JP2000098156A - Optical waveguide element, end face structure for optical fiber array, and its manufacture - Google Patents

Optical waveguide element, end face structure for optical fiber array, and its manufacture

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JP2000098156A
JP2000098156A JP27162098A JP27162098A JP2000098156A JP 2000098156 A JP2000098156 A JP 2000098156A JP 27162098 A JP27162098 A JP 27162098A JP 27162098 A JP27162098 A JP 27162098A JP 2000098156 A JP2000098156 A JP 2000098156A
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optical waveguide
face
layer
optical
specific angle
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Yutaka Karasuno
ゆたか 烏野
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical waveguide element, an end face structure for optical fiber array and the manufacturing method capable of drastically reducing manufacturing hours and manufacturing the element at low cost. SOLUTION: In this optical waveguide element 100 in which an optical waveguide layer 104 composed of a core layer 106 and upper and lower clad layers 108a, 208b is formed on a substrate 102, an end face 110 including an incident and emitting end of an optical waveguide pattern in an optical waveguide layer 104, namely, only an end face 110 on the side of the optical waveguide layer 104 including at least the end face of the core layer 106 has an angle of 8 deg. with a plane vertical to the optical axis of the optical waveguide pattern.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路素子、光
ファイバアレイの端面構造及びその製造方法に関するも
のである。
The present invention relates to an optical waveguide device, an end face structure of an optical fiber array, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
例えば、文献名:「石英系導波路型光カプラ技術,NT
T R&D,Vol.43,No.11,1994,p
p.109−116」に開示されるものがあった。図9
はかかる従来の光導波路素子の端面構造を示す図であ
り、ここでは、光導波路素子を光ファイバと接続した状
態を示している。
2. Description of the Related Art Conventionally, techniques in such a field include:
For example, the document title: “Quartz-based waveguide optical coupler technology, NT
TR & D, Vol. 43, no. 11, 1994, p
p. 109-116 ". FIG.
FIG. 1 is a diagram showing an end face structure of such a conventional optical waveguide element, and here shows a state in which the optical waveguide element is connected to an optical fiber.

【0003】図9に示すように、この光導波路素子30
0は、その光導波路の入射端面および出射端面が、光軸
方向と鉛直な平面に対して8°の傾きを持った面となる
ように構成されている。このように構成するのは、光導
波路素子300に光ファイバ200を接続した状態にお
いて、光ファイバ200から光導波路素子300への入
射光、あるいは光導波路素子300から光ファイバ20
0への出射光の反射成分(以下、反射戻り光という)の
減衰量(以下、反射減衰量という)を十分に得るためで
ある。
[0003] As shown in FIG.
Numeral 0 is configured so that the input end face and the output end face of the optical waveguide are inclined at 8 ° with respect to a plane perpendicular to the optical axis direction. Such a configuration is such that when the optical fiber 200 is connected to the optical waveguide element 300, the incident light from the optical fiber 200 to the optical waveguide element 300 or the optical fiber
This is to sufficiently obtain the attenuation (hereinafter, referred to as return loss) of the reflection component (hereinafter, referred to as reflected return light) of the light emitted to zero.

【0004】反射戻り光は、光導波路素子300と光フ
ァイバ200の接続部における屈折率の不整合に起因し
て生じ、これが光源である半導体レーザダイオード(以
下LDという)に戻ると、LDの動作特性に重大な悪影
響を及ぼすことが知られている。また、光導波路内にお
ける繰り返し反射に基づく雑音の原因ともなり得る。な
お、図9において、102は基板、104は光導波路
層、106はコア層、108a,108bは上下クラッ
ド層、112,204,314は端面、202は光ファ
イバアレイ、206はUV接着剤、310はリドであ
る。
[0004] The reflected return light is generated due to a refractive index mismatch at a connection portion between the optical waveguide element 300 and the optical fiber 200. When the reflected light returns to a semiconductor laser diode (hereinafter referred to as an LD) as a light source, the operation of the LD is performed. It is known to have significant adverse effects on properties. In addition, it may cause noise due to repeated reflection in the optical waveguide. 9, 102 is a substrate, 104 is an optical waveguide layer, 106 is a core layer, 108a and 108b are upper and lower cladding layers, 112, 204, and 314 are end faces, 202 is an optical fiber array, 206 is a UV adhesive, 310 Is Lido.

【0005】例えば、40(dB)以上の反射減衰量を
得るには、単一モード光ファイバでは理論上4°以上の
端面角度が必要であり、一般的な仕様としては8°が採
用されていることが多い。
[0005] For example, in order to obtain a return loss of 40 (dB) or more, a single mode optical fiber requires an end face angle of 4 ° or more in theory, and 8 ° is adopted as a general specification. Often.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上述
べた従来の構成による光導波路素子では、以下に述べる
問題点があった。光導波路素子300の端面角度を8°
にするためには、通常ウエハからダイシング等の手段に
より切り放された光導波路素子300を、研磨のための
定盤に対して端面角度が8°になるように専用の治具に
取り付け研磨する。この際、通常研磨は少なくとも2段
階で行われる。すなわち端面角度を8°にするための研
磨(以下、1次研磨という)と、所望の表面粗さを得る
ための研磨(以下、2次研磨という)である。
However, the optical waveguide device having the above-described conventional configuration has the following problems. 8 ° end face angle of optical waveguide element 300
In order to achieve this, the optical waveguide element 300 cut off from the wafer by means such as dicing is attached to a dedicated jig so that the end face angle is 8 ° with respect to the surface plate for polishing, and is polished. . At this time, polishing is usually performed in at least two stages. That is, polishing for setting the end face angle to 8 ° (hereinafter, referred to as primary polishing) and polishing for obtaining desired surface roughness (hereinafter, referred to as secondary polishing).

【0007】このうち前者の1次研磨において、例えば
約1mmの板厚の光導波路素子の端面全面を8°にする
ためには、最も削られる部分で約0.14mm削らなけ
ればならない。研磨の条件にもよるが、一般には光導波
路素子を損傷させないために、低圧力の研磨を行う必要
があることから、1次研磨に要する時間は長く、光導波
路素子を低コストで作製する際の妨げとなっていた。
In the former primary polishing, for example, in order to make the entire end face of the optical waveguide element having a thickness of about 1 mm 8 °, it is necessary to grind about 0.14 mm at the portion to be cut most. Although it depends on the polishing conditions, it is generally necessary to perform low-pressure polishing in order not to damage the optical waveguide element. Therefore, the time required for the primary polishing is long, and the time required for manufacturing the optical waveguide element at low cost is high. Was hindered.

【0008】本発明は、上記問題点を除去し、製造時間
が大幅に短縮でき、光導波路素子を低コストで作製する
ことができる光導波路素子、光ファイバアレイの端面構
造及びその製造方法を提供することを目的とする。
The present invention provides an optical waveguide device, an end face structure of an optical fiber array, and a method of manufacturing the same, which can eliminate the above-mentioned problems, greatly reduce the manufacturing time, and can manufacture the optical waveguide device at low cost. The purpose is to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔1〕基板上にコア層とクラッド層からなる光導波路層
が形成された光導波路素子において、前記光導波路層内
の光導波路パターンの入出射端を含む端面は、少なくと
も前記コア層の端面を含む前記光導波路層側の端面のみ
が前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定
角度を有するようにしたものである。
According to the present invention, there is provided an optical waveguide device having an optical waveguide layer comprising a core layer and a cladding layer formed on a substrate. The end face including the input / output end of the optical waveguide pattern in the above, so that only the end face on the optical waveguide layer side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern. It was made.

【0010】〔2〕基板上にコア層とクラッド層からな
る光導波路層およびリドが形成された光導波路素子にお
いて、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端
を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記
光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが前記光導
波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度を有す
るようにしたものである。
[2] In an optical waveguide device in which an optical waveguide layer comprising a core layer and a cladding layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is at least as described above. Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern.

【0011】〔3〕光ファイバが少なくとも二枚の基板
間に挟まれ固定された光ファイバアレイにおいて、前記
光ファイバの入出射端を含む端面は、少なくとも前記光
ファイバの端面を含む前記基板のいずれか一方の端面の
みが前記光ファイバの光軸と鉛直な面に対して特定角度
を有するようにしたものである。 〔4〕上記〔1〕記載の光導波路素子において、前記特
定角度の端面を形成した後に、前記特定角度と同一の角
度を有するリドを前記光導波路素子上に取り付けるよう
にしたものである。
[3] In an optical fiber array in which an optical fiber is sandwiched and fixed between at least two substrates, an end surface including an input / output end of the optical fiber is any one of the substrates including an end surface of the optical fiber. Only one of the end faces has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical fiber. [4] In the optical waveguide device according to the above [1], after forming the end face at the specific angle, a lid having the same angle as the specific angle is mounted on the optical waveguide device.

【0012】〔5〕上記〔1〕又は〔2〕記載の光導波
路素子において、前記特定角度の端面を形成した後に、
前記特定角度と同一の角度を有するブロックを前記光導
波路素子の光軸に対して鉛直な側の面に取り付けるよう
にしたものである。 〔6〕上記〔3〕記載の光ファイバアレイにおいて、前
記特定角度の端面を形成した後に、前記特定角度と同一
の角度を有するブロックを前記光ファイバの光軸に対し
て鉛直な側の面に取り付けるようにしたものである。
[5] In the optical waveguide device according to the above [1] or [2], after forming the end face at the specific angle,
A block having the same angle as the specific angle is attached to a surface perpendicular to the optical axis of the optical waveguide element. [6] In the optical fiber array according to the above [3], after forming the end face at the specific angle, a block having the same angle as the specific angle is placed on a surface perpendicular to the optical axis of the optical fiber. It is designed to be attached.

【0013】〔7〕基板上にコア層とクラッド層からな
る光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法にお
いて、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端
を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記
光導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光軸
と鉛直な面に対して特定角度を有し、この特定角度の端
面は研磨により形成するようにしたものである。
[7] In the method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer is formed on a substrate, at least an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least one end face. Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at this specific angle is formed by polishing. It is.

【0014】〔8〕基板上にコア層とクラッド層からな
る光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の製
造方法において、前記光導波路層内の光導波路パターン
の入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面
を含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみ
が前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定
角度を有し、この特定角度の端面は研磨により形成する
ようにしたものである。
[8] In the method for manufacturing an optical waveguide element in which an optical waveguide layer comprising a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at this specific angle is polished. It is to be formed.

【0015】[0015]

〔9〕光ファイバが少なくとも二枚の基板
間に挟まれ固定された光ファイバアレイの製造方法にお
いて、前記光ファイバの入出射端を含む端面は、少なく
とも前記光ファイバの端面を含む前記基板のいずれか一
方の端面のみが前記光ファイバの光軸と鉛直な面に対し
て特定角度を有し、この特定角度の端面は研磨により形
成するようにしたものである。
[9] In the method for manufacturing an optical fiber array in which the optical fiber is sandwiched and fixed between at least two substrates, the end face including the input / output end of the optical fiber is any one of the substrates including the end face of the optical fiber. Only one of the end faces has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical fiber, and the end face having this specific angle is formed by polishing.

【0016】〔10〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法に
おいて、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射
端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前
記光導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光
軸と鉛直な面に対して特定角度を有し、この特定角度の
端面は切削により形成するようにしたものである。
[10] In the method for manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a cladding layer is formed on a substrate, at least an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is provided. Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at this specific angle is formed by cutting. It is.

【0017】〔11〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の
製造方法において、前記光導波路層内の光導波路パター
ンの入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端
面を含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面の
みが前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特
定角度を有し、この特定角度の端面は切削により形成す
るようにしたものである。
[11] In a method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face of the optical waveguide layer including the end face of the core layer or the end face on the substrate side has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face having the specific angle is cut by cutting. It is to be formed.

【0018】〔12〕光ファイバが少なくとも二枚の基
板間に挟まれ固定された光ファイバアレイの製造方法に
おいて、前記光ファイバの入出射端を含む端面は、少な
くとも前記光ファイバの端面を含む前記基板のいずれか
一方の端面のみが前記光ファイバの光軸と鉛直な面に対
して特定角度を有し、この特定角度の端面は切削により
形成するようにしたものである。
[12] In the method for manufacturing an optical fiber array in which an optical fiber is sandwiched and fixed between at least two substrates, an end face including an input / output end of the optical fiber includes at least an end face of the optical fiber. Only one end face of the substrate has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical fiber, and the end face having this specific angle is formed by cutting.

【0019】〔13〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法に
おいて、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射
端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前
記光導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光
軸と鉛直な面に対して特定角度を有し、この特定角度の
端面は、切り出し前のウエハ状態で、切り出し予定個所
の光導波路素子表面に、少なくともコア層の端面が露出
する深さ以上、かつ、基板が分離されない深さまで前記
光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度を
有する溝を形成し、続いて少なくとも前記コア層の端面
が切断されない位置にて基板まで含めて切断することに
より形成するようにしたものである。
[13] In the method for manufacturing an optical waveguide element in which an optical waveguide layer including a core layer and a cladding layer is formed on a substrate, at least an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at this specific angle is in a wafer state before cutting, A groove having a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern up to a depth at which the end face of the core layer is exposed, and at least to a depth at which the substrate is not separated, is formed on the surface of the optical waveguide element at the cut-out portion. It is formed by forming and then cutting the substrate including the substrate at a position where at least the end face of the core layer is not cut.

【0020】〔14〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の
製造方法において、前記光導波路層内の光導波路パター
ンの入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端
面を含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面の
みが前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特
定角度を有し、この特定角度の端面は、切り出し前のウ
エハ状態で、切り出し予定個所の光導波路素子表面に、
少なくともコア層の端面が露出する深さ以上、かつ、基
板が分離されない深さまで前記光導波路パターンの光軸
と鉛直な面に対して特定角度を有する溝を形成し、続い
て少なくとも前記コア層の端面が切断されない位置にて
基板まで含めて切断することにより形成するようにした
ものである。
[14] In a method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a cladding layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face having this specific angle is cut out. In the previous wafer state, on the surface of the optical waveguide element at
A groove having a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern is formed at least to a depth at which the end face of the core layer is exposed, and to a depth at which the substrate is not separated. It is formed by cutting including the substrate at a position where the end face is not cut.

【0021】〔15〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法に
おいて、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射
端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前
記光導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光
軸と鉛直な面に対して特定角度を有し、この特定角度の
端面は、切り出し前のウエハ状態で、切り出し予定個所
の光導波路素子表面に、少なくともコア層の端面が露出
する深さ以上、かつ、基板が分離されない深さまで前記
光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度を
有する溝を形成し、続いて残りの部分を破断するように
したものである。
[15] In the method for manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer is formed on a substrate, at least an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at this specific angle is in a wafer state before cutting, A groove having a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern up to a depth at which the end face of the core layer is exposed, and at least to a depth at which the substrate is not separated, is formed on the surface of the optical waveguide element at the cut-out portion. Formed, and then the remaining portion is broken.

【0022】〔16〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の
製造方法において、前記光導波路層内の光導波路パター
ンの入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端
面を含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面の
みが前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特
定角度を有し、この特定角度の端面は、切り出し前のウ
エハ状態で、切り出し予定個所の光導波路素子表面に、
少なくともコア層の端面が露出する深さ以上、かつ、基
板が分離されない深さまで前記光導波路パターンの光軸
と鉛直な面に対して特定角度を有する溝を形成し、続い
て残りの部分を破断することにより形成するようにした
ものである。
[16] In the method for manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a cladding layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face having this specific angle is cut out. In the previous wafer state, on the surface of the optical waveguide element at
Form a groove having a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern to at least a depth at which the end face of the core layer is exposed, and to a depth at which the substrate is not separated, and then break the remaining portion It is formed by performing.

【0023】〔17〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法に
おいて、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射
端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前
記光導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光
軸と鉛直な面に対して特定角度を有し、この特定角度の
端面は、切り出し前のウエハ状態で、切り出し予定個所
の光導波路素子表面に形成する溝を、先端の角度が前記
特定角度の倍の角度を有するV字形のブレードを用いた
ダイシングにより形成するようにしたものである。
[17] In the method for manufacturing an optical waveguide element in which an optical waveguide layer including a core layer and a cladding layer is formed on a substrate, at least an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least one end face. Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at this specific angle is in a wafer state before cutting, The groove formed on the surface of the optical waveguide element at the cut-out portion is formed by dicing using a V-shaped blade having a tip angle twice as large as the specific angle.

【0024】〔18〕基板上にコア層とクラッド層から
なる光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の
製造方法において、前記光導波路層内の光導波路パター
ンの入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端
面を含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面の
みが前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特
定角度を有し、この特定角度の端面は、切り出し前のウ
エハ状態で、切り出し予定個所の光導波路素子表面に形
成する溝を、先端の角度が前記特定角度の倍の角度を有
するV字形のブレードを用いたダイシングにより形成す
るようにしたものである。
[18] In the method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face having this specific angle is cut out. In the previous wafer state, the groove formed on the surface of the optical waveguide element at the cut-out portion is formed by dicing using a V-shaped blade having a tip angle twice the specific angle. .

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図1は本発明の第1実施例を示す光
導波路素子の端面構造を示す断面図である。この図に示
すように、光導波路素子100は、シリコンあるいは石
英ガラスからなる基板102上に、火炎堆積方法(FH
D)等で石英ガラス薄膜からなる光導波路層104が成
膜されている。この光導波路層104は、屈折率の異な
るコア層106と上下クラッド層108a,108bか
らなっており、その端面110は光導波路層104内に
設けられた光導波路パターン(図示なし)の光軸に対し
て鉛直に形成された基板102の端面112と8°の角
度をなしている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 is a sectional view showing an end face structure of an optical waveguide device according to a first embodiment of the present invention. As shown in this figure, an optical waveguide element 100 is formed by a flame deposition method (FH) on a substrate 102 made of silicon or quartz glass.
D) and the like, an optical waveguide layer 104 made of a quartz glass thin film is formed. The optical waveguide layer 104 includes a core layer 106 having different refractive indices and upper and lower cladding layers 108a and 108b, and an end face 110 of the optical waveguide layer 104 is aligned with an optical axis of an optical waveguide pattern (not shown) provided in the optical waveguide layer 104. On the other hand, it forms an angle of 8 ° with the end surface 112 of the substrate 102 formed vertically.

【0026】この端面110は、ウエハからダイシング
等の手段により切り放された光導波路素子100を、研
磨のための定盤に対して端面角度が8°になるように専
用の治具に取り付け、少なくともコア層106の端面角
度が8°になるまで研磨して形成する。図2は本発明の
第1実施例を示す光導波路素子を光ファイバと接続した
構成を示す断面図である。なお、図1の装置と同じ部分
については、同じ符号を付してそれらの説明は省略す
る。
The end face 110 is attached to a dedicated jig such that the optical waveguide element 100 cut off from the wafer by means such as dicing or the like is set at an end face angle of 8 ° with respect to a surface plate for polishing. It is formed by polishing at least until the end face angle of the core layer 106 becomes 8 °. FIG. 2 is a sectional view showing a configuration in which the optical waveguide device according to the first embodiment of the present invention is connected to an optical fiber. The same parts as those in the apparatus of FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0027】この図に示すように、光ファイバ200
は、光導波路素子100と接着させるために光ファイバ
200を固定するための部品(以下、光ファイバアレイ
202という)に収められており、その端面204の角
度は光導波路素子100と同様に8°に形成されてい
る。光導波路素子100と光ファイバアレイ202は、
それぞれ光軸をアライメントした状態でUV接着剤20
6で接着固定されている。
As shown in FIG.
Is housed in a component (hereinafter, referred to as an optical fiber array 202) for fixing the optical fiber 200 in order to adhere to the optical waveguide element 100, and the angle of the end face 204 is 8 ° similarly to the optical waveguide element 100. Is formed. The optical waveguide element 100 and the optical fiber array 202
UV adhesive 20 with each optical axis aligned
6 is fixed by bonding.

【0028】このように、第1実施例によれば、光導波
路素子100の端面全面にわたって端面角度が8°とな
るように研磨しなくても、少なくともコア層106を含
む光導波路層104の端面角度が8°になるまで研磨
し、端面角度を8°とすることによって、十分な反射減
衰量を得ることができる。光導波路素子100の板厚が
1.0mm、光導波路層104の膜厚が50μmである
場合、従来の方法では光導波路素子100の端面を削っ
ていたため、最も削られる部分で、約0.14mm削ら
なければならないが、本発明の実施例によれば、少なく
ともコア層106を含む光導波路層104の端面を7μ
m程度だけ削ることにより目的を達成することができ
る。
As described above, according to the first embodiment, the end surface of the optical waveguide layer 104 including at least the core layer 106 can be formed without polishing so that the end surface angle becomes 8 ° over the entire end surface of the optical waveguide device 100. By polishing until the angle becomes 8 ° and setting the end face angle to 8 °, a sufficient return loss can be obtained. In the case where the thickness of the optical waveguide element 100 is 1.0 mm and the thickness of the optical waveguide layer 104 is 50 μm, since the end face of the optical waveguide element 100 is shaved in the conventional method, the portion to be shaved most is about 0.14 mm. According to the embodiment of the present invention, the end face of the optical waveguide layer 104 including at least the core layer 106 is reduced by 7 μm.
The purpose can be achieved by cutting by about m.

【0029】これにより、製造時間が大幅に短縮でき、
光導波路素子を低コストで作製することにができる。次
に、本発明の第2実施例について説明する。図3は本発
明の第2実施例を示す光導波路素子の端面構造を示す断
面図であり、図3(a)はその光導波路素子の端面構造
を表す断面図(その1)、図3(b)はその光導波路素
子の端面構造を表す断面図(その2)である。なお、前
出した装置の部分と同じ部分には、同じ符号を付してそ
れらの説明は省略する。
As a result, the manufacturing time can be greatly reduced,
An optical waveguide element can be manufactured at low cost. Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a sectional view showing an end face structure of an optical waveguide device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 3A is a sectional view (part 1) showing an end face structure of the optical waveguide element, and FIG. FIG. 2B is a sectional view (part 2) showing an end face structure of the optical waveguide element. The same parts as those of the above-described device are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0030】まず、図3(a)に示すように、第2実施
例における光導波路素子300は、第1実施例で示した
光導波路素子100の上部に、石英ガラスあるいはパイ
レックスガラス等からなるリド(ガラスブロックとも言
う)310が接着剤(図示なし)により接着固定されて
いる。このリド310は主に光導波路素子300と光フ
ァイバアレイとを接着固定する際の接着面積を大きくと
り、かつ接着層の膜厚を薄くして十分な接着強度を得る
ために取り付けられる。光導波路層104およびリド3
10の端面312は、光導波路層104内に設けられた
光導波路パターン(図示なし)の光軸に対して鉛直に形
成された基板102の端面112と8°の角度をなして
いる。
First, as shown in FIG. 3A, an optical waveguide device 300 according to the second embodiment has a lid made of quartz glass, Pyrex glass, or the like provided on the optical waveguide device 100 shown in the first embodiment. 310 (also referred to as a glass block) is bonded and fixed with an adhesive (not shown). The lid 310 is attached mainly to increase the bonding area when the optical waveguide element 300 and the optical fiber array are bonded and fixed, and to reduce the thickness of the bonding layer to obtain a sufficient bonding strength. Optical waveguide layer 104 and lid 3
The end face 312 of 10 makes an angle of 8 ° with the end face 112 of the substrate 102 formed perpendicular to the optical axis of an optical waveguide pattern (not shown) provided in the optical waveguide layer 104.

【0031】この端面312は、ウエハからダイシング
等の手段により切り放された光導波路素子300を、研
磨のための定盤に対して端面角度が8°になるように専
用の治具に取り付け、少なくともコア層106を含む光
導波路層312の端面角度が8°になるまで研磨して形
成する。図3(b)は逆に光導波路層104および基板
102の端面314が、リド310の端面316と8°
の角度をなしている。
The end face 312 is attached to a dedicated jig such that the optical waveguide element 300 cut off from the wafer by means such as dicing or the like is set at an end face angle of 8 ° with respect to a surface plate for polishing. The optical waveguide layer 312 including at least the core layer 106 is polished until the end face angle becomes 8 °. FIG. 3B shows that the end surface 314 of the optical waveguide layer 104 and the substrate 102 is opposite to the end surface 316 of the lid 310 by 8 °.
At an angle.

【0032】図4は本発明の第2実施例を示す光導波路
素子を光ファイバと接続した構成を示す断面図であり、
図4(a)は図3(a)による光導波路素子を光ファイ
バと接続した構成を示す断面図、図4(b)は図3
(b)による光導波路素子を光ファイバと接続した構成
を示す断面図である。まず、図4(a)に示すように、
光ファイバ200は、図3(a)に示した光導波路素子
100及びリド310と接着させるために、ファイバ2
00を固定するための光ファイバアレイ202に収めら
れており、光ファイバアレイ202の端面204の角度
は光導波路素子300の端面312の角度と同様に8°
に形成されている。光導波路素子300と光ファイバア
レイ202は、それぞれ光軸をアライメントした状態で
UV接着剤206で接着固定されている。
FIG. 4 is a sectional view showing a structure in which an optical waveguide device according to a second embodiment of the present invention is connected to an optical fiber.
4A is a cross-sectional view showing a configuration in which the optical waveguide device according to FIG. 3A is connected to an optical fiber, and FIG.
It is sectional drawing which shows the structure which connected the optical waveguide element by (b) with the optical fiber. First, as shown in FIG.
The optical fiber 200 is bonded to the optical waveguide device 100 and the lid 310 shown in FIG.
00 is fixed in an optical fiber array 202 for fixing the optical waveguide element 300, and the angle of the end face 204 of the optical fiber array 202 is 8 ° like the angle of the end face 312 of the optical waveguide element 300.
Is formed. The optical waveguide element 300 and the optical fiber array 202 are bonded and fixed with a UV adhesive 206 with their optical axes aligned.

【0033】次に、図4(b)に示すように、光ファイ
バ200は、図3(b)に示した光導波路素子100及
びリド310とを接着させるために、ファイバ200を
固定するための光ファイバアレイ202に収められてお
り、光ファイバアレイ202の端面204の角度は光導
波路素子300の端面314の角度と同様に8°に形成
されている。光導波路素子300と光ファイバアレイ2
02は、それぞれ光軸をアライメントした状態でUV接
着剤206で接着固定されている。
Next, as shown in FIG. 4B, the optical fiber 200 is used for fixing the fiber 200 in order to bond the optical waveguide element 100 and the lid 310 shown in FIG. 3B. It is contained in the optical fiber array 202, and the angle of the end face 204 of the optical fiber array 202 is formed at 8 ° like the angle of the end face 314 of the optical waveguide element 300. Optical waveguide device 300 and optical fiber array 2
Numerals 02 are bonded and fixed with a UV adhesive 206 with their optical axes aligned.

【0034】このように、第2実施例によれば、リド3
10を取り付けた光導波路素子300においても、その
光導波路素子300の端面全面にわたって端面角度が8
°となるように研磨しなくても、少なくともコア層10
6を含む光導波路層104の端面角度が8°になるまで
研磨し、端面角度を8°とすることによって、十分な反
射減衰量を得ることができる。
As described above, according to the second embodiment, the lid 3
Also, in the optical waveguide element 300 to which the optical waveguide element 10 is attached, the end face angle is 8 over the entire end face of the optical waveguide element 300.
° without polishing at least the core layer 10.
By polishing until the end face angle of the optical waveguide layer 104 including 6 becomes 8 ° and setting the end face angle to 8 °, a sufficient return loss can be obtained.

【0035】特に、リド310を取り付けた光導波路素
子300は、光導波路素子と同程度の板厚のリド310
を取り付けた場合、板厚が2.0mm程度と厚くなる
が、この実施例によれば、最も削られる部分の深さを従
来のものに比してほぼ半減することができるので、研磨
に要する時間も従来の方法と比較して半減させることが
できる。
In particular, the optical waveguide device 300 to which the lid 310 is attached has the same thickness as the optical waveguide device.
In the case where is attached, the plate thickness becomes as thick as about 2.0 mm. However, according to this embodiment, the depth of the portion to be cut most can be reduced by almost half compared with the conventional one, so that it is necessary for polishing. Time can also be halved compared to conventional methods.

【0036】これにより、製造時間を大幅に短縮でき、
光導波路素子を低コストで作製することができる。次
に、本発明の第3実施例について説明する。図5は本発
明の第3実施例を示す光ファイバアレイの端面構造の断
面図である。なお、前出した装置の部分と同じ部分には
同じ符号を付してそれらについては説明を省略する。
As a result, the manufacturing time can be greatly reduced,
An optical waveguide element can be manufactured at low cost. Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a sectional view of an end face structure of an optical fiber array according to a third embodiment of the present invention. The same parts as those of the apparatus described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0037】この図に示すように、光ファイバアレイ2
02は、石英ガラスからなる基板500a表面に、設け
たV字形の溝(図示なし。一般にV溝と呼ばれる)に光
ファイバ200を配置し、基板500bで挟み、接着固
定されている。光ファイバ200および基板500bの
端面204は、光ファイバ200の光軸に対して鉛直に
形成された基板500aの端面502と8°の角度をな
している。
As shown in FIG.
In reference numeral 02, an optical fiber 200 is arranged in a V-shaped groove (not shown, generally called a V-groove) provided on the surface of a substrate 500a made of quartz glass, sandwiched between substrates 500b, and fixed by bonding. The end surface 204 of the optical fiber 200 and the substrate 500b forms an angle of 8 ° with the end surface 502 of the substrate 500a formed perpendicular to the optical axis of the optical fiber 200.

【0038】この端面204は、組み立てられた光ファ
イバアレイ202を、研磨のための定盤に対して端面角
度が8°になるように専用の治具に取り付け、研磨して
形成する。上記とは研磨される基板が逆に、光ファイバ
200および基板500aの端面が、基板500bの端
面と8°の角度をなしている場合もあり得る(図示な
し)。
The end face 204 is formed by attaching and polishing the assembled optical fiber array 202 to a dedicated jig so that the end face angle with respect to the surface plate for polishing is 8 °. Conversely, the end surface of the optical fiber 200 and the end surface of the substrate 500a may be at an angle of 8 ° with the end surface of the substrate 500b (not shown).

【0039】第1および第2実施例で説明したのと同様
の構成により、第3実施例の光ファイバアレイは、光導
波路素子と接続するように用いられる(図示なし)。こ
のように構成したので、第1および第2実施例では、本
発明を光導波路素子に適用した例を説明したが、このよ
うに第3実施例に示すような光ファイバアレイへの適用
にも有効である。
With a configuration similar to that described in the first and second embodiments, the optical fiber array of the third embodiment is used to connect to an optical waveguide element (not shown). With such a configuration, in the first and second embodiments, the example in which the present invention is applied to the optical waveguide element has been described. However, the application to the optical fiber array as shown in the third embodiment is described. It is valid.

【0040】このことから、光導波路素子を光ファイバ
アレイと接続する用途において、各々の部品の製造時間
を短縮できるので、部品を組み合わせたモジュールとし
て見た場合、低コストで作製することができる。次に、
本発明の第4実施例について説明する。図6は本発明の
第4実施例を示す光導波路素子の端面構造の断面図であ
る。なお、前出した装置の部分と同じ部分には同じ符号
を付してそれらの説明は省略している。
From this, in the use of connecting the optical waveguide element to the optical fiber array, the manufacturing time of each component can be shortened, so that it can be manufactured at low cost when viewed as a module in which components are combined. next,
A fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a sectional view of an end face structure of an optical waveguide device according to a fourth embodiment of the present invention. The same parts as those of the device described above are denoted by the same reference numerals, and their description is omitted.

【0041】この図に示すように、光導波路層104内
に設けられた光導波路パターン(図示なし)の光軸に対
して鉛直に形成された基板102の端面112と、少な
くともコア層106を含む光導波路層104が8°の角
度をなしている光導波路素子100の上部に、予めその
端面が8°に形成されたリド602が接着剤(図示な
し)により接着固定されている。また、基板102の端
面112には予めその端面608が8°に形成されたリ
ド様のブロック604が接着剤(図示なし)により接着
固定されている。
As shown in this figure, an end face 112 of the substrate 102 formed perpendicular to the optical axis of an optical waveguide pattern (not shown) provided in the optical waveguide layer 104 and at least a core layer 106 are included. A lid 602 having an end surface formed at 8 ° in advance is bonded and fixed to an upper portion of the optical waveguide device 100 in which the optical waveguide layer 104 forms an angle of 8 ° by an adhesive (not shown). A lid-like block 604 having an end face 608 formed at an angle of 8 ° is fixed to the end face 112 of the substrate 102 in advance by an adhesive (not shown).

【0042】このリド602およびブロック604は、
光導波路素子100がその8°の端面を形成された後
に、それぞれの端面606および608が光導波路素子
100の端面110とほぼ同一面上となるように配置さ
れている。このように構成したので、第1および第2実
施例で説明したのと同様の構成により、第4実施例の光
導波路素子は、光ファイバアレイと接続されて用いられ
る(図示なし)。
The lid 602 and the block 604 are:
After the optical waveguide element 100 is formed with its 8 ° end face, the respective end faces 606 and 608 are arranged so as to be substantially flush with the end face 110 of the optical waveguide element 100. With such a configuration, the optical waveguide device of the fourth embodiment is used by being connected to an optical fiber array (not shown) with the same configuration as that described in the first and second embodiments.

【0043】この実施例によれば、第1実施例の光導波
路素子100は、極めて僅かな量の研磨により目的を達
成することができるが、8°の端面を持った光ファイバ
アレイと接続する際に、その接着層の膜厚が厚い部分が
相当あり、この部分において接着強度の低下が懸念され
る。一方、第2実施例の光導波路素子は、第1実施例の
光導波路素子より余計に研磨時間がかかるという短所が
ある。
According to this embodiment, the objective of the optical waveguide device 100 of the first embodiment can be achieved by an extremely small amount of polishing, but is connected to an optical fiber array having an end face of 8 °. In this case, there is a considerable portion where the thickness of the adhesive layer is large, and there is a concern that the adhesive strength is reduced in this portion. On the other hand, the optical waveguide device of the second embodiment has a disadvantage in that the polishing time is longer than that of the optical waveguide device of the first embodiment.

【0044】第4実施例の光導波路素子は、光導波路素
子100の少なくともコア106を含む光導波路層10
4の端面110が8°となるように形成された後に、リ
ド602およびブロック604を取り付けるので、短い
研磨時間と十分な接着強度の両方を満足することができ
る。次に、本発明の第5実施例について説明する。
The optical waveguide device according to the fourth embodiment includes an optical waveguide layer 10 including at least the core 106 of the optical waveguide device 100.
Since the lid 602 and the block 604 are attached after the end face 110 of 4 is formed so as to have an angle of 8 °, both the short polishing time and sufficient adhesive strength can be satisfied. Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.

【0045】図7は本発明の第5実施例を示す光導波路
素子の端面構造の製造方法の説明図である。以下、工程
順に説明する。 (1)まず、図7(a)に示すように、ウエハから切断
分離される前の状態の光導波路素子100に対し切断個
所となる位置に少なくともコア層106の端面が露出す
る深さ以上、かつ、基板102が分離されない深さま
で、先端が16°の角度を持ったV字形のブレード70
1を用いたダイシングにより、溝700を形成する。
FIG. 7 is an explanatory view of a method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide device according to a fifth embodiment of the present invention. Hereinafter, description will be made in the order of steps. (1) First, as shown in FIG. 7A, at least a depth at which an end face of the core layer 106 is exposed at a position to be a cut position with respect to the optical waveguide element 100 before being cut and separated from the wafer. And a V-shaped blade 70 having a tip angle of 16 ° to a depth at which the substrate 102 is not separated.
The groove 700 is formed by dicing using No. 1.

【0046】(2)続いて、通常の平円盤状のブレード
(図示なし)を用いたダイシングにより、前記溝700
を形成した個所と同一個所を、図7(b)に示すよう
に、少なくともコア層106が更に切削されることのな
い幅で基板102を含めて切断する。第1〜第4実施例
では、8°端面を全て研磨により形成する場合について
述べたが、第5実施例によれば、ウエハから光導波路素
子を切り出す工程において、すでに8°端面を得ること
ができるため、更に製造時間の短縮を図ることができ
る。
(2) Subsequently, the grooves 700 are formed by dicing using an ordinary flat disk-shaped blade (not shown).
As shown in FIG. 7B, the same portion as the portion where is formed is cut including the substrate 102 at least so as not to cut the core layer 106 further. In the first to fourth embodiments, the case where the entire 8 ° end face is formed by polishing has been described. However, according to the fifth embodiment, the 8 ° end face may already be obtained in the step of cutting out the optical waveguide element from the wafer. Therefore, the manufacturing time can be further reduced.

【0047】次に、本発明の第6実施例について説明す
る。図8は本発明の第6実施例を示す光導波路素子の端
面構造の製造方法の説明図である。以下、工程順に説明
する。 (1)まず、図8(a)に示すように、ウエハから切断
分離される前の状態の光導波路素子100に対し、切断
個所となる位置に少なくともコア層106の端面が露出
する深さ以上、かつ、基板102が分離されない深さま
で、先端が16°の角度を持ったV字形のブレード80
1を用いたダイシングにより、V字形の溝800を形成
する。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is an explanatory view of a method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide device according to a sixth embodiment of the present invention. Hereinafter, description will be made in the order of steps. (1) First, as shown in FIG. 8A, the optical waveguide element 100 before being cut and separated from the wafer is at least at a depth where the end face of the core layer 106 is exposed at a position to be cut. And a V-shaped blade 80 having a tip angle of 16 ° to a depth at which the substrate 102 is not separated.
By dicing using No. 1, a V-shaped groove 800 is formed.

【0048】(2)続いて、図8(b)に示すように、
それぞれV字形の溝800に取り囲まれた光導波路素子
を、機械あるいは人手により曲げ、応力を加えてV字形
の溝800下の基板102部分を破断する。なお、ダイ
シングによる溝は、先端が16°の角度を持ったV字形
のブレードを用いずに、通常の先端が矩形のブレード
(図示なし)を用いて光導波路素子あるいはブレードの
取り付けられたホイールの軸を傾けて光導波路素子に基
板面と鉛直な面に対して8°の溝を形成するようにして
もよい。
(2) Subsequently, as shown in FIG.
Each of the optical waveguide elements surrounded by the V-shaped groove 800 is bent by a machine or manually, and a stress is applied to break the substrate 102 under the V-shaped groove 800. The grooves formed by dicing are formed on the optical waveguide element or the wheel on which the blades are mounted by using a normal blade having a rectangular tip (not shown) instead of using a V-shaped blade having a tip having an angle of 16 °. An 8 ° groove may be formed in the optical waveguide element by tilting the axis with respect to a plane perpendicular to the substrate surface.

【0049】このように構成したので、第6実施例によ
れば、第5実施例で述べた効果に加え、ウエハから光導
波路素子を切り出す工程においても、更に、製造時間の
短縮を図ることができる。更に、本発明は、以下のよう
な利用形態を有する。 (1)上記した本発明の第1〜第6実施例では、反射減
衰量を十分にとるための光導波路素子あるいは光ファイ
バアレイの端面角度が8°の場合について説明したが、
本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、す
なわち広義には、端面角度が0°以上の全ての角度の場
合においても有効である。
According to the sixth embodiment, according to the sixth embodiment, in addition to the effects described in the fifth embodiment, the manufacturing time can be further reduced in the step of cutting the optical waveguide element from the wafer. it can. Further, the present invention has the following utilization modes. (1) In the first to sixth embodiments of the present invention described above, the case where the end facet angle of the optical waveguide element or the optical fiber array for obtaining sufficient return loss is 8 ° is described.
The application range of the present invention is not limited to this. That is, in a broad sense, the present invention is effective even when the end face angle is all angles of 0 ° or more.

【0050】(2)第1〜第6実施例では、少なくとも
コア層の端面を含むその上面側あるいは下面側いずれか
一方の部材の端面のみ8°とする場合について述べた
が、実際には、上面側あるいは下面側の部材の内、少な
くともいずれか一方の端面は全て8°であり、かつコア
層の端面も全て8°であり、かつ他方の部材の端面のコ
ア層に接する側の端面の一部が8°である場合もあり得
る。
(2) In the first to sixth embodiments, the case has been described in which only the end face of either the upper surface or the lower surface including the end surface of the core layer is 8 °. Of the members on the upper surface side or the lower surface side, at least one end face is all 8 °, and the end faces of the core layer are all 8 °, and the end face of the other member that is in contact with the core layer is the end face. Some may be 8 °.

【0051】(3)第1〜第4実施例では、8°の角度
の端面を研磨により形成する方法について述べたが、切
削により形成するようにしてもよい。 (4)第1〜6実施例では、石英系光導波路素子の場合
について説明したが、本発明の適用範囲は、これに限定
されるものではなく、例えばコア層およびクラッド層あ
るいはいずれか一方が他の材料から構成される光導波路
素子においても有効である。具体的には有機材料を用い
た有機光導波路素子、半導体を用いた半導体光導波路素
子等である。
(3) In the first to fourth embodiments, the method of forming the end face at an angle of 8 ° by polishing has been described. However, the end face may be formed by cutting. (4) In the first to sixth embodiments, the case of the silica-based optical waveguide device has been described. However, the application range of the present invention is not limited to this. It is also effective for an optical waveguide device made of another material. Specifically, there are an organic optical waveguide device using an organic material, a semiconductor optical waveguide device using a semiconductor, and the like.

【0052】(5)第5、6実施例では、ダイシングに
より光導波路素子表面の溝を形成する場合について説明
したが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものでは
なく、すなわち、広義にはこのような溝を形成するいか
なる手段に対しても有効である。具体的には、広義の機
械切削加工法、プラズマを用いたドライエッチング法、
粉体を用いたサンドブラスト法等である。
(5) In the fifth and sixth embodiments, the case where the groove on the surface of the optical waveguide element is formed by dicing has been described. However, the applicable range of the present invention is not limited to this, that is, in a broad sense. Is effective for any means of forming such grooves. Specifically, a broadly-defined mechanical cutting method, a dry etching method using plasma,
Sand blast method using powder and the like.

【0053】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible based on the spirit of the present invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、次のような効果を奏することができる。 (A)光度導波路素子の端面全面にわたって端面角度が
特定角度となるように研磨しなくても、少なくともコア
層を含む光導波路層の端面角度が特定角度になるまで研
磨し、端面角度を特定角度とすることによって、十分な
反射減衰量を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) Even if the end face angle of the optical waveguide layer including at least the core layer is polished until the end face angle becomes the specific angle, the end face angle is specified without polishing the end face angle over the entire end face of the light intensity waveguide element. By setting the angle, a sufficient return loss can be obtained.

【0055】これにより、製造時間を大幅に短縮でき、
光導波路素子を低コストで作製することができる。 (B)リドを取り付けた光導波路素子においても、その
端面全面にわたって端面角度が特定角度となるように研
磨しなくても、少なくともコア層を含む光導波路層の端
面角度が特定角度になるまで研磨し、端面角度を特定角
度とすることによって、十分な反射減衰量を得ることが
できる。
As a result, the manufacturing time can be greatly reduced,
An optical waveguide element can be manufactured at low cost. (B) Even in the optical waveguide device with the lid attached, polishing is performed until the end surface angle of at least the optical waveguide layer including the core layer reaches the specific angle without polishing the entire end surface so that the end surface angle becomes the specific angle. However, by setting the end face angle to a specific angle, a sufficient return loss can be obtained.

【0056】(C)光導波路素子を光ファイバアレイと
接続する用途において、各々の部品の製造時間を短縮で
きるので、部品を組み合わせたモジュールとして見た場
合、低コストで作製することができる。 (D)光導波路素子の少なくともコア層を含む光導波路
層の端面が特定角度となるように形成された後に、リド
およびブロックを取り付けるので、短い研磨時間と十分
な接着強度の両方を満足することができる。
(C) In the use of connecting an optical waveguide element to an optical fiber array, the manufacturing time of each component can be shortened. Therefore, when viewed as a module combining components, it can be manufactured at low cost. (D) Since the lid and the block are attached after the end face of the optical waveguide layer including at least the core layer of the optical waveguide element is formed to have a specific angle, both the short polishing time and the sufficient adhesive strength are satisfied. Can be.

【0057】(E)ウエハから光導波路素子を切り出す
工程において、すでに特定角度の端面を得ることができ
るため、更に製造時間の短縮を図ることができる。
(E) In the step of cutting the optical waveguide element from the wafer, an end face having a specific angle can be already obtained, so that the manufacturing time can be further reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例を示す光導波路素子の端面
構造を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an end face structure of an optical waveguide device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施例を示す光導波路素子を光フ
ァイバと接続した構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration in which the optical waveguide device according to the first embodiment of the present invention is connected to an optical fiber.

【図3】本発明の第2実施例を示す光導波路素子の端面
構造を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing an end face structure of an optical waveguide device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2実施例を示す光導波路素子を光フ
ァイバと接続した構成を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a configuration in which an optical waveguide device according to a second embodiment of the present invention is connected to an optical fiber.

【図5】本発明の第3実施例を示す光ファイバアレイの
端面構造の断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of an end face structure of an optical fiber array according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第4実施例を示す光導波路素子の端面
構造の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of an end face structure of an optical waveguide device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第5実施例を示す光導波路素子の端面
構造の製造方法の説明図である。
FIG. 7 is an illustration of a method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第6実施例を示す光導波路素子の端面
構造の製造方法の説明図である。
FIG. 8 is an illustration of a method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図9】従来の光導波路素子の端面構造を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing an end face structure of a conventional optical waveguide element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,300 光導波路素子 102,500a,500b 基板 104 光導波路層 106 コア層 108a,108b 上下クラッド層 110,112,204,312,314,316,5
02,606,608端面 200 光ファイバ 202 光ファイバアレイ 206 UV接着剤 310,602 リド(ガラスブロック) 604 リド様のブロック 700 溝 701,801 V字形のブレード 800 V字形の溝
100, 300 Optical waveguide element 102, 500a, 500b Substrate 104 Optical waveguide layer 106 Core layer 108a, 108b Upper and lower cladding layers 110, 112, 204, 312, 314, 316, 5
02,606,608 end face 200 optical fiber 202 optical fiber array 206 UV adhesive 310,602 lid (glass block) 604 lid-like block 700 groove 701,801 V-shaped blade 800 V-shaped groove

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にコア層とクラッド層からなる光
導波路層が形成された光導波路素子において、前記光導
波路層内の光導波路パターンの入出射端を含む端面は、
少なくとも前記コア層の端面を含む前記光導波路層側の
端面のみが前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対
して特定角度を有することを特徴とする光導波路素子の
端面構造。
In an optical waveguide device having an optical waveguide layer comprising a core layer and a cladding layer formed on a substrate, an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is:
An end face structure of an optical waveguide element, wherein at least only an end face on the optical waveguide layer side including an end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to an optical axis of the optical waveguide pattern.
【請求項2】 基板上にコア層とクラッド層からなる光
導波路層およびリドが形成された光導波路素子におい
て、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端を
含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記光
導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが前記光導波
路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度を有する
ことを特徴とする光導波路素子の端面構造。
2. An optical waveguide device in which an optical waveguide layer comprising a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least the core surface. An end face structure of an optical waveguide element, wherein only an end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including an end face of a layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to an optical axis of the optical waveguide pattern.
【請求項3】 光ファイバが少なくとも二枚の基板間に
挟まれ固定された光ファイバアレイにおいて、前記光フ
ァイバの入出射端を含む端面は、少なくとも前記光ファ
イバの端面を含む前記基板のいずれか一方の端面のみが
前記光ファイバの光軸と鉛直な面に対して特定角度を有
することを特徴とする光ファイバアレイの端面構造。
3. An optical fiber array in which an optical fiber is sandwiched and fixed between at least two substrates, wherein an end surface including an input / output end of the optical fiber is any one of the substrates including an end surface of the optical fiber. An end face structure of an optical fiber array, wherein only one end face has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical fiber.
【請求項4】 請求項1記載の光導波路素子において、
前記特定角度の端面を形成した後に、前記特定角度と同
一の角度を有するリドを前記光導波路素子上に取り付け
ることを特徴とする光導波路素子の端面構造。
4. The optical waveguide device according to claim 1, wherein
An end face structure for an optical waveguide element, wherein a lid having the same angle as the specific angle is mounted on the optical waveguide element after forming the end face at the specific angle.
【請求項5】 請求項1又は2記載の光導波路素子にお
いて、前記特定角度の端面を形成した後に、前記特定角
度と同一の角度を有するブロックを前記光導波路素子の
光軸に対して鉛直な側の面に取り付けることを特徴とす
る光導波路素子の端面構造。
5. The optical waveguide device according to claim 1, wherein after forming the end face having the specific angle, a block having the same angle as the specific angle is perpendicular to an optical axis of the optical waveguide device. An end surface structure of the optical waveguide element, wherein the end surface structure is attached to a side surface.
【請求項6】 請求項3記載の光ファイバアレイにおい
て、前記特定角度の端面を形成した後に、前記特定角度
と同一の角度を有するブロックを前記光ファイバの光軸
に対して鉛直な側の面に取り付けることを特徴とする光
ファイバアレイの端面構造。
6. The optical fiber array according to claim 3, wherein after forming the end face having the specific angle, a block having the same angle as the specific angle is perpendicular to the optical axis of the optical fiber. An end face structure of an optical fiber array, wherein the end face structure is attached to the optical fiber array.
【請求項7】 基板上にコア層とクラッド層からなる光
導波路層が形成された光導波路素子の製造方法におい
て、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端を
含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記光
導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光軸と
鉛直な面に対して特定角度を有し、該特定角度の端面は
研磨により形成することを特徴とする光導波路素子の端
面構造の製造方法。
7. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer is formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least Only the end surface on the optical waveguide layer side including the end surface of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end surface at the specific angle is formed by polishing. A method for manufacturing an end face structure of an optical waveguide device.
【請求項8】 基板上にコア層とクラッド層からなる光
導波路層およびリドが形成された光導波路素子の製造方
法において、前記光導波路層内の光導波路パターンの入
出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含
む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが前
記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度
を有し、該特定角度の端面は研磨により形成することを
特徴とする光導波路素子の端面構造の製造方法。
8. In a method for manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is formed by polishing. A method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide device, comprising:
【請求項9】 光ファイバが少なくとも二枚の基板間に
挟まれ固定された光ファイバアレイの製造方法におい
て、前記光ファイバの入出射端を含む端面は、少なくと
も前記光ファイバの端面を含む前記基板のいずれか一方
の端面のみが前記光ファイバの光軸と鉛直な面に対して
特定角度を有し、該特定角度の端面は研磨により形成す
ることを特徴とする光ファイバアレイの端面構造の製造
方法。
9. A method for manufacturing an optical fiber array in which an optical fiber is sandwiched and fixed between at least two substrates, wherein the end face including the input / output end of the optical fiber is at least the substrate including the end face of the optical fiber. Characterized in that only one of the end faces has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical fiber, and the end face at the specific angle is formed by polishing. Method.
【請求項10】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法におい
て、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端を
含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記光
導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光軸と
鉛直な面に対して特定角度を有し、該特定角度の端面は
切削により形成することを特徴とする光導波路素子の端
面構造の製造方法。
10. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer is formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is formed by cutting. A method for manufacturing an end face structure of an optical waveguide device.
【請求項11】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の製造
方法において、前記光導波路層内の光導波路パターンの
入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を
含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが
前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角
度を有し、該特定角度の端面は切削により形成すること
を特徴とする光導波路素子の端面構造の製造方法。
11. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is formed by cutting. A method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide device, comprising:
【請求項12】 光ファイバが少なくとも二枚の基板間
に挟まれ固定された光ファイバアレイの製造方法におい
て、前記光ファイバの入出射端を含む端面は、少なくと
も前記光ファイバの端面を含む前記基板のいずれか一方
の端面のみが前記光ファイバの光軸と鉛直な面に対して
特定角度を有し、該特定角度の端面は切削により形成す
ることを特徴とする光ファイバアレイの端面構造の製造
方法。
12. A method for manufacturing an optical fiber array in which an optical fiber is sandwiched and fixed between at least two substrates, wherein the end face including the input / output end of the optical fiber is at least the substrate including the end face of the optical fiber. Characterized in that only one of the end faces has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical fiber, and the end face at the specific angle is formed by cutting. Method.
【請求項13】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法におい
て、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端を
含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記光
導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光軸と
鉛直な面に対して特定角度を有し、該特定角度の端面
は、切り出し前のウエハ状態で、切り出し予定個所の光
導波路素子表面に、少なくともコア層の端面が露出する
深さ以上、かつ、基板が分離されない深さまで前記光導
波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度を有す
る溝を形成し、続いて少なくとも前記コア層の端面が切
断されない位置にて基板まで含めて切断することにより
形成することを特徴とする光導波路素子の端面構造の製
造方法。
13. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer is formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is cut out in a wafer state before cutting. A groove having a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern is formed on the surface of the optical waveguide element at a predetermined position, at least to a depth at which the end face of the core layer is exposed, and to a depth at which the substrate is not separated. Then, at least a position where the end surface of the core layer is not cut is cut by including the substrate as well, thereby forming an end surface structure of the optical waveguide element.
【請求項14】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の製造
方法において、前記光導波路層内の光導波路パターンの
入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を
含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが
前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角
度を有し、該特定角度の端面は、切り出し前のウエハ状
態で、切り出し予定個所の光導波路素子表面に、少なく
ともコア層の端面が露出する深さ以上、かつ、基板が分
離されない深さまで前記光導波路パターンの光軸と鉛直
な面に対して特定角度を有する溝を形成し、続いて少な
くとも前記コア層の端面が切断されない位置にて基板ま
で含めて切断することにより形成することを特徴とする
光導波路素子の製造方法。
14. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is not cut out. In the wafer state, on the surface of the optical waveguide element at the cut-out scheduled portion, at least the depth at which the end face of the core layer is exposed, and the plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern until the substrate is separated. Forming a groove having an angle, and then cutting the groove including the substrate at a position where at least the end face of the core layer is not cut, to manufacture the optical waveguide element. Method.
【請求項15】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法におい
て、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端を
含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記光
導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光軸と
鉛直な面に対して特定角度を有し、該特定角度の端面
は、切り出し前のウエハ状態で、切り出し予定個所の光
導波路素子表面に、少なくともコア層の端面が露出する
深さ以上、かつ、基板が分離されない深さまで前記光導
波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角度を有す
る溝を形成し、続いて残りの部分を破断することにより
形成することを特徴とする光導波路素子の端面構造の製
造方法。
15. A method for manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer is formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is cut out in a wafer state before cutting. A groove having a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern is formed on the surface of the optical waveguide element at a predetermined position, at least to a depth at which the end face of the core layer is exposed, and to a depth at which the substrate is not separated. And forming the end face structure of the optical waveguide element by breaking the remaining portion.
【請求項16】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の製造
方法において、前記光導波路層内の光導波路パターンの
入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を
含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが
前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角
度を有し、該特定角度の端面は、切り出し前のウエハ状
態で、切り出し予定個所の光導波路素子表面に、少なく
ともコア層の端面が露出する深さ以上、かつ、基板が分
離されない深さまで前記光導波路パターンの光軸と鉛直
な面に対して特定角度を有する溝を形成し、続いて残り
の部分を破断することにより形成することを特徴とする
光導波路素子の端面構造の製造方法。
16. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is not cut out. In the wafer state, on the surface of the optical waveguide element at the cut-out scheduled portion, at least the depth at which the end face of the core layer is exposed, and the plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern until the substrate is separated. A method of manufacturing an end face structure of an optical waveguide element, comprising forming a groove having an angle, and subsequently forming a groove having an angle.
【請求項17】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層が形成された光導波路素子の製造方法におい
て、前記光導波路層内の光導波路パターンの入出射端を
含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を含む前記光
導波路層側の端面のみが前記光導波路パターンの光軸と
鉛直な面に対して特定角度を有し、該特定角度の端面
は、切り出し前のウエハ状態で、切り出し予定個所の光
導波路素子表面に形成する溝を、先端の角度が前記特定
角度の倍の角度を有するV字形のブレードを用いたダイ
シングにより形成することを特徴とする光導波路素子の
端面構造の製造方法。
17. A method for manufacturing an optical waveguide device having an optical waveguide layer comprising a core layer and a cladding layer formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of an optical waveguide pattern in the optical waveguide layer has at least Only the end face on the optical waveguide layer side including the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is cut out in a wafer state before cutting. Manufacturing an end face structure of the optical waveguide element, wherein a groove formed on a surface of the optical waveguide element at a predetermined location is formed by dicing using a V-shaped blade having a tip angle twice as large as the specific angle. Method.
【請求項18】 基板上にコア層とクラッド層からなる
光導波路層およびリドが形成された光導波路素子の製造
方法において、前記光導波路層内の光導波路パターンの
入出射端を含む端面は、少なくとも前記コア層の端面を
含む前記光導波路層側あるいは前記基板側の端面のみが
前記光導波路パターンの光軸と鉛直な面に対して特定角
度を有し、該特定角度の端面は、切り出し前のウエハ状
態で、切り出し予定個所の光導波路素子表面に形成する
溝を、先端の角度が前記特定角度の倍の角度を有するV
字形のブレードを用いたダイシングにより形成すること
を特徴とする光導波路素子の端面構造の製造方法。
18. A method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide layer including a core layer and a clad layer and a lid are formed on a substrate, wherein an end face including an input / output end of the optical waveguide pattern in the optical waveguide layer is Only the end face on the optical waveguide layer side or the substrate side including at least the end face of the core layer has a specific angle with respect to a plane perpendicular to the optical axis of the optical waveguide pattern, and the end face at the specific angle is not cut out. In the state of the wafer, a groove formed on the surface of the optical waveguide element at the cut-out portion is formed with a V having an angle at the tip of which is twice the specific angle.
A method for manufacturing an end face structure of an optical waveguide element, wherein the method is formed by dicing using a letter-shaped blade.
JP27162098A 1998-09-25 1998-09-25 Optical waveguide element, end face structure for optical fiber array, and its manufacture Withdrawn JP2000098156A (en)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009003096A (en) * 2007-06-20 2009-01-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical waveguide module and manufacturing method of the same
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