JP2000094631A - Method for offset printing and image display device using it - Google Patents

Method for offset printing and image display device using it

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JP2000094631A
JP2000094631A JP26837198A JP26837198A JP2000094631A JP 2000094631 A JP2000094631 A JP 2000094631A JP 26837198 A JP26837198 A JP 26837198A JP 26837198 A JP26837198 A JP 26837198A JP 2000094631 A JP2000094631 A JP 2000094631A
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JP
Japan
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ink
printing
offset printing
pattern
doctoring
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JP26837198A
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Japanese (ja)
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Kazunari Yonemoto
一成 米元
Nobuyuki Ishikawa
信行 石川
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a printing tact and to completely transfer print an ink by providing an ink supply unit before a doctor unit to an intaglio pattern, and simultaneously performing supplying of the ink and doctoring. SOLUTION: A doctor blade 4 is mounted at the same horizontal bar as a dispenser 3, and as the bar is moved in a printing direction, ink discharging and doctoring are simultaneously conducted. At this time the ink supply dispenser 3 discharges the ink while moving to reciprocate in a direction perpendicular to the printing direction, and hence the ink is supplied in saw blade shape 6 over the entire surface of the intaglio pattern. Immediately thereafter, since the ink is doctored by the blade 4 mounted at the same bar, printing can be executed without stopping time of the printer. At this time, since the doctoring is conducted immediately after the ink is supplied, no ink is dried, and the ink is charged in a homogeneous state. As a result, printing can be conducted without defect over the whole of pattern.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はオフセツト印刷によ
って電子機器のパターンを形成する方法に関し、さらに
はこのオフセット印刷によって作製される画像表示装
置、主に平面型表示装置に関するものである。また、該
画像表示装置に用いる表面伝導型電子放出素子、該電子
放出素子を用いた電子源、該電子源を用いた画像表示装
置及び該電子放出素子の製造方法に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for forming a pattern of an electronic device by offset printing, and more particularly to an image display device manufactured by the offset printing, mainly a flat display device. The present invention also relates to a surface conduction electron-emitting device used for the image display device, an electron source using the electron emission device, an image display device using the electron source, and a method for manufacturing the electron emission device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来オフセット印刷はグラフィックス印
刷用として主に人間の視覚に感知されるパターンの印刷
に多く用いられている。また近年、電子機器ヘの応用と
して記録用サーマルヘッドの電極や液晶表示装置のカラ
ーフィルター等を作製するための技術開発が成されてい
る。図4は平台校正機型印刷装置を示す平面図である。
本図において101はインキローラー104でインキ1
07を展開するインキ練り台であり、102は凹版10
5を固定する版定盤である。また103は被印刷物であ
るワーク106を固定するワーク定盤であり本体フレー
ム108の上に固定配置されている。この一列に並んだ
3つの定盤の両側に2本のラックギャー109、110
を配置し、そのラックギャー109、110の上にギャ
ー111、112を噛み合ゎせたブランケット113が
配置されている。ブランケット113はその軸を両端の
キャリッジ114、115で固定され、このキャリッジ
114、115が本体下部からのクランクアーム116
のクランク動作によって前後進し、ブランケット113
はインキ練り台101、凹版105、ワーク106の上
を順次回転摺動する。ブランケット113の表面はゴム
状のブランケットラバーが取付けてある。
2. Description of the Related Art Conventionally, offset printing has been widely used for printing graphics mainly for graphics printing. In recent years, technical development for producing electrodes of a recording thermal head, color filters of a liquid crystal display device, and the like has been made as applications to electronic devices. FIG. 4 is a plan view showing a flatbed proofing machine type printing apparatus.
In this drawing, reference numeral 101 denotes an ink roller 104,
Reference numeral 07 denotes an ink mixing table for developing an intaglio, and reference numeral 102 denotes an intaglio 10
5 is a platen for fixing 5. Reference numeral 103 denotes a work surface plate for fixing a work 106 to be printed, which is fixedly arranged on a main body frame 108. Two rack gears 109 and 110 are provided on both sides of the three platens arranged in a row.
Are arranged, and a blanket 113 in which the gears 111 and 112 are engaged is arranged on the rack gears 109 and 110. The blanket 113 has its axis fixed by carriages 114 and 115 at both ends.
Forward and backward by the cranking motion of the blanket 113
Are sequentially rotated and slid on the ink mixing table 101, the intaglio 105, and the work 106. The surface of the blanket 113 is provided with a rubber-like blanket rubber.

【0003】図5(a)〜(d)はオフセット印刷工程
を示す断面図である。本図に於て101はインキ練り
台、105は凹版、106はワークとなるガラス基板で
あり同一平面に直列に配置されている。104はインキ
ロールでありインキ練り台101上で練ったインキ10
7を凹版105上に転移させる(図5(a))。117
はドクターブレードであり凹版105上面を摺動して転
移したインキ107のうち、凹部に充填されたインキ以
外をかきとる(図5(b))。113はブランケットで
あり凹版105、ガラス基板106上面を順に回転接触
することにより、凹版105の凹部に充填されたインキ
を受理し(図5(c))、ガラス基板106上に凹版1
05の有するパターン状にインキ107を転移する(図
5(d))。以上により印刷工程が終了する。印刷イン
キ107は作製するパターンの機能によって適宜選択す
ることができる。即ち記録用サーマルヘッド等の電極に
は主にAuレジネートペーストと呼ばれる有機Au金属
から成るインキを用い、また、カラーフィルターであれ
ばR、G、B各色の顔料を分散したインキや有機色素を
含んだインキ等が用いられる。
FIGS. 5A to 5D are cross-sectional views showing an offset printing process. In this drawing, 101 is an ink mixing table, 105 is an intaglio, and 106 is a glass substrate serving as a work, which is arranged in series on the same plane. Reference numeral 104 denotes an ink roll, and the ink 10 kneaded on the ink kneading table 101.
7 is transferred onto the intaglio 105 (FIG. 5A). 117
Is a doctor blade, which scrapes out the ink 107 transferred by sliding on the upper surface of the intaglio 105, except the ink filled in the concave portion (FIG. 5B). Reference numeral 113 denotes a blanket, which receives the ink filled in the concave portions of the intaglio 105 by rotatingly contacting the upper surface of the intaglio 105 and the upper surface of the glass substrate 106 (FIG. 5C).
The ink 107 is transferred to the pattern 05 (FIG. 5D). Thus, the printing process is completed. The printing ink 107 can be appropriately selected depending on the function of the pattern to be manufactured. That is, the electrodes of the recording thermal head or the like are mainly made of an organic Au metal ink called Au resinate paste, and the color filter contains an ink in which R, G, and B color pigments are dispersed or an organic dye. An ink or the like is used.

【0004】また従来、平面型表示装置を実現する表示
技術としては、単純マトリックス液晶表示装置(LC
D)、薄膜トランジスタ液晶表示装置(TFT/LC
D)、プラズマディスプレイ(PDP)、低速電子線蛍
光表示管(VFD)、マルチ電子源フラットCRT等の
平面型表示装置技術がある。
[0004] Conventionally, as a display technology for realizing a flat display device, a simple matrix liquid crystal display device (LC) has been used.
D), thin film transistor liquid crystal display (TFT / LC)
D), flat panel display technologies such as a plasma display (PDP), a slow electron beam fluorescent display (VFD), and a multi-electron source flat CRT.

【0005】これらの表示技術の例として、マルチ電子
源を用い蛍光体を発光させる発光素子及びこれを用いた
平面型表示装置について説明する。
[0005] As examples of these display techniques, a light emitting element that emits a phosphor using a multi-electron source and a flat display device using the same will be described.

【0006】従来より電子源としての電子放出素子には
大別して熱電子放出素子と冷陰極電子放出素子を用いた
2種類のものが知られている。冷陰極電子放出素子には
電界放出型(以下、「FE型」という。)、金属/絶縁
層/金属型(以下、「MIM型」という。)や表面伝導
型電子放出素子等がある。FE型の例としてはW.P.
Dyke&W.W.Doran”Field Emis
sion”,Advance in Electron
Physics,8,89(1956)あるいはC.A.
Spindt”Physical Propertie
s of thin−film field emissi
on cathodes with molybdeni
um cones”,J.Appl.Phys.,47,
5248(1976)等に開示されたものが知られてい
る。
Heretofore, two types of electron-emitting devices, which use a thermionic electron-emitting device and a cold cathode electron-emitting device, have been known as electron sources. The cold cathode electron emitting device includes a field emission type (hereinafter, referred to as “FE type”), a metal / insulating layer / metal type (hereinafter, referred to as “MIM type”), a surface conduction type electron emitting device, and the like. As an example of the FE type, W. P.
Dyke & W. W. Doran's Field Emis
zone ", Advance in Electron
Physics, 8, 89 (1956) or C.I. A.
Spindt "Physical Property
s of thin-film field emissi
on cathodes with mollybdeni
um cones ", J. Appl. Phys., 47,
5248 (1976) and the like are known.

【0007】MIM型ではC.A.Mead,”Ope
ration of Tunnel−Emission
Devices”, J.Appl.Phys.32,
646(1961)等に開示されたものが知られてい
る。
In the MIM type, C.I. A. Mead, "Ope
ratio of Tunnel-Emission
Devices ", J. Appl. Phys. 32,
646 (1961) and the like are known.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記オフ
セット印刷においてインキ供給は、インキ供給装置が凹
版上パターンの手前位置に移動して静止し、またこの時
インキ吐出ノズル部がドクタリング直交方向に数回往復
動作して、インキ所定量をパターン幅まで行き渡らせる
ように吐出する。そしてインキ供給終了後にドクタリン
グ動作が開始する。そのためインキ吐出時は装置待機時
間となり、印刷タイムロスが起こっていた。またさらに
大面積、厚肉パターンに対応したインキ吐出を行うため
にはインキ吐出装置の往復動作が増えて装置待機時間が
長くなってゆき、ここでのタイムロスが増大していくと
いう問題があった。
In the offset printing, however, the ink supply is performed by moving the ink supply device to a position in front of the pattern on the intaglio plate and stopping the ink supply. At this time, the ink discharge nozzle is moved several times in the direction perpendicular to the doctor ring. In a reciprocating operation, the ink is ejected so that a predetermined amount of the ink reaches the pattern width. Then, the doctoring operation starts after the end of the ink supply. Therefore, when the ink is ejected, the apparatus waits for the apparatus, and a printing time loss occurs. Further, in order to perform ink discharge corresponding to a large area and a thick pattern, there is a problem that the reciprocating operation of the ink discharge device increases, the standby time of the device increases, and the time loss increases. .

【0009】また凹版上一か所でのインキ吐出を増やし
て大面積をドクタリングすると、場所の違いによるイン
キの乾燥状態やインキ成分の変化などが生じて、パター
ン欠陥の発生や印刷品質の低下という問題が生じた。
Further, when the doctor discharges a large area by increasing the ink discharge at one place on the intaglio, the dry state of the ink and the change of the ink components due to the difference in the place occur, thereby causing pattern defects and deterioration of print quality. The problem arose.

【0010】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、印刷タクトを短縮できインキの完全転写印刷が可能
となるオフセット印刷法を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide an offset printing method capable of shortening the printing tact and enabling complete transfer printing of ink.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の凹版オフセット印刷方法においては、インキ
吐出とドクタリング動作を同時に行うようにして、かつ
インキ供給装置がドクタリング方向に前進しつつ直交方
向に往復動作しながらインキ吐出することを特徴とす
る。
In order to achieve this object, in an intaglio offset printing method according to the present invention, ink ejection and doctoring operation are performed simultaneously, and an ink supply device moves forward in a doctoring direction. It is characterized in that ink is ejected while reciprocating in the orthogonal direction.

【0012】すなわち、第一の本発明のオフセット印刷
方法は、凹版のパターン部にインキをディスベンサー供
給する装置と、余分なインキを掻きとる為のドクター装
置を備え、該凹版上のパターンをブランケット胴に転写
し、該ブランケット胴上のパターンを印刷対象物に印刷
するオフセット印刷装置を用いて行うオフセット印刷方
法において、該オフセット印刷装置では該凹版パターン
部に対して該ドクター装置の手前に該インキ供給装置が
備えつけられており、かつ該インキ供給装置がドクタリ
ング方向に前進しながらインキ供給とドクタリングを同
時に行うことを特徴とするオフセット印刷方法である。
That is, the offset printing method according to the first aspect of the present invention comprises a device for supplying an ink to a pattern portion of an intaglio and a doctor device for scraping off excess ink. In the offset printing method performed by using an offset printing apparatus that transfers the pattern on the blanket cylinder to a printing target, the ink supply is performed before the doctor apparatus with respect to the intaglio pattern portion. An offset printing method, comprising a device, and wherein the ink supply device simultaneously performs ink supply and doctoring while moving forward in a doctoring direction.

【0013】第二の本発明のオフセット印刷方法は、上
記第一の本発明において、前記インキ供給装置がドクタ
リング直交方向に往復動作しながらインキ吐出すること
を特徴とするオフセット印刷方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an offset printing method according to the first aspect, wherein the ink supply device ejects ink while reciprocating in a direction orthogonal to a doctor ring.

【0014】第三の本発明は、上記第一及び第二のオフ
セット印刷方法を用いて素子電極が形成されたことを特
徴とする画像表示装置である。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an image display device having element electrodes formed by using the first and second offset printing methods.

【0015】本発明のオフセット印刷方法は、このよう
な構成にすることによって、凹版パターン部に必要なイ
ンキがディスペンス供給される間、装置待機することな
くドクタリング動作が行えるので、印刷タクト短縮が可
能になる。また一方、インキはパターン全面に渡って吐
出されており、そのためドクタリングで凹版パターンに
充填されたインキは場所によらず乾燥しにくくかつ均質
であり、その結果印刷品質が向上する。更に本発明方法
に依って作成される高精度印刷パターンを使用すること
で、高精細SCEパネルの製作が可能となる。
According to the offset printing method of the present invention, the doctoring operation can be performed without waiting for the apparatus while the necessary ink is dispensed to the intaglio pattern portion by adopting such a configuration. Will be possible. On the other hand, the ink is discharged over the entire surface of the pattern, so that the ink filled in the intaglio pattern by doctoring is hard to dry and uniform regardless of the location, and as a result, the print quality is improved. Further, by using a high-precision printing pattern created by the method of the present invention, a high-definition SCE panel can be manufactured.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態及び実施例】以下本発明のオフセッ
ト印刷方法の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the offset printing method of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】(実施例1)図1は本発明の特徴を最もよ
く表わすオフセット印刷装置の図面で、インキ供給ディ
スベンサー装置とドクター装置及びパターン上のインキ
吐出状態を示した平面図である。また図2はその断面図
である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a drawing of an offset printing apparatus that best illustrates the features of the present invention, and is a plan view showing an ink supply and dispenser apparatus, a doctor apparatus, and an ink discharge state on a pattern. FIG. 2 is a sectional view thereof.

【0018】本発明の実施例で使用しているオフセット
印刷装置では、図1、図2に示すように凹版1及び凹版
パタ−ン部2に対してディスペンサー3は矢印で示す印
刷およびドクタリング方向に移動可能な水平バー7に取
りつけられており、ここでこのディスペンサは印刷およ
び直交方向にモーター駆動で図1に示すように移動可能
である。またドクターブレード4も同一の水平バーに取
りつけられており、この水平バーが印刷方向ヘ速度50
mm/secで移動するにつれて、インキ吐出とドクタ
リングが同時に行われる。この時インキ供給ディスベン
サー3は、印刷直交方向に速度200mm/secで往
復移動しながらインキ吐出するので、インキは図1に示
すようにノコギリ刃形状6で凹版パターン部全面に渡っ
て供給される。そしてその直後に、ディスペンサー3と
同一バーに取りつけられているドクターブレード4によ
ってインキがドクタリングされるため、装置停止時間な
く印刷することがができた。またこのときパターン部全
面に渡ってインキ供給された後すぐにドクタリングされ
るので、インキ乾燥がなくまた均質な状態でインキ充填
されており、その結果パターン全面に亘り欠陥のない印
刷をすることができた。
In the offset printing apparatus used in the embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, the dispenser 3 moves the intaglio 1 and the intaglio pattern 2 in the printing and doctoring directions indicated by arrows. The dispenser is mounted on a horizontal bar 7 which is movable in the printing and orthogonal directions, as shown in FIG. The doctor blade 4 is also mounted on the same horizontal bar.
As it moves at a speed of mm / sec, ink ejection and doctoring are performed simultaneously. At this time, the ink supply and dispenser 3 ejects ink while reciprocating at a speed of 200 mm / sec in a direction orthogonal to the printing, so that the ink is supplied over the entire intaglio pattern portion in a saw blade shape 6 as shown in FIG. Immediately after that, the ink was doctored by the doctor blade 4 attached to the same bar as the dispenser 3, so that printing could be performed without stopping the apparatus. At this time, since the doctoring is performed immediately after the ink is supplied over the entire pattern area, the ink is not dried and is filled with the ink in a uniform state. As a result, the defect-free printing is performed over the entire pattern area. Was completed.

【0019】また図3は従来例のオフセット印刷方法で
のインキ吐出状態を示した平面図で、インキ所定量を吐
出するため凹版パターン部の手前位置でディスペンサを
速度200mm/secで4往復移動してインキ供給し
ており、このインキ吐出時の約l0秒間は装置停止とな
って、印刷タイムロスが生じていた。さらにこの後ドク
タリングの際、装置停止中のインキの乾燥が原因と推測
される印刷欠陥が全面で発生した。
FIG. 3 is a plan view showing the state of ink ejection in the conventional offset printing method. In order to eject a predetermined amount of ink, the dispenser is reciprocated four times at a speed of 200 mm / sec before the intaglio pattern portion. The apparatus was stopped for about 10 seconds when the ink was ejected, resulting in a printing time loss. Further, at the time of doctoring thereafter, a printing defect occurred on the entire surface presumably due to drying of the ink while the apparatus was stopped.

【0020】(実施例2)オフセツト印刷により形成さ
れた電子放出素子の素子電極を用いた画像形成装置め製
造例について以下に述ベる。
(Embodiment 2) An example of manufacturing an image forming apparatus using element electrodes of electron-emitting devices formed by offset printing will be described below.

【0021】上記実施例1で説明した印刷方法、印刷装
置によってガラス基板上に電子放出素子の素子電極を印
刷転写した。本実施例において、インキは有機金属から
成るPtレジネートペーストを用いている。ガラス基板
上に転移されたインキは、約70℃の乾燥と約580℃
の焼成とによって、Ptから成る素子電極として利用で
きる。印刷乾燥後のガラス基板上のインキ転写厚みは約
2ミクロン程度と小さく、印刷電極パターン幅の太りは
非常に小いさかった。さらに、焼成後のPt電極厚みは
約1000オングストロームと薄く形成することができ
た。ここで、素子電極のパターン形状としては、電子放
出材を配置する素子電極間隔を有し、その寸法を約20
ミクロンに設定した。
The device electrodes of the electron-emitting devices were printed and transferred onto a glass substrate by the printing method and the printing apparatus described in the first embodiment. In this embodiment, the ink uses a Pt resinate paste made of an organic metal. The ink transferred onto the glass substrate is dried at about 70 ° C and dried at about 580 ° C.
Can be used as an element electrode made of Pt. The thickness of the transferred ink on the glass substrate after printing and drying was as small as about 2 microns, and the width of the printed electrode pattern was very small. Further, the thickness of the fired Pt electrode was as thin as about 1000 angstroms. Here, the pattern shape of the device electrode has a device electrode interval for arranging the electron-emitting material, and its dimension is about 20 mm.
Set to microns.

【0022】以上のようにして形成した素子電極に対し
て、配線とPd微粒子から成る薄膜を形成することによ
って、電子源基板を作製することができる。以下図面を
参照して説明する。
An electron source substrate can be manufactured by forming a thin film composed of wiring and Pd fine particles on the device electrode formed as described above. This will be described below with reference to the drawings.

【0023】図8は本実施例の画像表示装置を示す断面
図であるが、図8において、401は青板ガラスから成
る電子源基板。405、406はAgペーストインキの
印刷焼成で得られた厚み約7ミクロンの印刷配線であ
る。素子電極402、403は印刷配線405、406
と各々接続している。404は有機金属溶液の塗布焼成
で得られた厚み約200オングストロームのPd微粒子
から成る薄膜で、素子電極402、403及びその電極
間隔部に配置するようにCr薄膜のリバースエッチ法に
よってパターニングした。407、408はメッキ配線
で、印刷配線405、406上に厚み約50ミクロン、
幅400ミクロンのCuメッキによって形成した。また
409は青板ガラスから成るガラス基板で、電子源基板
401と5ミリメートル隔たれて対向している。410
は蛍光体で、基板409上に配置されており、対向した
電子源基板401上に配置された素子電極402、40
3から成る電極間隔部に対応した位置に形成されてい
る。蛍光体410は感光性樹脂と蛍光体を混ぜてスラリ
ー状とし、塗布乾燥した後ホトリソグラフィ法によって
パターニング形成したものである。411は蛍光体41
0上にフィルミング工程を施した後、真空蒸着によって
厚み約300オングストロームのAl薄膜を成膜し、こ
れを焼成してフイルム層を焼失することによって得られ
たメタルバックである。以上の、蛍光体及びメタルバツ
クをガラス基板409上に形成したものをフェースプレ
ートと呼ぶ。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the image display device of the present embodiment. In FIG. 8, reference numeral 401 denotes an electron source substrate made of blue plate glass. Reference numerals 405 and 406 denote printed wirings having a thickness of about 7 μm obtained by printing and baking Ag paste ink. The device electrodes 402 and 403 are printed wirings 405 and 406.
And each is connected. Reference numeral 404 denotes a thin film made of Pd fine particles having a thickness of about 200 angstroms obtained by coating and baking an organic metal solution, and patterned by reverse etching of a Cr thin film so as to be arranged at the device electrodes 402 and 403 and the space between the electrodes. Reference numerals 407 and 408 denote plating wirings having a thickness of about 50 μm on the printed wirings 405 and 406.
It was formed by Cu plating having a width of 400 microns. Reference numeral 409 denotes a glass substrate made of blue sheet glass, which faces the electron source substrate 401 at a distance of 5 mm. 410
Is a phosphor, which is disposed on a substrate 409, and which has device electrodes 402, 40 disposed on an electron source substrate 401 facing the phosphor.
3 are formed at positions corresponding to the electrode spacing portions. The phosphor 410 is formed by mixing a photosensitive resin and a phosphor into a slurry, coating and drying, and then performing patterning by photolithography. 411 is the phosphor 41
This is a metal back obtained by subjecting a filming process to a film on top of an aluminum film 0, forming an Al thin film having a thickness of about 300 angstroms by vacuum evaporation, firing the film, and burning out the film layer. The above-described phosphor and metal back formed on the glass substrate 409 are called a face plate.

【0024】413は素子基板とフェースプレート間に
配置されたグリッド電極である。以上を真空外囲器の中
に配置した後、メッキ配線407、408間に電圧を印
加して薄膜404の通電処理を行い電子放出部412を
得た。この後メタルバック410をアノード電極として
電子の引き出し電圧3kVを印加し、メツキ配線40
6、407間を通して素子電極402、403から電子
放出部412ヘ14Vの電圧を印加したところ、電子が
放出された。この放出電子をグリッド電極413の電圧
を変化させることによって変調し、蛍光体410ヘ照射
される放出電子量を調整することができた。これにより
蛍光体410を任意に発光させ画像を表示できた。
Reference numeral 413 denotes a grid electrode disposed between the element substrate and the face plate. After arranging the above in a vacuum envelope, a voltage was applied between the plating wirings 407 and 408 to energize the thin film 404 to obtain an electron emission portion 412. Thereafter, a voltage of 3 kV for extracting electrons is applied using the metal back 410 as an anode electrode, and
When a voltage of 14 V was applied from the device electrodes 402 and 403 to the electron emission portions 412 through the gaps 6 and 407, electrons were emitted. The emitted electrons were modulated by changing the voltage of the grid electrode 413, and the amount of emitted electrons emitted to the phosphor 410 could be adjusted. As a result, the phosphor 410 could emit light arbitrarily and an image could be displayed.

【0025】以上の様に、本発明により形成した高精度
印刷パターンを使用することで、高精細パネルの製作が
可能になった。
As described above, by using the high-precision printing pattern formed according to the present invention, a high-definition panel can be manufactured.

【0026】(実施例3)図9は本実施例の画像表示装
置の素子基板の製造工程を示す上面図であるが、図9の
(a)〜(f)にオフセツト印刷によって作製した表面
伝導型電子放出素子とマトリツクス配線を組み合わせた
図を示す。
(Embodiment 3) FIG. 9 is a top view showing a process of manufacturing an element substrate of an image display device of this embodiment. FIGS. 9 (a) to 9 (f) show the surface conduction produced by offset printing. The figure which combined the type | mold electron emission element and the matrix wiring is shown.

【0027】図9(f)において不図示の青板ガラス基
板上に対して、電子放出素子を3X3個、計9個のマト
リックス状に配線と共に形成した例で示す。本図におい
て501は下層印刷配線、502は下層印刷配線501
に並列した印刷パッドであり、下層印刷配線501と同
一工程で印刷金属ペーストの焼成によって形成される。
503は印刷ガラスペーストの焼成によって形成され
た、下層印刷配線501に対して直交した短冊状の絶縁
層であり、印刷パッド502との交差中央部で504の
コンタクトホールの開口を有している。図9(d)に示
す505は上層印刷配線であり、図9(f)に示すメッ
キ配線506の下層となるため図9(f)の図面上は露
出していない。上層印刷配線505は絶縁層503上の
短冊状であり、コンタクトホール504によって印刷パ
ッド502と電気的に接続しており、印刷金属ベースト
の焼成によって形成される。507、508は素子電極
であり、下層印刷配線501と印刷パッド502とに各
々接続しており、レジネートペーストインキのオフセッ
ト印刷、焼成によって形成される。素子電極507、5
08は相互の隣接部で電極問隔30ミクロン電極幅20
0ミクロンの形状を構成している。509は電子放出材
であるPd微粒子から成る薄膜であり素子電極507、
508及び電極間隔に配線形成される。510はこの電
極間隔部の薄膜部位を示めしており、後述する電子放出
部となる部分である。506はメツキ配線であり、上層
印刷配線505上に短冊状でメッキ法によって形成され
る厚み約100ミクロンの金属配線である。
FIG. 9 (f) shows an example in which 3 × 3 electron-emitting devices are formed on a blue glass substrate (not shown) in a matrix of nine in total, together with wirings. In this figure, 501 is a lower printed wiring, 502 is a lower printed wiring 501
Are formed by firing the printed metal paste in the same step as the lower layer printed wiring 501.
Reference numeral 503 denotes a strip-shaped insulating layer which is formed by sintering the printing glass paste and is orthogonal to the lower printed wiring 501, and has an opening 504 for a contact hole at the center of the intersection with the printing pad 502. Reference numeral 505 shown in FIG. 9D is an upper layer printed wiring, which is not exposed in the drawing of FIG. 9F because it is a lower layer of the plated wiring 506 shown in FIG. 9F. The upper printed wiring 505 has a strip shape on the insulating layer 503, is electrically connected to the printing pad 502 by a contact hole 504, and is formed by firing a printed metal base. Element electrodes 507 and 508 are connected to the lower printed wiring 501 and the print pad 502, respectively, and are formed by offset printing and firing of a resinate paste ink. Device electrodes 507, 5
08 is an adjacent part of the electrode and has an electrode gap of 30 μm and an electrode width of 20
It has a shape of 0 microns. Reference numeral 509 denotes a thin film made of Pd fine particles as an electron-emitting material, and a device electrode 507;
Wiring is formed at 508 and the electrode interval. Reference numeral 510 denotes a thin film portion of the electrode interval, which is a portion to be an electron emitting portion described later. Reference numeral 506 denotes a metal wiring, which is a metal wiring having a thickness of about 100 microns and formed in a strip shape on the upper printed wiring 505 by a plating method.

【0028】以下、本図(a)、(b)、(c)、
(d)、(e)、(f)を用いて本素子基板の製造工程
を順に説明する。
The following figures (a), (b), (c),
(D), (e), and (f) will be used to sequentially describe the steps of manufacturing the element substrate.

【0029】まず、良く洗浄した青板ガラスから成る基
板上にレジネートペーストインキのオフセット印刷、焼
成によって厚み1000オングストロームのPt素子電
極507、508をパターン形成した(図9(a))。
First, Pt element electrodes 507 and 508 having a thickness of 1000 angstroms were pattern-formed on a well-cleaned substrate made of blue plate glass by offset printing and baking of a resinate paste ink (FIG. 9A).

【0030】次に、Agペーストインキをスクリーン印
刷し、焼成して幅300ミクロン、厚み7ミクロンの下
層印刷配線501及び印刷パッド502を形成した。こ
の時、下層印刷配線501及び印刷パッド502は素子
電極507、508と各々電気的に接続される(図9
(b))。
Next, an Ag paste ink was screen-printed and baked to form a lower printed wiring 501 and a print pad 502 having a width of 300 μm and a thickness of 7 μm. At this time, the lower printed wiring 501 and the print pad 502 are electrically connected to the device electrodes 507 and 508, respectively (FIG. 9).
(B)).

【0031】次に、ガラスペーストインキをスクリーン
印刷し、焼成して幅500ミクロン厚み約20ミクロン
の絶縁層503と、開口寸法100ミクロン角のコンタ
クトホール504を形成した(図9(c))。
Next, the glass paste ink was screen-printed and baked to form an insulating layer 503 having a width of 500 μm and a thickness of about 20 μm, and a contact hole 504 having an opening size of 100 μm square (FIG. 9C).

【0032】更に、絶縁層503上にAgペーストイン
キをスクリーン印刷し、焼成して幅300ミクロン厚み
10ミクロンの上層印刷配線505を形成した。この時
コンタクトホール504を通じて上層印刷配線505と
印刷パッド502は電気的に導通する。また、後工程の
メッキ配線形成によって、コンタクトホールでの充分な
ステップカバーが実現される(図9(d))。
Further, an Ag paste ink was screen-printed on the insulating layer 503 and baked to form an upper printed wiring 505 having a width of 300 μm and a thickness of 10 μm. At this time, the upper printed wiring 505 and the print pad 502 are electrically connected through the contact hole 504. In addition, a sufficient step cover at the contact hole is realized by forming a plated wiring in a later process (FIG. 9D).

【0033】次に、薄膜509を配置したくない部分に
スパッタ法によりCrを成膜した後、ホトリソエッチン
グ法によってCrパターンを作製し、その後有機パラジ
ュウム溶液(奥野製薬(株)キャタペーストCCP42
30)を塗布、焼成してPd微粒子膜として得た。更
に、Crパターンをリバースエッチして薄膜509を素
子電極507、508と電極間隔部にパターニング形成
した(図9(e))。
Next, a Cr film is formed by sputtering on a portion where the thin film 509 is not desired to be disposed, and then a Cr pattern is formed by photolitho etching, and then an organic palladium solution (Catapaste CCP42, Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.)
30) was applied and baked to obtain a Pd fine particle film. Further, the Cr pattern was reverse-etched, and a thin film 509 was formed by patterning in a space between the device electrodes 507 and 508 and the electrode (FIG. 9E).

【0034】次に、上層印刷配線505を露出させた形
にメッキレジストをホトリソグラフイ法により形成し、
上層印刷配線505に通電してこの部分にCuの電解メ
ッキを厚み100ミクロン実施した。メッキレジストを
剥離することにって素子基板が製造された。この時、コ
ンタクトホール504部分においてCuメッキ膜は充分
にコンタクトホール504内にも堆積成長して、印刷パ
ッド502と上層印刷配線505とは充分な電気的導通
が得られた(図9(f))。
Next, a plating resist is formed by photolithography so that the upper printed wiring 505 is exposed.
The upper printed wiring 505 was energized, and Cu electroplating was performed on this portion to a thickness of 100 μm. An element substrate was manufactured by removing the plating resist. At this time, the Cu plating film was sufficiently deposited and grown in the contact hole 504 at the contact hole 504, and sufficient electrical continuity was obtained between the print pad 502 and the upper printed wiring 505 (FIG. 9F). ).

【0035】本素子基板を40センチメートル角基板上
に、350X350個の電子放出素子をマトリックス状
に配置してR、G、Bに対応する各蛍光体を有するフェ
イスプレートと共に真空外囲器内に配置した。この後、
電子放出素子の通電処理を行った後、本素子基板の上層
印刷配線には14Vの任意の電圧信号を、下層印刷配線
には0Vの電位を順次印加走査し、それ以外の下層印刷
配線は7Vの電位とした。フェースプレートのメタルバ
ックに3kVのアノード電圧を印加したところ、任意の
画像を表示することができた。この時の電子放出素子と
蛍光体の位置ズレによって生ずる蛍光輝点のクロストー
クは無かった。また、メツキ配線の配線抵抗は基板両端
部間で約0.5オーム程度と小さくすることができ、駆
動信号の電圧降下や遅延を大幅に改善することができ
た。
The present device substrate is arranged on a 40 cm square substrate on which 350 × 350 electron-emitting devices are arranged in a matrix, together with a face plate having phosphors corresponding to R, G, and B in a vacuum envelope. Placed. After this,
After the electron-emitting device is energized, an arbitrary voltage signal of 14 V is sequentially applied to the upper printed wiring of the element substrate, and a potential of 0 V is applied to the lower printed wiring, and scanning is performed. Potential. When an anode voltage of 3 kV was applied to the metal back of the face plate, an arbitrary image could be displayed. At this time, there was no crosstalk between the fluorescent luminescent spots caused by the misalignment between the electron-emitting device and the phosphor. Further, the wiring resistance of the plating wiring can be reduced to about 0.5 ohm between both ends of the substrate, and the voltage drop and the delay of the driving signal can be greatly improved.

【0036】本工程においては、印刷配線の印刷焼成前
に素子電極507、508を作製した。しかし、この素
子電極は印刷焼成工程を一度経ているため、同様な印刷
配線焼成では素子電極の熱ダメージは発生しなかった。
また、下層印刷配線501と印刷パッド502は基板上
の同一形成層であり、素子電極507、508とのコン
タクトは素子電極507、508が段差の無い基板上で
形成され、印刷配線501と印刷パッド502に接続す
るため途中で断線することは無かった。
In this step, device electrodes 507 and 508 were formed before printing and firing of the printed wiring. However, since this device electrode has undergone a printing and firing process once, thermal damage to the device electrode did not occur in the same printed wiring firing.
The lower printed wiring 501 and the print pad 502 are the same layer on the substrate, and the contacts with the device electrodes 507 and 508 are formed on the substrate without the stepped device electrodes 507 and 508. There was no disconnection on the way to connect to 502.

【0037】以上、実施例2の場合と同様に、本発明に
より形成した高精度印刷パターンを使用することで、高
精細SCEパネルの製作が可能になった。
As described above, as in the case of the second embodiment, the use of the high-precision printing pattern formed according to the present invention makes it possible to manufacture a high-definition SCE panel.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
インキ吐出装置とドクター装置を同時に動作させ、かつ
この時インキ吐出装置はドクタリング直交方向に往復動
作しながらインキ吐出することにより、装置待機もなく
印刷タクト短縮がはかれる。またさらに、凹版パターン
全面に亘りインキ吐出し、同時にすばやくドクタリング
するので、乾燥しにくくかつ均質なインキ充填となり、
欠陥なく印刷品質の良い印局パターンがオフセット印刷
で得られる。そして更に本発明による高精度印刷パター
ンを使用することで、高精細SCEパネルの製作が可能
となった。
As described above, according to the present invention,
The ink ejection device and the doctor device are operated at the same time, and at this time, the ink ejection device ejects the ink while reciprocating in the direction orthogonal to the doctor ring, so that the printing tact can be reduced without waiting for the device. In addition, since ink is ejected over the entire intaglio pattern and at the same time, doctoring is performed quickly, it is difficult to dry and uniform ink filling,
A printing station pattern with good print quality without defects can be obtained by offset printing. Further, by using the high-precision printing pattern according to the present invention, a high-definition SCE panel can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明で使用するオフセット印刷装置のインキ
供給ディスベンサー装置とドクター装置及びパターン上
のインキ吐出状態を示した平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an ink supply and dispenser device and a doctor device of an offset printing device used in the present invention and an ink discharge state on a pattern.

【図2】図1に示すオフセット印刷装置の断面図であ
る。
FIG. 2 is a sectional view of the offset printing apparatus shown in FIG.

【図3】従来のオフセット印刷方法でのインキ吐出状態
を示した従来のオフセット印刷装置の概略平面構成図で
ある。
FIG. 3 is a schematic plan configuration diagram of a conventional offset printing apparatus showing an ink discharge state in a conventional offset printing method.

【図4】図4は平台校正機型オフセット印刷装置を示す
平面模式図である。
FIG. 4 is a schematic plan view showing a flatbed proofing machine type offset printing apparatus.

【図5】従来のオフセット印刷工程をしめす模式断面図
で、(a)〜(d)はそのオフセット印刷工程を示す。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a conventional offset printing process, and (a) to (d) show the offset printing process.

【図6】従来の表面伝導型電子放出素子の模式平面図で
ある。
FIG. 6 is a schematic plan view of a conventional surface conduction electron-emitting device.

【図7】従来の表面伝導型電子放出素子の模式図で、
(a)は平面図、(b)は断面図である。
FIG. 7 is a schematic view of a conventional surface conduction electron-emitting device.
(A) is a plan view and (b) is a cross-sectional view.

【図8】本発明の実施例2の画像表示装置を示す模式断
面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view illustrating an image display device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施例3の画像表示装置の素子基板の
製造工程を示す上面図で、(a)から(f)へと、その
工程順をしめす。
FIG. 9 is a top view illustrating a manufacturing process of the element substrate of the image display device according to the third embodiment of the present invention, and illustrates the order of the processes from (a) to (f).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,105:凹版 2:凹版パターン部 3:ディスベンサ装置 4,117:ドクターブレード 5:ブランケット胴 6:ノコギリ刃状のインキ吐出形状 7:水平移動バー 8:インキ練り台 102:凹版を固定する版定盤 103:ワークを固定するワーク定盤 104:インキローラー 106:ワーク 107:インキ 108:本体フレーム 109,110:ラックギャー 111,112:ギャー 113:ブランケット 114,115:キャリッジ 116:クランクアーム 401:電子源基板 402,403,507,508:素子電極 404,509:薄膜 405,406:印刷配線 407,408:メッキ配線 409:基板 410:蛍光体 411:メタルバック 412,510:電子放出部 413:クリッド電極 501:下層印刷配線 502:印刷パッド 503:絶縁層 504:コンタクトホール 505:上層印刷配線 506:メッキ配線 1,105: intaglio 2: intaglio pattern 3: dispenser device 4, 117: doctor blade 5: blanket cylinder 6: saw blade-shaped ink ejection shape 7: horizontal moving bar 8: ink mixing table 102: plate for fixing intaglio Surface plate 103: Work surface plate for fixing the work 104: Ink roller 106: Work 107: Ink 108: Body frame 109, 110: Rack gear 111, 112: Gear 113: Blanket 114, 115: Carriage 116: Crank arm 401: Electron source substrate 402, 403, 507, 508: device electrode 404, 509: thin film 405, 406: printed wiring 407, 408: plated wiring 409: substrate 410: phosphor 411: metal back 412, 510: electron emitting portion 413: Grid electrode 501: lower layer Printing wiring 502: Printing Pad 503: insulating layer 504: contact hole 505: upper layer printed wiring 506: plated wiring

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 凹版のパターン部にインキをディスベン
サー供給する装置と、余分なインキを掻きとる為のドク
ター装置を備え、該凹版上のパターンをブランケット胴
に転写し、該ブランケット胴上のパターンを印刷対象物
に印刷するオフセット印刷装置を用いて行うオフセット
印刷方法において、該オフセット印刷装置では該凹版パ
ターン部に対して該ドクター装置の手前に該インキ供給
装置が備えつけられており、かつ該インキ供給装置がド
クタリング方向に前進しながらインキ供給とドクタリン
グを同時に行うことを特徴とするオフセット印刷方法。
1. A device for dispensing ink to a pattern portion of an intaglio plate, and a doctor device for scraping off excess ink, transferring the pattern on the intaglio plate to a blanket cylinder, and transferring the pattern on the blanket cylinder to the blanket cylinder. In an offset printing method using an offset printing apparatus for printing on an object to be printed, in the offset printing apparatus, the ink supply device is provided in front of the doctor device with respect to the intaglio pattern portion, and the ink supply device is provided. An offset printing method, wherein the ink supply and the doctoring are simultaneously performed while the apparatus advances in the doctoring direction.
【請求項2】 前記インキ供給装置がドクタリング直交
方向に往復動作しながらインキ吐出することを特徴とす
る請求項1記載のオフセット印刷方法。
2. The offset printing method according to claim 1, wherein said ink supply device ejects ink while reciprocating in a direction orthogonal to a doctor ring.
【請求項3】 請求項1又は2に記載のオフセット印刷
方法を用いて素子電極が形成されたことを特徴とする画
像表示装置。
3. An image display device, wherein an element electrode is formed by using the offset printing method according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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