JP2000075124A - Color filter, its production and liquid crystal display device using the color filter - Google Patents

Color filter, its production and liquid crystal display device using the color filter

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JP2000075124A
JP2000075124A JP24494598A JP24494598A JP2000075124A JP 2000075124 A JP2000075124 A JP 2000075124A JP 24494598 A JP24494598 A JP 24494598A JP 24494598 A JP24494598 A JP 24494598A JP 2000075124 A JP2000075124 A JP 2000075124A
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JP
Japan
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black matrix
color filter
layer
paste
transparent substrate
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JP24494598A
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Japanese (ja)
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Masaharu Taniguchi
雅治 谷口
Takeshi Tanaka
剛 田中
Haruki Nonaka
晴支 野中
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a color filter of high quality without color mixing at a low cost by continuously injecting a paste through narrow nozzles to form a stripe pattern on a transparent substrate having a black matrix which is produced by depositing an uncured resin layer on a light-shielding film. SOLUTION: The transparent substrate 1 used has a black matrix of a multilayered structure including a light-shielding layer as the lower layer and an uncured resin layer as the upper layer. The sprue 2 has plural nozzles 4a to 4c, and a paste 3 is supplied through a paste supply port 6, injected through the narrow nozzles 4a and 4c and applied among the black matrices on the transparent substrate 1 to form a stripe pattern. The forming method of the black matrix is not limited, and in order to prevent mixing of colors and to obtain projections having a function as a spacer, an uncured resin layer of preferably >=2 μm, more preferably 3 to 15 μm thickness is formed as the upper layer of the light-shielding layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スペーサー機能を
有するカラーフィルターおよびその製造方法と該カラー
フィルターを使用する液晶表示装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter having a spacer function, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display using the color filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、使用されているカラー液晶表示装
置は、液晶層の厚み(セルギャップ)を保持するため
に、一般に薄膜トランジスタ(TFT)や複数の走査電
極等を配した電極基板とカラーフィルター基板との間に
画素部ではプラスチックビーズ、額縁部ではガラス繊維
からなるスペーサーを散布して、製造している。これら
のスペーサーは液晶表示装置の表示品位を低下させるこ
とから、カラーフィルターのブラックマトリックス上に
スペーサー機能を有する突起を形成させて、このカラー
フィルターを使用し、従来のスペーサーを使用しない液
晶表示装置が提案され、特開昭56−140324号公
報、特開昭63−824054号公報、特開平4−93
924号公報、特開平5−196946号公報にはカラ
ーフィルターを形成する着色層を重ね合わせた構造をス
ペーサーとして用いた液晶表示装置が提案されている。
ブラックマトリックス上にスペーサー機能を有する突起
を形成したカラーフィルターの製造方法として、これら
の提案は、カラーフィルターを形成してから、改めてス
ペーサー機能を有する突起をフォトリソ加工して形成す
る方法に比較して工程が短縮される利点を有している
が、予めフォトリソグラフィ法で作製されたブラックマ
トリックスを有する透明基板上に赤、青、緑の各カラー
ペーストを順次、塗布・フォトリソ加工して各画素を形
成していくという従来のカラーフィルターの工程に突起
形成の複雑性を加える結果となっている。
2. Description of the Related Art In order to maintain the thickness (cell gap) of a liquid crystal layer, a color liquid crystal display device conventionally used generally includes an electrode substrate on which a thin film transistor (TFT) and a plurality of scanning electrodes are arranged, and a color filter. It is manufactured by spraying a plastic bead in the pixel portion and a glass fiber spacer in the frame portion between the substrate and the substrate. Since these spacers lower the display quality of the liquid crystal display device, a projection having a spacer function is formed on the black matrix of the color filter, and a liquid crystal display device using this color filter and no conventional spacer is used. Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Sho 56-140324, Sho 63-82405, and Hei 4-93
JP-A-924 and JP-A-5-196946 propose a liquid crystal display device using a structure in which colored layers forming a color filter are overlapped as a spacer.
As a method of manufacturing a color filter in which protrusions having a spacer function are formed on a black matrix, these proposals are compared with a method of forming a color filter and then forming the protrusions having a spacer function by photolithography. Although this method has the advantage of shortening the process, red, blue, and green color pastes are sequentially applied and photolithographically processed on a transparent substrate having a black matrix prepared in advance by a photolithography method to form each pixel. This results in adding the complexity of projection formation to the conventional color filter process of forming.

【0003】一方、一般的なカラーフィルターの製造方
法における煩雑性を避けるための合理的なカラーフィル
ターの製造方法として、インキジェット方式で着色イン
キを吹き付けて着色層を形成することが提案されている
(特開昭59−75205号公報)。この方法では各色
間の混色を避けるためにインキに対して濡れ性の悪い物
質であらかじめ境界となる凸部を形成しておく方法や、
さらには濡れ性の良い物質で着色部を濡らしておく方法
が提案されている(特開平9−203803号公報)。
しかしながら、インキジェット方式により着色層を形成
するカラーフィルターの製造はインキの制約が大きく、
実用的には水系の顔料分散インキ、あるいは染料インキ
を使用する必要があることから、画素の平坦性や耐薬品
性や耐光性に問題点が多く、さらには各色間の部分的な
混色を避けることが難しかった。
On the other hand, as a rational method of manufacturing a color filter to avoid complexity in a general method of manufacturing a color filter, it has been proposed to spray a colored ink by an ink jet method to form a colored layer. (JP-A-59-75205). In this method, in order to avoid color mixing between colors, a method is used in which a convex portion serving as a boundary is formed in advance with a substance having poor wettability to ink,
Further, a method has been proposed in which a colored portion is wetted with a substance having good wettability (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-203803).
However, the production of a color filter that forms a colored layer by an ink jet method is largely restricted by ink.
Practically, it is necessary to use water-based pigment dispersion ink or dye ink, so there are many problems in pixel flatness, chemical resistance and light resistance, and avoid partial color mixing between each color It was difficult.

【0004】これらの問題点を改良するカラーフィルタ
ーの製造方法として、透明な基板上に複数のスリットが
形成されたダイを通して、カラーインキあるいはカラー
ペーストを押し出し、所望のパターンを得る製造方法が
提案された(特開平5−11105号公報、特開平5−
142407号公報)。しかしながら、これらの製造方
法においても、各色間の部分的な混色を避けることは基
本的に難しかった。
As a method of manufacturing a color filter which solves these problems, a method of extruding a color ink or a color paste through a die having a plurality of slits formed on a transparent substrate to obtain a desired pattern has been proposed. (JP-A-5-11105, JP-A-5-105105)
No. 142407). However, even in these manufacturing methods, it was basically difficult to avoid partial color mixing between the colors.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる技術
の諸欠点に鑑み、創案されたもので、その目的とすると
ころは、インキジェット方式の利点を活かしつつ、従来
のフォトリソ法に適用するカラーペーストあるいはイン
キが使用でき、かつ部分的混色が生じない塗布方法を提
供するとともに、 スペーサーの機能を有する突起を有
するカラーフィルターの簡便な製造方法を提供するもの
である。また該方法で製造されたカラーフィルター、該
カラーフィルターを使用する液晶表示装置を提供するも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the art, and has as its object to be applied to a conventional photolithography method while taking advantage of the ink jet method. An object of the present invention is to provide a coating method that can use a color paste or ink and does not cause partial color mixing, and also provides a simple method of manufacturing a color filter having a projection having a spacer function. Another object of the present invention is to provide a color filter manufactured by the method and a liquid crystal display device using the color filter.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の構成によって達成できる。すなわち、下層が樹脂
ブラックマトリックスあるいは金属系のブラックマトリ
ックスであり、上層が未硬化樹脂層からなる復層構造の
ブラックマトリックスを有する透明基板上に、複数個の
細孔ノズルを有する口金から連続的にペーストを吐出塗
布して、ストライプパターンを形成する工程を含むこと
を特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 さ
らに本発明のカラーフィルターは該方法で製造されたカ
ラーフィルターであり、液晶表示装置は、該カラーフィ
ルタを使用する液晶表示装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is as follows.
This can be achieved by the following configuration. That is, the lower layer is a resin black matrix or a metal-based black matrix, and the upper layer is continuously formed from a die having a plurality of pore nozzles on a transparent substrate having a black matrix having a multilayer structure composed of an uncured resin layer. A method for manufacturing a color filter, comprising a step of forming a stripe pattern by discharging and applying a paste. Further, the color filter of the present invention is a color filter manufactured by the method, and the liquid crystal display device is a liquid crystal display device using the color filter.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】図1は、本発明において使用され
る細孔ノズルを有する口金の概念図であり、口金2は、
複数のノズル4a、4b、4cを有する。ペースト供給
口6からペースト3が供給される。図2は細孔ノズル4
からペースト3を吐出し透明基板1上のブラックマトリ
ックス5間に塗布する様子を示すものである。図3は図
1の口金を使用したペーストの塗布例を示すもので、透
明基板上1のブラックマトリックス5の間に、細孔ノズ
ル4を有する口金2a、2b、2cにより3色のペース
トが塗布される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a conceptual view of a base having a fine hole nozzle used in the present invention.
It has a plurality of nozzles 4a, 4b, 4c. The paste 3 is supplied from the paste supply port 6. FIG. 2 shows the pore nozzle 4
3 shows a state in which the paste 3 is discharged from the substrate 1 and applied between the black matrices 5 on the transparent substrate 1. FIG. 3 shows an example of application of the paste using the die of FIG. 1. A paste of three colors is applied between the black matrix 5 on the transparent substrate 1 by the die 2a, 2b, 2c having the pore nozzle 4. Is done.

【0008】本発明において使用される複数個の細孔ノ
ズルを有する口金としては、図4に示されるごときスリ
ットダイ全面塗布において使用される、スリット状態の
口金に代えて細孔ノズルを配列した口金が好ましく挙げ
られる。。スリットダイ塗布は透明基板あるいは口金の
駆動とペースト吐出を自動制御することで枚葉全面塗布
が可能であり、同様に本発明の口金を使用することでス
トライプの枚葉塗布も可能となる。
As a die having a plurality of fine nozzles used in the present invention, a fine die having a plurality of fine nozzles arranged in place of a slit in a slit state, as shown in FIG. Are preferred. . The slit die coating can be applied to the entire surface of a single wafer by automatically controlling the driving of the transparent substrate or the base and the discharge of the paste, and similarly, the single base can be applied to the stripe by using the base of the present invention.

【0009】口金の幅としては基板幅とほぼ同様長さで
あることが好ましいが、多数回のスキャンを適用するこ
とで、短い幅のものも可能となる。細孔ノズルの配置と
しては透明基板の画素ストライプに対応するものであ
り、3色を一挙に塗布するような口金の設計も可能であ
るが、レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の
3種の口金を準備し、各色を3ピッチごとに順次凹部に
塗布し、3色のストライプを形成させる手法が容易であ
る。細孔ノズルの大きさとしては円形ノズルの場合で通
常は内径5〜100μ、好ましくは10〜80μであ
る。ノズルの形状は特に限定されるものではなく、適宜
ペーストの性状や、塗布形態に応じて選択されるもので
ある。
The width of the base is preferably substantially the same as the width of the substrate. However, by applying a large number of scans, a short width is possible. The arrangement of the pore nozzles corresponds to the pixel stripes on the transparent substrate, and it is possible to design a die that applies all three colors at once. However, red (R), green (G), and blue (B) 3) is easy to prepare three types of bases, sequentially apply each color to the concave portion at every three pitches, and form stripes of three colors. The size of the pore nozzle is usually 5 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm in the case of a circular nozzle. The shape of the nozzle is not particularly limited, and is appropriately selected according to the properties of the paste and the application form.

【0010】本発明のカラーフィルター製造において使
用される透明基板としては、下層に遮光層、上層に未硬
化樹脂層を有する復層構造のブラックマトリックスを配
した透明基板であり、ブラックマトリックスの形成方法
としては、例えば、金属クロム膜や金属クロムと酸化ク
ロムを積層したもの、またはカーボンブラック、チタン
ブラック等の黒色顔料と樹脂からなる黒色層を形成し、
これにフォトレジストを塗布、画素部のレジストをフォ
トリソ法で取り除き、エッチングによって金属クロム等
の層を取り除く方法がある。また、コスト的に有利な方
法としてカーボンブラック、チタンブラック等の黒色顔
料と光硬化性樹脂を含む材料による黒色膜を形成し、こ
れをフォトリソ法によって所望のパターン化を行う方法
もある。
The transparent substrate used in the production of the color filter of the present invention is a transparent substrate having a black matrix having a multilayer structure having a light-shielding layer as a lower layer and an uncured resin layer as an upper layer. As, for example, a metal chromium film or a laminate of metal chromium and chromium oxide, or carbon black, a black layer formed of a resin such as a black pigment such as titanium black,
There is a method in which a photoresist is applied thereto, the resist in the pixel portion is removed by a photolithography method, and a layer of metal chromium or the like is removed by etching. Further, as a method advantageous in cost, there is a method of forming a black film made of a material containing a black pigment such as carbon black and titanium black and a photocurable resin, and subjecting the black film to a desired patterning by a photolithography method.

【0011】本発明において、ブラックマトリックスの
形成方法は特に限定されないが、各色の混色を防止する
ために、またスペーサー機能を有する突起を得るため
に、遮光層の上層に好ましくは2μm以上、さらに好ま
しくは3〜15μmの未硬化樹脂層を有することが必要
である。このような未硬化樹脂層の形成はブラックマト
リックスの上にさらにもう1層以上の樹脂層をフォトリ
ソ加工して得ることもできるが、経済的には複層の塗膜
を形成した後、1回のフォトリソ加工で複層のブラック
マトリックスを得ることが好ましく、後の工程において
複層間の現像性の差を利用して、上層のみの加工を行う
ことが可能である。この手法を適用するためには、ポリ
イミド、あるいはポリイミド前駆体(ポリアミック酸)
樹脂ブラックマトリックスが有効に使用できる。
In the present invention, the method of forming the black matrix is not particularly limited, but is preferably 2 μm or more, more preferably, 2 μm or more on the light-shielding layer in order to prevent color mixing and to obtain projections having a spacer function. Needs to have an uncured resin layer of 3 to 15 μm. Such an uncured resin layer can be formed by photolithography of at least one more resin layer on the black matrix. However, economically, after forming a multi-layer coating film, once It is preferable to obtain a multilayer black matrix by photolithography, and it is possible to process only the upper layer by utilizing the difference in developability between multiple layers in a later step. In order to apply this method, polyimide or polyimide precursor (polyamic acid)
A resin black matrix can be used effectively.

【0012】本発明の有効な適用例として、具体的に
は、下層に硬化した樹脂ブラックマトリックスあるいは
金属系のブラックマトリックスを配し、上層に表層に未
露光部であるポジ型レジスト付きの未硬化樹脂を配し、
カラーストライプパターンを形成した後に、このレジス
ト層付きの未硬化樹脂をフォトリソ法で加工する方法が
好ましく挙げられ、セル組み時のスペーサー機能を付与
することもでき好ましい。
As an effective application example of the present invention, specifically, a cured resin black matrix or a metal-based black matrix is disposed in a lower layer, and an uncured resin with a positive type resist which is an unexposed portion on a surface layer is disposed in an upper layer. Distribute resin,
After forming the color stripe pattern, a method in which the uncured resin with the resist layer is processed by a photolithography method is preferably mentioned, and a spacer function at the time of cell assembly is preferably provided.

【0013】また、下層に樹脂ブラックマトリックスあ
るいは金属系のブラックマトリックスを配し上層にネガ
型感光性レジストを配し、このブラックマトリックスを
有する基板上に、カラーストライプパターンを形成した
後にフォトリソ法で加工しセル組み時のスペーサー機能
を有する突起部を形成させる方法も好ましく挙げること
ができる。
Further, a resin black matrix or a metal black matrix is disposed in a lower layer, a negative photosensitive resist is disposed in an upper layer, and a color stripe pattern is formed on a substrate having the black matrix, and then processed by a photolithography method. A method of forming a projection having a spacer function at the time of cell assembly can also be preferably mentioned.

【0014】セル組み時のスペーサー機能を付与するこ
れらの方法においては、特にポジ型フォトレジスト層付
き樹脂層あるいはネガ型感光性樹脂層の厚みを3〜15
μmと厚くする必要があり、これはストライプパターン
の混色を防止するためにも有効である。
In these methods for imparting a spacer function when assembling cells, the thickness of the resin layer having a positive photoresist layer or the thickness of the negative photosensitive resin layer is preferably 3 to 15 mm.
The thickness must be as thick as μm, which is also effective for preventing color mixing of the stripe pattern.

【0015】なお各色間の混色を避けるために、ペース
トに対して濡れ性の悪い物質であらかじめ境界となる凸
部をブラックマトリックス間に形成しておく方法や、さ
らには濡れ性の良い物質で着色部を濡らしておく方法が
適用されても良い。
In order to avoid color mixture between the colors, a method is used in which a convex portion serving as a boundary is formed in advance between black matrices with a material having poor wettability to the paste, or a color is formed using a material having good wettability. A method of keeping the part wet may be applied.

【0016】また、本発明において使用されるペースト
の構成や性状は特に限定されるものではないが、有機溶
剤と樹脂成分、顔料成分から主としてなるカラーペース
トがレベリング性の見地から好ましく使用される。また
本発明において使用されるブラックマトリックス上層の
未硬化樹脂成分としては着色後のフォトリソ工程を考慮
し、アルカリ現像が適用でき、加熱によって硬化する
か、または紫外線などのエネルギー線によって硬化する
樹脂成分を使用することが好ましい。
The composition and properties of the paste used in the present invention are not particularly limited, but a color paste mainly composed of an organic solvent, a resin component and a pigment component is preferably used from the viewpoint of leveling properties. Further, as the uncured resin component of the black matrix upper layer used in the present invention, in consideration of the photolithography process after coloring, alkali development can be applied, and a resin component that is cured by heating or cured by energy rays such as ultraviolet rays. It is preferred to use.

【0017】加熱によって硬化する成分としては、各種
熱硬化性樹脂を広く使用することができる。中でもポリ
イミド前駆体であるポリアミック酸が好ましく使用さ
れ、脂肪族エーテルジアミン成分を原料成分とする低温
硬化ポリイミド前駆体は特に好ましく使用される。エネ
ルギー線あるいは熱によって硬化する成分としては例え
ば多価アクリレート類、多価メタアクリレート類と光反
応開始剤、必要に応じてアクリル樹脂成分等の組み合わ
せを挙げることができる。
As the component which is cured by heating, various thermosetting resins can be widely used. Above all, a polyamic acid as a polyimide precursor is preferably used, and a low-temperature curing polyimide precursor using an aliphatic ether diamine component as a raw material component is particularly preferably used. Examples of the component that is cured by energy rays or heat include a combination of a polyvalent acrylate, a polyvalent methacrylate and a photoreaction initiator, and, if necessary, an acrylic resin component.

【0018】また、未硬化樹脂成分はフィラーとして、
硫酸バリウムやシリカ粉末、カーボンブラック、チタン
ブラックさらにはその他の有機無機顔料成分等を含んで
いても良い。
The uncured resin component is used as a filler.
It may contain barium sulfate, silica powder, carbon black, titanium black, and other organic and inorganic pigment components.

【0019】本発明のカラーフィルターは、上記製造方
法により製造されるカラーフィルターであり、複数個の
細孔ノズルを有する口金から連続的にペーストを吐出塗
布して順次、あるいは一挙にRGB3色のストライプパ
ターンを塗布、画素を形成することにより得られる3色
のカラーフィルターである。このカラーフィルターは、
液晶表示素子、エレクトリッククロミック表示素子、P
LZT等と組み合わせて表示素子として用いられる。カ
ラーカメラやその他のカラーフィルターを用いる用途に
も用いることができる。
The color filter of the present invention is a color filter manufactured by the above-described manufacturing method. The color filter is formed by successively discharging and applying paste from a die having a plurality of fine-hole nozzles, or sequentially or all at once. These are three color filters obtained by applying a pattern and forming pixels. This color filter is
Liquid crystal display element, electric chromic display element, P
Used as a display element in combination with LZT or the like. It can also be used for applications using color cameras and other color filters.

【0020】本発明の液晶表示装置は、上記したカラー
フィルターを使用した液晶表示装置であり、例えば、カ
ラーフィルターのITO層上にポリイミド系の配向膜を
設け、ラビング処理を施し、同様に対向する薄膜トラン
ジスタを備えた液晶表示素子用基板についてもポリイミ
ド系の配向膜を設け、ラビング処理を施し、この2枚の
基板を周辺額縁部のブラックマトリックスに塗布したシ
ール剤で貼り合わせ、シール部に設けられた注入口から
液晶を入れた後、注入口を封止し、得られた液晶注入セ
ルの両側に偏光板を貼付けて作製することができる。
The liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device using the above-described color filter. For example, a polyimide-based alignment film is provided on the ITO layer of the color filter, rubbed and subjected to rubbing. A liquid crystal display element substrate having a thin film transistor is also provided with a polyimide-based alignment film, subjected to a rubbing treatment, and the two substrates are attached to each other with a sealing agent applied to a black matrix in a peripheral frame portion. After the liquid crystal is introduced from the injection port, the injection port is sealed, and a polarizing plate is attached to both sides of the obtained liquid crystal injection cell.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below.

【0022】なお、実施例中で使用されるポリイミド前
駆体溶液、黒色ペースト、着色ペーストは予め、次の方
法で作製されたものとする。
The polyimide precursor solution, black paste, and colored paste used in the examples were prepared in advance by the following method.

【0023】1.ポリイミド前駆体溶液A 4,4´−ジアミノジフェニルエーテル 210.2
g、3,3´ージアミノジフェニルスルフォン69.5
gおよびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン 17.4gをγーブチロラクトン3825g
とともに仕込み、これを攪拌しながら、ピロメリット酸
2無水物149.6gおよび 3,3´,4,4´−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物 225.5g
を添加し、60℃で3時間攪拌した後、無水マレイン酸
2.75gを加え、さらに60℃で2時間攪拌し、15
重量%のポリイミド前駆体溶液Aを製造した。
1. Polyimide precursor solution A 4,4'-diaminodiphenyl ether 210.2
g, 3,3 'diaminodiphenyl sulfone 69.5
g and bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane (17.4 g) in 3825 g of γ-butyrolactone
While stirring, 149.6 g of pyromellitic dianhydride and 225.5 g of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride
Was added and stirred at 60 ° C. for 3 hours. Then, 2.75 g of maleic anhydride was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours.
% By weight of a polyimide precursor solution A was prepared.

【0024】2.ポリイミド前駆体溶液B 3,9−ビス(3−アミノプロピル)ー2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン754.6
g、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル 275.
4g、3,3´ージアミノジフェニルスルフォン27
3.1gおよびビス(3−アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサン 68.3gをγーブチロラクトン62
06.4g、N−メチルー2−ピロリドン6206.4
gとともに仕込み、これを攪拌しながら、4,4´ーオ
キシージフタル酸853.2gおよび3,3´,4,4
´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物 86
7.8gを添加し、60℃で3時間攪拌した後、無水マ
レイン酸10.8gを加え、さらに60℃で2時間攪拌
し、15重量%のポリイミド前駆体溶液Bを製造した。
2. Polyimide precursor solution B 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,1
0-tetraoxaspiro [5,5] undecane 754.6
g, 4,4'-diaminodiphenyl ether 275.
4 g, 3,3 'diaminodiphenyl sulfone 27
3.1 g and 68.3 g of bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane were added to γ-butyrolactone 62
06.4 g, N-methyl-2-pyrrolidone 6206.4
g, 853.2 g of 4,4'-oxydiphthalic acid and 3,3 ', 4,4
'-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride 86
After adding 7.8 g and stirring at 60 ° C. for 3 hours, 10.8 g of maleic anhydride was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours to prepare a 15% by weight polyimide precursor solution B.

【0025】3.黒色ペースト 下記の組成を有するカーボンブラックミルベースをダイ
ノミルを用いて、1500rpm で2時間分散し、黒色ペ
ーストを調製した。黒色ペーストの粘度は、28cPで
あり、降伏値は3.0×10-4Paであった。
3. Black paste A carbon black mill base having the following composition was dispersed at 1500 rpm for 2 hours using a Dynomill to prepare a black paste. The viscosity of the black paste was 28 cP, and the yield value was 3.0 × 10 −4 Pa.

【0026】 カーボンブラック(PH値2.8、平均1次粒径28nm、 平均2次粒径55nm、ファーネストブラック) 92部 ポリイミド前駆体溶液A 460部 N−メチルピロリドン 1200部 ジルコニアビーズ 2000部 4.着色ペースト 赤、緑、青の顔料として各々Color Index No.65300 Pig
ment Red 177で示されるジアントラキノン系顔料、Colo
r Index No.74265 Pigment Green 36 で示されるフタロ
シアニングリーン系顔料Color Index No.74160 Pigment
Blue 15-4で示されるフタロシアニンブルー系顔料を用
意した。
Carbon black (PH value 2.8, average primary particle size 28 nm, average secondary particle size 55 nm, furnace black) 92 parts Polyimide precursor solution A 460 parts N-methylpyrrolidone 1200 parts Zirconia beads 2000 parts 4 . Coloring paste Color Index No.65300 Pig as red, green and blue pigments respectively
Colo, a dianthraquinone pigment represented by ment Red 177
r Index No.74265 Pigment Green 36, a phthalocyanine green pigment represented by Color Index No.74160 Pigment
A phthalocyanine blue pigment represented by Blue 15-4 was prepared.

【0027】ポリイミド前駆体溶液Bに上記顔料を各々
混合分散させて、赤、緑、青の3種類の着色ペーストを
得た。
The above pigments were mixed and dispersed in the polyimide precursor solution B to obtain three kinds of colored pastes of red, green and blue.

【0028】実施例1 無アルカリガラス(日本電気ガラス(株)製、”OA−
2”)基板上に、図4に示されるスリットダイを使用し
て、黒色ペーストを塗布、130℃で20分間乾燥し
て、1.5μm膜厚みの黒色塗膜を得た。この塗膜の上
に同様にポリイミド前駆体溶液Bをスリットダイ塗布乾
燥して5.5μm厚みの塗膜を形成した。
Example 1 Alkali-free glass ("OA-", manufactured by NEC Corporation)
2 ″) A black paste was applied on the substrate using a slit die shown in FIG. 4 and dried at 130 ° C. for 20 minutes to obtain a black coating having a thickness of 1.5 μm. Similarly, the polyimide precursor solution B was coated with a slit die and dried to form a coating film having a thickness of 5.5 μm.

【0029】この後、ポジ型レジスト(Shipley “micr
oposit" RC100 30cp )をスピナーで乾燥後の厚みが
1.5μmとなるように塗布後、80℃、20分乾燥し
た。キャノン(株)製露光機PLA−501Fを用い、
ブラックマトリックス用のフォトマスクを介して露光
し、アルカリ現像液(Shipley `microposit" 351)で
ポジ型レジストの現像およびポリイミド前駆体と黒色塗
膜のエッチングを同時に行なった。このようにして、複
層ブラックマトリックス層の厚み6.5μm、およびレ
ジスト層の厚みが1.5μmで、開口部が縦方向240
μm、横方向80μmの格子状ブラックマトリックスを
設けた。 この樹脂ブラックマトリックス上の透明凹部
に図1のモデルに示されるような複数個の細孔ノズルを
有する口金を使用して、緑ペーストをストライプ塗布し
た。100℃で20分間熱処理して、緑色のストライプ
画素を形成させた後、同様にして、ストライプ状の赤、
青色の画素を、3色の画素間隔が10μmになるように
形成した。このようにして得られた3色のストライプ画
素を有する基板を、メチルセロソルブアセテートで処理
して、残存レジスト層を剥離した。
Thereafter, a positive resist (Shipley “micr”
oposit "RC100 30cp) was applied with a spinner to a thickness of 1.5 μm after drying, and dried at 80 ° C. for 20 minutes. Using an exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc.,
Exposure was performed through a photomask for a black matrix, and the development of a positive resist and the etching of the polyimide precursor and the black coating film were simultaneously performed with an alkali developing solution (Shipley @microposit "351). The thickness of the black matrix layer is 6.5 μm, the thickness of the resist layer is 1.5 μm, and the opening is 240 μm in the vertical direction.
A grid-like black matrix of μm and a horizontal direction of 80 μm was provided. A green paste was applied in stripes to the transparent concave portions on the resin black matrix by using a die having a plurality of fine nozzles as shown in the model of FIG. After a heat treatment at 100 ° C. for 20 minutes to form a green striped pixel, similarly, a striped red,
Blue pixels were formed such that the pixel spacing of the three colors was 10 μm. The substrate having the stripe pixels of three colors obtained in this manner was treated with methyl cellosolve acetate to remove the remaining resist layer.

【0030】この基板に再びポジ型レジストを塗布乾燥
した後、キャノン(株)製露光機PLA−501Fを用
い、フォトマスクを介して、ブラックマトリックス上に
スペーサー機能を有する突起部分と画素部を残して、露
光、現像性の良いブラックマトリックス上のポリイミド
前駆体層のみをアルカリ現像し、次いでメチルセロソル
ブアセテートで処理して、残存レジスト層を剥離した
後、250℃で20分間熱処理して画素部および突起を
有するブラックマトリックス部を硬化させた。
After this substrate is coated with a positive resist again and dried, an exposure unit PLA-501F manufactured by Canon Inc. is used to leave a projection portion having a spacer function and a pixel portion on a black matrix via a photomask through a photomask. Then, only the polyimide precursor layer on the black matrix with good exposure and developability is alkali-developed, then treated with methyl cellosolve acetate, and the remaining resist layer is peeled off. The black matrix part having the protrusion was cured.

【0031】次いで、スピンコーターでエポキシ樹脂系
のオーバーコート塗液を全面塗布、硬化させて1μmの
保護膜を有し、かつスペーサー機能を有する突起を持つ
カラーフィルター基板を得た。この上に導電膜として、
スパッタ法でITO層を形成させてカラーフィルターと
した。得られたカラーフィルターには混色などの欠点は
見られなかった。このカラーフィルターのITO層上に
ポリイミド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。
Next, an epoxy resin-based overcoat coating solution was applied on the entire surface by a spin coater and cured to obtain a color filter substrate having a protective film of 1 μm and having projections having a spacer function. On top of this, as a conductive film
An ITO layer was formed by a sputtering method to obtain a color filter. No defects such as color mixing were observed in the obtained color filter. A polyimide-based alignment film was provided on the ITO layer of the color filter, and a rubbing treatment was performed.

【0032】同様に対向する薄膜トランジスタを備えた
液晶表示素子用基板についてもポリイミド系の配向膜を
設け、ラビング処理を施した。この2枚の基板を周辺額
縁部のブラックマトリックスに塗布したシール剤で貼り
あわせた。
Similarly, a substrate for a liquid crystal display device having a thin film transistor opposed thereto was also provided with a polyimide-based alignment film and subjected to a rubbing treatment. The two substrates were bonded together with a sealant applied to a black matrix in a peripheral frame portion.

【0033】シール部に設けられた注入口から液晶を入
れた後、注入口を封止した。このようにして得られた液
晶注入セルの両側に偏光板を貼付けて液晶表示装置を作
製した。この液晶表示装置は良好な表示品位を示すもの
であった。
After the liquid crystal was introduced through the injection port provided in the seal portion, the injection port was sealed. A polarizing plate was stuck on both sides of the liquid crystal injection cell thus obtained to produce a liquid crystal display device. This liquid crystal display showed good display quality.

【0034】実施例2 無アルカリガラス(日本電気ガラス(株)製、”OA−
2”)基板上に、図4に示されるスリットダイを使用し
て黒色ペーストを塗布、120℃で20分間セミキュア
して、1.5μm厚みの黒色塗膜を得た。
Example 2 Alkali-free glass (manufactured by NEC Corporation, "OA-
2 ″) A black paste was applied to the substrate using the slit die shown in FIG. 4 and semi-cured at 120 ° C. for 20 minutes to obtain a black coating film having a thickness of 1.5 μm.

【0035】この塗膜上に同様の操作で5μm厚みのネ
ガ型レジスト(東レ(株)社試作品、アクリル系レジス
ト)膜を形成した。この後、ポジ型レジスト(Shipley
“ microposit" RC100 30cp )をスピナーで塗布後、
80℃20分乾燥した。キャノン(株)製露光機PLA
−501Fを用い、フォトマスクを介して露光し、アル
カリ現像液(Shipley `microposit" 351)でポジ型レ
ジストの現像およびネガ型レジストと黒色塗膜のエッチ
ングを同時に行なった後、120℃、20分熱風乾燥
し、メチルセロソルブアセテート処理して、残存ポジレ
ジストを剥離、マトリックス上のポジレジストを残した
厚み6.5μmで、開口部が縦方向240μm、横方向
80μmの格子状ブラックマトリックスを設けた。この
樹脂ブラックマトリックス上の透明凹部に図1のモデル
に示されるような複数個の細孔ノズルを有する口金を使
用して、緑ペーストをストライプ塗布した。120℃で
20分間熱処理して、緑色のストライプ画素を形成させ
た後、同様にして、ストライプ状の赤、青色の画素を、
3色の画素間隔が20μmになるように形成した。この
ようにして得られた3色のストライプ画素を有する基板
を120℃で20分間熱処理し、キャノン(株)製露光
機PLA−501Fを用い、フォトマスクを介してブラ
ックマトリックス上の突起相当部を露光した後、アルカ
リ水溶液で処理し、樹脂ブラックマトリックス上の突起
部を除くネガレジスト層のみを除いたあと、230℃で
30分間熱処理して、樹脂ブラックマトリックスとその
上の突起部および画素部を硬化させた。
A negative resist film (prototype of Toray Industries, Inc., acrylic resist) having a thickness of 5 μm was formed on the coating film by the same operation. After this, a positive resist (Shipley
After applying “microposit” RC100 30cp) with a spinner,
It was dried at 80 ° C. for 20 minutes. Exposure machine PLA manufactured by Canon Inc.
Exposure was performed through a photomask using -501F, and the development of a positive resist and the etching of a negative resist and a black coating film were simultaneously performed with an alkali developing solution (Shipley @microposit "351). After drying with hot air and treating with methyl cellosolve acetate, the remaining positive resist was peeled off, and a grid-like black matrix having a thickness of 6.5 μm with the positive resist remaining on the matrix, an opening of 240 μm in the vertical direction, and 80 μm in the horizontal direction was provided. The transparent paste on the resin black matrix was stripe-coated with a green paste using a die having a plurality of fine-hole nozzles as shown in the model of FIG. After the stripe pixels are formed, the stripe-shaped red and blue pixels are similarly
The pixels were formed so that the pixel spacing of the three colors was 20 μm. The substrate having the striped pixels of three colors obtained in this manner is heat-treated at 120 ° C. for 20 minutes, and a projection-equivalent portion on a black matrix is exposed through a photomask using an exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc. After exposure, the resin black matrix is treated with an aqueous alkali solution to remove only the negative resist layer excluding the protrusions on the resin black matrix, and then heat-treated at 230 ° C. for 30 minutes to remove the resin black matrix and the protrusions and pixel portions thereon. Cured.

【0036】次いで、スピンコーターでエポキシ樹脂系
のオーバーコート塗液を全面塗布、硬化させて2μmの
保護膜を有するカラーフィルター基板を得た。この上に
導電膜として、スパッタ法でITO層を形成させてカラ
ーフィルターを得た。得られたカラーフィルターには混
色などの欠点は見られなかった。
Then, an epoxy resin-based overcoat coating solution was applied on the entire surface with a spin coater and cured to obtain a color filter substrate having a 2 μm protective film. An ITO layer was formed thereon as a conductive film by a sputtering method to obtain a color filter. No defects such as color mixing were observed in the obtained color filter.

【0037】このカラーフィルターのITO層上にポリ
イミド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。同様
に対向する薄膜トランジスタを備えた液晶表示素子用基
板についてもポリイミド系の配向膜を設け、ラビング処
理を施した。この2枚の基板を周辺額縁部のブラックマ
トリックスに塗布したシール剤で貼りあわせた。
A polyimide alignment film was provided on the ITO layer of the color filter and rubbed. Similarly, a liquid crystal display element substrate having a thin film transistor opposed thereto was also provided with a polyimide-based alignment film and subjected to a rubbing treatment. The two substrates were bonded together with a sealant applied to a black matrix in a peripheral frame portion.

【0038】シール部に設けられた注入口から液晶を入
れた後、注入口を封止した。このようにして得られた液
晶注入セルの両側に偏光板を貼付けて液晶表示装置を作
製した。この液晶表示装置は良好な表示品位を示すもの
であった。
After the liquid crystal was introduced through the injection port provided in the seal portion, the injection port was sealed. A polarizing plate was stuck on both sides of the liquid crystal injection cell thus obtained to produce a liquid crystal display device. This liquid crystal display showed good display quality.

【0039】実施例3 無アルカリガラス(日本電気ガラス(株)製、”OA−
2”)上に開口部が縦方向240μm、横方向80μm
のクロム格子状ブラックマトリックスを有する基板を使
用し、この上に、図4に示されるスリットダイを使用し
てポリイミド前駆体溶液Aを塗布、80℃、10分熱風
乾燥した後、120℃で20分間セミキュアして、7μ
m厚みの塗膜を形成させた。この後、ポジ型レジスト
(Shipleymicroposit" RC100 30cp )をスピナーで塗
布後、80℃20分乾燥した。キャノン(株)製露光機
PLA−501Fを用い、フォトマスクを介して露光
し、アルカリ現像液(Shipley“ microposit" 351)で
ポジ型レジストの現像およびポリイミド前駆体のエッチ
ングを同時に行なった後、130℃、20分熱風乾燥
し、ポジ型レジストをメチルセルソルブアセテートで剥
離した。このようにして、上層に厚み7μmのポリイミ
ド前駆体層を有する、開口部が縦方向240μm、横方
向80μmの格子状ブラックマトリックスを設けた。こ
の樹脂ブラックマトリックス基板の凹部に図1のモデル
に示されるような複数個の細孔ノズルを有する口金を使
用して、緑ペーストをストライプ塗布した。120℃で
20分間熱処理して、緑色のストライプ画素を形成させ
た後、同様にして、ストライプ状の赤、青色の画素を、
3色の画素間隔が20μmになるように形成した。この
上に再度、ポジ型レジストを塗布、90℃で20分間熱
処理し、キャノン(株)製露光機PLA−501Fを用
い、ブラックマトリックス上にスペーサーとなる4μm
高さの柱を残すべく設計したフォトマスクを介して全面
露光した後、現像し、ポジ型レジストをメチルセルソル
ブアセテートで剥離した。次いで、280℃で30分間
熱処理して、ブラックマトリックス上の柱部および画素
部を硬化させた。このようにしてスペーサーの役割を果
たす4μmの柱部を有するカラーフィルター基板を得
た。
Example 3 Non-alkali glass (manufactured by NEC Corporation, "OA-
2 ″) On top, the opening is 240 μm vertically and 80 μm horizontally
A polyimide precursor solution A was coated thereon using a slit die shown in FIG. 4 and dried at 80 ° C. for 10 minutes. Semi-cure for 7 minutes, 7μ
An m-thick coating film was formed. Thereafter, a positive resist (Shipley microposite RC100 30 cp) was applied by a spinner and dried at 80 ° C. for 20 minutes, and exposed through a photomask using an exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc., and an alkali developer ( After simultaneously developing the positive resist and etching the polyimide precursor in Shipley "microposit" 351), it was dried with hot air at 130 ° C. for 20 minutes, and the positive resist was stripped with methyl cellosolve acetate. A grid-like black matrix having a polyimide precursor layer having a thickness of 7 μm as an upper layer and an opening of 240 μm in the vertical direction and 80 μm in the horizontal direction was provided. The green paste was applied in stripes using a die having a fine pore nozzle. After forming the green stripe pixels, similarly striped red, blue pixel,
The pixels were formed so that the pixel spacing of the three colors was 20 μm. A positive resist is applied thereon again, and heat-treated at 90 ° C. for 20 minutes. Using an exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc., a 4 μm spacer serving as a spacer is formed on the black matrix.
After the entire surface was exposed through a photomask designed to leave a column having a height, development was performed, and the positive resist was peeled off with methylcellosolve acetate. Next, heat treatment was performed at 280 ° C. for 30 minutes to harden the column portions and the pixel portions on the black matrix. In this way, a color filter substrate having a 4 μm pillar portion serving as a spacer was obtained.

【0040】この上に導電膜として、スパッタ法でIT
O層を形成させてカラーフィルターを得た。このカラー
フィルターのITO層上にポリイミド系の配向膜を設
け、ラビング処理を施した。同様に対向する薄膜トラン
ジスタを備えた液晶表示素子用基板についてもポリイミ
ド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。この2枚
の基板を周辺額縁部のブラックマトリックスに塗布した
シール剤で貼り合わせた。この貼り合わせに際してはス
ペーサービーズの使用は無しとした。
On top of this, as a conductive film, an IT
An O layer was formed to obtain a color filter. A polyimide-based alignment film was provided on the ITO layer of the color filter, and a rubbing treatment was performed. Similarly, a liquid crystal display element substrate having a thin film transistor opposed thereto was also provided with a polyimide-based alignment film and subjected to a rubbing treatment. The two substrates were bonded together with a sealant applied to a black matrix in a peripheral frame portion. No spacer beads were used for this bonding.

【0041】シール部に設けられた注入口から液晶を入
れた後、注入口を封止した。このようにして得られた液
晶注入セルの両側に偏光板を貼付けて液晶表示装置を作
製した。この液晶表示装置は良好な表示品位を示すもの
であった。
After the liquid crystal was introduced through the injection port provided in the seal portion, the injection port was sealed. A polarizing plate was stuck on both sides of the liquid crystal injection cell thus obtained to produce a liquid crystal display device. This liquid crystal display showed good display quality.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明は、遮光膜とその上層に未硬化樹
脂層を複層してなるブラックマトリックスを有する透明
基板上に複数個の細孔ノズルを有する口金から連続的に
ペーストを吐出塗布してストライプパターンを形成する
工程を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方
法であり、低コストで混色のない高品質のカラーフィル
ターを製造することができる。さらに該カラーフィルタ
ーを液晶表示装置に用いることにより優れた品質表示が
可能となる。
According to the present invention, a paste is continuously discharged from a die having a plurality of fine nozzles on a transparent substrate having a black matrix comprising a light-shielding film and an uncured resin layer formed on the light-shielding film. And a method of manufacturing a color filter, characterized by including a step of forming a stripe pattern by using the method. Further, by using the color filter in a liquid crystal display device, excellent quality display can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明において使用される細孔ノズルを有する
口金の概念図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram of a base having a fine hole nozzle used in the present invention.

【図2】細孔ノズルから透明基板上のブラックマトリッ
クスの間にペーストを塗布する様子を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a state in which a paste is applied between a fine hole nozzle and a black matrix on a transparent substrate.

【図3】ペーストの塗布例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of applying a paste.

【図4】透明基板上へのスリットダイによるペースト塗
布の模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of paste application by a slit die on a transparent substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11:透明基板 2、2a、2b、2c:口金 3、13:ペースト 4、4a、4b、4c:細孔ノズル 5:ブラックマトリックス 6:ペースト供給口 12:スリットダイ 1, 11: transparent substrate 2, 2a, 2b, 2c: base 3, 13: paste 4, 4a, 4b, 4c: pore nozzle 5: black matrix 6: paste supply port 12: slit die

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA66 BB02 BB22 BB44 2H089 HA28 JA07 QA12 2H091 FA03Y FB02 FB08 FC05 FC23 LA15  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 BA66 BB02 BB22 BB44 2H089 HA28 JA07 QA12 2H091 FA03Y FB02 FB08 FC05 FC23 LA15

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下層が樹脂ブラックマトリックス、あるい
は金属系のブラックマトリックスからなり、上層が未硬
化樹脂層である復層構造のブラックマトリックスを有す
る透明基板上に、複数個の細孔ノズルを有する口金から
連続的にペーストを吐出塗布して、ストライプパターン
を形成する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタ
ーの製造方法。
1. A base having a plurality of fine-hole nozzles on a transparent substrate having a lower layer composed of a resin black matrix or a metal-based black matrix and an upper layer being an uncured resin layer having a multilayer structure having a multilayer structure. A step of forming a stripe pattern by continuously discharging and applying a paste from the color filter.
【請求項2】樹脂ブラックマトリックスがポリイミドな
いしポリイミド前駆体樹脂ブラックマトリックスである
請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the resin black matrix is a polyimide or a polyimide precursor resin black matrix.
【請求項3】ブラックマトリックスが複層構造をとり、
下層が樹脂ブラックマトリックス、あるいは金属系のブ
ラックマトリックスからなり、上層が表層にポジ型レジ
ストを残存せしめた未硬化樹脂層である請求項1または
2に記載のカラーフィルターの製造方法。
3. The black matrix has a multilayer structure,
3. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the lower layer is a resin black matrix or a metal-based black matrix, and the upper layer is an uncured resin layer having a positive resist remaining on the surface layer.
【請求項4】未硬化樹脂がポリイミド前駆体である請求
項3に記載のカラーフィルターの製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein the uncured resin is a polyimide precursor.
【請求項5】ブラックマトリックスが復層構造をとり、
下層が樹脂ブラックマトリックスあるいは金属系のブラ
ックマトリックスからなり、上層がネガ型の感光性レジ
ストである請求項1、または2に記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。
5. The black matrix has a multilayer structure,
3. The method according to claim 1, wherein the lower layer is made of a resin black matrix or a metal black matrix, and the upper layer is a negative photosensitive resist.
【請求項6】上層が未硬化樹脂層からなる復層構造のブ
ラックマトリックスを有する透明基板上に、複数個の細
孔ノズルを有する口金から連続的にペーストを吐出塗布
し、ストライプパターンを形成してなるカラーフィルタ
ー。
6. A paste is continuously discharged from a die having a plurality of fine-hole nozzles onto a transparent substrate having a black matrix having a multilayer structure in which an upper layer is formed of an uncured resin layer to form a stripe pattern. Color filter.
【請求項7】上層が未硬化樹脂層からなる複層構造のブ
ラックマトリックスを有する透明基板上に、複数個の細
孔ノズルを有する口金から連続的にペーストを吐出塗布
・乾燥しストライプパターンを形成した後、ブラックマ
トリックスの上層樹脂層をフォトリソ加工し、突起パタ
ーンを形成してなるカラーフィルター。
7. A stripe pattern is formed by continuously applying and drying a paste from a die having a plurality of fine-hole nozzles on a transparent substrate having a black matrix having a multilayer structure in which an upper layer is composed of an uncured resin layer and drying the paste. After that, the upper layer resin layer of the black matrix is photolithographically processed to form a projection pattern, thereby forming a color filter.
【請求項8】ブラックマトリックスが複層構造をとり、
ブラックマトリックス上にスペーサーの機能を持つ突起
を有することを特徴とする請求項7記載のカラーフィル
ター。
8. The black matrix has a multilayer structure,
The color filter according to claim 7, further comprising a projection having a spacer function on the black matrix.
【請求項9】上層が未硬化樹脂層からなる復層構造のブ
ラックマトリックスを有する透明基板上に、複数個の細
孔ノズルを有する口金から連続的にペーストを吐出塗布
して、ストライプパターンを形成したカラーフィルター
からなることを特徴とする液晶表示装置。
9. A stripe pattern is formed by continuously discharging and applying paste from a die having a plurality of fine-hole nozzles onto a transparent substrate having a black matrix having a multilayer structure in which the upper layer is composed of an uncured resin layer. A liquid crystal display device comprising a color filter.
JP24494598A 1998-08-31 1998-08-31 Color filter, its production and liquid crystal display device using the color filter Pending JP2000075124A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006343518A (en) * 2005-06-08 2006-12-21 Dainippon Printing Co Ltd Manufacturing method of color filter and ink jet system for manufacturing color filter
KR100772032B1 (en) 2004-10-20 2007-11-01 주식회사 멤스웨어 Sealing method

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