JP2000076859A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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JP2000076859A
JP2000076859A JP10248723A JP24872398A JP2000076859A JP 2000076859 A JP2000076859 A JP 2000076859A JP 10248723 A JP10248723 A JP 10248723A JP 24872398 A JP24872398 A JP 24872398A JP 2000076859 A JP2000076859 A JP 2000076859A
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JP
Japan
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sense amplifier
bit line
bit
line
activated
Prior art date
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JP10248723A
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Japanese (ja)
Inventor
Soichiro Kamei
聡一郎 亀井
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Texas Instruments Japan Ltd
Original Assignee
Texas Instruments Japan Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve a semiconductor storage for reducing a layout area by reducing the influence of the feedthrough current of a sense amplifier in writing and the coupling between bit lines. SOLUTION: Sensing amplifiers in a plurality of memory bands are grouped, for example sense amplifiers SA00 and SAn0 and the like are grouped and sense amplifiers SA03 and SAn3 and the like are grouped, the sense amplifiers in each group are connected to a power supply voltage Vpp and common potential Vss via each common switching transistor, each switching transistor is turned on and off by each enable signal, a sense amplifier group that is connected to a non-selection memory cell is activated out of a plurality of memory cells that are connected to a selection word line in writing, and a sense amplifier group that is connected to a selection bit line is activated after the potential of the selection bit line is set according to writing data.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置、
例えば、DRAMおよびDRAMとほぼ同じ構成を有
し、複数ビットのデータを同時に書き込みおよび読み出
し可能なFMEM(Field memory: フィールドメモリ)
などの半導体記憶装置に関するものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device,
For example, a DRAM and a field memory (FMEM) having substantially the same configuration as the DRAM and capable of simultaneously writing and reading a plurality of bits of data.
And the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のフィールドメモリは、DRAMと
ほぼ同じように、1トランジスタ1キャパシタで構成さ
れている複数のメモリセルを行列状に配置してメモリセ
ルアレイを構成している。各行にあるメモリセルは同じ
ワード線に接続され、各列にあるメモリセルが同じビッ
ト線に接続されている。図1は、フィールドメモリの一
構成例示している。図示のように、フィールドメモリは
複数、例えば、n(nは自然数)個のメモリバンクBK
a0,…,BKanにより構成されている。各メモリバ
ンクにおいて、行列状に配置されている複数のメモリセ
ルを有する。なお、図1において表示を簡単にするため
に、4つのメモリセルMC0,MC1,MC2,MC3
およびこれらのメモリセルに接続されているワード線W
L0のみを示している。
2. Description of the Related Art In a conventional field memory, a memory cell array is formed by arranging a plurality of memory cells each composed of one transistor and one capacitor in a matrix, almost in the same manner as a DRAM. The memory cells in each row are connected to the same word line, and the memory cells in each column are connected to the same bit line. FIG. 1 illustrates one configuration example of the field memory. As shown in the figure, there are a plurality of field memories, for example, n (n is a natural number) memory banks BK.
a0,..., BKan. Each memory bank has a plurality of memory cells arranged in a matrix. In FIG. 1, for simplicity of display, four memory cells MC0, MC1, MC2, MC3
And a word line W connected to these memory cells
Only L0 is shown.

【0003】同一行にある各メモリセルのトランジスタ
のゲートは同じワード線に接続されている。例えば、図
示のように、メモリセルMC0,MC1,MC2,MC
3にあるトランジスタのゲートは同じワード線WL0に
接続されている。各メモリセルを構成するトランジスタ
のドレイン拡散領域はビット線に接続され、そのソース
拡散領域はキャパシタに接続されている。ワード線と交
差して複数のビット線が並列に配線されている。なお、
2本のビット線から一ビット線対を構成し、各ビット線
対はそれぞれセンスアンプSA0,SA1,SA2,S
A3に接続されている。以下、一つのビット線対を構成
する2本のビット線のうち、一方をビット線とい、他方
をビット補線という。図1において4つのメモリセルM
C0,MC1,MC2,MC3のみを示しているので、
4つのビット線対に接続されている4つのセンスアンプ
のみを示している。
The gates of the transistors of each memory cell on the same row are connected to the same word line. For example, as shown, the memory cells MC0, MC1, MC2, MC
3 have their gates connected to the same word line WL0. The drain diffusion region of the transistor constituting each memory cell is connected to a bit line, and the source diffusion region is connected to a capacitor. A plurality of bit lines are wired in parallel with the word lines. In addition,
One bit line pair is composed of two bit lines, and each bit line pair is a sense amplifier SA0, SA1, SA2, S
It is connected to A3. Hereinafter, of the two bit lines forming one bit line pair, one is called a bit line and the other is called a bit supplementary line. In FIG. 1, four memory cells M
Since only C0, MC1, MC2 and MC3 are shown,
Only four sense amplifiers connected to four bit line pairs are shown.

【0004】各ビット線対は、ブロック選択トランジス
タを介してデータ線DLまたはデータ補線DLBに接続
されている。データ線DLおよびデータ補線DLBは、
書き込みバッファWBUFに接続されている。書き込み
のとき、書き込みバッファWBUFにより、データ線D
Lおよびデータ補線DLBはそれぞれ書き込みデータに
応じたレベルに設定される。例えば、選択メモリセルM
C0にデータ“0”を書き込むとき、データ線DLがハ
イレベル、データ補線DLBがローレベルにそれぞれ設
定され、逆に選択メモリセルMC0にデータ“1”を書
き込むとき、データ線DLがローレベル、データ補線D
LBがハイレベルにそれぞれ設定される。
[0004] Each bit line pair is connected to a data line DL or an auxiliary data line DLB via a block selection transistor. The data line DL and the data supplement line DLB are
It is connected to the write buffer WBUF. At the time of writing, the data line D is output by the write buffer WBUF.
L and the data supplement line DLB are set to levels according to the write data, respectively. For example, the selected memory cell M
When data "0" is written to C0, the data line DL is set to a high level and the data auxiliary line DLB is set to a low level. Conversely, when data "1" is written to the selected memory cell MC0, the data line DL is set to a low level. , Data supplementary line D
LB is set to a high level.

【0005】図1において、メモリバンクBKa0以外
の他のメモリバンクは、メモリバンクBKa0と同じ構
成を有するので、図1ではメモリバンクBKa0の構成
のみを示している。フィールドメモリでは、通常のDR
AMとほぼ同じ構成を有するが、複数ビットのデータを
同時に読み出しまたは書き込み可能である点では、通常
のDRAMと異なる。
In FIG. 1, memory banks other than memory bank BKa0 have the same configuration as memory bank BKa0. Therefore, FIG. 1 shows only the configuration of memory bank BKa0. In field memory, normal DR
It has almost the same configuration as the AM, but differs from a normal DRAM in that data of a plurality of bits can be read or written at the same time.

【0006】図1に示すように、一つのメモリバンクに
あるすべてのセンスアンプは、一つのイネーブル信号S
AEによって活性化される。書き込みまたはリフレッシ
ュのとき、イネーブル信号SAEをアクティブ状態に設
定することによって、すべてのセンスアンプを動作させ
る。図2は、メモリバンクの書き込み動作の一例、いわ
ゆる直接書き込み方式を示すタイミングチャートであ
る。以下、図1および2を参照しつつ、例えば、メモリ
セルMC0に対してデータ“1”を書き込む場合の動作
を説明する。
As shown in FIG. 1, all sense amplifiers in one memory bank are connected to one enable signal S.
Activated by AE. At the time of writing or refreshing, all the sense amplifiers are operated by setting the enable signal SAE to the active state. FIG. 2 is a timing chart showing an example of a write operation of a memory bank, that is, a so-called direct write method. Hereinafter, an operation when data “1” is written to the memory cell MC0 will be described with reference to FIGS.

【0007】時間t0 においてワード線WL0が選択さ
れて活性化される。即ち、図2に示すようにワード線W
L0がローレベルからハイレベルに設定される。なお、
各ワード線は図示していないローデコーダ(Row decode
r )に接続され、当該ローデコーダにより複数のワード
線から一つが選択され、活性化される。
[0007] Word line WL0 at time t 0 is selected and activated. That is, as shown in FIG.
L0 is set from low level to high level. In addition,
Each word line is connected to a row decoder (not shown).
r), one of a plurality of word lines is selected and activated by the row decoder.

【0008】ワード線WL0の活性化から少し遅れて、
時間t1 においてセンスアンプイネーブル信号SAEが
アクティブ状態になる。即ち、イネーブル信号SAEが
ローレベルからハイレベルに設定される。待機状態にお
いて各ビット線対を構成する各ビット線およびビット補
線は所定の中間レベルにプリチャージされている。ワー
ド線WL0が立ち上がってから、ビット線対を構成する
各ビット線またはビット補線は、それに接続されている
メモリセルの記憶データに応じてわずかにレベルが変化
する。
Slightly after the activation of word line WL0,
Sense amplifier enable signal SAE becomes active at time t 1. That is, the enable signal SAE is set from a low level to a high level. In the standby state, each bit line and each bit complement forming each bit line pair are precharged to a predetermined intermediate level. After the word line WL0 rises, the level of each bit line or bit auxiliary line forming the bit line pair slightly changes according to the storage data of the memory cell connected thereto.

【0009】例えば、メモリセルMC0,MC1,MC
2,MC3にはそれぞれデータ“0”が記憶されている
とすると、ワード線WL0が立ち上がったあと、選択メ
モリセルMC0に接続されているビット補線BLB0お
よび他のメモリセルMC1,MC2,MC3にそれぞれ
接続されているビット補線BLB1〜3は、わずかにレ
ベルが下がる。時間t1 においてセンスアンプイネーブ
ル信号SAEがアクティブ状態になると、各センスアン
プSA0,SA1,SA2,SA3が動作しはじめ、そ
れぞれに接続されているビット線対間の電位差が増幅さ
れる。このため、例えば、選択メモリセルMC0に接続
されているビット線BL0のレベルが高くなり、ビット
補線BLB0のレベルが低くなる。
For example, the memory cells MC0, MC1, MC
Assuming that data "0" is stored in memory cells MC2 and MC3, bit line WLB0 connected to selected memory cell MC0 and other memory cells MC1, MC2 and MC3 connected to selected memory cell MC0 after word line WL0 rises. The level of each of the connected bit supplementary lines BLB1 to BLB1 slightly decreases. If at time t 1 the sense amplifier enable signal SAE is activated state, the sense amplifiers SA0, SA1, SA2, SA3 is operated initially, the potential difference between the bit line pair connected to each of which is amplified. Therefore, for example, the level of the bit line BL0 connected to the selected memory cell MC0 increases, and the level of the bit auxiliary line BLB0 decreases.

【0010】ビット線対間の電位差がある程度増幅され
たとき、時間t2 において選択メモリセルMC0に対応
するブロック選択信号BS0がアクティブ状態、即ち、
ハイレベルに設定される。これに応じて、データ線DL
およびデータ補線DLBの設定レベルに応じてビット線
BL0およびビット補線BLB0のレベルが強制的に設
定される。ここで、例えば、メモリセルMC0に元の記
憶データ“0”と異なるデータ“1”を書き込む場合、
データ線DLがローレベル、データ補線DLBがハイレ
ベルにそれぞれ設定される。このため、ブロック選択信
号BS0がハイレベルに切り替わったとき、メモリセル
MC0の記憶データ“0”に応じてビット線BL0がロ
ーレベル、ビット補線BLB0がハイレベルにそれぞれ
設定されているので、センスアンプSA0の状態が引っ
繰り返される。
[0010] When the potential difference between the bit line pair is somewhat amplified, block select signal BS0 is active state corresponding to the selected memory cell MC0 in the time t 2, i.e.,
Set to high level. Accordingly, the data line DL
In addition, the level of bit line BL0 and bit auxiliary line BLB0 is forcibly set according to the set level of data auxiliary line DLB. Here, for example, when writing data “1” different from the original storage data “0” to the memory cell MC0,
The data line DL is set to a low level and the data auxiliary line DLB is set to a high level. Therefore, when the block selection signal BS0 is switched to the high level, the bit line BL0 is set to the low level and the bit auxiliary line BLB0 is set to the high level according to the storage data "0" of the memory cell MC0. The state of the amplifier SA0 is repeated.

【0011】選択メモリセルMC0に対して書き込みが
行われているとき、同じ選択ワード線WL0に接続され
ている他のメモリセルMC1,MC2,MC3のリフレ
ッシュが行われる。この場合に、これらの非選択メモリ
セルのそれぞれの記憶データに応じてビット線BL1〜
BL3およびビット補線BLB1〜BLB3のレベル変
化し、センスアンプイネーブル信号SAEがアクティブ
状態になったとき、センスアンプSA1〜SA3が動作
し、それぞれに接続されているビット線およびビット補
線間の電圧が増幅され、ビット線BL1〜BL3および
ビット補線BLB1〜BLB3のレベルが確定され、メ
モリセルMC1〜MC3が再書き込みされる。
When data is being written to the selected memory cell MC0, the other memory cells MC1, MC2 and MC3 connected to the same selected word line WL0 are refreshed. In this case, the bit lines BL1 to BL1 correspond to the storage data of these unselected memory cells.
When the level of the bit line BL3 and the bit auxiliary lines BLB1 to BLB3 changes and the sense amplifier enable signal SAE is activated, the sense amplifiers SA1 to SA3 operate and the voltage between the bit line and the bit auxiliary line connected to each other. Are amplified, the levels of the bit lines BL1 to BL3 and the bit auxiliary lines BLB1 to BLB3 are determined, and the memory cells MC1 to MC3 are rewritten.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の半導体記憶装置において、各メモリバンクにあるす
べてのセンスアンプが共通のイネーブル信号SAEによ
り活性化されるので、書き込み動作のとき選択メモリセ
ルと非選択メモリセルに接続されているセンスアンプが
同じタイミングで動作が始まり、ビット線間のカップリ
ングなどの問題が生じるという不利益がある。例えば、
上述した直接書き込み方式では、選択メモリセルに対す
る書き込みの前にセンスアンプを活性化しはじめてい
る。これは、プリセンスとビット線間のカップリングの
影響を回避するためである。しかしながら、これはメモ
リセルの元の記憶データと書き込みデータが一致しない
場合に、傾きはじめたセンスアンプを書き込みバッファ
WBUFにより、強引に引っ繰り返すことを意味する。
図2における時間t1 とt2 の間隔、即ち、イネーブル
信号SAEがアクティブ状態になり、センスアンプが動
作しはじめてからブロック選択信号BS0がアクティブ
状態になるまでの時間間隔が長いほど上述した目的は確
実に達成できるが、センスアンプがある程度その状態が
確定してから反転することとなり、その状態反転はより
一層強引になる。
In the above-mentioned conventional semiconductor memory device, all sense amplifiers in each memory bank are activated by a common enable signal SAE. There is a disadvantage that the sense amplifiers connected to the non-selected memory cells start operating at the same timing, which causes a problem such as coupling between bit lines. For example,
In the above-described direct write method, the sense amplifier starts to be activated before writing to the selected memory cell. This is to avoid the influence of the coupling between the pre-sense and the bit line. However, this means that when the original storage data of the memory cell does not match the write data, the sense amplifier that has begun to tilt is forcibly repeated by the write buffer WBUF.
Time interval t 1 and t 2 in FIG. 2, i.e., the enable signal SAE is activated state, the purpose described above from the beginning the sense amplifier operates block selecting signal BS0 is the longer time interval until the active state Although it can be surely achieved, the sense amplifier is inverted after the state is determined to some extent, and the state inversion is further aggressive.

【0013】このため、センスアンプの状態反転の間
に、即ち、図2における時間t2 以降しばらくの間に、
書き込みバッファWBUFとセンスアンプSA0との
間、およびセンスアンプSA0に貫通電流が流れる。フ
ィールドメモリの場合では、同時に多数のメモリセルが
書き込みを行うので、書き込みバッファWBUFは大き
な書き込み電流を供給する電流供給能力が要求され、通
常、直接書き込み方式は好ましくない。
For this reason, during the state inversion of the sense amplifier, that is, for a while after time t 2 in FIG.
A through current flows between the write buffer WBUF and the sense amplifier SA0 and to the sense amplifier SA0. In the case of a field memory, since a large number of memory cells write simultaneously, the write buffer WBUF is required to have a current supply capability of supplying a large write current, and the direct write method is generally not preferable.

【0014】さらに、活性化されたセンスアンプを引っ
繰り返すために、ビット線およびビット補線に対して相
補的なデータが必要であり、一ビットの書き込みデータ
に対してデータ線DLおよびデータ補線DLBの両方を
設ける必要があり、レイアウト上では不利である。
Further, in order to repeat the activated sense amplifier, complementary data is required for the bit line and the bit auxiliary line, and the data line DL and the data auxiliary line are required for one-bit write data. It is necessary to provide both DLBs, which is disadvantageous on the layout.

【0015】一つの対策として、直接書き込み方式の代
わりに電荷転送型書き込み方式を採用する方法がある。
しかし、近年低電圧化が進む中でセンスアンプのしきい
値電圧、特にセンスアンプを構成するnMOSトランジ
スタのしきい値電圧が従来より一層低くなってきたこと
により、プリセンスのおそれがあると懸念されている。
As a countermeasure, there is a method of adopting a charge transfer type writing method instead of the direct writing method.
However, in recent years, as the voltage has been reduced, the threshold voltage of the sense amplifier, particularly the threshold voltage of the nMOS transistor forming the sense amplifier, has become much lower than in the past. ing.

【0016】これまでに、通常のDRAMでは、同時に
書き込みを行うメモリセルの数は16または32などと
少ないので、書き込みを行うメモリセルの数はリフレッ
シュを行うメモリセルの数より極端に少ないため、上述
した問題がほとんどなかった。しかし、データバスのビ
ット幅が増加するにつれて、通常のDRAMでも同時に
書き込みを行うメモリセルの数は64、128さらに2
56と増加する傾向にある。この場合に、通常のDRA
Mでも上述した直接書き込み方式においてフィールドメ
モリと同様な問題を抱え、有効な解決策が望まれてい
る。
Up to now, in a normal DRAM, the number of memory cells to be written simultaneously is as small as 16 or 32, and the number of memory cells to be written is extremely smaller than the number of memory cells to be refreshed. There were almost no problems described above. However, as the bit width of the data bus increases, the number of memory cells to which data is written simultaneously in a normal DRAM is 64, 128 or 2
There is a tendency to increase to 56. In this case, the normal DRA
M also has the same problem as the field memory in the above-described direct writing method, and an effective solution is desired.

【0017】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、従来の直接書き込み方式を改良
することにより、書き込み時のセンスアンプの貫通電流
およびビット線間のカップリングの影響を低減でき、レ
イアウト面積の低減を実現可能な半導体記憶装置を提供
することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to improve the conventional direct writing method to improve the effect of the through current of the sense amplifier and the coupling between bit lines during writing. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can reduce the layout area and can reduce the layout area.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体記憶装置は、複数のワード線と、ビ
ット線とビット補線とからなる複数のビット線対と、上
記複数のワード線と上記複数のビット線対との交差位置
に設けられている複数のメモリセルと、アドレス信号に
応じて選択されるワード線を活性化するワード線駆動回
路と、上記複数のビット線対にそれぞれ電気的に接続さ
れている複数のセンスアンプと、上記複数のセンスアン
プの動作を制御するセンスアンプ駆動回路と、上記複数
のビット線対とデータ入出力線との間にそれぞれ接続さ
れている複数のスイッチング手段と、上記データ入出力
線に書込データを供給する書込データ供給回路と、アド
レス信号に応じて選択されるビット線対に接続されてい
るスイッチング手段を活性化するスイッチング手段駆動
回路とを有し、メモリセルに対してデータを書き込む場
合、上記ワード線駆動回路により選択ワード線が活性化
され、上記センスアンプ駆動回路により非選択ビット線
対に接続されているセンスアンプが活性化され、上記ス
イッチング手段駆動回路により選択ビット線対に接続さ
れているスイッチング手段が活性化され、その後所定の
時間の経過後に上記センスアンプ駆動回路により選択ビ
ット線対に接続されているセンスアンプが活性化され
る。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention comprises a plurality of word lines, a plurality of bit line pairs comprising bit lines and bit supplementary lines, and a plurality of word lines. A plurality of memory cells provided at intersections of a line and the plurality of bit line pairs, a word line driving circuit for activating a word line selected according to an address signal, and a plurality of bit line pairs. A plurality of sense amplifiers electrically connected to each other, a sense amplifier driving circuit for controlling the operation of the plurality of sense amplifiers, and a plurality of sense amplifiers connected between the plurality of bit line pairs and the data input / output lines, respectively. A plurality of switching means, a write data supply circuit for supplying write data to the data input / output line, and a switching means connected to a bit line pair selected according to an address signal When writing data to a memory cell, a selected word line is activated by the word line driving circuit and connected to a non-selected bit line pair by the sense amplifier driving circuit. The sense amplifier that has been activated is activated, the switching means connected to the selected bit line pair is activated by the switching means driving circuit, and after a predetermined time, the sense amplifier driving circuit connects to the selected bit line pair. The activated sense amplifier is activated.

【0019】また、本発明では、好適には、上記複数の
スイッチング手段はMOSトランジスタで構成され、上
記データ入出力線と上記ビット線又は上記ビット補線と
を電気的に接続する。
In the present invention, preferably, the plurality of switching means are constituted by MOS transistors, and electrically connect the data input / output line to the bit line or the bit auxiliary line.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】図3は本発明に係る半導体記憶装
置の一実施形態を示す回路図である。本実施形態の半導
体記憶装置は、例えば、フィールドメモリ、または同時
に多ビットの書き込みを実現できるDRAMである。図
示のように、本実施形態の半導体記憶装置は、複数のメ
モリバンクBK0,…,BKnにより構成されている。
各メモリバンクがほぼ同じ構成を有しているので、図3
では、メモリバンクBK0のみを示している。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. The semiconductor memory device of the present embodiment is, for example, a field memory or a DRAM capable of simultaneously writing multiple bits. As shown, the semiconductor memory device of the present embodiment is configured by a plurality of memory banks BK0,..., BKn.
Since each memory bank has almost the same configuration, FIG.
Shows only the memory bank BK0.

【0021】メモリバンクBK0において、複数のメモ
リセルが行列状に配置されている。なお、図3におい
て、便宜のため、一行に配置されている4つのメモリセ
ルMC0,MC1,MC2,MC3のみを示している。
各メモリセルは通常のDRAMメモリセルの構成を有す
る。即ち、1トランジスタと1キャパシタにより構成さ
れている。各メモリセルにおいて、トランジスタのゲー
トはワード線に接続され、ドレインまはたソース拡散領
域のうち何れか一方がビット線に接続され、他方がキャ
パシタに接続されている。同一行に配置されている各メ
モリセルが同じワード線に接続され、同一列に配置され
ている各メモリセルが同じビット線に接続されている。
In the memory bank BK0, a plurality of memory cells are arranged in a matrix. Note that FIG. 3 shows only four memory cells MC0, MC1, MC2, and MC3 arranged in one row for convenience.
Each memory cell has the structure of a normal DRAM memory cell. That is, it is composed of one transistor and one capacitor. In each memory cell, the gate of the transistor is connected to a word line, one of a drain and a source diffusion region is connected to a bit line, and the other is connected to a capacitor. Each memory cell arranged in the same row is connected to the same word line, and each memory cell arranged in the same column is connected to the same bit line.

【0022】二本のビット線により一つのビット線対が
構成されている。各ビット線対はそれぞれセンスアンプ
に接続されている。図示のように、ビット線BL0とビ
ット補線BLB0はセンスアンプSA0に接続され、ビ
ット線BL3とビット補線BLB3はセンスアンプSA
3に接続されている。本実施形態において、各センスア
ンプSA0,SA1,SA2,SA3は、それぞれ異な
るセンスアンプイネーブル信号SAE0,SAE1,S
AE2,SAE3により活性化される。即ち、本実施形
態において、書き込みのとき、選択メモリセルに接続さ
れているセンスアンプと非選択メモリセルに接続されて
いるセンスアンプをそれぞれ異なるタイミングで活性化
することが可能である。
One bit line pair is constituted by two bit lines. Each bit line pair is connected to a sense amplifier. As shown, the bit line BL0 and the auxiliary bit line BLB0 are connected to the sense amplifier SA0, and the bit line BL3 and the auxiliary bit line BLB3 are connected to the sense amplifier SA.
3 is connected. In the present embodiment, each of the sense amplifiers SA0, SA1, SA2, and SA3 has a different sense amplifier enable signal SAE0, SAE1, and S3.
Activated by AE2 and SAE3. That is, in the present embodiment, at the time of writing, it is possible to activate the sense amplifier connected to the selected memory cell and the sense amplifier connected to the non-selected memory cell at different timings.

【0023】各センスアンプに接続されているビット線
対において、ビット線がブロック選択トランジスタを介
してデータ線DLに接続されている。ブロック選択トラ
ンジスタのゲートに、ブロック選択信号BS0,BS
1,BS2,BS3が印加されると、ブロック選択トラ
ンジスタがオンし、これによって選択された一本のビッ
ト線がデータ線DLに接続される。
In the bit line pair connected to each sense amplifier, the bit line is connected to the data line DL via a block select transistor. Block select signals BS0, BS are connected to the gates of the block select transistors.
When 1, BS2 and BS3 are applied, the block selection transistor turns on, and one bit line selected by this is connected to the data line DL.

【0024】各メモリバンクにビット線対の数に応じた
センスアンプが設けられているが、図3では、4つのセ
ンスアンプSA0,SA1,SA2,SA3のみを示し
ている。これらのセンスアンプはすべて同じ構成を有す
る。図4はセンスアンプの一例を示している。
Although each memory bank is provided with a sense amplifier corresponding to the number of bit line pairs, FIG. 3 shows only four sense amplifiers SA0, SA1, SA2 and SA3. These sense amplifiers all have the same configuration. FIG. 4 shows an example of the sense amplifier.

【0025】図4に示すように、センスアンプは、入力
と出力を交互Aに接続されている2つのCMOSインバ
ータからなるフリップフロップで構成されている。例え
ば、pMOSトランジスタP1とnMOSトランジスタ
N1によりインバータが構成され、トランジスタP1と
トランジスタN1のゲート同士の接続点が当該インバー
タの入力端子を構成し、これらのトランジスタのドレイ
ン同士の接続点、即ち、ノードND1が当該インバータ
出力端子を構成している。同様に、pMOSトランジス
タP2とnMOSトランジスタN2によりインバータが
構成され、トランジスタP2とトランジスタN2のゲー
ト同士の接続点が当該インバータの入力端子を構成し、
これらのトランジスタのドレイン同士の接続点、即ち、
ノードND2が当該インバータ出力端子を構成してい
る。
As shown in FIG. 4, the sense amplifier is composed of a flip-flop composed of two CMOS inverters whose inputs and outputs are connected alternately at A. For example, an inverter is formed by the pMOS transistor P1 and the nMOS transistor N1, a connection point between the gates of the transistor P1 and the transistor N1 forms an input terminal of the inverter, and a connection point between the drains of these transistors, that is, the node ND1 Constitute the inverter output terminal. Similarly, an inverter is constituted by the pMOS transistor P2 and the nMOS transistor N2, and a connection point between the gates of the transistor P2 and the transistor N2 constitutes an input terminal of the inverter;
The connection point between the drains of these transistors, that is,
The node ND2 forms the inverter output terminal.

【0026】トランジスタP1とP2のソースがpMO
SトランジスタP3のドレインに接続され、トランジス
タP3のソースが電源電圧VPPに接続され、そのゲート
がセンスアンプイネーブル信号SAE−Pの信号線に接
続されている。トランジスタN1とN2のソースがnM
OSトランジスタN3のドレインに接続され、トランジ
スタN3のソースが共通電位VSSに接続され、そのゲー
トがセンスアンプイネーブル信号SAE−Nの信号線に
接続されている。
The sources of the transistors P1 and P2 are pMO
The drain of the S transistor P3 is connected, the source of the transistor P3 is connected to the power supply voltage V PP , and the gate is connected to the signal line of the sense amplifier enable signal SAE-P. The sources of the transistors N1 and N2 are nM
It is connected to the drain of the OS transistor N3, the source of the transistor N3 is connected to the common potential V SS, and its gate connected to the signal line of the sense amplifier enable signal SAE-N.

【0027】ノードND1はビット線BLに接続され、
ノードND2はビット補線BLBに接続されている。こ
こでは一例として、ビット線BLにメモリセルMCが接
続され、当該メモリセルを構成するトランジスタのゲー
トはワード線WLに接続されている。
Node ND1 is connected to bit line BL,
Node ND2 is connected to bit auxiliary line BLB. Here, as an example, the memory cell MC is connected to the bit line BL, and the gate of the transistor forming the memory cell is connected to the word line WL.

【0028】通常、イネーブル信号SAE−Pはハイレ
ベル、例えば、電源電圧VPPに保持され、イネーブル信
号SAE−Nはローレベル、例えば、共通電位VSSに保
持されているので、トランジスタP3とN3はオフし、
センスアンプは動作しない。イネーブル信号SAE−P
がローレベル、イネーブル信号SAE−Nがハイレベル
に設定されているとき、トランジスタP3とN3はオン
し、センスアンプが活性化される。このとき、センスア
ンプにより、ビット線BLとビット補線BLB間の電位
差が増幅される。
Normally, the enable signal SAE-P is held at a high level, for example, the power supply voltage V PP , and the enable signal SAE-N is held at a low level, for example, at the common potential V SS. Turns off,
The sense amplifier does not operate. Enable signal SAE-P
Are set to a low level and the enable signal SAE-N is set to a high level, the transistors P3 and N3 are turned on, and the sense amplifier is activated. At this time, the potential difference between the bit line BL and the bit auxiliary line BLB is amplified by the sense amplifier.

【0029】例えば、ビット線BLがビット補線BLB
より電圧がわずかに高いとき、トランジスタN2が強く
オンし、これによりビット補線BLBがトランジスタN
2を通して放電し、その電位が低下する。これに伴い、
トランジスタP1がオンし、ビット線BLが電源電圧V
PPにより充電され、その電位が高くなる。即ち、センス
アンプが活性化されたとき、ビット線BLおよびビット
補線BLB間のわずかの電位差がすばやく増幅され、ビ
ット線BLおよびビット補線BLBの電位が確定され
る。
For example, when the bit line BL is replaced by the bit auxiliary line BLB
When the voltage is slightly higher, transistor N2 is strongly turned on, which causes bit complement line BLB to become
2 and its potential drops. Along with this,
The transistor P1 is turned on, and the bit line BL is connected to the power supply voltage V
It is charged by PP and its potential rises. That is, when the sense amplifier is activated, a slight potential difference between the bit line BL and the auxiliary bit line BLB is quickly amplified, and the potential of the bit line BL and the auxiliary bit line BLB is determined.

【0030】イネーブル信号SAE−NとSAE−Pは
同時に活性化するか、まはた所定の時間差を設けて順次
活性化することができる。図5および図6のそれぞれイ
ネーブル信号のSAE−NとSAE−Pの活性化による
ビット線BLおよびビット補線BLBの電位変化を示し
ている。
The enable signals SAE-N and SAE-P can be activated simultaneously or sequentially with a predetermined time difference. 5A and 5B show potential changes of the bit line BL and the bit auxiliary line BLB due to activation of the enable signals SAE-N and SAE-P, respectively.

【0031】図5は、イネーブル信号SAE−NとSA
E−Pが同時に活性化する場合のビット線BLおよびビ
ット補線BLBの電位変化を示している。図示のよう
に、時間t0 においてワード線WLが活性化される。こ
れにより、ビット線BLまはたビット補線BLBに接続
されているメモリセルの記憶データに応じてビット線B
Lまはたビット補線BLBのレベルが微小に変化し、こ
れらの間に電位差が生じる。
FIG. 5 shows enable signals SAE-N and SA
The potential changes of the bit line BL and the bit auxiliary line BLB when EP are simultaneously activated are shown. As shown, at time t 0 , the word line WL is activated. Thereby, the bit line B according to the storage data of the memory cell connected to the bit line BL or the bit auxiliary line BLB
The level of L or bit auxiliary line BLB slightly changes, and a potential difference occurs between them.

【0032】そして、時間t1 において、センスアンプ
イネーブル信号SAE−NとSAE−Pが同時に活性化
される。即ち、イネーブル信号SAE−Nがローレベル
からハイレベル切り換えられたと同時にイネーブル信号
SAE−Pがハイレベルからローレベルに切り換えられ
る。これに伴い、センスアンプが動作しはじめ、ビット
線BLとビット補線BLB間の微小な電位差が増幅さ
れ、例えば、ビット線BLが電源電圧VPPに保持され、
ビット補線BLBが共通電位VSSに保持されるので、ビ
ット線BLとビット補線BLBの電位が確定される。
[0032] Then, at time t 1, the sense amplifier enable signal SAE-N and SAE-P are simultaneously activated. That is, the enable signal SAE-P is switched from the high level to the low level at the same time when the enable signal SAE-N is switched from the low level to the high level. Along with this, the sense amplifier starts to operate, a small potential difference between the bit line BL and the bit auxiliary line BLB is amplified, for example, the bit line BL is held at the power supply voltage V PP ,
Since the auxiliary bit line BLB is held to the common potential V SS, the potential of the bit line BL and auxiliary bit line BLB is determined.

【0033】図6はイネーブル信号SAE−NとSAE
−Pが順次活性化された場合のビット線BLおよびビッ
ト補線BLBの電位変化を示している。図示のように、
まず、時間t0 においてワード線WLが活性化される。
これにより、ビット線BLまはたビット補線BLBに接
続されているメモリセルの記憶データに応じてビット線
BLまはたビット補線BLBのレベルが微小に変化し、
これらの間に電位差が生じる。
FIG. 6 shows enable signals SAE-N and SAE.
A potential change of the bit line BL and the bit auxiliary line BLB when −P is sequentially activated is shown. As shown,
First, the word line WL is activated at time t 0.
As a result, the level of the bit line BL or the bit auxiliary line BLB slightly changes according to the storage data of the memory cell connected to the bit line BL or the bit auxiliary line BLB,
A potential difference occurs between them.

【0034】次に、時間t1 において、イネーブル信号
SAE−Nが活性化される。即ち、ローレベルからハイ
レベルに切り換えられる。これにより、図4に示すセン
スアンプにおいて、トランジスタN1またはN2の何れ
かが強くオンする。選択メモリセルの記憶データに応じ
て、ビット線BLまたはビット補線BLBの何れかが導
通するトランジスタN1またはN2を通して放電し、そ
の電位が低下する。例えば、図6に示すように、ビット
補線BLBの電位が低下し、最後に共通電位V SSに保持
される。
Next, the time t1At the enable signal
SAE-N is activated. That is, from low level to high
Switch to level. Thereby, the sensor shown in FIG.
In the amplifier, either transistor N1 or N2
Turns on strongly. According to the data stored in the selected memory cell
Either the bit line BL or the bit supplementary line BLB
Discharge through the passing transistor N1 or N2,
Potential drops. For example, as shown in FIG.
The potential of the auxiliary line BLB decreases and finally the common potential V SSHold on
Is done.

【0035】時間t1 から所定の遅延時間を経て、時間
2 においてイネーブル信号SAE−Pが活性化され
る。即ち、イネーブル信号SAE−Pがハイレベルから
ローレベルに切り換えられる。これ応じて、図4に示す
センスアンプのトランジスタP1とP2の何れかが強く
オンし、それに応じてビット線BLおよびビット補線B
LBのレベルを電源電圧VPPに設定する。例えば、トラ
ンジスタP1が強くオンすることにより、図6に示すよ
うにビット線BLの電位が上昇し電源電圧VPPに保持さ
れる。
After a predetermined delay time from time t 1 , enable signal SAE-P is activated at time t 2 . That is, the enable signal SAE-P is switched from the high level to the low level. In response, one of the transistors P1 and P2 of the sense amplifier shown in FIG. 4 strongly turns on, and accordingly, the bit line BL and the bit auxiliary line B
The level of LB is set to the power supply voltage V PP . For example, when the transistor P1 is strongly turned on, the potential of the bit line BL increases as shown in FIG. 6 and is maintained at the power supply voltage V PP .

【0036】図6に示すように、イネーブル信号SAE
−NとSAE−Pが所定の時間間隔で順次活性化するこ
とにより、センシング感度の高いnMOSトランジスタ
をまず動作させ、選択メモリセルの記憶データに応じて
ビット線BLおよびビット補線BLBのうちローレベル
に設定すべき側を確定してから、pMOSトランジスタ
を動作させ、反対側をハイレベルに保持する。これによ
り、高精度のセンシングを実現でき、且つノイズによる
影響を回避できる。
As shown in FIG. 6, the enable signal SAE
-N and SAE-P are sequentially activated at a predetermined time interval, so that the nMOS transistor having high sensing sensitivity is operated first, and the low level of the bit line BL and the bit auxiliary line BLB is set according to the data stored in the selected memory cell. After determining the side to be set to the level, the pMOS transistor is operated, and the other side is held at the high level. Thereby, highly accurate sensing can be realized, and the influence of noise can be avoided.

【0037】図7は、複数のセンスアンプにより構成さ
れたセンスアンプ回路の一例を示している。ここで、一
例として、4つのセンスアンプSA0,SA1,SA
2,SA3を示している。なお、これらのセンスアンプ
は、図4に示すように2つのCMOSインバータから構
成されたフリップフロップ構成を有するものとする。
FIG. 7 shows an example of a sense amplifier circuit constituted by a plurality of sense amplifiers. Here, as an example, four sense amplifiers SA0, SA1, SA
2 and SA3. Note that these sense amplifiers have a flip-flop configuration composed of two CMOS inverters as shown in FIG.

【0038】図示のように、センスアンプSA0のpチ
ャネル側はpMOSトランジスタPT0を介して電源電
圧VPPに接続され、nチャネル側はnMOSトランジス
タNT0を介して共通電位VSSに接続されている。他の
センスアンプSA1〜SA3において、ほぼ同じ構成を
有する。例えば、センスアンプSA3のpチャネル側は
pMOSトランジスタPT3を介して電源電圧VPPに接
続され、nチャネル側はnMOSトランジスタNT3を
介して共通電位VSSに接続されている。
As shown, the p-channel side of the sense amplifier SA0 is connected to the power supply voltage V PP via the pMOS transistor PT0, and the n-channel side is connected to the common potential V SS via the nMOS transistor NT0. Other sense amplifiers SA1 to SA3 have almost the same configuration. For example, the p-channel side of the sense amplifier SA3 is connected to the power supply voltage V PP via the pMOS transistor PT3, and the n-channel side is connected to the common potential V SS via the nMOS transistor NT3.

【0039】pMOSトランジスタPT0は、そのゲー
トに印加されているイネーブル信号SAE−P0により
オン/オフが制御され、pMOSトランジスタPT1
は、そのゲートに印加されているイネーブル信号SAE
−P1によりオン/オフが制御され、pMOSトランジ
スタPT2は、そのゲートに印加されているイネーブル
信号SAE−P2によりオン/オフが制御され、pMO
SトランジスタPT3は、そのゲートに印加されている
イネーブル信号SAE−P3によりオン/オフが制御さ
れる。nMOSトランジスタNT0は、そのゲートに印
加されているイネーブル信号SAE−N0によりオン/
オフが制御され、nMOSトランジスタNT1は、その
ゲートに印加されているイネーブル信号SAE−N1に
よりオン/オフが制御され、nMOSトランジスタNT
2は、そのゲートに印加されているイネーブル信号SA
E−N2によりオン/オフが制御され、nMOSトラン
ジスタNT3は、そのゲートに印加されているイネーブ
ル信号SAE−N3によりオン/オフが制御される。
The ON / OFF of the pMOS transistor PT0 is controlled by an enable signal SAE-P0 applied to its gate, and the pMOS transistor PT1 is turned on / off.
Is the enable signal SAE applied to its gate
-P1 is turned on / off, and the pMOS transistor PT2 is turned on / off by an enable signal SAE-P2 applied to its gate, and the pMO transistor PT2 is turned on / off.
ON / OFF of the S transistor PT3 is controlled by an enable signal SAE-P3 applied to its gate. The nMOS transistor NT0 is turned on / off by an enable signal SAE-N0 applied to its gate.
The turning off of the nMOS transistor NT1 is controlled by the enable signal SAE-N1 applied to the gate of the nMOS transistor NT1.
2 is an enable signal SA applied to its gate
ON / OFF is controlled by E-N2, and ON / OFF of nMOS transistor NT3 is controlled by enable signal SAE-N3 applied to its gate.

【0040】イネーブル信号SAE−P0とSAE−N
0は、一対の制御信号であり、通常イネーブル信号SA
E−P0がハイレベル、SAE−N0がローレベルにそ
れぞれ保持され、センスアンプSA0を活性化すると
き、イネーブル信号SAE−N0がローレベルからハイ
レベルに切り換えられ、イネーブル信号SAE−P0が
ハイレベルからローレベルに切り換えられる。なお、こ
の2つのイネーブル信号の切り換えのタイミングは、例
えば、同時に設定されている。他のイネーブル信号にお
いても同様である。例えば、イネーブル信号SAE−P
3とSAE−N3は、一対の制御信号を構成し、センス
アンプSA3を活性化するとき、イネーブル信号SAE
−N3がローレベルからハイレベルに切り換えられ、イ
ネーブル信号SAE−P3がハイレベルからローレベル
に切り換えられる。
Enable signals SAE-P0 and SAE-N
0 is a pair of control signals, and the normal enable signal SA
E-P0 is held at a high level and SAE-N0 is held at a low level. When the sense amplifier SA0 is activated, the enable signal SAE-N0 is switched from the low level to the high level, and the enable signal SAE-P0 is at the high level. To low level. The timing of switching between the two enable signals is set, for example, simultaneously. The same applies to other enable signals. For example, the enable signal SAE-P
3 and SAE-N3 constitute a pair of control signals, and enable signal SAE when activating sense amplifier SA3.
−N3 is switched from low level to high level, and the enable signal SAE-P3 is switched from high level to low level.

【0041】なお、図7には4つのセンスアンプのみを
例示しているが、実際のセンスアンプ回路は、これに限
定されず、例えば、8つのセンスアンプを有する場合
に、各センスアンプは、それぞれ一対のイネーブル信号
により活性化されるので、8対のイネーブル信号が外部
から供給される。また、2つずつ4つのグループに分
け、4対のイネーブル信号で8つのセンスアンプを制御
する構成にしてもよい。
Although only four sense amplifiers are illustrated in FIG. 7, the actual sense amplifier circuit is not limited to this. For example, when there are eight sense amplifiers, each sense amplifier is Since each pair of enable signals is activated, eight pairs of enable signals are supplied from outside. Alternatively, the configuration may be such that the two groups are divided into four groups, and eight sense amplifiers are controlled by four pairs of enable signals.

【0042】図8は、センスアンプ回路の他の構成例を
示している。図示のように、本例のセンスアンプ回路に
おいて、図7のセンスアンプ回路とほぼ同じように、例
えば、4つのセンスアンプSA0,SA1,SA2,S
A3が設けられている。ただし、本例では、各センスア
ンプのpチャネル側は、pMOSトランジスタPTCを
介して電源電圧VPPに共通に接続されている。当該pM
OSトランジスタPTCは、イネーブル信号SAE−P
Cによりオン/オフが制御される。なお、各センスアン
プのnチャネル側は、図7に示すセンスアンプ回路と同
様に、それぞれイネーブル信号SAE−N0,SAE−
N1,SAE−N2,SAE−N3によりオン/オフが
制御されるトランジスタNT0,NT1,NT2,NT
3を介して共通電位VSSに接続されている。
FIG. 8 shows another configuration example of the sense amplifier circuit. As shown, in the sense amplifier circuit of the present example, for example, four sense amplifiers SA0, SA1, SA2, S
A3 is provided. However, in this example, the p-channel side of each sense amplifier is commonly connected to the power supply voltage V PP via the pMOS transistor PTC. The pM
The OS transistor PTC is connected to the enable signal SAE-P
ON / OFF is controlled by C. The n-channel side of each sense amplifier is connected to enable signals SAE-N0 and SAE-N, as in the sense amplifier circuit shown in FIG.
Transistors NT0, NT1, NT2, NT whose on / off are controlled by N1, SAE-N2, and SAE-N3
3 to the common potential V SS .

【0043】通常、各センスアンプにおいてnチャネル
側はpチャネル側より早く活性化される。即ち、図8の
センスアンプ回路において、イネーブル信号SAE−N
0,SAE−N1,SAE−N2,SAE−N3が所定
の順番に活性化されたあと、イネーブル信号SAE−P
Cが活性化される。このため、各センスアンプにおける
活性化のときの信号レベルの変化は、図6に示すタイミ
ングチャートにより表すことができる。
Normally, in each sense amplifier, the n-channel side is activated earlier than the p-channel side. That is, in the sense amplifier circuit of FIG. 8, the enable signal SAE-N
0, SAE-N1, SAE-N2 and SAE-N3 are activated in a predetermined order, and then the enable signal SAE-P
C is activated. Therefore, the change in signal level at the time of activation in each sense amplifier can be represented by the timing chart shown in FIG.

【0044】図9は、本発明の半導体記憶装置における
センスアンプ活性化の制御方式を示している。図9にお
いて、センスアンプSA00,SA01,SA02,S
A03は、例えば、図3に示すメモリバンクBK0にあ
るセンスアンプであり、センスアンプSAn0,SAn
1,SAn2,SAn3は、メモリバンクBKnにある
センスアンプである。
FIG. 9 shows a control method for activating the sense amplifier in the semiconductor memory device of the present invention. In FIG. 9, sense amplifiers SA00, SA01, SA02, S
A03 is, for example, a sense amplifier in the memory bank BK0 shown in FIG. 3, and sense amplifiers SAn0 and SAn.
1, SAn2 and SAn3 are sense amplifiers in the memory bank BKn.

【0045】センスアンプSA00とセンスアンプSA
n0などのpチャネル側は、pMOSトランジスタPT
0を介して電源電圧VPPに接続されている。同じく、セ
ンスアンプSA01とセンスアンプSAn1のpチャネ
ル側は、pMOSトランジスタPT1を介して電源電圧
PPに接続され、センスアンプSA02とセンスアンプ
SAn2のpチャネル側は、pMOSトランジスタPT
2を介して電源電圧V PPに接続され、センスアンプSA
03とセンスアンプSAn3のpチャネル側は、pMO
SトランジスタPT3を介して電源電圧VPPに接続され
ている。センスアンプSA00とセンスアンプSAn0
のnチャネル側は、nMOSトランジスタNT0を介し
て共通電位VSSに接続されている。同じく、センスアン
プSA01とセンスアンプSAn1のnチャネル側は、
nMOSトランジスタNT1を介して共通電位VSSに接
続され、センスアンプSA02とセンスアンプSAn2
のnチャネル側は、nMOSトランジスタNT2を介し
て共通電位VSSに接続され、センスアンプSA03とセ
ンスアンプSAn3のnチャネル側は、nMOSトラン
ジスタNT3を介して共通電位VSSに接続されている。
Sense amplifier SA00 and sense amplifier SA
The p channel side such as n0 is a pMOS transistor PT
0 through the supply voltage VPPIt is connected to the. Similarly,
Channel of sense amplifier SA01 and sense amplifier SAn1
Is connected to the power supply voltage via the pMOS transistor PT1.
VPPConnected to the sense amplifier SA02 and the sense amplifier
The p-channel side of SAn2 is a pMOS transistor PT
2 via the power supply voltage V PPConnected to the sense amplifier SA
03 and the p channel side of the sense amplifier SAn3 are pMO
Power supply voltage V via S transistor PT3PPConnected to
ing. Sense amplifier SA00 and sense amplifier SAn0
Through the nMOS transistor NT0
And the common potential VSSIt is connected to the. Similarly, Sensean
And the n-channel side of the sense amplifier SAn1
The common potential V via the nMOS transistor NT1SSContact
Then, the sense amplifier SA02 and the sense amplifier SAn2
Through the nMOS transistor NT2
And the common potential VSSConnected to the sense amplifier SA03.
The n-channel side of the sense amplifier SAn3 is connected to an nMOS transistor.
The common potential V through the transistor NT3SSIt is connected to the.

【0046】pMOSトランジスタPT0,PT1,P
T2,PT3は、それぞれイネーブル信号SAE−P
0,SAE−P1,SAE−P2,SAE−P3により
オン/オフが制御され、nMOSトランジスタNT0,
NT1,NT2,NT3は、それぞれイネーブル信号S
AE−N0,SAE−N1,SAE−N2,SAE−N
3によりオン/オフが制御される。
PMOS transistors PT0, PT1, P
T2 and PT3 are the enable signals SAE-P, respectively.
0, SAE-P1, SAE-P2, and SAE-P3, the on / off of which is controlled by the nMOS transistors NT0, NT0,
NT1, NT2, and NT3 each have an enable signal S
AE-N0, SAE-N1, SAE-N2, SAE-N
3 controls on / off.

【0047】即ち、各メモリバンクにあるセンスアンプ
は、複数(図9の例では4つ)のグループに分割され、
各グループのセンスアンプは、それぞれ共通のイネーブ
ル信号により活性化される。例えば、メモリバンクBK
0のセンスアンプSA00とメモリバンクBKnのセン
スアンプSAn0などからなる第1のグループのすべて
のセンスアンプは、イネーブル信号SAE−P0とSA
E−N0により活性化される。同様に、例えば、メモリ
バンクBK0のセンスアンプSA03とメモリバンクB
KnのセンスアンプSAn3などからなる他のグループ
のすべてセンスアンプは、イネーブル信号SAE−P3
とSAE−N3により活性化される。各グループのセン
スアンプの数は、例えば、メモリバンクの数と等しい。
That is, the sense amplifiers in each memory bank are divided into a plurality (four in the example of FIG. 9) of groups.
Each group of sense amplifiers is activated by a common enable signal. For example, the memory bank BK
0, the sense amplifier SA00 of the memory bank BKn, and the sense amplifiers SAn0 of the memory bank BKn.
Activated by E-N0. Similarly, for example, the sense amplifier SA03 of the memory bank BK0 and the memory bank B
All sense amplifiers in other groups, including Kn sense amplifiers SAn3 and the like, enable signal SAE-P3
And activated by SAE-N3. The number of sense amplifiers in each group is, for example, equal to the number of memory banks.

【0048】図9のようにセンスアンプを複数のグルー
プに分割して、各グループのセンスアンプを共通のイネ
ーブル信号により活性化されることにより、各メモリバ
ンクにおいて、書き込みのとき選択メモリセルに接続さ
れているセンスアンプと非選択メモリセルに接続されて
いるセンスアンプをそれぞれ異なるタイミングで活性化
することができる。このため、選択メモリセルの書き込
み動作と非選択メモリセルのリフレッシュ動作は、それ
ぞれ異なるタイミングで行われ、書き込みバッファWB
UFおよびセンスアンプの貫通電流の発生を抑制でき、
ビット線間のカップリングにより生ずるノイズの低減を
実現できる。
As shown in FIG. 9, the sense amplifiers are divided into a plurality of groups, and the sense amplifiers in each group are activated by a common enable signal, so that each memory bank is connected to a selected memory cell at the time of writing. Activated sense amplifiers and sense amplifiers connected to unselected memory cells can be activated at different timings. Therefore, the write operation of the selected memory cell and the refresh operation of the unselected memory cell are performed at different timings, respectively, and the write buffer WB
The occurrence of through current of the UF and the sense amplifier can be suppressed,
Noise generated by coupling between bit lines can be reduced.

【0049】図10は、図9に示すグループ化されたセ
ンスアンプにおける書き込み動作時の信号変化を示すタ
イミングチャートである。以下、図9および図10を参
照しつつ、本発明の半導体記憶装置の書き込み動作につ
いて説明する。図10は、例えば、ワード線WL0およ
びビット線対BL0,BLB0に接続されているメモリ
セル、例えば、図3に示すメモリセルMC0に対してデ
ータ“1”を書き込む場合について示したものである。
なお、書き込む前にメモリセルMC0にデータ“0”が
記憶されているとする。
FIG. 10 is a timing chart showing signal changes during a write operation in the grouped sense amplifiers shown in FIG. Hereinafter, the write operation of the semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 shows a case where data “1” is written into a memory cell connected to, for example, the word line WL0 and the bit line pair BL0, BLB0, for example, the memory cell MC0 shown in FIG.
It is assumed that data “0” is stored in memory cell MC0 before writing.

【0050】図10に示すように、時間t0 において選
択ワード線WL0が活性化され、ローレベルからハイレ
ベルに立ち上げられる。これに応じて各ビット線および
ビット補線は、それぞれに接続されているメモリセルの
記憶データに応じてわずかにレベルが変化する。例え
ば、ビット補線BLB0に接続されているメモリセルM
C0にデータ“0”が記憶されているので、これに応じ
てビット補線BLB0のレベルがわずかに降下して、ビ
ット線BL0とビット補線BLB0の間に電位差が生ず
る。他のビット線BL1〜BL3およびビット補線BL
B1〜BLB3も同様に、それぞれに接続されているメ
モリセルMC1〜MC3の記憶データに応じて各ビット
線対を構成するビット線およびビット補線間にそれぞれ
電位差が生ずる。
As shown in FIG. 10, at time t 0 , the selected word line WL0 is activated and rises from a low level to a high level. In response to this, the level of each bit line and bit auxiliary line slightly changes according to the storage data of the memory cell connected to each bit line. For example, the memory cell M connected to the bit complement line BLB0
Since data "0" is stored in C0, the level of bit auxiliary line BLB0 drops slightly in response to this, and a potential difference occurs between bit line BL0 and bit auxiliary line BLB0. Other bit lines BL1 to BL3 and bit auxiliary line BL
Similarly, in B1 to BLB3, a potential difference is generated between the bit line and the bit auxiliary line forming each bit line pair according to the storage data of the memory cells MC1 to MC3 connected to the respective cells.

【0051】時間t1 において非選択メモリセルMC1
〜MC3に接続されているセンスアンプSA1〜SA3
がまず活性化される。即ち、イネーブル信号SAE−N
1〜SAE−N3が立ち上がる。なお、図10には、セ
ンスアンプのnチャネル側のイネーブル信号SAE−N
0〜SAE−N3のみを示し、pチャネル側のイネーブ
ル信号SAE−P0〜SAE−P3を省略している。p
チャネル側のイネーブル信号は、それぞれnチャネル側
のイネーブル信号と対をなしており、例えば、nチャネ
ル側のイネーブル信号と同時に活性化される。即ち、図
10に示すように、時間t1 においてイネーブル信号S
AE−N1〜SAE−N3が活性化されると同時に、イ
ネーブル信号SAE−P1〜SAE−P3も活性化さ
れ、ハイレベルからローレベルに切り換えられる。
At time t 1 , unselected memory cell MC1
To the sense amplifiers SA1 to SA3 connected to MC3
Is activated first. That is, the enable signal SAE-N
1 to SAE-N3 rise. FIG. 10 shows the enable signal SAE-N on the n-channel side of the sense amplifier.
Only 0 to SAE-N3 are shown, and the p-channel enable signals SAE-P0 to SAE-P3 are omitted. p
The channel-side enable signal is paired with the n-channel enable signal, and is activated, for example, simultaneously with the n-channel enable signal. That is, as shown in FIG. 10, the enable signal S at time t 1
At the same time that AE-N1 to SAE-N3 are activated, the enable signals SAE-P1 to SAE-P3 are also activated and switched from high level to low level.

【0052】活性化されたセンスアンプSA1〜SA3
により、ビット線BL1〜BL3とビット補線BLB1
〜BLB3からなるビット線対の電位差がそれぞれ増幅
される。メモリセルMC1〜MC3の記憶データに応じ
て、ビット線BL1〜BL3およびビット補線BLB1
〜BLB3の電位がそれぞれ確定される。
Activated sense amplifiers SA1 to SA3
As a result, the bit lines BL1 to BL3 and the bit auxiliary line BLB1
To BLB3 are amplified respectively. Bit lines BL1 to BL3 and bit auxiliary lines BLB1 are stored in memory cells MC1 to MC3 in accordance with stored data.
To BLB3 are determined.

【0053】非選択メモリセルMC1〜MC3に対応し
ているビット線BL1〜BL3およびビット補線BLB
1〜BLB3の電位がほぼ確定したとき、即ち、図10
に示す時間t2 においてブロック選択信号BS0が活性
化される。なお、ブロック選択信号BS0が活性化され
る前に、例えば、図3に示す書き込みバッファWBUF
によりデータ線DLが書き込みデータに応じたレベルに
設定されている。例えば、本例では、選択メモリセルM
C0にデータ“1”を書き込むので、当該書き込みデー
タに応じてデータ線DLが、例えば、ローレベルに設定
されている。
Bit lines BL1 to BL3 and bit auxiliary lines BLB corresponding to unselected memory cells MC1 to MC3
When the potentials of 1 to BLB3 are almost fixed, that is, FIG.
Block select signals BS0 is activated at time t 2 shown in. Before the block selection signal BS0 is activated, for example, the write buffer WBUF shown in FIG.
, The data line DL is set to a level corresponding to the write data. For example, in this example, the selected memory cell M
Since data “1” is written to C0, the data line DL is set to, for example, a low level according to the write data.

【0054】ブロック選択信号BS0が活性化されるこ
とにより、データ線DLに接続されているビット線BL
0がデータ線DLと同じくローレベルに設定される。な
お、このとき、センスアンプSA0が活性化されていな
いので、ビット補線BLB0の信号レベルは変わらず、
それに接続されているメモリセルMC0の記憶データに
応じてわずかに低く設定されたままである。
When the block selection signal BS0 is activated, the bit line BL connected to the data line DL is
0 is set to the low level similarly to the data line DL. At this time, since the sense amplifier SA0 is not activated, the signal level of the bit auxiliary line BLB0 does not change.
It remains set slightly lower according to the storage data of the memory cell MC0 connected to it.

【0055】ビット線BL0とビット補線BLBの電位
が反転したあと、例えばビット線BL0の電位がビット
補線BLB0より低くなった時間t3 において、イネー
ブル信号SAE−N0が活性化される。なお、図示して
いないが、例えば、イネーブル信号SAE−N0が活性
化と同時に、イネーブル信号SAE−P0も活性化され
る。活性化されたセンスアンプSA0により、ビット線
BL0とビット補線BLB0間の電位差が増幅され、例
えば、ビット補線BLB0が電源電圧VPPに保持され、
ビット線BL0が共通電位VSSに保持される。
[0055] After the potential of the bit line BL0 and auxiliary bit line BLB is inverted, for example, at time t 3 when the potential is lower than the complementary bit line BLB0 bit line BL0, the enable signal SAE-N0 is activated. Although not shown, for example, the enable signal SAE-P0 is activated simultaneously with the activation of the enable signal SAE-N0. Activated sense amplifier SA0 amplifies the potential difference between bit line BL0 and bit auxiliary line BLB0, for example, holds bit auxiliary line BLB0 at power supply voltage V PP ,
Bit line BL0 is held at common potential V SS .

【0056】図10に示すように、センスアンプSA0
が活性化されるとき、ビット線BL0およびビット補線
BLB0の電位差はすでに書き込みデータに応じて正し
く設定されているので、従来の半導体記憶装置のよう
に、センスアンプSA0の状態を書き込みバッファWB
UFにより強引に引っ繰り返すことはなくなる。センス
アンプSA0はビット線BL0とビット補線BLB0の
電位差をそのまま増幅し、ビット線BL0およびビット
補線BLB0をそれぞれ所定の電位に確定するだけで済
む。このため、書き込みバッファWBUFとセンスアン
プSA0間、またはセンスアンプSA0での貫通電流の
発生が抑制される。
As shown in FIG. 10, the sense amplifier SA0
Is activated, the potential difference between the bit line BL0 and the complementary bit line BLB0 has already been correctly set in accordance with the write data, so that the state of the sense amplifier SA0 is changed to the write buffer WB as in the conventional semiconductor memory device.
UF will not force you to repeat. The sense amplifier SA0 amplifies the potential difference between the bit line BL0 and the bit auxiliary line BLB0 as it is, and only determines the bit line BL0 and the bit auxiliary line BLB0 to predetermined potentials. Therefore, generation of a through current between the write buffer WBUF and the sense amplifier SA0 or in the sense amplifier SA0 is suppressed.

【0057】センスアンプSA0が活性化されたあと、
データ線DLによりセンスアンプSA0を引っ繰り返す
必要がないので、図10に示すように、センスアンプS
A0が活性化される直前に、ブロック選択信号BS0を
リセットすることができる。
After the sense amplifier SA0 is activated,
Since it is not necessary to repeat the sense amplifier SA0 by the data line DL, as shown in FIG.
Immediately before A0 is activated, the block selection signal BS0 can be reset.

【0058】図11は、グループ化されたセンスアンプ
の他の制御方式を示している。図示のように、各メモリ
バンクBK0,…,BKnのセンスアンプSA00,S
A01,SA02,SA03およびSAn0,SAn
1,SAn2,SAn3は、図9と同じようにグループ
化される。各グループのセンスアンプのnチャネル側
は、それぞれnMOSトランジスタNT0,NT1,N
T2,NT3を介して共通電位VSSに接続されている。
これらのトランジスタはそれぞれのゲートに印加される
イネーブル信号SAE−N0,SAE−N1,SAE−
N2,SAE−N3によりオン/オフが制御される。た
だし、図9とは異なり、各センスアンプのpチャネル側
はpMOSトランジスタPTCを介して電源電圧VPP
接続されている。なお、pMOSトランジスタPTC
は、そのゲートに印加されるイネーブル信号SAE−P
Cによりオン/オフが制御される。
FIG. 11 shows another control method of the grouped sense amplifiers. As shown in the figure, the sense amplifiers SA00, S of each memory bank BK0,.
A01, SA02, SA03 and SAn0, SAn
1, SAn2 and SAn3 are grouped in the same manner as in FIG. The n-channel sides of the sense amplifiers in each group are connected to nMOS transistors NT0, NT1, N
It is connected to the common potential V SS via T2 and NT3.
These transistors have enable signals SAE-N0, SAE-N1, and SAE-N0 applied to their respective gates.
ON / OFF is controlled by N2 and SAE-N3. However, unlike FIG. 9, the p-channel side of each sense amplifier is connected to the power supply voltage V PP via the pMOS transistor PTC. The pMOS transistor PTC
Is the enable signal SAE-P applied to its gate
ON / OFF is controlled by C.

【0059】即ち、各グループのセンスアンプのnチャ
ネル側は、それぞれイネーブル信号SAE−N0,SA
E−N1,SAE−N2,SAE−N3により活性化の
タイミングが制御されるが、すべてのセンスアンプのp
チャネル側は、共通のイネーブル信号SAE−PCによ
り同時に活性化される。
That is, the n-channel sides of the sense amplifiers in each group are connected to enable signals SAE-N0, SAE, respectively.
The activation timing is controlled by E-N1, SAE-N2, and SAE-N3.
The channel side is simultaneously activated by the common enable signal SAE-PC.

【0060】図12は図11に示すグループ化されたセ
ンスアンプの活性化制御の一例を示し、センスアンプの
活性化によるそれぞれの信号の変化を示すタイミングチ
ャートである。図12に示すように、本例ではワード線
WL0、ブロック選択信号BS0およびセンスアンプの
nチャネル側のイネーブル信号SAE−N0〜SAE−
N3の変化タイミングは、図10に示すタイミングチャ
ートとほぼ同じである。センスアンプのpチャネル側の
イネーブル信号SAE−PCは、図示のように、センス
アンプSA0のnチャネル側イネーブル信号SAE−N
0と同じタイミングで活性化される。このため、センス
アンプSA1〜SA3において、イネーブル信号SAE
−N1〜SAE−N3によりnチャネル側が活性化され
たあと、pチャネル側がイネーブル信号SAE−PCに
より活性化されるまでの間に、ビット線BL1〜BL3
およびビット補線BLB1〜BLB3のうち、ローレベ
ルに設定すべきものが各センスアンプSA1〜SA3に
よりまず共通電位VSSに保持される。そして、時間t3
においてイネーブル信号SAE−PCが活性化されたあ
と、ハイレベルに設定すべきものは電源電圧VPPに保持
される。
FIG. 12 is a timing chart showing one example of activation control of the grouped sense amplifiers shown in FIG. 11, and showing changes in respective signals due to activation of the sense amplifiers. As shown in FIG. 12, in this example, the word line WL0, the block selection signal BS0, and the enable signals SAE-N0 to SAE- on the n-channel side of the sense amplifier.
The change timing of N3 is almost the same as the timing chart shown in FIG. As shown, the enable signal SAE-PC on the p-channel side of the sense amplifier SAE-N
It is activated at the same timing as 0. Therefore, in the sense amplifiers SA1 to SA3, the enable signal SAE
After the n-channel side is activated by -N1 to SAE-N3 and before the p-channel side is activated by the enable signal SAE-PC, the bit lines BL1 to BL3
And among the complementary bit line BLB1~BLB3, should be set to the low level is held firstly to the common potential V SS by each sense amplifier SA1 to SA3. And time t 3
After the enable signal SAE-PC is activated, the power supply voltage V PP keeps the signal to be set to the high level.

【0061】図12に示すように、選択メモリセルに接
続されているセンスアンプSA0は他の非選択メモリセ
ルに接続されているセンスアンプSA1〜SA3より少
し遅れて、ブロック選択信号BS0が活性化されたあと
に活性化されるので、選択メモリセルMC0にもとの記
憶データと異なるデータを書き込む場合に、ビット線B
L0およびビット補線BLB0の電位レベルが、書き込
みデータに応じて正しく設定されたあと、センスアンプ
SA0が活性化される。このため、センスアンプSA0
を強引に引っ繰り返すことなく、センスアンプSA0の
状態反転に伴う貫通電流の発生が回避できる。また、隣
り合うビット線およびビット補線間のカップリングによ
り発生したノイズも低減できる。
As shown in FIG. 12, the sense amplifier SA0 connected to the selected memory cell is slightly delayed from the sense amplifiers SA1 to SA3 connected to other unselected memory cells, and the block selection signal BS0 is activated. Is activated after the write operation, the data stored in the selected memory cell MC0 is written in a bit line B
After the potential levels of L0 and bit auxiliary line BLB0 are correctly set according to the write data, sense amplifier SA0 is activated. Therefore, the sense amplifier SA0
Can be avoided without forcibly repeating the process described above. Further, noise generated by coupling between adjacent bit lines and bit supplementary lines can be reduced.

【0062】なお、図12においてセンスアンプのpチ
ャネル側の共通のイネーブル信号SAE−PCの活性化
タイミングはかならずしもイネーブル信号SAE−N0
と同時である必要はなく、例えば、イネーブル信号SA
E−N0より少し遅れて活性化することも可能である。
このような場合に、センスアンプSA1〜SA3の他
に、センスアンプSA0においてもセンシング感度の高
いnチャネル側が動作してからpチャネル側が動作する
ので、センスアンプにおけるノイズの低減を実現でき
る。
In FIG. 12, the activation timing of the common enable signal SAE-PC on the p-channel side of the sense amplifier is not limited to the enable signal SAE-N0.
Need not be at the same time as the enable signal SA, for example.
It is also possible to activate slightly later than E-N0.
In such a case, in addition to the sense amplifiers SA1 to SA3, also in the sense amplifier SA0, since the n-channel side having high sensing sensitivity operates and then the p-channel side operates, noise reduction in the sense amplifier can be realized.

【0063】なお、本発明の半導体記憶装置において、
選択メモリセルにもとの記憶データと異なるデータを書
き込む場合に、それに接続されているセンスアンプの状
態を引っ繰り返すことなく、図3に示すように、書き込
むバッファWBUFによりデータ線DLのみを駆動すれ
ばよく、従来の半導体記憶装置のようにデータ線DLと
データ補線DLBからなる一対の信号線を駆動しなくて
済む。このため、本発明では、データ線の本数を低減で
きることにより半導体記憶装置のレイアウト面積の縮小
を実現できる。
In the semiconductor memory device of the present invention,
When writing data different from the original storage data to the selected memory cell, only the data line DL is driven by the write buffer WBUF as shown in FIG. 3 without repeating the state of the sense amplifier connected thereto. It is not necessary to drive a pair of signal lines including the data line DL and the data auxiliary line DLB as in the conventional semiconductor memory device. Therefore, in the present invention, the number of data lines can be reduced, so that the layout area of the semiconductor memory device can be reduced.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、書き込み時書き込みバッファおよびセ
ンスアンプにおける貫通電流の発生を抑制でき、ビット
線間のカップリングにより発生するノイズの影響を低減
できる。さらに、書き込みバッファの電流駆動能力を従
来より低減でき、その構成を簡単化できるとともに、デ
ータ線の本数を低減できることにより、レイアウト面積
の低減を実現できる利点がある。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, it is possible to suppress the generation of through current in the write buffer and the sense amplifier at the time of writing, and to reduce the influence of noise generated by coupling between bit lines. Can be reduced. Further, the current driving capability of the write buffer can be reduced as compared with the conventional case, the configuration can be simplified, and the number of data lines can be reduced, so that there is an advantage that the layout area can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の半導体記憶装置の一構成例を示す回路図
である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration example of a conventional semiconductor memory device.

【図2】図1の半導体記憶装置の書き込み動作を示すタ
イミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing a write operation of the semiconductor memory device of FIG. 1;

【図3】本発明に係る半導体記憶装置の一実施形態を示
す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】センスアンプの一構成例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration example of a sense amplifier.

【図5】センスアンプの一動作例を示すタイミングチャ
ートである。
FIG. 5 is a timing chart showing an operation example of a sense amplifier.

【図6】センスアンプの他の動作例を示すタイミングチ
ャートである。
FIG. 6 is a timing chart showing another operation example of the sense amplifier.

【図7】センスアンプ回路の一例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram illustrating an example of a sense amplifier circuit.

【図8】センスアンプ回路の他の例を示す回路図であ
る。
FIG. 8 is a circuit diagram showing another example of the sense amplifier circuit.

【図9】グループ化されたセンスアンプの活性化制御方
式を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an activation control method for grouped sense amplifiers.

【図10】図9における書き込み時の動作を示すタイミ
ングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing an operation at the time of writing in FIG. 9;

【図11】グループ化されたセンスアンプの他の活性化
制御方式を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram illustrating another activation control method of the grouped sense amplifiers.

【図12】図11における書き込み時の動作を示すタイ
ミングチャートである。
FIG. 12 is a timing chart showing an operation at the time of writing in FIG. 11;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

BL0,BL1,BL2.BL3…ビット線、BLB
0,BLB1,BLB2.BLB3…ビット線、MC
0,MC1,MC2,MC3…メモリセル、SA0,S
A1,SA2,SA3…センスアンプ、WL,WL0…
ワード線、WBUF…書き込みバッファ、VPP…電源電
圧、VSS…共通電位。
BL0, BL1, BL2. BL3: bit line, BLB
0, BLB1, BLB2. BLB3: bit line, MC
0, MC1, MC2, MC3 ... memory cells, SA0, S
A1, SA2, SA3 ... sense amplifier, WL, WL0 ...
Word line, WBUF: write buffer, V PP : power supply voltage, V SS : common potential.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のワード線と、 ビット線とビット補線とからなる複数のビット線対と、 上記複数のワード線と上記複数のビット線対との交差位
置に設けられている複数のメモリセルと、 アドレス信号に応じて選択されるワード線を活性化する
ワード線駆動回路と、 上記複数のビット線対にそれぞれ電気的に接続されてい
る複数のセンスアンプと、 上記複数のセンスアンプの動作を制御するセンスアンプ
駆動回路と、 上記複数のビット線対とデータ入出力線との間にそれぞ
れ接続されている複数のスイッチング手段と、 上記データ入出力線に書込データを供給する書込データ
供給回路と、 アドレス信号に応じて選択されるビット線対に接続され
ているスイッチング手段を活性化するスイッチング手段
駆動回路と、 を有し、メモリセルに対してデータを書き込む場合、上
記ワード線駆動回路により選択ワード線が活性化され、
上記センスアンプ駆動回路により非選択ビット線対に接
続されているセンスアンプが活性化され、上記スイッチ
ング手段駆動回路により選択ビット線対に接続されてい
るスイッチング手段が活性化され、その後所定の時間の
経過後に上記センスアンプ駆動回路により選択ビット線
対に接続されているセンスアンプが活性化される半導体
記憶装置。
A plurality of word lines; a plurality of bit line pairs comprising bit lines and bit supplementary lines; and a plurality of bit lines provided at intersections of the plurality of word lines and the plurality of bit line pairs. A memory cell; a word line drive circuit for activating a word line selected in accordance with an address signal; a plurality of sense amplifiers electrically connected to the plurality of bit line pairs; and a plurality of sense amplifiers , A plurality of switching means respectively connected between the plurality of bit line pairs and the data input / output lines, and a write supply circuit for supplying write data to the data input / output lines. And a switching means driving circuit for activating switching means connected to a bit line pair selected in accordance with an address signal. If to write data, the selected word line by the word line drive circuit is activated,
The sense amplifier driving circuit activates the sense amplifier connected to the non-selected bit line pair, the switching means driving circuit activates the switching means connected to the selected bit line pair, and thereafter, for a predetermined period of time. A semiconductor memory device in which a sense amplifier connected to a selected bit line pair is activated by the sense amplifier drive circuit after a lapse.
【請求項2】上記複数のスイッチング手段はMOSトラ
ンジスタで構成され、上記データ入出力線と上記ビット
線又は上記ビット補線とを電気的に接続する請求項1に
記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said plurality of switching means are constituted by MOS transistors, and electrically connect said data input / output line to said bit line or said bit auxiliary line.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009277341A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd Write assist circuit for improving write margin of sram cell
JP2010040143A (en) * 2008-08-07 2010-02-18 Nec Electronics Corp Semiconductor integrated circuit

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