JP2000076647A - Magnetic recording medium and magnetic storage device - Google Patents
Magnetic recording medium and magnetic storage deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及び磁気
記憶装置に係り、特に、膜面に対し主として面内方向の
磁化によって情報の記録が行われる磁気記録媒体、及
び、この磁気記録媒体を用いた磁気記憶装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium and a magnetic storage device, and more particularly, to a magnetic recording medium in which information is recorded mainly by in-plane magnetization with respect to a film surface, and this magnetic recording medium. And a magnetic storage device using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】膜面に対し主として面内方向の磁化によ
って情報の記録が行われる磁気記録媒体に関する従来技
術として、例えば、特開平1−220217号公報等に
記載された技術が知られている。2. Description of the Related Art As a prior art relating to a magnetic recording medium on which information is recorded mainly by in-plane magnetization on a film surface, a technology described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-220217 is known. .
【0003】この従来技術は、硬質の非磁性基板上に、
記録面に平行な体心立方構造の(100)面を有する5
0ないし200オングストロ−ムの厚さのクロム(C
r)層と、該クロム層の(100)面上にエピタキシャ
ル成長により形成された、六方最密充填構造の(11
0)面を有し、c軸が上記記録面に平行となっているコ
バルト合金薄膜とを設けて構成したものである。[0003] This prior art is based on a hard non-magnetic substrate.
5 having a body-centered cubic (100) plane parallel to the recording surface
0 to 200 Angstroms thick chrome (C
r) layer and (11) of a hexagonal close-packed structure formed by epitaxial growth on the (100) plane of the chromium layer.
0) and a cobalt alloy thin film having a c-axis parallel to the recording surface.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術は、極薄
膜のCrを下地層として用い、その上にコバルト合金薄
膜を成長させたものであるが、一般に、極薄膜のCrの
表面は活性であるため、保磁力のばらつきが大きくな
り、また、コバルト合金薄膜を安定して成長させること
が困難であり、プロセスマ−ジンが小さくなるという問
題点を有している。In the above prior art, an ultra-thin Cr film is used as an underlayer and a cobalt alloy thin film is grown thereon. In general, the surface of the ultra-thin Cr film is active. Therefore, there is a problem that the coercive force varies greatly, it is difficult to grow a cobalt alloy thin film stably, and the process margin becomes small.
【0005】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解決し、下地層となる非磁性層の上に連続して形成され
るコバルト合金膜による六方稠密充填(hcp)構造の
(110)面を安定して成長させ、記録面内にhcp構
造の(110)面が平行になるコバルト基合金磁性層を
有する磁気記録媒体を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a hexagonal close-packed (hcp) structure (110) of a cobalt alloy film continuously formed on a nonmagnetic layer serving as an underlayer. An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having a cobalt-based alloy magnetic layer in which a (110) plane of an hcp structure is parallel to a recording surface by growing the surface stably.
【0006】また、本発明の他の目的は、この磁気記録
媒体を用いた磁気記憶装置を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a magnetic storage device using the magnetic recording medium.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、硬質の
非磁性基板上に面心立方構造を有する非磁性Ni基合金
からなる下地層を形成し、その上にコバルト基合金磁性
層を形成することにより達成される。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to form a base layer made of a non-magnetic Ni-based alloy having a face-centered cubic structure on a hard non-magnetic substrate, and to form a cobalt-based alloy magnetic layer thereon. It is achieved by forming.
【0008】すなわち、前記目的は、硬質の非磁性基板
上に面心立方(fcc)構造をとる非磁性Ni基合金の
下地層を、高真空蒸着法あるいはスパッタ法等により、
膜形成時の基板温度を200℃以上に上げ、毎分80〜
300nmの高速膜形成を行い、膜厚を20〜90nm
にすることにより主として(100)面が下地層表面と
なるように形成し、この下地膜表面上に連続してhcp
構造をとるCo基合金磁性層の(110)面をエピタキ
シャル成長させることにより達成される。[0008] That is, the object is to form a base layer of a non-magnetic Ni-based alloy having a face-centered cubic (fcc) structure on a hard non-magnetic substrate by a high vacuum evaporation method or a sputtering method.
Raise the substrate temperature during film formation to 200 ° C or higher, and
A high-speed film formation of 300 nm is performed, and the film thickness is 20 to 90 nm.
Is formed so that the (100) plane is mainly the surface of the underlayer, and hcp is continuously formed on the surface of the underlayer.
This is achieved by epitaxially growing the (110) plane of the Co-based alloy magnetic layer having the structure.
【0009】これらの層構成は、RFスパッタ法、DC
スパッタ法、あるいは、これらの方法を実行する装置の
カソ−ドにマグネトロン方式を用い、あるいは、バイア
ス電圧を印加した、イオンビ−ムスパッタ法等による薄
膜形成手法のいずれによっても形成することが可能であ
る。[0009] These layers are formed by RF sputtering, DC
It can be formed by a sputtering method, a magnetron method as a cathode of an apparatus for executing these methods, or a thin film forming method by an ion beam sputtering method or the like to which a bias voltage is applied. .
【0010】前述において、基板温度を200℃以上に
上げて高速膜形成を行うのは、膜形成時の薄膜表面にお
ける原子の移動度を高めるためであり、Ni−Pメッキ
した基板の場合には、メッキ膜が磁化しないように加熱
することが望ましいためである。In the above description, the reason why the high-speed film formation is performed by raising the substrate temperature to 200 ° C. or higher is to increase the mobility of atoms on the surface of the thin film at the time of film formation. This is because it is desirable to heat the plating film so as not to be magnetized.
【0011】なお、磁性膜を形成する前工程として、下
地基板表面を一般にテクスチャ加工と呼ばれている加工
技術で予め粗面加工しておくことが好ましく、例えば、
ディスク基板の磁気ヘッド走行方向に沿って中心線平均
面粗さで、2〜30nmの微細な傷を設けておくことに
より、ディスク基板表面上の非磁性金属下地層及びその
上に形成される磁性層の結晶粒を磁気ヘッド走行方向に
結晶配向させることができ、ヘッド走行方向の角形比、
保磁力等の磁気特性を著しく改善することができる、ま
た、このテクスチャ効果は、磁性層形成時の基板加熱と
相応して磁気特性の向上に寄与する。As a pre-process for forming the magnetic film, it is preferable to previously roughen the surface of the underlying substrate by a processing technique generally called texture processing.
By providing fine scratches with a center line average surface roughness of 2 to 30 nm along the running direction of the magnetic head of the disk substrate, the non-magnetic metal underlayer on the disk substrate surface and the magnetic layer formed thereon The crystal grains of the layer can be oriented in the direction of travel of the magnetic head, and the squareness ratio in the direction of travel of the head,
Magnetic properties such as coercive force can be remarkably improved, and this texture effect contributes to improvement of magnetic properties in accordance with substrate heating at the time of forming a magnetic layer.
【0012】前記本発明の他の目的は、磁気記録媒体
と、これを回転駆動する駆動部と、磁気ヘッド及びその
駆動手段と、磁気ヘッドの記録再生信号処理手段とを有
し構成される磁気記憶装置において、前記磁気記録媒体
を前述した本発明の目的を達成することのできる面内磁
気記録媒体より構成することにより達成される。Another object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having a magnetic recording medium, a driving unit for rotating the magnetic recording medium, a magnetic head and its driving means, and a recording / reproducing signal processing means for the magnetic head. In a storage device, this is achieved by forming the magnetic recording medium from an in-plane magnetic recording medium capable of achieving the above-described object of the present invention.
【0013】[0013]
【作用】Co基合金磁性薄膜を面内磁気記録媒体として
最適化するためには、hcp構造をとるCo基合金の磁
化容易軸であるc軸をディスク面内に配向させる必要が
ある。このためには、Co合金磁性層の(hk0)面を
下地層面上に成長させる必要がある。そして、このよう
な要求は、fcc構造をとる非磁性Ni基合金下地層の
(100)面を記録面と平行にすることにより格子の整
合性を向上させ、Co合金磁性層の(110)面を前記
下地層上にエピタキシャル成長させることにより実現す
ることができる。In order to optimize a Co-based alloy magnetic thin film as an in-plane magnetic recording medium, it is necessary to orient the c-axis, which is the axis of easy magnetization of the Co-based alloy having the hcp structure, in the disk surface. For this purpose, it is necessary to grow the (hk0) plane of the Co alloy magnetic layer on the underlayer. Such a requirement is met by improving the lattice matching by making the (100) plane of the nonmagnetic Ni-based alloy underlayer having the fcc structure parallel to the recording surface, and improving the (110) plane of the Co alloy magnetic layer. Can be realized by epitaxial growth on the underlayer.
【0014】非磁性Ni基合金下地層は、高真空蒸着あ
るいは高速のスパッタ条件等で形成することにより、主
として(100)配向した薄膜として得ることができ
る。この下地膜上にCo−Ni−Cr合金、Co−Pt
合金、Co−Cr−Pt合金、Co−Cr−Ta合金、
Co−Cr−Ta−Pt合金のようなCo基合金磁性膜
を形成すると、磁化容易軸(c軸)がディスク面内にあ
るようなエピタキシャル成長を行わせることが可能にな
る。The nonmagnetic Ni-based alloy underlayer can be obtained as a (100) -oriented thin film by forming it under high vacuum evaporation or high-speed sputtering conditions. A Co-Ni-Cr alloy, Co-Pt
Alloy, Co-Cr-Pt alloy, Co-Cr-Ta alloy,
When a Co-based alloy magnetic film such as a Co-Cr-Ta-Pt alloy is formed, epitaxial growth can be performed such that the axis of easy magnetization (c-axis) is within the disk surface.
【0015】非磁性金属下地層を形成する前工程とし
て、Ni−P等の基板下地表面を、略ヘッド走行方向に
沿って微細な傷が入るように加工し、ヘッド走行方向の
中心線粗さRaを1〜10nm、これに直角方向のRa
を2〜30nmとすることにより、ヘッド走行方向の保
磁力を半径方向のそれよりも大きくすることができ、出
力を1〜2割高くすることができる。ヘッド走行方向に
直角方向のRaについては、2nm以上でないと効果が
小さく、また、30nmよりも大きくすると耐摺動性が
劣化するので好ましくない。As a pre-process for forming a non-magnetic metal underlayer, a substrate undersurface made of Ni-P or the like is processed so as to have fine scratches substantially along the head traveling direction, and the center line roughness in the head traveling direction is formed. Ra is 1 to 10 nm, and Ra perpendicular to this is
Is set to 2 to 30 nm, the coercive force in the head traveling direction can be made larger than that in the radial direction, and the output can be increased by 10 to 20%. For Ra in the direction perpendicular to the head running direction, the effect is small unless it is 2 nm or more, and if it is larger than 30 nm, the sliding resistance is undesirably deteriorated.
【0016】下地膜の膜厚を20〜90nmとしたの
は、膜厚が20nmよりも薄い場合に、下地膜の結晶粒
が小さく、連続して形成した磁性膜の結晶粒径も微細化
してしまい、1200Oe以上の保磁力を得ることが困
難になり、一方、膜厚が90nmを超えると、fcc構
造の(100)面以外の例えば(111)面が下地膜表
面に生じやすくなるため、やはり、1200Oe以上の
保磁力を得ることが困難になるからである。The reason why the thickness of the underlayer is set to 20 to 90 nm is that when the thickness is smaller than 20 nm, the crystal grains of the underlayer are small and the crystal grain size of the magnetic film formed continuously is also reduced. Therefore, it becomes difficult to obtain a coercive force of 1200 Oe or more. On the other hand, if the film thickness exceeds 90 nm, for example, a (111) plane other than the (100) plane of the fcc structure tends to be formed on the base film surface. This is because it becomes difficult to obtain a coercive force of 1200 Oe or more.
【0017】すなわち、下地膜の膜厚を20〜90nm
とした場合に、1200Oe以上の保磁力が得られるよ
うな大きさの結晶粒径を得ることができ、かつ、fcc
の(111)面に比べ優位的に(100)配向した下地
膜が形成可能である。そして、このような下地膜であっ
ても、格子の整合性が8%以上ずれると、Taあるいは
白金から選ばれる少なくとも1つの元素を含有するhc
p構造のCo基合金のc軸は垂直に配向しやすくなるた
め、下地膜に用いる合金材料の選択時には、格子の整合
性を8%以内、より好ましくは4%以内にする必要があ
る。That is, the thickness of the base film is set to 20 to 90 nm.
In this case, a crystal grain size large enough to obtain a coercive force of 1200 Oe or more can be obtained.
It is possible to form a (100) oriented base film superior to the (111) plane. Even with such an underlayer, if the lattice matching is shifted by 8% or more, hc containing at least one element selected from Ta or platinum is used.
Since the c-axis of a Co-based alloy having a p-structure is likely to be vertically oriented, the lattice matching needs to be within 8%, and more preferably within 4%, when selecting an alloy material for the base film.
【0018】本発明の磁気記録媒体を、作動ギャップ近
傍にCo−Nb−Zr、Fe−Al−Si、Ni−Fe
等の強磁性金属を設けたメタルインギャップタイプある
いは薄膜による磁気ヘッドを使用して記録再生したとこ
ろ、ディスク円周方向の面内保磁力を1200Oe以上
とすれば、再生出力を格段に向上させることができるこ
とが確認された。さらに、面内保磁力を1500Oeに
すれば、さらに出力記録密度特性を向上させることがで
きる。The magnetic recording medium of the present invention is provided with Co-Nb-Zr, Fe-Al-Si, Ni-Fe
Recording and reproduction using a metal-in-gap type or thin-film magnetic head provided with a ferromagnetic metal such as above. If the in-plane coercive force in the disk circumferential direction is set to 1200 Oe or more, the reproduction output can be significantly improved. It was confirmed that it was possible. Further, when the in-plane coercive force is set to 1500 Oe, the output recording density characteristics can be further improved.
【0019】そして、少なくとも磁極の一部を前述のよ
うな金属磁性材料で構成した磁気ヘッドは、本発明によ
る磁気記録媒体との整合性が良好なものであり、これを
用いて記録再生を行うようにすることにより効率を向上
させることができ、大容量の磁気記憶装置を提供するこ
とができる。The magnetic head in which at least a part of the magnetic pole is made of the above-described metal magnetic material has good matching with the magnetic recording medium according to the present invention, and performs recording and reproduction using the magnetic head. By doing so, the efficiency can be improved and a large-capacity magnetic storage device can be provided.
【0020】[0020]
【実施例】以下、本発明による磁気記録媒体及び磁気記
憶装置の実施例を図面により詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the magnetic recording medium and magnetic storage device according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0021】図1は本発明による磁気記録媒体の実施例
の構成を示す図である。図1において、11は基板、1
2、12’は下地層、13、13’は磁性層、14、1
4’は保護被覆膜層である。FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of a magnetic recording medium according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a substrate, 1
2, 12 'are underlayers, 13, 13' are magnetic layers, 14, 1
4 'is a protective coating film layer.
【0022】[実施例1]本発明の第1の実施例は、図
1に示すように、基板11の両面に、下地層12、1
2’、磁性層13、13’、保護被覆膜層14、14’
を備えて構成され、これらは、次のような材料により形
成される。[Embodiment 1] In a first embodiment of the present invention, as shown in FIG.
2 ', magnetic layers 13, 13', protective coating layers 14, 14 '
These are formed by the following materials.
【0023】基板11は、Ni−P、Ni−W−P等を
メッキしたAl−Mg合金、アルマイト処理したAl−
Mg合金、ガラス、セラミックス等により形成される。The substrate 11 is made of an Al—Mg alloy plated with Ni—P, Ni—WP, or the like, or an Al—Mg alloy treated with alumite.
It is formed of a Mg alloy, glass, ceramic, or the like.
【0024】下地層12、12’は、Ti、V、Nb、
Ta、Cr、Mo、Mn、Fe、Co、Cu、Al、S
iから選択された少なくとも1つの元素をNiに添加し
た非磁性合金により形成される。The underlayers 12, 12 'are made of Ti, V, Nb,
Ta, Cr, Mo, Mn, Fe, Co, Cu, Al, S
It is formed of a nonmagnetic alloy in which at least one element selected from i is added to Ni.
【0025】磁性層13、13’は、Co−Pt、Co
−Cr−Pt、Co−Ni−Pt、Co−Cr−Ta、
Co−Cr−Ta−Pt、Co−Ni−Cr、Co−C
r−Ni−Pt、あるいは、これらの合金に酸素を含有
させた合金により形成される。The magnetic layers 13, 13 'are made of Co-Pt, Co
-Cr-Pt, Co-Ni-Pt, Co-Cr-Ta,
Co-Cr-Ta-Pt, Co-Ni-Cr, Co-C
It is formed of r-Ni-Pt or an alloy containing oxygen in these alloys.
【0026】保護被覆膜層14、14’は、C、W−M
o−C、B、炭化硼素、酸化珪素、Rh、二硫化モリブ
デン、Al−Ta合金の酸化物の1つにより形成され
る。この保護被覆膜14、14’の上には、さらに有機
系潤滑剤層があってもよい。The protective coating layers 14, 14 'are made of C, WM
It is formed of one of oxides of oC, B, boron carbide, silicon oxide, Rh, molybdenum disulfide, and an Al-Ta alloy. An organic lubricant layer may be further provided on the protective coating films 14 and 14 '.
【0027】次に、この本発明の第1の実施例によるデ
ィスクの形成方法を説明する。Next, a method of forming a disk according to the first embodiment of the present invention will be described.
【0028】(1)外径130mm、内径40mm、厚
さ1.9mmのAl合金基板上に、12μm厚の非磁性
Ni−12wt%Pのメッキ層を形成して非磁性基板1
1を形成する。(1) A nonmagnetic Ni-12 wt% P plating layer having a thickness of 12 μm is formed on an Al alloy substrate having an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 40 mm, and a thickness of 1.9 mm.
Form one.
【0029】(2)この基板11上に、RFマグネトロ
ンスパッタリング法により、基板温度250℃、放電A
rガス圧力2mTorr、RF投入電力4W/cm
2で、Ni−28wt%Mo−5wt%Fe(ハステロ
イB)の合金タ−ゲットをスパッタし、膜厚10、2
0、50、90または150nmの非磁性下地層12、
12’を形成する。これにより、下地層12、12’
は、該下地層表面で、記録面に平行名面心立方構造の
(100)面を有するように形成される。(2) Discharge A on the substrate 11 at a substrate temperature of 250 ° C. by RF magnetron sputtering.
r gas pressure 2 mTorr, RF input power 4 W / cm
In step 2 , an alloy target of Ni-28 wt% Mo-5 wt% Fe (Hastelloy B) was sputtered to a film thickness of 10
A non-magnetic underlayer 12 of 0, 50, 90 or 150 nm;
12 'is formed. Thereby, the underlayers 12 and 12 ′ are formed.
Is formed on the underlayer surface so as to have a (100) plane having a parallel face-centered cubic structure on the recording surface.
【0030】(3)次に、前述と同様にして、膜厚60
nmのCo−12at%Cr−4at%Pt合金による
磁性層13、13’を前記下地層の上にエピタキシャル
成長させて形成する。この結果、磁性層13、13’
は、六方稠密充填構造の(110)面が記録面に平行に
なるように形成される。(3) Next, a film thickness of 60
The magnetic layers 13 and 13 'of a Co-12 at% Cr-4 at% Pt alloy having a thickness of 10 nm are formed on the underlayer by epitaxial growth. As a result, the magnetic layers 13, 13 '
Is formed such that the (110) plane of the hexagonal close-packed structure is parallel to the recording surface.
【0031】(4)その後、膜厚30nmのCからなる
保護被覆膜層14、14’を形成して磁気ディスクとす
る。(4) Thereafter, protective coating layers 14 and 14 'made of C having a thickness of 30 nm are formed to form a magnetic disk.
【0032】本発明の第1の実施例による磁気ディスク
の保磁力Hcを測定したところ、下地層12、12’の
膜厚を20〜90nmとした場合、Hcを1200Oe
以上とすることができた。これに対し、下地層の膜厚を
10nm、150nmとした場合、Hcは、それぞれ8
60Oe、1080Oeと小さな値となった。When the coercive force Hc of the magnetic disk according to the first embodiment of the present invention was measured, when the thickness of the underlayers 12 and 12 'was set to 20 to 90 nm, Hc was set to 1200 Oe.
I was able to do above. On the other hand, when the thickness of the underlayer is 10 nm and 150 nm, Hc is 8
The value was as small as 60 Oe and 1080 Oe.
【0033】下地層の膜厚を10nm、150nmとし
た場合にHcの値が小さくなる理由は、下地層の膜厚が
10nmと薄い場合、下地層12、12’の結晶粒が微
細であるため、その上に形成される磁性層13、13’
の結晶粒も微細化されるからてらあり、下地膜厚が15
0nmと厚い場合、hcp構造の最稠密面である(11
1)面が下地層表面に生じやすくなるためである。この
ことは、静磁気特性評価、走査電子顕微鏡観察、透過電
子顕微鏡観察、及びX線回折の測定により明らかとなっ
た。The reason why the value of Hc decreases when the thickness of the underlayer is 10 nm or 150 nm is that when the thickness of the underlayer is as thin as 10 nm, the crystal grains of the underlayers 12 and 12 ′ are fine. , The magnetic layers 13 and 13 ′ formed thereon
Is also finer, and the underlayer thickness is 15
When the thickness is as thick as 0 nm, it is the densest surface of the hcp structure (11
1) The surface is likely to be formed on the surface of the underlayer. This was clarified by magnetostatic property evaluation, scanning electron microscope observation, transmission electron microscope observation, and X-ray diffraction measurement.
【0034】前述の効果は、磁性層13、13’として
用いる合金組成と下地層12、12’として用いる非磁
性Ni基合金との格子整合性が8%以内である場合に、
下地層12、12’を、ハステロイC、インコネル、ア
ロイGDS、アロイ20Cb3(以上、全て商品名)等
の非磁性Ni基合金をスパッタタ−ゲットとして形成し
た場合に認められた。The above effect is obtained when the lattice matching between the alloy composition used for the magnetic layers 13 and 13 'and the nonmagnetic Ni-based alloy used for the underlayers 12 and 12' is within 8%.
This was observed when the underlayers 12, 12 'were formed of a nonmagnetic Ni-based alloy such as Hastelloy C, Inconel, Alloy GDS, Alloy 20Cb3 (all trade names) as a sputter target.
【0035】[実施例2]次に、図1に示す構造と同様
な構造を持つ本発明の第2の実施例の形成方法を説明す
る。[Embodiment 2] Next, a description will be given of a forming method according to a second embodiment of the present invention having a structure similar to the structure shown in FIG.
【0036】(1)外径130mm、内径40mm、厚
さ1.27mmのAl合金基板の表面に15μmの非磁
性Ni−11wt%Pメッキ層を形成して非磁性基板1
1を形成する。(1) A 15 μm non-magnetic Ni-11 wt% P plating layer is formed on the surface of an Al alloy substrate having an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 40 mm and a thickness of 1.27 mm.
Form one.
【0037】(2)前述で形成した非磁性基板11上
に、インライン型のDCマグネトロンスパッタ装置を用
い、基板加熱温度200℃、Arガス圧力3mTor
r、投入電力3W/cm2で、膜厚50nmのNi−1
7wt%Mo−16wt%Cr−4wt%W−5wt%
Fe合金による非磁性下地層12、12’を形成する。(2) On the non-magnetic substrate 11 formed above, using an in-line type DC magnetron sputtering apparatus, a substrate heating temperature of 200 ° C. and an Ar gas pressure of 3 mTorr.
r, input power 3 W / cm 2 , and 50 nm thick Ni-1
7wt% Mo-16wt% Cr-4wt% W-5wt%
Non-magnetic underlayers 12 and 12 'made of an Fe alloy are formed.
【0038】(3)次に、前述と同様にして、膜厚60
nmのCo−10at%Cr−4at%Ta、Co−1
0at%Cr−4at%Pt、または、Co−9at%
Cr−4at%Ta−2at%Ptの合金磁性膜13、
13’を形成する。(3) Next, a film thickness of 60
nm Co-10 at% Cr-4 at% Ta, Co-1
0 at% Cr-4 at% Pt or Co-9 at%
Cr-4 at% Ta-2 at% Pt alloy magnetic film 13,
13 'is formed.
【0039】(5)その後、膜厚25nmのCからなる
非磁性保護被覆層14、14’を形成し、固体潤滑剤を
4nm厚さに被覆して磁気ディスクとする。(5) Thereafter, nonmagnetic protective coating layers 14 and 14 'made of C having a thickness of 25 nm are formed, and a solid lubricant is coated to a thickness of 4 nm to obtain a magnetic disk.
【0040】前述した本発明の第2の実施例による磁気
ディスクの保磁力Hcを測定したところ、いずれも保磁
力は1400Oe以上であった。When the coercive force Hc of the magnetic disk according to the second embodiment of the present invention was measured, the coercive force was 1400 Oe or more in all cases.
【0041】図2は前述した本発明の第1、第2の実施
例による磁気記録媒体を使用した磁気記憶装置の構成を
説明する図であり、(a)は平面図、(b)は断面図であ
る。図2において、41は磁気記録媒体、42は磁気記
録媒体駆動部、43は磁気ヘッド、44は磁気ヘッド駆
動部、45は記録再生信号処理系である。FIGS. 2A and 2B are views for explaining the configuration of a magnetic storage device using the magnetic recording media according to the first and second embodiments of the present invention described above. FIG. 2A is a plan view, and FIG. FIG. In FIG. 2, 41 is a magnetic recording medium, 42 is a magnetic recording medium drive, 43 is a magnetic head, 44 is a magnetic head drive, and 45 is a recording / reproducing signal processing system.
【0042】図2に示す磁気記憶装置は、前述した本発
明の第1または第2の実施例による磁気ディスクを磁気
記録媒体41として使用したもので、この磁気記録媒体
41を1〜9枚組み込んだディスク部と、磁気コアの一
部に膜厚2μmのFe−Al−Si−Ruあるいは膜厚
16μmのCo−Nb−Zrを用い、メタルインギャッ
プ型あるいは薄膜型に形成された磁気ヘッド43とによ
り構成されている。そして、ディスク部は、磁気記録媒
体駆動部42により回転駆動され、磁気ヘッド43は、
磁気ヘッド駆動部44により駆動されるように構成され
ている。The magnetic storage device shown in FIG. 2 uses the magnetic disk according to the first or second embodiment of the present invention as the magnetic recording medium 41, and incorporates one to nine magnetic recording media 41. A magnetic head 43 formed of a metal-in-gap type or a thin-film type using Fe-Al-Si-Ru or Co-Nb-Zr having a thickness of 2 m for a part of the magnetic core and a part of the magnetic core. It consists of. The disk unit is rotated by the magnetic recording medium driving unit 42, and the magnetic head 43 is
It is configured to be driven by the magnetic head driving unit 44.
【0043】前述した磁気記憶装置は、コ−ティング等
の従来型の塗布による磁気記録媒体、Co−Ni合金に
よる連続媒体等を用いて構成した磁気記録媒体を使用し
た装置に比べ、1.5倍以上の大容量の記録が可能であ
る。The above-described magnetic storage device is 1.5 times smaller than a device using a magnetic recording medium formed by using a conventional magnetic recording medium such as a coating or a continuous medium made of a Co-Ni alloy. It is possible to record twice as much data.
【0044】[0044]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、高
密度の面内磁気記録を行うために最適な磁気特性を磁性
層に与えることが可能となり、大容量の記憶が可能な磁
気記録媒体を提供することができ、大容量の記憶装置を
提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic layer with optimum magnetic characteristics for performing high-density in-plane magnetic recording, and a magnetic recording capable of storing a large capacity. A medium can be provided, and a large-capacity storage device can be provided.
【図1】本発明の実施例による磁気記録媒体の構造を示
す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.
【図2】磁気記憶装置の構成を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of a magnetic storage device.
11 基板 12、12’ 下地層 13、13’ 磁性層 14、14’ 保護被覆層 41 磁気記録媒体 42 磁気記録媒体駆動部 43 磁気ヘッド 44 磁気ヘッド駆動部 45 記録再生信号処理系 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Substrate 12, 12 'Underlayer 13, 13' Magnetic layer 14, 14 'Protective coating layer 41 Magnetic recording medium 42 Magnetic recording medium drive 43 Magnetic head 44 Magnetic head drive 45 Recording / reproducing signal processing system
Claims (4)
V,Nb,Ta,Cr,Mo,Mn,Fe,Co,C
u,Al,Siからなる群から選ばれた少なくとも1つ
の元素をNiに添加した非磁性合金からなる下地層と、
該下地層上に設けたコバルト基合金磁性層とを備えて構
成されることを特徴とする磁気記録媒体。1. A hard substrate, and Ti,
V, Nb, Ta, Cr, Mo, Mn, Fe, Co, C
an underlayer made of a nonmagnetic alloy obtained by adding at least one element selected from the group consisting of u, Al, and Si to Ni;
A magnetic recording medium comprising: a cobalt-based alloy magnetic layer provided on the underlayer.
mであることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒
体。2. The underlayer has a thickness of 20 to 90 n.
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein m is m.
あるいは白金から選ばれる少なくとも1つの元素を含有
していることを特徴とする請求項1または2記載の磁気
記録媒体。3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the cobalt-based alloy magnetic layer contains at least one element selected from tantalum and platinum.
動部と、磁気ヘッド及びその駆動手段と、磁気ヘッドの
記録再生信号処理手段とを備えて構成される磁気記憶装
置において、前記磁気記録媒体として、請求項1ないし
3のうち1記載の磁気記録媒体を使用することを特徴と
する磁気記憶装置。4. A magnetic storage device comprising a magnetic recording medium, a drive unit for rotating the magnetic recording medium, a magnetic head and its driving means, and a recording / reproducing signal processing means for the magnetic head. A magnetic storage device using the magnetic recording medium according to claim 1 as a medium.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11269866A JP2000076647A (en) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | Magnetic recording medium and magnetic storage device |
Applications Claiming Priority (1)
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JP11269866A JP2000076647A (en) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | Magnetic recording medium and magnetic storage device |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3056495A Division JP3052406B2 (en) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | Magnetic recording medium and magnetic storage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000076647A true JP2000076647A (en) | 2000-03-14 |
Family
ID=17478309
Family Applications (1)
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JP11269866A Pending JP2000076647A (en) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | Magnetic recording medium and magnetic storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2000076647A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6942936B2 (en) | 2002-08-14 | 2005-09-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Perpendicular magnetic recording medium and magnetic recording/reproduction apparatus |
JP2009158053A (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | Magnetic recording medium for tilt recording, and method for manufacturing the same |
-
1999
- 1999-09-24 JP JP11269866A patent/JP2000076647A/en active Pending
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JP2009158053A (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | Magnetic recording medium for tilt recording, and method for manufacturing the same |
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