JP2000113529A - Method and device for manufacturing optical disk and production of substrate - Google Patents

Method and device for manufacturing optical disk and production of substrate

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JP2000113529A
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Shigeru Namiki
茂 雙木
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和幸 澤田
Toshiyuki Fujioka
俊行 藤岡
Takaaki Higashida
隆亮 東田
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守 井上
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an effective production method and device for optical disk with good flatness by suppressing generation of warping with the lapse of time as well as at the time of production. SOLUTION: A manufacturing method of a stuck type optical disk contains a process (1) in which a pair of substrates, at least one of which has ruggedness on a main surface of one side, are molded out of a transparent resin, a process (2) in which a metallic thin film is formed on the main surface of one side having ruggedness and a process (3) in which a pair of substrates are laminated so that the metallic thin film is located inside and the substrates are joined by an adhesive supplied between the substrates. After the process (1), a stand-by process, in which temp. of the substrate is dropped till moisture absorption amount of the substrate becomes <=0.1 wt.% and temp. difference between the molded substrates and the environment becomes <=5 deg.C, is executed and then the process (2) is executed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク、特に
貼り合わせ型の光ディスクの製造方法及び装置、並びに
そのような光ディスクを製造するために貼り合わせる基
板の製造方法に関する。そのような光ディスクには、例
えばDVD(Digital Video Disk)用光ディスクが含ま
れる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an optical disk, particularly a bonded optical disk, and a method for manufacturing a substrate to be bonded for manufacturing such an optical disk. Such an optical disk includes, for example, an optical disk for a DVD (Digital Video Disk).

【0002】[0002]

【従来の技術】DVD用の光ディスクとして、記録層を
備えた基板を複数枚貼り合わせることによって複数の記
録層を有する単一枚数の光ディスクを製造することが知
られている。そのような方法及びそのための装置は、例
えば国際公開第WO97/35720号に開示されてお
り、この引用によってその内容の内、後述する本発明に
適当である記載は、本明細書の一部を構成する。
2. Description of the Related Art As an optical disk for DVD, it is known to manufacture a single optical disk having a plurality of recording layers by laminating a plurality of substrates having recording layers. Such a method and an apparatus therefor are disclosed, for example, in WO 97/35720, the contents of which are hereby incorporated by reference and which are suitable for the invention described hereinafter. Constitute.

【0003】具体的には、例えば以下の方法により光デ
ィスクを製造できる: (1)透明樹脂の射出成形によって予め製造された、片
側主表面に微細な凹凸を有し、その上に金、アルミニウ
ム等の金属薄膜を形成した同じまたは異なる基板(通常
は円形基板であり、中央部に円形の開口部を有してよ
い)の1対を準備し、(2)金属薄膜同士が対向するよ
うに、基板の間に間隙が存在する状態で1対の基板を保
持し、(3)その間隙に接着剤、例えば紫外線硬化型接
着剤を供給して間隙の全体に広げて基板の積層体を得、
(4)接着剤を硬化させることにより1対の基板を接着
剤により接合(または結合)する。
[0003] Specifically, an optical disk can be manufactured by, for example, the following method: (1) Fine unevenness is formed on one main surface in advance by injection molding of a transparent resin, and gold, aluminum, or the like is formed thereon. A pair of the same or different substrates (usually a circular substrate, which may have a circular opening in the center) on which the metal thin films are formed are prepared, and (2) the metal thin films are opposed to each other. Holding a pair of substrates in a state where there is a gap between the substrates, and (3) supplying an adhesive, for example, an ultraviolet curable adhesive, to the gap to spread the whole of the gap to obtain a laminate of substrates,
(4) By curing the adhesive, the pair of substrates is joined (or joined) with the adhesive.

【0004】光ディスクに記録されたデータ(または情
報)の読み取り、あるいは光ディスクへのデータの書き
込みは、光ディスクを高速回転させながら、光ディスク
の外周部からもしくは内周部から所定の波長を有するレ
ーザー光を光ディスクに照射して基板を通過させて実施
する。記録層に記録されたデータまたは記録するデータ
の密度は非常に高いので、レーザー光を光ディスクの所
定位置に照射する必要がある。この際、光ディスク全体
の平面度が悪いと、レーザ光の焦点を所定位置に合わせ
て照射することができず、データの読み取りまたは書き
込みに際して誤りが生じ易い。従って、光ディスクの製
造に際しては、最終製品としての光ディスクに反り、歪
みのような変形の存在が抑制され、また、製造後におい
ても、そのような変形が生じることが抑制され、その結
果、向上した平面度を保持できることが望まれている。
To read data (or information) recorded on an optical disk or to write data to the optical disk, a laser beam having a predetermined wavelength is emitted from the outer or inner circumference of the optical disk while rotating the optical disk at a high speed. The irradiation is performed by irradiating the optical disk with the substrate. Since the data recorded on the recording layer or the density of the data to be recorded is very high, it is necessary to irradiate a predetermined position on the optical disk with laser light. At this time, if the flatness of the entire optical disc is poor, the laser beam cannot be irradiated with the focal point adjusted to a predetermined position, and errors are likely to occur when reading or writing data. Therefore, in the production of an optical disc, warpage of the optical disc as a final product, the presence of deformation such as distortion is suppressed, and even after the production, such deformation is suppressed, and as a result, improved. It is desired that flatness can be maintained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述のような背景の
下、光ディスクに生じる変形について検討を重ねた結
果、1つの可能性として、変形は以下のようなメカニズ
ムで生じると考えられる:光ディスクにおいて生じる変
形は、樹脂成形された基板において生じる経時的な変形
の結果である。特に、成形直後の高温でかつ乾燥状態に
ある基板は、基板の周辺環境から湿気を吸い易く、その
結果、基板が吸湿するにつれて基板が変形する。
Under the above-described background, as a result of studying the deformation occurring on the optical disk, it is considered that one possibility is that the deformation is generated by the following mechanism: Deformation is the result of temporal deformation occurring in the resin molded substrate. In particular, a substrate in a high temperature and dry state immediately after molding tends to absorb moisture from the surrounding environment of the substrate, and as a result, the substrate is deformed as the substrate absorbs moisture.

【0006】そこで、成形後の基板を十分に長い時間に
わたって所定の環境で放置しておき、基板の吸湿量が一
定値で安定した状態に到達させた後に、金属薄膜を基板
に形成する成膜工程を実施する方法が提案されている。
この基板の放置は、「アニール処理」とも呼ばれること
があり、通常は、数時間〜24時間程度放置されてい
る。
Therefore, the molded substrate is left in a predetermined environment for a sufficiently long time to reach a stable state in which the amount of moisture absorbed by the substrate is constant, and then a metal thin film is formed on the substrate. Methods for performing the steps have been proposed.
This leaving of the substrate is sometimes called "annealing treatment", and is usually left for several hours to 24 hours.

【0007】しかしながら、光ディスクを大量に生産し
ようとする場合に、製造ラインの途中で長時間を要する
アニールを実施するのは非常に非効率的である。アニー
ル処理を行うには、基板を成形機から取り出した後、大
量の基板を一時的に保管しておく広い場所が必要とな
る。アニール処理を実施している間に基板を保管する環
境が変化すると、アニール処理の効果にバラツキが生じ
る。また、基板の成形を開始してから、光ディスクの完
成品が得られるまでに長時間を要する。
However, when mass production of optical discs is to be performed, it is very inefficient to perform annealing that requires a long time in the middle of a production line. In order to perform the annealing process, a large space for temporarily storing a large amount of substrates after removing the substrates from the molding machine is required. If the environment for storing the substrate changes during the execution of the annealing process, the effect of the annealing process varies. In addition, it takes a long time from the start of forming the substrate to the completion of obtaining a finished optical disk.

【0008】更に、光ディスクを製造した後に経時的に
増える反り、また、光ディスクの使用環境に依存して生
じる反りもある。光ディスクが製造された時点では、各
種の製品検査によって、光ディスクの反り量が所定の範
囲内に入っていることが確認されていても、光ディスク
を長期間にわたって保存したり、あるいは使用を繰り返
すうちに、反り量が増加する場合があり、これが、デー
タの書き込みまたは読み取りに悪影響を及ぼすことがあ
る。これは、製造時に光ディスクに内蔵されていた内部
応力、歪み等が経時的に、または使用環境のために開放
されることによって、反りが追加的に発生するためであ
ると考えられる。
Further, there is a warp that increases with time after the optical disc is manufactured, and a warp that occurs depending on the use environment of the optical disc. At the time the optical disk is manufactured, even if it is confirmed by various product inspections that the amount of warpage of the optical disk is within a predetermined range, the optical disk can be stored for a long period of time or repeatedly used. In some cases, the amount of warpage may increase, which may adversely affect writing or reading of data. It is considered that this is because the internal stress, strain, and the like built in the optical disk at the time of manufacturing are released over time or due to the use environment, and thus warpage is additionally generated.

【0009】上述のようなことに鑑み、貼り合わせ型光
ディスクの製造において、製造時及び経時的な反りの発
生を抑制して、良好な平面度を有する光ディスクを効率
的に製造することが本発明が解決しようとする課題であ
る。
In view of the above, in the production of a bonded optical disk, it is an object of the present invention to suppress the occurrence of warpage during production and over time, and to efficiently produce an optical disk having a good flatness. Is the problem to be solved.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】第1の要旨において、本
発明は、貼り合わせ型光ディスクの製造方法を提供し、
その方法は、(1)少なくとも一方が片側主表面に凹凸
を有する、1対の基板を透明樹脂から成形する工程、
(2)該凹凸を有する片側主表面に金属薄膜を形成する
工程、及び(3)金属薄膜が内側に位置するように1対
の基板を積層して基板間に供給した接着剤により基板を
接合(または結合)する工程を含んで成り、工程(1)
の後、基板の吸湿量が0.1重量%以下であり、かつ、
成形された基板と環境との温度差が5℃以下になるまで
基板を降温する待機処理を実施した後に、工程(2)を
実施することを特徴とする。
In a first aspect, the present invention provides a method for manufacturing a bonded optical disk,
The method includes: (1) a step of molding a pair of substrates from a transparent resin, at least one of which has irregularities on one main surface;
(2) a step of forming a metal thin film on the one-sided main surface having the irregularities; and (3) bonding a pair of substrates so that the metal thin film is located inside and bonding the substrates with an adhesive supplied between the substrates. (Or combining), comprising:
After that, the moisture absorption of the substrate is 0.1% by weight or less, and
Step (2) is performed after performing a standby process of lowering the temperature of the substrate until the temperature difference between the molded substrate and the environment becomes 5 ° C. or less.

【0011】本発明において、1対の基板の少なくとも
一方は、その片側主表面が微細な凹凸を有する。即ち、
一方の基板のみがそのような凹凸を片側主表面に有して
よいが、通常、双方の基板がそのような凹凸をそれぞれ
の片側主要面に有する。この凹凸は、読み取り専用型
(即ち、ROM型)の光ディスクの場合では、記録すべ
きデータに対応するピットの凹凸であり、書き換え型
(即ち、RAM型)または追記型(即ち、R型)の光デ
ィスクの場合では、この凹凸はランド及びグルーブに対
応するものである。また、いずれのタイプの光ディスク
においても、光ディスクの使用に本来的に必要なフォー
マット情報に対応する凹凸を基板の一方または双方の片
側主表面が含んでよい。
In the present invention, at least one of the pair of substrates has one side main surface having fine irregularities. That is,
Only one substrate may have such irregularities on one major surface, but usually both substrates have such irregularities on each major surface. In the case of a read-only type (ie, ROM type) optical disk, the unevenness is a pits corresponding to data to be recorded, and is a rewritable type (ie, RAM type) or a write-once type (ie, R type). In the case of an optical disk, the irregularities correspond to lands and grooves. Also, in any type of optical disc, one or both main surfaces of the substrate may include irregularities corresponding to format information originally required for use of the optical disc.

【0012】金属薄膜は、凹凸を有する基板の当該片側
主表面上に形成される光反射性の膜であり、この膜は光
に対して半透過性(即ち、半透明)の膜であってよい。
例えば金、アルミニウムをスパッタリングすることによ
り形成される。この金属薄膜は、光ディスクに照射され
たレーザー光を反射する反射層として機能する。双方の
基板が凹凸を有する場合には、各基板の凹凸を有する片
側主表面に金属薄膜を形成する。
The metal thin film is a light-reflective film formed on the one-side main surface of the substrate having irregularities, and this film is semi-transparent (ie, translucent) to light. Good.
For example, it is formed by sputtering gold or aluminum. This metal thin film functions as a reflection layer that reflects the laser light applied to the optical disk. When both substrates have irregularities, a metal thin film is formed on one of the irregular main surfaces of each substrate.

【0013】光ディスクの一方側からレーザー光を照射
するタイプの光ディスクでは、一方の基板に形成する金
属薄膜は半透明である。光ディスクの両側からレーザー
光を照射するタイプの光ディスクでは、双方の基板に形
成する金属薄膜は、光に対して不透明であってもよい。
一方の基板のみが凹凸を有する場合には、その一方の基
板の凹凸を有する片側主表面に金属薄膜を形成するだけ
で十分であり、他方の基板には薄膜を形成しなくてもよ
い。
In an optical disk of a type in which laser light is irradiated from one side of the optical disk, a metal thin film formed on one substrate is translucent. In an optical disk of a type that irradiates laser light from both sides of the optical disk, the metal thin film formed on both substrates may be opaque to light.
When only one substrate has irregularities, it is sufficient to form a metal thin film on one irregular main surface of one substrate, and it is not necessary to form a thin film on the other substrate.

【0014】読み取り専用型の光ディスクの場合では、
金属薄膜が基板の凹凸と一緒になって、予め記録された
データに対応して照射されたレーザー光を反射する。従
って、この意味で、読み取り専用型の光ディスクの場合
では、金属薄膜を記録層と呼ぶことができる。
In the case of a read-only optical disk,
The metal thin film, together with the unevenness of the substrate, reflects the irradiated laser light in accordance with the pre-recorded data. Therefore, in this sense, in the case of a read-only optical disk, the metal thin film can be called a recording layer.

【0015】また、周知のように、書き換え型または追
記型の光ディスクの場合では、金属薄膜が、基板の凹凸
及びその上に別に設けた可逆的または不可逆的に変化可
能な層と一緒に、照射されたレーザー光によって書き込
むべきデータを記録し、また、基板の凹凸及びその上に
別に設けた可逆的または不可逆的に変化した層と一緒
に、照射されたレーザー光によって予め記録されたデー
タを読み取る。このように、書き換え型または追記型の
光ディスクの場合では、凹凸、可逆的または不可逆的に
変化可能な層及び金属薄膜がデータの書き込み及び読み
取りの機能に関与するが、主として、可逆的または不可
逆的に変化可能な層がこの機能に作用するので、可逆的
または不可逆的に変化可能な層を記録層と呼ぶことがで
きる。
As is well known, in the case of a rewritable or write-once optical disk, the metal thin film is irradiated together with the unevenness of the substrate and the reversibly or irreversibly changeable layer separately provided thereon. Record the data to be written by the applied laser light, and read the pre-recorded data by the irradiated laser light together with the unevenness of the substrate and the separately provided reversibly or irreversibly changed layer. . As described above, in the case of the rewritable or write-once optical disc, the unevenness, the layer that can be changed reversibly or irreversibly, and the metal thin film are involved in the function of writing and reading data, but they are mainly reversible or irreversible. A layer that can be changed reversibly acts on this function, so a layer that can be changed reversibly or irreversibly can be called a recording layer.

【0016】従って、書き換え型または追記型の光ディ
スクの場合では、凹凸を有する基板の片側主表面上に可
逆的または不可逆的に変化可能な層が形成され、その上
に金属薄膜が更に形成される。従って、本発明の光ディ
スクの製造方法において、書き替え型または追記型の光
ディスクの製造のためには、待機処理の後、工程(2)
を実施する前に、そのような可逆的または不可逆的に変
化可能な層を設ける追加の工程を実施する。換言すれ
ば、金属薄膜を形成する工程(2)は、金属薄膜を形成
する前に、可逆的または不可逆的に変化可能な層を凹凸
を有する基板の片側主表面に設けて、その上に、金属薄
膜を形成する工程である。勿論、読み取り専用型の光デ
ィスクの場合には、そのような追加の工程は不要であ
る。
Therefore, in the case of a rewritable or write-once optical disk, a reversibly or irreversibly changeable layer is formed on one main surface of a substrate having irregularities, and a metal thin film is further formed thereon. . Therefore, in the method for manufacturing an optical disk according to the present invention, in order to manufacture a rewritable or write-once optical disk, the step (2) is performed after the standby process.
, An additional step of providing such a reversibly or irreversibly changeable layer is performed. In other words, in the step (2) of forming the metal thin film, before forming the metal thin film, a reversibly or irreversibly changeable layer is provided on one side main surface of the substrate having irregularities, and This is a step of forming a metal thin film. Of course, in the case of a read-only optical disk, such an additional step is not required.

【0017】本明細書においても、記録層なる用語は、
上述の意味において使用しており、従って、記録層に対
応する要素は、光ディスクの型によって異なる。以下、
主として読み取り専用型の光ディスクを参照して本発明
を説明するが、書き換え型または追記型の光ディスクの
場合では、金属薄膜を形成する前に、可逆的または不可
逆的に変化可能な層を形成することを追加的に行うこと
を除いて、実質的に異なる点は無く、可逆的または不可
逆的に変化可能な層は常套の方法で形成できる。
In this specification, the term “recording layer” also means
It is used in the above sense, and the elements corresponding to the recording layer are different depending on the type of the optical disc. Less than,
The present invention will be described mainly with reference to a read-only optical disk. However, in the case of a rewritable or write-once optical disk, a layer that can be changed reversibly or irreversibly is formed before forming a metal thin film. There is no substantial difference except that the additional step is carried out, and the reversibly or irreversibly changeable layer can be formed in a conventional manner.

【0018】1つの態様では、本発明の待機処理は、吸
湿量が好ましくは0.08重量%を越えない、より好ま
しくは0.05重量%を越えないように実施する。本明
細書において、吸湿量は、基材の乾燥状態を基準とする
(いわゆるドライ・ベースである)。また、別の態様で
は、本発明の待機処理は、環境との温度差が好ましくは
5℃以下、より好ましくは3℃以下となるように実施す
る。より好ましい態様では、吸湿量が0.05重量%を
越えないで環境との温度差が5℃以下となるように待機
処理を実施し、これは、例えば20℃〜35℃の室温、
10%〜60%の相対湿度の環境内で成形機から取り出
した基板を約1分〜6分放置することにより実施でき
る。尚、環境とは、基板を待機処理する空間を意味し、
その空間は、通常、所定の温度及び湿度(例えば、25
℃、相対湿度30%)で維持されている。また、上述の
ような吸湿量は、いずれの適当な方法によって測定して
もよく、例えば、成形した基板を所定の環境において重
量変化を測定することにより測定できる。
In one embodiment, the standby treatment of the present invention is carried out such that the amount of moisture absorption preferably does not exceed 0.08% by weight, more preferably does not exceed 0.05% by weight. In the present specification, the amount of moisture absorption is based on the dry state of the substrate (so-called dry base). In another aspect, the standby process of the present invention is performed such that the temperature difference from the environment is preferably 5 ° C. or less, more preferably 3 ° C. or less. In a more preferred embodiment, the standby treatment is performed so that the temperature difference from the environment is 5 ° C. or less without the moisture absorption amount exceeding 0.05% by weight, for example, a room temperature of 20 ° C. to 35 ° C.
This can be performed by leaving the substrate taken out of the molding machine in an environment of a relative humidity of 10% to 60% for about 1 to 6 minutes. In addition, the environment means a space where the substrate is subjected to standby processing,
The space usually has a predetermined temperature and humidity (for example, 25
° C, 30% relative humidity). The amount of moisture absorption as described above may be measured by any appropriate method, for example, by measuring a change in weight of a molded substrate in a predetermined environment.

【0019】第2の要旨において、本発明は、第1成形
機にて形成した第1基板及び第2成形機にて形成した第
2基板を対の基板として貼り合わせることによって貼り
合わせ型光ディスクを製造する方法であって、(1)少
なくとも一方が片側主表面に凹凸を有する、1対の基板
である第1基板及び第2基板をそれぞれ第1成形機及び
第2成形機によって透明樹脂から成形する工程、(2)
該凹凸を有する片側主表面に金属薄膜を形成する工程、
及び(3)金属薄膜が内側に位置するように1対の基板
を積層して基板間に供給した接着剤により基板を接合
(または結合)する工程を含んで成り、第1成形機の金
型温度と第2成形機の金型温度との間に2℃〜6℃の温
度差を設けることを特徴とする方法を提供する。第2の
要旨の製造方法において、好ましい態様では第1の要旨
の待機処理を実施する。
In a second aspect, the present invention provides a bonded optical disk by bonding a first substrate formed by a first molding machine and a second substrate formed by a second molding machine as a pair of substrates. A method of manufacturing, wherein (1) a first substrate and a second substrate, which are a pair of substrates having at least one having irregularities on one main surface, are molded from a transparent resin by a first molding machine and a second molding machine, respectively. (2)
Forming a metal thin film on one main surface having the irregularities,
And (3) a step of laminating a pair of substrates so that the metal thin film is located inside and joining (or bonding) the substrates by an adhesive supplied between the substrates, and a mold of the first molding machine. Providing a temperature difference between 2C and 6C between the temperature and the mold temperature of the second molding machine. In the manufacturing method according to the second aspect, in a preferred embodiment, the standby processing according to the first aspect is performed.

【0020】ここで、金型温度とは、1対の金型部分
(mold half)から構成される金型のキャビティ(また
は空隙)内に溶融した透明樹脂を射出して成形すること
により基板を製造するに際して、基板に対応するキャビ
ティを規定する対の金型部分の温度の算術平均温度を意
味する。通常、貼り合わせ型の光ディスクは、対の基板
の一方がリブ(またはスタックリブ)を有し、他方はリ
ブを有さないが、リブを有する基板を成形する成形機の
金型温度を高くするのが好ましい。
Here, the mold temperature means that the substrate is formed by injecting and molding a molten transparent resin into a cavity (or void) of a mold composed of a pair of mold halves (mold half). In manufacturing, it refers to the arithmetic average temperature of the temperature of the pair of mold parts that define the cavity corresponding to the substrate. Normally, in a bonded optical disk, one of a pair of substrates has a rib (or a stack rib) and the other has no rib, but the mold temperature of a molding machine for molding a substrate having a rib is increased. Is preferred.

【0021】第3の要旨において、本発明は、溶融した
透明樹脂を金型内のキャビティに供給する射出成形によ
り光ディスク用基板を製造する方法であって、キャビテ
ィを規定する対の金型部分(mold halves)の温度が0
℃〜6℃異なることを特徴とする方法を提供する。この
方法により製造される基板は、上述の第1の要旨又は第
2の要旨の光ディスクの製造方法に用いることが好まし
い。
According to a third aspect, the present invention is a method of manufacturing an optical disk substrate by injection molding in which a molten transparent resin is supplied to a cavity in a mold, the method comprising the steps of: mold halves) temperature is 0
A method characterized in that the temperature differs between 6C and 6C. The substrate manufactured by this method is preferably used in the method of manufacturing an optical disc according to the first or second aspect.

【0022】第4の要旨において、本発明は、(a)基
板を樹脂成形する成形部、(b)薄膜形成手段により基
板の表面に金属薄膜を形成する成膜部、及び(c)1対
の基板を接着剤を介して結合する接合部を有して成る、
1対の基板を接着剤により貼り合わせて光ディスクを製
造する装置をも提供し、この装置は、基板が、成形部か
ら成膜部を経て接合部に移送手段により送られ、成形部
と成膜部との間で基板を所定時間だけ保持する一時的待
機手段を有することを特徴とする。この待機手段は、所
定の環境を有して上述の待機処理を実施する。成形部
は、少なくとも一方が片側主表面に凹凸を有する対の基
板を形成し、成膜部は、凹凸を有する基板の片側主表面
に金属薄膜を形成する。
According to a fourth aspect, the present invention provides (a) a molding section for molding a substrate with a resin, (b) a film forming section for forming a metal thin film on the surface of the substrate by a thin film forming means, and (c) a pair of Having a bonding portion for bonding the substrates through an adhesive,
An apparatus for manufacturing an optical disk by bonding a pair of substrates with an adhesive is also provided. In this apparatus, a substrate is sent from a molding unit to a bonding unit via a film forming unit to a bonding unit, and the molding unit and the film forming unit are formed. A temporary standby unit for holding the substrate between the unit and the unit for a predetermined time. The standby unit has the predetermined environment and performs the standby process described above. The forming unit forms a pair of substrates, at least one of which has irregularities on one side main surface, and the film forming unit forms a metal thin film on one side main surface of the substrate having irregularities.

【0023】本発明において、待機処理を実施するこ
と、金型温度を異ならせて対の基板を成形すること、及
び成形時に金型部分において温度差を設けることを除い
て、光ディスクまたは基板の製造方法は、基板の成形、
金属薄膜の成形及び基板の接合(または結合)を含め
て、以下に例示的に説明するように、公知の材料及び装
置を用いて公知の条件下で公知の方法によって実施でき
る。
In the present invention, the manufacturing of an optical disc or a substrate is performed except that a standby process is performed, a pair of substrates is formed by changing a mold temperature, and a temperature difference is provided in a mold portion at the time of forming. The method includes forming the substrate,
Including the formation of the metal thin film and the joining (or bonding) of the substrate, the method can be carried out by a known method using known materials and equipment under known conditions, as exemplified below.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の光ディスクの構
成要素、光ディスクの製造方法、光ディスクを構成する
ための基板及びその製造方法について更に詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The components of an optical disk, a method of manufacturing an optical disk, a substrate for forming an optical disk, and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described below in more detail.

【0025】〔光ディスク〕本発明は、ROM型、RA
M型及びR型の種々の光ディスクの製造を対象としてい
る。例えば、DVDのほか、CD(Compact Disk)、P
D(Phase change Disk)、LD(Laser Disk)等の各
種光ディスクのうち、複数枚の基板を貼り合わせて構成
する貼り合わせ型の光ディスクを対象とする。このよう
な貼り合わせ型光ディスクは、単層の記録層を有してよ
く、一般的には2層の記録層を有する。
[Optical Disk] The present invention relates to a ROM type,
It is intended for the manufacture of various types of M-type and R-type optical disks. For example, in addition to DVD, CD (Compact Disk), P
Among various optical disks such as a D (Phase change Disk) and an LD (Laser Disk), a bonded optical disk constituted by bonding a plurality of substrates is targeted. Such a laminated optical disc may have a single recording layer, and generally has two recording layers.

【0026】〔基板〕本発明の光ディスクの製造に用い
る基板は、光ディスクの利用目的等に合わせて、合成樹
脂、金属薄膜等の材料を適宜に組み合わせて製造され
る。DVD用光ディスクの場合、基板は、ポリカーボネ
ート樹脂等の透明樹脂から成形され、基板の片側主表面
は、上述のように、記録するデータに対応する、あるい
はランドよびグルーブに対応する所定の微細な凹凸を有
する。1対の基板の内、少なくとも一方が凹凸を有する
片側主表面を有する。
[Substrate] The substrate used for manufacturing the optical disk of the present invention is manufactured by appropriately combining materials such as a synthetic resin and a metal thin film in accordance with the purpose of use of the optical disk. In the case of a DVD optical disk, the substrate is molded from a transparent resin such as a polycarbonate resin, and one main surface of the substrate has predetermined fine irregularities corresponding to data to be recorded, or lands and grooves, as described above. Having. At least one of the pair of substrates has a one-sided main surface having irregularities.

【0027】このような基板の凹凸を有する主表面に金
属薄膜を形成する。この金属薄膜は、光ディスクに照射
されるレーザー光を反射する金属層であり、金、アルミ
ニウム、シリコン等の金属から形成され、スパッタリン
グ等の方法により形成できる。形成される金属薄膜は、
光に対して不透明または半透明である。金属薄膜の表面
には必要に応じて保護膜(例えば硫化亜鉛の層)を形成
してもよい。
A metal thin film is formed on the main surface of the substrate having the irregularities. This metal thin film is a metal layer that reflects a laser beam applied to an optical disk, and is formed of a metal such as gold, aluminum, or silicon, and can be formed by a method such as sputtering. The formed metal thin film is
Opaque or translucent to light. A protective film (for example, a layer of zinc sulfide) may be formed on the surface of the metal thin film as necessary.

【0028】尚、読み取り専用の光ディスクの場合は、
上述のような基板を使用するが、書き込み型または追記
型の光ディスクは、金属薄膜を形成する前に、凹凸を有
する基板の主表面上に、常套の方法で可逆的変化可能な
材料(例えばGeSbTe)または不可逆的変化可能材
料(例えばTePdO)の層を記録層として形成する。
In the case of a read-only optical disk,
Although a substrate as described above is used, a write-once or write-once optical disc is formed on a main surface of a substrate having irregularities before forming a metal thin film on a main surface of a substrate having a concavo-convex pattern by using a reversibly changeable material (eg, GeSbTe) in a conventional manner. ) Or a layer of irreversibly changeable material (eg, TePdO) is formed as the recording layer.

【0029】このような基板を2つ貼り合わせる。通常
は、記録層が配置された側の面が貼り合わせ面となる。
この場合、2つの基板が上述のような凹凸及び金属薄
膜、並びに場合により、可逆的変化可能な材料または不
可逆的変化可能材料の層を有するものであってもよい。
この場合、基板同士は、同じ材料及び構造を有するもの
であってもよいし、異なる材料あるいは構造の基板同士
であってもよい。ROM型の場合、通常は、貼り合わせ
る一対の基板において、少なくとも凹凸、従って、記録
層の構造が異なっている。他の型の場合では、フォーマ
ット・データに対応する箇所を除いて、双方の基板の少
なくとも凹凸、従って、記録層の構造が同じであってよ
い。別の態様では、一方がそのような凹凸及び金属薄膜
を有する基板で、他方は凹凸も金属薄膜も有さない、単
なる樹脂からできた平坦な両主表面を有するディスク形
状の基板であってもよい。保護膜は、存在しなくても、
あるいは少なくとも一方の基板が有してもよい。
Two such substrates are bonded together. Usually, the surface on the side where the recording layer is arranged is the bonding surface.
In this case, the two substrates may have a texture and a thin metal film as described above, and optionally a layer of a reversibly changeable or irreversibly changeable material.
In this case, the substrates may have the same material and structure, or may have different materials or structures. In the case of the ROM type, usually, at least a pair of substrates to be bonded are different from each other in at least the concavo-convex shape, and therefore the structure of the recording layer. In the case of another type, at least the concavities and convexities of both substrates, and thus the structure of the recording layer, may be the same except for the portion corresponding to the format data. In another embodiment, one is a substrate having such irregularities and a metal thin film, and the other is a disk-shaped substrate having neither flats nor a metal thin film and having two flat main surfaces made of a simple resin. Good. Even if the protective film does not exist,
Alternatively, at least one of the substrates may have it.

【0030】基板の形状は、通常の光ディスクに用いる
場合は、薄い円板状であり、中央部に円形の開口部を有
する。また、通常一方の基板は、開口部の周囲にリブを
有する。貼り合わせた基板の利用目的によっては円板以
外の形状であってもよく、また、貼り合わせた後で基板
の形状を加工することも可能である。貼り合わせるため
に、基板同士を積層する場合には、金属薄膜が内側に位
置する、即ち、貼り合わせ面に近い側に位置するように
対の基板を配置する。
When the substrate is used for an ordinary optical disk, it has a thin disk shape and has a circular opening at the center. Usually, one of the substrates has a rib around the opening. Depending on the purpose of use of the bonded substrates, the substrates may have a shape other than a circular plate, and the shapes of the substrates may be processed after bonding. When laminating substrates for lamination, the paired substrates are arranged such that the metal thin film is located on the inner side, that is, on the side closer to the lamination surface.

【0031】〔基板の成形工程〕基本的には、通常の光
ディスク用基板と同様の成形装置及び成形方法が採用さ
れる。成形方法及び装置として、射出成形法及び射出成
形装置が用いられる。射出成形装置では、金型は上下あ
るいは左右に配置された一対の金型部分から構成され、
この金型部分の間に、基板の外側形状に対応する形状の
キャビティを形成する。基板には、前記した記録情報用
の微細な凹凸を構成するピット(ROM型の場合)また
はランド及びグルーブ(RAM型またはR型の場合)が
設けられるので、キャビティの片面には、基板の微細な
凹凸構造に対応する微細な凹凸形状を有する。
[Process of Forming Substrate] Basically, a forming apparatus and a forming method similar to those of a normal optical disc substrate are employed. As the molding method and apparatus, an injection molding method and an injection molding apparatus are used. In the injection molding apparatus, the mold is composed of a pair of mold parts arranged vertically or horizontally,
A cavity having a shape corresponding to the outer shape of the substrate is formed between the mold portions. Since the substrate is provided with pits (in the case of ROM type) or lands and grooves (in the case of RAM type or R type) which constitute the above-mentioned fine irregularities for recording information, one side of the cavity is provided with a fine surface of the substrate. It has a fine uneven shape corresponding to a rough uneven structure.

【0032】射出成形では、高温に加熱溶融された樹脂
材料を高圧で金形型のキャビティに射出供給する。射出
圧力及び射出温度等の形成条件は、通常の光ディスク用
の基板の製造における条件と同様であってよい。金型内
に射出供給された溶融樹脂の流れを良好にするため、金
型は所定の温度に加熱されている。後述するように、金
型の加熱温度を調節することで、成形される基板の形状
精度及び反り量を制御することができる。
In the injection molding, a resin material heated and melted at a high temperature is injected and supplied to a cavity of a mold at a high pressure. The forming conditions such as the injection pressure and the injection temperature may be the same as the conditions for manufacturing a substrate for an ordinary optical disk. In order to improve the flow of the molten resin injected and supplied into the mold, the mold is heated to a predetermined temperature. As will be described later, by adjusting the heating temperature of the mold, the shape accuracy and the amount of warpage of the formed substrate can be controlled.

【0033】基板の表側の面を形成する金型部分の温度
と、基板の裏側の面を形成する金型部分の温度との温度
差を6℃以上、10℃以下(好ましくは、7℃〜9℃)
の範囲に設定して基板を成形することにより、最終的に
製造される光ディスクの反りを少なくすることができる
ことが見出された。また、この温度差を0℃以上、6℃
未満(好ましくは、2℃〜5℃)の範囲に設定しておく
と、製造直後の光ディスクの反りは、前記温度差6℃以
上、10℃以下の場合よりも若干増えるが、経時的な反
りの増大を低く抑えることができることも見出された。
The temperature difference between the temperature of the mold portion forming the front surface of the substrate and the temperature of the mold portion forming the rear surface of the substrate is from 6 ° C. to 10 ° C. (preferably from 7 ° C. to 10 ° C.). 9 ℃)
It has been found that by setting the substrate in the range described above, the warp of the optical disk finally manufactured can be reduced. In addition, this temperature difference is set to 0 ° C. or more and 6 ° C.
If the temperature difference is set in the range of less than 2 ° C. (preferably 2 ° C. to 5 ° C.), the warpage of the optical disk immediately after manufacturing slightly increases compared to the case where the temperature difference is 6 ° C. or more and 10 ° C. or less. It has also been found that the increase in

【0034】本発明の方法では、1対の基板を貼り合わ
せることによって光ディスクを製造するが、上述のよう
に、これらの2つの基板はそれぞれ異なる成形機で製造
し、その場合、成形機の金型温度を異なるようにするの
が好ましいことが見出された。この場合において、金型
温度の温度差は2℃〜6℃であるのが好ましく、3℃〜
4℃であるのがより好ましい。
In the method of the present invention, an optical disk is manufactured by laminating a pair of substrates. As described above, these two substrates are manufactured by different molding machines, and in this case, the metal mold of the molding machine is used. It has been found that different mold temperatures are preferred. In this case, the temperature difference between the mold temperatures is preferably from 2 ° C to 6 ° C, and preferably from 3 ° C to
More preferably, it is 4 ° C.

【0035】本発明の方法では、1対の基板を貼り合わ
せることによって光ディスクを製造するが、上述のよう
に、光ディスクを構成する一対の基板を、第1及び第2
の別々の成形機で成形して、その場合、両成形機の金型
温度に差をつけておくことで、光ディスクの反り量の経
時的変化を制御することができる。具体的な例では、1
対の基板のうち、半透過性の金属薄膜を成膜する基板
(形状的にはリブを有している)を成形する成形機の金
型の温度を、他方の基板(リブを有しない)を成形する
成形機の金型の温度よりも2〜6℃高くすることによっ
て、光ディスクの経時的な反りの増大を低く抑えること
ができる。例えば、反り量の変化Δtを±0.3°以内
に抑えることができる。
According to the method of the present invention, an optical disk is manufactured by bonding a pair of substrates. As described above, the pair of substrates constituting the optical disk are divided into the first and second substrates.
In this case, a change in the amount of warpage of the optical disk with time can be controlled by setting a difference in the mold temperature between the two molding machines. In a specific example, 1
Of the pair of substrates, the temperature of the mold of a molding machine for molding a substrate (having ribs in shape) for forming a semi-permeable metal thin film is set to the other substrate (having no ribs). By increasing the temperature by 2 ° C. to 6 ° C. higher than the temperature of a mold of a molding machine for molding the optical disk, it is possible to suppress an increase in warpage of the optical disk with time. For example, the change Δt in the amount of warpage can be suppressed to within ± 0.3 °.

【0036】〔金属薄膜の形成(成膜)工程〕通常の光
ディスクと同様に、薄膜形成手段を用いて反射膜となる
金属薄膜を基板の表面に形成する。金属薄膜は、ピット
等の微細な凹凸を有する基板の主表面に直接その上に、
あるいは、凹凸上に設けた可逆的または不可逆的に変化
可能な層の上に形成される。金属薄膜の材料は、金やア
ルミその他の通常の光ディスクに使用されている金属材
料が用いられる。薄膜形成手段としては、真空蒸着、C
VD(Chemical Vapor Deposition)、PVD(Physica
l Vapor Deposition)などが採用される。
[Formation (Deposition) Step of Metal Thin Film] A metal thin film to be a reflection film is formed on the surface of the substrate by using a thin film forming means in the same manner as an ordinary optical disk. The metal thin film is directly on the main surface of the substrate having fine irregularities such as pits,
Alternatively, it is formed on a reversibly or irreversibly changeable layer provided on the unevenness. As the material of the metal thin film, gold, aluminum, and other metal materials used for ordinary optical disks are used. Vacuum deposition, C
VD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physica
l Vapor Deposition) is adopted.

【0037】〔待機処理〕上述のように、金属薄膜を形
成する前に待機処理を実施し、その後、成膜工程を実施
する。通常、一定時間、例えば1〜6分の待機期間の待
機処理が終了した後、成膜工程を実施する。この待機時
間は、一般的に、成形された基板が成形機の金型から取
り出された時点から始まり、成膜工程において金属薄膜
の形成が開始されるまでの時間である。従って、例え
ば、成形工程から成膜工程への基板の移送に要する時間
も待機時間に含まれ、従って、その間でも待機処理が実
施される。
[Standby Process] As described above, a standby process is performed before forming a metal thin film, and then a film forming process is performed. Normally, after a standby process for a predetermined period of time, for example, a standby period of 1 to 6 minutes, a film forming process is performed. The waiting time generally starts from the time when the formed substrate is taken out of the mold of the molding machine and is the time until the formation of the metal thin film in the film forming process. Therefore, for example, the time required to transfer the substrate from the molding process to the film forming process is also included in the standby time, and the standby process is performed during that time.

【0038】最終製品である光ディスクの反りを抑制す
るには、基板の温度とその周辺の環境の温度との差が5
℃以下になるまで基板を降温させることが好ましい。こ
の降温に要する時間として、少なくとも2分程度をとる
ことが望ましい。このような基板の温度の降下はいずれ
の適当な手段によって確認してもよく、例えば赤外線式
温度計を用いて測定できる。
In order to suppress the warpage of the optical disk as the final product, the difference between the temperature of the substrate and the temperature of the surrounding environment must be 5 or less.
It is preferable to lower the temperature of the substrate until the temperature becomes lower than or equal to ° C. It is desirable that the time required for the temperature drop be at least about 2 minutes. Such a decrease in the temperature of the substrate may be confirmed by any appropriate means, for example, it can be measured using an infrared thermometer.

【0039】成形直後の基板は、基板材料によっても異
なるが、通常は70〜100℃程度の高温状態であり、
待機処理によってそのような基板の温度を下げる。待機
処理を実施する環境は、光ディスクの製造ラインの成形
機の外部であり、製造ラインが配置されている部屋であ
る。基板を降温させるには、環境温度中に放置しておく
だけでもよいし、冷風を当てたり低温物体に接触させた
りして強制的に降温させることもできる。但し、急激な
冷却による熱応力や熱歪みの発生は避けなければならな
い。このように、待機処理を実施するが、その環境の温
度は、一般的には15℃〜35℃であり、通常は常温
(20℃〜25℃)程度である。
The substrate immediately after molding varies depending on the substrate material, but is usually in a high temperature state of about 70 to 100 ° C.
The temperature of such a substrate is lowered by a standby process. The environment in which the standby process is performed is outside the molding machine of the optical disk production line, and is a room where the production line is located. In order to lower the temperature of the substrate, the substrate may be left alone at an ambient temperature, or may be forcibly cooled by blowing cold air or contacting a low-temperature object. However, the occurrence of thermal stress and thermal distortion due to rapid cooling must be avoided. As described above, the standby process is performed, and the temperature of the environment is generally 15 ° C. to 35 ° C., and is usually about room temperature (20 ° C. to 25 ° C.).

【0040】また、待機処理においては、基板の吸湿量
が0.1重量%(水分を含まない乾燥した基板の重量基
準)を越えない、好ましくは0.08重量%を越えな
い、より好ましくは0.05重量%を越えないようにす
る。吸湿量の増大を抑えるには、成形工程から待機処理
を経て成膜工程に至る環境の湿度調整を行うことができ
る。例えば、これらの工程の間で移送経路をトンネル状
の閉鎖空間にしておいて、空間内の湿度を調整すること
もできる。吸湿量が少ないほど光ディスクの反り変形は
抑制される。
In the stand-by process, the moisture absorption of the substrate does not exceed 0.1% by weight (based on the weight of the dried substrate containing no water), preferably does not exceed 0.08% by weight, more preferably. Should not exceed 0.05% by weight. In order to suppress the increase in the amount of absorbed moisture, it is possible to adjust the humidity of the environment from the molding process to the film forming process through the standby process. For example, the transfer path may be a tunnel-like closed space between these steps, and the humidity in the space may be adjusted. The smaller the moisture absorption, the more the warpage of the optical disc is suppressed.

【0041】基板が、上述のような吸湿量を維持しなが
ら、環境の温度と同じか、あるいはそれより少し高い程
度まで降温していれば、基板の熱変形や熱応力を原因と
する反り変形が抑えられる。環境の温度より基板温度が
高過ぎる状態、または吸湿量が多過ぎる状態で成膜工程
を実施すると、製造された光ディスクの反り角のバラツ
キが大きくなってしまう。一般的には、温度20℃〜3
5℃、相対湿度10%〜60%の環境で待機処理を実施
するのが好ましく、このような環境では、1分〜6分の
待機時間で吸湿量及び温度差を上記範囲にすることがで
きる。
If the substrate is cooled down to a temperature equal to or slightly higher than the temperature of the environment while maintaining the above-mentioned moisture absorption, the warping deformation due to the thermal deformation or thermal stress of the substrate. Is suppressed. If the film forming process is performed in a state where the substrate temperature is higher than the environmental temperature or in a state where the amount of moisture absorption is too large, the variation in the warp angle of the manufactured optical disk increases. Generally, a temperature of 20 ° C. to 3
The standby treatment is preferably performed in an environment of 5 ° C. and a relative humidity of 10% to 60%. In such an environment, the amount of moisture absorption and the temperature difference can be within the above ranges by a standby time of 1 minute to 6 minutes. .

【0042】別の表現をすれば、本発明において、待機
時間は、成形された基板が上記温度範囲に降温すると同
時に、吸湿量も上記量以下となる程度の時間に設定され
る。成形工程から成膜工程までの待機時間が短か過ぎる
と、十分に降温していない基板に成膜が行われることに
なり、成膜時に基板の変形が起こり易く、特に成膜時に
熱が加わる場合は、基板の熱変形が起こり、製造された
光ディスクに反りが生じ易い。
In other words, in the present invention, the standby time is set to such a time that the molded substrate cools down to the above-mentioned temperature range and at the same time, the amount of moisture absorption becomes less than the above-mentioned amount. If the standby time from the molding step to the film forming step is too short, the film is formed on the substrate whose temperature is not sufficiently lowered, and the substrate is likely to be deformed at the time of film forming, and particularly heat is applied at the time of film forming. In this case, thermal deformation of the substrate occurs, and the manufactured optical disk is likely to be warped.

【0043】また、待機時間が長過ぎる、例えば40分
を越えると、基板の吸湿量がばらついて、反り変形が生
じ易くなることがある。待機時間として、従来のアニー
ル処理のように数時間〜24時間に及ぶ十分に長い時間
をとれば、吸湿量は一定になり、吸湿に伴う反り変形の
バラツキは解消するが、作業能率が悪くなる。また、長
時間にわたる待機時間の間の環境の温度及び/または湿
度の変動によって、光ディスクの反り変形にバラツキが
生じることもある。
If the waiting time is too long, for example, more than 40 minutes, the amount of moisture absorption of the substrate may vary, and the substrate may be easily warped. If a sufficiently long standby time of several hours to 24 hours is taken as the standby time as in the conventional annealing treatment, the amount of moisture absorption becomes constant, and the variation in the warping deformation due to the moisture absorption is eliminated, but the work efficiency becomes poor. . Also, variations in the temperature and / or humidity of the environment during the long standby time may cause variations in the warpage of the optical disc.

【0044】本発明において、所定の待機時間を設定す
るには、成形工程から成膜工程に至る基板の移送時間を
調整すればよい。例えば、基板の移送手段となるコンベ
アの速度や長さを調整することで、待機時間を変更する
ことができる。別法では、成形工程及び成膜工程を一定
のサイクルで連続的に実行するとともに、成形工程と成
膜工程の間で、基板を一時的に滞留させて、その間に、
待機処理を実施する一時的待機手段を備えておくことが
できる。
In the present invention, the predetermined standby time can be set by adjusting the transfer time of the substrate from the molding step to the film forming step. For example, the standby time can be changed by adjusting the speed and length of a conveyor serving as a substrate transfer unit. In another method, the forming step and the film forming step are continuously performed in a fixed cycle, and the substrate is temporarily retained between the forming step and the film forming step.
Temporary standby means for performing standby processing may be provided.

【0045】〔一時的待機手段〕具体的な1つの態様で
は、成形工程から成膜工程へと基板を移送するコンベア
の途中に、コンベア上を走行する基板をコンベアから取
り出して別の場所に積み重ねる、あるいは並べて置き、
所定時間の経過後に、取り出した基板を再びコンベア上
に戻して成膜工程へと送り込む装置を採用できる。
[Temporary Standby Means] In one specific embodiment, a substrate running on the conveyor is taken out of the conveyor and stacked at another location in the middle of the conveyor for transferring the substrate from the molding process to the film forming process. , Or side by side,
After a lapse of a predetermined time, an apparatus may be employed in which the taken out substrate is returned to the conveyor again and sent to the film forming step.

【0046】このような一時的待機手段を備えると、待
機時間を調整するために移送コンベアの速度や長さの設
定を変更する手間がかからない。待機時間が長くなって
も、移送コンベアが長大になったり、設備スペースが増
えたりすることがない。
When such a temporary standby means is provided, it is not necessary to change the setting of the speed and length of the transfer conveyor in order to adjust the standby time. Even if the waiting time is long, the transfer conveyor does not become long and the equipment space does not increase.

【0047】〔基板の接合工程〕成膜工程後、一対の基
板を接着剤を介して貼り合わせる。それには通常の光デ
ィスクの製造の場合と同様の処理方法及び処理装置が用
いられる。
[Substrate Bonding Step] After the film forming step, a pair of substrates is bonded together with an adhesive. For this purpose, the same processing method and processing apparatus as in the case of manufacturing an ordinary optical disk are used.

【0048】接着剤としては、貼り合わせる基板の材
質、光ディスクの使用条件(例えば使用箇所(例えば車
載用)、使用環境温度、使用目的(例えばオーディオ
用)等)に応じて、種々の光硬化型の接着剤が用いられ
る。特に、DVD用光ディスクでは、紫外線硬化型の透
明接着剤を用いるのが好ましい。紫外線以外の波長の光
で硬化する接着剤も使用できる。1対の基板の片方また
は両方に、通常の塗布手段や塗工手段を用いて接着剤を
供給し、基板同士を重ね合わせたあと、紫外線等で硬化
させればよい。尚、貼り合わせは、金属薄膜または凹凸
を有する基板の主表面が内側に位置するように、2つの
基板の双方が金属薄膜または凹凸を有する場合には、双
方の金属薄膜または凹凸を有する基板の主表面が内側に
位置する(即ち、対向する)ように行う。
As the adhesive, various light-curing types can be used depending on the material of the substrate to be bonded, the conditions of use of the optical disk (for example, the place of use (for example, for vehicle use), the temperature of use, the purpose of use (for example, audio), etc. Is used. In particular, for a DVD optical disk, it is preferable to use an ultraviolet-curable transparent adhesive. Adhesives that cure with light of a wavelength other than ultraviolet light can also be used. An adhesive may be supplied to one or both of the pair of substrates by using a normal coating means or a coating means, and the substrates may be overlapped with each other and then cured with ultraviolet light or the like. When both substrates have a metal thin film or irregularities, the bonding is performed on the substrate having both the metal thin film or the irregularities so that the main surface of the substrate having the metal thin film or the irregularities is located inside. This is performed so that the main surface is located inside (that is, opposed).

【0049】好ましい貼り合わせ方法として、以下の方
法を適用できる:一対の基板を比較的狭い間隔をあけた
状態で対向させて保持しておき、その間隙に接着剤の吐
出ノズルを差し込み、吐出ノズルから接着剤を吐出しな
がら1対の基板をその面に垂直な軸の回りで回転させる
ことによって間隙内に接着剤を環状に配置する。その
後、基板間の間隙を狭めるとともに、さらに両基板を回
転させることで、環状の接着剤が半径方向に拡がり、基
板の間隙を薄い接着剤層で埋めることができる。
As a preferable bonding method, the following method can be applied: a pair of substrates is opposed to each other and held at a relatively small interval, and an adhesive discharge nozzle is inserted into the gap, and the discharge nozzle is inserted. By rotating the pair of substrates about an axis perpendicular to the surface while discharging the adhesive from the substrate, the adhesive is annularly arranged in the gap. Thereafter, by narrowing the gap between the substrates and further rotating the two substrates, the annular adhesive spreads in the radial direction, and the gap between the substrates can be filled with a thin adhesive layer.

【0050】接着剤層を光硬化させるには、通常は、平
坦な載置台上に水平状態で置かれた基板対の上方に光照
射ランプを配置しておき、光照射ランプから照射される
光を上面側の透明な基板材料、及び存在する場合には半
透明な金属薄膜を通過させて接着剤層に到達させて接着
剤の光硬化を行う。このような貼り合わせ方法は、先に
引用した国際公開第WO97/35720号等で具体的
に詳しく開示されている。
In order to cure the adhesive layer by light, usually, a light irradiation lamp is arranged above a pair of substrates placed horizontally on a flat mounting table, and the light irradiated from the light irradiation lamp is set. Is passed through a transparent substrate material on the upper surface side and, if present, a semi-transparent metal thin film to reach the adhesive layer to perform photo-curing of the adhesive. Such a bonding method is specifically disclosed in detail in International Publication No. WO97 / 35720 cited above.

【0051】〔その他の工程〕一対の基板が接着剤で貼
り合わせられると、本発明の光ディスクは完成するが、
光ディスクの形状及び寸法を検査したり、必要なデータ
情報が記録されているか等を検証したりする検査工程を
行うことができる。光ディスクの表面の内、情報読み取
りに支障のない面あるいは部分に印刷で文字等を表記す
る工程を加えることもできる。
[Other Steps] When a pair of substrates are bonded with an adhesive, the optical disk of the present invention is completed.
An inspection process for inspecting the shape and dimensions of the optical disk and verifying whether necessary data information is recorded can be performed. It is also possible to add a step of printing characters or the like on a surface or a portion of the surface of the optical disk which does not hinder information reading.

【0052】[0052]

【発明の実施の形態】本発明の光ディスクは、例えば図
1に示ように、成形工程(1)、成膜工程(2)及び接
合工程(3)から成る製造ライン100に基づいて製造
される。図示した態様では、ROM型の光ディスクを製
造する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An optical disk according to the present invention is manufactured on the basis of a manufacturing line 100 comprising a forming step (1), a film forming step (2) and a joining step (3), as shown in FIG. . In the illustrated embodiment, a ROM optical disk is manufactured.

【0053】成形工程(1)では、射出成形装置を用い
てドーナッツ円板状の基板d1及びd2を成形する。基
板d1及びd2の片側主表面には、記録すべき情報に対
応する微細な凹凸を構成するピットが成形されている。
基板d1及びd2の一方については、表面に凹凸のない
平滑なものが用いることも可能である。
In the molding step (1), donut disk-shaped substrates d1 and d2 are molded using an injection molding apparatus. On one main surface of each of the substrates d1 and d2, pits forming fine irregularities corresponding to information to be recorded are formed.
As one of the substrates d1 and d2, a smooth substrate having no unevenness on the surface can be used.

【0054】成膜工程(2)では、真空蒸着装置などの
薄膜形成手段を用いて、基板d1及びd2の表面に金属
薄膜を形成する。例えば、基板d1には金、基板d2に
はアルミニウムの薄膜を形成することができる。片面記
録である場合、片方の基板について成膜を行わない場合
もある。
In the film forming step (2), a metal thin film is formed on the surfaces of the substrates d1 and d2 by using a thin film forming means such as a vacuum evaporation apparatus. For example, a thin film of gold can be formed on the substrate d1, and a thin film of aluminum can be formed on the substrate d2. In the case of single-sided recording, film formation may not be performed on one substrate.

【0055】接合工程(3)は、基板d1及びd2を接
着剤gで貼り合わせて、光ディスクDを製造する。この
工程は、(i)接着剤の供給、(ii)基板の積層及び(i
ii)接着剤の硬化のサブステップから成る。
In the joining step (3), the substrates d1 and d2 are bonded with an adhesive g to manufacture the optical disc D. This step includes (i) supplying an adhesive, (ii) laminating a substrate, and (i)
ii) Consists of a sub-step of curing the adhesive.

【0056】まず、接着剤供給サブステップ(i)で
は、一対の基板d1及びd2を、微細な凹凸を有し金属
薄膜が形成された側の表面を対向させて、配置する。接
着剤供給器Gの先端ノズルから接着剤gを吐出させなが
ら、基板d1及びd2を水平回転させることで、接着剤
gが円環状に配置される。この時、上下の基板d1及び
d2の間隔を狭めておき、接着剤供給器gから吐出され
る接着剤gが上下の基板d1及びd2に接触した状態で
配置されるようにすれば、接着剤gが確実に配置され、
次の積層サブステップで基板d1及びd2の間に気泡が
浸入したり、接着剤gの塗布ムラが生じたりすることが
防げる。
First, in the adhesive supply sub-step (i), a pair of substrates d1 and d2 are arranged so that the surfaces on the side having fine irregularities and on which the metal thin film is formed face each other. By horizontally rotating the substrates d1 and d2 while discharging the adhesive g from the tip nozzle of the adhesive supply device G, the adhesive g is arranged in an annular shape. At this time, if the distance between the upper and lower substrates d1 and d2 is narrowed so that the adhesive g discharged from the adhesive supply device g is disposed in contact with the upper and lower substrates d1 and d2, the adhesive g is placed securely,
In the next laminating sub-step, it is possible to prevent air bubbles from entering between the substrates d1 and d2 and to prevent application unevenness of the adhesive g.

【0057】積層サブステップ(ii)では、基板d1及
びd2を近づけるとともに水平回転させることで、間に
介在する接着剤gが基板d1及びd2の間で全面に薄く
引き延ばされて、基板d1及びd2を密着させて積層す
る。接着剤硬化サブステップ(iii)では、基板d1及
びd2の積層体の片面側から紫外線照射ランプLで紫外
線を照射し、透明な基板d1を通過して接着剤gを紫外
線硬化させる。接着剤gが硬化すれば、基板d1及びd
2が貼り合わせされた光ディスクが得られる。
In the laminating sub-step (ii), the substrates d1 and d2 are brought close to each other and horizontally rotated, so that the adhesive g interposed therebetween is thinly stretched over the entire surface between the substrates d1 and d2, and the substrates d1 and d2 are thinned. And d2 are adhered and laminated. In the adhesive curing sub-step (iii), ultraviolet light is irradiated from one side of the laminate of the substrates d1 and d2 by the ultraviolet irradiation lamp L, and the ultraviolet light cures the adhesive g through the transparent substrate d1. When the adhesive g is cured, the substrates d1 and d1
2 is obtained.

【0058】〔製造装置〕図2は、本発明の光ディスク
の製造方法を実施できる光ディスクの製造装置を上から
見た様子を模式的に示す。この装置は、成形部20(及
び20’)、一時待機手段30、成膜部40及び接合部
50を備えている。各工程部は、右方向に走行する移送
コンベア10に沿って配置されている。
[Manufacturing Apparatus] FIG. 2 schematically shows an optical disk manufacturing apparatus which can carry out the optical disk manufacturing method of the present invention as viewed from above. This apparatus includes a forming unit 20 (and 20 ′), a temporary standby unit 30, a film forming unit 40, and a joining unit 50. Each process unit is arranged along a transfer conveyor 10 running rightward.

【0059】成形部20及び20’は、移送コンベア1
0の上流側で移送コンベア10の両側にそれぞれ配置さ
れている。成形部20及び20’は2系列の射出成形装
置から構成され、基板d1及びd2を連続的に成形す
る。成形された基板d1及びd2は、旋回運動する搬送
アーム22によって、移送コンベア10上に交互に供給
される。移送コンベア10上では、基板d1と基板d2
とが交互に並んで移送される。
The molding units 20 and 20 ′ are provided on the transfer conveyor 1.
0 and on both sides of the transfer conveyor 10 respectively. The molding units 20 and 20 'are composed of two series of injection molding devices, and continuously mold the substrates d1 and d2. The formed substrates d1 and d2 are alternately supplied onto the transfer conveyor 10 by the transport arm 22 that rotates. On the transfer conveyor 10, the substrates d1 and d2
Are transferred alternately.

【0060】成形部20及び20’と成膜部40の間に
配置された一時待機手段30は、十字状の旋回アーム3
2の作動により、移送コンベア10上を移送される基板
d1及びd2を、移送コンベア10の側方に配置された
待機台34に移す。待機台34では、基板d1及びd2
が順次積み重ねられていく。待機台34で一定時間を待
機させられた基板d1及びd2は、再び旋回アーム32
の作動によって移送コンベア10上に戻される。基板d
1及びd2が待機台34上に置いておかれる時間を調整
することで、待機時間を変更することができる。
The temporary standby means 30 disposed between the forming units 20 and 20 ′ and the film forming unit 40
By the operation of 2, the substrates d1 and d2 transferred on the transfer conveyor 10 are transferred to the stand 34 arranged on the side of the transfer conveyor 10. In the stand 34, the substrates d1 and d2
Are sequentially stacked. The substrates d1 and d2 that have been on standby for a predetermined time on the standby table 34 are
Is returned onto the transfer conveyer 10 by the operation of. Substrate d
By adjusting the time during which 1 and d2 are placed on the standby table 34, the standby time can be changed.

【0061】成膜部40では、移送コンベア10上を移
送される基板d1及びd2を順次、往復アーム42で取
り入れ、それぞれの基板d1及びd2に対応する金属薄
膜を形成して、再び移送コンベア10上に戻す。金属薄
膜として、金及びアルミを用いる場合、成膜部40には
それぞれの金属に対応する薄膜形成機構を備えておく。
成膜工程が完了し、移送コンベア10の下流まで運ばれ
た基板d1及びd2は、旋回アーム12の作動により接
合部50に送り込まれる。
In the film forming section 40, the substrates d1 and d2 transferred on the transfer conveyor 10 are sequentially taken in by the reciprocating arm 42, and a metal thin film corresponding to each of the substrates d1 and d2 is formed. Return to top. When gold and aluminum are used as the metal thin film, the film forming unit 40 is provided with a thin film forming mechanism corresponding to each metal.
The substrates d <b> 1 and d <b> 2 conveyed to the downstream of the transfer conveyor 10 after the film forming process is completed are sent to the joint 50 by the operation of the turning arm 12.

【0062】接合部50では、基板d1及びd2の対向
保持、接着剤供給器Gによる接着剤gの供給、基板d1
及びd2の積層及び接着剤の引き延ばし、紫外線ランプ
Lによる硬化処理などが行われ、光ディスクDが得られ
る。得られた光ディスクDは、回収コンベア60に載せ
られて運ばれる。
At the joint 50, the substrates d1 and d2 are held opposite to each other, the adhesive g is supplied by the adhesive supplier G,
And d2 are laminated, the adhesive is stretched, and a curing process using an ultraviolet lamp L is performed. Thus, an optical disc D is obtained. The obtained optical disk D is placed on the collection conveyor 60 and transported.

【0063】〔静電気除去装置〕上記製造装置におい
て、基板d1及びd2に静電気が溜まることを防止する
静電気除去装置を備えておくことができる。特に、成形
工程から待機処理を経て成膜工程に至る経路では、上述
するように基板d1及びd2の吸湿量を少なくすること
が好ましい。そのためには基板d1及びd2を乾燥状態
にしておくことが好ましいが、乾燥状態の基板d1及び
d2は静電気が発生し易い。基板d1及びd2に静電気
が溜まると、表面に塵埃が付着する。そのままで貼り合
わせられると、記録の書き込み読み取りに支障が出る。
そこで、基板d1及びd2に溜まる静電気を除去すれ
ば、静電気に起因する上記問題が解消できる。静電気除
去装置を移送コンベア10に備えておけば、製造工程中
の基板d1及びd2に対して効果的に静電気除去が行え
る。
[Electrostatic Elimination Device] In the above manufacturing apparatus, an electrostatic elimination device for preventing static electricity from accumulating on the substrates d1 and d2 can be provided. In particular, as described above, it is preferable to reduce the moisture absorption of the substrates d1 and d2 in the path from the molding step to the film forming step via the standby processing. For this purpose, it is preferable to keep the substrates d1 and d2 in a dry state, but the substrates d1 and d2 in a dry state are liable to generate static electricity. When static electricity accumulates on the substrates d1 and d2, dust adheres to the surface. If they are bonded as they are, it will interfere with writing and reading of records.
Therefore, if the static electricity accumulated on the substrates d1 and d2 is removed, the above-mentioned problem caused by the static electricity can be solved. If the transfer conveyor 10 is provided with a static electricity removing device, static electricity can be effectively removed from the substrates d1 and d2 during the manufacturing process.

【0064】〔射出成形装置〕金型を断面図で示した射
出成形装置20を模式的に図3に示す。この装置20を
用いて、基板d1及びd2を射出成形により成形する。
ホッパ210に蓄えられた樹脂チップが、スクリューシ
リンダ220内で混練されながら加熱溶融される。射出
シリンダ230に供給された溶融樹脂は、高速かつ高圧
で金型240に供給される。
[Injection Molding Apparatus] FIG. 3 schematically shows an injection molding apparatus 20 in which a mold is shown in a sectional view. Using this apparatus 20, the substrates d1 and d2 are formed by injection molding.
The resin chips stored in the hopper 210 are heated and melted while being kneaded in the screw cylinder 220. The molten resin supplied to the injection cylinder 230 is supplied to the mold 240 at high speed and high pressure.

【0065】金型240は、一対の上側金型部分242
及び下側金型部分244から成る対の金型部分により構
成される。金型部分242及び244には図示しないヒ
ータ等の加熱手段を備えており、金型部分242及び2
44をそれぞれ所定の温度に加熱しておくことができ
る。両金型部分242及び244の間には、基板d1又
はd2の形状に対応する円盤状の空間からなるキャビテ
ィ(または空隙)246が規定されている。
The mold 240 includes a pair of upper mold portions 242.
And a lower mold part 244. The mold parts 242 and 244 are provided with heating means such as a heater (not shown).
44 can each be heated to a predetermined temperature. Between the two mold parts 242 and 244, a cavity (or gap) 246 composed of a disk-shaped space corresponding to the shape of the substrate d1 or d2 is defined.

【0066】〔成形後の吸湿量及び反りの変化〕図4に
示すグラフは、上述の射出成形装置で成形したDVD用
光ディスクの製造に用いる基板d1及びd2(ポリカー
ボネート製)の経時的な吸湿量の変化を表している。ま
た、成形から成膜までの間の待機処理の待機時間の違い
によって、製造された光ディスクに生じる製造直後の反
り角(チルト角)の変化を表している。
[Changes in Moisture Absorption and Warpage after Molding] The graph shown in FIG. 4 shows the moisture absorption over time of the substrates d1 and d2 (made of polycarbonate) used for manufacturing the DVD optical disk molded by the above-described injection molding apparatus. Represents the change. In addition, a change in the warp angle (tilt angle) immediately after the manufacture occurs in the manufactured optical disc due to a difference in a standby time of a standby process from molding to film formation.

【0067】尚、基板は、金型温度90℃にてポリカー
ボネートから成形し、成形後、23℃、相対湿度50%
の環境に保持した。グラフ中の、△は光ディスクの中心
から58mmの位置における反り角であり、□は光ディ
スクの中心から40mmの位置における反り角であり、
○は光ディスクの中心から23mmの位置における反り
角である。反り角は、市販の光学式のディスクの変形量
測定装置を使用してDVD Specificationsに基づいて
測定した。吸湿量は、基板の重量変化により測定した。
The substrate was molded from polycarbonate at a mold temperature of 90 ° C., and after molding, was heated to 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
Environment. In the graph, △ is a warp angle at a position of 58 mm from the center of the optical disk, □ is a warp angle at a position of 40 mm from the center of the optical disk,
○ indicates a warp angle at a position 23 mm from the center of the optical disc. The warpage angle was measured based on DVD Specifications using a commercially available optical disk deformation measuring device. The amount of moisture absorption was measured by a change in the weight of the substrate.

【0068】図4から明らかなように、基板d1及びd
2の吸湿(破線)は、成形直後から急激に増え、その後
も時間とともに増加する。反り角は、待機時間が長くな
るにつれて大きな振れ幅で変動しているが、約4000
sec (70分)程度を越えると、変動幅が小さくなり、
比較的滑らかな変化をし、その後ほぼ一定の値に近づい
ていく。
As is apparent from FIG. 4, the substrates d1 and d1
The moisture absorption (broken line) of No. 2 sharply increases immediately after molding, and thereafter increases with time. The warp angle fluctuates with a large fluctuation width as the standby time becomes longer, but is approximately 4000.
When the time exceeds about sec (70 minutes), the fluctuation range becomes smaller,
It changes relatively smoothly and then approaches a nearly constant value.

【0069】従来技術におけるアニール処理は、このよ
うな反り角の変化が安定してくる状態まで成形後の基板
d1及びd2を放置したあと、成膜工程を行うことによ
って光ディスク毎の反りのバラツキを抑えていた。
In the annealing treatment in the prior art, after the substrates d1 and d2 after molding are allowed to stand until such a change in the warpage angle becomes stable, the variation in the warpage of each optical disk is performed by performing a film forming process. I was holding it down.

【0070】本発明では、基板d1及びd2の吸湿量は
0.1重量%以下に保持するが、そのためには待機時間
が約1〜40分(60〜2400sec )の範囲内に設定
すればよいことが判る。この場合は、反り角の絶対値が
それほど大きくない。本発明の特に好ましい態様では、
吸湿量は0.05重量%以下に保持するが、そのために
は待機時間が約2〜6分(120〜360sec)の範囲
内に設定すればよいことが判る。この場合は、反り角の
変動が生じるまでに成膜を行うことになり、反り角のバ
ラツキも少なくなる。
In the present invention, the moisture absorption of the substrates d1 and d2 is kept at 0.1% by weight or less. For this purpose, the standby time may be set within a range of about 1 to 40 minutes (60 to 2400 sec). You can see that. In this case, the absolute value of the warp angle is not so large. In a particularly preferred embodiment of the present invention,
It is understood that the amount of moisture absorption is maintained at 0.05% by weight or less, and for this purpose, the standby time may be set within a range of about 2 to 6 minutes (120 to 360 seconds). In this case, the film is formed before the variation of the warp angle occurs, and the variation of the warp angle is reduced.

【0071】〔環境試験〕図5は、本発明の製造方法
(待機時間4分)により製造した光ディスクと、24時
間時間のアニール処理を行う従来の製造方法で製造され
た光ディスクとについて、ディスクを製造した後の長期
における経時的な反りの変化を、加速環境(80℃、相
対湿度85%、4日に相当)下の環境試験で評価した結
果を示す。ディスクは、先の吸湿量の変化を測定した場
合と同様のディスクを使用した。尚、基板の待機処理ま
たはアニール処理は、23℃、相対湿度50%の環境中
に保持することにより実施した。基板は、待機処理が終
了後において26℃であり、吸湿量は、0.04重量%
であった。また、基板は、アニール処理が終了後におい
て23℃であり、吸湿量は、0.21重量%であった。
[Environmental Test] FIG. 5 shows the discs of an optical disk manufactured by the manufacturing method of the present invention (standby time: 4 minutes) and an optical disk manufactured by a conventional manufacturing method in which annealing is performed for 24 hours. The results of evaluating the change in warpage over time in the long term after production by an environmental test under an accelerated environment (80 ° C., relative humidity 85%, corresponding to 4 days) are shown. As the disk, the same disk as used when the change in the amount of moisture absorption was measured was used. The standby treatment or the annealing treatment of the substrate was performed by maintaining the substrate in an environment at 23 ° C. and a relative humidity of 50%. The substrate had a temperature of 26 ° C. after the completion of the standby treatment, and had a moisture absorption of 0.04% by weight.
Met. The temperature of the substrate was 23 ° C. after the completion of the annealing treatment, and the moisture absorption was 0.21% by weight.

【0072】図5(a) は、本発明の製造方法で得ら
れた光ディスクの反り角を示す。成形工程と成膜工程と
の間の待機時間は4分であった。尚、10枚のディスク
について試験前後の反り角の差を測定したところ、その
平均値Δtは−0.54°であった。図5(b) は、
成形後に従来のアニール処理(24時間)を行ってから
成膜を行った光ディスクの反り角を示す。10枚のディ
スクについて試験前後の反り角の差を測定したところ、
その平均値Δtは−0.46°であった。
FIG. 5A shows the warp angle of the optical disk obtained by the manufacturing method of the present invention. The waiting time between the forming step and the film forming step was 4 minutes. When the difference between the warp angles of the ten disks before and after the test was measured, the average Δt was −0.54 °. FIG. 5 (b)
This shows the warp angle of an optical disc on which a film is formed after performing a conventional annealing process (24 hours) after molding. When the difference in the warp angles before and after the test was measured for 10 disks,
The average value Δt was −0.46 °.

【0073】従って、図5(a)及び(b)の試験結果
を対比すると、環境試験の前後における反り角の変化
は、従来のアニール処理と本発明の短時間の待機処理と
の間では、実用的な観点からでは実質的な違いは認めら
れなかった。しかしながら、従来のアニール処理と本発
明の待機処理の時間を考えると、本発明の方法では1/
200以下の時間しかかかっておらず、本発明の方法で
は、生産能率が遥かに向上することが実証された。
Therefore, when comparing the test results of FIGS. 5A and 5B, the change in the warp angle before and after the environmental test is different between the conventional annealing process and the short-time standby process of the present invention. No substantial difference was observed from a practical point of view. However, considering the time of the conventional annealing process and the standby process of the present invention, the method of the present invention is 1 /
It took less than 200 hours, demonstrating that the method of the present invention significantly improves production efficiency.

【0074】〔成形型温度の調節〕上述の基板の成形工
程における金型温度または金型部分温度を変えた場合
に、それが最終的に製造される光ディスクの反りに与え
る影響について、上述の環境試験による経時的な反り角
の変化により評価した。尚、待機処理の環境は、温度2
5℃、相対湿度38%であり、待機時間は4分であり、
それによって、基板は、28℃となり、その吸湿量は、
0.04重量%であった。
[Adjustment of Mold Temperature] When the mold temperature or mold part temperature is changed in the above-described substrate molding process, the influence of the change on the warpage of the optical disk finally manufactured is described above. The evaluation was made based on the change in the warpage angle over time due to the test. Note that the environment for the standby process is temperature 2
5 ° C., relative humidity 38%, standby time 4 minutes,
As a result, the temperature of the substrate becomes 28 ° C.
0.04% by weight.

【0075】<上下の金型部分の温度差>図3に示す射
出成形装置で、基板d1を成形する際の上側金型部分2
42の温度と下側金型部分244の温度を変えた。成形
工程と成膜工程との間の待機時間は4分であった。
<Temperature difference between upper and lower mold parts> The upper mold part 2 when molding the substrate d1 with the injection molding apparatus shown in FIG.
The temperature of 42 and the temperature of the lower mold part 244 were changed. The waiting time between the forming step and the film forming step was 4 minutes.

【0076】試験例1、2について、それぞれ15個の
サンプルを製造し、先と同様の環境試験に供した。その
結果を、図6及び表1に示す。表1において、Δtは試
験前後の反り角の差の平均値を表す。尚、基板はポリカ
ーボネート製である。
In each of Test Examples 1 and 2, 15 samples were manufactured and subjected to the same environmental test as above. The results are shown in FIG. In Table 1, Δt represents the average value of the difference between the warp angles before and after the test. The substrate is made of polycarbonate.

【0077】[0077]

【表1】 試験例1 試験例2 上側金型部分温度(℃) 87 87 下側金型部分温度(℃) 92 94 温度差 5 7 Δt(°) +0.19 +0.44Table 1 Test Example 1 Test Example 2 Upper mold part temperature (° C.) 87 87 Lower mold part temperature (° C.) 92 94 Temperature difference 57 Δt (°) +0.19 +0.44

【0078】上記試験の結果、基板d1及びd2を成形
する金型部分242、244の温度差を小さくした試験
例1(図6(a))と、温度差が通常の成形条件である
試験例2(図6(b))を対比すると、環境試験開始前
の反り角は、金型部分の温度差が大きい試験例2のほう
が小さくなっている。
As a result of the above test, Test Example 1 in which the temperature difference between the mold portions 242 and 244 for forming the substrates d1 and d2 was reduced (FIG. 6A), and Test Example in which the temperature difference was under normal molding conditions Compared with FIG. 2 (FIG. 6B), the warp angle before the start of the environmental test is smaller in Test Example 2 in which the temperature difference between the mold portions is large.

【0079】環境試験前後の反り角の変化量Δtは、金
型部分の温度差が小さい試験例1のほうが試験例2より
も小さくなっている。図6の各グラフにおける直線の傾
きをみると、試験例1が試験例2よりも傾きが小さくな
っている。このことは、金型部分の温度差を小さくする
ことで、経時的な反り角の変動を抑えることが出来るこ
とを示している。
The change Δt in the warp angle before and after the environmental test is smaller in Test Example 1 than in Test Example 2 in which the temperature difference between the mold portions is small. Looking at the slope of the straight line in each graph of FIG. 6, the slope of Test Example 1 is smaller than that of Test Example 2. This indicates that the variation in the warpage angle over time can be suppressed by reducing the temperature difference in the mold portion.

【0080】従って、光ディスクの製造時点における反
り変形を少なくするには、金型部分の温度差をある程度
つけておいたほうが良いし、経時的な反り変形の変化を
少なくするには、金型部分の温度差が小さい(例えば2
℃〜5℃の範囲内)ほうが好ましいことが判る。通常
は、製造時点における反り変形が規格条件を満足してい
れば、経時的な反り変形の変化が少ないほうが好ましい
ので、金型部分の温度差を小さくする(例えば2℃〜5
℃の範囲内)ことが好ましい。
Therefore, in order to reduce the warpage at the time of manufacturing the optical disk, it is better to provide a certain temperature difference between the mold portions. Is small (for example, 2
(In the range of 5 ° C. to 5 ° C.) is more preferable. Normally, if the warpage deformation at the time of manufacturing satisfies the standard conditions, it is preferable that the change of the warpage deformation with time is small.
C.).

【0081】<一対の基板を異なる成形機で成形する場
合の金型の温度差>一対の基板d1及びd2を成形する
それぞれの成形機20及び20’において、それぞれの
成形機の金型温度(=上側金型部分の温度及び下側金型
部分の温度の算術平均値)間の相違が光ディスクの反り
に与える影響を評価した。なお、基板d1は、半透過膜
を成膜する基板であり、形状的にはリブを有している。
基板d2は、透過性を有しない膜を成膜する基板であ
り、形状的にはリブを有していない。
<Temperature difference between molds when a pair of substrates is molded by different molding machines> In each of the molding machines 20 and 20 'for molding the pair of substrates d1 and d2, the mold temperature of each molding machine ( = The arithmetic average of the temperature of the upper mold part and the temperature of the lower mold part) was evaluated for the effect on the warpage of the optical disk. Note that the substrate d1 is a substrate on which a semi-transmissive film is formed, and has a rib in shape.
The substrate d2 is a substrate on which a non-transmissive film is formed, and does not have a rib in shape.

【0082】尚、温度差ΔTは、下式で計算される。 ΔT=T1−T2 …(1) T1 =(T11+T12)/2 …(2) T2 =(T21+T22)/2 …(3) ここで、T1:基板d1用成形機における上側金型部分
温度T11と下側金型部分温度T12との算術平均値 T2:基板d2用成形機における上側金型部分温度T2
1と下側金型部分温度T22との算術平均値 である。
The temperature difference ΔT is calculated by the following equation. ΔT = T1−T2 (1) T1 = (T11 + T12) / 2 (2) T2 = (T21 + T22) / 2 (3) where T1: the upper mold part temperature T11 and the lower mold temperature in the molding machine for substrate d1. Arithmetic average value with side mold part temperature T12 T2: Upper mold part temperature T2 in molding machine for substrate d2
It is an arithmetic mean value of 1 and the lower mold part temperature T22.

【0083】評価は、得られた基板を用いて光ディスク
を製造し、それについて先に説明した環境試験を実施し
て評価した。反り角の評価結果を、図7及び表2に示し
ている。上側金型部分温度と下側金型部分温度との差は
6℃であった。尚、待機処理の環境は、温度25℃、相
対湿度38%であり、待機時間は4分であり、それによ
って、基板は、28℃となり、その吸湿量は、0.04
重量%であった。
For evaluation, an optical disk was manufactured using the obtained substrate, and the environmental test described above was performed on the optical disk to evaluate it. The evaluation results of the warp angle are shown in FIG. The difference between the upper mold part temperature and the lower mold part temperature was 6 ° C. The environment for the standby processing was a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 38%, and the standby time was 4 minutes, whereby the substrate reached 28 ° C. and its moisture absorption was 0.04
% By weight.

【0084】[0084]

【表2】 試験例 1 2 3 4 5 第1成形機金型温度T1(℃) 87 89 91 89.5 90.5 第2成形機金型温度T1(℃) 89 89 89 83.5 83.5 温度差ΔT=T1−T2(℃) -2 0 +2 +6 +7 反り角の変化量Δt(°) -0.72 -0.52 -0.25 +0.19 +0.44 Table 2 Test Example 1 2 3 4 5 First molding machine mold temperature T1 (° C) 87 89 91 89.5 90.5 Second molding machine mold temperature T1 (° C) 89 89 89 83.5 83.5 Temperature difference ΔT = T1-T2 (℃) -2 0 +2 +6 +7 Variation of warpage angle Δt (°) -0.72 -0.52 -0.25 +0.19 +0.44

【0085】以上の結果、環境試験前後の反り角の変化
量Δtは、成形機間の金型温度の差に依存して変化して
おり、金型温度差を適切に設定する(例えば、2℃〜6
℃にする)ことによって、経時的な反り変形を少なくで
きることが判る。
As a result, the change Δt in the warp angle before and after the environmental test changes depending on the difference in the mold temperature between the molding machines, and the mold temperature difference is appropriately set (for example, 2 ℃ -6
° C), it can be seen that warpage over time can be reduced.

【0086】[0086]

【発明の効果】本発明の光ディスクの製造方法及び装置
によれば、製造プロセス、特に成形工程から成膜工程ま
での処理条件を原因として発生する光ディスクの反り変
形を効果的に防止して平面度の高い光ディスクが製造で
きるとともに、製造の作業能率を向上させることができ
る。
According to the method and apparatus for manufacturing an optical disk of the present invention, the warpage of the optical disk caused by the processing conditions, particularly the processing conditions from the molding step to the film forming step, is effectively prevented, and the flatness is improved. The optical disk with high performance can be manufactured, and the working efficiency of the manufacturing can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は、本発明の光ディスクの製造方法の工
程を模式的に示す工程図である。
FIG. 1 is a process diagram schematically showing steps of a method for manufacturing an optical disc according to the present invention.

【図2】 図2は、本発明の光ディスクの製造装置を上
から見た様子を模式的に示す平面構造図である。
FIG. 2 is a plan view schematically showing the optical disk manufacturing apparatus of the present invention as viewed from above.

【図3】 図3は、本発明の光ディスクの製造装置の成
形部を模式的に示す一部断面立面図である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional elevational view schematically showing a molding section of the optical disk manufacturing apparatus of the present invention.

【図4】 図4は、基板の成形後の経時的な吸湿量及び
反り角の変化を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a change in a moisture absorption amount and a warp angle over time after molding of a substrate.

【図5】 図5(a)及び(b)は、光ディスクの環境
試験結果を示すグラフである。
FIGS. 5A and 5B are graphs showing the results of an environmental test of an optical disc.

【図6】 図6(a)及び(b)は、光ディスクの別の
環境試験結果を示すグラフである。
FIGS. 6A and 6B are graphs showing another environmental test result of the optical disc.

【図7】 図7、光ディスクの更に別の環境試験結果を
示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing still another environmental test result of the optical disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…移送コンベア、20,20’…成形部、30…一
時待機手段、40…成膜部、50…接合部、60…回収
コンベア、240…金型 242,244…金型部分、246…キャビティ D…光ディスク、d1,d2…基板、g…接着剤、L…
硬化ランプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Conveyer conveyor, 20, 20 '... Molding part, 30 ... Temporary standby means, 40 ... Film formation part, 50 ... Joining part, 60 ... Collection conveyor, 240 ... Dies 242,244 ... Die part, 246 ... Cavity D: optical disk, d1, d2: substrate, g: adhesive, L:
Curing lamp

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 澤田 和幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤岡 俊行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 東田 隆亮 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 守 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kazuyuki Sawada 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Takaaki Higashida 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 貼り合わせ型光ディスクの製造方法であ
って、 (1)少なくとも一方が片側主表面に凹凸を有する、1
対の基板を透明樹脂から成形する工程、 (2)該凹凸を有する片側主表面に金属薄膜を形成する
工程、及び (3)金属薄膜が内側に位置するように1対の基板を積
層して基板間に供給した接着剤により基板を接合する工
程を含んで成り、工程(1)の後、基板の吸湿量が0.
1重量%以下であり、かつ、成形された基板と環境との
温度差が5℃以下になるまで基板を降温する待機処理を
実施した後に、工程(2)を実施することを特徴とする
製造方法。
1. A method for manufacturing a bonded optical disk, comprising: (1) at least one of which has irregularities on one main surface;
Forming a pair of substrates from a transparent resin, (2) forming a metal thin film on the one-sided main surface having the irregularities, and (3) laminating the pair of substrates such that the metal thin film is positioned inside. A step of bonding the substrates with an adhesive supplied between the substrates, and after the step (1), the substrate has a moisture absorption of 0.
A step of performing a step (2) after performing a standby process of lowering the temperature of the substrate until the temperature difference between the formed substrate and the environment is 5 ° C. or less and 1% by weight or less. Method.
【請求項2】 環境の温度は20℃〜35℃であり、環
境の相対湿度は10%〜60%であり、待機処理は1分
〜6分の時間実施する請求項1に記載の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the temperature of the environment is 20 ° C. to 35 ° C., the relative humidity of the environment is 10% to 60%, and the waiting process is performed for 1 minute to 6 minutes. .
【請求項3】 基板の吸湿量が0.05重量%以下に保
持しながら、待機処理を実施する請求項1または2に記
載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the standby treatment is performed while maintaining the moisture absorption of the substrate at 0.05% by weight or less.
【請求項4】 第1成形機にて形成した第1基板及び第
2成形機にて形成した第2基板を対の基板として貼り合
わせることによって貼り合わせ型光ディスクを製造する
方法であって、 (1)少なくとも一方が片側主表面に凹凸を有する、1
対の基板である第1基板及び第2基板をそれぞれ第1成
形機及び第2成形機によって透明樹脂から成形する工
程、 (2)該凹凸を有する片側主表面に金属薄膜を形成する
工程、及び (3)金属薄膜が内側に位置するように1対の基板を積
層して基板間に供給した接着剤により基板を接合する工
程を含んで成り、第1成形機の金型温度と第2成形機の
金型温度との間に2℃〜6℃の温度差を設けることを特
徴とする製造方法。
4. A method of manufacturing a bonded optical disk by bonding a first substrate formed by a first molding machine and a second substrate formed by a second molding machine as a pair of substrates, 1) at least one has irregularities on one side main surface;
Forming a first substrate and a second substrate, which are a pair of substrates, from a transparent resin using a first molding machine and a second molding machine, respectively; (2) forming a metal thin film on the one-sided main surface having the irregularities; (3) a step of laminating a pair of substrates so that the metal thin film is located on the inside and joining the substrates by an adhesive supplied between the substrates, the mold temperature of the first molding machine and the second molding A manufacturing method, wherein a temperature difference of 2 ° C. to 6 ° C. is provided between the temperature of the mold and the temperature of the machine.
【請求項5】 工程(1)の後、請求項1〜3のいずれ
かに記載の待機処理を実施した後に、工程(2)を実施
する請求項4に記載の製造方法。
5. The manufacturing method according to claim 4, wherein after the step (1), the standby processing according to any one of claims 1 to 3 is performed, and then the step (2) is performed.
【請求項6】 透明樹脂を金型内のキャビティに供給す
る射出成形により光ディスク用基板を製造する方法であ
って、成形時におけるキャビティを規定する対の金型部
分の一方の温度が他方と0℃〜6℃異なることを特徴と
する基板の製造方法。
6. A method for manufacturing an optical disk substrate by injection molding in which a transparent resin is supplied to a cavity in a mold, wherein a temperature of one of a pair of mold portions defining a cavity during molding is 0% with the other. A method for manufacturing a substrate, wherein the temperature is different from 6 ° C to 6 ° C.
【請求項7】 請求項1〜5のいずれかに記載の光ディ
スクの製造方法に使用する基板を製造する請求項6に記
載の製造方法。
7. The manufacturing method according to claim 6, wherein a substrate used in the method for manufacturing an optical disk according to claim 1 is manufactured.
【請求項8】 (a)基板を樹脂成形する成形部、
(b)薄膜形成手段により基板の表面に金属薄膜を形成
する成膜部、及び(c)1対の基板を接着剤を介して結
合する接合部を有して成る、1対の基板を接着剤により
貼り合わせて光ディスクを製造する装置であって、 基板が、成形部から成膜部を経て接合部に移送手段によ
り送られ、成形部と成膜部との間で基板を所定時間だけ
保持する環境を有する一時的待機手段を有することを特
徴とする光ディスクの製造装置。
8. A molding section for resin molding a substrate,
(B) bonding a pair of substrates comprising a film forming unit for forming a metal thin film on the surface of the substrate by the thin film forming means, and (c) a bonding unit for bonding the pair of substrates via an adhesive An apparatus for manufacturing an optical disk by bonding with an agent, in which a substrate is sent from a forming unit to a bonding unit via a film forming unit by a transfer unit, and the substrate is held between the forming unit and the film forming unit for a predetermined time. An optical disk manufacturing apparatus, comprising: a temporary standby unit having a changing environment.
【請求項9】 一時的待機手段の環境の温度は20℃〜
35℃であり、環境の相対湿度は10%〜60%である
請求項8に記載の製造装置。
9. The temperature of the environment of the temporary standby means is from 20 ° C.
The manufacturing apparatus according to claim 8, wherein the temperature is 35C and the relative humidity of the environment is 10% to 60%.
【請求項10】 請求項1〜5のいずれかに記載の製造
方法に使用する請求項8または9に記載の製造装置。
10. The manufacturing apparatus according to claim 8, which is used in the manufacturing method according to claim 1.
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