JP2000147536A - Reflecting electrode and its manufacture, and reflection type liquid crystal display device - Google Patents

Reflecting electrode and its manufacture, and reflection type liquid crystal display device

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JP2000147536A
JP2000147536A JP10320347A JP32034798A JP2000147536A JP 2000147536 A JP2000147536 A JP 2000147536A JP 10320347 A JP10320347 A JP 10320347A JP 32034798 A JP32034798 A JP 32034798A JP 2000147536 A JP2000147536 A JP 2000147536A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the direction and range of reflected light and to emit reflected light which has no regularly reflected component and has many scattered and reflected components by adopting an interference pattern which is formed with scattered light of light having coherence, as an irregular pattern. SOLUTION: A transmission type diffusion plate 11 like frosted glass is lit with illumination light 15 having coherence like laser light. Diffusion light 16 diffused by the diffusion plate 11 reaches a photosensitive material 14 like a photoresist dry plate. The illumination light 15 has coherence, so a speckle pattern which is a diffraction pattern is formed on the photosensitive material 14 with the diffused light 16. This speckle pattern can be recorded by developing the photosensitive material 14. When the diffusion plate 11 is made larger vertically than horizontally, the speckle pattern becomes thinner vertically than horizontally. Thus, the diffusion plate 11 is properly sized to control the spatial frequency distribution of the pattern on the photosensitive material 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、バックライトやエ
ッジライトなどの特殊な光源を必要とせず、周辺光を入
射光として利用し、それを反射することによって表示を
行なう反射型液晶表示装置およびそれに搭載する反射電
極とその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention does not require a special light source such as a backlight or an edge light, and uses ambient light as incident light, and reflects the reflected light to perform display by reflecting the light. The present invention relates to a reflective electrode mounted thereon and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶は様々な分野に応用され、そ
の応用範囲は爆発的に増大してきている。その中でも、
時計,携帯端末など電池で駆動するものが増え、これら
の表示の高画質化が課題となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystals have been applied to various fields, and the range of application has exploded. Among them,
The number of devices driven by a battery, such as a clock and a portable terminal, has increased, and improvement in the image quality of these displays has become an issue.

【0003】現状では、高画質な液晶は、バックライト
など光源を内蔵したものでの実現が多いが、消費電力が
大きくなり、電池の能力からその駆動時間の短さが問題
となっていた。
At present, high-quality liquid crystals are often realized by incorporating a light source such as a backlight. However, power consumption is large, and short driving time has been a problem due to the ability of a battery.

【0004】一方、特殊な光源を必要としない反射型の
液晶表示装置では、周辺光を利用するため、消費電力は
節約でき駆動時間を長く取ることができるが、光量の不
足から高輝度の表示は期待できない。
On the other hand, in a reflection type liquid crystal display device which does not require a special light source, power consumption can be saved and driving time can be extended because ambient light is used. Can not expect.

【0005】上記の反射型液晶表示装置として、液晶パ
ネル(液晶層の両側の電極も含む)の背面(観察者と反
対側)に反射層を配置する構成が一般的である。前記反
射層として、表面を粗面化した金属板や、近年ではホロ
グラムを採用する提案が公知である。
[0005] The above-mentioned reflection type liquid crystal display device generally has a structure in which a reflection layer is arranged on the back surface (the side opposite to the viewer) of a liquid crystal panel (including electrodes on both sides of the liquid crystal layer). As the reflective layer, proposals have been made to adopt a metal plate having a roughened surface or a hologram in recent years.

【0006】他方、液晶層の両側の電極のうち下部電極
(観察者と反対側)を反射層として併用する反射型液晶
表示装置に係る提案もなされ始めている。以下、上記の
電極を「反射電極」と称することとする。上記提案とし
て、特開平8−201802号公報や特開平9−152
597号公報が例示される。
On the other hand, proposals have been made on a reflection type liquid crystal display device in which the lower electrode (the side opposite to the observer) among the electrodes on both sides of the liquid crystal layer is used as a reflection layer. Hereinafter, the above-mentioned electrodes will be referred to as “reflection electrodes”. As the above proposals, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 8-201802 and 9-152
No. 597 is exemplified.

【0007】特開平8−201802号公報に係る提案
は、液晶を駆動するための電極を兼ねた鏡面反射板の上
に液晶層、透明電極、カラーフィルタ、透明な基板をこ
の順で重ね、その上に偏光子及び後方散乱特性がほとん
どなく前方散乱特性が強い散乱板(表示光が、装置から
観察者側に出射する際に散乱する)をこの順で重ねた構
成の表示装置である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-201802 proposes that a liquid crystal layer, a transparent electrode, a color filter, and a transparent substrate are stacked in this order on a mirror reflector which also serves as an electrode for driving a liquid crystal. The display device has a configuration in which a polarizer and a scattering plate having little forward scattering characteristics and strong forward scattering characteristics (display light is scattered when emitted from the device to the observer side) are superposed in this order.

【0008】上記構成とすることにより、コントラスト
が高く、視覚依存性や二重像の問題のない装置が提供さ
れる。上記提案では、反射電極として鏡面反射板を採用
する利点は、偏光子を液晶層の片側のみに配置すれば十
分であること(二重像の問題がなくなる)にある。表示
光の出射範囲・方向は、前方散乱特性が強い散乱板によ
り制御される。
With the above configuration, an apparatus having high contrast and free from problems of visual dependency and double image is provided. In the above proposal, the advantage of using a specular reflector as the reflective electrode is that it is sufficient to dispose the polarizer on only one side of the liquid crystal layer (the problem of double image is eliminated). The emission range and direction of the display light are controlled by a scattering plate having strong forward scattering characteristics.

【0009】反射電極を採用する表示装置では、周辺光
が電極で反射した後、いかに効率よく観察者に表示光を
出射させるかが重大なポイントとなる。
[0009] In a display device employing a reflective electrode, it is an important point how efficiently the display light is emitted to the observer after the ambient light is reflected by the electrode.

【0010】特開平9−152597号公報に係る提案
では、反射電極を用いる際、電極の開口率を上げること
により、反射光量を増加させて、高画質(高輝度)の表
示を実現する試みがなされている。
In the proposal according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-152597, when a reflective electrode is used, an attempt is made to increase the aperture ratio of the electrode to increase the amount of reflected light, thereby realizing high-quality (high-brightness) display. It has been done.

【0011】上記公報の表示装置の製造に係る説明で
は、電極の開口を形成するにあたり、径が異なる(例え
ば、5μmと3μm)孔が、それぞれの孔同士の間隔を
2μm以上離してランダムに配置して形成された開口パ
ターンを有するフォトマスクを用い、反射電極上の有機
絶縁層のエッチングを行い、反射電極の表面に凹凸を形
成し、反射光の散乱性を制御している。
In the description of the manufacturing of the display device disclosed in the above publication, in forming the openings of the electrodes, holes having different diameters (for example, 5 μm and 3 μm) are randomly arranged with a distance of 2 μm or more between the holes. Using a photomask having an opening pattern formed by etching, the organic insulating layer on the reflective electrode is etched to form irregularities on the surface of the reflective electrode, thereby controlling the scattering of reflected light.

【0012】上記方法によれば、異なる大きさの円形の
孔を接しないように配置しているため、作製される反射
電極では、孔の間に相当する部分では鏡面となる隙間が
生じてしまい、散乱反射光の成分が少なくなる。すなわ
ち、散乱成分に対する正反射成分の割合が高いことを示
し、観察に利用される光の効率が高くないことを意味す
る。
According to the above method, since circular holes of different sizes are arranged so as not to be in contact with each other, a gap which becomes a mirror surface is generated in a portion corresponding to between the holes in the manufactured reflective electrode. And the component of the scattered reflected light is reduced. That is, the ratio of the regular reflection component to the scattering component is high, which means that the efficiency of light used for observation is not high.

【0013】上記反射板では、異方性がなく入射した光
は、水平方向と垂直方向にほぼ同一の散乱性を有する反
射光として出射する。しかしながら、その表示装置の利
用環境に応じて、適切な観察領域は異なり、周辺光を効
率よく観察者の目に表示光として入射させるためには、
表示装置の利用環境に合わせて、反射電極の反射光を異
方的に制御(反射光の出射する方向・範囲を制御)し、
反射光の方向を最適化することが望ましい。
In the above-mentioned reflector, the incident light without anisotropy is emitted as reflected light having substantially the same scattering properties in the horizontal and vertical directions. However, depending on the use environment of the display device, an appropriate observation region is different, and in order to efficiently input ambient light as display light to the observer's eyes,
According to the use environment of the display device, the reflected light of the reflective electrode is controlled anisotropically (the direction and range of the reflected light is controlled),
It is desirable to optimize the direction of the reflected light.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、表面に凹凸
を形成してなる反射電極にあって、反射光の方向・範囲
を制御することが可能であり、さらに、正反射成分がな
く(もしくは、殆ど少なく)散乱反射成分が多い反射光
を出射するような反射電極を提供することを主な目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a reflective electrode having a surface having irregularities, wherein the direction and range of reflected light can be controlled, and further, there is no specular reflection component. It is a main object to provide a reflective electrode that emits reflected light having a large (or almost small) scattered reflection component.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明では、望ましい異
方性を持つ反射特性を有する反射電極を形成するため
に、反射電極上に形成する凹凸パターンとして、可干渉
性を持つ光の散乱光による干渉パターンを採用すること
により、反射光の散乱方向・範囲を制御する異方性と散
乱効率の向上を実現する。
According to the present invention, in order to form a reflective electrode having a reflection characteristic having a desirable anisotropy, scattered light of coherent light is used as a concave / convex pattern formed on the reflective electrode. By adopting the interference pattern, the anisotropy for controlling the scattering direction and range of the reflected light and the improvement of the scattering efficiency are realized.

【0016】すなわち、本発明の反射電極は、液晶を駆
動するための電極を兼ねた反射体(反射電極)におい
て、液晶層に面する側の表面に、可干渉性を持つ少なく
とも1本の光からの散乱光による干渉パターンである凹
凸パターンが形成されてなることを特徴とする。
That is, in the reflective electrode of the present invention, in a reflector (reflective electrode) also serving as an electrode for driving liquid crystal, at least one light having coherence is provided on the surface facing the liquid crystal layer. And a concavo-convex pattern which is an interference pattern due to scattered light from the light source.

【0017】上記凹凸としては、スペックルの記録され
たパターンであることが好ましい。
The irregularities are preferably a pattern on which speckles are recorded.

【0018】反射電極の反射面に細かい凹凸が分布して
いると、入射光は、そこで微視的な反射や回折を生じる
ことにより、散乱が生じて散乱反射光を発生する。
If fine irregularities are distributed on the reflection surface of the reflection electrode, the incident light causes microscopic reflection and diffraction at the reflection surface, thereby causing scattering and generating scattered reflected light.

【0019】上記凹凸が細かい方が散乱光の拡がる幅が
広く、凹凸が粗いと散乱光の拡がる範囲が狭いことが知
られている。
It is known that the finer the unevenness is, the wider the spread of the scattered light is, and the rougher the unevenness is, the narrower the spread of the scattered light is.

【0020】ここで、凹凸表面での回折に注目して、散
乱する角度を計算する。凹凸パターンがある程度の周期
性を持って形成されている場合、凹凸の空間周波数の
X,Y両方向の成分をfx,fyとし、反射電極に入射
する光の波長をλ、電極の反射面で散乱する光のX,Y
各方向での拡がり角を±θx,±θyとする。
Here, the angle of scattering is calculated by focusing on the diffraction on the uneven surface. When the concavo-convex pattern is formed with a certain degree of periodicity, the components of the spatial frequency of the concavo-convex in both the X and Y directions are fx and fy, the wavelength of light incident on the reflective electrode is λ, and the light is scattered by the reflective surface of the electrode. X, Y of light
The divergent angles in each direction are ± θx and ± θy.

【0021】このとき、これらのパラメータには次のよ
うな関係がある。 sin (θx)=λ・fx sin (θy)=λ・fy
At this time, these parameters have the following relationship. sin (θx) = λ · fx sin (θy) = λ · fy

【0022】このことより、X方向の散乱幅を−θxか
ら+θxとする場合には、反射面の凹凸のX方向の空間
周波数成分を0からsin (θx)/λとすれば良い。同
様に、X方向の散乱幅を−θyから+θyとする場合に
は、反射面の凹凸のY方向の空間周波数成分を0からsi
n (θy)/λとすれば良い。
From the above, when the scattering width in the X direction is changed from -θx to + θx, the spatial frequency component in the X direction of the unevenness of the reflecting surface may be changed from 0 to sin (θx) / λ. Similarly, when the scattering width in the X direction is from -θy to + θy, the spatial frequency component in the Y direction of the unevenness of the reflecting surface is from 0 to si.
n (θy) / λ.

【0023】また、散乱光の分布を制御するためには、
その角度に応じた空間周波数成分の強度比を制御すれ
ば、任意の強度分布の散乱光を得ることができる。
In order to control the distribution of scattered light,
By controlling the intensity ratio of the spatial frequency component according to the angle, scattered light having an arbitrary intensity distribution can be obtained.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】次に、この様に散乱反射光に異方
性をもたらす反射面の凹凸パターンの製法に係る実施形
態を説明する。尚、以降の説明では、「散乱」と「拡
散」は同義語として用いることとする。
Next, a description will be given of an embodiment relating to a method for producing a concave-convex pattern on a reflection surface which gives anisotropy to scattered reflected light. In the following description, “scattering” and “diffusion” are used as synonyms.

【0025】図1は、反射面の凹凸パターンの作製のた
めの光学系を示す構成図である。図1(a) は光学系を上
から見た図、図1(b) は光学系を横から見た図である。
FIG. 1 is a structural view showing an optical system for producing a concave / convex pattern on a reflecting surface. FIG. 1A is a diagram of the optical system viewed from above, and FIG. 1B is a diagram of the optical system viewed from the side.

【0026】すりガラスのような透過型の拡散板11
を、レーザー光のような可干渉性を持つ照明光15で照
明する。拡散板11によって拡散した拡散光16は、フ
ォトレジスト乾板のような感光材料14に到達する。
Transmission type diffusion plate 11 such as ground glass
Is illuminated with illumination light 15 having coherence such as laser light. The diffused light 16 diffused by the diffusion plate 11 reaches a photosensitive material 14 such as a photoresist dry plate.

【0027】照明光15は可干渉性を持つため、感光材
料14上には、拡散光16による回折パターンであるス
ペックルパターンが生じる。感光材料14を現像するこ
とによって、このスペックルパターンを記録することが
出来る。
Since the illumination light 15 has coherence, a speckle pattern which is a diffraction pattern by the diffused light 16 is generated on the photosensitive material 14. By developing the photosensitive material 14, this speckle pattern can be recorded.

【0028】ところで、スペックルパターンの大きさ
は、感光材料14から拡散板11を見込む角度に反比例
して、スペックルパターンの平均径が決定される。この
ことは、「光測定ハンドブック 朝倉書店 田幸敏治ほ
か著 1994年11月25日発行」のp.267 〜p.268 に記述さ
れている。
By the way, the average diameter of the speckle pattern is determined in inverse proportion to the angle at which the diffusion plate 11 is viewed from the photosensitive material 14. This is described in the Optical Measurement Handbook, Asakura Shoten, Toshiharu Tada et al., Published November 25, 1994, pp.267-268.

【0029】従って、図1に示すように、拡散板11の
大きさを、水平方向よりも垂直方向で大きくした場合、
感光材料14上に記録されるスペックルパターンは、水
平方向よりも垂直方向が細かいものとなる。
Therefore, as shown in FIG. 1, when the size of the diffusion plate 11 is made larger in the vertical direction than in the horizontal direction,
The speckle pattern recorded on the photosensitive material 14 is finer in the vertical direction than in the horizontal direction.

【0030】このように拡散板11の大きさを適切なサ
イズにすることによって、感光材料14上のパターンの
空間周波数分布を制御することが可能になる。例えば、
図1において、感光材料14と拡散板11との距離を2
0cmとし、垂直方向の拡散板の長さを10cm、水平
方向の拡散板の長さを3cmとしたとき、感光材料上に
記録されたスペックルパターンは、図5に示すようなパ
ターンになる。
By appropriately setting the size of the diffusion plate 11 in this way, it becomes possible to control the spatial frequency distribution of the pattern on the photosensitive material 14. For example,
In FIG. 1, the distance between the photosensitive material 14 and the diffusion plate 11 is 2
When the length of the diffusion plate in the vertical direction is 10 cm and the length of the diffusion plate in the horizontal direction is 3 cm, the speckle pattern recorded on the photosensitive material is as shown in FIG.

【0031】上記のスペックルパターンを、反射面の凹
凸として形成した反射板を、図2に示すように配置す
る。図2(a) は反射の様子を上から見た図、図2(b) は
横から見た図を示す。
A reflector in which the above-mentioned speckle pattern is formed as unevenness of the reflection surface is arranged as shown in FIG. FIG. 2 (a) shows the state of reflection from above, and FIG. 2 (b) shows the view from the side.

【0032】反射板61に対して、照明光65を入射さ
せると、反射板表面のスペックルパターンの凹凸によっ
て光は散乱反射する。図1のように、水平方向よりも垂
直方向の方が長い拡散板を用いた場合、垂直方向に広く
拡散する異方性を持つ散乱反射光が生じる。
When the illumination light 65 is incident on the reflector 61, the light is scattered and reflected by the unevenness of the speckle pattern on the surface of the reflector. As shown in FIG. 1, when a diffuser plate that is longer in the vertical direction than in the horizontal direction is used, scattered reflected light having anisotropy that diffuses widely in the vertical direction is generated.

【0033】図5のスペックルパターンを持つ反射板に
よって生じた散乱反射光の分布を図6に示す。なお、本
発明におけるスペックルパターンとは、上記「光測定ハ
ンドブック」のp.266 に記述してあるように、パターン
上の濃度や位相が位置によってランダムな値を示してい
るものを指す。また、このパターンを2値化しても周波
数成分は残るため、その効果は失われない。
FIG. 6 shows the distribution of the scattered reflected light generated by the reflector having the speckle pattern shown in FIG. The speckle pattern in the present invention refers to a pattern in which the density or phase on the pattern shows a random value depending on the position, as described in p.266 of the above-mentioned "Light Measurement Handbook". Even if this pattern is binarized, the frequency component remains, so that the effect is not lost.

【0034】[0034]

【実施例】<実施例1>以下、本発明の反射電極の作製
方法に係る実施例を説明する。液晶反射電極用の各素子
が形成された基板31の上に、図3(a) に示すように感
光性樹脂をスピンコートによって塗布し、有機絶縁樹脂
層12を形成する。
<Embodiment 1> An embodiment of a method for manufacturing a reflective electrode according to the present invention will be described below. As shown in FIG. 3A, a photosensitive resin is applied by spin coating on the substrate 31 on which the elements for the liquid crystal reflective electrode are formed, thereby forming the organic insulating resin layer 12.

【0035】有機絶縁層12としては、フォトレジスト
のような感光性樹脂を用い、本実施例では、膜厚を2.
5μmとした。次に、有機絶縁層12を塗布した基板3
1をプリベークする。本実施例では、90℃で30分プ
リベークした。
As the organic insulating layer 12, a photosensitive resin such as a photoresist is used.
The thickness was 5 μm. Next, the substrate 3 coated with the organic insulating layer 12
Prebake 1 In this embodiment, prebaking was performed at 90 ° C. for 30 minutes.

【0036】次いで、図3(b) に示すように、遮光板4
2で囲まれた拡散板41を有機絶縁層12と相対させて
配置する。この時、拡散板からの拡散光同士の干渉を生
じさせ、十分なスペックルを発生させるためには、拡散
板41と有機絶縁層12とは密着させないほうが好まし
く、少なくとも1mm以上離した方が良い。その状態
で、レーザー光のような可干渉光51で、図示のように
照射する。本実施例では、このレーザーとしてアルゴン
イオンレーザーを用いた。
Next, as shown in FIG.
The diffusion plate 41 surrounded by 2 is disposed so as to face the organic insulating layer 12. At this time, it is preferable that the diffusion plate 41 and the organic insulating layer 12 do not adhere to each other in order to cause interference between the diffusion lights from the diffusion plate and to generate sufficient speckles, and it is better to separate the diffusion plate 41 by at least 1 mm or more. . In this state, irradiation is performed with coherent light 51 such as laser light as shown in the figure. In the present embodiment, an argon ion laser was used as this laser.

【0037】次に、例えば東京応化のTMDHの濃度5
%の現像液を利用して有機絶縁層の現像を行う。これに
よって、図3(c) に示すように、有機絶縁膜12上にス
ペックルパターンに応じた凹凸パターンが形成される。
このとき、図3(b) の工程での露光量と現像時間を最適
に制御し、有機絶縁層が現像によってなくなり、基板3
1が露出しないようにするのが望ましい。
Next, for example, the concentration of TMDH 5
% Of the organic insulating layer is developed using a developing solution having a concentration of 0.1%. Thereby, as shown in FIG. 3C, a concavo-convex pattern corresponding to the speckle pattern is formed on the organic insulating film 12.
At this time, the amount of exposure and the developing time in the step of FIG.
It is desirable not to expose 1.

【0038】その後、図3(c) の状態の有機絶縁層12
に、コンタクトホールの形成など、通常の反射電極の作
製工程を施し、表面に金属による反射層を形成する。本
実施例では、スパッタリングによってアルミニウム反射
層を形成した。
Thereafter, the organic insulating layer 12 in the state shown in FIG.
Then, a normal reflective electrode manufacturing process such as formation of a contact hole is performed to form a metal reflective layer on the surface. In this embodiment, the aluminum reflection layer was formed by sputtering.

【0039】<実施例2>以下、本発明の反射電極の作
製方法に係る第2の実施例を説明する。液晶反射電極用
の各素子が形成された基板31の上に、図4(a) に示す
ように感光性樹脂をスピンコートによって塗布し、有機
絶縁樹脂層12を形成する。
<Embodiment 2> Hereinafter, a second embodiment of the method of manufacturing a reflective electrode according to the present invention will be described. As shown in FIG. 4A, a photosensitive resin is applied by spin coating on the substrate 31 on which the elements for the liquid crystal reflective electrode are formed, thereby forming the organic insulating resin layer 12.

【0040】有機絶縁層12としては、フォトレジスト
のような感光性樹脂を用い、本実施例では、膜厚を2.
5μmとした。次に、有機絶縁層12を塗布した基板3
1をプリベークする。本実施例では、90℃で30分プ
リベークした。
As the organic insulating layer 12, a photosensitive resin such as a photoresist is used.
The thickness was 5 μm. Next, the substrate 3 coated with the organic insulating layer 12
Prebake 1 In this embodiment, prebaking was performed at 90 ° C. for 30 minutes.

【0041】次いで、図4(b) に示すように、フォトマ
スク13を有機絶縁層12側に配置する。
Next, as shown in FIG. 4B, a photomask 13 is disposed on the organic insulating layer 12 side.

【0042】フォトマスク13は、図1に示すような工
程で、スペックルパターンを感光性樹脂に記録した後、
エッチング処理によってクロム膜を除去することに作製
したものを用いた。よって、フォトマスク13には、ク
ロム膜の有無による(濃淡の)形態でスペックルパター
ンが形成されている。
After the speckle pattern is recorded on the photosensitive resin in the process shown in FIG.
The one produced by removing the chromium film by etching was used. Therefore, a speckle pattern is formed on the photomask 13 in a form (shading) depending on the presence or absence of the chromium film.

【0043】次いで、図示の状態で、フォトマスク13
側から光55を照射する。本実施例では、紫外線を利用
した。
Next, in the state shown in FIG.
Light 55 is irradiated from the side. In this embodiment, ultraviolet light is used.

【0044】次に、例えば東京応化のTMDHの濃度5
%の現像液を利用して有機絶縁層の現像を行う。これに
よって、図4(c) に示すように、有機絶縁膜12上にス
ペックルパターンに応じた凹凸パターンが形成される。
このとき、図4(b) の工程での露光量と現像時間を最適
に制御し、有機絶縁層が現像によってなくなり、基板3
1が露出しないようにするのが望ましい。
Next, for example, the concentration of TMDH 5
% Of the organic insulating layer is developed using a developing solution having a concentration of 0.1%. Thereby, as shown in FIG. 4C, a concavo-convex pattern corresponding to the speckle pattern is formed on the organic insulating film 12.
At this time, the amount of exposure and the development time in the step of FIG.
It is desirable not to expose 1.

【0045】その後、図4(c) の状態の有機絶縁層12
に、コンタクトホールの形成など、通常の反射電極の作
製工程を施し、表面に金属による反射層を形成する。本
実施例では、スパッタリングによってアルミニウム反射
層を形成した。
Thereafter, the organic insulating layer 12 in the state shown in FIG.
Then, a normal reflective electrode manufacturing process such as formation of a contact hole is performed to form a metal reflective layer on the surface. In this embodiment, the aluminum reflection layer was formed by sputtering.

【0046】本実施例では、フォトマスクのスペックル
パターンを、拡散性のある可干渉光によるスペックルパ
ターンを撮影して記録したが、計算機によってスペック
ルパターンを計算し、半導体製造装置で用いられるEB
描画装置やレーザー描画装置のような装置を用いて、フ
ォトマスクを作製しても良い。
In this embodiment, the speckle pattern of the photomask is recorded by photographing the speckle pattern using diffusible coherent light, but the speckle pattern is calculated by a computer and used in a semiconductor manufacturing apparatus. EB
The photomask may be manufactured using a device such as a drawing device or a laser drawing device.

【0047】尚、上記の何れの実施例においても、図3
(b) または図4(b) の工程では、1本のみの光から発生
する拡散光を、有機絶縁層上に露光記録する場合に係る
説明であったが、本発明はこれに限るものではなく、上
記拡散光とは別の光を用いてスペックルパターンを記録
しても良い。
In any of the above-described embodiments, FIG.
In the process of FIG. 4B or FIG. 4B, the description is made on the case where the diffused light generated from only one light is exposed and recorded on the organic insulating layer, but the present invention is not limited to this. Instead, the speckle pattern may be recorded using light different from the diffused light.

【0048】その場合、露光記録する感光材料に、光軸
の等しい(オン・アクシス)拡散光と別の光を入射させ
て露光記録することにより、再生の際に色変化の少ない
拡散光がスペックルパターンから出射されることになり
好ましい。
In this case, by making the light-sensitive material to be exposed and recorded incident (on-axis) diffused light having the same optical axis and another light, and recording by exposure, the diffused light having a small color change during reproduction is specified. It is preferable because the light is emitted from the pattern.

【0049】[0049]

【発明の効果】表面に凹凸を形成してなる反射電極にあ
って、周辺光を効率よく利用でき、反射光の方向・範囲
を制御する(表示光に異方性を持たせる)ことが可能で
あり、正反射成分がなく(もしくは、殆ど少なく)散乱
反射成分が多い反射光を出射するため、反射型液晶表示
装置に搭載した際に、高画質(高輝度)の表示が実現さ
れる。
According to the present invention, in a reflective electrode having unevenness on its surface, ambient light can be used efficiently, and the direction and range of reflected light can be controlled (display light has anisotropy). In addition, since reflected light having no (or almost no) regular reflection component and a large amount of scattered reflection component is emitted, high-quality (high-brightness) display can be realized when mounted on a reflection-type liquid crystal display device.

【0050】[0050]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】反射面となる凹凸パターンの作製光学系を示す
説明図であり、図1(a)は光学系を上から見た図、図1
(b) は光学系を横から見た図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing an optical system for producing a concave-convex pattern serving as a reflection surface, and FIG.
(b) is a diagram of the optical system viewed from the side.

【図2】反射面の凹凸としてスペックルパターンを形成
した反射板を、液晶表示装置に適用する際の配置を示す
説明図であり、図2(a) は反射の様子を上から見た図、
図2(b) は横から見た図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing an arrangement when a reflector having a speckle pattern formed as unevenness of a reflection surface is applied to a liquid crystal display device, and FIG. ,
FIG. 2B is a view from the side.

【図3】本発明の反射電極の作製方法の一例を、工程順
に示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a method for manufacturing a reflective electrode of the present invention in the order of steps.

【図4】本発明の反射電極の作製方法の他例を、工程順
に示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory view showing another example of a method for manufacturing a reflective electrode of the present invention in the order of steps.

【図5】スペックルパターンの一例を示す説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of a speckle pattern.

【図6】図5のスペックルパターンを表面に持つ反射板
によって生じた散乱反射光の分布を示す説明図。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a distribution of scattered reflected light generated by a reflector having the speckle pattern of FIG. 5 on its surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,41…拡散板 12…有機絶縁層 13…フォトマスク 14…感光材料 15…可干渉性を持つ照明光 16…拡散光 31…液晶反射電極用の各素子が形成された基板 42…遮光板 51…可干渉光 61…反射板 65…照明光 11, 41: Diffusion plate 12: Organic insulating layer 13: Photomask 14: Photosensitive material 15: Coherent illumination light 16: Diffusion light 31: Substrate on which elements for liquid crystal reflective electrode are formed 42: Light shielding plate 51: Coherent light 61: Reflector 65: Illumination light

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶を駆動するための電極を兼ねた反射体
(反射電極)において、 液晶層に面する側の表面に、可干渉性を持つ少なくとも
1本の光からの散乱光による干渉パターンである凹凸パ
ターンが形成されてなることを特徴とする反射電極。
In a reflector (reflection electrode) serving also as an electrode for driving a liquid crystal, an interference pattern due to scattered light from at least one light having coherence is formed on a surface facing a liquid crystal layer. A reflective electrode, characterized in that a concave-convex pattern is formed.
【請求項2】前記凹凸パターンが、スペックルの記録さ
れたパターンであることを特徴とする請求項1記載の反
射電極。
2. The reflective electrode according to claim 1, wherein the concave / convex pattern is a pattern on which speckles are recorded.
【請求項3】スペックルパターンの平均スペックル径
が、反射面上の直交する2方向で異なることを特徴とす
る請求項2記載の反射電極。
3. The reflective electrode according to claim 2, wherein the average speckle diameter of the speckle pattern is different in two orthogonal directions on the reflecting surface.
【請求項4】可干渉光で透過性拡散体を照明することに
より出射される拡散透過光を感光性樹脂に照射すること
により、前記樹脂にスペックルパターンを微細な凹凸の
形態で記録し、次いで、前記樹脂の凹凸表面に反射性金
属層を形成する工程を含むことを特徴とする反射電極の
製造方法。
4. A speckle pattern is recorded on the photosensitive resin in the form of fine irregularities by irradiating the photosensitive resin with diffuse transmitted light emitted by illuminating the transparent diffuser with coherent light; Then, a method of manufacturing a reflective electrode, comprising a step of forming a reflective metal layer on the uneven surface of the resin.
【請求項5】垂直方向と水平方向でのサイズが異なる透
過性拡散体を用いることを特徴とする請求項4記載の反
射電極の製造方法。
5. The method for manufacturing a reflective electrode according to claim 4, wherein a transparent diffuser having different sizes in a vertical direction and a horizontal direction is used.
【請求項6】可干渉光で透過性拡散体を照明することに
より出射される拡散透過光を感光性樹脂に照射すること
により、前記樹脂にスペックルパターンを濃淡の形態で
記録し、次いで、前記スペックルパターンから、フォト
リソ工程によりフォトマスクを作製し、 作製されたフォトマスクを照明することにより出射され
る透過光を感光性樹脂に照射することにより、前記樹脂
にスペックルパターンを微細な凹凸の形態で記録し、次
いで、前記樹脂の凹凸表面に反射性金属層を形成する工
程を含むことを特徴とする反射電極の製造方法。
6. A photosensitive resin is irradiated with diffuse transmitted light emitted by illuminating the transparent diffuser with coherent light, whereby a speckle pattern is recorded on the resin in a shaded form. From the speckle pattern, a photomask is produced by a photolithography process, and the photosensitive resin is irradiated with transmitted light emitted by illuminating the produced photomask, thereby forming a fine speckle pattern on the resin. Recording in the form described above, and then forming a reflective metal layer on the uneven surface of the resin.
【請求項7】ガラス表面に金属層/感光性樹脂を順次形
成し、 前記樹脂に拡散性のある可干渉光を照射することによ
り、前記樹脂にスペックルパターンを記録し、 次いで、フォトリソ工程によって金属層を部分的に除去
することにより、スペックルパターンの記録されたフォ
トマスクを作製する工程を含むことを特徴とする反射電
極の製造方法。
7. A speckle pattern is recorded on the resin by sequentially forming a metal layer / photosensitive resin on a glass surface, and irradiating the resin with diffusible coherent light, and then performing a photolithography process. A method for manufacturing a reflective electrode, comprising a step of manufacturing a photomask on which a speckle pattern is recorded by partially removing a metal layer.
【請求項8】拡散性のある可干渉光によるスペックルパ
ターンを計算し、得られたスペックルパターンを描画し
てフォトマスクを作製し、 前記フォトマスクを照明することにより出射される透過
光を感光性樹脂に照射することにより、前記樹脂にスペ
ックルパターンを微細な凹凸の形態で記録し、次いで、
前記樹脂の凹凸表面に反射性金属層を形成する工程を含
むことを特徴とする反射電極の製造方法。
8. Calculating a speckle pattern by diffusible coherent light, drawing the obtained speckle pattern to produce a photomask, and transmitting transmitted light emitted by illuminating the photomask. By irradiating the photosensitive resin, a speckle pattern is recorded on the resin in the form of fine irregularities,
Forming a reflective metal layer on the concave and convex surface of the resin.
【請求項9】ガラス表面に金属層/感光性樹脂を順次形
成し、 拡散性のある可干渉光によるスペックルパターンを計算
し、得られたスペックルパターンを、EB描画装置また
はレーザー描画装置を用いて、前記樹脂に描画し、 次いで、フォトリソ工程によって金属層を部分的に除去
することにより、スペックルパターンの記録されたフォ
トマスクを作製する工程を含むことを特徴とする反射電
極の製造方法。
9. A metal layer / photosensitive resin is sequentially formed on a glass surface, a speckle pattern due to diffusible coherent light is calculated, and the obtained speckle pattern is used in an EB drawing apparatus or a laser drawing apparatus. Forming a photomask on which a speckle pattern is recorded by drawing on the resin and then partially removing the metal layer by a photolithography process. .
【請求項10】フォトマスクに形成されるスペックルパ
ターンが、面上の直交する2方向で、スペックルの平均
径が異なるフォトマスクを用いることを特徴とする請求
項6〜9の何れかに記載の反射電極の製造方法。
10. The photomask according to claim 6, wherein a speckle pattern formed on the photomask uses a photomask having a different average diameter of speckles in two orthogonal directions on the surface. The method for producing the reflective electrode according to the above.
【請求項11】請求項1〜3の何れかに記載の反射電極
を具備する反射型液晶表示装置。
11. A reflection type liquid crystal display device comprising the reflection electrode according to claim 1.
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