JP2000143802A - Polyamide-imide resin and optical element made therefrom - Google Patents

Polyamide-imide resin and optical element made therefrom

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JP2000143802A
JP2000143802A JP10325782A JP32578298A JP2000143802A JP 2000143802 A JP2000143802 A JP 2000143802A JP 10325782 A JP10325782 A JP 10325782A JP 32578298 A JP32578298 A JP 32578298A JP 2000143802 A JP2000143802 A JP 2000143802A
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birefringence
film
acid
polyamide
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Japanese (ja)
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Akihiro Yoshida
明弘 吉田
Hiromasa Kawai
宏政 河合
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Hitachi Chemical Co Ltd
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyamide-imide resin which can give an optical element having a low birefringence and a high light transmittance by selecting a resin comprising two types of repeating units in a specified ratio. SOLUTION: This resin ocmprises repeating units of formula I and repeating units of formula II in a I/II molar ratio in the range of 5:95 to 95:5. In formulae I and II, R1 is a 3-10C alkylene or cyclohexylene; R2 is null, CH2, CH2CH2, or C(CH3)2; and R3 is SO2, SO, S, CO, O, C6H4, a 0-12C alkylene, SO2-(CH2)t-SO2, SO-(CH2)t-SO, S-(CH2)t-S, COO-(CH2)t-COO, or CO-(CH2)t-CO; wherein t is an integer of 1-10. It is desirable that a film of this resin has a birefringence of 10 nm or below and a light transmittance (at 500 nm) of 70% or above. The polyamic acid being a precursor of the resin can be produced by a usual synthetic method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複屈折が非常に小
さく、光透過性の高いポリアミドイミド系樹脂に関する
ものであり、具体的には、精密光部品、レンズ、液晶デ
ィスプレー用部品、光ファイバー、光導波路、光半導体
などの光学用素子に用いる基材、フィルム材、封子材、
被覆材、接着剤等に好適なポリアミドイミド系樹脂に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyamide-imide resin having a very small birefringence and a high light transmittance, and specifically relates to a precision optical component, a lens, a component for a liquid crystal display, an optical fiber, Optical waveguides, base materials, film materials, sealing materials used for optical devices such as optical semiconductors,
The present invention relates to a polyamideimide resin suitable for a coating material, an adhesive, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、レンズ、プリズム、光ディスク、
光ファイバー、LCD用基板などの光学用素子にはガラ
スが使用されていた。しかし、近年、軽量、小型化の需
要から無色透明プラスチックが使用されるようになって
きている。これらの光学用素子には、光学用プラスチッ
クとしてポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メチル、スチレン・メタクリル酸メチル共重合体
などが使用されている。しかし、最近、光学用素子にお
いては、わずかな複屈折による偏光特性の変化や外部環
境の変化に敏感に影響を受けるために、非常に高い精度
が要求されるようになった。
2. Description of the Related Art Conventionally, lenses, prisms, optical disks,
Glass has been used for optical elements such as optical fibers and LCD substrates. However, in recent years, colorless and transparent plastics have come to be used due to demand for light weight and miniaturization. In these optical elements, polystyrene, polycarbonate, polymethyl methacrylate, styrene / methyl methacrylate copolymer, and the like are used as optical plastics. However, recently, an optical element is required to have extremely high precision because it is sensitive to a change in polarization characteristics due to a slight birefringence or a change in an external environment.

【0003】そこで、近年、いくつかの樹脂に関して低
複屈折化の研究が行われている。例えば、アクリル樹脂
の場合には、光弾性係数が正の樹脂が得られる単量体
と、光弾性係数が負の樹脂が得られる単量体とを必須原
材料として、光弾性係数が−1×10-13cm /dyne以
上、+1×10-13cm /dyne以下となるように共重合さ
せる方法(特開昭60−185236号公報)、メタ
クリル酸メチル、炭素原子数3〜8のアルキル基を有す
るメタクリル酸アルキル及びスチレンを共重合する方法
(特開昭60−250010号公報及び特開昭61−7
6509号公報)、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−イル及
びスチレンを共重合する方法(特開昭62−24691
4号公報)、 ホモポリマーとしたときの光弾性係数
の符号がポリメタクリル酸メチルと反対となる不飽和二
重結合を有する化合物と、メタクリル酸メチルを共重合
する方法(特開平4−76013号公報)、正の複屈
折を有するホモポリマを形成し得るモノマー(トリフル
オロエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレートな
ど)と、負の複屈折を有するホモポリマーを形成し得る
モノマー(メタクリル酸メチル等)を共重合させる方法
(特開平2−129211号公報)などが提案されてい
る。
[0003] In recent years, studies have been made on lowering the birefringence of some resins. For example, in the case of an acrylic resin, a photoelastic coefficient of -1 × is used as the essential raw materials of a monomer from which a resin having a positive photoelastic coefficient is obtained and a monomer from which a resin having a negative photoelastic coefficient is obtained. A method of copolymerizing so as to be 10 -13 cm / dyne or more and + 1 × 10 -13 cm / dyne or less (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-185236), methyl methacrylate, an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. (JP-A-60-25010 and JP-A-61-7)
No. 6509), a method of copolymerizing methyl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] dec-8-yl methacrylate and styrene (JP-A-62-24691).
No. 4, JP-A-4-76013), a method of copolymerizing a compound having an unsaturated double bond having a photoelastic coefficient opposite to that of polymethyl methacrylate when formed into a homopolymer and methyl methacrylate (JP-A-4-76013) Publication), a monomer capable of forming a homopolymer having a positive birefringence (such as trifluoroethyl methacrylate and benzyl methacrylate) and a monomer capable of forming a homopolymer having a negative birefringence (such as methyl methacrylate) are copolymerized. A method (Japanese Patent Laid-Open No. 2-129211) and the like have been proposed.

【0004】また、ポリイミド樹脂の場合には、ジア
ミンのベンゼン環上のオルト位の双方に置換基を導入す
る方法(特開平4−288331号公報)、メタ位に
アミノ基をもつジアミンを導入する方法(特開平8−1
34211号公報)、ポリイミドフィルムを製造する
時に使用する基板をポリイミドフィルムにする方法(特
開平9−15608号公報)がある。ポリカーボネート
の場合には、スチレンとのグラフト重合(工業材料
Vol. 44 No.4 p.35, 1996)、(10)キャスト法よりフィ
ルム成形をする方法がある。また、ポリアリレートやポ
リエーテルスルフォンに関しても、(10)と同様な方法に
より低複屈折なフィルムが成形されている。
In the case of a polyimide resin, a method of introducing substituents into both ortho positions on the benzene ring of the diamine (Japanese Patent Laid-Open No. 4-288331) is to introduce a diamine having an amino group at the meta position. Method (Japanese Unexamined Patent Publication No.
34211) and a method of using a polyimide film as a substrate for producing a polyimide film (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-15608). In the case of polycarbonate, graft polymerization with styrene (industrial materials
Vol. 44 No. 4 p. 35, 1996), (10) There is a method of forming a film by a casting method. Further, with respect to polyarylate and polyether sulfone, a low birefringence film is formed by the same method as in (10).

【0005】これら従来の方法は、光学用素子にポリマ
を使用する際に問題とされた複屈折の問題を緩和すると
いう点において成果を上げているものの、未だ充分な性
能を有しているとは言い難い。
Although these conventional methods have been successful in alleviating the problem of birefringence, which has been a problem when using polymers for optical elements, they still have sufficient performance. Is hard to say.

【0006】〜の方法は、もともと小さいアクリル
樹脂の複屈折をより小さくするという点において一定の
効果を上げているが、アクリル樹脂は耐熱性(ガラス転
移温度)が低いため、高耐熱性が必要とされる光学用素
子には適用できない問題点があった。
The methods (1) to (4) originally have a certain effect in that the birefringence of a small acrylic resin is made smaller. However, since the acrylic resin has low heat resistance (glass transition temperature), high heat resistance is required. Cannot be applied to the optical element described above.

【0007】また、〜の方法は、非常に大きいポリ
イミド樹脂の複屈折を小さくするという点においてある
程度の効果をあげているが、複屈折に関しては直接応力
複屈折を低減化したものではなく、また配向複屈折と応
力複屈折を同時に低減化したものでもない。そのため、
実際フィルムを成形した場合には、大きな複屈折が発生
してしまう問題点があった。
The methods (1) to (4) have a certain effect in that the birefringence of a very large polyimide resin is reduced, but the birefringence does not directly reduce the stress birefringence. Neither the orientation birefringence nor the stress birefringence are reduced at the same time. for that reason,
Actually, when a film is formed, there is a problem that large birefringence occurs.

【0008】また、の方法は、ポリカーボネート樹脂
の複屈折を小さくするという点において一定の成果を上
げているが、その構造的な特徴から、マイクロドメイン
が生じてしまい、光散乱の原因となる。また、ポリカー
ボネートの特徴である耐熱性が著しく下がってしまう問
題点があった。
[0008] The above method has achieved a certain effect in that the birefringence of the polycarbonate resin is reduced. However, due to its structural characteristics, microdomains are generated, which causes light scattering. Further, there is a problem that heat resistance, which is a characteristic of polycarbonate, is significantly reduced.

【0009】また、(10)の方法は、成形方法をコントロ
ールして、フィルム等に複屈折が発生しないようにする
方法であるが、通常の方法と比較して生産性が悪く、ま
た本質的に樹脂の複屈折を低減化しているわけではない
ので、応力等がかかった時に成形体に複屈折が発生して
しまう。また、ポリアリレートやポリエーテルスルフォ
ンに関しては、耐熱性(ガラス転移温度)が他の樹脂と
比較して高いが、精密な光学用素子を成形する上では、
まだ十分の耐熱性(ガラス転移温度)があるとは言い難
い。
The method (10) is a method of controlling the molding method so that birefringence does not occur in a film or the like. However, the productivity is lower than that of a normal method, and the method is essentially essential. However, since the birefringence of the resin is not necessarily reduced, birefringence occurs in the molded article when a stress or the like is applied. In addition, polyarylate and polyether sulfone have higher heat resistance (glass transition temperature) than other resins, but when molding precise optical elements,
It is hard to say that it still has sufficient heat resistance (glass transition temperature).

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】このように、上記に挙
げたそれぞれの樹脂は、実際にフィルム等の光学素子を
作製した場合に複屈折が発生してしまう。また、非常に
複屈折が発生しにくいものでも、耐熱性が不足している
ために、光学素子への適用が出来なくなってしまう。本
発明は特定の樹脂を用いることにより、これらの問題点
を解決するものである。すなわち、本発明は、光学素子
として使用できる低複屈折性と高透過性を有するポリア
ミドイミド系樹脂およびその樹脂を用いた光学用素子を
提供するものである。
As described above, each of the above resins causes birefringence when an optical element such as a film is actually produced. In addition, even if birefringence is very unlikely to occur, it cannot be applied to an optical element because of insufficient heat resistance. The present invention solves these problems by using a specific resin. That is, the present invention provides a polyamideimide-based resin having low birefringence and high transmittance, which can be used as an optical element, and an optical element using the resin.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0011】本発明は、下記に示される一般式(I)及
び一般式(II)の繰り返し単位からなり、一般式
(I):一般式(II)のモル比の範囲が5:95〜9
5:5の樹脂を用いてなるポリアミドイミド系樹脂およ
びこれを用いた光学用素子に関する。
The present invention comprises repeating units of the following general formulas (I) and (II), wherein the molar ratio of the general formula (I) to the general formula (II) ranges from 5:95 to 9:
The present invention relates to a polyamide-imide resin using a 5: 5 resin and an optical element using the same.

【化3】 Embedded image

【化4】 (ここでR1は、炭素原子数3〜10のアルキレン基または
シクロヘキシレン基を表す。R2は結合がないか、CH2、C
H2CH2、またはC(CH3)2を表す。また、R3はSO2、SO、S、
CO、O、C6H4、炭素原子数 0〜12のアルキレン基、SO2-
(CH2)t-SO2、SO-(CH2)t- SO、S-(CH2)t- S、 COO-(CH2)
t- COO、CO-(CH2)t-COを表す。但し、tは1〜10の整
数である。)
Embedded image (Where R 1 represents an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms or a cyclohexylene group. R 2 has no bond, CH 2 , C 2
Represents H 2 CH 2 or C (CH 3 ) 2 . R 3 is SO 2 , SO, S,
CO, O, C 6 H 4 , alkylene group having a carbon number of 0 to 12, SO 2 -
(CH 2) t-SO 2 , SO- (CH 2) t- SO, S- (CH 2) t- S, COO- (CH 2)
t-COO, represents a CO- (CH 2) t-CO . Here, t is an integer of 1 to 10. )

【0012】本発明においては、フィルムの複屈折が1
0nm以下であり、500nmでの透過率が70%以上
であることが好ましい。
In the present invention, the birefringence of the film is 1
It is preferably 0 nm or less, and the transmittance at 500 nm is preferably 70% or more.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に本発明のポリアミドイミド系
樹脂およびこれを用いた光学用素子について詳しく説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Next, the polyamide-imide resin of the present invention and an optical element using the same will be described in detail.

【0014】本発明のポリアミドイミド系樹脂に用いら
れる酸二無水物として以下の化合物が挙げられるが、こ
れらの化合物に制限されるものではない。本発明に使用
する酸二無水物としては、ビス(エキソ)―ビシクロ
(2,2,1)ヘプタンー2,3−ジカルボン酸無水
物、ビス(エンド)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタン
ー2,3−ジカルボン酸無水物、メチレンジスルフォニ
ルビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー
2,3−ジカルボン酸無水物、エチレンジスルフォニル
ビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー
2,3−ジカルボン酸無水物、プロピ等レンジスルフォ
ニルビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタン
ー2,3−ジカルボン酸無水物、チオビス(エキソ)―
ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー2,3−ジカルボン
酸無水物、メチレンジチオビス(エキソ)―ビシクロ
(2,2,1)ヘプタンー2,3−ジカルボン酸無水
物、エチレンジチオビス(エキソ)―ビシクロ(2,
2,1)ヘプタンー2,3−ジカルボン酸無水物、カル
ボニルビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタ
ンー2,3−ジカルボン酸無水物、メチレンジカルボニ
ルビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー
2,3−ジカルボン酸無水物、エチレンジカルボニルビ
ス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー2,
3−ジカルボン酸無水物、メチレンビス(3,3’,
4,4’−シクロヘキサンジカルボン酸無水物)、チオ
ビス(3,3’,4,4’−シクロヘキサンジカルボン
酸無水物)、スルフォンビス(3,3’,4,4’−シ
クロヘキサンジカルボン酸無水物)、カルボニルビス
(3,3’,4,4’−シクロヘキサンジカルボン酸無
水物)等が挙げられる。これらの酸二無水物は単独で用
いてもよいし、適宜組み合わせて用いてもよい。これら
の酸二無水物の中で特に好ましいのはビス(エキソ)―
ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー2,3−ジカルボン
酸無水物である。
The acid dianhydride used in the polyamide-imide resin of the present invention includes the following compounds, but is not limited to these compounds. Examples of the acid dianhydride used in the present invention include bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride and bis (endo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2 , 3-Dicarboxylic anhydride, methylene disulfonylbis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, ethylenedisulfonylbis (exo) -bicyclo (2,2,1) Heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, propylene isodisulfonylbis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, thiobis (exo)-
Bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylenedithiobis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, ethylenedithiobis (exo)- Bicyclo (2
2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, carbonylbis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylenedicarbonylbis (exo) -bicyclo (2,1) 2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, ethylenedicarbonylbis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2
3-dicarboxylic anhydride, methylenebis (3,3 ′,
4,4'-cyclohexanedicarboxylic anhydride), thiobis (3,3 ', 4,4'-cyclohexanedicarboxylic anhydride), sulfonebis (3,3', 4,4'-cyclohexanedicarboxylic anhydride) And carbonylbis (3,3 ', 4,4'-cyclohexanedicarboxylic anhydride). These acid dianhydrides may be used alone or in an appropriate combination. Among these acid dianhydrides, particularly preferred is bis (exo)-
Bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic anhydride.

【0015】本発明において使用するジカルボン酸は、
グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、ア
ゼライン酸、デカンジカルボン酸、ウンデンカンジカル
ボン酸、ドデカンジカルボン酸が好ましい。(これらは
酸クロライドまたはエステル化物でも良い)。これらの
中では、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼラ
イン酸、ドデカンジカルボン酸等がさらに好ましい。
The dicarboxylic acid used in the present invention is
Glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, decanedicarboxylic acid, undencandicarboxylic acid, and dodecanedicarboxylic acid are preferred. (These may be acid chlorides or esters). Among these, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, dodecanedicarboxylic acid and the like are more preferred.

【0016】本発明において使用するジアミンとして、
フルオレン基を有するジアミンを成分に用いて重合する
必要がある。このようなジアミンとしては9,9−ビス
(4−アミノフェニル)フルオレンが挙げられるが、そ
のジアミンの芳香環の水素を、一部アルキル基で置換さ
れたものを用いても良い。また、それらのフルオレン基
含有ジアミンにおいて、アミノと芳香環との間にメチル
基やエチル基が介在していても良い。このようなジアミ
ンとしては、9、9−ビス(3−メチルー4−アミノフ
ェニル)フルオレン、9、9−ビス(3−エチルー4−
アミノフェニル)フルオレン、9、9−ビス(4−アミ
ノエチルフェニル)フルオレン、9、9−ビス(3−メ
チルー4−アミノエチルフェニル)フルオレン、9、9
−ビス(3−エチルー4−アミノエチルフェニル)フル
オレン等が挙げられる
As the diamine used in the present invention,
It is necessary to polymerize using a diamine having a fluorene group as a component. Examples of such a diamine include 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, and a diamine in which hydrogen of an aromatic ring of the diamine is partially substituted with an alkyl group may be used. In these fluorene group-containing diamines, a methyl group or an ethyl group may be interposed between the amino and the aromatic ring. Such diamines include 9,9-bis (3-methyl-4-aminophenyl) fluorene and 9,9-bis (3-ethyl-4-
Aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-aminoethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methyl-4-aminoethylphenyl) fluorene, 9,9
-Bis (3-ethyl-4-aminoethylphenyl) fluorene and the like.

【0017】本発明に使用するポリアミドイミド系樹脂
の前駆体となるポリアミド酸は、通常の合成方法により
製造される。より好ましい製造方法としてはジカルボン
酸クロリド又はジカルボン酸とアミンを反応させ、あら
かじめポリアミドを合成した後、そのポリアミドと酸二
無水物とを反応させることによりポリアミド酸を製造す
る方法、又はアミンを添加した溶媒中にジカルボン酸ク
ロリド又はジカルボン酸と酸二無水物を同時に添加して
反応させることによりポリアミド酸を製造する方法であ
る。上記の製造は、窒素等の不活性ガス気流下で行うこ
とが好ましい。
The polyamic acid used as the precursor of the polyamideimide resin used in the present invention is produced by a usual synthesis method. As a more preferable production method, a method of producing a polyamic acid by reacting a dicarboxylic acid chloride or a dicarboxylic acid with an amine, previously synthesizing a polyamide, and then reacting the polyamide with an acid dianhydride, or adding an amine This is a method for producing a polyamic acid by simultaneously adding and reacting dicarboxylic acid chloride or dicarboxylic acid and an acid dianhydride in a solvent. The above-described production is preferably performed under a stream of an inert gas such as nitrogen.

【0018】上記の製造方法により得られたポリアミド
酸は、非プロトン性の有機溶媒に可溶であり、イミド化
は、上記の方法より得られるポリアミド酸溶液をそのま
ま、または貧溶媒にて再沈殿を行った後、本ポリアミド
酸を可溶化出来る有機溶媒に溶解してから加熱してもよ
く、また脱水剤を添加し室温または加熱しても良い。
The polyamic acid obtained by the above-mentioned production method is soluble in an aprotic organic solvent, and the imidization is performed by re-precipitating the polyamic acid solution obtained by the above-mentioned method as it is or in a poor solvent. After performing the above, the polyamide acid may be dissolved in an organic solvent capable of solubilizing and then heated, or a dehydrating agent may be added and room temperature or heating may be performed.

【0019】上記の製造方法において、反応溶媒にはN
―メチルピロリドン、 N、N―ジメチルアセトアミ
ド、N、N―ジメチルホルムアミドなどの高沸点極性有
機溶媒を使用するが、モノマーや生成するポリマーの溶
解性や溶媒による着色等を考慮し、上記の有機溶媒を混
合して、また上記以外の有機溶媒を単独又は上記の有機
溶媒と組合せて使用することができる。また、重合溶液
の濃度は3〜50重量%が好ましく、5〜40重量%で
あることが反応溶液の高粘度化を防ぐという点でより好
ましい。
In the above production method, the reaction solvent is N
-Use high-boiling polar organic solvents such as methylpyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, etc. And an organic solvent other than the above may be used alone or in combination with the above organic solvent. The concentration of the polymerization solution is preferably from 3 to 50% by weight, and more preferably from 5 to 40% by weight in order to prevent the reaction solution from having a high viscosity.

【0020】上記の製造方法により得られるポリアミド
イミド溶液に、ポリアミドイミドの末端アミノ基を保護
する目的で、ベンゾイル基等やアセチル基等のアシル基
を導入するため、ベンゾイルクロリド等のモノ酸クロリ
ドや無水酢酸と/またはピリジンのような酸無水物と/
または塩基を添加して更に反応を行っても良い。
In order to introduce an acyl group such as a benzoyl group or an acetyl group for the purpose of protecting the terminal amino group of the polyamideimide into the polyamideimide solution obtained by the above-mentioned production method, a monoacid chloride such as benzoyl chloride or the like is used. Acetic anhydride and / or acid anhydride such as pyridine /
Alternatively, the reaction may be further performed by adding a base.

【0021】上記の製造方法により得られるポリアミド
イミド溶液に、ポリアミドイミドの末端酸無水物基を保
護する目的で、プロピル基等のアルキル基を導入するた
め、プロピルアミン等のアルキルアミンを添加して更に
反応を行っても良い。
In order to introduce an alkyl group such as a propyl group for the purpose of protecting a terminal acid anhydride group of the polyamideimide, an alkylamine such as propylamine is added to the polyamideimide solution obtained by the above-mentioned production method. Further reaction may be performed.

【0022】上記の製造方法において、色相をよくする
ために、亜リン酸トリフェニルなどの亜リン酸系化合物
を添加しても良い。
In the above-mentioned production method, a phosphorous compound such as triphenyl phosphite may be added to improve the hue.

【0023】上記の製造方法において、得られるポリア
ミドイミドの分子量を制御するために、無水フタル酸の
ような酸無水物、モノカルボン酸、モノアミン又はモノ
イソシアネートを添加して重合してもよい。
In the above production method, an acid anhydride such as phthalic anhydride, a monocarboxylic acid, a monoamine or a monoisocyanate may be added for polymerization in order to control the molecular weight of the obtained polyamideimide.

【0024】本発明において、一般式(I):一般式
(II)のモル比の範囲が5:95〜95:5の範囲内
とされ、モル比の範囲が10:90〜90:10の範囲
内であることが好ましい。一般式(I)のモル比が5未
満であると、基板との密着性が弱くなり、また、一般式
(II)モル比が5未満であると、吸水率が高くなる。
In the present invention, the molar ratio of the general formula (I) to the general formula (II) is in the range of 5:95 to 95: 5, and the molar ratio is in the range of 10:90 to 90:10. It is preferable that it is within the range. If the molar ratio of the general formula (I) is less than 5, the adhesion to the substrate will be weak, and if the molar ratio of the general formula (II) is less than 5, the water absorption will increase.

【0025】本発明において、上記の方法により得られ
るポリアミドイミド溶液は、末端基の保護の有無に関わ
らず、水、メタノール、アセトン、ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの貧溶媒を用いて、単独でまたは組み合わせ
て再沈殿を行うことにより、精製することが好ましい。
In the present invention, the polyamideimide solution obtained by the above method may be used alone or in combination with a poor solvent such as water, methanol, acetone, hexane or cyclohexane, regardless of whether the terminal group is protected or not. Purification by reprecipitation is preferred.

【0026】本発明においては、ポリアミドイミド系樹
脂のフィルムの複屈折が10nm以下であり、500n
mでの透過率が70%以上であることが好ましく、複屈
折が7nm以下であり、500nmでの透過率が80%
以上であることがより好ましい。フィルムの複屈折が1
0nmを超える場合、または500nmでの透過率が7
0%未満の場合は、フィルムの光学的機能やプラスチッ
クレンズとしての透明度が低くなる傾向がある。
In the present invention, the polyamide-imide resin film has a birefringence of 10 nm or less,
The transmittance at m is preferably 70% or more, the birefringence is 7 nm or less, and the transmittance at 500 nm is 80%.
More preferably, it is the above. Birefringence of film is 1
If it exceeds 0 nm or the transmittance at 500 nm is 7
If it is less than 0%, the optical function of the film and the transparency as a plastic lens tend to be low.

【0027】本発明において、フィルムの複屈折が10
nm以下であり、500nmでの透過率が70%以上の
ポリアミドイミド系樹脂を得る製造方法は、前記の一般
式(I):一般式(II)のモル比の範囲が5:95〜
95:5の範囲で得られるポリアミドイミド系樹脂を、
N、N―ジメチルアセトアミド等の上記のポリアミドイ
ミド系樹脂が溶解可能な有機溶媒に溶解し、この溶液を
アプリケータ等を用いて基板上に塗布し、基板を50〜
200℃で加熱して揮発させた後、基板からフィルムを
はがす。この溶媒を含んだフィルムの周囲を鉄枠で固定
し、溶媒の沸点以上の温度で加熱することにより、ポリ
アミドイミドフィルムを得ることができる。
In the present invention, the film has a birefringence of 10
The method for producing a polyamideimide resin having a transmittance of not more than 70 nm and a transmittance of not less than 70% at 500 nm is as follows: the molar ratio of the general formula (I) to the general formula (II) is 5:95 to
Polyamide-imide resin obtained in the range of 95: 5,
The above polyamideimide resin such as N, N-dimethylacetamide is dissolved in a dissolvable organic solvent, and this solution is applied on a substrate using an applicator or the like.
After heating at 200 ° C. to volatilize, the film is peeled off from the substrate. By fixing the periphery of the film containing the solvent with an iron frame and heating the film at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent, a polyamideimide film can be obtained.

【0028】本発明において、ポリアミド酸溶液または
ポリアミドイミド溶液として感光性を有するものを使用
することもできる。
In the present invention, a photosensitive solution may be used as the polyamic acid solution or the polyamideimide solution.

【0029】本発明のポリアミドイミド系樹脂を用いた
光学素子の製造法としては、目的とする成形体の形状に
より異なるが、例えばポリイミドアミドフィルムを得る
場合には石英板、ステンレス板、カプトンフィルムなど
の基板に上記ポリアミド酸溶液を一定の厚みになるよう
に流延し、70〜350℃まで段階的に加熱し(100
℃/30分、200℃/30分、350℃/60分)、
脱水閉環させ、ポリアミド酸溶液から溶媒を除くと同時
にイミド化することができる。これらの工程は連続して
行っても良い。また、他の製造法としてはポリアミド酸
溶液をガラス基板上等に流延して100〜150℃で3
0〜120分間加熱乾燥して皮膜を形成し、この皮膜を
ピリジンと無水酢酸を含む適当な有機溶媒等に浸漬して
脱溶剤とイミド化反応を行い、上記皮膜をポリアミドイ
ミドフィルムとする方法である。また、上記のポリアミ
ドイミド溶液からフィルムを得る場合には、その溶液を
上記の基板上に一定の厚みになるように流延し、50〜
300℃の範囲で溶媒が完全に除去されるまで加熱する
ことにより、ポリアミドイミドフィルムを得ることがで
きる。これらの工程を減圧下は不活性雰囲気中でおこな
っても良い。また、これらのフィルムは必要に応じてウ
ェットエッチング、ドライエッチング、レーザーアブレ
ーションなどの方法によりパターニングされ、所定の形
に形成され光学用素子とすることもできる。
The method for producing an optical element using the polyamide-imide resin of the present invention varies depending on the shape of a target molded product. For example, when a polyimide amide film is obtained, a quartz plate, a stainless plate, a Kapton film, etc. The above-mentioned polyamic acid solution was cast on the substrate to a constant thickness, and heated stepwise to 70 to 350 ° C. (100
C / 30 min, 200 C / 30 min, 350 C / 60 min),
The polyamic acid solution can be imidized simultaneously with removal of the solvent from the polyamic acid solution by dehydration and ring closure. These steps may be performed continuously. Further, as another manufacturing method, a polyamic acid solution is cast on a glass substrate or the like, and is heated at 100 to 150 ° C. for 3 hours.
A film is formed by heating and drying for 0 to 120 minutes to form a film, and the film is immersed in a suitable organic solvent containing pyridine and acetic anhydride to perform a desolvation and imidation reaction. is there. When a film is obtained from the polyamideimide solution, the solution is cast on the substrate so as to have a constant thickness,
By heating until the solvent is completely removed in the range of 300 ° C., a polyamideimide film can be obtained. These steps may be performed under reduced pressure in an inert atmosphere. Further, these films may be patterned by a method such as wet etching, dry etching, laser ablation or the like, if necessary, and formed into a predetermined shape to form an optical element.

【0030】このようにして得られる本発明のポリアミ
ドイミド系樹脂を用いたフィルムや光部品等の光学用素
子は、複屈折も小さく無色透明であるために、厚膜であ
ってもそれらの物性は極めて良好である。
The thus obtained optical element such as a film or an optical component using the polyamideimide resin of the present invention has a small birefringence and is colorless and transparent. Is extremely good.

【0031】上記のポリアミド酸溶液及びポリアミドイ
ミド溶液を用いての成形は、上記のようなフィルムや光
学部品に制限されるものではなく、プラスチックレンズ
等の成形体の形成にも適用できる。
The molding using the polyamic acid solution and the polyamideimide solution is not limited to the above-mentioned films and optical parts, but can be applied to the formation of a molded article such as a plastic lens.

【0032】本発明のポリアミドイミド系樹脂を用いて
得られる成形体は、従来のものとは異なり複屈折が非常
に小さいものである。なお、本発明における複屈折は、
厚さ30μmのフィルムの複屈折の測定値とした。
The molded article obtained by using the polyamide-imide resin of the present invention has a very small birefringence unlike the conventional one. The birefringence in the present invention,
The measured value of the birefringence of a film having a thickness of 30 μm was used.

【0033】本発明におけるポリアミドイミド系樹脂を
用いた光学用素子としては、例えば、レンズ、コンパク
トディスク(CD、CD−ROM等)、ミニディスク
(MD)、DVD用のディスク基板、LCD用基板、偏
光板用支持フィルム、透明樹脂シート、位相差フィル
ム、光拡散フィルム、液晶素子結合等の液晶素子用部
材、プロジェクター用スクリーン、光導波路、光分岐
器、光合波器、光スイッチング素子、光変調器、光フィ
ルター、波長分割器、光増幅器、光減衰器、光波長変換
器、光回路、太陽電池のベースフィルム基材、太陽電池
の被覆材、フラッシュメモリー、CCD、PD、LD等
の光半導体の封止材、接着剤、ソーラーセル、熱制御シ
ステム等の特別な航空宇宙用コンポーネントコーティン
グ材等の光学用素子、そのコーティング材等が挙げられ
る。
Examples of the optical element using the polyamideimide resin in the present invention include a lens, a compact disk (CD, CD-ROM, etc.), a mini disk (MD), a disk substrate for DVD, a substrate for LCD, Polarizer support film, transparent resin sheet, retardation film, light diffusion film, liquid crystal element members such as liquid crystal element coupling, projector screen, optical waveguide, optical splitter, optical multiplexer, optical switching element, optical modulator , Optical filters, wavelength dividers, optical amplifiers, optical attenuators, optical wavelength converters, optical circuits, solar cell base film base materials, solar cell coating materials, flash memories, optical semiconductors such as CCD, PD, LD, etc. Optical elements such as encapsulants, adhesives, solar cells, special aerospace component coatings such as thermal control systems, etc. Computing material and the like.

【0034】以上のように本発明になる無色透明で低複
屈折なポリアミドイミド系樹脂を用いた光学用素子は、
特に液晶素子用部材と精密光部品に好適である。液晶素
子用部材においては、例えば、液晶層と偏光板との間に
介在するLCD用基板がその例で、この基板を本発明に
よるポリイミド系樹脂で形成することにより、上記のよ
うなガラス系光学材料との比較における光学樹脂材料の
利点を生かして液晶デバイスの各種性能を向上させるこ
とが可能となる。また液晶素子用の偏光板は、偏光子の
両面に透明樹脂シートを接合させて形成されるが、この
透明樹脂シートに本発明になるポリアミドイミド系樹脂
を用いたフィルムは好適であり、液晶デバイスの各種性
能を向上させることが可能となる。また、精密光部品に
おいては、例えば光導波回路を本発明なるポリアミドイ
ミド系樹脂で形成することにより、偏波保存性が良好な
光導波回路を得ることが可能になる。
As described above, the optical element using the colorless, transparent and low-birefringence polyamideimide resin according to the present invention is:
It is particularly suitable for liquid crystal element members and precision optical components. In the liquid crystal element member, for example, an LCD substrate interposed between a liquid crystal layer and a polarizing plate is an example. By forming this substrate with the polyimide resin according to the present invention, the glass optical It is possible to improve various performances of the liquid crystal device by taking advantage of the optical resin material in comparison with the material. Further, a polarizing plate for a liquid crystal element is formed by bonding a transparent resin sheet to both surfaces of a polarizer, and a film using the polyamideimide resin according to the present invention for the transparent resin sheet is preferable. Can be improved in various performances. In a precision optical component, for example, by forming an optical waveguide circuit with the polyamide-imide resin of the present invention, it is possible to obtain an optical waveguide circuit having good polarization preservation.

【0035】[0035]

【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらにより制限されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0036】実施例1 塩化カルシウム管と窒素流入管を装着した300mlフ
ラスコにおいて、N―メチルー2−ピロリドン157.
8gを添加し、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フ
ルオレン15.230g及びトリエチルアミン6.63
gを添加し、溶解するまでよく撹拌した。ついでアジピ
ン酸ジクロリド4.00gを溶液に添加した。ただし、
アジピン酸ジクロリドを添加し終えるまで、フラスコを
氷浴上に設置した。次に、ビス(エキソ)―ビシクロ
(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸8.6
11gを添加し、窒素雰囲気下、25℃で1時間撹拌し
た。得られたポリアミド酸溶液をイミド化するために、
180℃で5時間撹拌し、ポリアミドイミド溶液を得
た。この溶液を水で再沈殿して、得られたポリマーを、
更に水で3回洗浄した。このポリマを90℃で一晩乾燥
し、更にアセトンで洗浄した後、90℃で一晩乾燥し、
デシケーター内で4時間減圧乾燥を行った。
Example 1 In a 300 ml flask equipped with a calcium chloride tube and a nitrogen inlet tube, N-methyl-2-pyrrolidone 157.
8 g were added and 15.230 g of 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene and 6.63 of triethylamine were added.
g was added and stirred well until dissolved. Then 4.00 g of adipic dichloride was added to the solution. However,
The flask was placed on an ice bath until the addition of adipic dichloride was completed. Next, bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid 8.6
11 g was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. To imidize the obtained polyamic acid solution,
The mixture was stirred at 180 ° C. for 5 hours to obtain a polyamideimide solution. This solution was reprecipitated with water, and the obtained polymer was
Further, it was washed three times with water. The polymer was dried at 90 ° C. overnight, further washed with acetone, dried at 90 ° C. overnight,
Drying under reduced pressure was performed in a desiccator for 4 hours.

【0037】実施例2 アジピン酸ジクロリドをピメリン酸ジクロリド4.50
0gにかえて、N―メチルー2−ピロリドン167g、
トリエチルアミン6.93g、ビス(エキソ)―ビシク
ロ(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸8.
997g、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオ
レン15.914gとした以外は実施例1と同様にして
ポリアミドイミド系樹脂を製造した。
Example 2 Adipic acid dichloride was converted to pimelic acid dichloride 4.50
167 g of N-methyl-2-pyrrolidone instead of 0 g,
6.93 g of triethylamine, bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid
A polyamideimide-based resin was produced in the same manner as in Example 1, except that 997 g and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene were used as 15.914 g.

【0038】実施例3 アジピン酸ジクロリドをスベリン酸ジクロリド4.50
0gにかえて、N―メチルー2−ピロリドン157g、
トリエチルアミン6.47g、ビス(エキソ)―ビシク
ロ(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸8.
399g、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオ
レン14.856gとした以外は実施例1と同様にして
ポリアミドイミド系樹脂を製造した。
Example 3 Adipic dichloride was substituted with suberic acid dichloride 4.50
157 g of N-methyl-2-pyrrolidone instead of 0 g,
6.47 g of triethylamine, bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid
A polyamideimide resin was produced in the same manner as in Example 1 except that 399 g and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene were used as 14.856 g.

【0039】実施例4 アジピン酸ジクロリドをアゼライン酸ジクロリド5.7
13gにかえて、N―メチルー2−ピロリドン183.
2g、トリエチルアミン7.70g、ビス(エキソ)―
ビシクロ(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン
酸10.000g、9,9−ビス(4−アミノフェニ
ル)フルオレン17.688gとした以外は実施例1と
同様にしてポリアミドイミド系樹脂を製造した。
Example 4 Adipic dichloride was replaced with azelaic dichloride 5.7
N-methyl-2-pyrrolidone 183.
2 g, triethylamine 7.70 g, bis (exo)-
A polyamideimide-based resin was prepared in the same manner as in Example 1 except that bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid was used at 10.000 g and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene at 17.688 g. Manufactured.

【0040】実施例5 アジピン酸ジクロリドをドデカン酸ジクロリド5.00
0gにかえて、N―メチルー2−ピロリドン144g、
トリエチルアミン5.68g、ビス(エキソ)―ビシク
ロ(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸7.
372g、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオ
レン13.041gとした以外は実施例1と同様にして
ポリアミドイミド系樹脂を製造した。
Example 5 Adipic acid dichloride was converted to dodecanoic acid dichloride 5.00
0 g, 144 g of N-methyl-2-pyrrolidone,
5.68 g of triethylamine, bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid 7.
A polyamideimide-based resin was produced in the same manner as in Example 1 except that 372 g and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene were 13.041 g.

【0041】比較例1 アジピン酸ジクロリドをテレフタル酸クロリド5.00
0gにかえて、N―メチルー2−ピロリドン180.6
g、トリエチルアミン7.48g、ビス(エキソ)―ビ
シクロ(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸
9.703g、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フ
ルオレン17.163gとした以外は実施例1と同様に
してポリアミドイミド系樹脂を製造した。
Comparative Example 1 Adipic dichloride was replaced with terephthalic chloride 5.00
Instead of 0 g, N-methyl-2-pyrrolidone 180.6
g, 7.48 g of triethylamine, 9.703 g of bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid, and 17.163 g of 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene. A polyamide-imide-based resin was produced in the same manner as in Example 1.

【0042】比較例2 アジピン酸クロリドをコハク酸ジクロリド1.000g
にかえて、N―メチルー2−ピロリドン45.0g、ト
リエチルアミン1.96g、ビス(エキソ)―ビシクロ
(2,2,1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸2.5
42g、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレ
ン4.497gとした以外は実施例1と同様にしてポリ
アミドイミド系樹脂を製造した。
Comparative Example 2 Adipic chloride was converted to 1.000 g of succinic dichloride
Instead, 45.0 g of N-methyl-2-pyrrolidone, 1.96 g of triethylamine, bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid 2.5
A polyamideimide resin was produced in the same manner as in Example 1 except that 42 g and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene were used in an amount of 4.497 g.

【0043】比較例3 塩化カルシウム管と窒素流入管を装着した300mlフ
ラスコにおいて、N―メチルー2−ピロリドン207.
8gを添加し、シクロヘキサンジカルボン酸5.000
g及びビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,1)ヘプタ
ンー2,3―ジカルボン酸11.442gを添加し、溶
解するまでよく撹拌した。ついで、9,9−ビス(4−
アミノフェニル)フルオレン20.238gを添加し、
窒素気流下、25℃で1時間撹拌した。得られたポリア
ミド酸溶液をイミド化するために、180℃で5時間撹
拌し、ポリアミドイミド溶液を得た。この溶液を水で再
沈殿して得られたポリマーを、更に水で3回洗浄した。
このポリマを90℃で一晩乾燥し、更にアセトンで洗浄
した後、90℃で一晩乾燥し、デシケーター内で4時間
減圧乾燥を行った。
Comparative Example 3 N-methyl-2-pyrrolidone was prepared in a 300 ml flask equipped with a calcium chloride tube and a nitrogen inlet tube.
8 g, and cyclohexanedicarboxylic acid 5,000
g and bis (exo) -bicyclo (2,2,1) heptane-2,3-dicarboxylic acid (11.442 g) were added, and the mixture was stirred well until dissolved. Then, 9,9-bis (4-
Aminophenyl) fluorene 20.238 g was added,
The mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour under a nitrogen stream. In order to imidize the obtained polyamic acid solution, the mixture was stirred at 180 ° C. for 5 hours to obtain a polyamidoimide solution. The polymer obtained by reprecipitating this solution with water was further washed three times with water.
The polymer was dried at 90 ° C. overnight, further washed with acetone, dried at 90 ° C. overnight, and dried in a desiccator under reduced pressure for 4 hours.

【0044】実施例1〜5及び比較例1〜3で得られた
樹脂をフィルム化して、透過率および複屈折等を測定し
た結果を表1に示す。なお、評価は下記に示す方法によ
り行った。なお、イミド化の確認は赤外吸収スペクトル
におけるカルボニル基の対称および非対称伸縮振動によ
る特性吸収から行った。 (1)透過率 ポリアミドイミド系樹脂を20重量%N、N―ジメチル
アセトアミド溶液に溶かし、得られるフィルムの厚みが
30±5μmとなるように、適当な厚さでガラス基板上
に流延し、150℃で/10分間プレ加熱した。さら
に、ガラス基板上から剥がして、フィルムの周囲を鉄枠
で固定し、250℃/10分間加熱して脱溶媒を行い、
フィルムを得た。このフィルムについて、分光光度計
(日本分光製V−570)で、500nmでの透過率を
測定した。 (2)複屈折 He−Neレーザーを用いたエリプソメーター(島津製
作所AEP―100)で、複屈折(シングルパス)を測
定した。また、(1)の方法で得られたフィルムを、直
交した二枚の偏光板の間に挟み、フィルムを固定して乾
燥(250℃)した時の固定部分の複屈折の様子を目視
で観察した。
The resins obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were formed into films, and the results of measurement of transmittance, birefringence, and the like are shown in Table 1. The evaluation was performed by the following method. The imidation was confirmed by characteristic absorption due to symmetric and asymmetric stretching vibration of the carbonyl group in the infrared absorption spectrum. (1) Transmittance Polyamideimide resin is dissolved in a 20 wt% N, N-dimethylacetamide solution, and cast on a glass substrate with an appropriate thickness so that the thickness of the obtained film is 30 ± 5 μm. Preheated at 150 ° C for / 10 minutes. Further, the film is peeled off from the glass substrate, the periphery of the film is fixed with an iron frame, and the solvent is removed by heating at 250 ° C. for 10 minutes.
A film was obtained. The transmittance of this film at 500 nm was measured with a spectrophotometer (V-570 manufactured by JASCO Corporation). (2) Birefringence The birefringence (single pass) was measured with an ellipsometer (Shimadzu AEP-100) using a He-Ne laser. Further, the film obtained by the method (1) was sandwiched between two orthogonal polarizing plates, and the state of birefringence of the fixed portion when the film was fixed and dried (250 ° C.) was visually observed.

【0045】[0045]

【表1】 *1 フィルム成形性のあるポリマーが得られないた
め、各項目のテ゛ータを測定出来なかった。 酸成分1と酸成分2のモル比は1/1、酸成分とジアミ
ンのモル比は1/1である。また、略号で示した化合物
の化学構造を以下に示す。
[Table 1] * 1 Data for each item could not be measured because a polymer with film formability could not be obtained. The molar ratio between the acid component 1 and the acid component 2 is 1/1, and the molar ratio between the acid component and the diamine is 1/1. The chemical structures of the compounds indicated by the abbreviations are shown below.

【0046】[0046]

【化5】 HAC SO2 :(ビス(エキソ)―ビシクロ(2,2,
1)ヘプタンー2,3―ジカルボン酸)
Embedded image HAC SO 2 : (bis (exo) -bicyclo (2,2,
1) Heptane-2,3-dicarboxylic acid)

【0047】[0047]

【化6】 FDA :(9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオ
レン)
Embedded image FDA: (9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene)

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明によれば、従来法のような制限を
うけることなく、低複屈折性と高光透過性を有するポリ
アミドイミド系樹脂を得ることが出来る。また本発明に
よってこのポリアミドイミド系樹脂の特性を生かした光
学用素子が提供される。
According to the present invention, a polyamideimide resin having low birefringence and high light transmittance can be obtained without being restricted by the conventional method. Further, the present invention provides an optical element utilizing the characteristics of the polyamide-imide resin.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA60 AF30Y AF31Y AH12 AH19 BC01 4J043 PA04 RA35 SA06 SB01 TA14 TA22 TB01 UA042 UA082 UA131 UA221 UA251 UB012 UB152 UB282 UB302 UB401 UB402 YA06 ZB01 ZB02 ZB03 ZB11 ZB21 ZB23  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F071 AA60 AF30Y AF31Y AH12 AH19 BC01 4J043 PA04 RA35 SA06 SB01 TA14 TA22 TB01 UA042 UA082 UA131 UA221 UA251 UB012 UB152 UB282 UB302 UB401 UB402 YA06 ZB01 ZB11 ZB02

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記に示される一般式(I)及び一般式
(II)の繰り返し単位からなり、一般式(I):一般
式(II)のモル比の範囲が5:95〜95:5の樹脂
を用いてなるポリアミドイミド系樹脂。 【化1】 【化2】 (ここでR1は、炭素原子数3〜10のアルキレン基または
シクロヘキシレン基を表す。R2は結合がないか、CH2、C
H2CH2、またはC(CH3)2を表す。また、R3はSO2、SO、S、
CO、O、C6H4、炭素原子数 0〜12のアルキレン基、SO2-
(CH2)t-SO2、SO-(CH2)t- SO、S-(CH2)t- S、 COO-(CH2)
t- COO、CO-(CH2)t-COを表す。但し、tは1〜10の整
数である。)
The present invention comprises repeating units of the following general formulas (I) and (II), and the molar ratio of the general formula (I) to the general formula (II) ranges from 5:95 to 95: 5. Polyamide-imide resin using the above resin. Embedded image Embedded image (Where R 1 represents an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms or a cyclohexylene group. R 2 has no bond, CH 2 , C 2
Represents H 2 CH 2 or C (CH 3 ) 2 . R 3 is SO 2 , SO, S,
CO, O, C 6 H 4 , alkylene group having a carbon number of 0 to 12, SO 2 -
(CH 2) t-SO 2 , SO- (CH 2) t- SO, S- (CH 2) t- S, COO- (CH 2)
t-COO, represents a CO- (CH 2) t-CO . Here, t is an integer of 1 to 10. )
【請求項2】フィルムの複屈折が10nm以下であり、
500nmでの透過率が70%以上となる請求項1記載
のポリアミドイミド系樹脂。
2. The film has a birefringence of 10 nm or less,
The polyamide-imide resin according to claim 1, wherein the transmittance at 500 nm is 70% or more.
【請求項3】 請求項1または2記載のポリアミドイミ
ド系樹脂を用いた光学用素子。
3. An optical element using the polyamide-imide resin according to claim 1.
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