JP2000154789A - 高圧純水発生装置及び同装置を用いた高圧純水発生方法 - Google Patents

高圧純水発生装置及び同装置を用いた高圧純水発生方法

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JP2000154789A
JP2000154789A JP10324852A JP32485298A JP2000154789A JP 2000154789 A JP2000154789 A JP 2000154789A JP 10324852 A JP10324852 A JP 10324852A JP 32485298 A JP32485298 A JP 32485298A JP 2000154789 A JP2000154789 A JP 2000154789A
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cylinder
demineralized water
plunger
pressure
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Keita Suzuki
啓太 鈴木
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 シリンダー内で発生するパーティクルの滞留
をなくし、パーティクル汚染の少ないクリーンな超純水
を吐出することができるとともに、超純水の無駄な消費
を抑制することができる高圧純水発生装置及び同装置を
用いた高圧純水発生方法を提供する。 【解決手段】 シリンダー2内のプランジャー3を駆動
することにより、純水吸込管6から吸込んだ純水を純水
吐出管8から高圧純水として吐出する高圧純水発生装置
において、前記シリンダー2と前記プランジャー3間に
所定のギャップGを設けるとともに、前記シリンダー下
部の前記プランジャー下死点付近にオーバーフロー用排
水口10を設け、同オーバーフロー用排水口10に逆止
弁11及び二方切替弁12を介して、第1絞り弁13を
有する吐出時オーバーフロー管14と、第2絞り弁15
を有する吸込時オーバーフロー管16とを接続してなる
高圧純水発生装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程において、液体洗浄剤に圧力を加えてノズルから高
速で噴射し、その力で表面に付着している異物を剥離し
て流し去る高圧噴射洗浄システム、特に、ウェーハ表面
に超純水のジェットを当ててウェーハを洗浄する高圧噴
射洗浄システムに適用する高圧純水発生装置及び同装置
を用いた高圧純水発生方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5は上記したウェーハを洗浄する高圧
噴射洗浄システムの概念図を示し、高圧純水発生装置は
このシステムに組み込まれて使用されるものである。高
圧純水発生装置30は、純水吸込管31から吸込んだ超
純水を高圧にして純水吐出管32から吐出し、この純水
吐出管32が連なる微小径ノズル(以下ジェットノズル
という。)33に圧送するものである。ジェットノズル
33には、スキャン機構が付設されており、高圧純水が
ウェーハ34の中心から端まで全面に均一に噴射される
よう構成されている。
【0003】一方、ウェーハ34は、吸着ヘッドあるい
は外径チャック35に固定され、ウェーハ34の中心を
回転軸として高速回転されるようになっている。ウェー
ハ34の高圧噴射洗浄システムは、上記のように構成さ
れ、ジェットノズル33によりスキャンされながら同時
に高速回転されることによって、ウェーハ34の全面に
均一に高圧純水を噴射して、ウェーハ34の表面上のパ
ーティクルを除去するよう作用するものである。
【0004】このような高圧噴射洗浄システムに組み込
まれる高圧純水発生装置30は、図6、7に示すように
シリンダー36、このシリンダー36内を往復動するプ
ランジャー37、シリンダー36内の上部タンク38に
逆止弁を介して連なる純水吸込管31及びシリンダー3
6内の上部タンク38に逆止弁を介して連なる純水吐出
管32から構成される水圧部39と、プランジャー37
を空気圧にて駆動する空圧駆動部40とからなり、純水
吸込管31から吸込んだ超純水を純水吐出管32から高
圧純水として吐出するよう構成されている。
【0005】かかる構成の高圧純水発生装置30におい
ては、シリンダー36の上部タンク38をシールする樹
脂製のシールリング41とプランジャー37との接触摩
擦によってパーティクルが発生する。このようにしてパ
ーティクルが発生し、それがシリンダー36の上部タン
ク38内に滞留している状態で、ウェーハ34を洗浄す
るために高圧純水を純水吐出管32から吐出すると、パ
ーティクルが高圧純水とともにジェットノズル33から
ウェーハ34の表面に噴射されることになり、このパー
ティクルがウェーハ34の表面に付着し、それがウェー
ハダストの原因の一つと考えられており、製品の歩留り
低下の要因となっていた。
【0006】そこで、シリンダー36の上部タンク38
内の超純水の一部をオーバーフロー排水することによっ
て、高圧純水発生装置30からパーティクル汚染の少な
い超純水を吐出できるようにしている。図6に示す高圧
純水発生装置30は、高圧純水発生装置30に吸込まれ
る超純水に一定の圧力が加えられていることに着目し、
この圧力を利用して吸込み時や待機時に超純水をシリン
ダー36の上部タンク38に連なる純水吐出管32から
オーバーフローさせるようにしたものであり、また、図
7に示す高圧純水発生装置30は、シリンダー36の上
部タンク38の中程にオーバーフロー排水口42を設
け、この排水口42にオリフィスを有するホースを接続
し、主に超純水の吸込み時や待機時にオリフィスで絞っ
た量の超純水をオーバーフローさせるようにしたもので
ある。
【0007】しかしながら、図6に示した高圧純水発生
装置30では、純水吐出管32が連なるジェットノズル
33はノズル径が0.1mmと非常に小さく、吸込み時
や待機時にオーバーフローされる超純水の量は微量であ
る。このため、高圧純水発生装置30とジェットノズル
33間の純水吐出管32内は実質的に死水域となり、吸
込み時や待機時にオーバーフロー排水される超純水量は
極めて少なく、ウェーハ洗浄時に超純水中に残存してい
るパーティクルが排出され、このパーティクルがウェー
ハ34の表面に付着することになるため、十分な効果を
期待することはできなかった。
【0008】また、この高圧純水発生装置30の場合、
プランジャー37とシールリング41との接触摩擦によ
って発生するパーティクルが、最も多量に滞留している
プランジャー37の下死点付近のパーティクルを排出す
ることができず、このパーティクルが圧縮時に純水吐出
管32から吐出され、ジェットノズル33からウェーハ
34の表面に噴射されることになるため、それがウェー
ハ34の表面に付着して製品の歩留りを低下させること
は避けられなかった。
【0009】一方、図7に示した高圧純水発生装置30
では、圧縮作用への影響を考慮してホース中のオリフィ
スの径を小さくしておく必要があり、これによって最大
流量が決まるため、吸込み時や待機時における超純水の
オーバーフロー排水量を多くすることができず、滞留し
ているパーティクルの排出には限界があった。このた
め、残存するパーティクルが圧縮時に純水吐出管32か
ら吐出され、ジェットノズル33からウェーハ34の表
面に噴射されることになり、それがウェーハ34の表面
に付着し、製品歩留りを低下させていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
に対処するためになされたものであり、その第一の課題
は、シリンダー内で発生するパーティクルを速やかにオ
ーバーフロー排出することによって、タンク内での滞留
をなくし、パーティクル汚染の少ないクリーンな超純水
を吐出できる高圧純水発生装置及び同装置を用いた高圧
純水発生方法を提供することにある。また、本発明のも
う一つの課題は、超純水の無駄な消費を抑制しながら、
効率よくパーティクルをオーバーフロー排出できる高圧
純水発生装置及び同装置を用いた高圧純水発生方法を提
供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ため、本発明にかかる高圧純水発生装置は、シリンダ
ー、同シリンダー内を往復動するプランジャー、前記シ
リンダー上部に逆止弁を介して連なる純水吸込管及び前
記シリンダー上部に逆止弁を介して連なる純水吐出管か
らなる水圧部と、前記プランジャーを駆動する駆動部と
を備え、前記純水吸込管から吸込んだ純水を前記純水吐
出管から高圧純水として吐出する高圧純水発生装置にお
いて、前記シリンダーと前記プランジャー間に所定のギ
ャップを設けるとともに、前記シリンダー下部の前記プ
ランジャー下死点付近にオーバーフロー用排水口を設
け、同オーバーフロー用排水口に逆止弁及び二方切替弁
を介して、第1絞り弁を有する吐出時オーバーフロー管
と、第2絞り弁を有する吸込時オーバーフロー管とを接
続してなることを特徴とするもので、プランジャーとシ
ールリングとの接触摩擦により発生したパーティクル
は、シリンダーとプランジャー間に設けられたギャップ
の存在により、大半はプランジャー側面に付着したり、
ギャップ内に浮遊しており、吸込時オーバーフロー管の
第2絞り弁の絞り量を適切に設定しておくことによっ
て、超純水の吸込時と待機時にこれらのパーティクルを
プランジャー下死点付近に設けたオーバーフロー用排水
口から、超純水とともに効率よく排出することができる
ため、パーティクルの滞留が殆どない状態で圧縮工程に
入ることができる。
【0012】また、本発明にかかる高圧純水発生装置
は、上記した高圧純水発生装置において、前記オーバー
フロー用排水口を前記シリンダー下部の前記プランジャ
ー下死点より下方に設けたことを特徴とするもので、オ
ーバーフロー用排水口をプランジャー下死点より下方に
設けておくことによって、プランジャーの下死点付近に
滞留しているパーティクルの殆どを、その下方に設けら
れているオーバーフロー用排水口に導いて、速やかに超
純水とともに排出することができる。
【0013】更に、本発明にかかる高圧純水発生方法
は、上記した高圧純水発生装置を用いて、前記第1絞り
弁を絞り込むとともに、前記第2絞り弁を緩めに調整
し、純水の吸込時にオーバーフロー用排水口からオーバ
ーフローする純水の量を多くし、高圧純水の吐出時にオ
ーバーフロー用排水口からオーバーフローする純水の量
を少なくして高圧純水を発生することを特徴とするもの
で、吸込時オーバーフロー管中の第2絞り弁の絞り量を
緩めに調整しておくことにより、超純水の吸込時と待機
時のオーバーフロー量を上げて、パーティクルの排出効
率を高めることができ、一方、吐出時オーバーフロー管
中の第1絞り弁を絞り込んでおくことによって、圧縮時
における超純水のオーバーフローを殆どなくすることが
でき、超純水の無駄な消費を抑制することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図1
乃至図4に基づいて説明する。図1は本発明の実施形態
にかかる高圧純水発生装置の構成を示す断面図、図2は
そのシリンダー上部の構成を示す拡大断面図、図3はプ
ランジャーが上死点付近にある状態のシリンダー上部を
示す拡大断面図、図4はプランジャーが下死点付近にあ
る状態のシリンダー上部を示す拡大断面図である。
【0015】図中において、1は高圧純水発生装置の水
圧部で、シリンダー2、同シリンダー2内を往復動する
プランジャー3、シリンダー2内の上部タンク4に逆止
弁5を介して連なる純水吸込管6、及びシリンダー2内
の上部タンク4に逆止弁7を介して連なる純水吐出管8
等から構成されている。このシリンダー2とプランジャ
ー3との間には、0.5mm程度のギャップGが設定さ
れており、高圧純水発生装置の作動時にシリンダー2と
プランジャー3とが接触しないよう構成されている。
【0016】また、上部タンク4の下方部のシールは、
シリンダー2の下部に樹脂製のシールリング9を配置
し、このシールリング9とプランジャー3とを密着させ
ることによってシールしている。更に、シリンダー2の
シールリング9より上方位置で、かつプランジャー3の
下死点より下方位置には、上部タンク4と連通するオー
バーフロー用排水口10が設けられており、このオーバ
ーフロー用排水口10には、逆止弁11及び二方切替弁
12を介して、可変式の第1絞り弁13を有する吐出時
オーバーフロー管14と、可変式の第2絞り弁15を有
する吸込時オーバーフロー管16とが接続されている。
【0017】二方切替弁12は、高圧純水発生装置の運
転状態に連動して切替えられるよう構成されており、圧
縮時にはオーバーフロー用排水口10を吐出時オーバー
フロー管14側に連通し、超純水の吸込時及び待機時に
はオーバーフロー用排水口10を吸込時オーバーフロー
管16側に連通するよう切替えられるものである。ま
た、可変式の第1絞り弁13と第2絞り弁15は、それ
ぞれ絞り量を任意に設定できるもので、通常、第1絞り
弁13は略全閉に近い状態に設定され、第2絞り弁15
は略全開に近い状態に設定されている。
【0018】一方、シリンダー2の下部には、中間シリ
ンダー17が接続され、この中間シリンダー17を介し
てその下部にプランジャー3を空気圧にて駆動する空圧
駆動部18が接続されている。空圧駆動部18は、大径
のシリンダ室19と、プランジャー3の下部に設けら
れ、シリンダ室19内を摺動するピストン20と、シリ
ンダ室19の上部と下部に設けられた2つの圧縮空気口
21、22と、この圧縮空気口21、22に切替弁23
を介して圧縮空気の給排気方向を切替え可能に接続され
た圧縮空気管24とから構成されている。
【0019】しかして、上記した実施形態にかかる高圧
純水発生装置の基本動作は、空圧駆動部18のシリンダ
室19に対し、圧縮空気口21、22から切替弁23を
介して圧縮空気を給排気することにより、プランジャー
3を駆動し、純水吸込管6から超純水を吸込み、これを
圧縮して純水吐出管8から高圧純水として吐出すること
であり、この動作を繰り返す途中で装置を停止する時
は、超純水の吸込みを完了した状態で停止し、待機状態
となる。この超純水の吸込時と吐出のための圧縮時に、
プランジャー3が上下動し、これによってプランジャー
3とシールリング9とが接触摩擦するため、パーティク
ルPが発生することになる。
【0020】特に、超純水の圧縮時に発生したパーティ
クルPは、図3に示すようにプランジャー3の側面に付
着したり、シリンダー2とプランジャー3間のギャップ
G内に浮遊した状態で上部タンク4内に滞留することに
なる。このパーティクルPは、主として超純水の吸込時
にオーバーフロー用排水口10からオーバーフローする
超純水に伴われ、逆止弁11及び二方切替弁12を介し
て吐出時オーバーフロー管14から排出される。
【0021】図3はプランジャー3が上死点から僅かに
下がった位置にある状態を示し、このときプランジャー
3の側面にはパーティクルPが付着している。また、シ
リンダー2とプランジャー3間のギャップG内にも多く
のパーティクルPが浮遊している。この状態からプラン
ジャー3が下降することによって、高圧純水発生装置の
吸込み工程が開始される。図4中の破線で示されたプラ
ンジャー3は、超純水の吸込み工程の途中状態にあり、
この状態で超純水の一部は、図4中の矢印方向に流れ、
オーバーフロー用排水口10、逆止弁11、二方切替弁
12及び第1絞り弁13を介して吐出時オーバーフロー
管14からオーバーフロー排水される。
【0022】この際、第1絞り弁13の絞り量を略全開
に近い状態に設定しておくことによって、パーティクル
Pを略完全に排出するに十分な量の超純水をオーバーフ
ロー排水することができる。このように十分な量の超純
水をオーバーフロー排水することによって、プランジャ
ー3の側面に付着していたパーティクルPやシリンダー
2とプランジャー3間のギャップG内に浮遊していたパ
ーティクルPの殆どを、図4に示す吸込み工程終了時
(待機時)までにオーバーフローされる超純水ととも
に、上部タンク4内から排出することができる。従っ
て、待機工程が終わって圧縮工程に入る時に、プランジ
ャー3の下死点付近にパーティクルPが殆ど滞留してい
ない状態とすることができる。逆止弁11は、この間に
パーティクルPを含むオーバーフロー排水が逆流するの
を防止する作用をなしている。
【0023】また、上部タンク4の容量は、一般的にウ
ェーハを一回洗浄するに要する超純水量に対して十分な
余裕を持っており、しかもウェーハを一回洗浄する際に
移動するプランジャー3のストロークはシリンダー2の
全ストロークより十分に短く設定されていることから、
実際にウェーハの洗浄に使用されるのは、パーティクル
Pの滞留していない上部タンク4の上方部に存在してい
る超純水のみとなるため、圧縮工程でジェットノズルか
らパーティクルPが排出されることは殆どなくなり、ウ
ェーハ表面にパーティクルPが付着することに起因する
ウェーハダストの発生を防止し、製品の歩留りを大幅に
向上させることができる。
【0024】更に、超純水の吸込み時と待機時には、第
1絞り弁13の絞り量を略全開に近い状態に設定してお
くことによって、オーバーフロー排水量を十分に確保す
ることができるため、パーティクルPの排出効率を十分
高くすることができる。一方、圧縮時には、第2絞り弁
15の絞り量を略全閉に近い状態に絞っておくことによ
り、オーバーフロー排水量を微量に止めることができる
ため、超純水の無駄な消費を抑制することができる。特
に、第1絞り弁13及び第2絞り弁15がそれぞれ可変
式のため、それによって超純水のオーバーフロー排水量
を最適に調整することとができ、超純水の消費量を最小
限に抑えながら、効率よくパーティクルをオーバーフロ
ー排出することができる。
【0025】
【発明の効果】以上に詳細に説明したように、本発明に
かかる高圧純水発生装置によると、プランジャーとシー
ルリングとの接触摩擦により発生するパーティクルを、
吸込時オーバーフロー管の第2絞り弁の絞り量を適切に
設定しておくことにより、超純水の吸込時と待機時にオ
ーバーフロー用排水口から、超純水とともに効率よく排
出することができるので、パーティクルの滞留が殆どな
い状態にして圧縮工程に入ることができる。このため、
パーティクル汚染の極めて少ないクリーンな超純水のみ
を吐出して洗浄用に供することができ、パーティクル付
着による製品の歩留り低下を防止することができる。
【0026】また、オーバーフロー用排水口をプランジ
ャー下死点より下方に設けておくことによって、プラン
ジャーの下死点付近に滞留しているパーティクルを略完
全に排出することができるため、パーティクルが混じっ
た超純水が吐出されることに起因する製品の歩留り低下
を略解消でき、装置の性能及びそれにより処理される製
品の品質に関する信頼性を一層向上させることができ
る。
【0027】更に、本発明にかかる高圧純水発生方法に
よると、吐出時オーバーフロー管中の第1絞り弁と吸込
時オーバーフロー管中の第2絞り弁の絞り量をそれぞれ
適切に設定することによって、超純水のオーバーフロー
排水量を最適の状態に調整することができるため、パー
ティクルの排出効率を高めるとともに、超純水の無駄な
消費を抑制しながら、高圧純水を吐出することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態にかかる高圧純水発生装置の
構成を示す断面図である。
【図2】本発明の実施形態にかかる高圧純水発生装置の
シリンダー上部の構成を示す拡大断面図である。
【図3】本発明の実施形態にかかる高圧純水発生装置の
プランジャーが上死点付近にある状態のシリンダー上部
を示す拡大断面図である。
【図4】本発明の実施形態にかかる高圧純水発生装置の
プランジャーが下死点付近にある状態のシリンダー上部
を示す拡大断面図である。
【図5】従来の高圧噴射洗浄システムの概念図である。
【図6】従来の高圧純水発生装置のシリンダー上部の構
成を示す拡大断面図である。
【図7】従来の高圧純水発生装置の別の実施例のシリン
ダー上部の構成を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
1…水圧部、2…シリンダー、3…プランジャー、5…
逆止弁、6…純水吸込管、7…逆止弁、8…純水吐出
管、10…オーバーフロー用排水口、11…逆止弁、1
2…二方切替弁、13…第1絞り弁、14…吐出時オー
バーフロー管、15…第2絞り弁、16…吸込時オーバ
ーフロー管、18…空圧駆動部、G…ギャップ、P…パ
ーティクル

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シリンダー、同シリンダー内を往復動す
    るプランジャー、前記シリンダー上部に逆止弁を介して
    連なる純水吸込管及び前記シリンダー上部に逆止弁を介
    して連なる純水吐出管からなる水圧部と、前記プランジ
    ャーを駆動する駆動部とを備え、前記純水吸込管から吸
    込んだ純水を前記純水吐出管から高圧純水として吐出す
    る高圧純水発生装置において、 前記シリンダーと前記プランジャー間に所定のギャップ
    を設けるとともに、前記シリンダー下部の前記プランジ
    ャー下死点付近にオーバーフロー用排水口を設け、同オ
    ーバーフロー用排水口に逆止弁及び二方切替弁を介し
    て、第1絞り弁を有する吐出時オーバーフロー管と、第
    2絞り弁を有する吸込時オーバーフロー管とを接続して
    なることを特徴とする高圧純水発生装置。
  2. 【請求項2】 前記オーバーフロー用排水口を前記シリ
    ンダー下部の前記プランジャー下死点より下方に設けた
    ことを特徴とする請求項1に記載の高圧純水発生装置。
  3. 【請求項3】 前記第1絞り弁を絞り込むとともに、前
    記第2絞り弁を緩めに調整し、純水の吸込時にオーバー
    フロー用排水口からオーバーフローする純水の量を多く
    し、高圧純水の吐出時にオーバーフロー用排水口からオ
    ーバーフローする純水の量を少なくして高圧純水を発生
    することを特徴とする請求項1又は2に記載の高圧純水
    発生装置を用いた高圧純水発生方法。
JP10324852A 1998-11-16 1998-11-16 高圧純水発生装置及び同装置を用いた高圧純水発生方法 Pending JP2000154789A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007224765A (ja) * 2006-02-22 2007-09-06 Mikuni Corp プランジャポンプ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007224765A (ja) * 2006-02-22 2007-09-06 Mikuni Corp プランジャポンプ

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