JP2000124383A - Resin-sealed semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Resin-sealed semiconductor device and its manufacture

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a terminal land frame which is converted from a conception giving attention to a lead frame in conventional cases and which aims principally at a point to form a 'land' to be used as an external electrode in a frame shape instead of a beam-shaped 'lead' to provide a resin-sealed semiconductor device using the terminal land frame and to provide its manufacturing method. SOLUTION: A terminal land frame is composed of a frame body which is composed of a metal plate. In addition, it is composed of a plurality of land constituent bodies which are arranged and installed inside the region of the frame body, which are connected to the frame body by thin-wall parts and which are formed so as to protrude from the frame body. This resin-sealed semiconductor device is composed of a semiconductor element 23 whose electrode pads are connected to the land constituent bodies 21 via a conductive adhesive 22. In addition, it is composed of a sealing resin 24 which seals the outer circumference of the semiconductor element 23 in such a way that the bottom face of the land constituent bodies 21 protrudes. Thereby, it is possible to realize the resin-sealed semiconductor device which does not use a lead body, which comprises land electrodes arranged at high density on the bottom face by a frame using a land body, which is equal to a chip size by a flip-chip mounting operation and which is made small and thin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、従来のビーム状の
リードを備えたリードフレームに代えて、外部端子とな
るランド体を備えたフレームであるターミナルランドフ
レームに関するものであり、特にそれを用いて半導体素
子を搭載し、外囲を樹脂で封止した樹脂封止型半導体装
置およびその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a terminal land frame, which is a frame having a land body serving as an external terminal, in place of a conventional lead frame having beam-shaped leads. The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor element is mounted on a semiconductor device and the outer periphery is sealed with a resin, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、樹脂封止型半導体装置などの半導体部品の高密度実
装が要求され、それにともなって、半導体部品の小型、
薄型化が進んでいる。また小型で薄型でありながら、多
ピン化が進み、高密度の小型、薄型の樹脂封止型半導体
装置が要望されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to cope with miniaturization of electronic equipment, high-density mounting of semiconductor components such as resin-encapsulated semiconductor devices has been required.
Thinning is progressing. In addition, the number of pins has been increased while being small and thin, and a high-density small and thin resin-sealed semiconductor device has been demanded.

【0003】以下、従来の樹脂封止型半導体装置に使用
するリードフレームについて説明する。
Hereinafter, a lead frame used in a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described.

【0004】図12は、従来のリードフレームの構成を
示す平面図である。図12に示すように、従来のリード
フレームは、フレーム枠1と、そのフレーム枠1内に、
半導体素子が載置される矩形状のダイパッド部2と、ダ
イパッド部2を支持する吊りリード部3と、半導体素子
を載置した場合、その載置した半導体素子と金属細線等
の接続手段により電気的接続するビーム状のインナーリ
ード部4と、そのインナーリード部4と連続して設けら
れ、外部端子との接続のためのアウターリード部5と、
アウターリード部5どうしを連結固定し、樹脂封止の際
の樹脂止めとなるタイバー部6とより構成されていた。
FIG. 12 is a plan view showing the structure of a conventional lead frame. As shown in FIG. 12, a conventional lead frame includes a frame 1 and a frame 1 inside the frame.
A rectangular die pad portion 2 on which a semiconductor element is mounted, a suspension lead portion 3 supporting the die pad portion 2, and when a semiconductor element is mounted, the semiconductor element is electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire. A beam-shaped inner lead portion 4 to be electrically connected, an outer lead portion 5 provided continuously with the inner lead portion 4, and connected to an external terminal;
The outer lead portions 5 were connected and fixed to each other, and were constituted by a tie bar portion 6 serving as a resin stopper at the time of resin sealing.

【0005】なお、リードフレームは、図12に示した
構成よりなるパターンが1つではなく、複数個、左右、
上下に連続して配列されたものである。
[0005] The lead frame is not formed of one pattern having the structure shown in FIG.
They are arranged vertically continuously.

【0006】次に従来の樹脂封止型半導体装置について
説明する。図13は、図12に示したリードフレームを
用いた樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。
Next, a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame shown in FIG.

【0007】図13に示すように、リードフレームのダ
イパッド部2上に半導体素子7が搭載され、その半導体
素子7とインナーリード部4とが金属細線8により電気
的に接続されている。そしてダイパッド部2上の半導体
素子7、インナーリード部4の外囲は封止樹脂9により
封止されている。封止樹脂9の側面からはアウターリー
ド部5が突出して設けられ、先端部はベンディングされ
ている。
As shown in FIG. 13, a semiconductor element 7 is mounted on a die pad section 2 of a lead frame, and the semiconductor element 7 and the inner lead section 4 are electrically connected by a thin metal wire 8. The outer periphery of the semiconductor element 7 and the inner lead portion 4 on the die pad portion 2 is sealed with a sealing resin 9. An outer lead portion 5 is provided so as to protrude from a side surface of the sealing resin 9, and a front end portion is bent.

【0008】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、図14に示すように、リードフレームのダイパッド
部2上に半導体素子7を接着剤により接合した後(ダイ
ボンド工程)、半導体素子7とインナーリード部4の先
端部とを金属細線8により接続する(ワイヤーボンド工
程)。その後、半導体素子7の外囲を封止するが、封止
領域はリードフレームのタイバー部6で包囲された領域
内を封止樹脂9により封止し、アウターリード部5を外
部に突出させて封止する(樹脂封止工程)。そしてタイ
バー部6で封止樹脂9の境界部をカッティングし、各ア
ウターリード部5を分離し、フレーム枠1を除去すると
ともに、アウターリード部5の先端部をベンディングす
ることにより(タイバーカット・ベンド工程)、図13
に示した構造の樹脂封止型半導体装置を製造することが
できる。ここで図14において、破線で示した領域が封
止樹脂9で封止する領域である。
In a conventional method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, as shown in FIG. 14, a semiconductor element 7 is bonded onto a die pad portion 2 of a lead frame by an adhesive (die bonding step), The distal end portion of the inner lead portion 4 is connected with the thin metal wire 8 (wire bonding step). After that, the outer periphery of the semiconductor element 7 is sealed, and the sealing region is sealed with the sealing resin 9 in the region surrounded by the tie bar portion 6 of the lead frame, and the outer lead portion 5 is projected outside. Sealing (resin sealing step). Then, the boundary portion of the sealing resin 9 is cut with the tie bar portion 6, each outer lead portion 5 is separated, the frame 1 is removed, and the tip of the outer lead portion 5 is bent (tie bar cut / bend). Step), FIG.
Can be manufactured. Here, in FIG. 14, a region indicated by a broken line is a region to be sealed with the sealing resin 9.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のリ
ードフレームでは、半導体素子が高集積化し、多ピンと
なった場合、インナーリード部(アウターリード部)の
幅の形成には限界があり、多ピンに対応しようとする場
合は、インナーリード部(アウターリード部)の数が多
くなるため、リードフレーム自体が大きくなり、結果と
して樹脂封止型半導体装置も大きくなり、要望される小
型、薄型の樹脂封止型半導体装置は実現できないという
課題があった。また、半導体素子の多ピン対応としてリ
ードフレームのサイズを変更せず、インナーリード部を
増加させる場合は、1本当たりのインナーリード部の幅
を細くしなければならず、リードフレーム形成のエッチ
ング等の加工で課題が多くなってしまう。
However, in the conventional lead frame, when the semiconductor element is highly integrated and the number of pins is increased, there is a limit in forming the width of the inner lead portion (outer lead portion). In order to cope with the problem, the number of inner lead portions (outer lead portions) increases, so that the lead frame itself becomes large, and as a result, the size of the resin-encapsulated semiconductor device also increases. There is a problem that a fixed semiconductor device cannot be realized. In addition, when increasing the number of inner leads without changing the size of the lead frame in order to support multiple pins of the semiconductor element, the width of each inner lead must be reduced, and etching of the lead frame may be performed. There are many problems in processing.

【0010】また最近は面実装タイプの半導体装置とし
て、底面に外部電極を設けたキャリア(配線基板)上に
半導体素子を搭載し、電気的接続を行った後、そのキャ
リアの上面を樹脂封止した半導体装置であるボール・グ
リッド・アレイ(BGA)タイプやランド・グリッド・
アレイ(LGA)タイプの半導体装置がある。このタイ
プの半導体装置はその底面側でマザー基板と実装する半
導体装置であり、今後、このような面実装タイプの半導
体装置が主流になりつつある。したがって、このような
動向に対応するには、従来のリードフレーム、そのリー
ドフレームを用いた樹脂封止型半導体装置では、対応で
きないという大きな課題が顕在化してきている。
Recently, as a surface mount type semiconductor device, a semiconductor element is mounted on a carrier (wiring board) having an external electrode provided on a bottom surface, and after electrical connection is made, the upper surface of the carrier is sealed with a resin. Semiconductor devices such as ball grid array (BGA) type and land grid
There is an array (LGA) type semiconductor device. This type of semiconductor device is a semiconductor device mounted on a motherboard on the bottom side, and such a surface mount type semiconductor device is becoming mainstream in the future. Therefore, in order to cope with such a trend, a big problem that a conventional lead frame and a resin-sealed semiconductor device using the lead frame cannot be dealt with has become apparent.

【0011】従来の樹脂封止型半導体装置では、封止樹
脂の側面にアウターリード部よりなる外部リードが設け
られており、その外部リードと基板電極とを接合して実
装するものであるため、BGAタイプ,LGAタイプの
半導体装置に比べて、基板実装の信頼性は低いものとな
ってしまう。また、BGAタイプ,LGAタイプの半導
体装置は、配線基板を用いているため、コスト的に高価
となるという課題がある。
In a conventional resin-encapsulated semiconductor device, an external lead formed of an outer lead portion is provided on a side surface of a sealing resin, and the external lead and a substrate electrode are bonded and mounted. The reliability of board mounting is lower than that of BGA type and LGA type semiconductor devices. In addition, since BGA type and LGA type semiconductor devices use a wiring board, there is a problem that the cost is high.

【0012】本発明は前記した従来の課題および今後の
半導体装置の動向に対応できるフレームタイプのパッケ
ージ材を用いた樹脂封止型半導体装置を提供するもので
あり、底面側で基板実装できる半導体装置をフレーム体
を用いて構成することを目的とするものである。そして
従来のリードフレームに着目した発想から転換し、ビー
ム状の「リード」に代え、外部電極となる「ランド」を
フレーム状で形成する点に主眼をおいたターミナルラン
ドフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置および
その製造方法を提供するものである。さらに本発明は、
従来のようにリードカット工程やリードベンド工程をな
くし、容易に樹脂封止型半導体装置を得ることができ、
樹脂封止型半導体装置を低コストで製造できるものであ
る。
The present invention provides a resin-encapsulated semiconductor device using a frame-type package material which can cope with the above-mentioned conventional problems and future trends in semiconductor devices. Using a frame body. The terminal land frame, which focuses on forming a frame-shaped external land as a land instead of a beam-shaped lead, and a resin that uses the terminal land frame. An object of the present invention is to provide a sealed semiconductor device and a method for manufacturing the same. Furthermore, the present invention
Eliminating the lead cutting step and the lead bending step as in the past, a resin-encapsulated semiconductor device can be easily obtained,
A resin-encapsulated semiconductor device can be manufactured at low cost.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の樹脂封止型半導体装置は、金属板よ
りなるフレーム本体と、前記フレーム本体の領域内に格
子状に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体と接
続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成された
複数のランド構成体とよりなるターミナルランドフレー
ムを用いて形成された樹脂封止型半導体装置であって、
前記ランド構成体上にその電極パッドが導電性接着剤を
介して各々接続された半導体素子と、前記ランド構成体
の底面を突出させて前記半導体素子の外囲を封止した封
止樹脂とよりなり、前記各ランド構成体群の封止樹脂か
らの突出量は、前記フレーム本体の厚み量から前記ラン
ド構成体群が前記フレーム本体から突出した量を差し引
いた量である樹脂封止型半導体装置である。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention is provided with a frame main body made of a metal plate and a grid arranged in a region of the frame main body. A resin-sealed semiconductor device formed by using a terminal land frame comprising a plurality of land components formed to be connected to the frame main body by a thin portion and protruding from the frame main body. ,
A semiconductor element whose electrode pads are respectively connected to the land structure via a conductive adhesive, and a sealing resin that protrudes a bottom surface of the land structure and seals an outer periphery of the semiconductor element. The amount of protrusion of each land constituent group from the sealing resin is an amount obtained by subtracting the amount by which the land constituent group protrudes from the frame main body from the thickness amount of the frame main body. It is.

【0014】また本発明は、封止樹脂に封止された側の
ランド構成体の上面の面積が、前記封止樹脂から露出し
た側のランド構成体の底面の面積よりも大きく、封止さ
れた側のランド構成体の上面のエッジ部は曲面を有して
いる樹脂封止型半導体装置である。
According to the present invention, the area of the top surface of the land structure on the side sealed with the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the land structure on the side exposed from the sealing resin. The edge portion on the upper surface of the land structure on the other side is a resin-sealed semiconductor device having a curved surface.

【0015】また本発明は、半導体素子はその電極パッ
ド上に突起電極を有し、前記突起電極が導電性接着剤を
介して、ランド構成体に各々接続された樹脂封止型半導
体装置である。
Further, the present invention is a resin-sealed semiconductor device in which the semiconductor element has a protruding electrode on its electrode pad, and the protruding electrode is connected to the land structure via a conductive adhesive. .

【0016】また本発明は、封止樹脂に封止された側の
ランド構成体の形状は、上面が平坦なキノコ状の形状を
有して、封止樹脂とアンカー効果を得ている樹脂封止型
半導体装置である。
According to the present invention, the land structure on the side sealed with the sealing resin has a mushroom shape with a flat upper surface, and the resin sealing with the sealing resin has an anchor effect. It is a stop type semiconductor device.

【0017】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体
の領域内に格子状に配設されて、薄厚部により前記フレ
ーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出し
て形成された複数のランド構成体群とよりなり、前記ラ
ンド構成体群は前記フレーム本体から突出した方向への
押圧力により、前記薄厚部が破断されて前記ランド構成
体群が前記フレーム本体より分離される構成であるター
ミナルランドフレームを用意する工程と、前記ターミナ
ルランドフレームの前記ランド構成体の突出した側に半
導体素子を導電性接着剤を介してフリップチップ接続す
る工程と、前記半導体素子の外囲であって、前記ターミ
ナルランドフレームの上面側のみを封止樹脂により封止
し、樹脂封止型半導体装置を形成する工程と、前記ター
ミナルランドフレームの前記フレーム本体を固定した状
態で前記フレーム本体の底面側から前記ランド構成体の
底面側に対して押圧力を印加し、ランド構成体と前記フ
レーム本体とを接続している薄厚部を破断させ、前記フ
レーム本体から樹脂封止型半導体装置を分離する工程よ
りなるものである。
According to the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, a frame main body made of a metal plate is disposed in a lattice shape in a region of the frame main body, and connected to the frame main body by a thin portion. And a plurality of land constituent groups formed so as to protrude from the frame main body, and the land constituent group is broken by a pressing force in a direction protruding from the frame main body, whereby the thin portion is broken and the land structure is formed. Preparing a terminal land frame having a structure in which a body group is separated from the frame main body; and flip-chip connecting a semiconductor element to the projecting side of the land structure of the terminal land frame via a conductive adhesive. And sealing only the upper surface side of the terminal land frame around the semiconductor element with a sealing resin. Forming a body device, applying a pressing force from the bottom surface side of the frame body to the bottom surface side of the land structure in a state where the frame body of the terminal land frame is fixed, and forming the land structure and the frame. The method comprises a step of breaking a thin portion connecting the main body and separating the resin-encapsulated semiconductor device from the frame main body.

【0018】前記構成の通り、本発明の樹脂封止型半導
体装置は、ランド構成体がその底面に配列され、またラ
ンド構成体が封止樹脂の底面よりも突出して設けられ、
基板実装時のスタンドオフが形成されているものであ
る。ここで樹脂封止型半導体装置のランド構成体の突出
量は、フレーム本体の厚み量からランド構成体が突出し
た量を差し引いた量となり、ランド構成体の外部ランド
電極としてのスタンドオフが、ターミナルランドフレー
ムを用いることにより、自己整合的に形成されるもので
ある。またランド構成体はその形状が上面が平坦なキノ
コ状であり、封止樹脂との食いつきが良好となり、樹脂
との密着性が増大し、信頼性が向上するものである。
As described above, in the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, the land components are arranged on the bottom surface, and the land components are provided so as to protrude from the bottom surface of the sealing resin.
In this case, a standoff at the time of mounting the substrate is formed. Here, the amount of protrusion of the land structure of the resin-encapsulated semiconductor device is the amount obtained by subtracting the amount by which the land structure protrudes from the thickness of the frame main body. It is formed in a self-aligned manner by using a land frame. The land structure has a mushroom shape with a flat upper surface, has good bite with the sealing resin, has increased adhesion to the resin, and has improved reliability.

【0019】また本発明のターミナルランドフレームを
用いることにより、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法においては、半導体素子を搭載し、樹脂封止した
後、ランド構成体部分の下方からの突き上げによりフレ
ーム自体を除去するだけで、樹脂封止型半導体装置の底
面部分に半導体素子と電気的に接続したランド電極を配
列することができる。また、ランド構成体には樹脂封止
の際の樹脂バリが発生することはなく、樹脂バリの除去
工程も不要となり、後工程が不要となるものである。
Further, by using the terminal land frame of the present invention, in the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, the semiconductor element is mounted and sealed with resin, and then the land structure portion is viewed from below. By simply removing the frame itself by pushing up, land electrodes electrically connected to the semiconductor elements can be arranged on the bottom surface of the resin-encapsulated semiconductor device. In addition, no resin burr is generated on the land structure during resin sealing, and a step of removing the resin burr is not required, so that a post-process is not required.

【0020】また本発明では半導体素子をターミナルラ
ンドフレームにフリップチップ実装し、各ランド構成体
と半導体素子の電極パッドとを各々接続した構造によ
り、チップサイズと同等の製品を得ることができ、小
型、薄型の樹脂封止型半導体装置を実現するものであ
る。
According to the present invention, a semiconductor device is flip-chip mounted on a terminal land frame, and each land structure is connected to an electrode pad of the semiconductor device. Thus, a thin resin-sealed semiconductor device is realized.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の樹脂封止型半導体
装置およびその製造方法の一実施形態について図面を参
照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a resin-sealed semiconductor device and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】まず本発明の樹脂封止型半導体装置に用い
るターミナルランドフレームについて説明する。
First, a terminal land frame used in the resin-sealed semiconductor device of the present invention will be described.

【0023】図1は本実施形態のターミナルランドフレ
ームを示す平面図である。図2は本実施形態のターミナ
ルランドフレームを示す断面図であり、図1において、
A−A1箇所の断面を示している。図3は図2における
ランド構成体部分を拡大して示す断面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a terminal land frame of the present embodiment. FIG. 2 is a sectional view showing the terminal land frame of the present embodiment.
The section of AA1 part is shown. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a land structure in FIG.

【0024】図示するように本実施形態のターミナルラ
ンドフレームは、銅材または、42−アロイ等の通常の
リードフレームに用いられている金属板よりなるフレー
ム本体10と、そのフレーム本体10の領域内に半導体
素子のボンディングパッド配列に対応した格子状に配設
されて、薄厚部11によりフレーム本体10と接続し、
かつフレーム本体10よりも突出して形成された複数の
ランド構成体12とよりなるものである。すなわち、フ
レーム本体10、ランド構成体12および薄厚部11は
同一の金属板より一体で形成されているものである。そ
してランド構成体12はフレーム本体10から突出した
方向への押圧力により、薄厚部11が破断されてランド
構成体12がフレーム本体10より分離される構成を有
するものである。なお、ランド構成体12の配置につい
ては、碁盤の目状の格子状配置、千鳥格子状配置、ラン
ダムな面配置が考えられるが、搭載する半導体素子の電
極パッドの配列に対応して配列を採用する。またランド
構成体12の形状としては、上面が平坦なキノコ状を構
成しているものであり、この構成により、このターミナ
ルランドフレームに対して、半導体素子を搭載し、樹脂
封止した際、封止樹脂とランド構成体との食いつきを良
好にし、アンカー効果が増大するので、信頼性を向上さ
せることができる。
As shown in the figure, the terminal land frame of this embodiment has a frame main body 10 made of a copper plate or a metal plate used for a normal lead frame such as a 42-alloy, and an area within the frame main body 10. Are arranged in a lattice pattern corresponding to the bonding pad arrangement of the semiconductor elements, and are connected to the frame body 10 by the thin portion 11;
In addition, it comprises a plurality of land structures 12 formed to protrude from the frame body 10. That is, the frame body 10, the land structure 12, and the thin portion 11 are integrally formed from the same metal plate. The land structure 12 has a configuration in which the thin portion 11 is broken by a pressing force in a direction protruding from the frame body 10 and the land structure 12 is separated from the frame body 10. The layout of the land structures 12 may be a grid-like grid pattern, a staggered grid pattern, or a random plane pattern. However, the layout may correspond to the layout of the electrode pads of the semiconductor elements to be mounted. adopt. The land structure 12 has a mushroom shape with a flat top surface. With this structure, when a semiconductor element is mounted on this terminal land frame and sealed with a resin, the land land frame 12 is sealed. Since the bite between the sealing resin and the land structure is improved and the anchor effect is increased, the reliability can be improved.

【0025】図3に示すように、ランド構成体12の底
面部分12aに対して、突出した方向への押圧力を印加
することにより、薄厚部11の破線部分で破断されるこ
とになり、フレーム本体10からランド構成体12が分
離するものである。ここで、薄厚部11はフレーム本体
10自体に対して、打ち抜き加工の半切断手段により形
成される「繋ぎ部分」であり、フレーム本体10のラン
ド構成体を形成したい部分をパンチ部材を用いて打ち抜
き加工し、完全に打ち抜かずに、途中、好ましくは半分
程度の打ち抜きで止め、途中まで打ち抜かれた部分がフ
レーム本体10から突出し、その突出した部分がランド
構成体12を構成するとともに、フレーム本体10と切
断されずに接続している繋ぎ部分が薄厚部11を構成す
るものである。したがって、薄厚部11は極薄であり、
ランド構成体12の底面部分12aに対して、突出した
方向への押圧力を印加する程度で、薄厚部11が破断す
る厚みを有するものである。
As shown in FIG. 3, by applying a pressing force in a protruding direction to the bottom surface portion 12a of the land structure 12, the thin portion 11 is broken at a broken line portion, and The land structure 12 is separated from the main body 10. Here, the thin portion 11 is a "joining portion" formed by a half-cutting means of a punching process with respect to the frame body 10 itself, and a portion of the frame body 10 where a land structure is to be formed is punched using a punch member. It is processed, not completely punched out, but is stopped halfway, preferably by about half the punching, the part punched out halfway projects from the frame body 10, and the projecting part constitutes the land structure 12 and the frame body 10 The connecting portion that is connected without being cut off constitutes the thin portion 11. Therefore, the thin portion 11 is extremely thin,
The thin portion 11 has a thickness such that the thin portion 11 is broken just by applying a pressing force in a protruding direction to the bottom surface portion 12a of the land structure 12.

【0026】また、フレーム本体10よりも突出して形
成されたランド構成体12は、その突出量はフレーム本
体10自体の厚みの過半数以上の突出量を有しており、
ランド構成体12がフレーム本体10から突出した方向
への押圧力により、薄厚部11が破断されてランド構成
体12がフレーム本体10より分離される構成を実現で
きるよう構成されている。例えば本実施形態では、ター
ミナルランドフレーム自体の厚み、すなわちフレーム本
体10の厚みを200[μm]とし、ランド構成体12
の突出量を140[μm]〜180[μm](フレーム
本体の厚みの70[%]〜90[%])としている。な
お、フレーム本体10の厚みは、200[μm]に限定
するものではなく、必要に応じて、板厚の厚い400
[μm]のフレームでもよく、適宜、設定できるもので
ある。またランド構成体12の突出量についても、過半
数以上の突出でなくとも、半数以下の突出量でもよく、
押圧によって薄厚部11が破断されるように構成すれば
よい。
Further, the land structure 12 formed so as to protrude from the frame main body 10 has a protruding amount that is more than a majority of the thickness of the frame main body 10 itself.
The configuration is such that the thin portion 11 is broken by the pressing force in the direction in which the land component 12 protrudes from the frame main body 10, and the land component 12 is separated from the frame main body 10. For example, in the present embodiment, the thickness of the terminal land frame itself, that is, the thickness of the frame body 10 is set to 200 [μm], and the land structure 12
Is set to 140 [μm] to 180 [μm] (70 [%] to 90 [%] of the thickness of the frame body). The thickness of the frame body 10 is not limited to 200 [μm].
[Μm] frame, which can be set as appropriate. Also, the projecting amount of the land structure 12 is not limited to the projecting amount of the majority, but may be the projecting amount of the half or less.
What is necessary is just to comprise so that the thin part 11 may be broken by press.

【0027】また本実施形態のターミナルランドフレー
ムは、その表面がメッキ処理されたものであり、必要に
応じて例えば、ニッケル(Ni),パラジウム(Pd)
および金(Au)などの金属が積層されて適宜メッキさ
れているものである。メッキ処理については、ランド構
成体12を成形した後に行ってもよく、または金属板へ
のランド構成体の成形前に行ってもよい。またターミナ
ルランドフレームの表面粗さについては、極めて平坦で
あって、0.1[μm]以下であり、封止樹脂との剥離
性に影響するものであり、ランド構成体12以外の部分
には無用な凹凸がないようにする必要がある。このメッ
キ処理については、ランド構成体12を成形後に行って
もよく、またはランド構成体12を成形する前にフレー
ムに対して予め行ってもよい。
The surface of the terminal land frame of the present embodiment is plated, and if necessary, for example, nickel (Ni), palladium (Pd)
And a metal such as gold (Au) is laminated and appropriately plated. The plating process may be performed after the land structure 12 is formed, or may be performed before the land structure is formed on the metal plate. Also, the surface roughness of the terminal land frame is extremely flat and is 0.1 [μm] or less, which affects the releasability from the sealing resin. It is necessary to avoid unnecessary unevenness. The plating may be performed after the land structure 12 is formed, or may be performed on the frame before the land structure 12 is formed.

【0028】なお、ランド構成体12の数は、搭載する
半導体素子のピン数(電極パッド数)などにより、その
数を適宜設定できるものである。そして図1に示すよう
に、ランド構成体12はフレーム本体10の領域に形成
するが、左右・上下に連続して形成できるものである。
またランド構成体12の形状は円形としているが、角形
や長方形でもよく、また大きさは、ターミナルランドフ
レーム内ですべて同一としてもよいし、樹脂封止型半導
体装置を構成し、ランド電極とした場合、基板実装の際
の応力緩和のために、周辺部に位置するランド構成体1
2を大きくするようにしてもよい。本実施形態では、ラ
ンド構成体12の上面の大きさは、半導体素子との電気
的接続構造として、電極パッドの大きさに合わせて10
0[μm]φ程度の大きさとしている。
The number of land structures 12 can be appropriately set according to the number of pins (number of electrode pads) of the semiconductor element to be mounted. Then, as shown in FIG. 1, the land structure 12 is formed in the region of the frame main body 10, but can be formed continuously in the left, right, up and down directions.
In addition, although the shape of the land structure 12 is circular, it may be square or rectangular, and the size may be all the same in the terminal land frame, or may constitute a resin-encapsulated semiconductor device and serve as a land electrode. In this case, in order to relieve stress at the time of mounting the substrate, the land structure 1
2 may be increased. In the present embodiment, the size of the top surface of the land structure 12 is set to 10 according to the size of the electrode pad as an electrical connection structure with the semiconductor element.
The size is about 0 [μm] φ.

【0029】また、本実施形態で示したターミナルラン
ドフレームは、従来のようなインナーリード部、アウタ
ーリード部、ダイパッド部などを有さず、ランド電極と
してランド構成体12を有し、そのランド構成体12を
半導体素子が搭載される面内に格子状、千鳥状に配列す
ることにより、このターミナルランドフレームを用いて
樹脂封止型半導体装置を構成した場合、底面にランド電
極を備えた樹脂封止型半導体装置を実現することができ
る。また従来のように電極となる構成が、ビーム状のリ
ード構成ではなく、ランド構成体12であるため、それ
らを面状に配置することができ、ランド構成体12の配
置の自由度が向上し、多ピン化に対応することができ
る。勿論、半導体素子のピン数によっては、ランド構成
体12をエリア配置させずに一連で配置してもよい。
Further, the terminal land frame shown in the present embodiment does not have the inner lead portion, the outer lead portion, the die pad portion and the like as in the prior art, has the land structure 12 as the land electrode, and has the land structure. By arranging the bodies 12 in a lattice or staggered pattern on the surface on which the semiconductor elements are mounted, a resin-encapsulated semiconductor device is formed using this terminal land frame. It is possible to realize a fixed semiconductor device. Further, since the configuration serving as the electrode is not the beam-shaped lead configuration but the land configuration 12 as in the related art, they can be arranged in a plane, and the degree of freedom in the arrangement of the land configuration 12 is improved. It is possible to cope with the increase in the number of pins. Of course, depending on the number of pins of the semiconductor element, the land members 12 may be arranged in series without being arranged in area.

【0030】図1に示した本実施形態のターミナルラン
ドフレームは、搭載すべき半導体素子の電極パッドの配
列に対応したものであるが、図1に示したターミナルラ
ンドフレームの構成は、図4に示したようなエリアパッ
ド状の電極パッド13の配列を有した半導体素子14を
搭載する場合に採用するものであり、図5に示したよう
な周辺パッド状の電極パッド13の配列を有した半導体
素子15を搭載する場合に採用するターミナルランドフ
レームは、図6に示すような周辺の電極パッドに対応す
るように、フレーム本体10において、ランド構成体1
2が外周配列を構成して配列された構造のターミナルラ
ンドフレームを用いる。
The terminal land frame of the present embodiment shown in FIG. 1 corresponds to the arrangement of the electrode pads of the semiconductor element to be mounted. The configuration of the terminal land frame shown in FIG. A semiconductor element 14 having an array of area pad-shaped electrode pads 13 as shown is employed, and a semiconductor having an arrangement of peripheral pad-shaped electrode pads 13 as shown in FIG. The terminal land frame employed when mounting the element 15 is provided on the land body 1 in the frame body 10 so as to correspond to the peripheral electrode pads as shown in FIG.
2 uses a terminal land frame having a structure arranged in an outer peripheral arrangement.

【0031】本実施形態の説明においては、代表的に図
1に示したターミナルランドフレームに対して、図4に
示した半導体素子を搭載する形態について説明する。
In the description of this embodiment, a mode in which the semiconductor element shown in FIG. 4 is mounted on the terminal land frame shown in FIG. 1 will be described.

【0032】次に本実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法について説明する。図7および図8は、本
実施形態のターミナルランドフレームの製造方法を示す
断面図であり、ランド構成体部分を示す断面図である。
Next, a method for manufacturing the terminal land frame according to the present embodiment will be described. 7 and 8 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the terminal land frame according to the present embodiment, and are cross-sectional views illustrating a land structure.

【0033】まず図7に示すように、ターミナルランド
フレームのフレーム本体となる金属板16を打ち抜き金
型のダイ部17に載置し、金属板16の上方から押え金
型18により押さえる。ここで図7において、ダイ部1
7には、打ち抜き用の開口部19が設けられている。ま
た、金属板16に対して上方には、パンチ部材20が設
けられており、パンチ部材20により金属板16が押圧
され打ち抜き加工された際、金属板16の押圧された箇
所が開口部19に打ち抜かれる構造を有している。
First, as shown in FIG. 7, a metal plate 16 serving as a frame body of a terminal land frame is placed on a die 17 of a punching die, and is pressed from above the metal plate 16 by a pressing die 18. Here, in FIG.
7 is provided with an opening 19 for punching. Further, a punch member 20 is provided above the metal plate 16, and when the metal plate 16 is pressed and punched by the punch member 20, the pressed portion of the metal plate 16 is placed in the opening 19. It has a punched-out structure.

【0034】次に図8に示すように、ダイ部17上の所
定の位置に固定した金属板16に対して、その上方から
パンチ部材20により押圧による打ち抜き加工を行い、
金属板16の一部をダイ部17側の開口部19側に突出
するように押圧して、金属板16の所定箇所を半切断状
態にし、ランド構成体12を形成する。ここで薄厚部1
1により金属板16と接続されて残存し、かつ金属板1
6の本体部よりも突出して形成されたランド構成体12
を形成するものである。また、ここでランド構成体12
に対して、コイニング加工を行い、ランド構成体12の
突出した上面をプレス成形し、上面が平坦なキノコ状の
ランド構成体12を形成してもよい。この場合、ターミ
ナルランドフレームに対して、半導体素子を搭載し、樹
脂封止した際、封止樹脂とランド構成体との食いつきを
良好にし、アンカー効果が増大するので、製品の信頼性
を向上させることができる。
Next, as shown in FIG. 8, the metal plate 16 fixed at a predetermined position on the die portion 17 is punched by pressing with a punch member 20 from above.
A part of the metal plate 16 is pressed so as to protrude toward the opening 19 on the die portion 17 side, and a predetermined portion of the metal plate 16 is cut in a half-cut state to form the land structure 12. Here the thin part 1
1 and remains connected to the metal plate 16 and the metal plate 1
6 is a land structure 12 protruding from the main body.
Is formed. Also, here, the land structure 12
For this, coining processing may be performed, and the projecting upper surface of the land structure 12 may be press-formed to form the mushroom-shaped land structure 12 having a flat upper surface. In this case, when the semiconductor element is mounted on the terminal land frame and sealed with the resin, the bite between the sealing resin and the land structure is improved, and the anchor effect is increased, so that the reliability of the product is improved. be able to.

【0035】本実施形態では、パンチ部材20により金
属板16の一部を打ち抜き加工する際、完全に打ち抜か
ず、途中でパンチ部材20の押圧を停止させることで、
半切断状態を形成し、金属板16の押圧された部分を切
り離すことなく、金属板16の本体に接続させて残存さ
せるものである。また、金属板16のランド構成体12
を形成する部分に接触するパンチ部材20の接触面積は
ダイ部17に設けた開口部19の開口面積よりも小さ
く、そのパンチ部材20により、金属板16の一部を押
圧して金属板16から突出したランド構成体12を形成
する工程においては、金属板16から突出したランド構
成体12の上面部分12bの面積が、金属板16側に接
続したランド構成体12の底面部分12aの面積よりも
大きく、ランド構成体12の突出した側の上面のエッジ
部は抜きダレによる曲面を有しているランド構成体12
を形成するものである。この構造により、形成されたラ
ンド構成体12は、それが突出した方向に対しての押圧
力、すなわちランド構成体12の底面部分12a側から
の押圧力により、容易に分離されるものであり、またそ
れが突出した方向、すなわちランド構成体12の上面部
分12bからの押圧力によっては分離しないものであ
り、一方向からの押圧力にのみ分離する構造となる。
In this embodiment, when a part of the metal plate 16 is punched by the punch member 20, the pressing of the punch member 20 is stopped during the punching without completely punching.
A half-cut state is formed, and the pressed portion of the metal plate 16 is connected to the main body of the metal plate 16 and left without being separated. The land structure 12 of the metal plate 16
The contact area of the punch member 20 that comes into contact with the portion where the metal plate 16 is formed is smaller than the opening area of the opening 19 provided in the die portion 17. In the step of forming the protruding land structure 12, the area of the upper surface portion 12b of the land structure 12 protruding from the metal plate 16 is larger than the area of the bottom surface portion 12a of the land structure 12 connected to the metal plate 16 side. The edge of the upper surface of the land structure 12 on the protruding side of the land structure 12 has a curved surface formed by cutting out.
Is formed. With this structure, the formed land component 12 is easily separated by the pressing force in the direction in which it protrudes, that is, the pressing force from the bottom surface portion 12a side of the land component 12, In addition, the structure does not separate according to the direction in which it protrudes, that is, the pressing force from the upper surface portion 12b of the land structure 12, and has a structure that separates only into the pressing force from one direction.

【0036】本実施形態において、金属板16に対して
ランド構成体12を形成する際、金属板16の一部を突
出させるその突出量については、金属板16自体の厚み
の過半数以上とし、本実施形態では、200[μm]の
金属板13の厚みに対して、140[μm]〜180
[μm](金属板自体の厚みの70[%]〜90
[%])突出したランド構成体12を形成している。し
たがって、突出して形成されたランド構成体12は、金
属板16の本体に対して、極めて薄い厚みの薄厚部11
により接続されていることになる。本実施形態では、薄
厚部11の厚みとしては、20[μm]〜60[μm]
(金属板自体の厚みの10[%]〜30[%])であ
り、ランド構成体12自体が突出した方向に対しての押
圧力により、容易に分離されるものである。
In the present embodiment, when the land structure 12 is formed on the metal plate 16, the amount of protrusion of a part of the metal plate 16 is set to be more than a half of the thickness of the metal plate 16 itself. In the embodiment, 140 [μm] to 180 [μm] with respect to the thickness of the metal plate 13 of 200 [μm].
[Μm] (70 [%] to 90% of the thickness of the metal plate itself)
[%]) The protruding land structure 12 is formed. Therefore, the protruding land structure 12 is provided with a very thin portion 11 with respect to the main body of the metal plate 16.
Means that they are connected. In the present embodiment, the thickness of the thin portion 11 is 20 [μm] to 60 [μm].
(10 [%] to 30 [%] of the thickness of the metal plate itself), and can be easily separated by the pressing force in the direction in which the land structure 12 itself protrudes.

【0037】ここで本実施形態のランド構成体12を形
成する際の半切断について説明する。金属板16に対し
てランド構成体12を形成した際、金属板16のランド
構成体12部分は、パンチ部材20による打ち抜き加工
によって発生した抜きダレ部と、パンチ部材20により
せん断されたせん断部と、ランド構成体12自体が突出
した方向に対しての押圧力により、容易にランド構成体
12が分離した際の破断面となる破断部を有している。
ランド構成体12の形成としては、パンチ部材20によ
り打ち抜き加工した際、抜きダレ部,せん断部,破断部
の順に形成されていくものである。破断部となる部分は
薄厚部11であり、図面上はモデル的に示している関係
上、相当の厚みを有しているように示されているが、実
質的には極めて薄い状態である。また金属板16の打ち
抜き加工においては、理想的な状態は、パンチ部材20
が金属板16を打ち抜き、金属板16の厚みの1/2を
打ち抜いた時点でパンチ部材20を停止させ、打ち抜き
を完了させるものであるが、その条件は適宜、設定する
ものである。
Here, a description will be given of half-cutting when forming the land structure 12 of the present embodiment. When the land structure 12 is formed on the metal plate 16, the land structure 12 portion of the metal plate 16 includes a punching sag portion generated by punching with the punch member 20 and a shearing portion sheared by the punch member 20. In addition, the land structure 12 itself has a break portion which becomes a fracture surface when the land structure 12 is easily separated by a pressing force in a protruding direction.
As for the formation of the land structure 12, when punching is performed by the punch member 20, the land forming body 12 is formed in the order of a punching sag portion, a shearing portion, and a breaking portion. The portion to be a broken portion is the thin portion 11, which is shown as having a considerable thickness in the drawing because it is modeled, but is substantially extremely thin. In the punching of the metal plate 16, the ideal state is the punch member 20.
Punches out the metal plate 16 and stops the punch member 20 at the time when half the thickness of the metal plate 16 is punched out, thereby completing the punching. The conditions are set as appropriate.

【0038】また打ち抜き加工において、クリアランス
の値を変更することにより、せん断部と破断部との長さ
を操作することができ、クリアランスを小さくすると、
せん断部を破断部よりも大きくすることができ、逆にク
リアランスを大きくすると、せん断部を破断部よりも小
さくすることができる。したがって、クリアランスをゼ
ロとし、破断部の長さを短く抑えることで、金属板16
の抜き完了のタイミングを遅らせ、パンチ部材20が金
属板16の1/2以上入っても、抜きが完了しないよう
にできるものである。ここでクリアランスは、パンチ部
材20の大きさと開口部19の大きさとの差によって形
成される隙間の量を示している。
In the blanking process, by changing the value of the clearance, the length of the sheared portion and the length of the broken portion can be manipulated.
The shear portion can be made larger than the break portion, and conversely, if the clearance is increased, the shear portion can be made smaller than the break portion. Therefore, by setting the clearance to zero and keeping the length of the broken portion short, the metal plate 16
The timing of the completion of the punching can be delayed so that the punching is not completed even if the punch member 20 enters the metal plate 16 by half or more. Here, the clearance indicates the amount of the gap formed by the difference between the size of the punch member 20 and the size of the opening 19.

【0039】次に本発明の樹脂封止型半導体装置の一実
施形態について図面を参照しながら説明する。図9,図
10は本実施形態の樹脂封止型半導体装置を示す図であ
り、図9は断面図であり、図10は底面図である。な
お、図9の断面図は図10の底面図において、B−B1
箇所の断面を示す図であり、また本実施形態の樹脂封止
型半導体装置を示す平面図については、いわゆる矩形状
を示すのみであり省略する。
Next, an embodiment of the resin-sealed semiconductor device of the present invention will be described with reference to the drawings. 9 and 10 are views showing the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment. FIG. 9 is a sectional view, and FIG. 10 is a bottom view. The cross-sectional view of FIG. 9 corresponds to the bottom view of FIG.
It is a diagram showing a cross section of a portion, and a plan view showing a resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment is only a so-called rectangular shape and is omitted.

【0040】図9,図10に示すように、本実施形態の
樹脂封止型半導体装置は、前述したようなターミナルラ
ンドフレームを用いて、半導体素子を搭載した半導体装
置であり、ランド構成体21上に銀ペースト等の導電性
接着剤22、または絶縁性接着剤により搭載、接合され
た半導体素子23と、各ランド構成体21の底面を突出
させて半導体素子23の外囲を封止した封止樹脂24と
よりなる樹脂封止型半導体装置である。そして本実施形
態において、ランド構成体21の封止樹脂24からの突
出量は、使用したターミナルランドフレーム本体の厚み
量からランド構成体21がそのフレーム本体から突出し
た量を差し引いた量であり、基板実装時のスタンドオフ
を有しているものである。
As shown in FIGS. 9 and 10, the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment is a semiconductor device having a semiconductor element mounted thereon using the terminal land frame as described above. A semiconductor element 23 mounted and joined with a conductive adhesive 22 such as a silver paste or an insulating adhesive thereon, and a sealing in which the bottom of each land structure 21 is projected to seal the outer periphery of the semiconductor element 23. This is a resin-encapsulated semiconductor device including a sealing resin 24. In the present embodiment, the amount of protrusion of the land structure 21 from the sealing resin 24 is an amount obtained by subtracting the amount of the land structure 21 protruding from the frame body from the thickness of the used terminal land frame body. It has a stand-off when mounted on a substrate.

【0041】本実施形態では、ランド構成体21に対し
て、半導体素子23をフェースダウン実装し、半導体素
子23の電極パッドとランド構成体21とを電気的に接
続した構造であり、底面配列においては、ランド・グリ
ッド・アレイを構成しているものである。したがって、
半導体素子23の大きさ(面積)とほぼ同等の大きさの
樹脂封止型半導体装置であり、チップサイズパッケージ
を構成するものである。また、従来のリードフレームを
用いた樹脂封止型半導体装置とは異なり、ランド構成体
21の面積は、100[μm]程度の半導体素子の電極
パッドと同程度の大きさであればよく、また高さも14
0[μm]〜180[μm]程度であるため、高密度な
電極配列が可能であり、小型・薄型の樹脂封止型半導体
装置を実現できるものである。さらに本実施形態の構造
により、多ピン化に対応でき、高密度面実装型の樹脂封
止型半導体装置を実現できるものであり、半導体装置自
体の厚みとしても、1[mm]以下の500[μm]程
度の極めて薄型の樹脂封止型半導体装置を実現できるも
のである。
In this embodiment, the semiconductor element 23 is mounted face down on the land structure 21 and the electrode pads of the semiconductor element 23 and the land structure 21 are electrically connected. Are those constituting a land grid array. Therefore,
This is a resin-sealed semiconductor device having a size substantially equal to the size (area) of the semiconductor element 23, and constitutes a chip size package. Further, unlike the conventional resin-encapsulated semiconductor device using a lead frame, the area of the land structure 21 may be about the same size as the electrode pad of the semiconductor element of about 100 [μm]. Height 14
Since it is about 0 [μm] to 180 [μm], a high-density electrode arrangement is possible, and a small and thin resin-sealed semiconductor device can be realized. Further, the structure of the present embodiment can cope with the increase in the number of pins and can realize a resin-encapsulated semiconductor device of high-density surface mounting type, and the thickness of the semiconductor device itself is 500 [1 mm] or less. μm] can be realized.

【0042】また本実施形態の樹脂封止型半導体装置
は、封止樹脂24に封止された側のランド構成体21の
上面の面積が、封止樹脂24から露出、突出した側のラ
ンド構成体21の底面の面積よりも大きく、封止された
側のランド構成体21の上面のエッジ部は曲面を有して
おり、ランド構成体21は略逆台形状の断面形状を有し
ているものである。この構造により、封止樹脂24とラ
ンド構成体21との食いつきを良好にし、密着性を向上
させることができ、基板実装の際の接続の信頼性を得る
ことができるものである。
In the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment, the area of the top surface of the land structure 21 on the side sealed by the sealing resin 24 is exposed and protruded from the sealing resin 24. The edge of the top surface of the land structure 21 on the sealed side is larger than the area of the bottom surface of the body 21 and has a curved surface, and the land structure 21 has a substantially inverted trapezoidal cross-sectional shape. Things. With this structure, the bite between the sealing resin 24 and the land structure 21 can be improved, the adhesion can be improved, and the reliability of connection when mounting the substrate can be obtained.

【0043】なお、本実施形態では、封止樹脂24によ
る半導体素子の封止構造をフルモールド構造としたが、
半導体素子23とランド構成体21との間隙部分にのみ
封止樹脂を注入して封止し、半導体素子23の背面を露
出するような構造としてもよい。また、半導体素子23
とランド構成体21と接続は、導電性接着剤22を介し
て接続した構造であるが、半導体素子23の電極パッド
上に予めAuバンプなどの突起電極、好ましくは二段突
起電極を形成し、その突起電極に対して導電性接着剤を
付設し、ランド構成体21と接続してもよい。この場
合、突起電極が段構造を有するため、導電性接着剤を保
持する機能を有しているので、電極パッド間において導
電性接着剤のはみ出しを防止でき、接続の信頼性を得る
ことができる。
In this embodiment, the sealing structure of the semiconductor element with the sealing resin 24 is a full mold structure.
The structure may be such that the sealing resin is injected only into the gap between the semiconductor element 23 and the land structure 21 for sealing to expose the back surface of the semiconductor element 23. Also, the semiconductor element 23
Is connected to the land structure 21 via a conductive adhesive 22. A bump electrode such as an Au bump, preferably a two-step bump electrode, is formed on an electrode pad of the semiconductor element 23 in advance. A conductive adhesive may be attached to the protruding electrode and connected to the land structure 21. In this case, since the projecting electrode has a step structure, it has a function of holding the conductive adhesive, so that the conductive adhesive can be prevented from protruding between the electrode pads, and the reliability of connection can be obtained. .

【0044】次に本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法の一実施形態について図面を参照しながら説明す
る。図11(a)〜(e)は本実施形態の樹脂封止型半
導体装置の製造方法を示す工程ごとの断面図である。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIGS. 11A to 11E are cross-sectional views for each step showing the method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment.

【0045】まず図11(a)に示すように、フレーム
本体25と、そのフレーム本体25の領域内に配設され
て、薄厚部26によりフレーム本体25と接続し、かつ
フレーム本体25よりも突出して形成された複数のラン
ド構成体27とよりなり、ランド構成体27はフレーム
本体25からそれが突出した方向への押圧力により、薄
厚部26が破断されてランド構成体27がフレーム本体
25より分離される構成を有するターミナルランドフレ
ームを用意する。本実施形態では、図1に示したような
ターミナルランドフレームを用意する。
First, as shown in FIG. 11A, a frame main body 25 is disposed in the area of the frame main body 25, connected to the frame main body 25 by a thin portion 26, and protrudes from the frame main body 25. The thin land portion 26 is broken by the pressing force in the direction in which the land body 27 protrudes from the frame body 25, and the land body 27 is moved from the frame body 25. A terminal land frame having a configuration to be separated is prepared. In the present embodiment, a terminal land frame as shown in FIG. 1 is prepared.

【0046】次に図11(b)に示すように、ターミナ
ルランドフレームのランド構成体27が突出した面側で
あって、ランド構成体27上に導電性接着剤28を介し
て半導体素子29をその電極パッド面を対向させて接合
する。この工程は半導体装置の組立工程におけるフリッ
プチップボンディング工程に相当する工程であり、ター
ミナルランドフレームへの導電性接着剤28の塗布、半
導体素子29のフェースダウン実装、加熱処理により半
導体素子29とフレームとを接合するものである。ここ
で、ターミナルランドフレームは、ランド構成体27が
突出した方向に対しての押圧力、すなわちランド構成体
27の底面部分側からの押圧力により、容易に分離され
るものであるが、それが突出した方向、すなわちランド
構成体27の上面部分からの押圧力によっては分離しな
いものであり、一方向からの押圧力にのみ分離する構造
であるため、半導体素子29を接合する際、フレームに
対して下方の押圧力が作用しても、ランド構成体27は
分離せず、安定してフリップチップボンディングできる
ものである。
Next, as shown in FIG. 11 (b), the semiconductor element 29 is placed on the land structure 27 of the terminal land frame via the conductive adhesive 28 on the side where the land structure 27 protrudes. The electrode pad surfaces are joined to face each other. This step is a step corresponding to a flip chip bonding step in an assembling step of the semiconductor device. The conductive adhesive 28 is applied to the terminal land frame, the semiconductor element 29 is mounted face down, and the semiconductor element 29 and the frame are connected by heat treatment. Is to be joined. Here, the terminal land frame is easily separated by the pressing force in the direction in which the land structure 27 protrudes, that is, the pressing force from the bottom surface side of the land structure 27. The structure does not separate according to the protruding direction, that is, the pressing force from the upper surface of the land structure 27, and is separated only into the pressing force from one direction. Thus, even if a downward pressing force acts, the land structure 27 does not separate, and flip chip bonding can be performed stably.

【0047】次に図11(c)に示すように、ターミナ
ルランドフレーム上にフェースダウン接合した半導体素
子29の領域を封止樹脂30により封止する。通常は上
下封止金型を用いたトランスファーモールドにより片面
封止を行う。ここではターミナルランドフレームの半導
体素子29が搭載された面のみが封止樹脂30により封
止されるものであり、片面封止構造となっている。そし
て各ランド構成体27は突出して設けられているため、
封止樹脂30がその段差構造に対して、食いつくため片
面封止構造であっても、ターミナルランドフレームと封
止樹脂30との密着性を得ることができる。なお、ここ
で半導体素子29とターミナルランドフレームのランド
構成体27との間隙部分に封止樹脂30をノズル、シリ
ンジ等により注入して部分的に充填封止してもよい。こ
の場合の封止構造では、半導体素子29の背面が露出す
るため、放熱性に優れたパッケージ構造を得ることがで
きる。
Next, as shown in FIG. 11C, a region of the semiconductor element 29 face-down bonded on the terminal land frame is sealed with a sealing resin 30. Usually, single-sided sealing is performed by transfer molding using upper and lower sealing dies. Here, only the surface of the terminal land frame on which the semiconductor element 29 is mounted is sealed with the sealing resin 30, and has a single-sided sealing structure. And since each land component 27 is provided so as to protrude,
Even if the sealing resin 30 has a single-sided sealing structure because it bites against the step structure, the adhesion between the terminal land frame and the sealing resin 30 can be obtained. Here, the sealing resin 30 may be injected into the gap between the semiconductor element 29 and the land structure 27 of the terminal land frame by using a nozzle, a syringe, or the like to partially fill and seal. In the sealing structure in this case, since the back surface of the semiconductor element 29 is exposed, a package structure excellent in heat dissipation can be obtained.

【0048】次に図11(d)に示すように、ターミナ
ルランドフレームを固定した状態、例えばターミナルラ
ンドフレームの端部を固定し、封止樹脂30で封止した
領域をフリーにした状態で、ターミナルランドフレーム
の下方からランド構成体27の底面に対して、押圧力を
印加する。この場合、ターミナルランドフレームの端部
を固定し、その下方から突き上げピンにより突き上げて
押圧力を印加することにより、ランド構成体27とター
ミナルランドフレームのフレーム本体25とが分離する
ものである。ランド構成体27とフレーム本体25とを
接続している極薄の薄厚部26が突き上げによる押圧力
で破断されることにより分離されるものである。また、
突き上げる場合は、一部の例えば中央部付近の半導体素
子29の下方に位置するランド構成体27のみを突き上
げてもよく、または周辺部のランド構成体27を突き上
げてもよく、またはすべてのランド構成体27を突き上
げてもよい。ただし、部分的な突き上げによりランド構
成体27が封止樹脂30から剥離しない範囲で突き上げ
を行う。また突き上げ以外の手段により、ランド構成体
27が分離できるものであればよく、例えばフレーム本
体25に対してひねりを加えても分離させることができ
るが、信頼性を考慮して行う。
Next, as shown in FIG. 11D, in a state where the terminal land frame is fixed, for example, in a state where the end of the terminal land frame is fixed and the region sealed with the sealing resin 30 is free. A pressing force is applied to the bottom of the land structure 27 from below the terminal land frame. In this case, by fixing the end of the terminal land frame and pushing up from below by a push-up pin to apply a pressing force, the land structure 27 and the frame body 25 of the terminal land frame are separated. The very thin portion 26 connecting the land structure 27 and the frame body 25 is separated by being broken by the pressing force generated by pushing up. Also,
In the case of pushing up, only a part of the land components 27 located below the semiconductor element 29 near the center, for example, may be pushed up, the land components 27 in the peripheral portion may be pushed up, or all the land components may be pushed up. The body 27 may be pushed up. However, the push-up is performed within a range in which the land structure 27 does not peel off from the sealing resin 30 due to the partial push-up. Further, any structure can be used as long as the land structure 27 can be separated by means other than pushing up. For example, the land body 27 can be separated by applying a twist to the frame body 25, but this is performed in consideration of reliability.

【0049】図11(e)に示すように、ランド構成体
27とフレーム本体とを接続している極薄の薄厚部が突
き上げによる押圧力で破断されることにより分離され
て、樹脂封止型半導体装置31を得ることができる。な
お、ここで封止樹脂30とフレーム本体との剥離は、フ
レーム本体のランド構成体27を形成した部分以外の領
域と封止樹脂との密着性が弱く、ランド構成体27が分
離されることにより、樹脂封止型半導体装置31を取り
出すことができるものである。ランド構成体27部分は
その凹凸形状が封止樹脂30に食い込むため、剥離せず
に封止樹脂30内に形成されるものである。図示するよ
うに、樹脂封止型半導体装置31は、ランド構成体27
がその底面に配列され、またランド構成体27が封止樹
脂30の底面よりも突出して設けられ、基板実装時のス
タンドオフが形成されているものである。ここで樹脂封
止型半導体装置31のランド構成体27の突出量は、フ
レーム本体の厚み量からランド構成体27が突出した量
を差し引いた量となり、ランド構成体27の外部ランド
電極としてのスタンドオフが形成されるものである。本
実施形態では、200[μm]の厚みのフレーム本体に
対して、ランド構成体27を140[μm]〜180
[μm](フレーム本体の厚みの70[%]〜90
[%])突出させているため、スタンドオフ高さの量
は、20[μm]〜60[μm](フレーム本体の厚み
の10[%]〜30[%])となり、基板実装時のスタ
ンドオフを有したランド電極を得ることができる。
As shown in FIG. 11 (e), an extremely thin portion connecting the land structure 27 and the frame main body is separated by being broken by a pushing force generated by pushing up, and is separated by a resin sealing mold. The semiconductor device 31 can be obtained. Here, the peeling of the sealing resin 30 from the frame main body may be caused by weak adhesion between the sealing resin and a region other than the portion where the land main body 27 of the frame main body is formed, and the land main body 27 may be separated. Thereby, the resin-sealed semiconductor device 31 can be taken out. The land structure 27 is formed in the sealing resin 30 without being peeled off because the concave and convex shape bites into the sealing resin 30. As shown in the figure, the resin-encapsulated semiconductor device 31 includes a land structure 27.
Are arranged on the bottom surface thereof, and the land structure 27 is provided so as to protrude from the bottom surface of the sealing resin 30 to form a stand-off when the substrate is mounted. Here, the amount of protrusion of the land member 27 of the resin-encapsulated semiconductor device 31 is the amount obtained by subtracting the amount by which the land member 27 protrudes from the thickness of the frame body. An off is formed. In the present embodiment, the land structure 27 is set to 140 [μm] to 180 [μm] for a frame body having a thickness of 200 [μm].
[Μm] (70 [%] to 90 of the thickness of the frame body)
[%]), The stand-off height is 20 [μm] to 60 [μm] (10 [%] to 30 [%] of the thickness of the frame body), and the stand when mounted on the substrate A land electrode having an off state can be obtained.

【0050】以上、本実施形態で示したようなターミナ
ルランドフレームを用いることにより、半導体素子をフ
リップチップ実装し、樹脂封止した後、ランド構成体部
分の下方からの突き上げによりフレーム自体を除去する
だけで、樹脂封止型半導体装置の底面部分に半導体素子
と電気的に接続したランド電極を配列することができ
る。その結果、面実装タイプの半導体装置が得られ、従
来のようなリード接合による実装に比べて、基板実装の
信頼性を向上させることができる。さらに樹脂封止型半
導体装置において、各ランド構成体の封止樹脂からの突
出量は、使用したターミナルランドフレーム本体の厚み
量から各ランド構成体自体がそのフレーム本体から突出
した量を差し引いた量であり、フレーム本体から製品を
分離した時点で基板実装時のスタンドオフが構成される
ものであり、あえて別工程でランドのスタンドオフを形
成する必要がないものである。
As described above, by using the terminal land frame as shown in the present embodiment, the semiconductor element is flip-chip mounted and sealed with resin, and then the frame itself is removed by pushing up from below the land structure. Thus, the land electrodes electrically connected to the semiconductor elements can be arranged on the bottom surface of the resin-sealed semiconductor device. As a result, a surface-mount type semiconductor device is obtained, and the reliability of board mounting can be improved as compared with the conventional mounting by lead bonding. Further, in the resin-encapsulated semiconductor device, the amount of protrusion of each land structure from the sealing resin is obtained by subtracting the amount of each land structure itself protruding from the frame body from the thickness of the used terminal land frame body. When the product is separated from the frame main body, a stand-off for mounting on the substrate is formed, and there is no need to form a stand-off for the land in a separate step.

【0051】また本実施形態の樹脂封止型半導体装置
は、BGAタイプの半導体装置のように、ランド電極を
設けた基板を用いるものでなく、ターミナルランドフレ
ームという金属板からなるフレーム本体から半導体装置
を構成するので、量産性、コスト性などの面において
は、従来のBGAタイプの半導体装置よりも有利とな
る。さらに製品加工工程において、上述のごとく、フレ
ーム本体の分離のみを行えば、容易に完成体を得ること
ができるので、従来のようなフレームからの分離におい
て必要であったリードカット工程、リードベンド工程を
なくし、リードカットによる製品へのダメージやカット
精度の制約をなくすことができ、製造工程の削減によっ
てコスト力を強めた画期的な技術を提供できるものであ
る。さらに本実施形態では、ランド構成体への突き上げ
等の押圧力によりフレーム本体と分離する旨を説明した
が、突き上げに限定せずとも、樹脂封止型半導体装置側
を固定して、フレーム本体側を引き剥がすことによって
も、ランド構成体部分がフレーム本体からその薄厚部で
切断されるので、分離が可能なものであり、分離手段に
ついてはランド構成体とフレーム本体とを接続している
薄厚部を効果的に切断する手段により種々の手段が存在
するものである。
The resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment does not use a substrate provided with land electrodes unlike a BGA type semiconductor device. Is more advantageous than the conventional BGA type semiconductor device in terms of mass productivity and cost. Further, in the product processing step, as described above, if only the frame main body is separated, the completed body can be easily obtained. Therefore, the lead cutting step and the lead bending step which are necessary in the conventional separation from the frame. This eliminates damage to the product due to lead cutting and restrictions on cutting accuracy, and provides an epoch-making technology with increased cost capability by reducing the number of manufacturing steps. Furthermore, in the present embodiment, it has been described that the frame body is separated from the frame body by a pressing force such as pushing up on the land structure. However, without limiting to pushing up, the resin-encapsulated semiconductor device side is fixed and the frame body side is fixed. Also, by peeling off, the land component portion is cut from the frame main body at its thin portion, so that separation is possible, and the separating means is a thin portion connecting the land component and the frame main body. There are various means depending on the means for effectively cutting.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上、本発明のターミナルランドフレー
ムにより、従来のようなビーム状のリード電極に代え
て、ランド電極を有した樹脂封止型半導体装置を実現す
ることができる。そして本発明により、樹脂封止型半導
体装置の底面のランド電極を基板等を用いることなく、
フレーム状態から形成でき、また自己整合的にランド電
極のスタンドオフを形成できるものであり、従来にない
フレーム構造、工法によりランド電極を有したチップサ
イズのリードレスパッケージ型の樹脂封止型半導体装置
を実現することができるものである。
As described above, with the terminal land frame of the present invention, a resin-encapsulated semiconductor device having land electrodes can be realized in place of the conventional beam-shaped lead electrodes. According to the present invention, the land electrode on the bottom surface of the resin-encapsulated semiconductor device can be used without using a substrate or the like.
A chip-size leadless package-type resin-encapsulated semiconductor device that can be formed from a frame state and can form land electrode standoffs in a self-aligned manner and has land electrodes by a non-conventional frame structure and method. Can be realized.

【0053】また樹脂封止型半導体装置の製造方法にお
いては、従来のようにフレーム製作上のラインアンドス
ペース、設計仕様などの制約をなくし、リードがない
分、リードカット工程、リードベンド工程が不要であっ
て、樹脂封止後は突き上げ処理により、容易にフレーム
本体を分離させて、樹脂封止後の半導体装置を得ること
ができ、工程削減による低コスト製造を実現できるもの
である。また樹脂封止工程においては、樹脂モレが皆無
であるため、ランド構成体上に樹脂バリは発生せず、樹
脂バリ除去工程等の後工程が不要である。
Further, in the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device, there is no need to restrict the line and space in designing the frame, design specifications, and the like as in the conventional case. Then, after the resin sealing, the frame main body can be easily separated by the push-up process, and the semiconductor device after the resin sealing can be obtained, thereby realizing low-cost manufacturing by reducing the number of steps. In addition, in the resin sealing step, since there is no resin leakage, no resin burr is generated on the land structure, and a post-process such as a resin burr removal step is unnecessary.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムを示す平面図
FIG. 1 is a plan view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムを示す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムを示す断面図
FIG. 3 is a sectional view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムに対応する半導体素子を示す平面図
FIG. 4 is a plan view showing a semiconductor device corresponding to the terminal land frame according to the embodiment of the present invention;

【図5】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムに対応する半導体素子を示す平面図
FIG. 5 is a plan view showing a semiconductor device corresponding to the terminal land frame according to the embodiment of the present invention;

【図6】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムを示す平面図
FIG. 6 is a plan view showing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法を示す断面図
FIG. 7 is a sectional view showing a method for manufacturing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態のターミナルランドフレー
ムの製造方法を示す断面図
FIG. 8 is a sectional view showing a method for manufacturing a terminal land frame according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置を
示す断面図
FIG. 9 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention.

【図10】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
を示す底面図
FIG. 10 is a bottom view showing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図11】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 11 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図12】従来のリードフレームを示す平面図FIG. 12 is a plan view showing a conventional lead frame.

【図13】従来の樹脂封止型半導体装置を示す断面図FIG. 13 is a sectional view showing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図14】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す平面図
FIG. 14 is a plan view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フレーム枠 2 ダイパッド部 3 吊りリード部 4 インナーリード部 5 アウターリード部 6 タイバー部 7 半導体素子 8 金属細線 9 封止樹脂 10 フレーム本体 11 薄厚部 12 ランド構成体 12a 底面部分 12b 上面部分 13 電極パッド 14,15 半導体素子 16 金属板 17 ダイ部 18 押え金型 19 開口部 20 パンチ部材 21 ランド構成体 22 導電性接着剤 23 半導体素子 24 封止樹脂 25 フレーム本体 26 薄厚部 27 ランド構成体 28 導電性接着剤 29 半導体素子 30 封止樹脂 31 樹脂封止型半導体装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Frame frame 2 Die pad part 3 Suspended lead part 4 Inner lead part 5 Outer lead part 6 Tie bar part 7 Semiconductor element 8 Fine metal wire 9 Sealing resin 10 Frame body 11 Thin part 12 Land structure 12a Bottom part 12b Top part 13 Electrode pad 14, 15 Semiconductor element 16 Metal plate 17 Die part 18 Pressing die 19 Opening 20 Punch member 21 Land structure 22 Conductive adhesive 23 Semiconductor element 24 Sealing resin 25 Frame body 26 Thin part 27 Land structure 28 Conductivity Adhesive 29 Semiconductor element 30 Sealing resin 31 Resin-sealed semiconductor device

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年9月1日(1999.9.1)[Submission date] September 1, 1999 (1999.9.1)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0013[Correction target item name] 0013

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の樹脂封止型半導体装置は、金属板よ
りなるフレーム本体と、前記フレーム本体の領域内に格
子状に配設されて、薄厚部により前記フレーム本体と接
続し、かつ前記フレーム本体よりも突出して形成され
その底面の面積よりも上面の面積が大きい複数のランド
構成体とよりなり、前記ランド構成体は前記フレーム本
体から突出した方向への押圧力によってのみ、前記薄厚
部が破断されて前記ランド構成体が前記フレーム本体よ
り分離されて外部電極を構成するターミナルランドフレ
ームを用いて形成された樹脂封止型半導体装置であっ
て、前記ランド構成体上にその電極パッドが導電性接着
剤を介して各々接続された半導体素子と、前記ランド構
成体の底面を突出させて前記半導体素子の外囲を封止し
た封止樹脂とよりなり、前記各ランド構成体群の封止樹
脂からの突出量は、前記フレーム本体の厚み量から前記
ランド構成体群が前記フレーム本体から突出した量を差
し引いた量である樹脂封止型半導体装置である。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention is provided with a frame main body made of a metal plate and a grid arranged in a region of the frame main body. Connected to the frame body by a thin portion, and formed to protrude from the frame body ,
Ri Na more and more of the land structure has a large area of the upper surface than the area of the bottom surface, the land structure has a frame present
Only by pressing force in the direction protruding from the body,
Part is broken and the land structure is
A resin-encapsulated semiconductor device formed by using a terminal land frame that is separated and forms an external electrode , wherein the semiconductor device has electrode pads connected to the land structure via a conductive adhesive. And a sealing resin that seals the outer periphery of the semiconductor element by projecting the bottom surface of the land structure, and the amount of protrusion of the land structure group from the sealing resin is equal to or less than the length of the frame body. The resin-encapsulated semiconductor device is an amount obtained by subtracting an amount by which the land component group protrudes from the frame main body from a thickness amount.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0014】また本発明は、封止樹脂に封止された側の
ランド構成体の上面のエッジ部は曲面を有している樹脂
封止型半導体装置である。
[0014] The present invention, or falling edge of di portion of the upper surface of the land configuration of the sealed in the sealing resin side is to have a resin-sealed semiconductor device has a curved surface.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0017】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体
の領域内に格子状に配設されて、薄厚部により前記フレ
ーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よりも突出し
て形成され、その底面の面積よりも上面の面積が大きい
複数のランド構成体群とよりなり、前記ランド構成体群
は前記フレーム本体から突出した方向への押圧力によ
てのみ、前記薄厚部が破断されて前記ランド構成体群が
前記フレーム本体より分離されて外部電極を構成する
ーミナルランドフレームを用意する工程と、前記ターミ
ナルランドフレームの前記ランド構成体の突出した側に
半導体素子を導電性接着剤を介してフリップチップ接続
する工程と、前記半導体素子の外囲であって、前記ター
ミナルランドフレームの上面側のみを封止樹脂により封
止し、樹脂封止型半導体装置を形成する工程と、前記タ
ーミナルランドフレームの前記フレーム本体を固定した
状態で前記フレーム本体の底面側から前記ランド構成体
の底面側に対して押圧力を印加し、ランド構成体と前記
フレーム本体とを接続している薄厚部を破断させ、前記
フレーム本体から樹脂封止型半導体装置を分離する工程
とを有するものである。
According to the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, a frame main body made of a metal plate is disposed in a lattice shape in a region of the frame main body, and connected to the frame main body by a thin portion. And a plurality of land component groups formed so as to protrude from the frame main body and having an upper surface area larger than a bottom surface area thereof , wherein the land component groups protrude from the frame main body in a direction protruding from the frame main body. Tsu by the pressing force of the
Tenomi, wherein the step of thin thickness portion is prepared data <br/> over Terminal land frame the land structure group is broken constitutes the external electrodes is separated from the frame body, the land of the terminal land frame A step of flip-chip connecting the semiconductor element to the projecting side of the structure via a conductive adhesive, and sealing only the upper surface side of the terminal land frame around the semiconductor element with a sealing resin. Forming a resin-encapsulated semiconductor device, and applying a pressing force from the bottom side of the frame body to the bottom side of the land structure in a state in which the frame body of the terminal land frame is fixed; A step of breaking a thin portion connecting a structure and the frame body to separate the resin-sealed semiconductor device from the frame body
And

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/12 H01L 23/28 A 23/28 B29C 45/14 // B29C 45/14 H01L 23/12 L B29L 31:34 P (72)発明者 南尾 匡紀 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 4E048 AB01 EA04 4F206 AH37 JA02 JB17 JF05 4M109 AA01 AA02 BA02 CA04 CA21 DA01 DA04 DB15 DB16 DB17 FA01 FA04 5F044 LL07 LL11 QQ01 RR18 5F067 AA01 AA10 AB04 AB07 BA00 BA03 BA08 BE10 DA11 DE01 DF20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/12 H01L 23/28 A 23/28 B29C 45/14 // B29C 45/14 H01L 23/12 L B29L 31:34 P (72) Inventor Masanori Minao 1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Co., Ltd. F-term (reference) 4E048 AB01 EA04 4F206 AH37 JA02 JB17 JF05 4M109 AA01 AA02 BA02 CA04 CA21 DA01 DA04 DB15 DB16 DB17 FA01 FA04 5F044 LL07 LL11 QQ01 RR18 5F067 AA01 AA10 AB04 AB07 BA00 BA03 BA08 BE10 DA11 DE01 DF20

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内に格子状に配設されて、薄厚部によ
り前記フレーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よ
りも突出して形成された複数のランド構成体とよりなる
ターミナルランドフレームを用いて形成された樹脂封止
型半導体装置であって、前記ランド構成体上にその電極
パッドが導電性接着剤を介して各々接続された半導体素
子と、前記ランド構成体の底面を突出させて前記半導体
素子の外囲を封止した封止樹脂とよりなり、前記各ラン
ド構成体群の封止樹脂からの突出量は、前記フレーム本
体の厚み量から前記ランド構成体群が前記フレーム本体
から突出した量を差し引いた量であることを特徴とする
樹脂封止型半導体装置。
1. A frame main body made of a metal plate, and a plurality of frames arranged in a lattice shape in a region of the frame main body, connected to the frame main body by a thin portion, and formed to protrude from the frame main body. A resin-encapsulated semiconductor device formed by using a terminal land frame comprising a land structure, wherein a semiconductor element whose electrode pad is connected to the land structure via a conductive adhesive is provided. A sealing resin in which the bottom surface of the land structure is protruded to seal the outer periphery of the semiconductor element. The amount of protrusion of the land structure group from the sealing resin is the thickness of the frame body. A resin-sealed semiconductor device characterized in that the amount is a value obtained by subtracting an amount by which the land component group protrudes from the frame body.
【請求項2】 封止樹脂に封止された側のランド構成体
の上面の面積が、前記封止樹脂から露出した側のランド
構成体の底面の面積よりも大きく、封止された側のラン
ド構成体の上面のエッジ部は曲面を有していることを特
徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。
2. The area of the upper surface of the land structure on the side sealed with the sealing resin is larger than the area of the bottom surface of the land structure on the side exposed from the sealing resin. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein an edge portion on an upper surface of the land structure has a curved surface.
【請求項3】 半導体素子はその電極パッド上に突起電
極を有し、前記突起電極が導電性接着剤を介して、ラン
ド構成体に各々接続されたことを特徴とする請求項1に
記載の樹脂封止型半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor element has a protruding electrode on its electrode pad, and each of the protruding electrodes is connected to the land structure via a conductive adhesive. Resin-sealed semiconductor device.
【請求項4】 封止樹脂に封止された側のランド構成体
の形状は、上面が平坦なキノコ状の形状を有して、封止
樹脂とアンカー効果を得ていることを特徴とする請求項
1に記載の樹脂封止型半導体装置。
4. The land structure sealed on the side of the sealing resin has a mushroom-like shape with a flat top surface to obtain an anchor effect with the sealing resin. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1.
【請求項5】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の領域内に格子状に配設されて、薄厚部によ
り前記フレーム本体と接続し、かつ前記フレーム本体よ
りも突出して形成された複数のランド構成体群とよりな
り、前記ランド構成体群は前記フレーム本体から突出し
た方向への押圧力により、前記薄厚部が破断されて前記
ランド構成体群が前記フレーム本体より分離される構成
であるターミナルランドフレームを用意する工程と、前
記ターミナルランドフレームの前記ランド構成体の突出
した側に半導体素子を導電性接着剤を介してフリップチ
ップ接続する工程と、前記半導体素子の外囲であって、
前記ターミナルランドフレームの上面側のみを封止樹脂
により封止し、樹脂封止型半導体装置を形成する工程
と、前記ターミナルランドフレームの前記フレーム本体
を固定した状態で前記フレーム本体の底面側から前記ラ
ンド構成体の底面側に対して押圧力を印加し、ランド構
成体と前記フレーム本体とを接続している薄厚部を破断
させ、前記フレーム本体から樹脂封止型半導体装置を分
離することを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方
法。
5. A frame body made of a metal plate, and a plurality of frames arranged in a lattice shape in a region of the frame body, connected to the frame body by a thin portion, and formed to protrude from the frame body. The land component group is configured such that the thin portion is broken and the land component group is separated from the frame body by a pressing force in a direction protruding from the frame body. A step of preparing a terminal land frame, a step of flip-chip connecting a semiconductor element to a protruding side of the land structure of the terminal land frame via a conductive adhesive, and ,
Sealing only the upper surface side of the terminal land frame with a sealing resin to form a resin-encapsulated semiconductor device, and fixing the frame body of the terminal land frame from the bottom surface side of the frame body with the frame body fixed. Applying a pressing force to the bottom surface side of the land structure, breaking a thin portion connecting the land structure and the frame body, and separating the resin-encapsulated semiconductor device from the frame body. Manufacturing method of a resin-sealed semiconductor device.
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