JP2000125201A - Charge detector, charge transfer device mounted therewith and solid-state image pickup device - Google Patents

Charge detector, charge transfer device mounted therewith and solid-state image pickup device

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JP2000125201A
JP2000125201A JP10291598A JP29159898A JP2000125201A JP 2000125201 A JP2000125201 A JP 2000125201A JP 10291598 A JP10291598 A JP 10291598A JP 29159898 A JP29159898 A JP 29159898A JP 2000125201 A JP2000125201 A JP 2000125201A
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bias circuit
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charge
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charge detector that matches the gain so as to always conduct excellent resetting even when a power supply voltage is fluctuated and can use an external small capacitance decoupling capacitor, to provide a charge transfer device mounted with the charge detector and to provide a solid-state image pickup device. SOLUTION: In the charge detector provided with a reset gate bias circuit 20 that gives a bias voltage Vrg to the gate electrode of a reset transistor(TR) 15 resetting the potential of an FD area 12 to a prescribed potential and with a reset drain bias circuit 30 that gives a bias voltage Vrd to a drain electrode of the reset TR 15, a 2-stage source follower circuit configuration is adopted for the reset drain bias circuit 30, and a 1st stage source follower circuit has a gain similar to that of the reset gate bias circuit 20 and the gain of a 2nd stage source follower circuit is similar to the gain of the reset TR 15 that has a gate electrode.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、信号電荷を検出し
て電気信号に変換する電荷検出装置、並びにこれを搭載
した電荷転送装置および固体撮像装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a charge detecting device for detecting a signal charge and converting the signal charge into an electric signal, and a charge transfer device and a solid-state imaging device having the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電荷転送装置や固体撮像装置には、電荷
転送部によって転送されてきた信号電荷を検出して電気
信号に変換する電荷検出装置が設けられている。この電
荷検出装置として、電源電圧の広範囲な変化に対して
も、常にリセットトランジスタの動作点を保証可能な構
成のものが本出願人により提案されている(特願平09
−015387号明細書参照)。この従来例に係る電荷
検出装置の構成を図3に示す。
2. Description of the Related Art A charge transfer device and a solid-state imaging device are provided with a charge detection device for detecting a signal charge transferred by a charge transfer unit and converting the signal charge into an electric signal. The applicant of the present invention has proposed a charge detection device having a configuration capable of always guaranteeing the operating point of the reset transistor even in a wide range of power supply voltage changes (Japanese Patent Application No. 09-0928).
-015387). FIG. 3 shows the configuration of the conventional charge detection device.

【0003】図3において、例えばCCD固体撮像装置
の水平転送レジスタ(図中、Hレジと記す)101の転
送先側の端部には、この水平転送レジスタ101によっ
て転送されてきた信号電荷を蓄積するフローティングデ
ィフュージョン(浮遊容量)領域(以下、FD領域と称
する)102が設けられている。このFD領域102に
蓄積された信号電荷は、電荷検出回路103によって検
出され、電気信号に変換されて出力端子104から外部
へ出力される。
In FIG. 3, for example, a signal charge transferred by the horizontal transfer register 101 is stored in an end of a horizontal transfer register (denoted as H register in the figure) 101 of a CCD solid-state image pickup device. A floating diffusion (floating capacitance) region (hereinafter, referred to as an FD region) 102 is provided. The signal charges stored in the FD region 102 are detected by the charge detection circuit 103, converted into electric signals, and output from the output terminal 104 to the outside.

【0004】また、FD領域102の電位を所定電位に
リセットするためのリセットトランジスタ105が設け
られている。このリセットトランジスタ105のソース
電極はFD領域102に、ゲート電極はリセット端子1
06にそれぞれ接続されている。リセット端子106に
は、チップ107外に設けられた外部容量108を介し
てリセットゲートパルスφRGが印加される。
Further, a reset transistor 105 for resetting the potential of the FD region 102 to a predetermined potential is provided. The reset transistor 105 has a source electrode in the FD region 102 and a gate electrode in the reset terminal 1.
06 respectively. A reset gate pulse φRG is applied to the reset terminal 106 via an external capacitor 108 provided outside the chip 107.

【0005】チップ107上にはさらに、リセットトラ
ンジスタ105のゲート電極にバイアス電圧Vrgを与
えるリセットゲートバイアス回路110と、リセットト
ランジスタ105のドレイン電極にバイアス電圧Vrd
を与えるリセットドレインバイアス回路120とが設け
られている。
On the chip 107, a reset gate bias circuit 110 for applying a bias voltage Vrg to the gate electrode of the reset transistor 105, and a bias voltage Vrd for the drain electrode of the reset transistor 105
Is provided.

【0006】リセットゲートバイアス回路110は、ド
レイン電極が電源端子109に接続されかつゲート絶縁
膜中に電荷を蓄積可能なメモリ効果を持つドライブトラ
ンジスタ(メモリトランジスタ)111と、このドライ
ブトランジスタ111のゲート電極とドレイン電極との
間に接続された抵抗112と、ドライブトランジスタ1
11のソース電極とグランドとの間に接続された抵抗1
13とからなるソースフォロワ回路構成となっており、
ドライブトランジスタ111のソース電極がリセットト
ランジスタ105のゲート電極に接続されて当該ゲート
電極にバイアス電圧Vrgを与える。
The reset gate bias circuit 110 includes a drive transistor (memory transistor) 111 having a drain electrode connected to the power supply terminal 109 and having a memory effect capable of accumulating charges in a gate insulating film, and a gate electrode of the drive transistor 111. A resistor 112 connected between the drive transistor 1 and the drain electrode
11 connected between the source electrode 11 and the ground
13 and a source follower circuit configuration.
The source electrode of drive transistor 111 is connected to the gate electrode of reset transistor 105, and applies a bias voltage Vrg to the gate electrode.

【0007】リセットドレインバイアス回路120も、
リセットゲートバイアス回路110と同様の回路構成と
なっている。すなわち、ドレイン電極が電源端子109
に接続されかつゲート絶縁膜中に電荷を蓄積可能なメモ
リ効果を持つドライブトランジスタ121と、このドラ
イブトランジスタ121のゲート電極とドレイン電極と
の間に接続された抵抗122と、ドライブトランジスタ
121のソース電極とグランドとの間に接続された抵抗
123とからなるソースフォロワ回路構成となってお
り、ドライブトランジスタ121のソース電極がリセッ
トトランジスタ105のドレイン電極に接続されて当該
ドレイン電極にバイアス電圧Vrdを与える構成となっ
ている。
The reset drain bias circuit 120 also has
It has the same circuit configuration as the reset gate bias circuit 110. That is, the drain electrode is connected to the power terminal 109.
, A drive transistor 121 having a memory effect capable of storing charges in a gate insulating film, a resistor 122 connected between a gate electrode and a drain electrode of the drive transistor 121, and a source electrode of the drive transistor 121. A source follower circuit configuration including a resistor 123 connected between the reset transistor 105 and the ground is provided. The source electrode of the drive transistor 121 is connected to the drain electrode of the reset transistor 105 to apply the bias voltage Vrd to the drain electrode. It has become.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記構成の従来例に係
る電荷検出装置では、リセットゲートバイアス回路11
0のメモリ効果を持つドライブトランジスタ(ソースフ
ォロワトランジスタ)111を空乏化構造とし、リセッ
トドレインバイアス回路120のメモリ効果を持つドラ
イブトランジスタ(ソースフォロワトランジスタ)12
1をニュートラル構造とすることで、ゲインマッチング
をとっている。
In the conventional charge detecting device having the above configuration, the reset gate bias circuit 11
A drive transistor (source follower transistor) 111 having a memory effect of 0 has a depletion structure, and a drive transistor (source follower transistor) 12 having a memory effect of a reset drain bias circuit 120.
Gain matching is achieved by making 1 a neutral structure.

【0009】ところが、リセットゲートバイアス回路1
10の空乏化構造により、例えばCCD固体撮像装置に
おいて、画素の信号電荷を半導体基板に掃き捨てる電子
シャッター動作を行う際に、リセットゲートバイアス回
路110が当該基板に印加されるシャッターパルスの影
響、即ちドライブトランジスタ111のバックゲート効
果を受けるため、デカップリングのための外部容量10
8の容量値が大きくなり、この外部容量108の内蔵化
(オンチップ化)が困難になるという課題がある。
However, the reset gate bias circuit 1
Due to the depletion structure of 10, for example, in a CCD solid-state imaging device, when performing an electronic shutter operation of sweeping out signal charges of pixels to a semiconductor substrate, the reset gate bias circuit 110 is affected by a shutter pulse applied to the substrate, that is, Due to the back gate effect of the drive transistor 111, an external capacitor 10 for decoupling is used.
There is a problem that the capacitance value of the capacitor 8 becomes large, and it is difficult to incorporate the external capacitor 108 (on-chip).

【0010】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、電源電圧の変動があ
っても常に良好なリセット動作ができるようにゲインマ
ッチングをとるとともに、デカップリングのための外部
容量の小容量化を可能とした電荷検出装置並びにこれを
搭載した電荷転送装置および固体撮像装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has as its object to perform gain matching so as to always perform a good reset operation even when there is a fluctuation in power supply voltage, and to perform decoupling. It is an object of the present invention to provide a charge detection device capable of reducing the external capacitance for the above, and a charge transfer device and a solid-state imaging device equipped with the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明では、信号電荷を
蓄積するFD領域と、このFD領域に蓄えられた信号電
荷を検出する検出回路と、FD領域の電位を所定電位に
リセットするリセットトランジスタと、このリセットト
ランジスタのゲート電極にバイアス電圧を与えるリセッ
トゲートバイアス回路と、リセットトランジスタのドレ
イン電極にバイアス電圧を与えるリセットドレインバイ
アス回路とを具備する電荷検出装置において、リセット
ドレインバイアス回路が、リセットゲートバイアス回路
と同等のゲインを有する一方のソースフォロワ回路と、
リセットトランジスタのゲート電極と同等のゲインを有
する他方のソースフォロワ回路の2段のソースフォロワ
構成となっている。
According to the present invention, there is provided an FD region for storing signal charges, a detection circuit for detecting the signal charges stored in the FD region, and a reset transistor for resetting the potential of the FD region to a predetermined potential. A reset gate bias circuit that applies a bias voltage to the gate electrode of the reset transistor; and a reset drain bias circuit that applies a bias voltage to the drain electrode of the reset transistor. One source follower circuit having the same gain as the bias circuit,
The other source follower circuit having the same gain as the gate electrode of the reset transistor has a two-stage source follower configuration.

【0012】上記構成の電荷検出装置において、リセッ
トドレインバイアス回路の一方のソースフォロワ回路を
リセットゲートバイアス回路と同等ゲインとし、他方の
ソースフォロワ回路をリセットトランジスタのゲート電
極と同等ゲインとすることで、リセットゲートバイアス
回路を空乏化構造としなくても、ゲインマッチングをと
ることができる。これにより、リセットゲートバイアス
回路が基板印加時のシャッターパルスの影響、即ちドラ
イブトランジスタのバックゲート効果を受けなくなるた
め、デカップリング用の容量を小容量化できる。そし
て、この電荷検出装置は、固体撮像装置の電荷検出部や
電荷転送装置の電荷検出部として用いられる。
In the charge detection device having the above configuration, one of the source follower circuits of the reset drain bias circuit has the same gain as the reset gate bias circuit, and the other source follower circuit has the same gain as the gate electrode of the reset transistor. Gain matching can be achieved even if the reset gate bias circuit does not have a depletion structure. As a result, the reset gate bias circuit does not receive the influence of the shutter pulse when applying the substrate, that is, the back gate effect of the drive transistor, so that the capacitance for decoupling can be reduced. The charge detection device is used as a charge detection unit of a solid-state imaging device or a charge detection unit of a charge transfer device.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図1は、例えばCC
D固体撮像装置に搭載された本発明の一実施形態に係る
電荷検出装置の構成を示す回路図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows, for example, CC
1 is a circuit diagram illustrating a configuration of a charge detection device according to an embodiment of the present invention, which is mounted on a D solid-state imaging device.

【0014】図1において、CCD固体撮像装置の水平
転送レジスタ(図中、Hレジと記す)11の転送先側の
端部には、この水平転送レジスタ11によって転送され
てきた信号電荷を蓄積するFD(フローティングディフ
ュージョン;浮遊容量)領域12が設けられている。こ
のFD領域12に蓄積された信号電荷は、電荷検出回路
13によって電気信号に変換され、出力端子14から外
部へ出力される。
In FIG. 1, the signal charge transferred by the horizontal transfer register 11 is stored at the transfer destination end of a horizontal transfer register (referred to as an H register in the figure) 11 of the CCD solid-state imaging device. An FD (floating diffusion; floating capacitance) region 12 is provided. The signal charges stored in the FD region 12 are converted into electric signals by the charge detection circuit 13 and output from the output terminal 14 to the outside.

【0015】また、FD領域12の電位を所定電位にリ
セットするためのリセットトランジスタ15が設けられ
ている。このリセットトランジスタ15のソース電極は
FD領域12に、ゲート電極は容量17を介してリセッ
ト端子18にそれぞれ接続されている。リセット端子1
8には、チップ19の外部からリセットゲートパルスφ
RGが印加される。
A reset transistor 15 for resetting the potential of the FD region 12 to a predetermined potential is provided. The reset transistor 15 has a source electrode connected to the FD region 12 and a gate electrode connected to a reset terminal 18 via a capacitor 17. Reset terminal 1
8 has a reset gate pulse φ
RG is applied.

【0016】チップ19上にはさらに、リセットトラン
ジスタ15のゲート電極にバイアス電圧Vrgを与える
リセットゲートバイアス回路20と、リセットトランジ
スタ15のドレイン電極にバイアス電圧Vrdを与える
リセットドレインバイアス回路30が設けられている。
A reset gate bias circuit 20 for applying a bias voltage Vrg to the gate electrode of the reset transistor 15 and a reset drain bias circuit 30 for applying a bias voltage Vrd to the drain electrode of the reset transistor 15 are further provided on the chip 19. I have.

【0017】リセットゲートバイアス回路20は、ドレ
イン電極が電源端子16に接続されかつゲート絶縁膜中
に電荷を蓄積可能なメモリ効果を持つドライブトランジ
スタ(メモリトランジスタ)21と、このドライブトラ
ンジスタ21のゲート電極と電源端子16との間に接続
された抵抗22と、ドライブトランジスタ21のソース
電極とグランドとの間に接続された負荷抵抗23とから
なるソースフォロワ回路構成となっており、ドライブト
ランジスタ21のソース電極がリセットトランジスタ1
5のゲート電極に接続されて当該ゲート電極にバイアス
電圧Vrgを与える。
The reset gate bias circuit 20 includes a drive transistor (memory transistor) 21 having a drain electrode connected to the power supply terminal 16 and having a memory effect capable of accumulating charges in a gate insulating film, and a gate electrode of the drive transistor 21. And a load resistor 23 connected between the source electrode of the drive transistor 21 and the ground, and a source follower circuit configuration including a load resistor 23 connected between the source electrode of the drive transistor 21 and the ground. Electrode is reset transistor 1
5 to apply a bias voltage Vrg to the gate electrode.

【0018】このリセットゲートバイアス回路20のメ
モリ効果を持つドライブトランジスタ21としては、ゲ
ート絶縁膜が例えばシリコン酸化膜(SiO2 )、シリ
コン窒化膜(SiN)およびシリコン酸化膜を順に積層
してなるMONOS(Metal Oxide Nitride Oxide Semic
onductor) 構造のものが用いられる。また、このリセッ
トゲートバイアス回路20は、ダイオード特性を示すロ
ークランプ回路として働き、そのクランプ電位はドライ
ブトランジスタ21の出力電圧である。
In the drive transistor 21 having a memory effect of the reset gate bias circuit 20, the gate insulating film is, for example, a MONOS in which a silicon oxide film (SiO 2 ), a silicon nitride film (SiN) and a silicon oxide film are sequentially laminated. (Metal Oxide Nitride Oxide Semic
onductor) structure. The reset gate bias circuit 20 functions as a low clamp circuit exhibiting diode characteristics, and the clamp potential is the output voltage of the drive transistor 21.

【0019】一方、リセットドレインバイアス回路30
は、2段のソースフォロワ回路構成となっている。そし
て、このリセットドレインバイアス回路30において、
1段目のソースフォロワ回路は、リセットゲートバイア
ス回路20と同じ回路構成、即ちドレイン電極が電源端
子16に接続されかつゲート絶縁膜中に電荷を蓄積可能
なメモリ効果を持つドライブトランジスタ31と、この
ドライブトランジスタ31のゲート電極と電源端子16
との間に接続された抵抗32と、ドライブトランジスタ
31のソース電極とグランドとの間に接続された負荷抵
抗33とから構成されている。
On the other hand, the reset drain bias circuit 30
Has a two-stage source follower circuit configuration. Then, in this reset drain bias circuit 30,
The first-stage source follower circuit has the same circuit configuration as the reset gate bias circuit 20, that is, a drive transistor 31 having a memory effect capable of storing a charge in a gate insulating film with a drain electrode connected to the power supply terminal 16, and Gate electrode of drive transistor 31 and power supply terminal 16
And a load resistor 33 connected between the source electrode of the drive transistor 31 and the ground.

【0020】また、2段目のソースフォロワ回路は、ド
レイン電極が電源端子16に接続されかつゲート電極が
1段目のドライブトランジスタ31のソース電極に接続
されたドライブトランジスタ34と、このドライブトラ
ンジスタ34のソース電極とグランドとの間に接続され
た負荷抵抗35とから構成されている。そして、2段目
のドライブトランジスタ34のソース電極がリセットト
ランジスタ15のドレイン電極に接続され、当該ドレイ
ン電極にバイアス電圧Vrdを与える。
The source follower circuit of the second stage includes a drive transistor 34 having a drain electrode connected to the power supply terminal 16 and a gate electrode connected to the source electrode of the drive transistor 31 of the first stage. And a load resistor 35 connected between the source electrode and the ground. Then, the source electrode of the second-stage drive transistor 34 is connected to the drain electrode of the reset transistor 15, and the bias voltage Vrd is applied to the drain electrode.

【0021】このリセットドレインバイアス回路30の
1段目のソースフォロワ回路のメモリ効果を持つドライ
ブトランジスタ31としても、リセットゲートバイアス
回路20のドライブトランジスタ21と同様に、ゲート
絶縁膜が例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜および
シリコン酸化膜を順に積層してなるMONOS構造のも
のが用いられる。
The drive transistor 31 having the memory effect of the first source follower circuit of the reset drain bias circuit 30 also has a gate insulating film such as a silicon oxide film, like the drive transistor 21 of the reset gate bias circuit 20. A MONOS structure in which a silicon nitride film and a silicon oxide film are sequentially stacked is used.

【0022】ところで、リセットゲートバイアス回路2
0とリセットドレインバイアス回路30とを持つ電荷検
出装置において、リセットドレインバイアス回路30の
ゲインは、リセットゲートバイアス回路20とリセット
トランジスタ15のゲート電極の各ゲインの積になるの
が理想である。したがって、ゲインをかなり低く作る必
要がある。また、リセットゲートバイアス回路20やリ
セットトランジスタ15のゲート電極の各ポテンシャル
ばらつきを考えると、リセットドレインバイアス回路3
0に両者と同様なばらつきを持つ回路を使うことが望ま
れる。
Incidentally, the reset gate bias circuit 2
In the charge detection device having 0 and the reset drain bias circuit 30, the gain of the reset drain bias circuit 30 is ideally the product of the respective gains of the reset gate bias circuit 20 and the gate electrode of the reset transistor 15. Therefore, it is necessary to make the gain very low. Considering the potential variations of the reset gate bias circuit 20 and the gate electrode of the reset transistor 15, the reset drain bias circuit 3
It is desired to use a circuit having the same variation as 0 for both.

【0023】そこで、本実施形態に係る電荷検出回路で
は、リセットドレインバイアス回路30を上述したよう
にソースフォロワの2段構成とする。そして、このリセ
ットドレインバイアス回路30において、1段目のソー
スフォロワ回路をリセットゲートバイアス回路20と同
等の回路構成としてゲインやばらつきのマッチングをと
り、2段目のソースフォロワ回路をリセットトランジス
タ15と同等の構成としてゲインやばらつきのマッチン
グをとっている。
Therefore, in the charge detection circuit according to the present embodiment, the reset drain bias circuit 30 has a two-stage configuration of a source follower as described above. In the reset drain bias circuit 30, the first-stage source follower circuit has the same circuit configuration as that of the reset gate bias circuit 20 to match gain and variation, and the second-stage source follower circuit is equivalent to the reset transistor 15. Is configured to match gains and variations.

【0024】具体的には、リセットゲートバイアス回路
20として、上述したようにMONOS構造のメモリ式
バイアス回路を用いた場合、リセットドレインバイアス
回路30の1段目のソースフォロワ回路にも同構造のバ
イアス回路を使う。ここで、両者の違いは、多少のVt
h(閾値電圧)合わせ込み程度とする。これにより、ゲ
インやばらつきのマッチングが完全にとれる。したがっ
て、両者のバイアス回路20,30のドライブトランジ
スタ21,31をニュートラル構造としてゲインを落と
しても全く問題はない。
More specifically, when a memory-type bias circuit having a MONOS structure is used as the reset gate bias circuit 20 as described above, a bias source having the same structure is also used in the first-stage source follower circuit of the reset drain bias circuit 30. Use a circuit. Here, the difference between the two is that some Vt
h (threshold voltage). Thereby, the matching of the gain and the variation can be completely achieved. Therefore, there is no problem at all even if the drive transistors 21 and 31 of the bias circuits 20 and 30 have a neutral structure to reduce the gain.

【0025】このように、リセットゲートバイアス回路
20のドライブトランジスタ21およびリセットドレイ
ンバイアス回路30の1段目のドライブトランジスタ3
1をニュートラル構造とすることにより、CCD固体撮
像装置において、画素の信号電荷を半導体基板に掃き捨
てる電子シャッター動作を行う際に、リセットゲートバ
イアス回路20が当該基板に印加されるシャッターパル
スの影響、即ちドライブトランジスタ21のバックゲー
ト効果を受けなくなるため、デカップリングのための容
量17の容量値が小さくて済む。その結果、容量17の
チップ19への内蔵化、即ちオンチップ化が可能とな
る。
As described above, the drive transistor 21 of the reset gate bias circuit 20 and the drive transistor 3 of the first stage of the reset drain bias circuit 30
In the CCD solid-state imaging device, when the electronic shutter operation for sweeping out the signal charges of the pixels to the semiconductor substrate is performed in the CCD solid-state imaging device, the reset gate bias circuit 20 is affected by the shutter pulse applied to the substrate. That is, since the back gate effect of the drive transistor 21 is no longer received, the capacitance value of the capacitor 17 for decoupling can be small. As a result, the capacity 17 can be built in the chip 19, that is, on-chip.

【0026】また、リセットドレインバイアス回路30
において、2段目のソースフォロワ回路のドライブトラ
ンジスタ34として、リセットトランジスタ15と同等
構造のトランジスタを使う。ここで、両者の違いは、多
少のVth合わせ込みとトランジスタサイズ(チャネル
幅W/チャネル長L)とする。リセットトランジスタ1
5は、電荷電圧変換部であるFD領域12の寄生容量を
減らすために、一般に小さなサイズで作られる。これに
伴って、リセットドレインバイアス回路30の2段目の
ソースフォロワ回路のドライブトランジスタ34のサイ
ズを小さくしても良い。
The reset drain bias circuit 30
, A transistor having the same structure as the reset transistor 15 is used as the drive transistor 34 of the second-stage source follower circuit. Here, the difference between them is a slight Vth adjustment and a transistor size (channel width W / channel length L). Reset transistor 1
5 is generally formed in a small size in order to reduce the parasitic capacitance of the FD region 12 which is a charge-voltage converter. Accordingly, the size of the drive transistor 34 of the second source follower circuit of the reset drain bias circuit 30 may be reduced.

【0027】ところが、両者共ドレイン対ソース間電圧
差Vdsがほぼ一定な動作であり、ショートチャネル効
果が現れにくく、リセットトランジスタ15の小さいサ
イズに対して、リセットドレインバイアス回路30のド
ライブトランジスタ34を大きなサイズとしてもゲイン
のマッチングを良好にとることができる。もしもゲイン
にズレがある場合は、意図的に、トランジスタのサイ
ズ、プロファイルあるいはゲート酸化膜の膜厚などを調
整しても良い。
However, both are operations in which the drain-source voltage difference Vds is almost constant, the short channel effect is unlikely to appear, and the drive transistor 34 of the reset drain bias circuit 30 is large for the small size of the reset transistor 15. Good gain matching can be achieved even in terms of size. If there is a deviation in the gain, the size and profile of the transistor or the thickness of the gate oxide film may be adjusted intentionally.

【0028】例えば、リセットトランジスタ15のサイ
ズが極端に小さい場合は、ナローチャネル効果でゲイン
が落ちることがある。この場合は、リセットトランジス
タ15を空乏化構造とし、リセットドレインバイアス回
路30の2段目のソースフォロワ回路のドライブトラン
ジスタ34をニュートラル構造としてゲインマッチング
をとる。すると、リセットドレインバイアス回路30は
シャッターパルスの影響を受けず、リセットトランジス
タ15はゲインが向上してFD領域12のダイナミック
レンジをとりやすくなる(もしくは、リセットゲートパ
ルスφRGの振幅を低減できる)。
For example, when the size of the reset transistor 15 is extremely small, the gain may decrease due to the narrow channel effect. In this case, the reset transistor 15 has a depletion structure, and the drive transistor 34 of the source follower circuit of the second stage of the reset drain bias circuit 30 has a neutral structure to achieve gain matching. Then, the reset drain bias circuit 30 is not affected by the shutter pulse, the gain of the reset transistor 15 is improved, and the dynamic range of the FD region 12 is easily set (or the amplitude of the reset gate pulse φRG can be reduced).

【0029】また、リセットトランジスタ15の動作点
のばらつき調整に関しては、リセットゲートバイアス回
路20の調整や、リセットドレインバイアス回路30の
1段目のソースフォロワ回路の調整にてマッチングをと
ることができる。
The adjustment of the variation of the operating point of the reset transistor 15 can be achieved by adjusting the reset gate bias circuit 20 or adjusting the first-stage source follower circuit of the reset drain bias circuit 30.

【0030】すなわち、例えばリセットトランジスタ1
5のゲート電極のポテンシャルが正電位方向にシフトし
た場合には、リセットゲートバイアス回路20を調整し
てゲート電極のバイアス電圧Vrgの値を負電位方向に
下げれば良く、またリセットトランジスタ15のゲート
電極のポテンシャルが負電位方向にシフトした場合に
は、リセットドレインバイアス回路30の1段目のソー
スフォロワ回路を調整してドレイン電極のバイアス電圧
Vrdの値を負電位方向に下げることで、リセットトラ
ンジスタ15の動作点を保証できる。
That is, for example, the reset transistor 1
In the case where the potential of the gate electrode 5 shifts in the positive potential direction, the reset gate bias circuit 20 may be adjusted to lower the value of the bias voltage Vrg of the gate electrode in the negative potential direction. Is shifted in the negative potential direction, the first-stage source follower circuit of the reset drain bias circuit 30 is adjusted to lower the value of the bias voltage Vrd of the drain electrode in the negative potential direction. Operating point can be guaranteed.

【0031】なお、本実施形態では、リセットドレイン
バイアス回路30において1段目のソースフォロワ回路
がリセットゲートバイアス回路20と同等のゲインを有
し、2段目のソースフォロワ回路がリセットトランジス
タ15のゲート電極と同等のゲインを有する構成とした
が、リセットトランジスタ15のバラツキが調整不要な
場合、もしくは正電位方向にしかシフトしない場合は、
リセットドレインバイアス回路30での調整は不要なた
め、1段目のソースフォロワ回路と2段目のソースフォ
ロワ回路を入れ換えても良い。
In this embodiment, in the reset drain bias circuit 30, the first source follower circuit has the same gain as the reset gate bias circuit 20, and the second source follower circuit has the gate of the reset transistor 15 in the reset drain bias circuit 30. Although the configuration has a gain equivalent to that of the electrode, when the variation of the reset transistor 15 does not need to be adjusted or shifts only in the positive potential direction,
Since adjustment by the reset drain bias circuit 30 is not necessary, the first-stage source follower circuit and the second-stage source follower circuit may be exchanged.

【0032】また、リセットゲートバイアス回路20お
よびリセットドレインバイアス回路30の1段目のソー
スフォロワ回路の消費電流は、ロークランプ回路の逆バ
イアス時のアイドリング電流のみで微小なものである。
したがって、同じ消費電流のバイアス回路を例えば抵抗
分割回路で実現しようとすると、高抵抗の抵抗素子を必
要とするため回路の占有面積が極めて大きなものとなる
が、ソースフォロワ回路構成を採ることで、回路の占有
面積を小さくできる。
Further, the current consumption of the first-stage source follower circuit of the reset gate bias circuit 20 and the reset drain bias circuit 30 is very small only by the idling current at the time of reverse bias of the low clamp circuit.
Therefore, if an attempt is made to realize a bias circuit having the same current consumption by, for example, a resistance dividing circuit, the area occupied by the circuit becomes extremely large because a high-resistance resistor element is required. However, by employing a source follower circuit configuration, The area occupied by the circuit can be reduced.

【0033】以上説明した本実施形態に係る電荷検出装
置は、例えば図2に示す如きインターライン転送方式の
CCDエリアセンサにおいて、その水平転送レジスタの
後段に設けられる電荷検出部として用いられる。なお、
CCDエリアセンサの転送方式は、インターライン転送
方式に限られるものではない。
The charge detection device according to the present embodiment described above is used as a charge detection unit provided at the subsequent stage of the horizontal transfer register in, for example, an interline transfer type CCD area sensor as shown in FIG. In addition,
The transfer method of the CCD area sensor is not limited to the interline transfer method.

【0034】図2において、行(垂直)方向および列
(水平)方向にマトリクス状に配列され、入射光をその
光量に応じた電荷量の信号電荷に変換して蓄積する複数
のセンサ部(画素)41と、これらセンサ部41の垂直
列ごとに設けられ、各センサ部41から読み出しゲート
部(図示せず)を介して読み出された信号電荷を垂直方
向に転送する複数本の垂直転送レジスタ42とによって
撮像エリア43が構成されている。
In FIG. 2, a plurality of sensor units (pixels) which are arranged in a matrix in the row (vertical) direction and the column (horizontal) direction, convert incident light into signal charges having a charge amount corresponding to the light amount, and accumulate the signal charges. ) 41 and a plurality of vertical transfer registers provided for each vertical column of the sensor units 41 and for vertically transferring signal charges read from each sensor unit 41 via a read gate unit (not shown). An imaging area 43 is formed by the image processing area 42.

【0035】この撮像エリア43において、センサ部4
1は例えばPN接合のフォトダイオードから構成されて
いる。垂直転送レジスタ42は、例えば4相の垂直転送
パルスφV1〜φV4によって転送駆動され、各センサ
部41から読み出された信号電荷を水平ブランキング期
間の一部にて1走査線(1ライン)に相当する部分ずつ
順に垂直方向に転送する。
In the image pickup area 43, the sensor unit 4
Reference numeral 1 denotes a PN junction photodiode, for example. The vertical transfer register 42 is driven to be transferred by, for example, four-phase vertical transfer pulses φV1 to φV4, and transfers the signal charges read from each sensor unit 41 to one scanning line (one line) in a part of the horizontal blanking period. The corresponding portions are sequentially transferred in the vertical direction.

【0036】撮像エリア43の図面上の下側には、水平
転送レジスタ44が配されている。この水平転送レジス
タ44には、複数本の垂直転送レジスタ42の各々から
1ライン(1走査線)に相当する信号電荷が順次転送さ
れる。水平転送レジスタ44は、例えば2相の水平転送
クロックφH1,φH2によって転送駆動され、複数本
の垂直転送レジスタ42から移された1ライン分の信号
電荷を、水平ブランキング期間後の水平走査期間におい
て順次水平方向に転送する。
A horizontal transfer register 44 is provided below the imaging area 43 in the drawing. Signal charges corresponding to one line (one scanning line) are sequentially transferred from each of the plurality of vertical transfer registers 42 to the horizontal transfer register 44. The horizontal transfer register 44 is driven by, for example, two-phase horizontal transfer clocks φH1 and φH2, and transfers the signal charges for one line transferred from the plurality of vertical transfer registers 42 in a horizontal scanning period after the horizontal blanking period. Transfer sequentially in the horizontal direction.

【0037】水平転送レジスタ44の転送先側の端部に
は、フローティングディフュージョンアンプ構成の電荷
検出部45が設けられている。この電荷検出部45とし
て、先述した実施形態に係る電荷検出装置が用いられ
る。これによれば、当該電荷検出装置が電源電圧VDD
の広範囲な変化に対して、常にリセットトランジスタ1
5の動作点を保証できることから、デバイスの小型化、
低消費電力化の流れで、電源電圧VDDが15Vから1
2Vに変わる過渡期でも、15Vと12Vの両方で正常
に動作可能なCCDエリアセンサを実現できる。
At the end of the horizontal transfer register 44 on the transfer destination side, a charge detection section 45 having a floating diffusion amplifier configuration is provided. As the charge detection unit 45, the charge detection device according to the above-described embodiment is used. According to this, the charge detection device is connected to the power supply voltage VDD
Reset transistor 1 for a wide range of changes
5 operating points can be guaranteed, miniaturizing the device,
With the trend of low power consumption, the power supply voltage VDD is changed from 15V to 1
Even in the transition period when the voltage changes to 2V, a CCD area sensor that can normally operate at both 15V and 12V can be realized.

【0038】なお、本適用例では、CCDエリアセンサ
の電荷検出部に適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、CCDリニアセンサなど信
号電荷を検出して電気信号に変換する電荷検出部を備え
た固体撮像装置全般に適用可能であり、さらに固体撮像
装置の電荷検出部のみならず、CCD遅延素子の電荷検
出部など、電荷転送装置の電荷検出部にも適用可能であ
る。
In the present application example, the case where the present invention is applied to the charge detection section of the CCD area sensor has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, a CCD linear sensor detects a signal charge and converts it into an electric signal. The present invention is applicable to all solid-state imaging devices having a charge detection unit, and is applicable not only to the charge detection unit of the solid-state imaging device but also to a charge detection unit of a charge transfer device such as a charge detection unit of a CCD delay element. .

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
リセットドレインバイアス回路を2段のソースフォロワ
回路構成とするとともに、一方のソースフォロワ回路を
リセットゲートバイアス回路と同等ゲインとし、他方の
ソースフォロワ回路をリセットトランジスタのゲート電
極と同等ゲインとしたことにより、電源変動があっても
常に良好なリセット動作ができるとともに、リセットゲ
ートバイアス回路を空乏化構造としなくてもゲインマッ
チングをとることができる。したがって、リセットゲー
トバイアス回路が基板印加時のシャッターパルスの影響
を受けなくなるため、デカップリング用容量の小容量化
が図れ、これに伴って当該容量のオンチップ化も可能と
なる。
As described above, according to the present invention,
The reset drain bias circuit has a two-stage source follower circuit configuration, and one source follower circuit has the same gain as the reset gate bias circuit, and the other source follower circuit has the same gain as the gate electrode of the reset transistor. A good reset operation can always be performed even if there is a power supply fluctuation, and gain matching can be achieved without using a depletion structure in the reset gate bias circuit. Accordingly, since the reset gate bias circuit is not affected by the shutter pulse when applying the substrate, the capacity of the decoupling capacitor can be reduced, and accordingly, the capacity can be made on-chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る電荷検出装置の構成
を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a charge detection device according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明に係るCCDエリアセンサを示す概略構
成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a CCD area sensor according to the present invention.

【図3】従来例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…水平転送レジスタ、12…FD(フローティング
ディフュージョン)領域、13…電荷検出回路、15…
リセットトランジスタ、20…リセットゲートバイアス
回路、21,31…メモリ効果を持つドライブトランジ
スタ、23,33,35…負荷抵抗、30…リセットド
レインバイアス回路
11 horizontal transfer register, 12 FD (floating diffusion) region, 13 charge detection circuit, 15
Reset transistor, 20 reset gate bias circuit, 21, 31 drive transistor having a memory effect, 23, 33, 35 load resistance, 30 reset drain bias circuit

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 信号電荷を蓄積する浮遊容量と、前記浮
遊容量に蓄えられた信号電荷を検出する検出回路と、前
記浮遊容量の電位を所定電位にリセットするリセットト
ランジスタと、前記リセットトランジスタのゲート電極
にバイアス電圧を与えるリセットゲートバイアス回路
と、前記リセットトランジスタのドレイン電極にバイア
ス電圧を与えるリセットドレインバイアス回路とを具備
する電荷検出装置であって、 前記リセットドレインバイアス回路は、2段のソースフ
ォロワ回路からなり、そのうちの一方のソースフォロワ
回路が前記リセットゲートバイアス回路と同等のゲイン
を有し、他方のソースフォロワ回路が前記リセットトラ
ンジスタのゲート電極と同等のゲインを有することを特
徴とする電荷検出装置。
A floating capacitor for storing the signal charge; a detection circuit for detecting the signal charge stored in the floating capacitance; a reset transistor for resetting the potential of the floating capacitance to a predetermined potential; and a gate of the reset transistor. A charge detection device comprising: a reset gate bias circuit that applies a bias voltage to an electrode; and a reset drain bias circuit that applies a bias voltage to a drain electrode of the reset transistor, wherein the reset drain bias circuit has a two-stage source follower. Charge detection, wherein one of the source follower circuits has a gain equivalent to the reset gate bias circuit and the other source follower circuit has a gain equivalent to the gate electrode of the reset transistor. apparatus.
【請求項2】 前記2段のソースフォロワ回路のうち、
1段目のソースフォロワ回路が前記リセットゲートバイ
アス回路と同等のゲインを有し、2段目のソースフォロ
ワ回路が前記リセットトランジスタのゲート電極と同等
のゲインを有することを特徴とする請求項1記載の電荷
検出装置。
2. The two-stage source follower circuit,
2. The first-stage source follower circuit has a gain equivalent to that of the reset gate bias circuit, and the second-stage source follower circuit has a gain equivalent to the gate electrode of the reset transistor. Charge detection device.
【請求項3】 前記リセットゲートバイアス回路はソー
スフォロワ回路構成であり、 前記リセットゲートバイアス回路および前記リセットド
レインバイアス回路の各ソースフォロワトランジスタは
ニュートラル構造となっていることを特徴とする請求項
1記載の電荷検出装置。
3. The reset gate bias circuit has a source follower circuit configuration, and each source follower transistor of the reset gate bias circuit and the reset drain bias circuit has a neutral structure. Charge detection device.
【請求項4】 前記リセットトランジスタは空乏化構造
となっていることを特徴とする請求項3記載の電荷検出
装置。
4. The charge detection device according to claim 3, wherein said reset transistor has a depletion structure.
【請求項5】 前記リセットドレインバイアス回路は、
少なくとも1段目のソースフォロワ回路にメモリ効果を
持ったトランジスタを使用したことを特徴とする請求項
1記載の電荷検出装置。
5. The reset drain bias circuit according to claim 1,
2. The charge detection device according to claim 1, wherein a transistor having a memory effect is used in at least a first-stage source follower circuit.
【請求項6】 信号電荷を転送する電荷転送部と、前記
電荷転送部によって転送された信号電荷を蓄積する浮遊
容量と、前記浮遊容量の電位を所定電位にリセットする
リセットトランジスタと、前記リセットトランジスタの
ゲート電極にバイアス電圧を与えるリセットゲートバイ
アス回路と、前記リセットトランジスタのドレイン電極
にバイアス電圧を与えるリセットドレインバイアス回路
とを具備する電荷転送装置であって、 前記リセットドレインバイアス回路は、2段のソースフ
ォロワ回路からなり、1段目のソースフォロワ回路が前
記リセットゲートバイアス回路と同等のゲインを有し、
2段目のソースフォロワ回路が前記リセットトランジス
タのゲート電極と同等のゲインを有することを特徴とす
る電荷転送装置。
6. A charge transfer unit for transferring a signal charge, a floating capacitor for storing the signal charge transferred by the charge transfer unit, a reset transistor for resetting a potential of the floating capacitor to a predetermined potential, and the reset transistor. A reset gate bias circuit for applying a bias voltage to a gate electrode of the charge transfer device, and a reset drain bias circuit for applying a bias voltage to a drain electrode of the reset transistor, wherein the reset drain bias circuit has two stages. A source follower circuit having a gain equivalent to that of the reset gate bias circuit,
A charge transfer device, wherein a second-stage source follower circuit has a gain equal to a gate electrode of the reset transistor.
【請求項7】 複数の画素と、前記画素で得られた信号
電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部によって
転送された信号電荷を蓄積する浮遊容量と、前記浮遊容
量の電位を所定電位にリセットするリセットトランジス
タと、前記リセットトランジスタのゲート電極にバイア
ス電圧を与えるリセットゲートバイアス回路と、前記リ
セットトランジスタのドレイン電極にバイアス電圧を与
えるリセットドレインバイアス回路とを具備する固体撮
像装置であって、 前記リセットドレインバイアス回路は、2段のソースフ
ォロワ回路からなり、1段目のソースフォロワ回路が前
記リセットゲートバイアス回路と同等のゲインを有し、
2段目のソースフォロワ回路が前記リセットトランジス
タのゲート電極と同等のゲインを有することを特徴とす
る固体撮像装置。
7. A plurality of pixels, a charge transfer unit for transferring signal charges obtained in the pixels, a stray capacitance for accumulating the signal charges transferred by the charge transfer unit, and a potential of the stray capacitance being predetermined. A solid-state imaging device comprising: a reset transistor that resets to a potential; a reset gate bias circuit that applies a bias voltage to a gate electrode of the reset transistor; and a reset drain bias circuit that applies a bias voltage to a drain electrode of the reset transistor. The reset drain bias circuit includes a two-stage source follower circuit, and the first-stage source follower circuit has a gain equivalent to that of the reset gate bias circuit;
A solid-state imaging device, wherein the second-stage source follower circuit has a gain equivalent to that of the gate electrode of the reset transistor.
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