3層の透明誘電体
膜の厚みが30〜80nm、前記第5層の透明誘電体膜
の厚みが60〜100nmである請求項8または9に記
載の反射防止膜付き光学物品。
10. The transparent dielectric film of the first layer and the third layer has a thickness of 30 to 80 nm, and the transparent dielectric film of the fifth layer has a thickness of 60 to 100 nm. Optical article with anti-reflection coating.
【請求項11】 前記第6層として介在された透明誘電
体膜の厚みが100nmを越えない請求項9または10
に記載の反射防止膜付き光学物品。
11. The transparent dielectric film interposed as said sixth layer has a thickness not exceeding 100 nm.
3. The optical article with an antireflection film according to item 1.
【請求項12】 前記光吸収膜がチタン、クロム、ジル
コニウム、モリブデン、鉄、ニオブ、タンタル、ハフニ
ウム、ニッケル、ニッケル鉄合金およびステンレス合金
からなる金属群から選ばれた少なくとも1種または2種
以上の混合物の膜である請求項8〜11のいずれかに記
載の反射防止膜付き光学物品。
12. The light-absorbing film is formed of at least one or two or more metals selected from the group consisting of titanium, chromium, zirconium, molybdenum, iron, niobium, tantalum, hafnium, nickel, nickel-iron alloy and stainless steel alloy. The optical article with an antireflection film according to any one of claims 8 to 11, which is a film of a mixture.
【請求項13】 請求項12に記載の反射防止膜付き光
学物品において、前記光吸収膜の厚みが3〜6nmであ
る反射防止膜付き光学物品。
13. The optical article with an antireflection film according to claim 12, wherein the thickness of the light absorbing film is 3 to 6 nm.
【請求項14】 前記屈折率が1.6〜2.4の透明誘
電体膜の少なくとも1層を酸化クロム膜で構成したこと
を特徴とする請求項12または13に記載の反射防止膜
付き光学物品。
14. The optical system according to claim 12, wherein at least one of the transparent dielectric films having a refractive index of 1.6 to 2.4 is formed of a chromium oxide film. Goods.
【請求項15】 前記光吸収膜が窒化チタン、窒化クロ
ム、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化タンタル
からなる金属窒化物の群から選ばれた少なくとも1種ま
たは2種以上の混合物の膜である請求項8〜11のいず
れかに記載の反射防止膜付き光学物品。
15. The light-absorbing film is a film of at least one kind or a mixture of two or more kinds selected from the group consisting of metal nitrides consisting of titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, and tantalum nitride. An optical article with an antireflection film according to any one of 8 to 11.
【請求項16】 請求項15に記載の反射防止膜付き光
学物品において、前記光吸収膜の厚みが5〜18nmで
ある反射防止膜付き光学物品。
16. The optical article with an antireflection film according to claim 15, wherein the thickness of the light absorbing film is 5 to 18 nm.
【請求項17】 前記透光性基体がガラス基体である請
求項1〜16のいずれかに記載の反射防止膜付き光学物
品。
17. The optical article with an antireflection film according to claim 1, wherein the light-transmitting substrate is a glass substrate.
【請求項18】 前記透光性基体が陰極線管用のガラス
製フェースパネルである請求項17に記載の反射防止膜
付き光学物品。
18. The optical article with an antireflection film according to claim 17, wherein the translucent substrate is a glass face panel for a cathode ray tube.
【請求項19】 前記透光性基体をガラス中の着色成分
により光吸収性とした請求項17または18に記載の反
射防止膜付き光学物品。
19. The optical article with an antireflection film according to claim 17, wherein the light-transmitting substrate is made light-absorbing by a coloring component in glass.
【請求項20】 請求項17〜19のいずれかに記載の
反射防止膜付き光学物品を用いた陰極線管。
20. A cathode ray tube using the optical article with an antireflection film according to claim 17.
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KR100426568B1 (en) * 2001-08-10 2004-04-08 엘지.필립스디스플레이(주) The Flat Cathode-ray Tube
WO2016121956A1 (en) * 2015-01-30 2016-08-04 旭硝子株式会社 Glass laminate and portable electronic device

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