JP2000146804A - 近視野ゾンデと検査対象試料表面の間の距離を決定する方法および近視野顕微鏡 - Google Patents

近視野ゾンデと検査対象試料表面の間の距離を決定する方法および近視野顕微鏡

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スティフター (原語表記)Thomas Stifter トーマス
Marti Otmar
マルティ (原語表記)Otmar Marti オトマー
Brunner Robert
ブルナー (原語表記)Robert Brunner ロベルト
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Carl Zeiss Jena GmbH
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    • Y10S977/862Near-field probe

Abstract

(57)【要約】 【課題】軟らかい試料、特にそれらのトポグラフィーの
検査も可能にし、かつそれに応じたラスター・ゾンデ、
とりわけ光学的近視野顕微鏡を可能にするラスター・ゾ
ンデ顕微鏡のラスター・ゾンデと検査対象試料表面の間
の距離を決定する方法 【解決手段】検査対象試料表面に対して横方向のラスタ
ー・ゾンデの振動に対して、ラスター・ゾンデおよび検
査対象試料表面の垂直振動運動が相対的に相互に重ね合
せられており、振幅信号および/または周波数信号およ
び/または位相信号から、ラスター・ゾンデと試料表面
の間の距離を決定する

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ラスター・ゾンデ
顕微鏡のラスター・ゾンデと検査対象試料表面の間の距
離を決定する方法に関する。該近視野ゾンデは、検査対
象試料に対して横方向に励振され、ラスター・ゾンデの
少なくとも一つの振幅信号および/または周波数信号が
検出される。距離の決定の外に、本発明によって、試料
表面のトポグラフィーを写像するための写像法およびラ
スター・ゾンデ顕微鏡、とりわけ、光学的ラスター・ゾ
ンデ顕微鏡を任意に利用できるようになり、この光学的
ラスター・ゾンデ顕微鏡は、検査対象試料表面用の少な
くとも1個の実装具および検査対象試料表面の光学的平
面上でラスター・ゾンデの振動運動を励起するための少
なくとも1個の装置を有する。
【従来の技術】
【0002】顕微鏡検査法の系統群には、例えば、近視
野顕微鏡検査法(略して、SNOM: Scanning Near-f
ield Optical Microscopy)、ラスター・トンネル顕微
鏡検査法(STM)、および動力顕微鏡検査法(SF
M)、並びに電気化学的ラスター顕微鏡検査法(SEC
M)がある。
【0003】本発明による方法を、近視野顕微鏡検査法
に限定されることなく、もっと詳しく説明する。当業者
にとっては、一般的原理は、簡単にその他の種類のラス
ター・ゾンデ顕微鏡に適用させることができる。光学的
近視野顕微鏡によって、回折により制約される解像限界
を回避することができ、かつ使用される光の半波長より
ずっと小さい組織を検査することができる。
【0004】光学的顕微鏡を作動させるためには、ほん
の数ナノメーターの小開口部を検査対象試料表面まで移
動させなければならない。この開口部に放射される光
は、試料と相互作用し合って、進み、引続いて、適切な
集合光学系および検出器を使用して、利用することがで
きる。光学通路の反転(すなわち、外部照明、ファイバ
ーによる集光)も同様に可能である。ゾンデ(開口部)
が表面上で、点から点、および走査線から走査線に動か
され、これによって得られたデータが電子的に解析さ
れ、合成されて画像になる。
【0005】エッチングおよび/または引抜きによって
製作され、ファイバーの最前部のみが透明であるよう
に、金属で被覆されている薄いガラスファイバー(開口
部)は、近視野光学系において使用される一種のゾンデ
である。これらのゾンデに関して、サイエンス誌199
1年、257:P1468−1470、E.ベーツィッ
ヒ、J.K.トラウトマン、T.D.ハリス、J.S.
ヴァイナー、およびR.L.コーシュタイアックを参照
するものとする。この論文の開示内容は、本出願におい
て全面的に取り上げられている。
【0006】資料表面のトポグラフィーもしくはゾンデ
と表面の間の距離を決定し、測定の際に制御を一定に保
つために、例えば、せん断力検出方式が使用される。こ
れに関して、アプライド・フィジックス誌、書簡、19
92年、60:2484−2486、E.ベーツィッ
ヒ、P.L.フィン、およびJ.S.ヴァイナー、並び
にアプライド・フィジックス誌、書簡、1992年、6
0:P2957−2959、R.トレード・クロウ,
P.C.ヤン、およびY.チェンを参照するものとす
る。我々は、これらの論文の開示内容を本出願において
全面的に取り上げている。
【0007】せん断力検出方式においては、表面に対し
てほとんど垂直に位置するガラスファイバーが機械的共
振を起こすようになっており、そのために、ガラスファ
イバーは、横方向の振動、すなわち表面に平行な振動を
行う。共振周波数範囲は、先端部の幾何学的形状に応じ
て、主として、10KHzと4,000KHzの間にあ
る。ガラスファイバー先端部が表面に接近すると、主と
して30nm未満の数ナノメーターの距離において先端
部と試料の間で作用するせん断力が発生し、このせん断
力は、振動の振幅変化および位相変化を引起こす。振幅
変化および/または周波数変化および/または位相変化
は、ゾンデと表面の間の距離の制御または試料表面のト
ポグラフィーの決定に使用することができる。
【0008】先端部振動の振幅、周波数、または振幅を
測定するために、光学的方法と非光学的方法に類別する
ことのできる種々の検出法が開発された。光学的検出法
に関しては、 ・ アプライド・フィジックス誌、書簡、1992年、
60:P2484−2486、E.ベーツィッヒ、P.
L.フィンおよびJ.S.ヴァイナー ・ アプライド・フィジックス誌、書簡、1992年、
60:P2957−2959、R.トレード・クロウ,
P.C.ヤンおよびY.チェン ・ リヴァイズド・サイエンティフィック・インストル
メンツ誌、1994年、65:P826―631、R.
D.グローバ、T.D.ハリス、J.K.トラウトマン
およびE.ベーツィッヒを参照するものとし、非光学的
検出法に関しては、 ・ リヴァイズド・サイエンティフィック・インストル
メンツ誌、1995年、66:P3177―3181、
J.W.P.シュー、マーク・リーおよびB.S.ディ
ーヴァ ・ アプライド・フィジックス誌、書簡、1995年、
67:1912―1916、K.カライおよびR.D.
グローバ ・ リヴァイズド・サイエンティフィック・インストル
メンツ誌、1995年、67:1912―1916、
J.バレンツ、O.ホルリッヒャおよびO.マルティ ・ リヴァイズド・サイエンティフィック・インスト
ルメンツ誌、1997年、68:1769―1772、
O.ブルナー、A.ビーチュ、O.ホルリッヒャおよび
O.マルティを参照するものとし、この論文の開示内容
は、本出願において全面的に取り上げられている。
【0009】振幅は、最初に、試料からほんの数ナノメ
ーターの距離において減少し、そのために最初にこの領
域においてゾンデと表面の間に可変の相互作用が存在す
ることが判明した。近視野光学的写像のトポグラフィー
を作成するために、これまで常に一定のせん断力に影響
された。すなわち、測定および計測の間中、ゾンデは、
表面に対する相互作用領域に位置した。
【0010】これに対する代案として、試料表面への電
気化学的反応を阻止するために、試料と試料先端部の間
の距離を一定に保つことが推奨される。これに関して
は、 ・ P.I.ジェームズ、L.F.ガルフィアス・メー
シアス、P.I.モワイェ、W.H.スマイア著、「同
時独立トポグラフィーによるスキャニング電気化学的顕
微鏡検査法」、ジャーナル・オヴ・エレクトロケミカル
・ソサイエティ、第145巻、4号、P.L64−L6
6を参照するものとし、その開示内容は、本出願におい
て全面的に取り上げられている。
【0011】測定または写像処理の際に、技術の状態に
応じて、ゾンデが測定の間中、表面に対する相互作用領
域に位置することによって、ゾンデおよび試料には、計
測時間の間中にも、せん断力が掛かる。測定時のこの持
続的負荷のために、試料が軟らかい場合は、試料または
試料表面が変形することがあるし、または完全に破壊す
ることすらある。試料表面の破壊の外に、連続的負荷の
ために、ゾンデが損傷したり、使用不能になることすら
ある。特に、有機試料を検査するの場合は、例えば軟ら
かいポリマーおよび生物学的試料の場合は、これらの問
題が発生する。極端な場合は、前述の問題のために、こ
のように軟らかい試料の表面またはトポグラフィーを写
像することができない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従っ
て、前述の欠点を防止できるような方法および装置を提
示することにあり、とりわけ、軟らかい試料、特にそれ
らのトポグラフィーの検査も可能にし、かつそれに応じ
たラスター・ゾンデ、とりわけ光学的近視野顕微鏡を可
能にすることにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ラスタ
ー・ゾンデの距離を決定する方法において、ラスター・
ゾンデの横方向の振動に対してラスター・ゾンデおよび
検査対象試料の振動運動を相対的に相互に重ね合せるよ
うにした。これによって、ラスター・ゾンデの運動から
得られる振幅信号、および/または周波数信号、および
/または振幅信号からラスター・ゾンデと試料の間の距
離が決定される。
【0014】本発明の第1の実施形態においては、試料
表面が固定的に形成されており、ラスター・ゾンデが垂
直方向にも横方向にも振動する。これに対する代案とし
て、ラスター・ゾンデを垂直方向に固定することができ
るが、試料表面が垂直方向に振動し、例えば、試料が配
置されている実装具が振動する。有利な実施形態におい
ては、垂直方向の振動運動は、正弦曲線を呈示する。
【0015】垂直振動運動の振幅は、主として、10n
mから1μmまでの範囲であり、周波数は、10Hzか
ら1kHzまでの範囲である。特に優先的に、本発明
は、これに関して制約されることなく、光学的近視野顕
微鏡に適用される。光学的近視野顕微鏡の近視野先端部
に関して、サイエンティフィック・インストルメンツ
誌、1996年5月、67(5)、P1912〜191
6、J.バレンツ、O.ホルリッヒャ、O.マルティ、
「光学的近視野顕微鏡用の使いやすい非光学的せん断力
距離制御」を参照する。
【0016】距離の決定の外に、本発明によって、ラス
ター・ゾンデ顕微鏡の距離制御法が任意に利用でき、こ
の方法によって、前述のように、ゾンデと試料表面の間
の距離を1つの方式に従って決定することができ、所定
の減衰値および/または周波数値に到達するように、ラ
スター・ゾンデを試料に近づけることができ、さらに該
試料から遠ざけることができる。
【0017】前述の方法は、さらに、適切な解析電子機
器と共に表面トポグラフィーの写像に利用することがで
きる。このような方法は、典型的に、次の処置を含むこ
とができる。 ・ まず第一に、試料ゾンデの距離D(0,0)およ
び試料の垂直振動運動がない試料表面に対する試料の出
発点(0.0)において、横方向に励起された運動の減
衰値Sを決定することができる。 ・ 試料ゾンデに垂直振動運動を発生させ、試料表面を
点から点(x,y)へ徹底的に走査する。 ・ 各試料点(x,y)に対して、試料ゾンデの減衰S
は、垂直振動運動の行程において、所定の試料距離d
によって決定される。 ・ S>Sの場合は、試料ゾンデと試料表面の間の
距離d(x,y)は、増大する。 ・ S=Sの場合は、距離d(x,y)は、一定
に保たれる。 従って、このように決定された距離d(x,y)は、
試料の表面トポグラフィーを再現する。
【0018】本発明によって、また、ラスター・ゾン
デ、少なくとも検査対象試料表面の実装具、ならびに少
なくとも対象試料表面の平面上のラスター・ゾンデの振
動運動(横振動)およびこれに垂直な振動運動(垂直振
動)を励起する装置を有するラスター・ゾンデ顕微鏡を
任意に利用することもできる。
【0019】特に優先的に、ラスター・ゾンデは、垂直
振動運動を励起するために、少なくとも1個の圧電素子
を有している。すでに、1個の圧電素子によって、トポ
グラフィー調整および振動を検査対象試料表面に垂直に
励起することが可能である。改善された高度な実施形態
においては、2個の別個の圧電システムによって定期的
レベル変調およびトポグラフィー調整を行うように仕組
むことができる。
【0020】試料ゾンデと試料表面の間の距離を調整ま
たは制御することができるようにするために、本発明の
高度の形態においては、例えば、ゾンデと表面の間の距
離の定期的変動によって超過してはならない横振動の振
幅減衰を電子回路によってプリセットするように仕組ん
である。すると、横方向に振動するゾンデおよび試料
は、プリセットされた振幅減衰が達成される程度に、定
期的に接近する。これに引続いて、両者は、互いに遠ざ
かる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下において、図面に示す実施例
に基づいて、本発明を説明する。ラスター・ゾンデ顕微
鏡について光学的近視野顕微鏡の原理的構成を図1の実
施例に示す。本発明はこれに制約されるものではない。
本発明は、ラスター・ゾンデの垂直処理を可能にする各
種のラスター・ゾンデ顕微鏡、例えば、前掲書,P.
I.ジェームズ、L.F.ガルフィアス・メーシアス、
P.I.モワイェ、W.H.スマイア著「同時独立トポ
グラフィーによるスキャニング電気化学的顕微鏡検査
法」に記載の毛細管を有する電気化学的ラスター・ゾン
デ顕微鏡に適用することができる。
【0022】図1に示す光学的近視野顕微鏡は、図で
は、細いガラスファイバー先端部として形成されアーム
3によって保持されている近視野ゾンデ1を有してい
る。試料5は、近視野光学的ゾンデ1によって、図示の
観察位置において検査される。近視野光学的検査用の光
源は、例えば、波長633nmのHe-Neレーザー赤
色光の場合のように、一定の波長の単色光が放射するレ
ーザー9である。この光は、光導波管1およびファイバ
ーカプラー13を通ってゾンデ先端部15まで導かれこ
こで放射される。
【0023】試料5を透過する光は、対物レンズ17に
よって集められ、フィルタ19および鏡21を通って図
示の破線の位置まで導かれる。折畳み式鏡を折畳むこと
によって、代わりに、光の通路を検出ダイオード25の
方へ、且つCCDカメラ27の方へ向けることができ
る。CCDカメラ27は、光学系を調整するために、且
つ先端部を特徴づけるために、かつ適切な試料切片を選
択するために、使用することができる。
【0024】ここで述べるように、試料をX方向および
Y方向に移動させるために圧電素子29を有する圧電系
を使用することによって、試料をX-Y方向、すなわち
横方向に徹底的に走査またはスキャンすることができ
る。圧電系のX-Y平面上のラスター範囲は、現状の実
施形態においては、例えば、100×100μmであ
る。圧電ヒステリシス効果を補正するために、テーブル
を容量的に調整する。横方向分解能は、例えば、0.5
ナノメーターである。
【0025】近視野先端部のせん断力検出信号は導線3
1を通って、X-Y方向の移動のための信号は導線33
を通って、検出ダイオード23によって検出される光信
号は導線35を通って、計測装置37に伝達され、該計
測装置は、関数発生器、ロック・イン増幅器、せん断力
調整器、圧電制御装置、およびAD/DAカードを有す
ることができる。
【0026】個々の計測装置の制御は、マイクロコンピ
ュータ39を使用して行い、該マイクロコンピュータに
おいては、全面スキャンしたデータを合成して1つの画
像にする。該画像は、光学的近視野顕微鏡を使用するこ
とによって、前述のように、CCDカメラによって検出
される光学的信号、および後段で詳述する本発明に基づ
く方法によって求められるトポグラフィー情報を有す
る。画像を形成するためのスキャン速度は、少なくと
も、0.1走査線/秒である。10走査線/秒の速度を
達成し得ることが望ましい。
【0027】試料を貫通し、従って透過した光が光学的
信号として検出される、本発明の前述の実施形態の外
に、反射された光を試料の光学的信号として検出するこ
と、または本発明の着想を放棄することなく、例えば電
気化学的信号若しくは電力信号を検出するための別種類
のラスター・ゾンデを使用することも可能である。近視
野光学的顕微鏡の既述の実施形態は、例示にすぎず、決
して確定的であるというように理解しないものとする。
【0028】特に、後段で図1から図3に図示した先端
部のZ方向の変調に関して、各ラスター・ゾンデが問題
になる。試料表面のトポグラフィーを確定する元となる
近視野ゾンデのZ方向の変調、すなわち垂直運動が導線
41を通って計測装置37まで伝達される。
【0029】図2においては、例えば先端部15のラス
ター・ゾンデ用に使用される近視野先端部15とラスタ
ー・ゾンデ5の間のZ方向の距離dに依存するX-Y平
面上の横方向励起振動の振幅が図示してある。X-Y平
面上の横方向励起振動の周波数および位相の曲線に対し
ても類似の依存関係が生じる。これらの依存関係は、本
発明による表面トポグラフィーの距離特性または写像に
も同様に利用することができる。
【0030】図2から分かるように、例えば、図2に図
示されている距離dの場合のように、先端部と試料5
の試料表面の間の距離が微小である場合は、振動振幅
は、大いに減衰し、減衰のために、先端部が無限に離れ
ている場合の振幅の値の60%にしかならない。
【0031】図2の右の図に示されているように先端部
が試料から非常に遠く離れている場合は、横方向の振動
の減衰は発生しない。振幅信号は、先端部が無限に離れ
ている場合の値の約100%のところにある。本発明に
よる方法においては、試料は、今は、図2に図示される
両方の位置の間、すなわち、試料表面からの距離がd
の位置と試料表面からの距離がdの第2の位置の間を
行ったり来たりする。特に、このために、正弦垂直振動
が適している。これによって、測定操作の際のゾンデと
試料の間の実際の相互作用時間が非常に短縮され、従っ
て、これまでに使用された方法と比べると、写像処理に
よって、試料表面の負荷が非常にに小さくなる。
【0032】実際の相互作用時間において、ゾンデ(こ
こでは、光学的近視野先端部)が試料からある距離に位
置し横振動振幅が減少する時間が理解される。試料表面
に垂直な振動運動、すなわち図示の実施例においてはZ
方向の振動運動は、純正弦振動に限定されなくて、むし
ろ、先端部の試料表面に対する各種の定期的接近および
離隔が本発明に含まれる。主として、約10Hzから1
0KHzの周波数範囲で且つ10nmから1μmの振幅
で、図2に図示される領域がカバーされる。
【0033】ゾンデと試料の間の定期的距離変動は、ラ
スター・ゾンデ顕微鏡の実施形態を使用して、実現する
ことができる。4つのこのような実施例が図3Aから図
3Dに図示されている。試料のZ方向の移動がトポグラ
フィーの調整に用いられ、第2のシステムが垂直振動を
行う本発明の実施形態が図3Aに図示されている。
【0034】試料表面は、光学的近視野顕微鏡によって
写像されるべき一定の高さプロファイルおよび一定のト
ポグラフィーを呈示する。これに対して、試料先端部が
励振されて、X-Y平面上で横振動を行う。試料先端部
と試料の間の距離は、せん断力検出装置100によって
求められる。試料テーブルにそれ自体で配置することが
できるX-Yスキャナを使用して、試料のX-Y方向の徹
底的走査が実施される。
【0035】試料表面を写像するために必要なトポグラ
フィー調整は、同様に試料テーブルに配置されている圧
電システム104を使用して、実施される。圧電システ
ム108は、これとは別個であり、この圧電システムに
よって、本発明による近視野先端部は、図2に詳細に図
示されているように、定期的に試料表面に対して接近し
たり離隔したりする。
【0036】図3Bには、本発明の代替の実施形態が図
示されている。トポグラフィー調整用の圧電システム
は、ここでは、直接、先端部に配置されていて、一方、
高さ変調用の圧電システムは、試料テーブルの上に配置
されている。すなわち、図3Aとは逆に、ここでは、先
端部の代わりにテーブルが先端部に対して相対的に動か
されることによって、定期的運動が行われる。図3Aの
場合と同様の部品には、図3Bにおいても同一の参照番
号を付与されている。
【0037】図3Cおよび図3Dにおいては、定期的高
さ変調およびトポグラフィー調整が同一の圧電システム
によって実施される。図3Aおよび3Bと同一の部品に
は、図3Cおよび図4Cにおいても、同一の参照番号が
付与されている。図3Cにおいては、高さ変調用および
トポグラフィー調整用にも共通の圧電システムが試料テ
ーブルの中で統合され、参照番号200を付与されてい
る。現状では、近視野先端部であるラスター・ゾンデ
は、固定アーム202に固定されている。テーブルを使
用するだけで、先端部に対して接近し離隔する方向の運
動が行われる。
【0038】ただ1個の圧電システムしか使用しない、
本発明の別の実施例を図3Dに示す。この場合は、高さ
変調用およびトポグラフィー調整200用の圧電システ
ムが、現状では近視野先端部であるラスター・ゾンデの
アームに取付けられており、試料テーブルは、Z方向に
固定されている。この場合は、該先端部のみが試料に対
して相対的にZ方向に動かされる。
【0039】そうすると、図3Aから図3Bに図示され
るように、距離調整、および本発明によるそれに伴うラ
スター・ゾンデ顕微鏡の試料表面のトポグラフィー写像
に関して、ゾンデと表面の間の距離の定期的変動によっ
て超えてはならない横振動の振幅減衰を電子回路の使用
によってプリセットする可能性が在する。そうすると、
所定の振幅減衰に到達するまで、横振動を行うゾンデお
よび試料がそこまで接近する。これに対する代替法を図
4および図5に基づいて図示するものとする。
【0040】図4においては、2つの異なる試料位置に
対して、X-Y方向で横方向に励起される振動の試料距
離への依存関係が記載されている。曲線400は出発点
(0,0)における依存関係を示し、曲線402は任意
の別個の位置(X,Y)における依存関係を示す。位置
(0,0)においては、試料表面とラスター・ゾンデの
間の距離d(0,0)を出発点として、主として振動
404が励起される。
【0041】現状の距離dにおいて、振動のゼロ交叉
の時点Tに対応して、それに伴い距離d(0,0)に
対応して、振動振幅S(0,0)が決定される。これ
らがプリセットされた値Sに一致すると、先端部は、
距離dにとどまる。そこで、先端部は、位置x,yに
おいて試料をくまなく走査するように挙動する。試料の
別個の高さに基づいて、振動振幅の過程の曲線402が
発生する。位置(0,0)における場合のように、主と
して振動404が励起されると、距離dにおいて、今
度は、振動振幅S(x,y)が発生する。
【0042】現状の実施形態における場合のように、S
(x,y)<S(0,0)である場合は、先端部は、
持上げられる。すなわち、先端部は、試料から遠ざか
る。位置x,yにおいて、現状では近視野先端部である
ラスター・ゾンデが、距離d(x,y)に位置する。
そうすると、主として振動406が再度励起される。ゼ
ロ交叉の時点Tにおいて、今度は、振動振幅はプリセッ
ト値Sに相当する。
【0043】引続いて、ラスター・ゾンデを使用して、
もっと広範囲の試料位置をくまなく走査し、前述の制御
処理が繰返される。この方法によって、試料表面のすべ
てのxおよびyに対するd(x,y)の確定に関し
て、該試料のトポグラフィーが求められる。ラスター・
ゾンデの垂直励起振動および横振動の振幅信号の検出に
よって表面のトポグラフィーを求めるための本発明に記
載の方法の前述の実施形態は、図5の機能ダイヤグラム
に図示されている。
【0044】次に、垂直励振がない場合のラスター・ゾ
ンデの距離dが調整される。次に、試料の徹底的走査
が行われる。その際に、ラスター・ゾンデは、励振され
て所定の振幅および周波数を有する垂直振動を行う。減
衰は、例えば、垂直振動の振幅信号または周波数信号ま
たは位相信号からトリガー信号をロック・イン増幅器の
中に入れることによって、求められる。次に、横振動の
減衰のプリセットされた設定値Sとの比較が行われ
る。この設定値は、またもや、振幅値、周波数値、また
は位相値であってよい。S<Sである場合は、ゾン
デと試料表面の間の距離は減少する。S>Sである
場合は、該ゾンデと試料表面の間の距離は増大する。S
=Sである場合は、該距離は不変のままである。
【0045】このようにして求められたd(x,y)
から次に試料表面のトポグラフィーが発生する。ラスタ
ー・ゾンデ顕微鏡に対する新式の装置および新式の方法
が図6に図示されている。「R.ブルナー著、1998
年、ウルム大学、自然科学博士学取得位論文、生物学的
試料の検査用の光学的近視野顕微鏡の開発」に記載され
ている顕微鏡を、図6に基づく写像を検出するための近
視野顕微鏡として使用することができる。なお、この論
文の開示内容は、現行の出願の開示内容において全面的
に取入れられている。この顕微鏡においては、圧電電気
式システムがせん断力測定に使用される。図6に図示さ
れている試料は、スチロール・ブタジエン・スチロール
・ポリマーである。これらのポリマーのトポグラフィー
は、従来のせん断力調整の方法を使用して、写像するこ
とができなかった。なぜならば、ゾンデとの継続的な相
互作用によって表面が汚れたからである。新式の写像法
を使用することによって、今や、光学的試料と並んで、
この試料のトポグラフィー組織を解像することができ
る。
【0046】ゾンデと表面の間の距離の定期的変動は、
前段で詳述したように、例えば動力および/または電気
化学的顕微鏡の場合のように、近視野光学系以外のラス
ター・ゾンデ顕微鏡法においても利用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】光学的近視野顕微鏡の原理的構成
【図2】ラスター・ゾンデ顕微鏡の実例としてラスター
・ゾンデと試料表面の間の距離に依存するラスター・
ゾンデの横振動の振幅減衰
【図3】(3A)2個の圧電システムを有する本発明の
変換の第1の実施形態、(3B)第2の実施形態、(3
C)第3の実施形態、(3D)第4の実施形態
【図4】試料の位置に依存する試料先端部の横振動の振
幅減衰
【図5】本発明に従って表面トポグラフィーを決定する
ための規則的方法のフローチャート
【図6】本発明による写像法によるスチロール・ブタジ
エン・スチロール表面の写像
【符号の説明】
1 近視野ゾンデ 3 アーム 5 試料 9 レーザー 10,11 13 ファイバーカプラ‐ 15 ゾンデ先端部 17 対物レンズ 19 フィルター 21 鏡 23 検出ダイオード 25 ダイオード 27 CCDカメラ 29 圧電素子 31,35 導線 37 計測装置 39 マイクロコンピュータ 100 せん断力検出装置 104,108 圧電システム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス スティフター (原語表記)T homas Stifter ドイツ国 D−89281 アイルレライヒエ ン レッヒベルグストラッセ 7 (原語 表記)Rechbergstr.7,D− 89281 Illereichen,Ger many (72)発明者 オトマー マルティ (原語表記)Otm ar Marti ドイツ国 D−89075 ウルム ケルテン ヴェーグ 123 (原語表記)Kelte nweg 123,D−89075 Ulm,Ge rmany (72)発明者 ロベルト ブルナー (原語表記)Rob ert Brunner ドイツ国 D−07743 イエナ ヤコブ・ ストラッセ 33 (原語表記)St.Ja kob−Str. 33,D−07743 Je na,Germany

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ラスター・ゾンデ顕微鏡のラスター・ゾン
    デ(1)と検査対象試料表面(5)の間の距離を決定す
    る方法であって、 ・ ラスター・ゾンデ(1)が検査対象表面(5)に対
    して横方向に励振されて、振動するステップと、 ・ 振動するラスター・ゾンデ(1)の少なくとも1つ
    の振幅信号および/または周波数信号および/または位
    相振動が検出されるステップと、を含み、 ・ 検査対象表面(5)に対して横方向のラスター・ゾ
    ンデ(1)の振動に対して、ラスター・ゾンデおよび検
    査対象試料表面の垂直振動運動が相対的に相互に重ね合
    せられ、 ・ 振幅信号および/または周波数信号および/または
    位相振動から、ラスター・ゾンデと検査対象試料表面の
    間の距離が決定される、 ことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 試料表面が固定されており、ラスター・
    ゾンデがこれに対して垂直に振動することを特徴とする
    請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 ラスター・ゾンデが垂直に固定されてお
    り、試料が垂直に振動することを特徴とする請求項1に
    記載の方法。
  4. 【請求項4】 垂直振動が正弦波形を有することを特徴
    とする請求項1から3のうちの1つによる方法。
  5. 【請求項5】 垂直振動運動の振幅が10nmから1μ
    mの範囲内にあることを特徴とする請求項1から4のう
    ちの1つに記載の方法。
  6. 【請求項6】 垂直振動運動の周波数が10Hzから1
    0KHzの範囲内にあることを特徴とする請求項1から
    5のうちの1つに記載の方法。
  7. 【請求項7】 ラスター・ゾンデが光学的近視野先端部
    であることを特徴とする請求項1から6のうちの1つに
    記載の方法。
  8. 【請求項8】 ゾンデと試料表面の間の距離が請求項1
    から7の1つの方法によって決定され、ラスター・ゾン
    デ(1)が、所定の振幅値、および/または周波数値、
    および/または位相値に到達するまで、試料(5)に接
    近し、次いで該試料から離隔することを特徴とする光学
    的ラスター・ゾンデ顕微鏡用の距離調整法。
  9. 【請求項9】 ラスター・ゾンデ(1)が励振されて、
    表面に対して横方向の振動を行い、該ラスター・ゾンデ
    の横運動に対して、検査対象試料表面に直角な、つまり
    垂直方向の、該ラスター・ゾンデの運動が相対的に相互
    に重ね合せられていることを特徴とするラスター・ゾン
    デ顕微鏡による試料表面および/または試料トポグラフ
    ィーの写像法。
  10. 【請求項10】 検査対象試料表面が固定されていて、
    ラスター・ゾンデが垂直に振動することを特徴とする請
    求項9による写像法。
  11. 【請求項11】 ラスター・ゾンデが垂直に固定されて
    いて、試料表面垂直に振動することを特徴とする請求項
    9による写像法。
  12. 【請求項12】 垂直振動運動が正弦波形を有すること
    を特徴とするる請求項9から11のうちの1つによる写
    像法。
  13. 【請求項13】 垂直振動運動の振幅が10nmから1
    μmの範囲内にあることを特徴とする請求項9から12
    のうちの1つによる写像法。
  14. 【請求項14】 垂直振動運動の周波数が10Hzから
    10KHzの範囲内にあることを特徴とする請求項9か
    ら13のうちの1つによる写像法。
  15. 【請求項15】 写像法において請求項8による距離調
    整法が使用されることを特徴とする請求項9から14の
    うちの1つによる写像法。
  16. 【請求項16】 写像法においてラスター・ゾンデが光
    学的近視野顕微鏡の光学的近視野ゾンデであることを特
    徴とする請求項9から15のうちの1つによる写像法。
  17. 【請求項17】・ 少なくとも1個のラスター・ゾンデ
    (1)と、 ・ 1個の検査対象試料表面(5)用の少なくとも1個
    の実装具と、 ・ 少なくとも検査対象試料表面の平面上でラスター・
    ゾンデの振動運動を励起するための少なくとも1つの装
    置と、を有し、 ・ 検査対象試料表面に垂直な振動運動を励起するため
    の装置を有するラスター・ゾンデ顕微鏡、特に近視野顕
    微鏡。
  18. 【請求項18】 振動運動を励起する装置が少なくとも
    1つの圧電素子を有することを特徴とする請求項17に
    よる顕微鏡。
  19. 【請求項19】 検査対象試料表面に垂直な振動運動を
    励起する装置が1つの圧電素子を有することを特徴とす
    る請求項18による顕微鏡。
  20. 【請求項20】 強制振動運動の振幅信号および/また
    は周波数信号をラスター・ゾンデと試料表面の間と距離
    との依存関係において検出する装置が設けられているこ
    とを特徴とする請求項17から19のうちの1つによる
    顕微鏡。
  21. 【請求項21】 検査対象試料表面野距離を制御/調整
    するための制御装置/調整装置を近視野顕微鏡が有する
    ことを特徴とする請求項17から20のうちの1つによ
    る顕微鏡。
  22. 【請求項22】 ラスター・ゾンデが光学的近視野顕微
    鏡用の近視野先端部を有することを特徴とする請求項1
    7から21のうちの1つによる顕微鏡。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100476318B1 (ko) * 2002-02-22 2005-03-10 학교법인연세대학교 광학식 미세 간격 측정장치 및 이를 이용한 광픽업 장치

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT410032B (de) * 2000-06-09 2003-01-27 Lugstein Alois Dr Verfahren zur herstellung einer vorrichtung für die gleichzeitige durchführung einer elektrochemischen und einer topographischen nahfeldmikroskopie
AT410845B (de) * 2000-06-09 2003-08-25 Kranz Christine Dr Vorrichtung für die gleichzeitige durchführung einer elektrochemischen und einer topographischen nahfeld-mikroskopie
WO2002063368A1 (en) * 2001-02-06 2002-08-15 University Of Bristol Scanning near-field optical microscope
US7498564B2 (en) 2001-02-06 2009-03-03 University Of Bristol Of Senate House Resonant scanning near-field optical microscope
US7473887B2 (en) 2002-07-04 2009-01-06 University Of Bristol Of Senate House Resonant scanning probe microscope
US7151244B2 (en) * 2004-09-02 2006-12-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Method and apparatus for calibration of near-field scanning optical microscope tips for laser machining
JP2007017388A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Jeol Ltd 走査形プローブ顕微鏡
US9293298B2 (en) * 2013-12-23 2016-03-22 Kla-Tencor Corp. Defect discovery and inspection sensitivity optimization using automated classification of corresponding electron beam images
CN104897268B (zh) * 2015-06-08 2017-12-29 东北大学 基于激光扫描的高档数控机床模态振型测试装置及方法
JP6812149B2 (ja) * 2016-06-30 2021-01-13 オリンパス株式会社 走査型顕微鏡、及び、走査型顕微鏡の制御方法
CN110736715B (zh) * 2019-10-25 2022-05-24 深圳市太赫兹科技创新研究院有限公司 探针防误触方法、装置及系统

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4947034A (en) * 1989-04-28 1990-08-07 International Business Machines Corporation Apertureless near field optical microscope
US5103094A (en) * 1991-05-02 1992-04-07 Wyko Corporation Compact temperature-compensated tube-type scanning probe with large scan range
JP2501282B2 (ja) * 1992-02-04 1996-05-29 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 原子間力走査顕微鏡を使用した表面プロフィル検査方法及びその装置
US5308974B1 (en) * 1992-11-30 1998-01-06 Digital Instr Inc Scanning probe microscope using stored data for vertical probe positioning
JP2500373B2 (ja) * 1993-11-09 1996-05-29 工業技術院長 原子間力顕微鏡及び原子間力顕微鏡における試料観察方法
GB2289759B (en) * 1994-05-11 1996-05-22 Khaled Karrau Coupled oscillator scanning imager
US5509300A (en) * 1994-05-12 1996-04-23 Arizona Board Of Regents Acting For Arizona State University Non-contact force microscope having a coaxial cantilever-tip configuration
US5489774A (en) * 1994-09-20 1996-02-06 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford University Combined atomic force and near field scanning optical microscope with photosensitive cantilever
US5918274A (en) * 1997-06-02 1999-06-29 International Business Machines Corporation Detecting fields with a single-pass, dual-amplitude-mode scanning force microscope
US5902928A (en) * 1997-06-02 1999-05-11 International Business Machines Corporation Controlling engagement of a scanning microscope probe with a segmented piezoelectric actuator

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100476318B1 (ko) * 2002-02-22 2005-03-10 학교법인연세대학교 광학식 미세 간격 측정장치 및 이를 이용한 광픽업 장치

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Publication number Publication date
DE19852833A1 (de) 2000-05-18
US6703614B1 (en) 2004-03-09

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